CN108663729B - 一种化学膜光学元件的保鲜方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种化学膜光学元件的保鲜方法,该保鲜方法通过对化学膜光学元件进行密封熏蒸、超声波清洗、光照烘干,对夹持装置进行100级洁净度清洁,并将化学膜光学元件安装在夹持装置后整体封装的操作步骤,实现了化学膜光学元件在大型激光装置流通、转运过程中的技术指标的不降低,洁净度不受污染的要求。
Description
技术领域
本发明属于高能、高功率大型激光装置领域,具体涉及一种化学膜光学元件的保鲜方法。
背景技术
在大型激光装置中,激光光学薄膜按照制备方法可分为两种,即物理方法(真空蒸镀法)和化学方法(包括化学气相沉积和化学溶液沉积)。随着惯性约束聚变(ICF)高功率固体激光装置的逐步升级,对光学薄膜激光负载能力提出更高的要求,同时,大口径光学元件的镀膜及合理的经济问题也成为传统物理镀膜无法攻克的难关。溶胶凝胶化学镀膜以其低成本、简单的镀膜工艺、优良的激光损伤阈值及适宜大口径光学元件的镀膜优势引起了各国ICF研究机构的极大兴趣。目前溶胶凝胶化学镀膜在先进国家已成为一项成熟的技术,在高功率激光装置的光学薄膜的优势得到了充分的展示。鉴于化学膜是一种软膜,不具有物理膜的可擦拭性,其在腐蚀液中容易遭到破坏,而且本身又缺乏自修复能力。光学元件在其化学膜镀制完成后,制成了化学膜光学元件,化学膜光学元件在传递流通过程必须隔离周边环境的改变而带来的附加污染(例如灰尘吸附、渣滓和油气的浸润等),其包装方法需要特殊设计,确保在传递流通过程中,保持化学膜光学元件的表面质量。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种化学膜光学元件的保鲜方法。
本发明的化学膜光学元件的保鲜方法包括以下步骤:
a.将化学膜光学元件放置在氨气自然挥发的密封环境内熏制24h;
b.将步骤a获得的化学膜光学元件继续在六甲基二硅胺烷自然挥发的密封环境内放置24h;
c.将化学膜光学元件的夹持装置进行用超声波清洗并烘干;
d.将步骤c获得的化学膜光学元件的夹持装置继续用优级乙醇擦拭,完成去污去油去湿工作;
e.将步骤b获得的化学膜光学元件在100级洁净度环境下安装在步骤d获得的化学膜光学元件的夹持装置中,获得整体装置;
f.将整体装置在纯氮气环境中包裹保鲜膜,获得包装装置Ⅰ,将包装装置Ⅰ放置在洁净环境中;
g.准备脱离洁净环境开始运输前,将步骤f获得的包装装置Ⅰ放置在洁净袋里,并向洁净袋里充入氮气置换空气后密封洁净袋,获得包装装置Ⅱ,包装装置Ⅱ进行整体运输。
步骤a 中所述的氨气自然挥发的密封环境中采用氨水作为挥发介质,氨水中NH3的摩尔含量为25%~28%。
步骤b中所述的六甲基二硅胺烷自然挥发的密封环境中采用六甲基二硅胺烷溶液作为挥发介质,六甲基二硅胺烷溶液中C6H19NSi2的摩尔含量≧98% ,H2O的摩尔含量≦0.15%。
步骤c 中所述的用超声波清洗并烘干为超声波清洗后烘干,超声波频率为50Hz,烘干采用100W功率的光照烘干,烘干时间为2~4小时。
步骤d 中所述的用优级乙醇擦拭的条件是擦拭绸布为100级洁净度绸布,优级乙醇为CH3CH2OH摩尔含量≥99.8%、CO羰基化合物的质量分数≤0.003%的乙醇;
本发明的化学膜光学元件的保鲜方法实现了化学膜光学元件在大型激光装置流通、转运过程中的技术指标的不降低,洁净度不受污染的要求。
具体实施方式
下面结合实施例详细说明本发明。
实施例1
本实施例的化学膜光学元件的保鲜方法包括以下步骤:
a.将化学膜光学元件放置在一个有隔层的密封箱中,在隔层上层放置化学膜光学元件,在隔层下层放置氨水,氨水中NH3的摩尔含量为25%~28%,封闭密封箱24h,NH3在密封箱中自然挥发;
b.步骤a获得的化学膜光学元件放置在另一个有隔层的密封箱中,在隔层上层放置化学膜光学元件,在隔层下层放置六甲基二硅胺烷溶液,六甲基二硅胺烷溶液中C6H19NSi2摩尔含量≧98% 、H2O的摩尔含量≦0.15%,封闭密封箱24h,C6H19NSi2在密封箱中自然挥发;
c.将化学膜光学元件的夹持装置用超声波清洗后烘干,超声波频率为50Hz,烘干采用100W功率的光照烘干,烘干时间为2—4小时;
d.将步骤c获得的化学膜光学元件的夹持装置继续用优级乙醇擦拭,完成去污去油去湿工作,擦拭绸布为100级洁净度绸布,优级乙醇为CH3CH2OH的摩尔含量≥99.8%、CO羰基化合物的质量分数≤0.003%的乙醇;
e.将步骤b获得的化学膜光学元件在100级洁净度环境下安装在步骤d获得的化学膜光学元件的夹持装置中,获得整体装置;
f.将整体装置在纯氮气环境中包裹保鲜膜,获得包装装置Ⅰ,将包装装置Ⅰ放置在洁净环境中;
g.准备脱离洁净环境开始运输前,将步骤f获得的包装装置Ⅰ放置在洁净袋里,并向洁净袋里充入氮气置换空气后密封洁净袋,获得包装装置Ⅱ,包装装置Ⅱ进行整体运输。
Claims (5)
1.一种化学膜光学元件的保鲜方法,其特征在于,所述的保鲜方法包括以下步骤:
a.将化学膜光学元件放置在氨气自然挥发的密封环境内熏制24h;
b.将步骤a获得的化学膜光学元件继续在六甲基二硅胺烷自然挥发的密封环境内放置24h;
c.将化学膜光学元件的夹持装置进行用超声波清洗并烘干;
d.将步骤c获得的化学膜光学元件的夹持装置继续用优级乙醇擦拭,完成去污去油去湿工作;
e.将步骤b获得的化学膜光学元件在100级洁净度环境下安装在步骤d获得的化学膜光学元件的夹持装置中,获得整体装置;
f.将整体装置在纯氮气环境中包裹保鲜膜,获得包装装置Ⅰ,将包装装置Ⅰ放置在洁净环境中;
g.准备脱离洁净环境开始运输前,将步骤f获得的包装装置Ⅰ放置在洁净袋里,并向洁净袋里充入氮气置换空气后密封洁净袋,获得包装装置Ⅱ,包装装置Ⅱ进行整体运输。
2.根据权利要求1所述的化学膜光学元件的保鲜方法,其特征在于:步骤a 中所述的氨气自然挥发的密封环境中采用氨水作为挥发介质,氨水中NH3的摩尔含量为25%~28%。
3.根据权利要求1所述的化学膜光学元件的保鲜方法,其特征在于:步骤b中所述的六甲基二硅胺烷自然挥发的密封环境中采用六甲基二硅胺烷溶液作为挥发介质,六甲基二硅胺烷溶液中C6H19NSi2的摩尔含量≧98% ,H2O的摩尔含量≦0.15%。
4.根据权利要求1所述的化学膜光学元件的保鲜方法,其特征在于:步骤c 中所述的用超声波清洗并烘干为超声波清洗后烘干,超声波频率为50Hz,烘干采用100W功率的光照烘干,烘干时间为2—4小时。
5.根据权利要求1所述的化学膜光学元件的保鲜方法,其特征在于:步骤d 中所述的用优级乙醇擦拭的条件是擦拭绸布为100级洁净度绸布,优级乙醇为CH3CH2OH的摩尔含量≥99.8%、CO羰基化合物的质量分数≤0.003%的乙醇。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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CN201810492188.4A CN108663729B (zh) | 2018-05-22 | 2018-05-22 | 一种化学膜光学元件的保鲜方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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CN201810492188.4A CN108663729B (zh) | 2018-05-22 | 2018-05-22 | 一种化学膜光学元件的保鲜方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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CN108663729A CN108663729A (zh) | 2018-10-16 |
CN108663729B true CN108663729B (zh) | 2019-12-13 |
Family
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201810492188.4A Active CN108663729B (zh) | 2018-05-22 | 2018-05-22 | 一种化学膜光学元件的保鲜方法 |
Country Status (1)
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Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06340966A (ja) * | 1993-03-29 | 1994-12-13 | Seiko Epson Corp | 表面処理方法及びそれに用いられる蒸着材料 |
CN104609738A (zh) * | 2013-11-01 | 2015-05-13 | 北京有色金属研究总院 | 一种提高二氧化硅增透膜孔洞稳定性的方法 |
CN104816889A (zh) * | 2015-04-13 | 2015-08-05 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 保持光学元件100级洁净度的方法及包装设备 |
CN105489548A (zh) * | 2014-10-13 | 2016-04-13 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 一种半导体器件的制作方法 |
CN206496595U (zh) * | 2017-01-18 | 2017-09-15 | 福州荣德光电科技有限公司 | 一种光学元件清洗后高洁净度烘干装置 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06340966A (ja) * | 1993-03-29 | 1994-12-13 | Seiko Epson Corp | 表面処理方法及びそれに用いられる蒸着材料 |
CN104609738A (zh) * | 2013-11-01 | 2015-05-13 | 北京有色金属研究总院 | 一种提高二氧化硅增透膜孔洞稳定性的方法 |
CN105489548A (zh) * | 2014-10-13 | 2016-04-13 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 一种半导体器件的制作方法 |
CN104816889A (zh) * | 2015-04-13 | 2015-08-05 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 保持光学元件100级洁净度的方法及包装设备 |
CN206496595U (zh) * | 2017-01-18 | 2017-09-15 | 福州荣德光电科技有限公司 | 一种光学元件清洗后高洁净度烘干装置 |
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