CN109473413A - 一种抗氧化的铜基键合丝及其制备方法 - Google Patents

一种抗氧化的铜基键合丝及其制备方法 Download PDF

Info

Publication number
CN109473413A
CN109473413A CN201811332474.0A CN201811332474A CN109473413A CN 109473413 A CN109473413 A CN 109473413A CN 201811332474 A CN201811332474 A CN 201811332474A CN 109473413 A CN109473413 A CN 109473413A
Authority
CN
China
Prior art keywords
copper
bonding wire
based bonding
copper alloy
oxidation resistant
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201811332474.0A
Other languages
English (en)
Inventor
王娟
曹凯
刘实
瞿晓春
陈洲
刘新宽
陈小红
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
University of Shanghai for Science and Technology
Original Assignee
University of Shanghai for Science and Technology
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by University of Shanghai for Science and Technology filed Critical University of Shanghai for Science and Technology
Priority to CN201811332474.0A priority Critical patent/CN109473413A/zh
Publication of CN109473413A publication Critical patent/CN109473413A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L24/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22DCASTING OF METALS; CASTING OF OTHER SUBSTANCES BY THE SAME PROCESSES OR DEVICES
    • B22D11/00Continuous casting of metals, i.e. casting in indefinite lengths
    • B22D11/001Continuous casting of metals, i.e. casting in indefinite lengths of specific alloys
    • B22D11/004Copper alloys
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C21METALLURGY OF IRON
    • C21DMODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
    • C21D9/00Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor
    • C21D9/52Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor for wires; for strips ; for rods of unlimited length
    • C21D9/525Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor for wires; for strips ; for rods of unlimited length for wire, for rods
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C9/00Alloys based on copper
    • C22C9/04Alloys based on copper with zinc as the next major constituent
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22FCHANGING THE PHYSICAL STRUCTURE OF NON-FERROUS METALS AND NON-FERROUS ALLOYS
    • C22F1/00Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working
    • C22F1/08Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working of copper or alloys based thereon
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/43Manufacturing methods
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/43Manufacturing methods
    • H01L2224/432Mechanical processes
    • H01L2224/4321Pulling
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/43Manufacturing methods
    • H01L2224/438Post-treatment of the connector
    • H01L2224/4381Cleaning, e.g. oxide removal step, desmearing
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/43Manufacturing methods
    • H01L2224/438Post-treatment of the connector
    • H01L2224/43848Thermal treatments, e.g. annealing, controlled cooling
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/45001Core members of the connector
    • H01L2224/45099Material
    • H01L2224/451Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • H01L2224/45138Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/45147Copper (Cu) as principal constituent

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)

Abstract

本发明提出了一种抗氧化的铜基键合丝,包括以下组分:锆、锌、稀土及铜;其中,上述组分含量按照以下重量比:锆0.0008%~0.0025%,锌0.001%~0.015%,稀土0.0002%~0.0010%,余量为铜。本发明通过微量元素的添加,可以提高铜的再结晶温度、力学性能和键合工艺性能,从而可以有效提升铜的抗氧化性能;同时由于Zn的选择性氧化抑制了铜的氧化,因而提高了铜丝的抗氧化性能,并且可以保证铜丝强度与电导率。本发明还有提出了一种抗氧化的铜基键合丝的制备方法。

Description

一种抗氧化的铜基键合丝及其制备方法
技术领域
本发明属于微电子后道封装工序技术领域,尤其涉及一种抗氧化的铜基键合丝及其制备方法。
背景技术
键合丝是半导体分立器件和集成电路封装业四大必需基础材料之一,作为芯片与框架之间内丝,实现稳定、可靠的电连接,广泛应用于半导体分立器件(晶体管、二极管、三极管、发光二极管LED)和集成电路的封装。键合丝多由纯金制成,随着黄金贵重金属资源的日益稀缺,价格持续攀升,微电子封装成本大幅上升,给生产厂家、用户带来难以承受的成本压力,因此,业界正在积极寻求,研发成本相对低廉、性能稳定可靠、加工方便的新型键合丝材料。
目前用于替代黄金键合丝的研宄应用大多集中于铜基键合丝,但这类键合丝也有它的不足之处:1、铜丝在拉制过程中因加工硬化,使得难以拉制与黄金键合丝一样细的微细线径;2、由于铜丝过硬,会导致第一焊点容易逃丝,使得键合操作频繁中断,给下道工序的集成电路封装造成较大的困难。3、由于铜丝具有易氧化的特性,在保存及焊接过程中容易产生氧化,打开包装后必须尽快用完,而且使用时必须加氮氢混合气体加以保护,使得操作危险性增加。其中最主要的问题是铜易于氧化,如果在铜键合丝表面形成大量氧化物,则铜键合丝很难键合,并且很难熔成球(FAB)。因而,在FAB的过程中,铜键合丝必须处于无氧的环境中,铜FAB时一般要采用惰性气体保护,同时掺入少量氢气还原。但是,这将给封装添加新的复杂度,比如对氮气氢气的控制等。为解决键合铜丝在键合过程中易氧化的问题,可以采用镀层的方法,如专利US2004/0245320A1和US2007/0235887A1提出的镀层防护方法。通常选用的是抗氧化能力强且熔点比铜高的金属元素作为镀层,如Pt、Pd或Ni。钯在高温、高湿或硫化物含量高的空气中性能稳定,能耐酸的侵蚀,同时钯具有良好的延展塑性,能承受弯曲和摩擦,可长期保持良好的外部光泽,并且钯的成本要比金便宜,这使得镀钯键合铜丝在市场上已得到了相当的应用。但是电镀Pd增加了工艺复杂性,尤其是带来了环保的问题。
因此,现有技术中,急需一种能够代替键合金丝且抗氧化性能好的键合丝。
发明内容
本发明的目的在于提供一种抗氧化的铜基键合丝及其制备方法,通过将铜合金化,即添加微量元素、活泼金属来提高抗氧化性能。为实现上述目的,本发明所采用的技术方案为:
一种抗氧化的铜基键合丝,包括以下组分:锆、锌、稀土及铜;其中,上述组分含量按照以下重量比:锆0.0008%~0.0025%,锌0.001%~0.015%,稀土0.0002%~0.0010%,余量为铜。
优选地,所述铜的纯度≥99.996,锆的纯度>99.9%。
优选地,所述稀土为混合稀土。
优选地,所述铜基键合丝为单晶结构。
本发明还提出了一种抗氧化的铜基键合丝的制备方法,包括以下步骤:
1)制备铜合金铸锭;
按照质量百分比将锆、锌、稀土及铜混合后放入石墨坩埚中,在惰性气体保护条件下使用感应电炉熔化,获取铜合金铸锭;
2)制备铸态单晶母线;
将铜合金铸锭放置于连铸室,加入氮气保护,进行中频感应加热,待完全熔化、精炼和除气后,将熔液注入连铸室中间的储液池保温,在维持2L/min~5L/min氮气流量的连铸室中,完成对铜合金熔液的水平单晶连铸,获取铜合金铸态单晶母线;
3)粗拔;
将铜合金铸态单晶母线经多道模拉拔工序,拉拔获取铜合金单晶丝;
4)热处理;
将铜合金单晶丝置于退火炉中进行退火处理;其中,热处理温度420℃~480℃,保温时间20min~30min;
5)精拔;
将铜合金单晶丝经多道次过模拉拔工序,拉拔成不同的规格的铜基键合丝;
6)表面清洗;
将铜基键合丝先用酸液清洗,然后依次经超声波清洗及纯水清洗,烘干;
7)分卷及包装;
将铜基键合丝单卷定尺后进行真空包装;其中,单卷定尺控制张力5g~30g,绕丝速度为500rpm~750rpm。
优选地,在步骤2)中,铜合金铸态单晶母线的直径范围7.9mm~8.1mm,纵向晶粒数和横向晶粒的数量均为1。
优选地,在步骤3)中,模具延伸率为5%~12%,拉伸速度为515m/s~15m/s。
优选地,在步骤4)中,退火处理过程中,进一步通入氮气。
优选地,在步骤5)中,所述铜基键合丝的长度范围0.013mm~0.028mm。
与现有技术,本发明的优点为:
1)通过微量元素的添加,可以提高铜的再结晶温度、力学性能和键合工艺性能,从而可以有效提升铜的抗氧化性能;
2)由于Zn的选择性氧化抑制了铜的氧化,因而提高了铜丝的抗氧化性能,并且可以可保证铜丝强度与电导率;
3)Zr可提高铜丝再结晶温度,而且和其它元素组合添加,可增加铜丝强度;稀土元素通过抑制球颈部晶粒长大,提高铜丝的形弧特性,从而增加铜丝的软度;
4)该引线的强度高,可进一步缩小键合引线的线径,缩短焊接间距,更加适用于高密度,多引脚集成电路封装。具体的,引线的强度高,同样的强度要求条件下,小的线经就可以满足要求;为避免引线变形而发生引线之间的短路现象,引线之间需要设置一定的间隙,而引线的强度高,间距即可以缩小。
5)无需危险气体氢气和进行电镀钯保护层进行保护,制作工艺简单,环保且安全性好。
具体实施方式
下面将对本发明的抗氧化的铜基键合丝及其制备方法进行更详细的描述,其中表示了本发明的优选实施例,应该理解本领域技术人员可以修改在此描述的本发明,而仍然实现本发明的有利效果。因此,下列描述应当被理解为对于本领域技术人员的广泛知道,而并不作为对本发明的限制。
实施例1
一种抗氧化的铜基键合丝,包括以下组分:锆、锌、稀土及铜;其中,上述组分含量按照以下重量比:锆0.0008%,锌0.001%,稀土0.0002%,余量为铜。铜的纯度≥99.996,锆的纯度>99.9%。稀土为混合稀土,铜基键合丝为单晶结构。
该抗氧化的铜基键合丝的制备方法,包括:制备铜合金铸锭、制备铸态单晶母线、粗拔、热处理、精拔、表面清洗、分卷及包装;具体如下:
1)制备铜合金铸锭;按照质量百分比将锆、锌、稀土及铜混合后放入石墨坩埚中,在惰性气体保护条件下使用感应电炉熔化,获取铜合金铸锭。
2)制备铸态单晶母线;将铜合金铸锭放置于连铸室,加入氮气保护,进行中频感应加热至1150℃~1250℃,待完全熔化、精炼和除气后,将熔液注入连铸室中间的储液池保温,在维持2L/min~5L/min氮气流量的连铸室中,完成对铜合金熔液的水平单晶连铸,获取铜合金铸态单晶母线;铜合金铸态单晶母线的直径范围7.9mm~8.1mm,纵向晶粒数和横向晶粒的数量均为1,拉铸速度为10mm/min。
3)粗拔;将铜合金铸态单晶母线经多道模拉拔工序,拉拔获取铜合金单晶丝;模具延伸率为5%,拉伸速度为5m/s。
4)热处理;将铜合金单晶丝置于退火炉中进行退火处理;其中,热处理温度420℃,保温时间20min~30min;退火处理过程中,进一步通入氮气。
5)精拔;将铜合金单晶丝经多道次过模拉拔工序,拉拔成不同的规格的铜基键合丝;铜基键合丝的长度范围0.013mm~0.028mm。
6)表面清洗;将铜基键合丝先用酸液清洗,然后依次经超声波清洗及纯水清洗,烘干;
7)将铜基键合丝单卷定尺后进行真空包装;其中,单卷定尺控制张力5g,绕丝速度为500rpm。
实施例2
一种抗氧化的铜基键合丝,包括以下组分:锆、锌、稀土及铜;其中,上述组分含量按照以下重量比:锆0.0025%,锌0.015%,稀土0.0010%,余量为铜。铜的纯度≥99.996,锆的纯度>99.9%。稀土为混合稀土,铜基键合丝为单晶结构。
该抗氧化的铜基键合丝的制备方法,包括:制备铜合金铸锭、制备铸态单晶母线、粗拔、热处理、精拔、表面清洗、分卷及包装;具体如下:
1)制备铜合金铸锭;按照质量百分比将锆、锌、稀土及铜混合后放入石墨坩埚中,在惰性气体保护条件下使用感应电炉熔化,获取铜合金铸锭。
2)制备铸态单晶母线;将铜合金铸锭放置于连铸室,加入氮气保护,进行中频感应加热至1150℃~1250℃,待完全熔化、精炼和除气后,将熔液注入连铸室中间的储液池保温,在维持2L/min~5L/min氮气流量的连铸室中,完成对铜合金熔液的水平单晶连铸,获取铜合金铸态单晶母线;铜合金铸态单晶母线的直径范围7.9mm~8.1mm,纵向晶粒数和横向晶粒的数量均为1,拉铸速度为10mm/min。
3)粗拔;将铜合金铸态单晶母线经多道模拉拔工序,拉拔获取铜合金单晶丝;模具延伸率为12%,拉伸速度为15m/s。
4)热处理;将铜合金单晶丝置于退火炉中进行退火处理;其中,热处理温度510℃,保温时间20min~30min;退火处理过程中,进一步通入氮气。
5)精拔;将铜合金单晶丝经多道次过模拉拔工序,拉拔成不同的规格的铜基键合丝;铜基键合丝的长度范围0.013mm~0.028mm。
6)表面清洗;将铜基键合丝先用酸液清洗,然后依次经超声波清洗及纯水清洗,烘干;
7)将铜基键合丝单卷定尺后进行真空包装;其中,单卷定尺控制张力30g,绕丝速度为750rpm。
实施例3
一种抗氧化的铜基键合丝,包括以下组分:锆、锌、稀土及铜;其中,上述组分含量按照以下重量比:锆0.0015%,锌0.008%,稀土0.0006%,余量为铜。铜的纯度≥99.996,锆的纯度>99.9%。稀土为混合稀土,铜基键合丝为单晶结构。
该抗氧化的铜基键合丝的制备方法,包括:制备铜合金铸锭、制备铸态单晶母线、粗拔、热处理、精拔、表面清洗、分卷及包装;具体如下:
1)制备铜合金铸锭;按照质量百分比将锆、锌、稀土及铜混合后放入石墨坩埚中,在惰性气体保护条件下使用感应电炉熔化,获取铜合金铸锭。
2)制备铸态单晶母线;将铜合金铸锭放置于连铸室,加入氮气保护,进行中频感应加热至1150℃~1250℃,待完全熔化、精炼和除气后,将熔液注入连铸室中间的储液池保温,在维持2L/min~5L/min氮气流量的连铸室中,完成对铜合金熔液的水平单晶连铸,获取铜合金铸态单晶母线;铜合金铸态单晶母线的直径范围7.9mm~8.1mm,纵向晶粒数和横向晶粒的数量均为1,拉铸速度为10mm/min。
3)粗拔;将铜合金铸态单晶母线经多道模拉拔工序,拉拔获取铜合金单晶丝;模具延伸率为8%,拉伸速度为8m/s。
4)热处理;将铜合金单晶丝置于退火炉中进行退火处理;其中,热处理温度450℃,保温时间20min~30min;退火处理过程中,进一步通入氮气。
5)精拔;将铜合金单晶丝经多道次过模拉拔工序,拉拔成不同的规格的铜基键合丝;铜基键合丝的长度范围0.013mm~0.028mm。
6)表面清洗;将铜基键合丝先用酸液清洗,然后依次经超声波清洗及纯水清洗,烘干;
7)将铜基键合丝单卷定尺后进行真空包装;其中,单卷定尺控制张力20g,绕丝速度为500rpm。
实施例4
一种抗氧化的铜基键合丝,包括以下组分:锆、锌、稀土及铜;其中,上述组分含量按照以下重量比:锆0.0008%,锌0.015%,稀土0.0010%,余量为铜。铜的纯度≥99.996,锆的纯度>99.9%。稀土为混合稀土,铜基键合丝为单晶结构。
该抗氧化的铜基键合丝的制备方法,包括:制备铜合金铸锭、制备铸态单晶母线、粗拔、热处理、精拔、表面清洗、分卷及包装;具体如下:
1)制备铜合金铸锭;按照质量百分比将锆、锌、稀土及铜混合后放入石墨坩埚中,在惰性气体保护条件下使用感应电炉熔化,获取铜合金铸锭。
2)制备铸态单晶母线;将铜合金铸锭放置于连铸室,加入氮气保护,进行中频感应加热至1150℃~1250℃,待完全熔化、精炼和除气后,将熔液注入连铸室中间的储液池保温,在维持2L/min~5L/min氮气流量的连铸室中,完成对铜合金熔液的水平单晶连铸,获取铜合金铸态单晶母线;铜合金铸态单晶母线的直径范围7.9mm~8.1mm,纵向晶粒数和横向晶粒的数量均为1,拉铸速度为10mm/min。
3)粗拔;将铜合金铸态单晶母线经多道模拉拔工序,拉拔获取铜合金单晶丝;模具延伸率为8%,拉伸速度为8m/s。
4)热处理;将铜合金单晶丝置于退火炉中进行退火处理;其中,热处理温度450℃,保温时间20min~30min;退火处理过程中,进一步通入氮气。
5)精拔;将铜合金单晶丝经多道次过模拉拔工序,拉拔成不同的规格的铜基键合丝;铜基键合丝的长度范围0.013mm~0.028mm。
6)表面清洗;将铜基键合丝先用酸液清洗,然后依次经超声波清洗及纯水清洗,烘干;
7)将铜基键合丝单卷定尺后进行真空包装;其中,单卷定尺控制张力20g,绕丝速度为500rpm。
实施例5
一种抗氧化的铜基键合丝,包括以下组分:锆、锌、稀土及铜;其中,上述组分含量按照以下重量比:锆0.0025%,锌0.001%,稀土0.0002%,余量为铜。铜的纯度≥99.996,锆的纯度>99.9%。稀土为混合稀土,铜基键合丝为单晶结构。
该抗氧化的铜基键合丝的制备方法,包括:制备铜合金铸锭、制备铸态单晶母线、粗拔、热处理、精拔、表面清洗、分卷及包装;具体如下:
1)制备铜合金铸锭;按照质量百分比将锆、锌、稀土及铜混合后放入石墨坩埚中,在惰性气体保护条件下使用感应电炉熔化,获取铜合金铸锭。
2)制备铸态单晶母线;将铜合金铸锭放置于连铸室,加入氮气保护,进行中频感应加热至1150℃~1250℃,待完全熔化、精炼和除气后,将熔液注入连铸室中间的储液池保温,在维持2L/min~5L/min氮气流量的连铸室中,完成对铜合金熔液的水平单晶连铸,获取铜合金铸态单晶母线;铜合金铸态单晶母线的直径范围7.9mm~8.1mm,纵向晶粒数和横向晶粒的数量均为1,拉铸速度为10mm/min。
3)粗拔;将铜合金铸态单晶母线经多道模拉拔工序,拉拔获取铜合金单晶丝;模具延伸率为8%,拉伸速度为8m/s。
4)热处理;将铜合金单晶丝置于退火炉中进行退火处理;其中,热处理温度450℃,保温时间20min~30min;退火处理过程中,进一步通入氮气。
5)精拔;将铜合金单晶丝经多道次过模拉拔工序,拉拔成不同的规格的铜基键合丝;铜基键合丝的长度范围0.013mm~0.028mm。
6)表面清洗;将铜基键合丝先用酸液清洗,然后依次经超声波清洗及纯水清洗,烘干;
7)将铜基键合丝单卷定尺后进行真空包装;其中,单卷定尺控制张力20g,绕丝速度为500rpm。
通过氧化试验,在实施例1~5中,分别测量键合丝上附着的氧化层厚度,进一步对铜本发明的抗氧化性能进行验证:通过对比实施例1~5中形成的氧化层厚度得出,本发明与纯铜键合丝相比,抗氧化性显著提高。其中,氧化层厚度数据如表1所示:
表1氧化层厚度数据表
氧化层厚度(nm)
实施例1 14
实施例2 12
实施例3 8
实施例4 10
实施例5 11
纯铜键合丝 18
其中:氧化试验的条件为:温度25℃,湿度65%,时间120h。
上述仅为本发明的优选实施例而已,并不对本发明起到任何限制作用。任何所属技术领域的技术人员,在不脱离本发明的技术方案的范围内,对本发明揭露的技术方案和技术内容做任何形式的等同替换或修改等变动,均属未脱离本发明的技术方案的内容,仍属于本发明的保护范围之内。

Claims (9)

1.一种抗氧化的铜基键合丝,其特征在于,包括以下组分:锆、锌、稀土及铜;其中,上述组分含量按照以下重量比:锆0.0008%~0.0025%,锌0.001%~0.015%,稀土0.0002%~0.0010%,余量为铜。
2.根据权利要求1所述的抗氧化的铜基键合丝,其特征在于,所述铜的纯度≥99.996,锆的纯度>99.9%。
3.根据权利要求1所述的抗氧化的铜基键合丝,其特征在于,所述稀土为混合稀土。
4.根据权利要求1所述的抗氧化的铜基键合丝,其特征在于,所述铜基键合丝为单晶结构。
5.一种抗氧化的铜基键合丝的制备方法,用于制备如权利要求1~4之任一项所述的抗氧化的铜基键合丝,其特征在于,包括以下步骤:
1)制备铜合金铸锭;
按照质量百分比将锆、锌、稀土及铜混合后放入石墨坩埚中,在惰性气体保护条件下使用感应电炉熔化,获取铜合金铸锭;
2)制备铸态单晶母线;
将铜合金铸锭放置于连铸室,加入氮气保护,进行中频感应加热,待完全熔化、精炼和除气后,将熔液注入连铸室中间的储液池保温,在维持2L/min~5L/min氮气流量的连铸室中,完成对铜合金熔液的水平单晶连铸,获取铜合金铸态单晶母线;
3)粗拔;
将铜合金铸态单晶母线经多道模拉拔工序,拉拔获取铜合金单晶丝;
4)热处理;
将铜合金单晶丝置于退火炉中进行退火处理;其中,热处理温度420℃~480℃,保温时间20min~30min;
5)精拔;
将铜合金单晶丝经多道次过模拉拔工序,拉拔成不同的规格的铜基键合丝;
6)表面清洗;
将铜基键合丝先用酸液清洗,然后依次经超声波清洗及纯水清洗,烘干;
7)分卷及包装;
将铜基键合丝单卷定尺后进行真空包装;其中,单卷定尺控制张力5g~30g,绕丝速度为500rpm~750rpm。
6.根据权利要求5所述的抗氧化的铜基键合丝的制备方法,其特征在于,
在步骤2)中,铜合金铸态单晶母线的直径范围7.9mm~8.1mm,纵向晶粒数和横向晶粒的数量均为1。
7.根据权利要求5所述的抗氧化的铜基键合丝的制备方法,其特征在于,在步骤3)中,模具延伸率为5%~12%,拉伸速度为515m/s~15m/s。
8.根据权利要求5所述的抗氧化的铜基键合丝的制备方法,其特征在于,在步骤4)中,退火处理过程中,进一步通入氮气。
9.根据权利要求5所述的抗氧化的铜基键合丝的制备方法,其特征在于,在步骤5)中,所述铜基键合丝的长度范围0.013mm~0.028mm。
CN201811332474.0A 2018-11-09 2018-11-09 一种抗氧化的铜基键合丝及其制备方法 Pending CN109473413A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201811332474.0A CN109473413A (zh) 2018-11-09 2018-11-09 一种抗氧化的铜基键合丝及其制备方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201811332474.0A CN109473413A (zh) 2018-11-09 2018-11-09 一种抗氧化的铜基键合丝及其制备方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN109473413A true CN109473413A (zh) 2019-03-15

Family

ID=65671988

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201811332474.0A Pending CN109473413A (zh) 2018-11-09 2018-11-09 一种抗氧化的铜基键合丝及其制备方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN109473413A (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109402445A (zh) * 2018-11-09 2019-03-01 上海理工大学 一种抗氧化铜基合金键合引线及其制备方法
CN110203553A (zh) * 2019-05-09 2019-09-06 尚德太阳能电力有限公司 具有抗氧化性能的电池片包装结构及相应性能验证方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0770674A (ja) * 1994-06-06 1995-03-14 Toshiba Corp 半導体装置
CN1949493A (zh) * 2006-11-03 2007-04-18 宁波康强电子股份有限公司 键合铜丝及其制备方法
CN106992164A (zh) * 2017-04-10 2017-07-28 江西蓝微电子科技有限公司 一种微电子封装用铜合金单晶键合丝及其制备方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0770674A (ja) * 1994-06-06 1995-03-14 Toshiba Corp 半導体装置
CN1949493A (zh) * 2006-11-03 2007-04-18 宁波康强电子股份有限公司 键合铜丝及其制备方法
CN106992164A (zh) * 2017-04-10 2017-07-28 江西蓝微电子科技有限公司 一种微电子封装用铜合金单晶键合丝及其制备方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
禹建敏等: ""从专利文献看键合铜丝的发展"", 《云南冶金》 *

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109402445A (zh) * 2018-11-09 2019-03-01 上海理工大学 一种抗氧化铜基合金键合引线及其制备方法
CN110203553A (zh) * 2019-05-09 2019-09-06 尚德太阳能电力有限公司 具有抗氧化性能的电池片包装结构及相应性能验证方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN103199073B (zh) 银钯合金单晶键合丝及其制造方法
CN106992164B (zh) 一种微电子封装用铜合金单晶键合丝及其制备方法
CN104388861B (zh) 一种多晶串联led用微细银金合金键合线的制造方法
CN106011516B (zh) 一种掺杂金合金键合丝及其深冷处理制备方法
CN102332439B (zh) 一种具有防氧化层的铜基键合丝加工工艺
CN109003903A (zh) 一种键合金丝及其制备方法
CN102121077B (zh) 一种键合金丝的制备方法
CN107799496A (zh) 一种电子封装用高可靠性铜合金键合丝及其制备方法
TW200304209A (en) Semiconductor package having oxidation-free copper wire
CN102324392B (zh) 一种防氧化的铜基键合丝的制备工艺
CN103474408A (zh) 一种表面有镀金层的金银合金键合丝及其制备方法
CN109473413A (zh) 一种抗氧化的铜基键合丝及其制备方法
CN109767991B (zh) 一种高金合金键合丝的制备方法
CN105132735A (zh) 一种微电子封装用超细铜合金键合丝及其制备方法
CN101667566A (zh) 一种银基覆金的键合丝线及其制造方法
CN102361026A (zh) 一种具有防氧化功能的铜基键合丝
CN106811617A (zh) 一种键合金银合金的制备方法
CN104593635A (zh) 电子封装用铜键合线及其制备方法
CN110284023B (zh) 一种铜合金键合丝及其制备方法和应用
CN103199072A (zh) 镀金铜钯合金单晶键合丝及其制造方法
CN103122421B (zh) 一种封装用高性能键合金丝的制备方法
CN110783299A (zh) 一种铜微合金单晶键合丝及其制备方法
CN105177345A (zh) 一种微电子封装用高可靠性铜合金键合丝及其制备方法
CN104752235A (zh) 一种铜钯银合金高精超细键合引线制造方法
JP5669335B1 (ja) 銀金合金ボンディングワイヤ

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20190315