JPH06340865A - 水溶性塩類を塗布した基体およびその清浄化方法 - Google Patents
水溶性塩類を塗布した基体およびその清浄化方法Info
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- JPH06340865A JPH06340865A JP6021391A JP2139194A JPH06340865A JP H06340865 A JPH06340865 A JP H06340865A JP 6021391 A JP6021391 A JP 6021391A JP 2139194 A JP2139194 A JP 2139194A JP H06340865 A JPH06340865 A JP H06340865A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】表面に、トリポリリン酸ナトリウム、セスキ炭
酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、
四ホウ酸ナトリウム、四ホウ酸カリウムなどの水溶性塩
類が塗布されたことを特徴とした基体。 【効果】基体表面の汚染物質は、水に溶解、脱離する水
溶性塩被膜に同伴され容易に基体から除去され、清浄な
基体表面が得られる。
酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、
四ホウ酸ナトリウム、四ホウ酸カリウムなどの水溶性塩
類が塗布されたことを特徴とした基体。 【効果】基体表面の汚染物質は、水に溶解、脱離する水
溶性塩被膜に同伴され容易に基体から除去され、清浄な
基体表面が得られる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は水溶性塩類を塗布された
基体およびその清浄化方法に関する。
基体およびその清浄化方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、基体の製造、保管、運搬中に表面
に付着する汚染を回避、除去する目的のため、（１）当
該基体の周辺雰囲気を清浄とする、（２）合紙、スペー
サー、保管容器等の当該基体に接触ないしは近傍に存在
する材料からの汚染物質の転移を防止する、（３）必要
な操作の前に付着した汚染を物理的、化学的作用を有す
る洗浄により除去する方法が実施されていた。
に付着する汚染を回避、除去する目的のため、（１）当
該基体の周辺雰囲気を清浄とする、（２）合紙、スペー
サー、保管容器等の当該基体に接触ないしは近傍に存在
する材料からの汚染物質の転移を防止する、（３）必要
な操作の前に付着した汚染を物理的、化学的作用を有す
る洗浄により除去する方法が実施されていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】最近の材料科学の発展
により、材料の表面に高い清浄性が求められる場合が多
くなり、きわめて少量の汚染の存在が問題となる。例え
ば清浄なガラス表面を必要とする分野で忌避される代表
的現象である撥水性は表面に吸着したきわめて少量の有
機物により発現する。
により、材料の表面に高い清浄性が求められる場合が多
くなり、きわめて少量の汚染の存在が問題となる。例え
ば清浄なガラス表面を必要とする分野で忌避される代表
的現象である撥水性は表面に吸着したきわめて少量の有
機物により発現する。
【０００４】したがってガラス基板周辺の雰囲気の清浄
化、ガラス基板表面に接触または近傍に存在する材料の
選択により極微量有機物の吸着を完全に回避することは
きわめて困難であった。
化、ガラス基板表面に接触または近傍に存在する材料の
選択により極微量有機物の吸着を完全に回避することは
きわめて困難であった。
【０００５】またガラス基板が建築用、車両用の板ガラ
ス、テレビブラウン管ガラス等のような大型かつ多量に
取り扱われるものにあっては高度な雰囲気調整、関連材
料の選択はコスト上むずかしく、合紙、スペーサー、段
ボール紙等の不十分な材料の使用によらざるを得ず、表
面汚染の回避は、より困難であった。
ス、テレビブラウン管ガラス等のような大型かつ多量に
取り扱われるものにあっては高度な雰囲気調整、関連材
料の選択はコスト上むずかしく、合紙、スペーサー、段
ボール紙等の不十分な材料の使用によらざるを得ず、表
面汚染の回避は、より困難であった。
【０００６】また一旦付着した有機物は、ガラス表面で
あれば表面のシラノール基と水素結合を形成するなどし
て、多くの場合簡単な水洗のみでは除去されず、化学的
物理的作用を利用した洗浄を必要としコスト面での圧迫
要因となっていた。同様の状況はガラス基板に限らず清
浄な表面が要求される基体を扱う場合に共通して生ずる
問題である。
あれば表面のシラノール基と水素結合を形成するなどし
て、多くの場合簡単な水洗のみでは除去されず、化学的
物理的作用を利用した洗浄を必要としコスト面での圧迫
要因となっていた。同様の状況はガラス基板に限らず清
浄な表面が要求される基体を扱う場合に共通して生ずる
問題である。
【０００７】本発明は、基体への汚染の付着を完全に回
避することが困難であることおよび多くの場合、基体は
保管、運搬後、各々の必要操作前に洗浄されることを勘
案し、従来に比べ簡便に付着汚染が十分に除去されうる
基体とその清浄化方法を提供するものである。
避することが困難であることおよび多くの場合、基体は
保管、運搬後、各々の必要操作前に洗浄されることを勘
案し、従来に比べ簡便に付着汚染が十分に除去されうる
基体とその清浄化方法を提供するものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、表面に水溶性
塩類が塗布されたことを特徴とする基体である。
塩類が塗布されたことを特徴とする基体である。
【０００９】上記水溶性塩としては、特に限定されない
が、リチウム、ナトリウム、カリウム等のハロゲン化
物、炭酸塩、硝酸塩、硫酸塩、リン酸塩、ケイ酸塩、有
機酸塩、ホウ酸塩などの水溶性塩が好ましく用いられ
る。また、ゼオライト、ベントナイト、含水ケイ酸アル
ミニウム等の、水に微小粒子として分散するコロイド性
物質も使用できる。
が、リチウム、ナトリウム、カリウム等のハロゲン化
物、炭酸塩、硝酸塩、硫酸塩、リン酸塩、ケイ酸塩、有
機酸塩、ホウ酸塩などの水溶性塩が好ましく用いられ
る。また、ゼオライト、ベントナイト、含水ケイ酸アル
ミニウム等の、水に微小粒子として分散するコロイド性
物質も使用できる。
【００１０】上記基体は、特に限定されるものではない
が、ガラス、プラスチックス、セラミックス、単結晶
体、およびこれらの表面に無機物または有機物がコーテ
ィングされたものからなる群から選ばれる基体が好まし
い。
が、ガラス、プラスチックス、セラミックス、単結晶
体、およびこれらの表面に無機物または有機物がコーテ
ィングされたものからなる群から選ばれる基体が好まし
い。
【００１１】対象がガラス表面の場合には、上記物質の
うち、トリポリリン酸ナトリウム、セスキ炭酸ナトリウ
ム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、四ホウ酸ナ
トリウム、四ホウ酸カリウム等のアルカリ性塩がガラス
表面を若干量溶解するとの理由から望ましい。
うち、トリポリリン酸ナトリウム、セスキ炭酸ナトリウ
ム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、四ホウ酸ナ
トリウム、四ホウ酸カリウム等のアルカリ性塩がガラス
表面を若干量溶解するとの理由から望ましい。
【００１２】また、基体の検査等、透明性が要求される
場合には四ホウ酸カリウムのように風解等の変化により
白濁しない物質を用いることが望ましい。
場合には四ホウ酸カリウムのように風解等の変化により
白濁しない物質を用いることが望ましい。
【００１３】上記物質の塗布方法は水溶液としてスプレ
イ、ディップ、またはロール状の布やスポンジにしみ込
ませて表面に付与する等の方法がとりうる。上記物質の
水溶液濃度は０．０１ｍｏｌ／ｌ前後が水洗時の除去の
容易さ、コスト、廃液処理の面で望ましいが、基体の種
類、用途、汚染の状態により最適値が異なる。
イ、ディップ、またはロール状の布やスポンジにしみ込
ませて表面に付与する等の方法がとりうる。上記物質の
水溶液濃度は０．０１ｍｏｌ／ｌ前後が水洗時の除去の
容易さ、コスト、廃液処理の面で望ましいが、基体の種
類、用途、汚染の状態により最適値が異なる。
【００１４】また、工程上の制約から乾燥時間を短くす
る必要がある場合には１〜１０容量％のエチルアルコー
ル等の有機溶媒を加え強制的に風乾することにより、乾
燥時間を１０分の１以下に短縮できる。
る必要がある場合には１〜１０容量％のエチルアルコー
ル等の有機溶媒を加え強制的に風乾することにより、乾
燥時間を１０分の１以下に短縮できる。
【００１５】基体の清浄化方法としては、洗浄剤とし
て、水および／または界面活性剤からなる洗浄剤を用
い、洗浄用水槽への浸漬、洗浄用水の散布で十分な効果
がある。さらに超音波装置やブラシの併用によっても効
果の向上が期待される。
て、水および／または界面活性剤からなる洗浄剤を用
い、洗浄用水槽への浸漬、洗浄用水の散布で十分な効果
がある。さらに超音波装置やブラシの併用によっても効
果の向上が期待される。
【００１６】
【作用】本発明において、水溶性塩を塗布された基体表
面に飛来した汚染物質は水溶性塩被膜上に付着すること
となり、基体の表面には直接接触しない。この状態の基
体を水洗した場合、汚染物質は、水に溶解、脱離する水
溶性塩被膜に同伴され容易に基体から除去され、清浄な
基体表面が得られる。
面に飛来した汚染物質は水溶性塩被膜上に付着すること
となり、基体の表面には直接接触しない。この状態の基
体を水洗した場合、汚染物質は、水に溶解、脱離する水
溶性塩被膜に同伴され容易に基体から除去され、清浄な
基体表面が得られる。
【００１７】また、水溶性塩被膜自体に電気伝導性があ
るため帯電防止効果によりゴミが付着しにくい。特にテ
レビパネル表面に付着し、後工程の熱処理により焼き付
き、欠点となる紙粉と呼ばれるゴミ低減にも効果があ
る。
るため帯電防止効果によりゴミが付着しにくい。特にテ
レビパネル表面に付着し、後工程の熱処理により焼き付
き、欠点となる紙粉と呼ばれるゴミ低減にも効果があ
る。
【００１８】
実施例１ 表１にソーダ石灰ガラスへの実施例を示す。ソーダ石灰
ガラスは１．１ｍｍ厚のフロートガラスである。このガ
ラスのトップ面（スズ浴中のスズ非接触面）をセリアに
て研磨、水洗、乾燥、水溶性塩の塗布、汚染操作などの
各種処理を実施した場合について、このガラストップ面
の接触角を測定し清浄度を評価した。
ガラスは１．１ｍｍ厚のフロートガラスである。このガ
ラスのトップ面（スズ浴中のスズ非接触面）をセリアに
て研磨、水洗、乾燥、水溶性塩の塗布、汚染操作などの
各種処理を実施した場合について、このガラストップ面
の接触角を測定し清浄度を評価した。
【００１９】なお、汚染を付着させるための操作「汚染
操作」は、代表的可塑剤でありガラスの撥水性原因とな
りやすいジオクチルフタレート（ＤＯＰ）を底部に満た
したデシケーター中にガラス試験片を中空に吊して４８
時間密封した。
操作」は、代表的可塑剤でありガラスの撥水性原因とな
りやすいジオクチルフタレート（ＤＯＰ）を底部に満た
したデシケーター中にガラス試験片を中空に吊して４８
時間密封した。
【００２０】また、この場合の水溶性塩の塗布はトリポ
リリン酸ナトリウム、セスキ炭酸ナトリウム、四ホウ酸
ナトリウムの各０．０１ｍｏｌ／ｌ水溶液にガラスを浸
漬し乾燥した。水洗は室温の純水の流水下で３０秒間行
った。
リリン酸ナトリウム、セスキ炭酸ナトリウム、四ホウ酸
ナトリウムの各０．０１ｍｏｌ／ｌ水溶液にガラスを浸
漬し乾燥した。水洗は室温の純水の流水下で３０秒間行
った。
【００２１】表１に示す通り、直接汚染操作を行ったガ
ラスＢは水洗後（ガラスＣ）も接触角が低下せずＤＯＰ
による汚染が除去されないのに対し、トリポリリン酸ナ
トリウム、セスキ炭酸ナトリウム、四ホウ酸ナトリウ
ム、四ホウ酸カリウムを塗布したガラスＤ、ガラスＦ、
ガラスＨ、ガラスＫでは水洗後の接触角は汚染操作前の
レベル（ガラスＡ）まで低下しＤＯＰの汚染が水洗によ
り容易に除去され、清浄面が回復したことがわかる。
ラスＢは水洗後（ガラスＣ）も接触角が低下せずＤＯＰ
による汚染が除去されないのに対し、トリポリリン酸ナ
トリウム、セスキ炭酸ナトリウム、四ホウ酸ナトリウ
ム、四ホウ酸カリウムを塗布したガラスＤ、ガラスＦ、
ガラスＨ、ガラスＫでは水洗後の接触角は汚染操作前の
レベル（ガラスＡ）まで低下しＤＯＰの汚染が水洗によ
り容易に除去され、清浄面が回復したことがわかる。
【００２２】本例によりクリーンルーム等に保管された
ガラスに有機物分子が飛来、吸着することによる汚染が
きわめて簡便な水洗で除去しうることがわかる。
ガラスに有機物分子が飛来、吸着することによる汚染が
きわめて簡便な水洗で除去しうることがわかる。
【００２３】実施例２ 表２にテレビファンネル用ガラスに実施した例を示す。
テレビファンネル用ガラスを約１ｃｍ角に切断し、１％
ＨＦ−１％Ｈ2 ＳＯ4 の水溶液に３分間浸漬、水洗、乾
燥、水溶性塩の塗布、汚染操作などの各種処理を実施し
た場合について、ガラス表面の汚染の除去状況をＥＳＣ
Ａ（光電子分光法）のピーク強度比（Ｃ１ｓ／Ｓｉ２
ｐ）により測定した。ただし、Ｃ１ｓピークは２８４．
６ｅＶのピークを測定、Ｓｉ２ｐピークは１０３．４ｅ
Ｖのピークを測定した。
テレビファンネル用ガラスを約１ｃｍ角に切断し、１％
ＨＦ−１％Ｈ2 ＳＯ4 の水溶液に３分間浸漬、水洗、乾
燥、水溶性塩の塗布、汚染操作などの各種処理を実施し
た場合について、ガラス表面の汚染の除去状況をＥＳＣ
Ａ（光電子分光法）のピーク強度比（Ｃ１ｓ／Ｓｉ２
ｐ）により測定した。ただし、Ｃ１ｓピークは２８４．
６ｅＶのピークを測定、Ｓｉ２ｐピークは１０３．４ｅ
Ｖのピークを測定した。
【００２４】なお、水溶性塩の塗布は、トリポリリン酸
ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、四ホウ酸ナトリウ
ム、四ホウ酸カリウムの各０．０１ｍｏｌ／ｌ水溶液に
ガラスを浸漬し乾燥した。汚染操作、水洗は、実施例１
と同様である。
ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、四ホウ酸ナトリウ
ム、四ホウ酸カリウムの各０．０１ｍｏｌ／ｌ水溶液に
ガラスを浸漬し乾燥した。汚染操作、水洗は、実施例１
と同様である。
【００２５】表２に示す通り「汚染操作」後ＤＯＰの付
着を示すＥＳＣＡピーク強度比がいずれのガラスにおい
ても増加するが、水溶性塩を塗布していないガラスＮで
は値の低下がほとんど見られないのに対し、トリポリリ
ン酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、四ホウ酸ナトリ
ウム、四ホウ酸カリウムを塗布したガラスＰ、ガラス
Ｒ、ガラスＴ、ガラスＶでは初期の値にまで低下し、Ｄ
ＯＰが水洗により除去されたことがわかる。
着を示すＥＳＣＡピーク強度比がいずれのガラスにおい
ても増加するが、水溶性塩を塗布していないガラスＮで
は値の低下がほとんど見られないのに対し、トリポリリ
ン酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、四ホウ酸ナトリ
ウム、四ホウ酸カリウムを塗布したガラスＰ、ガラス
Ｒ、ガラスＴ、ガラスＶでは初期の値にまで低下し、Ｄ
ＯＰが水洗により除去されたことがわかる。
【００２６】本例により保管中にファンネル内面が撥水
化し、水洗によっても回復せず、カーボンスラリー（ダ
グ）のはじき不良を起こすという工程上の問題を解決し
うることが示される。
化し、水洗によっても回復せず、カーボンスラリー（ダ
グ）のはじき不良を起こすという工程上の問題を解決し
うることが示される。
【００２７】実施例３ 光音響素子の媒体である石英ガラスと圧電体結晶である
ニオブ酸リチウム（ＬｉＮｂＯ3 ）に実施した例を示
す。工程中に受け入れた石英ガラスとＬｉＮｂＯ3 を工
程内の洗浄ラインで洗浄を行った。洗浄した試料につい
て、トリポリリン酸ナトリウム０．０１ｍｏｌ／ｌ水溶
液に浸漬乾燥した場合と、浸漬しない場合のそれぞれの
場合についてクリーンルーム内に４日間保管し水洗し
た。各処理後の試料の表面の接触角を測定した結果を表
３に示す。
ニオブ酸リチウム（ＬｉＮｂＯ3 ）に実施した例を示
す。工程中に受け入れた石英ガラスとＬｉＮｂＯ3 を工
程内の洗浄ラインで洗浄を行った。洗浄した試料につい
て、トリポリリン酸ナトリウム０．０１ｍｏｌ／ｌ水溶
液に浸漬乾燥した場合と、浸漬しない場合のそれぞれの
場合についてクリーンルーム内に４日間保管し水洗し
た。各処理後の試料の表面の接触角を測定した結果を表
３に示す。
【００２８】表３より保管中に光音響素子媒体および圧
電体結晶表面に付着した汚染がトリポリリン酸ナトリウ
ムの塗布により簡便な水洗で除去できることがわかる。
電体結晶表面に付着した汚染がトリポリリン酸ナトリウ
ムの塗布により簡便な水洗で除去できることがわかる。
【００２９】実施例４ 人工衛星用太陽電池カバーガラスに実施した例を示す。
カバーガラスをイソプロピルアルコールにて洗浄した
後、トリポリリン酸ナトリウム０．０１ｍｏｌ／ｌ水溶
液、セスキ炭酸ナトリウム０．０１ｍｏｌ／ｌ水溶液ま
たは四ホウ酸ナトリウム０．０１ｍｏｌ／ｌ水溶液に浸
漬し乾燥後、発泡ポリスチレン容器に１０日保管し水洗
した後の接触角を測定した結果を表４に示す。また、各
々の水溶液に浸漬しない場合の水洗前後の接触角をブラ
ンクとして表４に示す。
カバーガラスをイソプロピルアルコールにて洗浄した
後、トリポリリン酸ナトリウム０．０１ｍｏｌ／ｌ水溶
液、セスキ炭酸ナトリウム０．０１ｍｏｌ／ｌ水溶液ま
たは四ホウ酸ナトリウム０．０１ｍｏｌ／ｌ水溶液に浸
漬し乾燥後、発泡ポリスチレン容器に１０日保管し水洗
した後の接触角を測定した結果を表４に示す。また、各
々の水溶液に浸漬しない場合の水洗前後の接触角をブラ
ンクとして表４に示す。
【００３０】表４より保管中に発泡ポリスチレン容器か
ら転移した汚染がトリポリリン酸ナトリウム、セスキ炭
酸ナトリウムまたは四ホウ酸ナトリウムを表面に塗布し
ておくことにより、水洗で容易に除去されることが明ら
かである。
ら転移した汚染がトリポリリン酸ナトリウム、セスキ炭
酸ナトリウムまたは四ホウ酸ナトリウムを表面に塗布し
ておくことにより、水洗で容易に除去されることが明ら
かである。
【００３１】実施例５ 液晶用超薄板ガラス（１．１ｍｍ厚）に実施した例を示
す。超薄板ガラスを洗浄後、トリポリリン酸ナトリウム
および四ホウ酸ナトリウムの各々の０．０１ｍｏｌ／ｌ
水溶液または０．１ｍｏｌ／ｌ水溶液に浸漬し、自然乾
燥した後、ガラス用の合紙をガラス間に挿入した。これ
を２０℃、湿度８０％ＲＨの恒温恒湿槽に１０日間保管
した後に水洗した。このときの水洗前後の接触角（°）
を測定した結果を表５に示す。また、トリポリリン酸ナ
トリウム水溶液に浸漬せず同様の操作を行った場合（ブ
ランク）を併せて表５に示す。
す。超薄板ガラスを洗浄後、トリポリリン酸ナトリウム
および四ホウ酸ナトリウムの各々の０．０１ｍｏｌ／ｌ
水溶液または０．１ｍｏｌ／ｌ水溶液に浸漬し、自然乾
燥した後、ガラス用の合紙をガラス間に挿入した。これ
を２０℃、湿度８０％ＲＨの恒温恒湿槽に１０日間保管
した後に水洗した。このときの水洗前後の接触角（°）
を測定した結果を表５に示す。また、トリポリリン酸ナ
トリウム水溶液に浸漬せず同様の操作を行った場合（ブ
ランク）を併せて表５に示す。
【００３２】表５より保管中にガラス用合紙からガラス
の表面に転移した汚染（紙アト）が、合紙の種類、性状
（油脂分、吸水性、表面平滑度等）にかかわらず、水洗
により容易に除去されることがわかる。
の表面に転移した汚染（紙アト）が、合紙の種類、性状
（油脂分、吸水性、表面平滑度等）にかかわらず、水洗
により容易に除去されることがわかる。
【００３３】
【表１】
【００３４】
【表２】
【００３５】
【表３】
【００３６】
【表４】
【００３７】
【表５】
【００３８】
【発明の効果】本発明の基体を水洗することによって、
基体表面の汚染物質は、水に溶解、脱離する水溶性塩被
膜に同伴され容易に基体から除去され、清浄な基体表面
が得られる。したがって、基体を製造、保管、運搬する
雰囲気の清浄度を基体表面に付着する汚染物質を低減す
る目的で高度に高める必要がないという効果が得られ
る。また、帯電防止効果によりチリ等が付着しにくいと
の効果もある。
基体表面の汚染物質は、水に溶解、脱離する水溶性塩被
膜に同伴され容易に基体から除去され、清浄な基体表面
が得られる。したがって、基体を製造、保管、運搬する
雰囲気の清浄度を基体表面に付着する汚染物質を低減す
る目的で高度に高める必要がないという効果が得られ
る。また、帯電防止効果によりチリ等が付着しにくいと
の効果もある。
【００３９】また、基体を製造、保管、運搬する際に、
その基体表面に接触する合紙、スペーサーなどの材料
や、近傍に存在する段ボール、発泡スチロールなどの材
料からの汚染物質の転移を低減するために、従来制約さ
れていたこれら材料の選択許容範囲が大きく拡大すると
いう効果が得られる。
その基体表面に接触する合紙、スペーサーなどの材料
や、近傍に存在する段ボール、発泡スチロールなどの材
料からの汚染物質の転移を低減するために、従来制約さ
れていたこれら材料の選択許容範囲が大きく拡大すると
いう効果が得られる。
【００４０】さらに、使用前に実施する水洗工程が簡便
となるという効果が得られる。即ち、洗剤として用いる
界面活性剤、洗浄槽に具備する超音波洗浄器、ブラシ等
が省略されても同等以上の汚染除去効果が期待できる。
となるという効果が得られる。即ち、洗剤として用いる
界面活性剤、洗浄槽に具備する超音波洗浄器、ブラシ等
が省略されても同等以上の汚染除去効果が期待できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 篠 良一 千葉県船橋市北本町１丁目10番１号 旭硝 子株式会社船橋工場内
Claims (5)
- 【請求項１】表面に水溶性塩類が塗布されたことを特徴
とする基体。 - 【請求項２】水溶性塩がハロゲン化物、炭酸塩、重炭酸
塩、硝酸塩、硫酸塩、リン酸塩、ケイ酸塩、有機酸塩、
ホウ酸塩およびこれらの複塩からなる群から選ばれた１
種以上である請求項１の基体。 - 【請求項３】基体が、ガラス、プラスチックス、セラミ
ックス、単結晶体、およびこれらの表面に無機物または
有機物がコーティングされたものからなる群から選ばれ
る請求項１または２の基体。 - 【請求項４】水溶性塩が、トリポリリン酸ナトリウム、
セスキ炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナト
リウム、四ホウ酸ナトリウムおよび四ホウ酸カリウムか
らなる群から選ばれた１種以上であり、かつ、基体が、
ガラスである請求項１の基体。 - 【請求項５】基体表面に水溶性塩類を塗布し水溶性塩類
の被膜を形成し、その被膜表面に付着した汚染を、水お
よび／または界面活性剤で洗浄することを特徴とする前
記基体表面の清浄化方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06021391A JP3075906B2 (ja) | 1993-02-26 | 1994-02-18 | 水溶性塩が塗布された基体 |
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6286293 | 1993-02-26 | ||
| JP5-62862 | 1993-04-09 | ||
| JP5-107778 | 1993-04-09 | ||
| JP10777893 | 1993-04-09 | ||
| JP06021391A JP3075906B2 (ja) | 1993-02-26 | 1994-02-18 | 水溶性塩が塗布された基体 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10928799A Division JP3659057B2 (ja) | 1993-02-26 | 1999-04-16 | ブラウン管ガラス表面の清浄化方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06340865A true JPH06340865A (ja) | 1994-12-13 |
| JP3075906B2 JP3075906B2 (ja) | 2000-08-14 |
Family
ID=27283414
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP06021391A Expired - Fee Related JP3075906B2 (ja) | 1993-02-26 | 1994-02-18 | 水溶性塩が塗布された基体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3075906B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2325562A (en) * | 1997-05-23 | 1998-11-25 | Asahi Glass Co Ltd | Cathode ray tube kept clean by coating |
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