CN103934234A - 一种抛光片载片盒的清洗工艺 - Google Patents

一种抛光片载片盒的清洗工艺 Download PDF

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Abstract

本发明涉及一种抛光片载片盒的清洗工艺，它包括以下步骤：在清洗槽内放入纯水并加入亲水性有机溶剂，得到清洗液，将载片盒浸没在清洗槽内的清洗液中浸泡后取出；用纯水对取出的载片盒进行冲洗，直至载片盒表面无明显清洗剂泡沫为止；将冲洗好的载片盒放入清洗架，再将装好载片盒的清洗架放入超声波清洗机的清洗槽内进行超声波清洗，超声波清洗完成后取出载片盒；使用无尘布蘸拭酒精对载片盒表面进行擦拭；使用***喷出气体对载片盒进行吹喷干燥；最后将干燥后的载片盒运至洁净室或净化工作台待用。采用发明工艺经过清洗后的载片盒可替代高洁净度的载片盒，不仅省去了高洁净度辅料的成本，而且加强了抛光片表面颗粒的控制。

Description

一种抛光片载片盒的清洗工艺
技术领域
本发明涉及光电子材料抛光片包装技术领域，本发明尤其是涉及一种抛光片载片盒的清洗工艺。
背景技术
光电子材料加工一般主要包括材料生长-切料-切片-倒边-研磨-抛光-清洗-包装等过程。加工后的抛光片再清洗甩干后就要进行表面检验，合格的抛光片放入载片盒中并进行封装，再经过下道工序加工成需要的功能材料。例如，红外截止滤光片是利用精密光学镀膜技术在光学玻璃上交替镀上高低折射率的光学膜，实现可见光区（400~630nm）高透，近红外（700~1100nm）截止的光学滤光片，目前800万像素以上的镜头正在采用的红外截止滤光片开始由蓝玻璃取代光学玻璃。蓝玻璃抛光片表面吸附的颗粒会影响镀膜质量，进而影响蓝玻璃红外截止滤光片的光学特性。因此，蓝玻璃抛光片表面颗粒度的控制是蓝玻璃红外截止滤光片加工的关键，为了保证洁净的抛光片不受到二次污染，应该对其包装盒的洁净度实施严格管控。
目前行业中主要采用外购的免洗载片盒（载片盒材质主要是PVC、PP、PE、PS等）对抛光片进行包装，但在使用中常发现，使用该载片盒包装合格产品在放置一段时间后表面颗粒度有所增加，若使用高洁净度的载片盒则不利于降低辅料成本。
发明内容
本发明的目的是克服现有技术中存在的不足，提供一种洁净度较高、操作简单并能节约成本的抛光片载片盒的清洗工艺。
按照本发明提供的技术方案，所述一种抛光片载片盒的清洗工艺包括以下步骤： 
a、在清洗槽内放入25~35℃的纯水并加入亲水性有机溶剂，将纯水与亲水性有机溶剂搅拌均匀，得到清洗液，纯水与亲水性有机溶剂的体积比为15~25:1，将载片盒浸没在清洗槽内的清洗液中浸泡15~20min后取出；
b、用纯水对取出的载片盒进行冲洗，直至载片盒表面无明显清洗剂泡沫为止；
c、将冲洗好的载片盒放入清洗架，并使载片盒的底面与清洗架底部呈垂直状态，再将装好载片盒的清洗架放入超声波清洗机的清洗槽内进行超声波清洗，超声波频率为30~50KHZ，超声波功率为60~120W，超声波清洗温度控制在30~35℃，超声波清洗时间控制在10~15min，超声波清洗完成后取出载片盒；
d、使用无尘布蘸拭酒精对载片盒表面进行擦拭；
e、使用***喷出气体对载片盒进行吹喷干燥，***所喷出气体的温度控制在50~110℃，吹喷时间控制在3~5min；
f、最后将干燥后的载片盒运至洁净室或净化工作台待用。
步骤a中所述的亲水性有机溶剂为乙醇、***、丙酮或者它们两种或者两种以上的混合物。
步骤e中***喷出的气体为氮气或者清洁空气。
本发明利用非免洗载片盒代替价格较高的免洗载片盒，经过浸泡、冲洗、超声波清洗、酒精擦拭等步骤可保证载片盒的高洁净度。最后由***吹喷氮气对载片盒进行干燥处理，可保证载片盒的干燥程度；采用本工艺经过清洗后的载片盒可替代高洁净度的载片盒，不仅省去了高洁净度辅料的成本，而且加强了抛光片表面颗粒的控制。
具体实施方式
下面结合具体实施例对本发明作进一步说明。
实施例1
一种抛光片载片盒的清洗工艺包括以下步骤： 
a、在清洗槽内放入30℃的纯水并加入亲水性有机溶剂，将纯水与亲水性有机溶剂搅拌均匀，得到清洗液，纯水与亲水性有机溶剂的体积比为20:1，亲水性有机溶剂由体积比为1:1的乙醇与丙酮构成，将载片盒浸没在清洗槽内的清洗液中浸泡18min后取出；
b、用纯水对取出的载片盒进行冲洗，直至载片盒表面无明显清洗剂泡沫为止；
c、将冲洗好的载片盒放入清洗架，并使载片盒的底面与清洗架底部呈垂直状态，再将装好载片盒的清洗架放入超声波清洗机的清洗槽内进行超声波清洗，超声波频率为40KHZ，超声波功率为100W，超声波清洗温度控制在32℃，超声波清洗时间控制在12min，超声波清洗完成后取出载片盒；
d、使用无尘布蘸拭酒精对载片盒表面进行擦拭；
e、使用***喷出清洁空气对载片盒进行吹喷干燥，***所喷出气体的温度控制在80℃，吹喷时间控制在4min；
f、最后将干燥后的载片盒运至洁净室或净化工作台待用。
将清洗后的载片盒和未经清洗的载片盒分别装载去离子水后摇均，并采用液体颗粒度检测仪检测两种载片盒中的去离子水，经清洗后的载片盒在粒径为0.1~0.5μm之间的颗粒数约为32000个，而未经清洗后的载片盒在粒径为0.1~0.5μm之间的颗粒数超过351000个，为前者的10倍多。
使用本发明工艺清洗后的载片盒包装200片抛光片在静置5天后，产品复测合格率达到100%。而采用传统外购的免洗载片盒包装的抛光片静置5天后，产品复测合格率仅为83.43%。
 
实施例2
一种抛光片载片盒的清洗工艺包括以下步骤： 
a、在清洗槽内放入25℃的纯水并加入乙醇，将纯水与乙醇搅拌均匀，得到清洗液，纯水与乙醇的体积比为15:1，将载片盒浸没在清洗槽内的清洗液中浸泡15min后取出；
b、用纯水对取出的载片盒进行冲洗，直至载片盒表面无明显清洗剂泡沫为止；
c、将冲洗好的载片盒放入清洗架，并使载片盒的底面与清洗架底部呈垂直状态，再将装好载片盒的清洗架放入超声波清洗机的清洗槽内进行超声波清洗，超声波频率为30KHZ，超声波功率为60W，超声波清洗温度控制在30℃，超声波清洗时间控制在10min，超声波清洗完成后取出载片盒；
d、使用无尘布蘸拭酒精对载片盒表面进行擦拭；
e、使用***喷出气体对载片盒进行吹喷干燥，***所喷出气体的温度控制在50℃，吹喷时间控制在3min；
f、最后将干燥后的载片盒运至洁净室或净化工作台待用。
将清洗后的载片盒和未经清洗的载片盒分别装载去离子水后摇均，并采用液体颗粒度检测仪检测两种载片盒中的去离子水，经清洗后的载片盒在粒径为0.1~0.5μm之间的颗粒数约为34200个，而未经清洗后的载片盒在粒径为0.1~0.5μm之间的颗粒数超过376000个，为前者的10倍多。
使用本发明工艺清洗后的载片盒包装200片抛光片在静置5天后，产品复测合格率达到98%。而采用传统外购的免洗载片盒包装的抛光片静置5天后，产品复测合格率仅为83.43%。
 
实施例3
一种抛光片载片盒的清洗工艺包括以下步骤： 
a、在清洗槽内放入35℃的纯水并加入亲水性有机溶剂，将纯水与亲水性有机溶剂搅拌均匀，得到清洗液，纯水与亲水性有机溶剂的体积比为25:1，亲水性有机溶剂由体积比为1:1的***与丙酮构成，将载片盒浸没在清洗槽内的清洗液中浸泡20min后取出；
b、用纯水对取出的载片盒进行冲洗，直至载片盒表面无明显清洗剂泡沫为止；
c、将冲洗好的载片盒放入清洗架，并使载片盒的底面与清洗架底部呈垂直状态，再将装好载片盒的清洗架放入超声波清洗机的清洗槽内进行超声波清洗，超声波频率为50KHZ，超声波功率为120W，超声波清洗温度控制在35℃，超声波清洗时间控制在15min，超声波清洗完成后取出载片盒；
d、使用无尘布蘸拭酒精对载片盒表面进行擦拭；
e、使用***喷出气体对载片盒进行吹喷干燥，***所喷出气体的温度控制在110℃，吹喷时间控制在5min；
f、最后将干燥后的载片盒运至洁净室或净化工作台待用。
将清洗后的载片盒和未经清洗的载片盒分别装载去离子水后摇均，并采用液体颗粒度检测仪检测两种载片盒中的去离子水，经清洗后的载片盒在粒径为0.1~0.5μm之间的颗粒数约为33700个，而未经清洗后的载片盒在粒径为0.1~0.5μm之间的颗粒数超过368000个，为前者的10倍多。
使用本发明工艺清洗后的载片盒包装200片抛光片在静置5天后，产品复测合格率达到99%。而采用传统外购的免洗载片盒包装的抛光片静置5天后，产品复测合格率仅为83.43%。
 在上述实施例中，以液体颗粒度分析仪检测载片盒内部环境考量，说明该清洗方法能有效去除载片盒内部沾污及颗粒；以抛光片颗粒变化量考量，说明采用本清洗工艺的载片盒包装抛光片表面颗粒度得到了有效的控制。

Claims (3)

1. 一种抛光片载片盒的清洗工艺，其特征是该清洗工艺包括以下步骤： 
a、在清洗槽内放入25~35℃的纯水并加入亲水性有机溶剂，将纯水与有机溶剂搅拌均匀，得到清洗液，纯水与亲水性有机溶剂的体积比为15~25:1，将载片盒浸没在清洗槽内的清洗液中浸泡15~20min后取出；
b、用纯水对取出的载片盒进行冲洗，直至载片盒表面无明显清洗剂泡沫为止；
c、将冲洗好的载片盒放入清洗架，并使载片盒的底面与清洗架底部呈垂直状态，再将装好载片盒的清洗架放入超声波清洗机的清洗槽内进行超声波清洗，超声波频率为30~50KHZ，超声波功率为60~120W，超声波清洗温度控制在30~35℃，超声波清洗时间控制在10~15min，超声波清洗完成后取出载片盒；
d、使用无尘布蘸拭酒精对载片盒表面进行擦拭；
e、使用***喷出气体对载片盒进行吹喷干燥，***所喷出气体的温度控制在50~110℃，吹喷时间控制在3~5min；
f、最后将干燥后的载片盒运至洁净室或净化工作台待用。
2.如权利要求1所述的抛光片载片盒的清洗工艺，其特征是：步骤a中所述的亲水性有机溶剂为乙醇、***、丙酮或者它们两种或者两种以上的混合物。
3.如权利要求1所述的抛光片载片盒的清洗工艺，其特征是：步骤e中***喷出的气体为氮气或者清洁空气。
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Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105109725A (zh) * 2015-06-29 2015-12-02 开平市盈光机电科技有限公司 一种滤光片装盒方法
CN105598076A (zh) * 2015-12-26 2016-05-25 湖南长材电工科技有限公司 一种高效无损伤冷缩电缆附件清洁方法
CN105789025A (zh) * 2014-12-25 2016-07-20 上海旭福电子有限公司 一种新型的晶圆镀膜片光罩清洗工艺
CN106238402A (zh) * 2016-08-12 2016-12-21 泉州市三星消防设备有限公司 一种法拉第小粒的清洗方法
CN106563650A (zh) * 2016-10-31 2017-04-19 芜湖赋兴光电有限公司 手机摄像头模组生产的脏污品处理方法
CN106694443A (zh) * 2016-11-30 2017-05-24 北京七星华创电子股份有限公司 硅片清洗的调度方法及调度***
CN106824869A (zh) * 2016-12-29 2017-06-13 芜湖乐普汽车科技有限公司 树脂制件的清洗方法
CN106876295A (zh) * 2015-12-10 2017-06-20 有研半导体材料有限公司 一种硅片片盒内金属含量测试的方法
CN109013517A (zh) * 2018-08-20 2018-12-18 六安名家汇光电科技有限公司 一种led投光灯塑料外壳的除尘方法
CN112588639A (zh) * 2020-12-21 2021-04-02 兰州科近泰基新技术有限责任公司 一种四翼型射频四极场直线加速器单翼清洗方法
CN112676286A (zh) * 2020-12-09 2021-04-20 四川富乐德科技发展有限公司 一种Parylene-C盛装料囊的清洗方法

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2000069575A1 (en) * 1999-05-18 2000-11-23 Memc Electronic Materials, Inc. Method and apparatus for washing a wafer carrier
CN101217101A (zh) * 2007-01-04 2008-07-09 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 一种洗净陶瓷表面污点的方法
CN101381877A (zh) * 2007-09-04 2009-03-11 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 精密零件的清洗方法
US20090084416A1 (en) * 2007-09-28 2009-04-02 Siltron Inc. Box cleaner for cleaning wafer shipping box
CN101439341A (zh) * 2007-11-19 2009-05-27 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 一种半导体制程设备零部件的清洗方法
CN102105973A (zh) * 2008-05-28 2011-06-22 波利-弗洛工程有限公司 夹具干燥设备和方法
CN102806217A (zh) * 2012-08-21 2012-12-05 安阳市凤凰光伏科技有限公司 用有机溶剂进行硅片清洗的方法
CN103170469A (zh) * 2011-12-22 2013-06-26 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 用于清洗和干燥晶圆盒的装置及方法

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2000069575A1 (en) * 1999-05-18 2000-11-23 Memc Electronic Materials, Inc. Method and apparatus for washing a wafer carrier
CN101217101A (zh) * 2007-01-04 2008-07-09 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 一种洗净陶瓷表面污点的方法
CN101381877A (zh) * 2007-09-04 2009-03-11 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 精密零件的清洗方法
US20090084416A1 (en) * 2007-09-28 2009-04-02 Siltron Inc. Box cleaner for cleaning wafer shipping box
CN101439341A (zh) * 2007-11-19 2009-05-27 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 一种半导体制程设备零部件的清洗方法
CN102105973A (zh) * 2008-05-28 2011-06-22 波利-弗洛工程有限公司 夹具干燥设备和方法
CN103170469A (zh) * 2011-12-22 2013-06-26 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 用于清洗和干燥晶圆盒的装置及方法
CN102806217A (zh) * 2012-08-21 2012-12-05 安阳市凤凰光伏科技有限公司 用有机溶剂进行硅片清洗的方法

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105789025A (zh) * 2014-12-25 2016-07-20 上海旭福电子有限公司 一种新型的晶圆镀膜片光罩清洗工艺
CN105109725A (zh) * 2015-06-29 2015-12-02 开平市盈光机电科技有限公司 一种滤光片装盒方法
CN105109725B (zh) * 2015-06-29 2017-11-17 开平市盈光机电科技有限公司 一种滤光片装盒方法
CN106876295A (zh) * 2015-12-10 2017-06-20 有研半导体材料有限公司 一种硅片片盒内金属含量测试的方法
CN105598076A (zh) * 2015-12-26 2016-05-25 湖南长材电工科技有限公司 一种高效无损伤冷缩电缆附件清洁方法
CN106238402B (zh) * 2016-08-12 2019-08-09 泉州市三星消防设备有限公司 一种法拉第小粒的清洗方法
CN106238402A (zh) * 2016-08-12 2016-12-21 泉州市三星消防设备有限公司 一种法拉第小粒的清洗方法
CN106563650A (zh) * 2016-10-31 2017-04-19 芜湖赋兴光电有限公司 手机摄像头模组生产的脏污品处理方法
CN106694443A (zh) * 2016-11-30 2017-05-24 北京七星华创电子股份有限公司 硅片清洗的调度方法及调度***
CN106824869A (zh) * 2016-12-29 2017-06-13 芜湖乐普汽车科技有限公司 树脂制件的清洗方法
CN109013517A (zh) * 2018-08-20 2018-12-18 六安名家汇光电科技有限公司 一种led投光灯塑料外壳的除尘方法
CN112676286A (zh) * 2020-12-09 2021-04-20 四川富乐德科技发展有限公司 一种Parylene-C盛装料囊的清洗方法
CN112588639A (zh) * 2020-12-21 2021-04-02 兰州科近泰基新技术有限责任公司 一种四翼型射频四极场直线加速器单翼清洗方法

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Address after: 214037, Jinshan 9 photoelectric new material science and Technology Park, Jinshan four branch road, Jiangsu, Wuxi

Patentee after: Wuxi Yangtze River Delta photoelectric New Material Co., Ltd.

Address before: 214037, No. four branch 9, Jinshan Science Park, Jianghai West Road, Jianghai District, Wuxi, Jiangsu, Beitang

Patentee before: Unionlight Technology Co., Ltd.

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