CN1412624A - 电子照相感光体及其制造方法、处理卡盒和电子照相装置 - Google Patents

Abstract

本发明的电子照相感光体，其特征在于，在导电性基体和感光层之间，具备含有金属氧化物微粒子和粘合树脂，在28℃、85％RH外加10⁶V/m的电场时的体积电阻是10⁸～10¹³Ω·cm，在15℃，15％RH外加10⁶V/m的电场时的体积电阻是在28℃、85％RH外加10⁶V/m的电场时的体积电阻的500倍以下的中间层。

Description

电子照像感光体及其制造方法、 处理卡盒和电子照像装置

技术领域

本发明涉及电子照像感光体及其制造方法、处理卡盒和电子照像装置。

背景技术

电子照像方式，由于可高速高品质地打印，在复印机、激光打印机等电子照相装置中被利用。作为在这样的电子照像装置中使用的感光体，近年来，使用光导电性有机材料的有机感光体正成为主流。另外，感光体的结构也正向将电荷发生材料和电荷输送材料分散在不同层(电荷发生层、电荷输送层)的功能分离型感光体转变。

在使用这样的功能分离型感光体时，为防止从基体向感光层注入电荷等目的，通常是在基体和感光层之间形成底层(下引き层)。而且，由于感光体反复操作的稳定性或环境稳定性等特性不仅依存于电荷发生层或电荷输送层，也依赖于底层的物性，因此反复操作使用引起的电荷蓄积的减少需要底层。另外，从防止画质欠缺的角度上考虑，底层的作用是很大的，为了抑制基体的欠缺或污染，或电荷发生层等上层涂膜欠缺或斑驳引起的画质欠缺，设置底层是非常有效的。

近年来，作为电子照像装置的带电装置，虽然渐渐使用臭氧产生量少的接触带电方式的带电装置代替电晕钍(コロトロン)，但在使用接触带电装置时，感光体的带电状态容易变得不均一。另外，如果感光体局部存在劣化部分，接触带电时局部的高电场加到劣化部分，生成电针孔，这容易成为画质缺陷。由于感光层涂膜的欠缺也会发生该针孔的情况，但是除此以外，由于从电子照相装置内发生的导电性异物(碳纤维、载体粉末等)与感光体接触或压入感光体中，容易形成接触带电装置和感光体基体的导电通路，也会发生该针孔的情况。

因此，人们认为应该回避伴随着接触带电装置的使用而出现的上述现象，并对底层的构成材料或物性进行了研究，提出了具备各种各样底层的电子照相感光体。例如，在特开昭61-204641号公报中，公开了具备混合电容率控制剂，并设定体积电阻和电容率在给定范围的底层的电子照相感光体。另外，在特开平1-113758号公报中，公开了具备由粘合树脂、电荷输送物质和导电性微粉末构成的底层的有机感光体。另外，在特开平7-84393号公报中公开了具备含有针状二氧化钛微粒子的压粉体，并显示给定体积电阻值的底层的电子照相感光体。

但是，即使是上述现有的电子照相感光体，在与接触带电装置共同使用时，得到充分的图像品质是非常困难的。即，从针孔等引起的电荷泄漏防止性(以下简称为“防漏电性”)的观点出发，优选底层的膜厚是厚的(例如，10～30μm左右)，但是为得到充分的电特性，有必要减低伴随着底层的厚膜化的电阻，其结果，防止电荷从基体到感光层注入的阻塞性变弱，容易发生跑光。

另外，为了遮蔽导电性支持体层(基材)的缺陷，改善残留电位的上升等获得稳定的电特性，对在导电性支持体层上形成含有导电性微粉末的层的感光体的形成方法进行了研究。

上述方法，例如有，如在特开平3-45961号公报中提出的具有2层结构的底层的感光体的形成方法，该方法是在铝基材等的导电性支持体层上形成含有导电性微粉末的层，进一步在该含有导电性微粉末层上形成具有与现有底层同样构成的层的2层结构的底层。在该方法中，在含有导电性微粉末的层中进行导电性支持体层表面凹凸或污染等欠缺的遮蔽的同时，进行电阻的调整，使具有与现有底层同样构成的层中具有阻塞(电荷注入控制)功能。

另外，作为其他方法，有在导电性支持体层上只将含有导电性微粉末的层作为底层形成，在该层中形成具有上述阻塞功能和电阻调整功能两方面功能的感光体的方法，例如，这样的感光体及其制造方法在特开平9-258469号公报、特开平9-96916号公报和特开2001-75296号公报中被公开。

但是，用上述现有的电子照相感光体，获得经得起反复使用的充分的电特性还不能令人满意，将电子照相感光体反复使用时，存在由残留电位的上升引起的图像上发生黑点等的跑光问题。

即，上述特开平3-45961号公报中记载的具有2层结构的底层的电子照相感光体，由于耐漏电性差，容易发生所述的针孔，因此存在感光体的带电性降低，随着反复使用，图像浓度降低的问题。而且，在该情况下，由于2层结构，感光体的制造要花费大量功夫和成本。

另外，上述特开平9-258469号公报、特开平9-96916号公报和特开2001-75296号公报中记载的电子照相感光体，由于底层是单层的结构，可简化感光体的制造加工，降低费用，但是必须在一层中同时具备电阻控制的功能和电荷注入控制的功能，并在底层的构成材料的选择上有限制。

另外，从提高底层的耐漏电性和防止针孔的产生的观点出发，增加底层的层厚(以下称为厚膜化)是有效的，但是为了进行厚膜化，为了获得良好的电特性，必须减低底层的电阻。但是，一旦减低电阻，电荷的阻塞功能就会降低，从而增加因跑光等而产生的画质缺陷的倾向。另外，形成厚的层厚的底层变得困难，存在所谓形成后的机械强度不充分的问题。此外，一旦增加底层的层厚，存在感光体的感度降低的问题。

因此，到目前为止，含有二氧化钛等导电性金属氧化物粒子的底层的层厚停留在0.01～20μm左右，例如，在上述特开平9-258469号公报、特开平9-96916号公报和特开2001-75296号公报中记载的电子照相感光体的底层的层厚，由于上述理由，层厚最好不高于20μm。

发明内容

鉴于上述现有技术存在的课题，本发明的目的在于，提供在防漏电性和电特性两方面都是高水平的，即使与接触带电装置共用时也不产生跑光等画质缺陷，可得到良好的图像品质的电子照相感光体及其制造方法，和使用该电子照相感光体的处理卡盒和电子照相装置。

另外，本发明的目的是提供，可充分防止伴随反复使用的电特性的降低，具有高耐久性和高解像品质的电子照相感光体的制造方法和因此得到的电子照相感光体、处理卡盒和电子照相装置。

本发明者为达到上述目的，进行了反复认真地研究，结果发现，通过在电子照相感光体的导电性基体和感光层之间形成含有金属氧化物微粒子和粘合树脂的在给定的条件下的体积电阻及其环境依存性在特定范围的中间层，解决了上述课题，并因此完成了本发明。

按照本发明的第1方面，提供了电子照相感光体，它是具备导电性基体、在该基体上形成的中间层和在该中间层上形成的感光层的电子照像感光体，所述中间层含有金属氧化物微粒子和粘合树脂，在28℃、85％RH外加10⁶V/m的电场时的体积电阻是10⁸～10¹³Ω·cm，且在15℃，15％RH外加10⁶V/m的电场时的体积电阻是在28℃、85％RH外加10⁶V/m的电场时的体积电阻的500倍以下。

在本发明中，通过在电子照相感光体的基体和感光层之间形成含有金属氧化物微粒子和粘合树脂，体积电阻及其环境依存性满足上述条件的中间层，可充分提高防漏电性和电特性两方面，因此即使与接触带电装置共用时也不发生跑光等画质缺陷，可得到良好的图像品质。

按照本发明的第2方面，提供电子照像感光体的制造方法，它是在导电性基体上形成中间层和感光层的电子照像感光体的制造方法，是将金属氧化物微粒子用选自硅烷偶合剂、钛酸酯类偶合剂和铝酸酯类偶合剂的至少一种偶合剂进行表面处理，在180℃以上热处理经过表面处理的金属氧化物微粒子，将被热处理过的金属氧化物微粒子和粘合树脂加入给定的溶剂得到涂布液，将涂布液涂布在导电性支持体上，使涂布的涂布液干燥，得到在28℃、85％RH外加10⁶V/m的电场时的体积电阻是10⁸～10¹³Ω·cm，且在15℃、15％RH外加10⁶V/m的电场时的体积电阻是在28℃、85％RH外加10⁶V/m的电场时的体积电阻的500倍以下的中间层。

按照本发明的第3方面，提供电子照像感光体的制造方法，它是在导电性基体上形成中间层和感光层的电子照像感光体的制造方法，是将金属氧化物微粒子用含有选自硅烷偶合剂、钛酸酯类偶合剂和铝酸酯类偶合剂的至少一种偶合剂和给定溶剂的处理液进行表面处理，在第1热处理温度热处理经过表面处理的金属氧化物微粒子，在第2热处理温度热处理在第1热处理温度被热处理过的金属氧化物微粒子，将在第2热处理温度被热处理过的金属氧化物微粒子和粘合树脂加入给定的溶剂得到涂布液，将涂布液涂布在导电性支持体上，使涂布的涂布液干燥，得到在28℃、85％RH外加10⁶V/m的电场时的体积电阻是10⁸～10¹³Ω·cm，且在15℃，15％RH外加10⁶V/m的电场时的体积电阻是在28℃、85％RH外加10⁶V/m的电场时的体积电阻的500倍以下的中间层。

按照上述第2和第3方面的制造方法，通过使用已分别实施了给定偶合剂的表面处理和热处理的金属氧化物微粒子来形成中间层，可确实容易地形成体积电阻及其环境依存性满足上述条件的中间层。其结果，可充分提高感光体的防漏电性和电特性两方面，因此即使与接触带电装置共用时也不发生跑光等画质缺陷，可得到良好的图像品质。

按照本发明的第4方面，提供处理卡盒，其中电子照像感光体与带电部、显像部、清洗部、除电部和转印部中的至少一种形成一体，电子照像感光体具备导电性基体、在该基体上形成的中间层和在中间层上形成的感光层，所述中间层含有金属氧化物微粒子和粘合树脂，在28℃、85％RH外加10⁶V/m的电场时的体积电阻是10⁸～10¹³Ω·cm，且在15℃，15％RH外加10⁶V/m的电场时的体积电阻是在28℃、85％RH外加10⁶V/m的电场时的体积电阻的500倍以下，所述处理卡盒可在电子照像装置本体中自由拆装。

按照本发明的第5方面，提供电子照像装置，它具备电子照像感光体、使所述电子照像感光体带电的带电部、将通过所述带电部使之带电的所述电子照像感光体曝光形成静电潜像的曝光部、将所述静电潜像通过调色剂显像形成调色剂像的显像部、和将所述调色剂像转印在被转印介质上的转印部，电子照像感光体具备导电性基体、在该基体上形成的中间层和在中间层上形成的感光层，所述中间层含有金属氧化物微粒子和粘合树脂，在28℃、85％RH外加10⁶V/m的电场时的体积电阻是10⁸～10¹³Ω·cm，且在15℃，15％RH外加10⁶V/m的电场时的体积电阻是在28℃、85％RH外加10⁶V/m的电场时的体积电阻的500倍以下。

本发明的处理卡盒和电子照相装置分别是具备接触带电方式的产品，通过该接触带电方式与上述本发明的电子照相感光体的组合使用，可达到高水平的防漏电性和电特性，因此克服了使用接触带电装置的现有的处理卡盒和电子照相装置非常难达到的不产生跑光等画质缺陷的问题，得到了良好图像品质的效果。

附图说明

图1是显示本发明第1实施方式中电子照相感光体的模式断面图。

图2是显示本发明第2实施方式中电子照相感光体的模式断面图。

图3是显示本发明第10实施方式中电子照相装置的模式断面图。

图4是显示本发明第12实施方式中电子照相装置的模式断面图。

图5是显示本发明第3实施方式中电子照相感光体的模式断面图。

图6是显示本发明第4实施方式中电子照相感光体的模式断面图。

图7是显示本发明第5实施方式中电子照相感光体的模式断面图。

图8是显示本发明第6实施方式中电子照相感光体的模式断面图。

图9是显示本发明第7实施方式中电子照相感光体的模式断面图。

图10是显示本发明第8实施方式中电子照相感光体的模式断面图。

图11是显示本发明第9实施方式中电子照相感光体的模式断面图。

图12显示本发明第11实施方式中电子照相装置的模式断面图。

图13是概略地显示图9中本发明电子照相装置另一实施方式的基本构成断面图。

图14是概略地显示本发明处理卡盒的优选实施方式的基本构成断面图。

具体实施方式

下面，参照附图对本发明的优选实施方式进行详细的说明。另外，在图中，同样或相当的部分用同一符号表示，省略重复说明。第1实施方式

图1是本发明电子照像感光体中显示该第1实施方式的模式断面图。在图1中所示的电子照像感光体1中，在导电性基体11上形成了中间层12，进一步在中间层12上形成电荷发生层13、电荷输送层14、保护层15，由此构成感光层16。

导电性基体11是将铝成形为圆筒状(辊筒状)的基体。另外，作为基体11的材料，除了铝以外，可使用不锈钢、镍等的金属材料；在高分子材料(聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚丙烯、尼龙、聚苯乙烯、酚醛树脂等)或硬质纸等的绝缘材料中分散碳黑、氧化铟、氧化锡、氧化锑、金属、碘化铜等的导电物质进行了导电处理的材料；在上述绝缘材料中层压了金属箔的材料；在上述绝缘材料中形成了蒸镀膜的材料等。另外，上述基体11的形状也可以是片状、板状等。

导电性基体11可使用，包括上述物质，以及在聚合物制板、纸、塑料、或在玻璃板上，蒸镀氧化铟、氧化锡等的典型金属化合物，或通过金属箔的层压进行导电处理的辊状、板状、片状物质。除此之外，还可使用把炭黑、氧化铟、氧化锡-氧化锑粉、金属粉、碘化铜等分散在粘合树脂中，通过在聚合物制板、纸、塑料、或玻璃板上涂布来进行导电处理的辊状、板状、片状物质。

中间层12通过适当选择金属氧化物微粒子和粘合树脂以及他们的混合量，并通过提高金属氧化物微粒子在粘合树脂中的分散性，可控制使其体积电阻和环境依存性满足上述条件。优选的所述金属氧化物微粒子具体可举出氧化锡、氧化钛、氧化锌、氧化锑等。

另外，使用金属管作为导电性基体时，该基体可以使用素管，或者，也可以预先实施镜面磨削、蚀刻、阳极氧化、粗切削、无心磨削、喷砂、湿研磨等处理。通过对未进行表面处理的基材表面进行粗化处理，可防止在使用激光束等可干涉光源时发生的感光体内干涉光引起的木纹状浓度斑。

中间层12是含有金属氧化物微粒子和粘合树脂的层。另外，中间层12的体积电阻被设定为在28℃、85％RH外加10⁶V/m的电场时在10⁸～10¹³Ω·cm(优选10⁸～10¹¹Ω·cm)范围内，且在15℃，15％RH外加10⁶V/m的电场时的体积电阻达到在28℃、85％RH外加10⁶V/m的电场时的体积电阻的500倍以下。通过这样控制中间层12的体积电阻及其环境依存性满足上述条件，可获得高水平的防漏电性和电特性。

另外，作为中间层12，优选满足在28℃、85％RH外加10⁶V/m的电场时的体积电阻是在28℃、85％RH外加10⁷V/m的电场时的体积电阻的1000倍以下。该体积电阻的比一旦超过1000倍，中间层中混入异物，在局部外加大电场时，具有容易发生漏电的倾向。

在中间层12中适当选择金属氧化物微粒子和粘合树脂的种类和其混合量，并通过提高金属氧化物微粒子在粘合树脂中的分散性，可控制其体积电阻及其环境依存性满足上述条件。作为该金属氧化物微粒子的优选例子，具体可列举，氧化锡、二氧化钛、氧化锌、氧化铝等。

这些金属氧化物微粒子粉体电阻值优选10²～10¹¹Ω·cm，更优选10⁴～10¹⁰Ω·cm。金属氧化物微粒子的粉体电阻值如果不足上述下限值，则有得不到充分的防漏电性的倾向，另一方面，如果该粉体电阻值超过所述上限值，则有容易发生电子照相中残留电位上升的倾向。

另外，金属氧化物微粒子的平均一次粒径优选在100nm以下，更优选在10～90nm。金属氧化物微粒子的平均一次粒径如果超过100nm，则在粘合树脂中的分散性降低，其结果使防漏电性和电特性都变得困难的倾向。

这些金属氧化物微粒子可通过现有的制造方法获得。例如，氧化锌的情况，可列举JIS K1410中记载的间接法(法国法)、直接法(美国法)、湿式法等；二氧化钛的情况，可列举硫酸法、氯法、氢氟酸法、氯化钛钾法、四氯化钛水溶液法等。另外，可通过后述的电弧等离子体法得到金属氧化物微粒子。

间接法是加热金属锌(通常1000℃左右)，通过热空气使锌蒸气氧化形成氧化锌，冷却后根据粒子的大小分级的方法。另外，直接法是将通过培烧锌矿石得到的氧化锌用石炭等还原，通过热空气使生成的锌蒸气氧化，或用硫酸浸出锌矿石后向所得矿渣中加入焦炭等，加热其混合物通过热空气使锌熔融氧化的方法。

硫酸法是通过矿石与硫酸反应制备澄清的硫酸盐溶液，并通过水解使含水的二氧化钛的沉淀、洗净、烧结、粉碎、表面处理工序得到二氧化钛微粒子的方法。另外，氯法是通过矿石的氯化制备四氯化钛溶液，将通过精馏、燃烧得到的二氧化钛粉碎、进行后处理的方法。

作为电弧等离子体法，可列举直流电弧等离子体法、等离子体喷射法、高频波等离子体法等。例如，在直流电弧等离子体法中，将金属原料作为消耗的阳极电极，从阴极电极产生等离子体火焰，加热金属原料使之蒸发，使金属蒸气氧化，通过冷却得到金属氧化物微粒子。在产生等离子体火焰时，电弧放电虽然是在氩等单原子分子气体或氢、氮、氧等2原子分子气体中进行，但由于通过2原子等热分解生成的等离子与来自单原子气体的等离子(氩等离子等)相比反应性高，被称为反应性电弧等离子。

在本发明中，如果使用在上述制造方法中的电弧等离子体法得到的金属氧化物微粒子，由于在形状、粒径(例如100nm以下)等各种物性与用现有的方法得到的金属氧化物微粒子不同，可提高光电特性、分散性或耐漏电性，因此是优选的。

另外，通过例如电弧等离子体法制造金属氧化物微粒子时，金属氧化物微粒子中会混入微量的金属微粒子，但是在中间层的体积电阻及其环境依存性满足上述条件的情况下，可以不除去该金属微粒子。

另外，对于所述金属氧化物微粒子，优选在用选自硅烷偶合剂、钛酸酯类偶合剂和铝酸酯类偶合剂的至少一种偶合剂进行表面处理后，在180℃以上进行热处理。作为表面处理的例子可以使被覆处理。通过使用所述偶合剂实施被覆处理和热处理的金属氧化物微粒子，可提高金属氧化物微粒子在粘合树脂中的分散性，因此可容易且确实地控制中间层的体积电阻和环境依存性，并可进一步提高防漏电性和电特性。

作为在本发明中使用的硅烷偶合剂，可列举乙烯基三甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯氧基丙基-三(β-甲氧乙氧基)硅烷、β-(3，4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、γ-巯基丙基三甲氧基硅烷、γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基甲基甲氧基硅烷、N，N-双(β-羟乙基)-γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、γ-氯丙基三甲氧基硅烷等；作为钛酸酯类偶合剂，可列举异丙基三异硬脂酰基钛酸酯、双(二辛基焦磷酸酯)、异丙基三(N-氨基乙基-氨基乙基)钛酸酯等；作为铝酸酯类偶合剂，可列举乙酰烷氧基铝二异丙酸酯等，他们可以单独使用，也可以2种以上组合使用。其中，如果使用γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基甲基甲氧基硅烷、N，N-双(β-羟乙基)-γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、异丙基三(N-氨基乙基)钛酸酯等具有氨基的偶合剂，由于通过该偶合剂可高效且确实地进行被覆处理，因此是优选的，特别是更优选使用N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基甲基甲氧基硅烷等具有2个氨基的偶合剂。

使用这些偶合剂进行被覆处理时，可通过在实质上不与偶合剂反应的溶剂中溶解偶合剂，使金属氧化物微粒子在该溶液(处理液)中分散进行。作为溶剂，可列举甲苯、乙苯、四氢呋喃、乙酸乙酯、乙酸丁酯、二氯甲烷、氯仿、氯苯、丙酮、甲乙酮等，但是优选使用高沸点的甲苯溶剂。在制备处理液时，可使用搅拌、超声波、混砂机、磨碎或搅拌机、球磨机等将偶合剂分散在溶剂中。另外，处理温度可设定为从室温到溶剂沸点范围内的任意温度。

另外，虽然相对于金属氧化物微粒子的溶剂量可任意设定，但是金属氧化物微粒子和溶剂的重量比优选1∶1～1∶10，更优选1∶2～1∶4的范围内。如果溶剂的重量不足金属氧化物微粒子重量的1倍，不仅会使搅拌变得困难，还会有凝胶化的问题，使均匀处理变得困难。此外，如果溶剂的重量超过金属氧化物微粒子重量的10倍，将有容易残存未反应的偶合剂的倾向。另外，偶合剂的量，从电特性、画质维持性、成膜性等观点出发，优选相对于金属氧化物微粒子在10重量％以下，更优选0.1～5.0重量％。

所述被覆处理虽然可在搅拌下进行，但为了偶合剂被覆更均匀地进行，优选使用二氧化硅凝胶、氧化铝、氧化锆等分散介质(优选介质粒径是0.5～50mm的物质)。另外，在从被覆处理后的混合物中除去溶剂时，如果金属氧化物微粒子发生凝集，优选在进行热处理前，将其预粉碎。另外，为了在被覆处理后迅速除去溶剂，优选在给定的压力条件下(优选0.1～760mmHg)进行蒸馏。另外，虽然可通过过滤除去溶剂，但由于未反应的偶合剂容易流出，使得到所需特性必要的偶合剂量的控制变得困难，因此不是优选的。

另外，优选被覆处理后的金属氧化物微粒子的表面被覆率为7～20％。如果表面被覆率不足所述下限，不能充分提高金属氧化物微粒子的电阻值，有中间层的阻塞性降低，画质恶化的倾向。另外，如果表面被覆率超过所述上限值，随着电子照像感光体的反复使用，有残留电位容易上升，而且体积电阻的环境变动增大的倾向。另外，这里所说的表面被覆率是指，被偶合剂覆盖的金属氧化物微粒子表面的比例[％]，可基于被覆处理前的金属氧化物微粒子的BET比表面积和偶合剂的混合量求出。即，表面被覆率达到100％所必须的偶合剂的重量用下式表示：

(表面被覆率达到100％所必须的偶合剂重量[g])＝{(金属氧化物微粒子的重量[g]×(金属氧化物的BET比表面积[m²/g]))/(偶合剂的最小被覆面积[m²/g])(式中，偶合剂的最小被覆面积是指，1g偶合剂形成单分子膜时可被覆的最小面积)。表面被覆率可通过下式求出：

(表面被覆率[％])＝100×(被覆处理中使用的偶合剂的重量[g])/(表面被覆率达到100％所必须的偶合剂的重量[g])。

通过对经过被覆处理的金属氧化物微粒子实施给定的热处理，从偶合剂反应形成被膜可更完全。这里，热处理温度是，优选所述的180℃以上，更优选200～300℃，进一步优选200～250℃。热处理温度如果不足180℃，不能充分除去残存的吸附水或偶合剂，暗减衰等电特性不充分。另外，热处理温度如果超过300℃，由于从偶合剂形成的被膜分解或金属氧化物微粒子表面的氧化，出现电荷的捕集点，有残留电位容易上升的倾向。热处理时间虽然可根据偶合剂的种类和热处理温度适当选定，但通常为10分钟～100小时。

另外，将被覆处理过的金属氧化物微粒子进行热处理时，优选进行在不同热处理温度的2阶段加热。此时，优选第1阶段的加热在处理液的沸点以上，第2阶段的加热在180℃以上，更优选200～300℃，进一步优选200～250℃。

作为中间层的粘合树脂，可列举聚乙烯醇缩丁醛等缩醛树脂、聚乙烯醇树脂、酪蛋白、聚酰胺树脂、纤维素树脂、明胶、聚氨酯树脂、聚酯树脂、甲基丙烯酸树脂、丙烯酸树脂、聚氯乙烯树脂、聚醋酸乙烯酯树脂、氯化乙烯-醋酸乙烯酯-马来酸酐树脂、硅酮树脂、硅酮-醇酸树脂、酚醛树脂、苯酚-甲醛树脂、三聚氰胺树脂、尿烷树脂等高分子树脂化合物等。可使用具有电荷输送基团的电荷输送性树脂或聚苯胺等导电性树脂。

其中，优选使用不溶于上层涂布剂的树脂，特别优选使用酚醛树脂、苯酚-甲醛树脂、三聚氰胺树脂、尿烷树脂、环氧树脂等。而且，被覆处理过的金属氧化物微粒子和粘合树脂的混合比例，在获得所期望的电子照相感光体特性的范围内可任意选定。

中间层12可以是只由上述被覆处理过的金属氧化物微粒子和粘合树脂形成的层，另外，在体积电阻及其环境依存性满足上述条件的条件下，也可含有为提高电特性、提高环境稳定性、提高画质的添加物。作为所述添加物，可列举，氯醌苯醌(クロラニルキノン)、溴代苯胺苯醌(ブロモアニルキノン)、蒽醌等苯醌类化合物，四氰基喹二甲烷(キノジメタン)类化合物、2，4，7-三硝基芴酮、2，4，5，7-四硝基-9-芴酮等芴酮化合物，2-(4-联苯)-5-(4-叔丁基苯基)-1，3，4-恶二唑、2，5-双(4-萘基)-1，3，4-恶二唑、2，5-双(4-二乙基氨基苯基)-1，3，4-恶二唑等恶二唑类化合物，占吨氧杂蒽酮或占吨酮等酮类化合物，噻吩化合物，3，3’，5，5’-四叔丁基联对苯醌等联对苯醌化合物等电子输送性物质，多稠合环系、偶氮类等电子输送性颜料，硅烷偶合剂，锆螯合物，钛螯合物，铝螯合物，钛醇盐，有机钛化合物等。

作为硅烷偶合剂，可列举乙烯基三甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯氧基丙基-三(β-甲氧乙氧)硅烷、β-(3，4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、γ-巯基丙基三甲氧基硅烷、γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基甲基甲氧基硅烷、N，N-双(β-羟乙基)-γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、γ-氯丙基三甲氧基硅烷等。

作为锆螯合物，可列举丁醇锆、锆乙酸乙酯、锆三乙醇胺、乙酰丙酮丁醇锆、乙酰乙酸乙酯丁醇锆、醋酸锆、草酸锆、乳酸锆、膦酸锆、辛酸锆、环烷酸锆、月桂酸锆、硬脂酸锆、异硬脂酸锆、甲基丙烯酸酯丁醇锆、硬脂酸酯丁醇锆、异硬脂酸酯丁醇锆等。

作为钛酸酯化合物，可列举四异丙基钛酸酯、四正丁基钛酸酯、丁基钛酸酯二聚物、四(2-乙基己基)钛酸酯、钛乙酰乙酸酯、聚钛乙酰乙酸酯、钛辛二醇酯、乳酸钛铵盐、乳酸钛、乳酸钛乙基酯、钛三乙醇胺盐、多羟基硬脂酸钛等。

作为铝螯合物，可列举异丙酸铝、单丁氧基铝二异丙酸酯、丁酸铝、二乙基乙酰乙酸酯铝二异丙酸酯、铝三(乙酰乙酸乙酯)等。这些化合物可单独使用或以多个化合物的混合物或缩聚物的形式使用。

中间层12，可通过例如将经被覆处理过的金属氧化物微粒子和粘合树脂在给定的溶剂中混合/分散，制备中间层形成用涂布液，将该中间层形成用涂布液涂布在导电性基体11上，并进行干燥形成。作为制备该涂布液时的混合/分散方法，可应用球磨机、辊碎机、混砂机、磨碎机、超声波等方法。另外，作为涂布液的涂布方法，可列举叶片涂层法、边耶棒(マイヤバ)涂层法、喷涂法、浸渍涂层法、颗粒涂层法、空气刀涂层法、幕式涂层法等。另外，为提高涂膜的平滑性，可在涂布液中微量添加作为拉平剂的硅油。

这样得到的中间层12的膜厚优选是3～50μm，更优选15～50μm，进一步优选15～30μm。中间层如果不足3μm，可能得不到充分的防漏电性。另外，虽然随着中间层膜厚的增加防漏电性提高，但是如果膜厚超过50μm，成膜变得困难，而且有容易发生残留电位上升引起的画质降低的倾向。另外，中间层12的维氏强度优选在35以上。

电荷发生层13是由电荷发生材料、以及根据需要含有粘合树脂构成的层。虽然对于该电荷发生材料没有特别的限制，但优选使用酞菁类颜料。通过使用酞菁类颜料，可得到高感度且反复使用稳定性优秀的电子照像感光体。另外，由于酞菁类颜料中存在多种结晶型，只要是可得到目的感度的颜料，对其结晶型，没有特别的限制。下面说明特别优选可使用的电荷发生材料的具体例。

利用红外光的感光体，例如可使用酞箐颜料、角鲨翁(スクアリリウム)颜料、双偶氮颜料、三偶氮颜料、二萘嵌苯颜料、二硫酮吡咯并吡咯颜料。另外，利用可见光激光的感光体，例如可使用缩合多环颜料、双偶氮颜料、二萘嵌苯颜料、三角硒(トリゴナルセレン)、色素增感的金属氧化物等。

上述颜料中，为获得良好的图像，优选使用酞箐类颜料。由此容易获得，即使在特别高感度下反复使用，也能得到稳定的良好画质的电子照相感光体。

酞箐颜料一般具有多种结晶型，如果是能获得目的感度的结晶型，可使用任意结晶型。特别是，酞箐颜料中优选使用下式(1)-(6)所示的酞箐颜料。

上述式(1)-(6)中，作为氯化镓酞箐，优选在使用Cuka射线的X射线折射谱中布雷格角度(2θ±0.2°)值至少在7.4°、16.6°、25.5°、28.8°位置上具有折射峰。另外，作为酞箐颜料，优选在使用Cuka射线的X射线折射谱中布雷格角度(2θ±0.2°)值至少在9.6°、24.1°、27.8°位置上具有折射峰，在27.8°处具有最大峰。

上述式(1)-(6)所示的酞箐颜料以外，也优选式(4)配位中心Ga结合的Cl原子以OH取代的羟基镓酞箐。作为该羟基镓酞箐，优选在使用Cuka射线的X射线折射谱中布雷格角度(2θ±0.2°)值至少在7.5°、9.9°、12.5°、16.3°、18.6°、25.1°、28.1°位置上具有折射峰。

在本发明中优选使用的电荷发生物质，可将用公知的方法制造的颜料结晶用自动乳钵、行星磨机、振动磨机、CF磨机、辊碎机、混砂机、捏炼机等进行机械地干式粉碎，干式粉碎后，与溶剂一起用球磨机、乳钵、混砂机、捏炼机等进行湿式粉碎处理制造。

在湿式粉碎处理中可使用的溶剂，可列举芳香族类(甲苯、氯苯等)，酰胺类(二甲基甲酰胺、N-甲基吡咯烷酮等)，脂肪族醇类(甲醇、乙醇、丁醇等)，脂肪族多价醇类(乙二醇、甘油、聚乙二醇等)，芳香族醇类(苄基醇、苯乙基醇等)，酯类(乙酸酯、乙酸丁酯等)，酮类(丙酮、甲乙酮等)，二甲基亚砜、醚类(***、四氢呋喃等)，或这些多种溶剂的混合体系，或水与这些有机溶剂的混合体系。溶剂的使用量，相对于1重量份颜料结晶应为1～200重量份，优选是10～100重量份。另外，在湿式粉碎处理中的处理温度，应为0℃～溶剂沸点以下，优选为10～60℃。另外，在粉碎时可使用食盐、芒硝等磨碎助剂。相对于颜料，磨碎助剂可使用0.5～20倍，优选1～10倍(任一个都是重量换算值)。

另外，对于用公知的方法制造的颜料结晶，可通过酸性胶合、或酸性胶合与所述的干式粉碎或湿式粉碎组合进行结晶控制。作为酸性胶合中使用的酸，优选硫酸，使用浓度70～100％，优选95～100％，浓硫酸的量，相对于颜料结晶的重量，可设定在1～100倍，优选3～50倍(任一个都是重量换算值)。另外，溶解温度可设定在-20～100℃，优选0～60℃的范围。作为使结晶从酸中析出时的溶剂，可以使用任意量的水、或水和有机溶剂的混合溶剂。对于使其析出的温度虽没有特别的限制，但为了防止发热，优选用冰等进行冷却。

所述电荷发生材料，也可用具有水解性基团的有机金属化合物或硅烷偶合剂进行被覆处理。通过该被覆处理，电荷发生材料的分散性或电荷发生层用涂布液的涂布性提高，可容易且确实地成膜为平滑且分散均匀性高的电荷发生层，其结果，可防止跑光或重像等画质缺陷，可提高画质维持性。另外，由于显著提高了电荷发生层用涂布液的保存性，在适用期的延长方面是有效的，可降低感光体的成本。

具有水解性基团的有机金属化合物或硅烷偶合剂是下述通式(1)所示的化合物：

R_p-M-Y_q         (1)

(式中，R表示有机基团、M表示碱金属以外的金属原子或硅原子，Y表示水解性基团，p和q分别是1～4的整数，p和q之和相当于M的原子价)。

通式(1)中，作为R表示的有机基团，可列举甲基、乙基、丙基、丁基、辛基等烷基，乙烯基、烯丙基等链烯基，环己基等环烷基，苯基、萘基等芳基，甲苯基等烷芳基，苄基、苯乙基等芳烷基，苯乙烯基等芳基链烯基，呋喃基、噻吩基、吡咯烷基、吡啶基、咪唑基等杂环残基等。这些有机基团可具有1或2种以上的各种取代基。

另外，通式(1)中，作为Y表示的水解性基团，可列举甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基、环己氧基、苯氧基、苄氧基等醚基，乙酰氧基、丙酰氧基、丙烯氧基、甲基丙烯氧基、苯甲酰氧基、甲磺酰氧基、苯磺酰氧基、二苯乙醇酰氧羰基等酯基，氯原子等卤原子等。

另外，通式(1)中，M只要是碱金属以外的金属就可以，没有特别的限制，但优选是钛原子、铝原子、锆原子或硅原子。即，在本发明中，优选使用以上述有机基团或水解性官能基取代的有机钛化合物、有机铝化合物、有机锆化合物、以及硅烷偶合剂。

作为硅烷偶合剂的例子，有乙烯基三甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯氧基丙基-三(β-甲氧乙氧)硅烷、β-(3，4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、γ-巯基丙基三甲氧基硅烷、γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基甲基甲氧基硅烷、N，N-双(β-羟乙基)-γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、γ-氯丙基三甲氧基硅烷等。这其中更优选，乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三(2-甲氧乙氧硅烷)、3-甲基丙烯氧基丙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、2-(3，4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-苯基-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、3-巯基丙基三甲氧基硅烷、3-氯丙基三甲氧基硅烷。

另外，也可使用上述有机金属化合物和硅烷偶合剂的水解产物。作为该水解产物，可列举，与所述通式所示的有机金属化合物的M(碱金属以外的金属原子或硅原子)结合的γ(水解性基团)或R(有机基团)用水解性基团取代的水解产物。另外，有机金属化合物和硅烷偶合剂含有多个水解性基团时，不需要全部的官能基水解，可以是部分水解的产物。另外，这些有机金属化合物和硅烷偶合剂可单独使用，也可以2种以上混合使用。

作为使用具有水解性基团的有机金属化合物和/或硅烷偶合剂(以下简称为“有机金属化合物”)将酞菁颜料进行被覆处理的方法，可列举将酞菁颜料的结晶在预备过程就被覆处理的方法，在将酞菁颜料分散到粘合树脂前进行被覆处理的方法，在将酞菁颜料向粘合树脂中分散时混合处理有机金属化合物的方法，在将酞菁颜料向粘合树脂分散后用有机金属化合物进一步进行分散处理的方法。

更具体地说，作为将颜料结晶在预备过程预先进行被覆处理的方法，可列举将有机金属化合物与结晶完成前的酞菁颜料混合后加热的方法，将有机金属化合物混合到结晶完成前的酞菁颜料进行机械干式粉碎的方法，将有机金属化合物的水或有机溶剂的混合液混合到结晶完成前的酞菁颜料中进行湿式粉碎处理的方法等。

另外，作为将酞菁颜料分散到粘合树脂前进行被覆处理的方法，有将有机金属化合物、水或水与有机溶剂的混合液、以及酞菁颜料混合后加热的方法，将有机金属化合物直接喷雾到酞菁颜料中的方法，将有机金属化合物与酞菁颜料混合进行混炼的方法等。

另外，作为分散时进行混合处理的方法，可列举在分散溶剂中依次添加有机金属化合物、酞菁颜料、粘合树脂进行混合的方法，将这些电荷发生层形成成分同时添加进行混合的方法等。

另外，作为将酞菁颜料分散在粘合树脂中，然后用有机金属化合物进行进一步分散处理的方法，可列举例如将用溶剂稀释的有机金属化合物添加到分散液的同时搅拌进行分散的方法。另外，该分散处理时，为了使之更牢固地附着在酞菁颜料上，作为催化剂，也可添加硫酸、盐酸、三氟乙酸等酸。

这其中，优选将酞菁颜料的结晶在预备过程预先进行被覆处理的方法，或将酞菁颜料分散到粘合树脂前进行被覆处理的方法。

作为电荷发生层13中使用的粘合树脂，可从广泛的绝缘性树脂中选择，而且可从聚-N-乙烯基咔唑、聚乙烯基蒽、聚乙烯基嵌二萘、聚硅烷等有机光导电性聚合物中选择。作为优选的粘合树脂，可列举聚乙烯醇缩醛树脂、聚芳酯(アリレ一ト)树脂(双酚A和苯二甲酸的缩聚物等)、聚碳酸酯树脂、聚酯树脂、苯氧树脂、氯化乙烯-乙酸乙烯基酯共聚物、聚酰胺树脂、丙烯酸树脂、聚丙烯酰胺树脂、聚乙烯基吡啶树脂、纤维素树脂、尿烷树脂、环氧树脂、酪蛋白、聚乙烯醇树脂、聚乙烯基吡咯烷酮树脂等绝缘性树脂，其中，特别优选聚乙烯基缩醛树脂和氯化乙烯-乙酸乙烯基酯共聚物。这些粘合树脂可单独使用，也可2种以上组合使用。电荷发生层13中的电荷发生物质和粘合树脂的混合比(重量比)优选在10∶1～1∶10的范围。相对于颜料质量的粘合树脂质量不能达到上述混合比时，其成膜性将会变差。另外，相对于颜料质量的粘合树脂质量超过上述混合比时，因膜中的电荷发生物质含量相对减少，得不到充分的感度。

颜料的含量相对电荷发生层13的总质量，优选10-90％，更优选40-70％。颜料含量分别不足上述数值范围的下限值时，很难得到充分的感度。另外，颜料含量分别超过上述数值范围的上限值时，会发生带电性降低、感度降低等问题。

电荷发生层13是通过电荷发生材料的真空蒸镀，或涂布含有电荷发生材料和粘合树脂的涂布液形成的。作为涂布液的溶剂，只要是可溶解粘合树脂，并对颜料(电荷发生物质)的结晶型变化不产生影响的物质就可以，没有特别限定。可使用已知的有机溶剂，例如可从醇、芳香族化合物、卤代烃、酮、酮醇、醚、酯等中任意选择，更具体地可列举，甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、苄基醇、甲基溶纤素、乙基溶纤素、丙酮、甲乙酮、环己酮、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸正丁酯、二恶烷、四氢呋喃、二氯甲烷、氯仿、氯苯、甲苯等。这些溶剂可单独使用，也可2种以上混合使用。

作为使电荷发生材料和粘合树脂分散在溶剂中的方法，可使用辊碎机、球磨机、振动球磨机、磨碎机、混砂机、胶体磨机、涂料混合器等的方法。在该分散时，将电荷发生材料形成0.5μm以下，优选0.3μm以下，更优选0.15μm以下的粒子大小是有效的。另外，为提高电特性、提高画质等，可在该电荷发生层用涂布液中混入中间层12的说明中所列举的添加剂。另外，作为该涂布液的涂布方法，可列举叶片涂层法、棒涂层法、喷涂法、浸渍涂层法、颗粒涂层法、空气刀涂层法、幕式涂层法等。另外，为提高涂膜的平滑性，可在涂布液中微量添加作为拉平剂的硅油。这样得到的电荷发生层13的膜厚优选是0.05～5μm，更优选0.1～2.0μm，最优选是0.1-1.0μm。电荷发生层13的厚度不足0.05μm时，不能得到充分的感度。另外，电荷发生层13的厚度超过0.05μm时，易产生带电性差等弊端。

电荷输送层14是含有电荷输送材料和粘合树脂的层。作为电荷输送材料，具体可列举，2，5-双(对-二乙基氨基苯基)-1，3，4-恶二唑等恶二唑衍生物，1，3，5-三苯基-吡唑啉、1-[吡啶基-(2)-]-3-(对-二乙基氨基苯乙烯基)-5-(对-二乙基氨基苯乙烯基)吡唑啉等吡唑啉衍生物，三苯基胺、三(对-甲基)苯基胺、N，N’-双(3，4-二甲基苯基)联苯-4-胺、苄基苯胺、9，9-二甲基-N，N’-二(对-甲苯基)芴酮-2-胺等芳香族叔氨基化合物，N，N’-二苯基-N，N’-双(3-甲基苯基)-[1，1-联苯]-4，4’-二胺等芳香族叔二氨基化合物，3-(4，-二甲基氨基苯基)-5，6-二-(4’-甲氧苯基)-1，2，4-三嗪等，1，2，4-三嗪衍生物，4-二乙基氨基苯甲醛-1，1-二苯基腙、4-二苯基氨基苯甲醛-1，1-二苯基腙、[对-(二乙基氨基)苯基](1-萘基)苯基腙等腙衍生物，2-苯基-4-苯乙烯基-喹唑啉等喹唑啉衍生物，6-羟基-2，3-二(对-甲氧苯基)-苯并呋喃等苯并呋喃衍生物，对-(2，2-二苯基乙烯基)-N，N’-二苯基苯胺等α-1，2-二苯乙烯衍生物，烯胺衍生物，N-乙基咔唑等咔唑衍生物，聚-N-乙烯基咔唑及其衍生物等空穴输送物质；氯醌苯醌(クロラニルキノン)、溴醌苯醌、蒽醌等苯醌类化合物，四氰基喹二甲烷类化合物、2，4，7-三硝基芴酮、2，4，5，7-四硝基-9-芴酮等芴酮化合物，2-(4-联苯)-5-(4-叔丁基苯基)-1，3，4-恶二唑、2，5-双(4-萘基)-1，3，4-恶二唑、2，5-双(4-二乙基氨基苯基)-1，3，4-恶二唑等恶二唑类化合物，占吨酮类化合物，噻吩化合物，3，3’，5，5’-四叔丁基联对苯醌等联对苯醌化合物等电子输送性物质；或在主链或侧链中具有从上述化合物除去氢原子等的残基的聚合物等。这些电荷输送材料，可单独使用，也可2种以上组合使用。

对于电荷输送层14的粘合树脂没有特别的限制，但优选可形成薄膜的电绝缘性树脂。作为这样的粘合树脂，具体可列举，聚碳酸酯树脂、聚酯树脂、甲基丙烯酸树脂、丙烯酸树脂、聚氯乙烯树脂、聚偏氯乙烯树脂、聚苯乙烯树脂、聚醋酸乙烯酯树脂、苯乙烯-丁二烯共聚物、偏氯乙烯-丙烯腈共聚物、氯化乙烯-醋酸乙烯基酯共聚物、氯化乙烯-醋酸乙烯基酯-马来酸酐共聚物、硅酮树脂、硅酮-醇酸树脂、苯酚-甲醛树脂、苯乙烯-醇酸树脂、聚-N-咔唑、聚乙烯醇缩丁醛、聚乙烯醇缩甲醛、聚砜、酪蛋白、明胶、聚乙烯醇、乙基纤维素、酚醛树脂、聚酰胺、羧甲基纤维素、偏氯乙烯类聚合物蜡、聚氨酯等，其中，从具有优良的相溶性、在溶剂中的溶解性、强度等方面考虑，电荷输送材料优选使用聚碳酸酯树脂、聚酯树脂、甲基丙烯酸树脂、丙烯酸树脂。这些粘合树脂可单独使用，也可2种以上组合使用。

在电荷输送层14中添加颜料等分散粒子时，所形成的电荷输送层14的涂布液中含有的颜料等分散粒子的粒径，优选在0.5μm以下，更优选0.3μm以下，最优选0.15μm以下。分散粒子粒径超过0.5μm时，电荷输送层14的成膜性差，易发生画质缺陷。

电荷输送层14可使用将上述电荷输送材料和粘合树脂混合或分散在给定溶剂中的涂布液形成。作为在涂布液中使用的溶剂，可使用在电荷发生层用涂布液的说明中列举的溶剂，但优选对电荷发生层13的粘合树脂溶解性低的溶剂。另外，电荷输送材料和粘合树脂的混合比(重量比)，优选3∶7～6∶4。该混合比在所述范围外时，电特性或膜强度的至少一个方面有降低的倾向。另外，为提高涂膜的平滑性，可在涂布液中微量添加作为拉平剂的硅油。作为制备涂布液时的分散方法和涂布液的涂布方法，可应用与电荷发生层13同样的方法，所得电荷输送层13的膜厚为5～50μm，优选10～35μm是合适的。

保护层15是为了防止在带电工序时电荷输送层14等的化学变化，并进一步提高感光层16的机械强度的层，是在粘合树脂中适当地含有导电性材料形成的。作为导电性材料，可列举N，N’-二甲基二茂铁等芳环烯金属衍生物化合物、N，N’-二苯基-N，N’-双(3-甲基苯基)-1，1’-联苯-4，4’-二胺等芳香族胺化合物、氧化钼、氧化钨、氧化锑、氧化锡、氧化钛、氧化铟、氧化锡和锑或氧化锑的固溶体，或它们的混合物，或单一粒子中混合或被覆这些金属氧化物的物质。

另外，作为保护层15的粘合树脂，可列举聚酰胺树脂、聚乙烯醇缩醛树脂、聚氨酯树脂、聚酯树脂、环氧树脂、聚酮树脂、聚碳酸酯树脂、聚乙烯基酮树脂、聚苯乙烯树脂、聚丙烯酰胺树脂、聚酰亚胺树脂、聚酰胺酰亚胺树脂等，这些可根据需要使之交联后使用。

保护层15，可使用将上述导电性物质和粘合树脂混合或分散在给定溶剂中的涂布液，与电荷发生层13同样地形成。另外，在涂布液中使用的溶剂，优选对下层(在图1中是电荷输送层14)的粘合树脂溶解性尽可能低的物质。另外，保护层15的膜厚是1～20μm，优选2～10μm是合适的。

作为形成保护层15的涂布液的涂布方法，可使用叶片涂层法、棒涂层法、喷涂法、浸渍涂层法、颗粒涂层法、空气刀涂层法、幕式涂层法等常用的方法。

另外，作为形成保护层的涂布液中使用的溶剂，可单独或2种以上混合使用二恶烷、四氢呋喃、二氯甲烷、氯仿、氯苯、甲苯等常规的有机溶剂，但优选使用尽量难溶解被该涂布液涂布的感光层16的溶剂。

另外，为了防止电子照像装置中产生的由臭氧或氧化性气体，或光·热引起的感光体的劣化，在感光层16(电荷发生层13、电荷输送层14等)中可添加抗氧化剂、光稳定剂·热稳定剂等添加剂。

作为抗氧化剂，可列举位阻(ヒンダ一ド)苯酚、位阻胺、对苯二胺、芳基链烷、氢醌、螺色满、螺茚满酮及其衍生物，有机硫化合物，有机磷化合物等。

更具体地，作为酚类抗氧化剂，可列举2，6-二叔丁基-4-甲基苯酚、苯乙烯化苯酚、正十八烷基-3-(3’，5’-二叔丁基-4’-羟基苯基)-丙酸酯、2，2’-亚甲基-双-(4-甲基-6-叔丁基苯酚)、2-叔丁基-6-(3’-叔丁基-5’-甲基-2’-羟基苄基)-4-甲基苯基丙烯酸酯、4，4’-丁叉-双-(3-甲基-6-叔丁基苯酚)、4，4’-硫-双-(3-甲基-6-叔丁基苯酚)、1，3，5-三(4-叔丁基-3-羟基-2，6-二甲基苄基)异氰酸酯、四-[亚甲基-3-(3’，5’-二叔丁基-4’-羟基苯基)丙酸酯]-甲烷、3，9-双[2-{3-(3-叔丁基-4-羟基-5-甲基苯基)丙酰氧}-1，1-二甲基乙基]-2，4，8，10-四氧杂螺[5，5]十一烷等。

另外，作为位阻胺类化合物，可列举双(2，2，6，6-四甲基-4-哌啶基)癸二酸酯、双(1，2，2，6，6-五甲基-4-哌啶基)癸二酸酯、1-[2-{3-(3，5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酰氧}乙基]-4-[3-(3，5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酰氧]-2，2，6，6-四甲基哌啶、8-苄基-7，7，9，9-四甲基-3-辛基-1，3，8-三氮杂螺[4，5]十一烷-2，4-二酮、4-苯甲酰氧-2，2，6，6-四甲基哌啶、琥珀酸二甲基-1-(2-羟基乙基)-4-羟基-2，2，6，6-四甲基哌啶缩聚物、聚[{6-(1，1，3，3-四甲基丁基)亚氨基-1，3，5-三嗪-2，4-二亚氨基(イミル)}{(2，2，6，6-四甲基-4-哌啶基)亚氨基}六亚甲基{(2，3，6，6-四甲基-4-哌啶基)亚氨基}]、2-(3，5-二叔丁基-4-羟基苄基)-2-正丁基丙二酸双(1，2，2，6，6-五甲基-4-哌啶基)、N，N’-双(3-氨基丙基)亚乙基二胺-2，4-双[N-丁基N-(1，2，2，6，6-五甲基-4-哌啶基)氨基]-6-氯-1，3，5-三嗪缩合物等。

另外，作为有机硫抗氧化剂，可列举二月桂基-3，3’-硫代二丙酸酯、二肉豆蔻基-3，3’-硫代二丙酸酯、二硬脂基-3，3’-硫代二丙酸酯、季戊四醇-四-(β-月桂基-硫代丙酸酯)、双十三烷基-3，3’-硫代二丙酸酯、2-巯基苯并咪唑等。

另外，作为有机磷抗氧化剂，可列举三壬基苯基磷酸酯、三苯基磷酸酯、三(2，4-二叔丁基苯基)磷酸酯等。

上述抗氧化剂中，将有机硫和有机磷类抗氧化剂称为2次抗氧化剂，通过与酚类或胺类抗氧化剂等1次抗氧化剂并用，可得到协同效果。

另外，作为光稳定剂，可列举二苯甲酮类、苯并***类、二硫代氨基甲酸酯类、四甲基哌啶类等的衍生物。

更具体地，作为二苯甲酮类光稳定剂，可使用2-羟基-4-甲氧二苯甲酮、2-羟基-4-辛氧二苯甲酮、2，2’-二羟基-4-甲氧二苯甲酮等。

另外，作为苯并***类光稳定剂，可列举2-(2’-羟基-5’-甲基苯基)苯并***、2-[2’-羟基-3’-(3”，4”，5”，6”-四氢邻苯二甲酰亚胺基甲基)-5’-甲基苯基]-苯并***、2-(2’-羟基-3’-叔丁基-5’-甲基苯基)-5-氯代苯并***、2-(2’-羟基-3’-叔丁基-5’-甲基苯基)-5-氯代苯并***、2-(2’-羟基-3’，5’-叔丁基苯基)苯并***、2-(2’-羟基-5’-叔辛基苯基)苯并***、2-(2’-羟基-3’，5’-二叔戊基苯基)苯并***等。此外，也可使用2，4-二叔丁基苯基-3’，5’-二叔丁基-4’-羟基苯甲酸酯、二丁基二硫代氨甲酸酯镍等。

另外，为提高感度、降低残留电位和减低反复使用时的疲劳等目的，感光层16(电荷发生层13、电荷输送层14等)可含有至少1种电子受体物质。作为该电子受体物质，可列举琥珀酸酐、马来酸酐、二溴代马来酸酐、苯二甲酸酐、四溴代苯二甲酸酐、四氰基乙烯、四氰基喹二甲烷、邻-二硝基苯、间-二硝基苯、氯醌、二硝基蒽醌、三硝基芴酮、苦味酸、邻-硝基苯甲酸、对-硝基苯甲酸、苯二甲酸等。其中，特别优选芴酮类或苯醌类化合物，或具有-Cl、-CN、-NO₂等吸电子取代基的苯衍生物。

在第1实施方式中，在导电性基体11和感光层16之间，通过形成含有金属氧化物微粒子和粘合树脂的，体积电阻及其环境依存性满足上述特定条件的中间层13，可充分提高防漏电性和电特性两方面，因此即使与接触带电装置一起使用时，也可得到不发生跑光等画质缺陷的良好的图像品质。第2实施方式

图2是表示本发明电子照像感光体的第2实施方式的模式断面图。在图2所示的电子照相感光体中，在导电性基体11上形成了中间层12，进一步在中间层12上形成底层17、电荷发生层13、电荷输送层14、保护层15，由此构成感光层16。

底层17含有给定的树脂和/或有机金属化合物。所述树脂，可列举聚乙烯醇缩丁醛等缩醛树脂、聚乙烯醇树脂、酪蛋白、聚酰胺树脂、纤维素树脂、明胶、聚氨酯树脂、聚酯树脂、甲基丙烯酸树脂、丙烯酸树脂、聚氯乙烯树脂、聚醋酸乙烯酯树脂、氯化乙烯-醋酸乙烯酯-马来酸酐树脂、硅酮树脂、硅酮-醇酸树脂、苯酚-甲醛树脂、三聚氰胺树脂等。

另外，所述有机金属化合物，是含有锆、钛、铝、锰、硅等原子的有机金属化合物，更具体地可列举，乙烯基三甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯氧基丙基-三(β-甲氧乙氧)硅烷、β-(3，4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、γ-巯基丙基三甲氧基硅烷、γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基甲基甲氧基硅烷、N，N-双(β-羟乙基)-γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、γ-氯丙基三甲氧基硅烷等有机硅化合物；丁醇锆、锆乙酸乙酯、锆三乙醇胺、乙酰丙酮丁醇锆、乙酰乙酸乙酯丁醇锆、醋酸锆、草酸锆、乳酸锆、膦酸锆、辛酸锆、环烷酸锆、月桂酸锆、硬脂酸锆、异硬脂酸锆、甲基丙烯酸酯丁醇锆、硬脂酸酯丁醇锆、异硬脂酸酯丁醇锆等有机锆化合物；

四异丙基钛酸酯、四正丁基钛酸酯、丁基钛酸酯二聚物、四(2-乙基己基)钛酸酯、钛乙酰乙酸酯、聚钛乙酰乙酸酯、钛辛二醇酯、乳酸钛铵盐、乳酸钛、乳酸钛乙基酯、钛三乙醇胺盐、多羟基硬脂酸钛等有机钛化合物；和

异丙酸铝、单丁氧基铝二异丙酸酯、丁酸铝、二乙基乙酰乙酸酯铝二异丙酸酯、铝三(乙酰乙酸乙酯)等有机铝化合物。其中，含有锆或硅的有机金属化合物残留电位低，环境引起的电位变化小，且反复使用引起的电位变化小等性能上优秀，特别优选使用乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三(2-甲氧乙氧硅烷)、3-甲基丙烯氧基丙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、2-(3，4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-苯基-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、3-巯基丙基三甲氧基硅烷、3-氯丙基三甲氧基硅烷等硅烷偶合剂。

底层17可使用将上述的树脂和/或有机金属化合物混合或分散在给定溶剂中的涂布液，通过与中间层12同样的方法形成。所述溶剂，可使用在中间层12的涂布液说明中列举的溶剂，但是优选对中间层12溶解性低的溶剂。另外，底层17的膜厚优选0.1～3μm。如果底层的膜厚超过3μm，电的阻挡层变得过大，有容易发生减感或反复使用引起的电位上升的倾向。

在第2实施方式中，仅仅是在中间层12和感光层16之间设置了底层17这一点与第1实施方式不同，但通过设置体积电阻及其环境依存性满足上述特定条件的中间层12，充分提高了防漏电性和电特性两方面，因此即使与接触带电装置一起使用时，也可得到不发生跑光等画质缺陷的良好的图像品质的效果方面与第1实施方式相同。而且，通过在中间层12和感光层16之间设置具有上述组成的底层17，可提高电特性、画质、画质维持性、感光层和中间层的粘合性等特性。

另外，本发明的电子照像感光体并不限于上述的实施方式。例如，图1、2所示的电子照像感光体是具备保护层15的感光体，但在电荷输送层14等具有充分高的机械强度时，可以不设置该保护层。

另外，在图1、2所示的电子照像感光体中，从接近基体11开始，依次层压了电荷发生层13、电荷输送层14，但是这些层的顺序也可相反。

另外，图1、2所示的电子照像感光体是具备分别设置了电荷发生层13和电荷输送层14的功能分离型的感光层16的感光体，但也可以是具备同时含有电荷发生材料和电荷输送材料的单层型感光层的感光体。第3实施方式

第3实施方式的电子照像感光体的制造方法是，在形成电子照像感光体中间层的工序中，对金属氧化物微粒子进行表面处理后，只要选择性的使用得到的金属氧化物粒子A中满足式(2)条件的金属氧化物粒子A就可以，对于中间层以外的电子照像感光体的其它构成要素的制造工序的顺序或其条件没有特别的限制，例如，可使用公知的技术。因此，对于本发明的电子照像感光体的制造方法的优选实施方式，是在以下的本发明电子照像感光体的各实施方式的中间层的说明中进行作为其重要部分的中间层的形成工序的说明。

1.0×10^-6≤(I1/I2)≤1.0×10^-3…(2)式(2)中，

I1表示通过对所述经表面处理过的金属氧化物粒子的荧光X射线分析得到的所述有机金属化合物的金属元素的特性X射线强度，

I2表示通过对所述经表面处理过的金属氧化物粒子的荧光X射线分析得到的所述金属氧化物粒子的金属元素的特性X射线强度。

图5是表示本发明的电子照像感光体的第8实施方式的断面图。如图5所示，电子照像感光体1是由导电性基体11、中间层12和感光层16构成的。该电子照相感光体1，可通过所述的本实施方式的电子照像感光体的制造方法制造。

导电性基体11可使用第1实施方式中记载的物质。

中间层12，如前所述，含有用水解性有机金属化合物表面处理金属氧化物微粒子B得到的金属氧化物粒子A和粘合树脂。因此，在感光层16带电时，中间层12具有阻止从导电性基体11向感光层16注入电荷的功能。另外，该中间层12还具有使感光层16与导电性基体11保持一体粘接的粘接层功能。而且，该中间层12具有防止导电性基体11的光反射功能。

另外，本发明电子照相感光体的中间层12所用的粘合树脂，可使用第1实施方式中所述的中间层12中所用的粘合树脂。

金属氧化物粒子B，优选的是选自氧化锡、氧化钛和氧化锌的至少一种粒子。

金属氧化物粒子B的粒径，优选平均粒径在100nm以下。另外，这里所说的粒径是指平均1次粒径。作为金属氧化物粒子B，虽然粉体电阻值是10²～10¹¹Ωcm的物质就可以使用，但从获得中间层的优秀耐漏电性的观点出发，特别优选粉体电阻值是10⁴～10¹⁰Ωcm的物质。如果不足10²Ωcm，得不到充分的耐漏电性，如果超过10¹¹Ωcm，发生残留电位上升的倾向增加。

另外，由于金属氧化物微粒子B的比表面积对电子照像特性有很大影响，因此优选金属氧化物微粒子B的比表面积在10m²/g以上。如果比表面不足10m²/g，容易导致中间层12的带电性降低的倾向增加。

从控制使用环境温度或湿度的变动引起的中间层12的电阻值的变动的观点出发，将金属氧化物粒子B用水解性有机金属化合物进行表面处理，形成金属氧化物粒子A。通过进行表面处理形成金属氧化物粒子A，可将对中间层12的电阻给与很大影响的金属氧化物的分散状态容易地控制在适合获得上述合适的电阻值的状态。

本文所述表面处理是指，使金属氧化物粒子B的表面吸附水解性有机金属化合物，并使具有水解性基团的水解性有机金属化合物进行水解的处理。另外，使用水解性有机金属化合物的金属氧化物粒子B的表面处理，可以是将金属氧化物微粒子B的所有表面进行覆盖处理，也可以是覆盖一部分的处理。

在本发明中，作为水解性有机金属化合物，优选下述通式(3)所示的物质。

R_p-M-Y_q…(3)式中，R表示有机基团、M表示金属元素或硅原子，Y表示水解性基团，p和q分别是1～4的整数，p和q之和相当于M的原子价。

作为有机基团R，只要是例如甲基、乙基、丙基、丁基、辛基等烷基，乙烯基、烯丙基等链烯基，环己基等环烷基，苯基、萘基等芳基，甲苯基等烷芳基，苄基、苯乙基等芳烷基，苯乙烯基等芳基链烯基，呋喃基、噻吩基、吡咯烷基、咪唑基等杂环残基等有机化合物残基就可以，对此没有特别的限制。水解性有机金属化合物中有机基团R可以是选自上述有机化合物残基中的1种或2种以上。

另外，作为水解性官能基Y，可列举甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基、环己氧基、苯氧基、苄氧基等醚基，乙酰氧基、丙酰氧基、丙烯氧基、甲基丙烯氧基、苯甲酰氧基、甲磺酰氧基、苯磺酰氧基、二苯乙醇酰氧羰基等酯基，氯原子等卤原子等。

另外，作为M，只要是碱金属以外的金属就可以，对此没有特别的限制，可列举硅、锆、钛、铝、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、锌、钾、锗、钌、铑、钯、铟、锡、铂等金属。

因此，作为具有上述有机基团R或水解性官能基的水解性有机金属化合物，优选至少一种选自取代了上述有机基团或水基性官能基的硅烷偶合剂、钛酸酯类偶合剂、铝酸酯类偶合剂和有机锆化合物，更优选硅烷偶合剂。而且，这些水解性有机金属化合物可单独使用或2种以上混合使用。

具体的硅烷偶合剂、钛酸酯类偶合剂、铝酸酯类偶合剂可使用第1实施方式中所述的同样物质。

另外，水解性有机金属化合物优选使用硅烷偶合剂，更优选使用具有巯基的硅烷偶合剂，优选使用γ-巯基丙基三甲氧基硅烷。

另外，水解性有机金属化合物的使用量如前所述，是得到满足式(2)条件的金属氧化物粒子A的量，是通过在表面处理中使用的水解性有机金属化合物和金属氧化物粒子B等组合，与表面处理反应的温度、表面处理中使用的装置以及制备的金属氧化物粒子A的规模等表面处理条件等进行最佳化而设定的。

下面，对金属氧化物粒子B的表面处理方法进行说明。对于水解性有机金属化合物对金属氧化物粒子B的表面处理方法没有特别的限制，可使用例如，干式法、湿式法、气相法等公知的方法。

另外，在本发明中，例如，将金属氧化物粒子B进行表面处理后，可以从所得金属氧化物粒子A中，分离满足式(2)条件的金属氧化物粒子A，但在可能的情况下，例如，可预先掌握容易最佳化地获得满足式(2)条件的金属氧化物粒子A的良好再现性的金属氧化物粒子B的表面处理条件，通过其最佳化的金属氧化物粒子B的表面处理条件得到的金属氧化物粒子A全部可在中间层的形成中使用。

例如，对基于干式法进行表面处理的顺序的一个例子进行说明。首先，在表面处理前将金属氧化物粒子B在100-150℃进行预干燥，除去表面吸附水。通过在处理前除去该表面吸附水，可使该金属氧化物粒子B表面均匀地吸附水解性有机金属化合物。此时，可用剪切力大的搅拌器搅拌的同时使金属氧化物粒子B进行预干燥。

然后，使水解性有机金属化合物吸附在金属氧化物粒子B表面。此时，用剪切力大的搅拌器搅拌金属氧化物粒子B的同时，使水解性有机金属化合物与干燥空气或氮气一起喷雾，或使用水解性有机金属化合物溶解在溶剂(有机溶剂、水等)中的液体与干燥空气或氮气一起喷雾。由此，可使水解性有机金属化合物均匀吸附在金属氧化物粒子B的表面。

使水解性有机金属化合物吸附在金属氧化物粒子B表面时的温度，优选在50℃以上的温度进行。另外，在使用溶剂的情况下，优选在溶剂沸点附近的温度进行。

然后，在100℃以上的温度进行烧结处理。由此，可使水解性有机金属化合物的水解反应充分进行。进行烧结处理优选在150～250℃的温度进行。如果不足150℃，恐怕不能充分进行水解性有机金属化合物的水解反应。如果超过250℃，恐怕会引起水解性有机金属化合物的分解。

然后，根据需要，将表面处理后的金属氧化物粒子A进行粉碎。由此，可将金属氧化物粒子A的凝集体粉碎，因此可提高中间层12中的金属氧化物粒子的分散性。

下面，对基于湿式法进行表面处理的情况的顺序的一个例子进行说明。首先，将金属氧化物微粒子B在溶剂中用超声波、混砂机或磨碎机、球磨机等分散，然后向其中添加含有水解性有机金属化合物的液体并搅拌，进行表面处理反应。其后，通过蒸馏从该液体蒸除溶剂。另外，可将除去溶剂后得到的固形物进一步在100℃以上进行烧结。另外，与干式法相同，在该湿式法中，可在表面处理前除去金属氧化物微粒子B的表面吸附水。作为除去该表面吸附水的方法，与干式法相同，通过加热干燥除去，可列举在表面处理中通过使用的溶剂搅拌同时加热除去的方法，与溶剂共沸除去的方法等。

另外，从防止作为接触带电时电流漏电的一个原因，导电性粉等异物从外部穿透感光体，形成耐久性高的中间层12的观点出发，提高中间层12的硬度是有效地，作为硬度指标，中间层12的维氏硬度优选在30以上，更优选35以上。

另外，从防止云纹像的观点出发，在使用的曝光用激光波长为λ时，中间层1 2的表面粗糙度优选调整为(1/4n)λ(n是上层折射率)～λ。另外，这里所说的表面是指中间层12的感光层16侧的表面。另外，为调整该表面粗糙度，也可在中间层12中添加树脂粒子。作为树脂粒子，可使用硅酮树脂粒子、交联型聚甲基丙烯酸甲酯树脂(PMMA)的粒子等。

另外，为调整表面粗糙度，也可研磨中间层12的表面。作为研磨方法，可使用抛光研磨、喷砂处理、湿研磨、磨削处理等。

下面对中间层12的形成方法(中间层12的形成工序)进行说明。该中间层12，可通过从上述金属氧化物粒子B用至少1种所述水解性金属化合物进行表面处理后得到的金属氧化物A中，将满足式(2)条件的粒子分散在所述粘合树脂中得到的涂布液涂布在导电性基体11上形成。

作为配制中间层12的形成用涂布液的溶剂，可从公知的有机溶剂、例如，醇类、芳香类、卤代烃类、酮类、酮醇类、醚类、酯类等任意选择。

可使用例如，甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、苄基醇、甲基溶纤素、乙基溶纤素、丙酮、甲乙酮、环己酮、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸正丁酯、二恶烷、四氢呋喃、二氯甲烷、氯仿、甲苯等通常的有机溶剂。

另外，在所述分散体中使用的溶剂可单独或2种以上混合使用。混合时，作为可使用的溶剂，只要是混合溶剂可溶解粘合树脂的溶剂，可使用任何溶剂。

将金属氧化物粒子A分散在粘合树脂中的方法，可使用第1实施方式中所述的同样方法。而且，作为设置该中间层时所用的涂布方法，可使用第1实施方式中所述的同样方法。

下面，对感光层16进行说明。如图5所示，感光层16由电荷发生层13和电荷输送层14构成。

第8实施形式中所用的电荷发生层13和电荷输送层14可使用第1实施形式中所述的同样物质。

作为电荷输送层14的涂布方法，可列举叶片涂层法、棒涂层法、喷涂法、浸渍涂层法、颗粒涂层法、空气刀涂层法、幕式涂层法等常用的方法。第4实施方式

图6是表示本发明电子照相感光体第4实施方式的断面图。图6所示的电子照相感光体1，除了感光层16为单层结构以外，与图5所示的电子照相感光体1具有同样的构成。

图6中所示的感光层16是合并图5中所示的电荷发生层13和电荷输送层14中含有的电荷发生物质和电荷输送物质为主的物质的层。

感光层16是这样的单层型时，颜料的含有量相对于感光层16的总重量，优选为0.1-50重量％，更优选1-20重量％。另外，颜料的含有量如果不足上述数值范围的下限值，很难得到充分的感度。另一方面，颜料的含有量如果超过上述数值范围的上限值，发生带电性降低、感度降低等弊害的倾向变大。

另外，这样的感光层16是单层型时，作为粘合树脂，从与空穴输送性材料相溶性的观点出发，特别优选使用聚碳酸酯树脂和甲基丙烯酸树脂。另外，这些树脂也可从聚-N-乙烯基咔唑、聚乙烯基蒽、嵌二萘、聚硅烷等有机光导电性聚合物中选择使用。另外，上述粘合剂树脂，可单独或2种以上混合使用。

该感光层16也可通过混合上述电荷输送物质、上述电荷输送物质、上述有机溶剂、粘合剂树脂等制备涂布液，用与上述同样的方法涂布在导电性基体11上，进一步使之干燥形成。第5实施方式

图7是表示本发明电子照相感光体第5实施方式的断面图。图7中所示的电子照相感光体1，感光层16为单层结构，除了在感光层16上具备保护层15以外，与图6所示的电子照相感光体1具有同样的构成。第6实施方式

图8是表示本发明的电子照相感光体的第6实施方式的断面图。在图8所示的电子照相感光体1，除了在感光层16和中间层12之间具备底层17以外，与图5所示的电子照相感光体1具有相同的构成。该底层17是为了提高电特性、提高画质、提高感光层16的粘结性设置的。

对于该底层17的构成材料没有特别的限制，可从合成树脂、有机物质或无机物质粉末、电子输送性物质等中任意选择。

底层17的合成树脂，除了在所述实施方式中叙述的物质以外，也可以是锆螯合物、钛螯合物、铝螯合物、钛醇化物、有机钛化合物、硅烷偶合剂等。

因此，这些化合物可单独或以多个化合物的混合物或缩聚物的形式使用。另外，其中，锆螯合物、硅烷偶合剂在残留电位低，环境引起的电位变化小，而且反复使用引起的电位变化少等性能上是优秀的。

在底层17中，由于提高电特性或提高光散射性等目的，可添加各种有机化合物的微粉末或无机化合物的微粉末。特别是，二氧化钛、氧化锌、锌白、硫化锌、铅白、立德粉等白色颜料或氧化铝、碳酸钙、硫酸钡等作为填充颜料的无机颜料或特氟纶树脂粒子、苯并二氨基三嗪树脂粒子、苯乙烯树脂粒子等是有效的。

添加微粉末的粒径可以是0.01-2μm。微粉末可根据需要添加，但其添加量相对于底层17的固形成分的总重量，优选重量比为10-90重量％，更优选30-80重量％。

另外，从底残留电位或环境稳定性的观点出发，底层17含有所述说明的电子输送性物质、电子输送性颜料等是有效的。另外，底层17的厚度优选0.01-30μm，更优选0.05-25μm。

另外，在制备形成底层17的涂布液时，可将微粉末状的物质添加到溶解了树脂成分的溶液中，并进行分散处理。作为该分散处理方法，可使用辊碎机、球磨机、振动球磨机、磨碎机、混砂机、胶体磨机、涂料混合器等的方法。

此外，所述底层17可通过在导电性基体11上涂布为形成底层17的涂布液，使之干燥形成。作为此时的涂布方法，可使用叶片涂层法、棒涂层法、喷涂法、浸渍涂层法、颗粒涂层法、空气刀涂层法、幕式涂层法等常用的方法。第7实施方式

图9是表示本发明电子照相感光体第7实施方式的断面图。图9中所示的电子照相感光体1，除了感光层16为单层结构，在感光层16和中间层12之间具备底层17以外，与图5所示的电子照相感光体1具有相同的构成。

底层17具有与上述图8所示的感光体1具有同样的构成。第8实施方式

图10是表示本发明电子照相感光体第8实施方式的断面图。

图10中所示的电子照相感光体1，除了在感光层16上设有保护层15，在感光层16和中间层12之间具备底层17以外，与图5所示的电子照相感光体1具有相同的构成。

底层17具有与上述图8所示的感光体1的底层17同样的构成。另外，保护层15与上述图1所示的感光体1的保护层15具有同样的构成。第9实施方式

图11是表示本发明电子照相感光体第9实施方式的断面图。

图11中所示的电子照相感光体1，除了在感光层16上设有保护层15，感光层16为单层结构，在感光层16和中间层12之间具备底层17以外，与图5所示的电子照相感光体1具有相同的构成。

底层17具有与上述图8所示的感光体1的底层17同样的构成。另外，保护层15与上述图1所示的感光体1的保护层15具有同样的构成。而且，感光层16也具有与图6所示感光体1的感光层16同样的构成。

以上是对本发明电子照相感光体的优选实施方式的详细说明，但本发明的电子照相感光体并不限于上述实施方式。

在本发明的感光层形成用涂布液中，为提高涂膜的平滑性，可微量添加作为拉平剂的硅油。

以上说明的本发明的电子照相感光体，可装载在在近红外光或可见光发光的激光打印机、数字复印机、LED打印机、激光传真机等电子照相装置中，或这样的电子照相装置中具备的处理卡盒中。另外，本发明的电子照相感光体可与一成分系、二成分系的正规显像剂或反转显像剂一起组合使用。另外，本发明的电子照相感光体即使被安装在使用了带电辊子或带电刷子等的接触带电方式的电子照相装置中，也可获得电流泄漏发生少的良好的特性。第10实施方式

下面，对本发明的电子照相装置进行说明。

图3是表示本发明电子照相装置中第10实施方式的概略构成图。在图3所示的装置中，具有图1所示构成的电子照相感光体1被支持体9支持，以支持体9为中心按箭头的方向以给定的旋转速度可旋转。而且，沿着电子照相感光体1的旋转方向，依次配置着接触带电装置2、曝光装置3、显像装置4、转印装置5、洗涤装置7。另外，该装置具备定影装置6，被转印介质P经过转印装置5被输送到定影装置6。

接触带电装置2，由于具备辊状接触带电部件，配置该接触带电部件使其与感光体1接触，通过外加电压，可对感光体1表面外加给定的电位。作为该接触带电部件的材料，可使用铝、铁、铜等金属，聚乙炔、聚吡咯、聚噻吩等导电性高分子材料，在聚氨酯橡胶、硅酮橡胶、3-氯-1，2-环氧丙烷橡胶、乙烯丙烯橡胶、丙烯酸橡胶、氟橡胶、苯乙烯-丁二烯橡胶、丁二烯橡胶等弹性体材料中分散了碳黑、碘化铜、硫化锌、碳化硅、金属氧化物等金属氧化物微粒子的物质。作为金属氧化物的例子，可列举ZnO、SnO₂、TiO₂、In₂O₃、MoO₃，或它们的复合氧化物。另外，在弹性体材料中使之含有高氯酸盐也可赋予导电性。

另外，也可在接触带电部件的表面设置被覆层。作为形成该被覆层的材料，可列举N-烷氧基甲基化尼龙、纤维素树脂、乙烯基吡啶树脂、酚醛树脂、聚氨酯、聚乙烯醇缩丁醛、三聚氰胺等。这些可单独使用，也可2种以上组合使用。另外，也可使用乳液树脂系材料，例如，丙烯酸树脂乳液、聚酯树脂乳液、聚氨酯、特别是通过皂化单体的乳液聚合合成的乳液树脂。这些树脂中，为了进一步调整电阻率，可分散导电剂粒子，为了防止劣化，可使之含有抗氧化剂。另外，由于形成被覆层可提高成膜性，也可使乳液树脂中含有拉平剂或表面活性剂。

接触带电部件的电阻，优选10⁰～10¹⁴Ωcm，更优选10²～10¹²Ωcm。另外，在该接触带电用部件中外加电压时，该外加电压可使用直流、交流的任一种，而且可使用直流电压和交流电压的叠加电压。

另外，在图3所示的装置中，具有接触带电装置2的接触带电部件虽然是辊状的，但该接触带电部件的形状也可以是板状、叶片状、带状、刷子状等。

另外，作为曝光装置3，可使用半导体激光、LED(发光二极管)、液晶光闸等光源在电子照相感光体1表面上可曝光为所需图像的光学***装置。其中，如果使用非干涉光可曝光的曝光装置，可防止电子照相感光体1的支持体(基体)与感光层之间的干涉纹。

另外，作为显像装置4，可使用应用一成分系、二成分系等正规或反转显像剂的现有的公知显像装置等。另外，对于可使用的调色剂的形状没有特别的限制，可优选使用例如，通过粉碎法得到的不定形调色剂或通过聚合法得到的球形调色剂。

另外，作为转印装置5，可列举使用带状、辊状、薄膜、橡胶叶片等接触型转印带电器、利用电晕放电的由受热散发钍(スコロトロン)的转印带电器或电晕钍转印带电器等。

另外，由于清洗装置7可除去转印工序后的电子照相感光体1的表面上附着的残存调色剂，因此，经输送上述的图像形成工序反复使用被清洁的电子照相感光体1。作为清洁装置7，可使用叶片清洁、刷子清洁、辊子清洁等，但其中优选使用叶片清洁。另外，作为清洁叶片的材质，可列举尿烷橡胶、氯丁橡胶、硅酮橡胶等。

在第10实施方式中，在电子照相感光体1的旋转工序中，通过依次进行带电、曝光、显像、转印、清洁各工序，进行图像形成的反复操作。这里，电子照相感光体1是在导电性基体和感光层之间形成了上述给定中间层的物质，由于是在防漏电性和电特性两方面达到高水平的物质，即使与接触带电装置2共用时，也可得到不发生跑光等画质缺陷的良好的图像品质。因此，通过本实施方式，实现了经过长时间可稳定得到良好图像品质的电子照相装置。第11实施方式

图12是概略显示本发明的电子照相装置的优选实施方式的基本构成的断面图。图12中所示的电子照相装置200，具备电子照相感光体1、通过电晕放电方式使电子照相感光体带电的电晕钍合由受热散发的钍等带电装置2、与带电装置2连接的电源202、曝光通过带电装置2被带电的电子照相感光体1形成静电潜像的曝光装置3、将通过曝光装置3形成的静电潜像通过调色剂显像形成调色剂像的显像装置4、将通过显像装置4形成的调色剂像转印到被转印介质上的转印装置5、清洗装置7、除电器201和定影装置6。

另外，图13是概略显示图12所示本发明电子照相装置的其他实施方式的基本构成的断面图。

图13中所示的电子照相装置210，除了具备通过接触方式使电子照相感光体1带电的带电装置2以外，与图12所示的电子照相装置200具有相同的构成。特别是，在采用在直流电压上叠加了交流电压的接触方式的带电装置的电子照相装置中，由于具有优秀的耐磨损性，而被优选使用。另外，在该情况下，也有未设置除电器201的产品。

带电装置(带电用部件)2，是被配置为与感光体1的表面接触，对感光体外加均匀电压，使感光体表面带电达到给定电位的装置。第12实施方式

图4是表示本发明的第12实施方式的电子照相装置的断面图。图4中所示的电子照相装置220是中间转印方式的电子照相装置，在外壳400之内沿着中间转印带409相互并列配置着4个电子照相感光体401a-401d。

这里，在电子照相装置220中装载的电子照相感光体从401a到401d分别是本发明的电子照相感光体，例如装载了图1所示的电子照相感光体。不用说也可以装载其他实施方式的电子照相感光体。

电子照相感光体401a-401d分别可按照给定方向(在纸面上是反时针方向)旋转，沿其旋转方向分别配置了带电辊402a-402d，显像装置404a-404d，1次转印辊410a-410d，清洁叶片415a-415d。在显像装置404a-404d中，分别安装的调色剂卡盒405a-405d可输送黄(Y)、浓紫红(M)、蓝绿色(C)、黑色的4色调色剂，而且，1次转印辊410a-410d分别通过中间转印体409与电子感光体401a-401d接触。

另外，在外壳400内的给定位置配置了激光光源(曝光装置)403，从激光光源403射出的激光可照射到带电后的电子照相感光体401a～401d的表面。由此，在电子照相感光体401a～401d的旋转工序中，依次进行了带电、曝光、显像、1次转印，清洁各工序，各色的调色剂在中间转印条409中重叠转印。

中间转印带409通过驱动辊406、加压辊408和具有给定的张力的张力辊407得到支持，通过这些辊的旋转可形成不产生弯曲的旋转。另外，2次转印辊413被配置为通过中间转印体9与加压辊408接触。通过加压辊408和2次转印辊413之间的中间转印辊409被清洁叶片14将表面清洁，重复输送下一个图像形成操作。

另外，在外壳400内的给定位置设有浅盘(被转印介质浅盘)411，浅盘411内的纸等被转印介质通过传送辊412依次被移送至中间转印带409和2次转印辊413之间，进一步被移送至相互接触的2个定影辊414之间后，向外壳400外部排出。

而且，图14是概略显示本发明处理卡盒的一个优选实施方式的基本结构的断面图。处理卡盒300是，与电子照相感光体1一起，使用了带电装置2、显像装置4、清洁装置7、用于曝光的开口部302、和安装除电器201的轨道301进行组合，一体化的产品。

因此，处理卡盒300是相对于由转印装置5、定影装置6和图中未示出的其他构成部分构成的电子照相装置本体拆装自由的产品，是可与电子照相装置本体一体构成电子照相装置的产品。

中间转印带409可用下列顺序制造。即，使等摩尔的四羧酸二酐或其衍生物与二胺在给定的溶剂中进行聚合反应得到聚酰胺酸溶液。将该聚酰胺酸溶液输送圆筒状模具，展开形成膜(层)后，通过进一步进行酰亚胺转化，可得到聚酰亚胺形成的中间转印带409。

作为该四羧酸二酐，例如，可列举下述通式(1)所示的化合物：(式中，R表示选自脂肪族链烃基、脂肪族环烃基和芳香族烃基，以及选自这些烃基上结合有取代基的基团的4价有机基团)。更具体地可列举，均苯四酸二酐、3，3’，4，4’-二苯甲酮四羧酸二酐、3，3’，4，4’-联苯四羧酸二酐、2，3，3’，4-联苯四羧酸二酐、2，3，6，7-萘四羧酸二酐、1，2，5，6-萘四羧酸二酐、1，4，5，8-萘四羧酸二酐、2，2’-双(3，4-二羧基苯基)磺酸二酐、二萘嵌苯-3，4，9，10-四羧酸二酐、双(3，4-二羧基苯基)醚二酐、亚乙基四羧酸二酐等。

另外，作为二胺的具体例，可列举4，4’-二氨基二苯基醚、4，4’-二氨基二苯基甲烷、3，3’-二氨基二苯基甲烷、3，3’-二氯联苯胺、4，4’-二氨基二苯基硫化物、3，3’-二氨基二苯基砜、1，5-二氨基萘、间-亚苯基二胺、对-亚苯基二胺、3，3’-二甲基4，4’-联苯二胺、联苯胺、3，3’-二甲基联苯胺、3，3’-二甲氧联苯胺、4，4’-二氨基二苯基砜、4，4’-二氨基二苯基丙烷、2，4-双(β-氨基叔丁基)甲苯、双(对-β-氨基叔丁基苯基)醚、双(对-β-甲基-δ-氨基苯基)苯、双-对-(1，1-二甲基-5-氨基-戊基)苯、1-异丙基-2，4-间-亚苯基二胺、间-苯二甲基二胺、对-苯二甲基二胺、二(对-氨基环己基)甲烷、六甲撑二胺、七甲撑二胺、八甲撑二胺、九甲撑二胺、十甲撑二胺、二氨基丙基四亚甲基、3-甲基-七甲撑二胺、4，4-二甲基七甲撑二胺、2，11-二氨基十二烷、1，2-双-3-氨基丙氧乙烷、2，2-二甲基亚丙基二胺、3-甲氧六亚甲基二胺、2，5-二甲基七甲撑二胺、3-甲基七甲撑二胺、5-甲基九甲撑二胺、2，17-二氨基二十烷、1，4-二氨基环己烷、1，10-二氨基-1，10-二甲基癸烷、1，2-二氨基十八烷、2，2-双[4-(4-氨基苯氧)苯基]丙烷、哌嗪、H₂N(CH₂)₃O(CH₂)₂O(CH)NH₂、H₂N(CH₂)₃S(CH₂)₃NH₂、H₂N(CH₂)₃N(CH₃)₂(CH₂)₃NH₂等。

作为使四羧酸二酐和二胺进行聚合反应时的溶剂，从溶解性的观点出发，优选极性溶剂。作为极性溶剂，优选N，N-二烷基酰胺类，其中更优选N，N-二甲基甲酰胺、N，N-二甲基乙酰胺、N，N-二乙基甲酰胺、N，N-二乙基乙酰胺、N，N-二甲基甲氧乙酰胺、二甲基亚砜、六甲基磷酸三酰胺、N-甲基-2-吡咯烷酮、吡啶、四亚甲基砜、二甲基四亚甲基砜等低分子量的物质。这些可单独使用，也可2种以上混合使用。

在本发明中，为了调整中间转印带409的膜电阻，可在聚酰亚胺树脂中分散炭。对于炭的种类虽没有特别的限制，但优选使用通过碳黑的氧化处理在其表面形成了含氧官能基(羧基、苯醌基、内酯基、羟基等)的氧化处理碳黑。如果在聚酰亚胺树脂中分散氧化处理的碳黑，由于外加电压时过剩的电流会流到氧化处理的碳黑上，聚酰亚胺树脂很难受到反复施加电压引起的氧化的影响。另外，由于氧化处理的碳黑通过其表面形成的含氧官能基在聚酰亚胺树脂中的分散性高，因此可减小电阻偏移，而且电场依存性变小，很难引起转印电压导致的电场集中。因此，可防止转印电压引起的电阻降低，改善电阻均匀性，电场依赖性小，而且环境引起的电阻变化小，抑制了用纸移动部分拔白等画质缺陷的发生，可得到高画质的中间转印带。

氧化处理的碳黑，可通过将碳黑在高温氛围气下与空气接触进行反应的空气氧化法，在常温下与氮氧化物或臭氧等反应的方法，在高温下空气氧化后，在低温进行臭氧氧化的方法等得到。另外，作为氧化处理的碳黑，可使用三菱化学制的MA100(pH3.5，挥发成分1.5％)，同，MA100R(pH3.5，挥发成分1.5％)，同MA100S(pH3.5，挥发成分1.5％)，同#970(pH3.5，挥发成分3.0％)，同MA11(pH3.5，挥发成分2.0％)，同#1000(pH3.5，挥发成分3.0％)，同#2200(pH3.5，挥发成分3.5％)，同MA230(pH3.0，挥发成分1.5％)，同MA220(pH3.0，挥发成分1.0％)，同#2650(pH3.0，挥发成分8.0％)，同MA7(pH3.0，挥发成分3.0％)，同MA8(pH3.0，挥发成分3.0％)，同0IL7B(pH3.0，挥发成分6.0％)，同MA77(pH2.5，挥发成分3.0％)，同#2350(pH2.5，挥发成分7.5％)，同#2700(pH2.5，挥发成分10.0％)，同#2400(pH2.5，挥发成分9.0％)，デグサ社制的印刷织物150T(pH4.5，挥发成分10.0％)，同特殊黑350(pH3.5，挥发成分2.2％)，同特殊黑100(pH3.3，挥发成分2.2％)，同特殊黑250(pH3.1，挥发成分2.0％)，同特殊黑5(pH3.0，挥发成分15.0％)，同特殊黑4(pH3.0，挥发成分14.0％)，同特殊黑4A(pH3.0，挥发成分14.0％)，同特殊黑550(pH2.8，挥发成分2.5％)，同特殊黑6(pH2.5，挥发成分18.0％)，同彩色黑FW200(pH2.5，挥发成分20.0％)，同彩色黑FW2(pH2.5，挥发成分16.5％)，同彩色黑FW2V(pH2.5，挥发成分16.5％)，キヤボット社制MONARCH1000(pH2.5，挥发成分9.5％)，同MONARCH1300(pH2.5，挥发成分9.5％)，同MONARCH1400(pH2.5，挥发成分9.0％)，同MOGUL-L(pH2.5，挥发成分5.0％)，同REGAL400R(pH4.0，挥发成分3.5％)等市售品。

上述的氧化处理的碳，由于例如，氧化处理的程度、DBP吸油量、利用氮气吸附的BET法得到的比表面积等物性不同，因此导电性不同，这些可单独使用，也可2种以上混合使用，但是实质上优选导电性不同的2种以上组合使用。添加这样的物性不同的2种以上碳黑时，例如，在优先添加表现高导电性的碳黑之后，添加导电率低的碳黑，可调整表面电阻率等。

这些氧化处理的碳黑的含有量，相对于聚酰亚胺树脂优选10-50重量％，更优选12-30重量％。该含有量如果不足10重量％，电阻的均匀性降低，有耐久使用时表面电阻率降低变大的问题，另一方面，如果超过50重量％，很难得到所需的电阻值，且作为成型物由于变脆，因此不是优选的。

作为使2种以上的氧化处理碳黑分散制造聚酰胺酸溶液的方法，可列举在溶剂中预先分散了2种以上的氧化处理碳黑的分散液中溶解·聚合上述酸二酐成分和二胺成分的方法，使2种以上的氧化处理碳黑分别分散在溶剂中制作2种以上碳黑分散液，在该分散液中溶解·聚合酸酐成分和二胺成分后，混合各聚酰胺酸溶液的方法等。

中间转印带409可通过将这样得到的聚酰胺酸溶液输送圆筒状模具内面，展开形成被膜，通过加热进行聚酰胺酸的酰亚胺转化得到。该酰亚胺转化时，通过在给定的温度保持0.5小时以上，可得到具有良好平面度的中间转印带。

作为将聚酰胺酸输送圆筒状模具内面时的输送方法，可列举利用调合器的方法，利用铸模的方法等。这里，作为圆筒上的模具，其内周面优选使用经过镜面加工的物质。

另外，从输送模具的聚酰胺酸溶液形成被膜的方法，可列举加热的同时离心成形的方法，使用弹丸状移动体的成形方法，旋转成形方法等，通过这些方法形成均匀膜厚的被膜。

作为将这样形成的被膜进行酰亚胺转化成形中间转印带的方法，可列举(i)连模具一起放入干燥机中，升温至酰亚胺转化的反应温度的方法，(ii)进行溶剂的除去直到可保持作为带形状的状态后，从模具内面剥离被膜更换金属制圆筒外面后，连该圆筒一起加热进行酰亚胺化的方法。在本发明中，如果所得中间转印带的表面动态硬度满足上述条件，可用上述(i)、(ii)的任一方法进行酰亚胺转化，但由于如果通过方法(ii)进行酰亚胺转化，可高效且确实得到平面度和外表面精度良好的中间转印体，因此是优选的。下面，对方法(ii)进行详细叙述。

在方法(ii)中，除去溶剂时的加热条件，只要是可除去溶剂的条件就可以，对此没有特别的限制，但是加热温度优选80～200℃，加热时间优选0.5～5小时。这样可保持从模具内周面剥离作为带本身形状的成形物，该剥离时也可实施脱模处理。

然后，将加热·固化达到可保持带形状的成形物更换到金属制圆筒外面，通过与更换的圆筒一起加热，使之进行聚酰胺酸的酰亚胺转化反应。作为该金属制的圆筒，优选线膨胀系数比聚酰亚胺树脂大的物质，而且，通过将圆筒的外径制成比聚酰亚胺成形物的内径小一定的量，可进行热定形，得到均匀膜厚的无斑驳的连续带状物。另外，金属制圆筒外面的表面粗糙度(Ra)优选为1.2～2.0μm。金属制圆筒外面的表面粗糙度(Ra)如果不足1.2μm，由于金属制圆筒本身过于平滑，在所得中间转印带中带的轴方向收缩不发生滑落，因此在该工序拉伸，有发生膜厚的参差不齐或平面度的精度降低的倾向。另外，如果金属制圆筒外表面的表面粗糙度(Ra)超过2.0μm，金属制圆筒外面转印在带状中间转印体的内面，进一步使外面发生凹凸，由此有容易发生图像不良的倾向。另外，在本发明所说的表面粗糙度是按照JIS B601测定的Ra。

另外，作为酰亚胺转化的加热条件，虽然由聚酰亚胺树脂的组成决定，但是优选加热温度是220-280℃，加热时间是0.5-2小时。如果在这样的加热条件下进行酰亚胺转化，由于聚酰亚胺树脂的收缩量变得更大，通过进行带在轴方向的缓慢收缩，可防止膜厚参差不齐或平面度的精度降低。

由这样得到的聚酰亚胺树脂形成的中间转印带的外面表面的粗糙度(Ra)，优选1.5μm以下。中间转印体的表面粗糙度(Ra)如果超过1.5μm，有容易发生粗糙等图像缺陷的倾向。另外，本发明者们推测，粗糙的发生原因是，转印时外加的电压或剥离放电引起电场在带表面的凸部局部集中，由于凸部表面变质，通过新的导电通路的表现电阻降低，其结果所得图像的浓度降低。

这样得到的中间转印带409优选是无缝的带。在这样的无缝带的情况下，中间转印带409的厚度可根据其使用目的适当决定，从强度或柔软性等机械特性的观点出发，优选20-500μm，更优选50-200μm。另外，中间转印带9的表面电阻是，优选其表面电阻率(Ω/□)的常用对数值是8-15(logΩ/□)，更优选11-13(logΩ/□)。另外，这里的表面电阻率是指，在22℃，55％RH环境下，外加100V电压，基于从外加电压开始10秒后中测定的电流值得到的值。

中间转印带409通过驱动辊406、加压辊408和张力辊407具有给定的张力被支持，通过这些辊的旋转可形成不产生弯曲的旋转。另外，2次转印辊413被配置为通过中间转印体409与加压辊408接触。通过加压辊408和2次转印辊413之间的中间转印辊409被清洁叶片416清洁表面，重复输送下一个图像形成操作。

另外，在外壳400内的给定位置设有浅盘(被转印介质浅盘)411，浅盘411内的纸等被转印介质通过传送辊412依次被移送至中间转印带409和2次转印辊413之间，进一步被移送至相互接触的2个定影辊414之间后，向外壳400外部排出。

在这样的第12实施方式中，在彩色图像形成用电子照像装置220中，作为电子照像感光体401a-401d通过使用本发明的电子照像感光体，在电子照相感光体401a-401d的分别的图像形成处理中防漏电性和电特性两方面可达到充分的高水平，因此即使与接触带电装置2一起使用时，也可得到不发生跑光等图像欠缺的良好的图像品质。因此，在使用本实施方式这样的中间转印体的彩色图像形成用电子照像装置中，可实现经过长时间也可稳定得到良好图像品质的电子照像装置。

另外，本发明并不限于上述实施方式。例如，图3、4中所示的装置，也可以是具备包括电子照像感光体1(或401a-401d)和带电装置2(或402a-402d)的处理卡盒的装置。通过使用该处理卡盒，可更简便地进行维护。

另外，在本实施方式中，代替接触带电装置2(或402a-402d)使用电晕钍带电器等非接触带电方式的带电装置也可得到充分良好的图像。但是，从防止臭氧发生的观点出发，优选使用接触带电装置。

另外，图3中所示的装置是电子照像感光体1表面形成的调色剂像被直接转印到被转印介质P上的装置，但是本发明的电子照相装置也可进一步具有中间转印体。由此，电子照像感光体1表面的调色剂像转印到中间转印体后，可从中间转印体转印到被转印介质P上。作为该中间转印体P，可使用在导电性支持体上层压了含有橡胶、弹性体、树脂等弹性层和至少一层的被覆层结构的物质。

另外，本发明的电子照像装置也可进一步具有消除光照射装置等除电装置。由此，在反复使用电子照像感光体时，由于可防止电子照像感光体的残留电位带入下一个周期，因此可进一步提高图像品质。

另外，不用说，代替第1实施方式中的该电子照像感光体使用其它实施方式的该电子照像感光体时，也可得到同样的效果。

实施例

下面，基于实施例和比较例进一步对本发明进行具体说明，但是本发明并不以任何方式限定于以下的实施例。(金属氧化物微粒子1的制备)

将氧化锌(Nano Tek ZnO，CI(シ一アイ)化成株式会社制)100重量份，含有作为偶合剂的N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷10重量％的甲苯溶液10重量份，和甲苯20重量份混合，搅拌的同时回流2小时。之后，将体系减压至10mmHg，蒸除甲苯，在135℃进行热处理2小时，得到金属氧化物微粒子1。

测定所得金属氧化物微粒子1的BET比表面积，从BET比表面积的测定值、金属氧化物微粒子的重量、和可被偶合剂覆盖的表面最佳被覆面积求出表面被覆率。所得结果如表1所示。(金属氧化物微粒子2～10的制备)

除了按照表1中所示的金属氧化物和偶合剂的种类、和含有偶合剂的甲苯溶液的使用量以外，与金属氧化物微粒子1进行同样的被覆处理和热处理，得到金属氧化物微粒子2～10。另外，使用的偶合剂溶液是含有10重量％任一种偶合剂的甲苯溶液。所得金属氧化物微粒子2～10的表面被覆率如表1所示。(金属氧化物微粒子11的制备)

将金属氧化物微粒子1在200℃加热处理1小时，得到金属氧化物微粒子11。所得金属氧化物微粒子11的表面被覆率如表1所示。

[表1]

金属氧化物微粒子	金属氧化物	偶合剂	偶合剂溶液量[g]	表面被覆率[％]
					1	氧化锌(Nano Tek Zno，CI化成制)	N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷	10	10
2	氧化锌(Nano Tek Zno，CI化成制)	N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷	15	15
					3	氧化锌(Nano Tek Zno，CI化成制)	N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷	20	20
4	氧化锌(Nano Tek Zno，CI化成制)	γ-甲基丙烯氧丙基三甲氧基硅烷	10	11
					5	氧化锌(Nano Tek Zno，CI化成制)	γ-甲基丙烯氧丙基三甲氧基硅烷	15	16.5
6	氧化锌(MZ0-300，テイカ制)	N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷	10	10
					7	氧化锌(MZ0-300，テイカ制)	γ-甲基丙烯氧丙基三甲氧基硅烷	10	11
8	二氧化钛(TAF-500J，富士チタン制)	N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷	10	14
					9	氧化锡(S1，三菱マテリアル制)	γ-甲基丙烯氧丙基三甲氧基硅烷	10	17
10	氧化锌(Nano Tek Zno，CI化成制)	N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷	5	5
					11	氧化锌(Nano Tek Zno，CI化成制)	N-β-(氨基乙基)-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷	10	5

实施例1(电子照相感光体的制备)

将金属氧化物微粒子A，33重量份，块化的异氰酸酯(スミジユ一ル3175，住友バイエルンウレタン社制)6重量份和甲乙酮25重量份混合30分钟后，向上述混合液中添加丁醛树脂(BM-1，积水化学社制)5重量份，硅酮小球(トスパ一ル120，东芝シリコ一ン社制)3重量份和拉平剂(硅油SH29PA，东レダウコ一ニングシリコ一ン社制)0.01重量份，通过混砂机进行2小时的分散处理，得到中间层用涂布液。进一步通过浸渍涂布法，在直径30mm，长度404mm，厚度1mm的圆筒状铝基体的外周面上涂布上述涂布液，在150℃、进行干燥固化30分钟，形成膜厚20μm的中间层。

然后，将作为电荷发生物质的在使用Cukα线的X射线衍射谱中，在布鲁格角度(2θ±0.2°)的值是7.4°，16.6°，25.5°，28.3°的位置中至少具有衍射峰的氯镓酞菁15重量份，作为粘合树脂的氯化乙烯·乙酸乙烯基酯共聚物(VMCH，日本ユニカ一社制)10重量份，正丁醇300重量份形成的混合物用混砂机分散4小时，得到电荷发生层用涂布液。将该涂布液在中间层上浸渍涂布，干燥，形成膜厚0.2μm的电荷发生层。

进一步，在氯苯80重量份中加入N，N’-二苯基-N，N’-双(3-甲基苯基)-[1，1’]联苯-4，4’-二胺4重量份和双酚Z聚碳酸酯树脂(分子量4万)6重量份进行溶解，得到电荷输送层用涂布液。将该涂布液涂布在电荷发生层上，在130℃、进行干燥40分钟，形成膜厚25μm的电荷输送层，得到目的电子照相感光体。(中间层的体积电阻的测定)

将上述中间层用涂布液在铝基板上浸渍涂布，在150℃、干燥固化30分钟形成中间层(膜厚：20μm)。对于该中间层，使用φ1mm的金电极作为对抗电极，测定外加10⁷V/m或10⁶V/m的电场时的体积电阻。测定在高温高湿(28℃，85％RH)、低温低湿(15℃、15％RH)2种条件下进行。所得结果如表2所示。另外，表2中，ρ1～ρ3分别表示在以下条件测定的体积电阻值，表2中也显示了ρ2/ρ1、ρ1/ρ3的值。

ρ1：在28℃、85％RH外加10⁶V/m的电场时的体积电阻

ρ2：在15℃、15％RH外加10⁶V/m的电场时的体积电阻

ρ3：在28℃、85％RH外加10⁷V/m的电场时的体积电阻(电子照相装置的制作和连续印刷试验1)

使用所得感光体制造了电子照相装置。另外，电子照相装置的构成与富士ゼロツクス社制的全彩色印刷机-Docu印刷机C2220(具有接触带电装置、中间转印装置)具有同样的构成。

使用该电子照相装置进行5万页连续印刷试验。在本试验得到的初期、第2万5千页、第5万页的画质评价结果如表2所示。

实施例2～10

在实施例2～10中，除了代替金属氧化物粒子1分别使用金属氧化物微粒子2～5、11、6～10以外，与实施例1相同制作电子照相感光体，测定中间层的体积电阻。所得结果示于表2。

另外，使用各电子照相感光体，与实施例1相同制作电子照相装置，进行5万页连续印刷试验。所得画质评价结果示于表2。比较例1

除了代替金属氧化物微粒子1直接使用表面未处理的氧化锌(Nano TekZno，CI化成株式会社制)以外，与实施例1相同，制造电子照相感光体和电子照相装置，进行中间层体积电阻的测定和5万页连续印刷试验。所得结果示于表2。比较例2

除了代替金属氧化物微粒子1使用金属氧化物微粒子10以外，与实施例1相同，制造电子照相感光体和电子照相装置，进行中间层体积电阻的测定和5万页连续印刷试验。所得结果示于表2。比较例3

除了代替金属氧化物微粒子1直接使用表面未处理的氧化锌(MZ-300，テイカ株式会社制)以外，与实施例1相同，制造电子照相感光体和电子照相装置，进行中间层体积电阻的测定和5万页连续印刷试验。所得结果示于表2。比较例4

除了代替金属氧化物微粒子1直接使用表面未处理的二氧化钛(TAF-500J，富士チタン制)以外，与实施例1相同，制造电子照相感光体和电子照相装置，进行中间层体积电阻的测定和5万页连续印刷试验。所得结果示于表2。比较例5

除了代替金属氧化物微粒子1直接使用表面未处理的氧化锡(S1，三菱マテリアル株式会社制)以外，与实施例1相同，制造电子照相感光体和电子照相装置，进行中间层体积电阻的测定和5万页连续印刷试验。所得结果示于表2。

表2

	中间层体积电阻					连续印刷试验
									ρ1[Ω·cm]	ρ2[Ω·cm]	ρ3[Ω·cm]	ρ2/ρ1	ρ1/ρ3	初期	25000枚	50000枚
	实施例1	1×108	3×1010	5×105	300	200	良好	良好									有些发生跑光
实施例2									5×108	5×1010	5×105	100	1000	良好	良好	良好
	实施例3	1×109	1×1011	2×106	100	500	良好	良好									浓度有些降低
实施例4									2×108	4×1010	5×105	200	400	良好	良好	有些发生跑光
	实施例5	4×108	8×1010	8×105	200	500	良好	良好									良好
实施例6									1×108	5×109	2×106	50	50	良好	良好	良好
	实施例7	6×1010	7×1011	5×109	12	12	良好	良好									浓度有些降低
实施例8									5×1010	3×1011	1×1010	6	5	良好	良好	浓度有些降低
	实施例9	1×1010	5×1012	2×107	500	500	良好	良好									浓度有些降低
实施例10									2×108	6×1010	4×105	300	500	良好	良好	有些发生跑光
	比较例1	2×106	1×1010	2×104	5000	100	良好	跑光、浓度降低									(中断)
比较例2									1×107	2×1010	2×105	2000	50	良好	跑光、浓度降低	(中断)
	比较例3	1×109	2×1012	7×107	2000	14	跑光	漏电									(中断)
比较例4									5×107	1×1012	1×105	20000	500	跑光	浓度降低漏电	(中断)
	比较例5	2×107	1×1010	5×104	500	400	跑光	漏电									(中断)

如表2所示，在实施例1～10中，可充分防止跑光或浓度降低等画质缺陷，可长时间稳定地得到良好的图像品质。与此相对，在比较例1～5中，从较早期就看到了所谓跑光或漏电的发生、图像浓度降低的画质缺陷，耐不住2万5千页的连续印刷。

实施例11

将氧化锡(S1，三菱マテリアル社制、比表面积：50m²/g)100重量份与甲苯500重量份搅拌混合，加入硅烷偶合剂(A1100、日本ユニカ一社制)15重量份搅拌5小时。之后，通过减压蒸馏蒸除甲苯，所得固形物在120℃加热处理2小时(进行烧结)。由于在该加热处理后的固形物中可看到凝集，因此通过针式磨机将其粉碎，进一步在190℃进行热处理2小时，得到实施了被覆处理的氧化锡。

然后，将实施了被覆处理的氧化锡35重量份，作为固化剂的块化异氰酸酯(スミジユ一ル3175，住友バイエルンウレタン社制)15重量份、丁醛树脂(BM-1，积水化学社制)6重量份和甲乙酮44重量份混合，使用1mmφ的玻璃珠用混砂机进行分散处理2小时得到分散液。进一步，在所得分散液中，加入作为催化剂的二辛基二月桂酸锡0.005重量份、硅油(SH29PA，东レダウコニングシリコ一ン社制)0.01重量份得到中间层用涂布液。将该涂布液通过浸渍涂布法涂布在铝基体(直径30mm，纵向长度340mm，厚度1mm：1mm)的外周面上，在160℃、进行干燥固化100分钟。这样形成膜厚20μm的中间层。该中间层的体积电阻ρ1～ρ3、ρ2/ρ1、ρ1/ρ3如表3所示。

然后，将作为电荷发生物质的在使用Cukα线的X射线衍射谱中，在布鲁格角度(2θ±0.2°)的值至少在7.4°，16.6°，25.5°，28.3°的位置中具有衍射峰的氯镓酞菁15重量份，作为粘合树脂的氯化乙烯·乙酸乙烯基酯共聚物(VMCH，日本ユニカ一社制)10重量份，正丁醇300重量份形成的混合物用使用1mmφ的玻璃珠的混砂机分散4小时，得到电荷发生层用涂布液。将该涂布液在中间层上浸渍涂布，干燥，形成膜厚0.2μm的电荷发生层。

进一步，在氯苯80重量份中加入N，N’-二苯基-N，N’-双(3-甲基苯基)-[1，1’]联苯-4，4’-二胺4重量份和双酚Z聚碳酸酯树脂(分子量4万)6重量份进行溶解，得到电荷输送层用涂布液。将该涂布液涂布在电荷发生层上，在130℃、进行干燥40分钟，形成膜厚25μm的电荷输送层，得到目的电子照相感光体。比较例6

除了不进行氧化锡被覆处理时在190℃的2小时的热处理(第2阶段的热处理)以外，与实施例11同样，进行中间层、电荷发生层、电荷输送层的形成，制作电子照相感光体。

实施例12

将二氧化钛(TAF500J，富士チタン社制、比表面积：18m²/g)100重量份在混合器中搅拌的同时，加入硅烷偶合剂(KBM503、信越化学社制)2重量份和甲苯10重量份的混合液，搅拌10分钟。之后，将化合物在130℃加热处理2小时得到固形物。由于在该固形物中可看到凝集，因此通过针式磨机将其粉碎1小时，进一步在180℃进行热处理1小时，得到实施了被覆处理的二氧化钛。

然后，将实施了被覆处理的二氧化钛50重量份，作为固化剂的块化异氰酸酯(スミジユ一ル3175，住友バイエルンウレタン社制)15重量份、丁醛树脂(BM-1，积水化学社制)6重量份和甲乙酮60重量份混合，使用1mmφ的玻璃珠用混砂机进行分散处理4小时得到分散液。进一步，在所得分散液中，加入作为催化剂的二辛基二月桂酸锡0.005重量份、硅油(SH29PA，东レダウコ一ニングシリコ一ン社制)0.01重量份，得到中间层用涂布液。

除了使用如此得到的中间层用涂布液以外，与实施例11相同，形成中间层、电荷发生层、电荷输送层，得到目的电子照相感光体。中间层的体积电阻ρ1～ρ3、ρ2/ρ1、ρ1/ρ3如表3所示。比较例7

除了不进行二氧化钛被覆处理时在180℃的1小时的热处理(第2阶段的热处理)以外，与实施例12同样，进行中间层、电荷发生层、电荷输送层的形成，制作电子照相感光体。

实施例13

将氧化锌(テイカ社制、比表面积：15m²/g，平均粒径70μm)100重量份与甲苯500重量份搅拌混合，加入硅烷偶合剂(KBM603、信越化学社制)1.5重量份搅拌2小时。之后，通过减压蒸馏蒸除甲苯，所得固形物在150℃加热处理2小时。由于在该加热处理后的固形物中可看到凝集，因此通过针式磨机将其粉碎，进一步在200℃进行热处理2小时，得到实施了被覆处理的氧化锌。

然后，将实施了被覆处理的氧化锌60重量份，作为固化剂的块化异氰酸酯(スミジユ一ル3175，住友バイエルンウレタン社制)15重量份、甲乙酮25重量份、和丁醛树脂(BM-1，积水化学社制)15重量份溶解在甲乙酮85重量份中的溶液38重量份混合，使用1mmφ的玻璃珠用混砂机进行分散处理2小时得到分散液。进一步，在所得分散液中，加入作为催化剂的二辛基二月桂酸锡0.005重量份、硅油(SH2 9PA，东レダウコ一ニングシリコ一ン社制)0.01重量份得到中间层用涂布液。

除了使用这样得到的中间层用涂布液以外，与实施例11相同形成中间层。中间层的体积电阻ρ1～ρ3、ρ2/ρ1、ρ1/ρ3如表3所示。

然后，将作为电荷发生物质的在使用Cukα线的X射线衍射谱中，布鲁格角度(2θ±0.2°)的值至少在7.3°，16.0°，24.9°，28.0°的位置中具有衍射峰的羟基镓酞菁15重量份，作为粘合树脂的氯化乙烯·乙酸乙烯基酯共聚物(VMCH，日本ユニカ一社制)10重量份，正丁醇300重量份形成的混合物，使用1mmφ的玻璃珠用混砂机分散4小时，得到电荷发生层用涂布液。将该涂布液在中间层上浸渍涂布，干燥，形成膜厚0.2μm的电荷发生层。

进一步，在氯苯80重量份中加入N，N’-二苯基-N，N’-双(3-甲基苯基)-[1，1’]联苯-4，4’-二胺4重量份和双酚Z聚碳酸酯树脂(分子量4万)6重量份进行溶解，得到电荷输送层用涂布液。将该涂布液涂布在电荷发生层上，在130℃、进行干燥40分钟，形成膜厚25μm的电荷输送层，得到目的电子照相感光体。比较例8

除了不进行氧化锌在被覆处理时在200℃的2小时的热处理(第2阶段的热处理)以外，与实施例13同样，进行中间层、电荷发生层、电荷输送层的形成，制作电子照相感光体。

表3

	中间层的体积电阻
						ρ1[Ω·cm]	ρ2[Ω·cm]	ρ3[Ω·cm]	ρ2/ρ1	ρ1/ρ3
	实施例11	1×108	2×109	3×105	20						333
实施例12						3×109	4×1010	1×106	13	3000
	实施例13	9×108	5×107	2×107	0.06						45

(残留电位和带电电位的变动抑制性评价)

使用实施例11～13和比较例6～8的电子照像感光体，在常温常湿条件下(20℃、40％RH)进行下述工序(A)～(C)：

(A)：用栅极外加电压-700V的由受热散发钍的带电器使电子照像感光体带电的带电工序，

(B)：(A)1秒以后，使用波长780nm的半导体激光照射10.0erg/cm²的光使之放电的曝光工序，

(C)：工序(A)3秒后照射50.0erg/cm²的红色LED光进行除电的除电工序。

此时，使用激光打印机改造的扫描设备(改造了富士ゼロツクス制的XP-15的产物)，测定在(A)的电位VH、在(B)的电位VL和在(C)的电位VRP。初期和反复1万次后的VH、VL和VRP示于表4。

另外，在低温低湿下(10℃、15％RH)和高温高湿下(28℃、85％RH)进行同样的试验，从在常温常湿下的VH、VL和VRP求出变动量ΔVH、ΔVL和ΔVRP，评价环境稳定性。

另外，只将上述(A)、(B)重复100k周期，从1个周期时的VH、VL和VRP求出变动量ΔVH、ΔVL和ΔVRP。

在上述试验得到的结果示于表4。另外，表4中，VH值大意味着电子照像感光体的相容电位高，反差提高。另外，VL的值小意味着电子照像感光体是高感度的。另外，VRP的值小意味着电子照像感光体中残留电位少，图像存储或跑光少。(电子照像装置的制造和连续印刷试验2)

使用实施例11～13和比较例6～8的电子照像感光体制造电子照像装置。另外，电子照相装置的构成与富士ゼロツクス社制的全彩色印刷机-Docu印刷机C2220(具有接触带电装置、中间转印装置)具有同样的构成。

使用该电子照相装置进行1万页连续印刷试验。在本试验得到的第1万页的画质评价结果如表4所示。

表4

	初期电位			反复操作1万次后的电位			环境稳定性			只有(A)(B)的100K周期后的电位		印刷试验
													VH[V]	VL[V]	VRP[V]	VH[V]	VL[V]	VRP[V]	ΔVH[V]	ΔVL[V]	ΔVRP[V]	ΔVH[V]	ΔVRP[V]
	实施例11	-690	-55	-35	-690	-50	-30	20	25	20	-60													230	良好
实施例12												-695	-50	-30	-690	-55	-35	20	25	20	-50	200	良好
	实施例13	-690	-35	-20	-690	-45	-25	15	15	10	-40													150	良好
比较例6												-650	-40	-20	在1000次残留电位上升			15	10	5	-100	320	发生很多黑点全面跑光
	比较例7	-700	-50	-25	在100次残留电位上升			20	20	15	-80													300	发生很多黑点全面跑光
比较例8												-685	-45	-20	在2000次残留电位上升			20	15	10	-55	280	发生很多黑点全面跑光

如表4所示，本发明的实施例11～13的电子照像感光体是显示残留电位和带电电位变动抑制性的产品，重复带电和曝光100k周期时的残留电位都在250V以下。另外，在使用实施例11～13的电子照相感光体的电子照相装置中，即使印刷1万页后也可得到良好的图像。

下面，按照以下顺序，制造具有与图5所示的电子照相感光体1同样构成的实施例14～17的电子照相感光体。

另外，在制作各电子照相感光体的底层时，金属氧化物粒子A的荧光X射线分析是使用荧光X射线分析装置(商品名：システム3370E，理学电器社制)在以下条件进行的。即，X射线源的靶：Rh，X射线源的外加电压：50kV，电流值；50mA，光学系的分光结晶中，根据作为测定对象的金属氧化物粒子A中的检出元素的种类，使用LiF，TAP，PET，Ge。另外，检出器使用闪烁计数器和光计数器。另外，分光器的扫描使用分步扫描法，每1步设定为0.05度的角度进行特性X射线强度的测定。

另外，金属氧化物粒子B或金属氧化物粒子A的比表面积的测定，使用流动式比表面积自动测定装置流动吸附II2300型(岛津制作所社制)，将作为测定对象的金属氧化物粒子200mg在200℃，进行30分钟脱气处理，通过BET1点法测定比表面积值。

实施例14

按照下述顺序制造具有与图5所示电子照相感光体1同样构成的感光体。

将氧化锡(商品名：S1，三菱マテリアル社制、比表面积：50m²/g)100重量份与甲苯500重量份搅拌混合，加入硅烷偶合剂(商品名：A1100、日本ユニカ一社制)15重量份，搅拌5小时。之后，通过减压蒸馏蒸除甲苯，在100℃进行烧结2小时。

对所得表面处理后的氧化锡，进行上述的荧光X射线分析的结果是，[Si的特征X射线强度I1/Sn的特征X射线强度I2]是2.0×10^-4。另外，表面处理后的氧化锡的比表面积是60m²/g。

然后，将表面处理后的氧化锡35重量份，固化剂(块化异氰酸酯，スミジユ一ル3175，住友バイエルンウレタン社制)15重量份、丁醛树脂BM-1(积水化学社制)6重量份和甲乙酮44重量份混合，使用1mmφ的玻璃珠用混砂机进行分散处理2小时得到分散液。

在所得分散液中，加入作为催化剂的二辛基二月桂酸锡0.005重量份、硅油SH29PA(东レダウコ一ニングシリコ一ン社制)0.01重量份，得到中间层用涂布液。将该涂布液通过浸渍涂布法涂布在直径30mm，长度340mm，厚度1mm的铝基材(导电性支持体层)上，在160℃、进行干燥固化100分钟。这样形成膜厚20μm的中间层。

然后，在中间层上形成2层结构的感光层。首先，将作为电荷发生物质的在使用Cukα线的X射线衍射谱中，布鲁格角度(2θ±0.2°)的值至少在7.4°，16.6°，25.5°，28.3°的位置中具有衍射峰的氯镓酞菁15重量份，作为粘合树脂的氯化乙烯·乙酸乙烯基酯共聚物(VMCH，日本ユニカ一社制)10重量份，乙酸正丁醇酯300重量份形成的混合物使用1mmφ的玻璃珠用混砂机分散4小时。

将得到的分散液作为电荷发生层形成用涂布液，在中间层上浸渍涂布，干燥，形成膜厚0.2μm的电荷发生层。

进一步，在氯苯80重量份中加入N，N’-二苯基-N，N’-双3-甲基苯基-[1，1’]联苯-4，4’-二胺4重量份和双酚Z聚碳酸酯树脂(粘度平均分子量4万)6重量份进行溶解，将得到的分散液作为电荷输送层形成用涂布液，浸渍涂布在电荷发生层上，通过在130℃、进行干燥40分钟，形成膜厚25μm的电荷输送层。

实施例15

按照下述顺序制造具有与图5所示电子照相感光体1同样构成的感光体。

将二氧化钛(商品名：TAF500J，富士チタン社制、比表面积：18m²/g)100重量份在混合器中搅拌的同时，加入甲苯10重量份和硅烷偶合剂(商品名：KBM503、信越化学社制)2重量份的混合液，搅拌10分钟。之后，减压蒸除甲苯，在170℃进行2小时烧结。

对所得表面处理后的二氧化钛，进行上述的荧光X射线分析的结果是，[Si的特征X射线强度I1/Ti的特征X射线强度I2]是2.0×10^-4。另外，表面处理后的氧化锡的比表面积是20m²/g。

然后，将表面处理后的二氧化钛50重量份，固化剂(块化异氰酸酯，スミジユ一ル3175，住友バイエルンウレタン社制)15重量份、丁醛树脂BM-1(积水化学社制)6重量份和甲乙酮60重量份混合，使用1mmφ的玻璃珠用混砂机进行分散处理4小时得到分散液。

在所得分散液中，加入作为催化剂的二辛基二月桂酸锡0.005重量份和硅油SH29PA(东レダウコ一ニングシリコ一ン社制)0.01重量份，得到中间层用涂布液。将该涂布液通过浸渍涂布法涂布在直径30mm，长度340mm，厚度1mm的铝基材(导电性支持体层)上，在160℃、进行干燥固化100分钟，形成膜厚20μm的底层。

然后，按照与实施例14同样的顺序，依次形成电荷发生层和电荷输送层，制造了电子照相感光体。

实施例16

按照下述顺序制造具有与图5所示电子照相感光体1同样构成的感光体。

将氧化锌(平均粒径70μm，テイカ社制、比表面积：15m²/g，)100重量份与甲苯500重量份搅拌混合，加入硅烷偶合剂(商品名：KBM603、信越化学社制)1.5重量份搅拌2小时。之后，通过减压蒸馏蒸除甲苯，在150℃进行烧结2小时。

对所得表面处理后的氧化锌，进行上述的荧光X射线分析的结果是，[Si的特征X射线强度I1/Zn的特征X射线强度I2]是1.5×10^-5。另外，表面处理后的氧化锡的比表面积是15m²/g。

然后，将表面处理后的氧化锌60重量份，固化剂(块化异氰酸酯，スミジユ一ル3175，住友バイエルンウレタン社制)15重量份、丁醛树脂BM-1(积水化学社制)15重量份和甲乙酮85重量份混合，将所得溶液8重量份和甲乙酮25重量份混合，使用1mmφ的玻璃珠用混砂机进行分散处理2小时得到分散液。

在所得分散液中，加入作为催化剂的二辛基二月桂酸锡0.005重量份和硅油SH29PA(东レダウコ一ニングシリコ一ン社制)0.01重量份，得到中间层用涂布液。将该涂布液通过浸渍涂布法涂布在直径30mm，长度340mm，厚度1mm的铝基材(导电性支持体层)上，在160℃、进行干燥固化1 00分钟，形成膜厚20μm的中间层。

然后，在中间层上形成2层结构的感光层。首先，将作为电荷发生物质的在使用Cukα线的X射线衍射谱中，布鲁格角度(2θ±0.2°)的值至少在7.3°，16.0°，24.9°，28.0°的位置中具有衍射峰的羟基镓酞菁15重量份，作为粘合树脂的氯化乙烯·乙酸乙烯基酯共聚物(VMCH，日本ユニカ一社制)10重量份，乙酸正丁醇酯300重量份形成的混合物使用1mmφ的玻璃珠用混砂机分散4小时。

将得到的分散液作为电荷发生层形成用涂布液，在中间层上浸渍涂布，干燥，形成膜厚0.2μm的电荷发生层。然后，按照与实施例14同样的顺序，形成电荷输送层，制造了电子照相感光体。

实施例17

按照下述顺序制造具有与图5所示电子照相感光体1同样构成的感光体。

将氧化锌(商品名：MZ300，テイカ社制、比表面积：40m²/g，)100重量份与甲苯500重量份搅拌混合，加入硅烷偶合剂(商品名：KBM403、信越化学社制)5重量份搅拌2小时。之后，通过减压蒸馏蒸除甲苯，在150℃进行烧结2小时。

对所得表面处理后的氧化锌，进行上述的荧光X射线分析的结果是，[Si的特征X射线强度I1/Zn的特征X射线强度I2]是5.0×10^-5。另外，表面处理后的氧化锡的比表面积是30m²/g。

然后，将表面处理后的氧化锌60重量份，固化剂(块化异氰酸酯，スミジユ一ル3175，住友バイエルンウレタン社制)15重量份、丁醛树脂BM-1(积水化学社制)15重量份和甲乙酮85重量份混合，将所得溶液38重量份和甲乙酮25重量份混合，使用1mmφ的玻璃珠用混砂机进行分散处理2小时得到分散液。

在所得分散液中，加入作为催化剂的二辛基二月桂酸锡0.005重量份和硅油SH29PA(东レダウコ一ニングシリコ一ン社制)0.01重量份，得到中间层用涂布液。将该涂布液通过浸渍涂布法涂布在直径30mm，长度340mm，厚度1mm的铝基材(导电性支持体层)上，在160℃、进行干燥固化100分钟，形成膜厚20μm的中间层。

然后，在中间层上形成2层结构的感光层。首先，将作为电荷发生物质的在使用Cukα线的X射线衍射谱中，布鲁格角度(2θ±0.2°)的值至少在27.3°的位置中具有衍射峰的氧化钛酞菁15重量份，作为粘合树脂的氯化乙烯·乙酸乙烯基酯共聚物(VMCH，日本ユニカ社制)10重量份，乙酸正丁醇酯300重量份形成的混合物使用1mmφ的玻璃珠用混砂机分散4小时。

将得到的分散液作为电荷发生层形成用涂布液，在中间层上浸渍涂布，干燥，形成膜厚0.2μm的电荷发生层。然后，按照与实施例14同样的顺序，形成电荷输送层，制造了电子照相感光体。(电子照相感光体的电子照相特性评价试验)

(1)使用初期特性评价(初期电位测定)

将实施例14～17的电子照相感光体装载在与图12具有相同结构的激光打印扫描仪(商品名：XP-15的改造机、富士ゼロツクス社制)，分别如下评价电子照相感光体的电子照相特征。

在常温常湿(20℃、40％RH)环境下，用栅极外加电压-700V的由受热散发的钍的带电器使各电子照像感光体带电时，测定各电子照相感光体表面的电位A[V]。然后，使用780nm的半导体激光，从使之带电开始1秒后对各电子照相感光体照射10mJ/m²的光使之放电，测定此时各电子照相感光体的表面电位B[V]。接着，从使之放电开始3秒后，对各电子照相感光体照射50.0mJ/m²的红色LED光进行除电，测定此时各电子照相感光体的表面电位C[V]。

这里，电位A的值越高，电子照像感光体的相容电位越高，因此可提高反差。另外，电位B的值越低，越可成为高感度的电子照像感光体。另外，电位C的值越小，残留电位越少，可被评价为图像存储或所谓跑光少的电子照相感光体。该结果示于表5。

(2)反复使用后的特性评价

将上述操作重复1万次，进行带电、曝光后的电位A～电位C的测定。该结果示于表5。

(3)相对于使用环境变化的稳定性评价

将上述操作在低温低湿(10℃，15％RH)，高温高湿(28℃，85％RH)2种不同环境下进行，测定带电、曝光后的电位A～电位C。然后，测定在这些不同环境间的电位A～电位C值的变动量(ΔA、ΔB、ΔC)，对使用环境的变化各电子照相感光体的稳定性评价。该结果示于表5。

(4)印刷1万页后的画质评价

将实施例14～实施例17的电子照相感光体安装在具有与图4同样结构的具有接触带电装置、中间转印装置的全彩印刷机(商品名；Docu Print C620，富士ゼロツクス社制)，进行1万页纸的连续印刷试验。

然后，将印刷1万页后的画质以下列评价基准进行评价，“无异常”；得到良好的画质，“全面发生跑光”；在纸面全体上可看到细微的黑点，“发生黑点”；在纸面上可看到大的黑点。该结果示于表5。

表5

	初期电位			重复1万次后的电位			环境稳定性			1万页印刷试验的评价结果
											电位A/V	电位B/V	电位C/V	电位A/V	电位B/V	电位C/V	ΔA/V	ΔB/V	ΔC/V
	实施例1	-695	-50	-30	-695	-55	-35	20	25											20	无异常
实施例2										-700	-45	-25	-695	-50	-30	20	25	20	无异常
	实施例3	-680	-30	-15	-675	-35	-15	15	15											10	无异常
实施例4										-700	-30	-15	-695	-30	-15	15	15	15	无异常

从以上说明可知，本发明的电子照相感光体，由于在导电性基体和感光层之间，形成了含有金属氧化物微粒子和粘合树脂的、体积电阻及其环境依存性满足特定条件的中间层，而提高了其防漏电性和电特性两方面，因此即使与接触带电装置共用也可获得不发生跑光等画质缺陷的良好的图像品质。

另外，本发明的电子照相感光体的制造方法，通过在形成的中间层中使用给定的偶合剂对金属氧化物微粒进行被覆处理和热处理，可容易且确实形成体积电阻及其环境依存性满足上述特定条件的中间层。其结果，所得的感光体可充分提高防漏电性和电特性，即使该感光体与接触带电装置共用时，也可获得不发生跑光等画质缺陷的良好的图像品质。

另外，本发明的处理卡盒和电子照相装置分别是具备接触带电装置的产品，通过接触带电装置和上述本发明的电子照相感光体的组合使用，可充分提高防漏电性和电特性，可克服用接触带电装置的现有技术的处理卡盒和电子照相装置很难达到的，不发生跑光等画质缺陷，获得良好的图像品质的效果。

另外，按照本发明的电子照相感光体的制造方法，可防止随着反复使用的电特性的降低，因此可提供可获得高耐久性和高解像品质的电子照相感光体。因此，通过具备这样的电子照相感光体，可提供经过长时间反复使用也可得到高解像品质的处理卡盒和电子照相装置。

Claims (18)

1.电子照像感光体，该感光体是具有导电性基体、在该基体上形成的中间层和在该中间层上形成的感光层的电子照像感光体，其特征在于，

所述中间层含有金属氧化物微粒子和粘合树脂，在28℃、85％RH外加10⁶V/m的电场时的体积电阻是10⁸～10¹³Ω·cm，在15℃，15％RH外加10⁶V/m的电场时的体积电阻是在28℃、85％RH外加10⁶V/m的电场时的体积电阻的500倍以下。

2.权利要求1中记载的电子照像感光体，其特征在于，所述金属氧化物微粒子是在用选自硅烷偶合剂、钛酸酯类偶合剂和铝酸酯类偶合剂的至少一种偶合剂进行表面处理后，在180℃以上热处理的微粒子。

3.权利要求1中记载的电子照像感光体，其特征在于，所述金属氧化物微粒子是在用含有选自硅烷偶合剂、钛酸酯类偶合剂和铝酸酯类偶合剂的至少一种偶合剂和给定溶剂的处理液进行表面处理后，在第1热处理温度被热处理，进一步在第2热处理温度被热处理的微粒子。

4.权利要求3中记载的电子照像感光体，其特征在于，所述第1热处理温度是在所述溶剂的沸点以上，所述第2热处理温度是180℃以上。

5.权利要求2～4任一项中记载的电子照像感光体，其特征在于，所述偶合剂是具有氨基的化合物。

6.权利要求1～5任一项中记载的电子照像感光体，其特征在于，只将带电曝光进行100k周期以上重复操作时，其残留电位的变化在250V以下。

7.权利要求1记载的电子照像感光体，其特征在于，

所述感光层含有颜料，

所述中间层含有用具有水解性官能基的有机金属化合物进行了表面处理的金属氧化物微粒子，

所述表面经处理过的金属氧化物微粒子满足下述式(1)所示的条件：

1.0×10^-6≤(I1/I2)≤1.0×10^-3…(1)

式(1)中，

I1表示，从所述表面经处理过的金属氧化物粒子的荧光X射线分析得到的构成所述有机金属化合物的金属元素的特性X射线强度，

I2表示，从所述表面经处理过的金属氧化物粒子的荧光X射线分析得到的构成所述金属氧化物粒子的金属元素的特性X射线强度。

8.权利要求1中记载的电子照像感光体，其特征在于将所述中间层的层厚调节至15～50μm。

9.电子照像感光体的制造方法，该方法是在导电性基体上形成中间层和感光层的电子照像感光体的制造方法，其特征在于，

将金属氧化物微粒子用选自硅烷偶合剂、钛酸酯类偶合剂和铝酸酯类偶合剂的至少一种偶合剂进行表面处理，

在180℃以上热处理经过表面处理的金属氧化物微粒子，

将被热处理过的金属氧化物微粒子和粘合树脂加入给定的溶剂得到涂布液，

将涂布液涂布在导电性基体上，

使涂布的涂布液干燥，

得到在28℃、85％RH外加10⁶V/m的电场时的体积电阻是10⁸～10¹³Ω·cm，且在15℃，15％RH外加10⁶V/m的电场时的体积电阻是在28℃、85％RH外加10⁶V/m的电场时的体积电阻的5 00倍以下的中间层。

10.电子照像感光体的制造方法，该方法是在导电性基体上形成中间层和感光层的电子照像感光体的制造方法，其特征在于，

将金属氧化物微粒子用含有选自硅烷偶合剂、钛酸酯类偶合剂和铝酸酯类偶合剂的至少一种偶合剂和给定溶剂的处理液进行表面处理，

在第1热处理温度热处理经过表面处理的金属氧化物微粒子，

在第2热处理温度热处理在第1热处理温度被热处理过的金属氧化物微粒子，

将在第2热处理温度被热处理过的金属氧化物微粒子和粘合树脂加入给定的溶剂得到涂布液，

将涂布液涂布在导电性基体上，

使涂布的涂布液干燥，

得到在28℃、85％RH外加10⁶V/m的电场时的体积电阻是10⁸～10¹³Ω·cm，且在15℃，15％RH外加10⁶V/m的电场时的体积电阻是在28℃、85％RH外加10⁶V/m的电场时的体积电阻的500倍以下的中间层。

11.权利要求10记载的电子照像感光体的制造方法，其特征在于，所述第1热处理温度是在所述溶剂的沸点以上，所述第2热处理温度是180℃以上。

12.权利要求9中记载的电子照像感光体的制造方法，其特征在于将所述中间层的层厚调节为15～50μm。

13.处理卡盒，其特征在于，

一体地具有电子照像感光体与带电部、显像部、清洗部、除电部和转印部中的至少一种，

所述电子照像感光体具备导电性基体、在该基体上形成的中间层和在该中间层上形成的感光层，

所述中间层含有金属氧化物微粒子和粘合树脂，在28℃、85％RH外加10⁶V/m的电场时的体积电阻是10⁸～10¹³Ω·cm，在15℃，15％RH外加10⁶V/m的电场时的体积电阻是在28℃、85％RH外加10⁶V/m的电场时的体积电阻的500倍以下，

所述处理卡盒在电子照像装置本体中可自由地拆装。

14.权利要求13中记载的处理卡盒，其特征在于，所述带电部是与所述感光体表面接触使该感光体带电的接触带电部。

15.权利要求13中记载的处理卡盒，其特征在于，所述转印部是将所述感光体表面的调色剂像转印到中间转印体上，该中间转印体上转印的调色剂像转印到被转印介质的转印装置。

16.电子照像装置，其特征在于，具备

电子照像感光体，

使所述电子照像感光体带电的带电部，

将通过所述带电部使之带电的所述电子照像感光体曝光形成静电潜像的曝光部，

将所述静电潜像通过调色剂显像形成调色剂像的显像部，

将所述调色剂像转印在被转印介质上的转印部，

所述电子照像感光体具备导电性基体、在该基体上形成的中间层和在中间层上形成的感光层，

所述中间层含有金属氧化物微粒子和粘合树脂，在28℃、85％RH外加10⁶V/m的电场时的体积电阻是10⁸～10¹³Ω·cm，在15℃，15％RH外加10⁶V/m的电场时的体积电阻是在28℃、85％RH外加10⁶V/m的电场时的体积电阻的500倍以下。

17.权利要求16中记载的电子照像装置，其特征在于，所述带电部是与所述感光体表面接触使该感光体带电的接触带电部。

18.权利要求16中记载的电子照像装置，其特征在于，所述转印部是将所述感光体表面的调色剂像转印到中间转印体上，该中间转印体上转印的调色剂像转印到被转印介质的转印装置。

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