CN106981585B - 透明oled面板和显示装置 - Google Patents

透明oled面板和显示装置 Download PDF

Info

Publication number
CN106981585B
CN106981585B CN201710367838.8A CN201710367838A CN106981585B CN 106981585 B CN106981585 B CN 106981585B CN 201710367838 A CN201710367838 A CN 201710367838A CN 106981585 B CN106981585 B CN 106981585B
Authority
CN
China
Prior art keywords
projected parts
strip projected
oled panel
transparent oled
cathode layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201710367838.8A
Other languages
English (en)
Other versions
CN106981585A (zh
Inventor
楼均辉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shanghai Tianma Microelectronics Co Ltd
Original Assignee
Shanghai Tianma Microelectronics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shanghai Tianma Microelectronics Co Ltd filed Critical Shanghai Tianma Microelectronics Co Ltd
Priority to CN201710367838.8A priority Critical patent/CN106981585B/zh
Publication of CN106981585A publication Critical patent/CN106981585A/zh
Priority to US15/790,405 priority patent/US10084150B1/en
Priority to DE102017125633.4A priority patent/DE102017125633B4/de
Application granted granted Critical
Publication of CN106981585B publication Critical patent/CN106981585B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00—Organic light-emitting devices
    • H10K50/80—Constructional details
    • H10K50/805—Electrodes
    • H10K50/82—Cathodes
    • H10K50/822—Cathodes characterised by their shape
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00—Organic light-emitting devices
    • H10K50/80—Constructional details
    • H10K50/805—Electrodes
    • H10K50/82—Cathodes
    • H10K50/828—Transparent cathodes, e.g. comprising thin metal layers
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10—OLED displays
    • H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H10K59/121—Active-matrix OLED [AMOLED] displays characterised by the geometry or disposition of pixel elements
    • H10K59/1213—Active-matrix OLED [AMOLED] displays characterised by the geometry or disposition of pixel elements the pixel elements being TFTs
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10—OLED displays
    • H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H10K59/131—Interconnections, e.g. wiring lines or terminals
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/30—Devices specially adapted for multicolour light emission
    • H10K59/35—Devices specially adapted for multicolour light emission comprising red-green-blue [RGB] subpixels
    • H10K59/353—Devices specially adapted for multicolour light emission comprising red-green-blue [RGB] subpixels characterised by the geometrical arrangement of the RGB subpixels
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/80—Constructional details
    • H10K59/805—Electrodes
    • H10K59/8052—Cathodes
    • H10K59/80521—Cathodes characterised by their shape
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/60—Forming conductive regions or layers, e.g. electrodes
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K2102/00—Constructional details relating to the organic devices covered by this subclass
    • H10K2102/301—Details of OLEDs
    • H10K2102/302—Details of OLEDs of OLED structures
    • H10K2102/3023—Direction of light emission
    • H10K2102/3031—Two-side emission, e.g. transparent OLEDs [TOLED]
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K2102/00—Constructional details relating to the organic devices covered by this subclass
    • H10K2102/301—Details of OLEDs
    • H10K2102/351—Thickness
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10—OLED displays
    • H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H10K59/1201—Manufacture or treatment
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/10—Deposition of organic active material
    • H10K71/16—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering
    • H10K71/166—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using selective deposition, e.g. using a mask

Abstract

本发明实施例提供了一种透明OLED面板和显示装置，涉及显示技术领域，能够实现蒸镀出具有相互独立的镂空区域的阴极层结构，并且，能够在提高透过率的同时提高发光亮度。该透明OLED面板包括：阴极层，阴极层包括阴极区域和呈矩阵分布的多个镂空区域，阴极区域包括多个连续覆盖部和呈矩阵分布的多个窄部，每个连续覆盖部包括多个平坦区域和多个条状凸起区域，多个平坦区域沿第二方向排列，多个条状凸起区域沿第一方向延伸并沿第二方向排列；沿第一方向延伸的信号线；在垂直于面板所在平面的方向上，信号线的正投影和多个窄部中的部分窄部的正投影重叠，信号线的正投影和多个条状凸起区域中的部分条状凸起区域的正投影重叠。本方案主要用于实现透明显示。

Description

透明OLED面板和显示装置
【技术领域】
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种透明OLED面板和显示装置。
【背景技术】
透明有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode,OLED)显示产品是指使用有机发光材料实现显示功能，且具有透视效果的显示产品。透明OLED显示产品包括显示面板，显示面板上设置有阴极层，如图1所示，透明OLED显示产品的阴极层1具有镂空区域2，以实现透明显示效果。为制作图1中阴极层1的图案，需要使用掩膜版将镂空区域2遮挡，然后通过蒸镀工艺形成具有镂空区域2的阴极层1。按照传统的掩膜版设计思路，理想的掩膜版结构如图2所示，掩膜版上的具有与图1中的镂空区域2对应的金属遮挡结构30。然而，由于图3中的各金属遮挡结构30相互独立浮空，因此在技术上图3中所示的掩膜版是无法真正实现的，导致无法形成如图1中所示的具有相互独立的镂空区域2的阴极层1结构。
【发明内容】
有鉴于此，本发明实施例提供了一种透明OLED面板和显示装置，能够实现蒸镀出具有相互独立的镂空区域的阴极层结构，并且在提高透过率的同时提高发光亮度。
一方面，提供一种透明OLED面板，包括：
基板；
位于基板上的阵列层；
有机发光器件，位于所述阵列层背离所述基板一侧；其中，在远离所述基板的方向上，所述发光器件依次包含第一电极层、发光层和第二电极层，且所述第一电极层和所述第二电极层中的至少一个为阴极层，所述阴极层包括阴极区域和呈矩阵分布的多个镂空区域，所述阴极区域包括多个连续覆盖部和呈矩阵分布的多个窄部，在每行所述窄部中，多个所述窄部沿第一方向延伸并沿与所述第一方向垂直的第二方向排列，每相邻的两行镂空区域之间设置有一个所述连续覆盖部，在每行镂空区域中，每相邻的两个镂空区域之间设置有一个所述窄部，每个所述连续覆盖部包括多个平坦区域和多个条状凸起区域，所述多个平坦区域沿所述第二方向排列，所述多个条状凸起区域沿所述第一方向延伸并沿所述第二方向排列，任意相邻的两个所述条状凸起区域之间设置有一个所述平坦区域，任意相邻的两个所述平坦区域之间设置有一个所述条状凸起区域，所述条状凸起区域的阴极层厚度大于所述平坦区域的阴极层厚度；
沿所述第一方向延伸的信号线；
在垂直于所述面板所在平面的方向上，所述信号线的正投影和所述多个窄部中的至少部分窄部的正投影重叠，所述信号线的正投影和所述多个条状凸起区域中的至少部分条状凸起区域的正投影重叠。
另一方面，本发明实施例还提供一种显示装置，包括上述的透明OLED面板。
本发明实施例中的透明OLED面板和显示装置，能够实现蒸镀出具有相互独立的镂空区域的阴极层结构，并且，使能够影响透过率的窄部和阴极层的条状凸起区域均与信号线重叠，使阴极层对于透过率的影响降低，能够在提高透过率的同时提高发光亮度。
【附图说明】
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。
图1为现有技术中一种透明OLED面板的阴极层结构示意图；
图2为现有技术中一种理想的用于阴极层蒸镀的掩膜版结构示意图；
图3为现有技术中一种用于阴极层蒸镀的掩膜版结构示意图；
图4为使用图3中的掩膜版进行第一次蒸镀后得到的阴极层结构示意图；
图5为使用图3中的掩膜版进行第二次蒸镀后得到的阴极层结构示意图；
图6为图5中AA’向的剖面结构示意图；
图7为现有技术中一种信号线与子像素单元对位后的结构示意图；
图8为现有技术中一种阴极层结构与子像素单元对位后的一种结构示意图；
图9为图8中BB’向的剖面结构示意图；
图10为现有技术中一种阴极层结构与子像素单元对位后的另一种结构示意图；
图11为图10中CC’向的剖面结构示意图；
图12为本发明实施例中一种透明OLED面板的剖面结构示意图；
图13为本发明实施例中一种透明OLED面板中阴极层的结构示意图；
图14为图13中DD’向的剖面结构示意图；
图15为图13中阴极层与信号线对位后的结构示意图；
图16为图15中EE’向的剖面结构示意图；
图17为本发明实施例中一种用于阴极层蒸镀的掩膜版结构示意图；
图18为使用图17中的掩膜版进行第一次蒸镀后得到的阴极层结构示意图；
图19为本发明实施例中一种透明OLED面板中阴极层与信号线对位后的部分结构示意图；
图20为本发明实施例中另一种透明OLED面板中阴极层与信号线对位后的部分结构示意图；
图21为本发明实施例中另一种透明OLED面板中阴极层与信号线对位后的部分结构示意图；
图22为本发明实施例中一种显示装置的结构示意图。
【具体实施方式】
为了更好的理解本发明的技术方案，下面结合附图对本发明实施例进行详细描述。
应当明确，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。
在本发明实施例中使用的术语是仅仅出于描述特定实施例的目的，而非旨在限制本发明。在本发明实施例和所附权利要求书中所使用的单数形式的“一种”、“所述”和“该”也旨在包括多数形式，除非上下文清楚地表示其他含义。
在阐述本发明实施例之前，请参照图3、图4、图5、图6和图7，图3为现有技术中一种用于阴极层蒸镀的掩膜版结构示意图，图4为使用图3中的掩膜版进行第一次蒸镀后得到的阴极层结构示意图，图5为使用图3中的掩膜版进行第二次蒸镀后得到的阴极层结构示意图，图6为图5中AA’向的剖面结构示意图，图7为现有技术中一种信号线与子像素单元对位后的结构示意图。如图3所示，现有技术中掩膜版3上具有T形开口4，进行蒸镀工艺后，形成如图4中所示的阴极层结构，然后移动掩膜版3，改变掩膜版3与阵列基板的相对位置，进行第二次蒸镀工艺，形成如图5中所示的阴极层1结构，使阴极层1具有多个独立的镂空区域2，如图7所示，阵列基板包括呈矩阵分布的多个子像素单元6，每个子像素单元6对应一个有机发光器件，每个子像素单元6作为最小显示单元，相邻的两个子像素单元6的交界处设置信号线7。
在实现本发明过程中，发明人发现现有技术中至少存在如下问题：
为保证得到的阴极层1的完整性，两次蒸镀会有重复的部分，如图5和6所示，通过两次蒸镀工艺得到的阴极层1具有条状凸起区域51，阴极层1的条状凸起区域51经过两次蒸镀，因此该处的阴极层1厚度较大。
在显示面板的工作过程中，镂空区域2用于实现透明效果，蒸镀有阴极层材料的区域用于实现有机发光器件发光，以实现显示功能。因此，在相邻的两个子像素单元6的交界处设置信号线7，透过率较低。
请参照图8和图9，图8为现有技术中一种阴极层结构与子像素单元对位后的一种结构示意图，图9为图8中BB’向的剖面结构示意图。现有技术中包括两种将阴极层1与子像素单元对位的方式，一种方式是如图8和图9所示，使阴极层1上位于相邻的两个镂空区域2之间的部分设置于子像素单元6的交界处，以提高透过率，但是这样会使条状凸起区域51位于子像素单元6的中间位置，由于阴极层1的厚度与阴极层1的透过率负相关，因此条状凸起区域51位于子像素单元6的中间位置时，会导致该子像素单元6的发光亮度降低，并且，由于相邻的两个子像素单元6的交界处会设置对透过率有不良影响的信号线7，而信号线7与条状凸起区域51无交叠，因此进一步降低了子像素单元6的发光亮度，为了解决该问题，可以减小条状凸起区域51的宽度，来降低条状凸起区域51对于发光亮度的不良影响，但是，条状凸起区域51的宽度越小，则阴极层越容易断开，从而影响信号在整个阴极层上的传输，除了会增加信号传输延迟，从而降低显示画面的响应速度外，还会使信号在传输至目标位置的过程中经过更远的路程，从而产生更大的损耗，即，使阴极层在不同位置处接收到的电压值有较大差异，导致不同位置处的显示亮度的均一性较差；另一种方式请参照图10和图11，图10为现有技术中一种阴极层结构与子像素单元对位后的另一种结构示意图，图11为图10中CC’向的剖面结构示意图。使阴极层1的条状凸起区域51位于相邻的两个子像素单元6交界处，以使条状凸起区域51和子像素单元6交界处以及信号线7交叠，从而提高子像素单元6的发光亮度，但是这样会使阴极层1上镂空区域2对应更多的信号线7，导致透过率的降低，为了解决该问题，可以减小镂空区域2之间的阴极层宽度，但是，镂空区域2之间的阴极层用于传输电流，若此处的阴极层宽度较小，则电阻越大，不利于电流在整个阴极层上的传输，另外，也可以通过透明导电材料来制作信号线7，以提高透过率，实现更好的透明显示效果，但是，透明导电材料的导电性能与金属材料相比较差，会增加信号传输延迟，信号传输延迟会降低透明OLED面板显示画面的响应速度。
针对发明人的以上发现，本发明实施例提供了一种透明OLED面板和显示装置，能够在提高透过率的同时提高发光亮度。请参照图12-图16，图12为本发明实施例中一种透明OLED面板的剖面结构示意图，图13为本发明实施例中一种透明OLED面板中阴极层的结构示意图，图14为图13中DD’向的剖面结构示意图，图15为图13中阴极层与信号线对位后的结构示意图，图16为图15中EE’向的剖面结构示意图。本发明实施例提供一种透明OLED面板，包括：基板101；位于基板101上的阵列层102，有机发光器件103，位于阵列层102背离基板101一侧，其中，在远离基板101的方向上，有机发光器件103依次包含第一电极层104、发光层105和第二电极层106，且第一电极层104和第二电极层106中的至少一个为阴极层，阴极层的结构如图13所示，阴极层包括阴极区域(图13的点状填充区域)和呈矩阵分布的多个镂空区域2，阴极区域包括多个连续覆盖部11和呈矩阵分布的多个窄部12，在每行窄部12中，多个窄部12沿第一方向h1延伸并沿与第一方向h1垂直的第二方向h2排列，每相邻的两行镂空区域2之间设置有一个连续覆盖部11，在每行镂空区域2中，每相邻的两个镂空区域2之间设置有一个窄部12，如图13和图14所示，每个连续覆盖部11包括多个平坦区域52和多个条状凸起区域51，多个平坦区域52沿第二方向h2排列，多个条状凸起区域51沿第一方向h1延伸并沿第二方向h2排列，任意相邻的两个条状凸起区域51之间设置有一个平坦区域52，任意相邻的两个平坦区域52之间设置有一个条状凸起区域51，请参照图14，条状凸起区域51的阴极层厚度c3大于平坦区域52的阴极层厚度c4；请参照图15和图16，上述透明OLED面板还包括沿第一方向h1延伸的信号线7；在垂直于面板所在平面的方向上，信号线7的正投影和多个窄部12中的至少部分窄部12的正投影重叠，信号线7的正投影和多个条状凸起区域51中的至少部分条状凸起区域51的正投影重叠。任意相邻的两个连续覆盖部11通过窄部12连接，以实现整个阴极层的电连接。
以下通过阴极层的蒸镀方法进一步说明本发明实施例中的透明OLED面板：
请参照图17和图18，图17为本发明实施例中一种用于阴极层蒸镀的掩膜版结构示意图，图18为使用图17中的掩膜版进行第一次蒸镀后得到的阴极层结构示意图。本发明实施例中，在阴极层蒸镀的过程中，使用如图17中所示的掩膜版3，掩膜版3具有非对称的T形开口4，开口4具有条形部41和矩形部42，在条形部41的延伸方向上，条形部41的中心线偏离矩形部42的中心线一定距离a，使用如图17中所示的该掩膜版3进行第一次蒸镀工艺，阴极材料穿过掩膜版3的T形开口4被蒸镀在面板上，形成如图18中所示的阴极层结构，然后移动掩膜版3，并改变掩膜版3与面板的相对位置，使掩膜版3的开口4对位于图18中所示的阴极层结构中未蒸镀的位置，进行第二次蒸镀工艺，阴极材料穿过掩膜版3的T形开口4被蒸镀在面板上，形成如图13中所示的阴极层结构。这样，最终形成的阴极层中，条状凸起区域51即为两次蒸镀重叠的区域，平坦区域52即为一次蒸镀的区域，请参照图14，因此条状凸起区域51的阴极层厚度c3大于平坦区域52的阴极层厚度c4。如图17所示，根据子像素单元的宽度来设置距离a，使距离a约等于子像素单元的宽度的一半的奇数倍，由于信号线会设置于相邻子像素单元的交界处，因此，在阴极层的图案与子像素单元进行对位后，请参照图15和图16，即可以使窄部12和条状凸起区域51恰好位于信号线7所在的位置。其中，信号线7可以为不透光的金属材料，以保证信号传输延迟较小，从而提高显示画面的响应速度，信号线7与窄部12重叠，可以提高透过率，并且不需要减小窄部12的宽度，从而保证窄部12的导电性能，进而使阴极层的信号能够均匀地传输至各子像素单元的位置，保证各子像素单元的显示亮度均一性，如图16所示，条状凸起区域51与信号线7重叠，可以提高亮度，并且，不需要减小条状凸起区域51的宽度，从而使阴极层不容易在两次蒸镀重叠的区域断开，保证阴极层良好的导电性，即使阴极层的电流能够均匀地传输至各子像素单元的位置，保证各子像素单元的显示亮度均一性。
本发明实施例中的透明OLED面板，能够实现蒸镀出具有相互独立的镂空区域的阴极层结构，并且，使能够影响透过率的窄部和阴极层的条状凸起区域均与信号线重叠，与现有技术中使信号线与条状凸起区域或窄部重叠的方案相比，使阴极层对于透过率的影响降低，能够在提高透过率的同时提高发光亮度。
可选地，请参照图19和图20，图19为本发明实施例中一种透明OLED面板中阴极层与信号线对位后的部分结构示意图，图20为本发明实施例中另一种透明OLED面板中阴极层与信号线对位后的部分结构示意图。上述面板包括呈矩阵分布的多个像素单元60(图19和图20中仅示意了两个像素单元60)，每个条状凸起区域51位于第二方向h2上相邻的两个像素单元60交界处。像素单元60独立发光，相邻的像素单元60交界处的透过率较低，且相邻的像素单元60交界处可以用于设置同样对透过率有不良影响的信号线7，因此使对透过率产生不良影响的条状凸起区域51设置于像素单元60的交界处，即将对透过率产生不良影响的结构重叠设置，可以改善条状凸起区域51对于发光亮度的不良影响，从而提高发光亮度。
可选地，请参照图19和图20，每个像素单元60包括沿第二方向h2排列的三个子像素单元6，每个窄部12位于三个子像素单元6中相邻的两个子像素单元6交界处。有机发光器件包括多个有机发光器件单元，每个子像素单元6对应一个有机发光器件单元，子像素单元6为最小发光单元，每个子像素单元6独立发光，相邻的子像素单元6交界处的透过率较低，且相邻的子像素单元6交界处可以用于设置同样对透过率有不良影响的信号线7，因此使对透过率产生不良影响的窄部12设置于子像素单元6的交界处，即将对透过率产生不良影响的结构重叠设置，可以提高透过率。
可选地，请参照图19、图20和图21，图21为本发明实施例中另一种透明OLED面板中阴极层与信号线对位后的部分结构示意图，在相邻的一个平坦区域52和一个窄部12中，平坦区域52沿第一方向h1延伸的中心线与窄部12沿第一方向h1延伸的中心线之间的距离为d；每个子像素单元6在第二方向h2上的宽度为e；45％×e×f<d<55％×e×f，其中，f为奇数，即d约等于e的一半的奇数倍。例如，在图19和图20所示的结构中，f＝1，d约等于e的一半，在图21所示的结构中，f＝3，d约等于d的一半的三倍。该结构下，可使窄部12恰好位于相邻的两个子像素单元6的交界处，相邻的子像素单元6交界处的透过率较低，因此在此处设置窄部12能够提高透过率，而条状凸起区域51恰好位于相邻的两个像素单元60的交界处，相邻的像素单元60交界处的透过率较低，因此在此处设置条状凸起区域51能够提高透过率。
可选地，f＝1，该结构下，可以使更多的信号线7与窄部12以及凸起区域重叠，从而能够进一步提高透过率。
可选地，请参照图13，在所述第二方向h2上，任意两个窄部12间隔距离c1之差小于5微米，窄部间隔距离c1为在第二方向h2上相邻的两个窄部12之间的距离，任意两个条状凸起区域51间隔距离c2之差小于5微米，条状凸起区域间隔距离c2为在第二方向h2上相邻的两个条状凸起区域51之间的距离。任意两个窄部间隔距离c1之差越大，则表示镂空区域2在第二方向h2上的分布越不均匀，镂空区域2用于实现透视效果，因此，任意两个窄部间隔距离c1之差小于5微米，即在第二方向h2上，使镂空区域2趋近于等间距均匀分布，以改善透视效果的均一性；任意两个条状凸起区域间隔距离c2之差越大，则表示连续覆盖部11上低透过率部分(即条状凸起区域51)的分布越不均匀，连续覆盖部11用于实现发光效果，因此，任意两个条状凸起区域间隔距离c2之差小于5微米，即在第二方向h2上，使连续覆盖部11上低透过率部分趋近于等间距均匀分布，以改善发光亮度的均一性。
可选地，请参照图19，每相邻的两列子像素单元6之间设置有至少一条信号线7，该信号线7包括数据线，一列数据线对应控制一列子像素单元6。另外，每相邻的两列子像素单元6之间的信号线7可以为两条或更多的数量，本实施例中，信号线7除了可以包括数据线，还可以包括其他种类的信号线，例如电源线，电源线用于为有机发光器件提供电能以驱动有机发光器件发光，数据线用于为有机发光器件的驱动电路提供数据电压，有机发光器件的驱动电路根据数据电压控制有机发光器件的驱动电流值，以实现显示功能，本发明实施例对于信号线的类型不做限定，本领域技术人员可以根据需求进行设置。在图19所示的结构中，每列子像素单元6均需要设置与之对应的信号线7，通过该信号线7向对应的一列子像素单元6传输相对应的信号，相邻的子像素单元6交界处的透过率较低，因此在每相邻的两列子像素单元6交界处均设置与这两列子像素单元6中的其中一列所对应的信号线7，可以最大程度地降低信号线7对于透过率的影响，进一步提高透过率和发光亮度。
可选地，请参照图20，每间隔两列子像素单元6设置有至少一条信号线7，该信号线7包括数据线，与图19中所示的结构不同，在图20所示的结构中，一列数据线可以对应控制与其相邻的两列像素单元6，因此可以每间隔两列子像素单元6设置相对应的信号线7。在图20的结构中，信号线7同样与窄部12和条状凸起区域51重叠，从而实现提高透过率的同时提高发光亮度；另外，即便在部分子像素单元6的交界处没有设置信号线7，除阴极层之外的部分在子像素单元6的交界位置也会比子像素单元6的中间区域具有更低的透过率，因此，使窄部12位于未设置信号线7的子像素单元6交界处，同样能够提高透过率，使条状凸起区域51位于未设置信号线7的子像素单元6交界处，同样能够提高发光亮度。
可选地，请参照图14，条状凸起区域51的阴极层厚度c3为平坦区域52的阴极层厚度c4的1.8至2.2倍，阴极层厚度为垂直于面板方向上的尺寸，由于条状凸起区域51会同时经过两次蒸镀工艺，而平坦区域52仅经过一次蒸镀工艺，因此条状凸起区域51的阴极层厚度c3约为平坦区域52的阴极层厚度c4的2倍。另外，需要说明的是，在图14中示意的平坦区域52的厚度相同，但是在实际工艺过程中，由于工艺误差等影响，两次蒸镀所形成的平坦区域52的厚度可能会不同，例如，第一次蒸镀后所形成的平坦区域52的阴极层厚度为28纳米，而第二次厚度后所形成的平坦区域52的阴极层厚度为33纳米，条状凸起区域51的阴极层厚度为第一次蒸镀后所形成的平坦区域52的阴极层厚度与第二次蒸镀后所形成的平坦区域52的阴极层厚度之和，即为61纳米。因此，这里的平坦区域52的阴极层厚度c4为整个平坦区域52的阴极层平均厚度，即条状凸起区域51的阴极层厚度为平坦区域52的阴极层平均厚度的1.8至2.2倍。
可选地，请参照图14，条状凸起区域51的阴极层厚度c3为10-60纳米，条状凸起区域51的阴极层厚度c3由平坦区域52的阴极层厚度c4所决定，若阴极层厚度太小，则电阻太大，在透明OLED面板工作过程中，信号需要在整个阴极层进行传输，而较大的阴极层电阻会对信号的传输产生不良影响，除了会增加信号传输延迟，从而降低显示画面的响应速度外，还会使信号在传输至不同位置的过程中产生较大损耗，距离阴极层电压信号源越近位置处的阴极层得到的电压值越大，距离阴极层电压信号源越远位置处的阴极层得到的电压值越小，即使阴极层在不同位置处接收到的电压值有较大差异，从而使显示面板整体的显示亮度的均一性较差，若阴极层厚透太大，则会影响阴极层的透过率，从而降低显示亮度，为兼顾两方面的因素，设置平坦区域52的阴极层厚度c4为15纳米左右，条状凸起区域51的阴极层厚度c3为10-60纳米，优选为30纳米。
可选地，请参照图20，条状凸起区域51在第二方向h2上的宽度d1为2-20微米。条状凸起区域太窄容易使阴极层断开，影响信号在整个阴极层上的传输，除了会增加信号传输延迟，从而降低显示画面的响应速度外，还会使阴极层在不同位置处接收到的电压值有较大差异，例如，阴极层上的第一位置和第二位置与阴极层电压信号源之间的距离相等，但是第一位置与阴极层电压信号源之间的最短路径上的阴极层均连续，因此阴极层电压信号源可以通过该最短路径传输至第一位置，而第二位置与阴极层电压信号源之间的最短路径上的阴极层具有断开区域，阴极层电压信号源需要绕过阴极层断开区域经过更远的路径传输至第二位置，信号传输的路径越远，则损耗越大，导致阴极层在第一位置和第二位置处接收到的电压值有较大差异，从而影响显示，使显示面板整体的显示亮度的均一性较差；而条状凸起区域太宽会降低透过率，从而带来显示亮度的降低，为兼顾两方面的因素，设置条状凸起区域51在第二方向h2上的宽度d1为2-20微米。
可选地，请参照图20，窄部12在第二方向h2上的宽度d2为5-30微米。在第一方向h1上，不同的连续覆盖部11通过窄部12电连接，在透明OLED面板工作过程中，信号需要在整个阴极层进行传输，而窄部12用于不同连续覆盖部11之间的导电，如果窄部12在第二方向h2上的宽度d2较小，则窄部12的电阻较大，不利于信号在阴极层上的传输，除了会增加信号传输延迟，从而降低显示画面的响应速度外，还会使信号在传输至不同位置的过程中产生较大损耗，距离阴极层电压信号源越近位置处的阴极层得到的电压值越大，距离阴极层电压信号源越远位置处的阴极层得到的电压值越小，即使阴极层在不同位置处接收到的电压值有较大差异，从而使显示面板整体的显示亮度的均一性较差，如果窄部12在第二方向h2上的宽度d2较大，则会导致透过率较低，为兼顾两方面的因素，设置窄部12在第二方向h2上的宽度d2为5-30微米。
可选地，请参照图20，镂空区域2在第二方向h2上的长度d3为10-100微米。镂空区域2在第二方向h2上的长度d3由子像素单元6在第二方向h2上的宽度决定，例如，若设置三个子像素单元6对应一个镂空区域2，则镂空区域2在第二方向h2上的长度d3等于三个子像素单元6在第二方向h2上的宽度减去窄部12的预留宽度，根据子像素单元6的宽度，设置镂空区域2在第二方向h2上的长度d3为10-100微米。
可选地，请参照图20，镂空区域2在第一方向h1上的宽度d4为10-100微米。若镂空区域2在第一方向h1上的宽度d4越小，则透明度越低，发光亮度越高；若镂空区域2在第一方向h1上的宽度d4越大，则透明度越高，发光亮度越低。为兼顾两方面的因素，设置镂空区域2在第一方向h1上的宽度d4为10-100微米。并且镂空区域2的宽度d4与窄部12的宽度d2相关，镂空区域2的宽度d4越大，则窄部12的宽度d2就越小，因此需要综合考虑窄部12对于阴极层导电性能的影响来确定镂空区域2的宽度d4。
需要说明的是，在本发明实施例中，每个子像素单元6对应一个有机发光器件，上述阴极层作为有机发光器件的阴极。本实施例中仅介绍了透明OLED面板中阴极层的结构以及阴极层与信号线、像素单元和子像素单元之间的关系，对于透明OLED面板中的其他结构不做限定。
请参照图22，图22为本发明实施例中一种显示装置的结构示意图，本发明实施例提供一种显示装置，包括上述的透明OLED面板600。
其中，透明OLED面板600的具体结构和原理与上述实施例相同，在此不再赘述。显示装置可以是例如触摸显示屏、手机、平板计算机、笔记本电脑、电纸书或电视机等任何具有显示功能的电子设备。
本发明实施例中的显示装置，能够实现蒸镀出具有相互独立的镂空区域的阴极层结构，并且，使能够影响透过率的窄部和阴极层的条状凸起区域均与信号线重叠，使阴极层对于透过率的影响降低，与现有技术中使信号线与条状凸起区域或窄部重叠的方案相比，能够在提高透过率的同时提高发光亮度。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明保护的范围之内。

Claims (15)

1.一种透明OLED面板，包括：
基板；
位于基板上的阵列层；
有机发光器件，位于所述阵列层背离所述基板一侧，其中，在远离所述基板的方向上，所述有机发光器件依次包含第一电极层、发光层和第二电极层，且所述第一电极层和所述第二电极层中的至少一个为阴极层，其特征在于：
所述阴极层包括阴极区域和呈矩阵分布的多个镂空区域，所述阴极区域包括多个连续覆盖部和呈矩阵分布的多个窄部，在每行所述窄部中，多个所述窄部沿第一方向延伸并沿与所述第一方向垂直的第二方向排列，每相邻的两行镂空区域之间设置有一个所述连续覆盖部，在每行镂空区域中，每相邻的两个镂空区域之间设置有一个所述窄部，每个所述连续覆盖部包括多个平坦区域和多个条状凸起区域，所述多个平坦区域沿所述第二方向排列，所述多个条状凸起区域沿所述第一方向延伸并沿所述第二方向排列，任意相邻的两个所述条状凸起区域之间设置有一个所述平坦区域，任意相邻的两个所述平坦区域之间设置有一个所述条状凸起区域，所述条状凸起区域的阴极层厚度大于所述平坦区域的阴极层厚度；
沿所述第一方向延伸的信号线；
在垂直于所述面板所在平面的方向上，所述信号线的正投影和所述多个窄部中的至少部分窄部的正投影重叠，所述信号线的正投影和所述多个条状凸起区域中的至少部分条状凸起区域的正投影重叠。
2.根据权利要求1所述的透明OLED面板，其特征在于，
所述面板包括呈矩阵分布的多个像素单元，每个所述条状凸起区域位于所述第二方向上相邻的两个像素单元交界处。
3.根据权利要求2所述的透明OLED面板，其特征在于，
每个所述像素单元包括沿所述第二方向排列的三个子像素单元，每个所述窄部位于所述三个子像素单元中相邻的两个子像素单元交界处。
4.根据权利要求3所述的透明OLED面板，其特征在于，
在相邻的一个平坦区域和一个窄部中，平坦区域沿所述第一方向延伸的中心线与窄部沿所述第一方向延伸的中心线之间的距离为d；
每个所述子像素单元在所述第二方向上的宽度为e；
45％×e×f＜d＜55％×e×f，其中，f为奇数。
5.根据权利要求4所述的透明OLED面板，其特征在于，f＝1。
6.根据权利要求4所述的透明OLED面板，其特征在于，
在所述第二方向上，任意两个窄部间隔距离之差小于5微米，所述窄部间隔距离为在所述第二方向上相邻的两个窄部之间的距离，任意两个条状凸起区域间隔距离之差小于5微米，所述条状凸起区域间隔距离为在所述第二方向上相邻的两个条状凸起区域之间的距离。
7.根据权利要求3所述的透明OLED面板，其特征在于，
每相邻的两列子像素单元之间设置有至少一条所述信号线。
8.根据权利要求3所述的透明OLED面板，其特征在于，
每间隔两列子像素单元设置有至少一条所述信号线。
9.根据权利要求1至8中任意一项所述的透明OLED面板，其特征在于，
所述条状凸起区域的阴极层厚度为所述平坦区域的阴极层厚度的1.8至2.2倍。
10.根据权利要求9所述的透明OLED面板，其特征在于，
所述条状凸起区域的阴极层厚度为10-60纳米。
11.根据权利要求1至8中任意一项所述的透明OLED面板，其特征在于，
所述条状凸起区域在所述第二方向上的宽度为2-20微米。
12.根据权利要求1至8中任意一项所述的透明OLED面板，其特征在于，
所述窄部在所述第二方向上的宽度为5-30微米。
13.根据权利要求1至8中任意一项所述的透明OLED面板，其特征在于，
所述镂空区域在所述第二方向上的长度为10-100微米。
14.根据权利要求1至8中任意一项所述的透明OLED面板，其特征在于，
所述镂空区域在所述第一方向上的宽度为10-100微米。
15.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1至14中任意一项所述的透明OLED面板。
CN201710367838.8A 2017-05-23 2017-05-23 透明oled面板和显示装置 Active CN106981585B (zh)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710367838.8A CN106981585B (zh) 2017-05-23 2017-05-23 透明oled面板和显示装置
US15/790,405 US10084150B1 (en) 2017-05-23 2017-10-23 Transparent OLED panel and display device
DE102017125633.4A DE102017125633B4 (de) 2017-05-23 2017-11-02 Transparentes OLED-Feld und Anzeigevorrichtung

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710367838.8A CN106981585B (zh) 2017-05-23 2017-05-23 透明oled面板和显示装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN106981585A CN106981585A (zh) 2017-07-25
CN106981585B true CN106981585B (zh) 2019-02-12

Family

ID=59342498

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201710367838.8A Active CN106981585B (zh) 2017-05-23 2017-05-23 透明oled面板和显示装置

Country Status (3)

Country Link
US (1) US10084150B1 (zh)
CN (1) CN106981585B (zh)
DE (1) DE102017125633B4 (zh)

Families Citing this family (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111628101A (zh) 2015-10-26 2020-09-04 Oti照明公司 用于图案化表面上覆层的方法和包括图案化覆层的装置
KR20230117645A (ko) 2017-04-26 2023-08-08 오티아이 루미오닉스 인크. 표면의 코팅을 패턴화하는 방법 및 패턴화된 코팅을포함하는 장치
CN110832660B (zh) 2017-05-17 2023-07-28 Oti照明公司 在图案化涂层上选择性沉积传导性涂层的方法和包括传导性涂层的装置
US11751415B2 (en) 2018-02-02 2023-09-05 Oti Lumionics Inc. Materials for forming a nucleation-inhibiting coating and devices incorporating same
CN110349993A (zh) * 2018-04-02 2019-10-18 上海和辉光电有限公司 一种透明显示面板、掩膜版及显示装置
WO2020014933A1 (zh) * 2018-07-19 2020-01-23 深圳市柔宇科技有限公司 柔性显示面板及其制作方法、显示装置及掩膜版
CN109148537B (zh) * 2018-08-24 2021-12-07 维沃移动通信有限公司 显示面板及制备方法以及电子设备
CN109239955A (zh) * 2018-11-20 2019-01-18 惠科股份有限公司 一种显示面板的测量方法、***及显示装置
CN111490068B (zh) * 2019-01-29 2022-07-26 京东方科技集团股份有限公司 显示面板及其制造方法、显示装置
CN113785411B (zh) 2019-03-07 2023-04-11 Oti照明公司 用于形成成核抑制涂层的材料和结合所述成核抑制涂层的装置
CN110767085B (zh) * 2019-03-29 2021-11-30 昆山国显光电有限公司 显示基板、显示面板及显示装置
CN109962096B (zh) * 2019-04-15 2021-02-23 京东方科技集团股份有限公司 显示背板及其制作方法、显示装置
CN114097102B (zh) 2019-06-26 2023-11-03 Oti照明公司 包括具有光衍射特征的光透射区域的光电设备
US11832473B2 (en) 2019-06-26 2023-11-28 Oti Lumionics Inc. Optoelectronic device including light transmissive regions, with light diffraction characteristics
CN112216805A (zh) * 2019-07-12 2021-01-12 陕西坤同半导体科技有限公司 光罩结构、阴极膜层的形成方法及阵列基板上的阴极膜层
US20220278299A1 (en) 2019-08-09 2022-09-01 Oti Lumionics Inc. Opto-electronic device including an auxiliary electrode and a partition
CN110611054A (zh) * 2019-08-26 2019-12-24 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 一种掩膜板、显示面板及显示面板的制备方法
CN110534541A (zh) 2019-08-30 2019-12-03 武汉天马微电子有限公司 一种电致发光显示面板及显示装置
CN110596979B (zh) * 2019-09-27 2022-07-08 厦门天马微电子有限公司 一种阵列基板及显示装置
CN110649180B (zh) 2019-09-30 2021-10-26 武汉天马微电子有限公司 一种显示面板的制作方法、显示面板和显示装置
CN110942041B (zh) * 2019-11-29 2023-11-28 京东方科技集团股份有限公司 显示基板及其制作方法和显示装置
CN111211244B (zh) * 2020-01-13 2023-03-03 Oppo广东移动通信有限公司 一种oled屏及其金属阴极层
CN111969123B (zh) * 2020-08-17 2023-01-13 维沃移动通信有限公司 显示模组和电子设备
CN112151584B (zh) * 2020-09-21 2022-07-22 Oppo广东移动通信有限公司 显示屏和终端
CN112201680B (zh) * 2020-09-30 2023-05-19 武汉天马微电子有限公司 一种显示面板及显示装置
CN114975556A (zh) * 2020-12-23 2022-08-30 武汉天马微电子有限公司 一种显示模组和显示装置
CN115576442A (zh) * 2021-07-06 2023-01-06 京东方科技集团股份有限公司 显示基板和触控显示装置
CN113809134A (zh) * 2021-08-26 2021-12-17 湖北长江新型显示产业创新中心有限公司 一种显示面板及显示装置
WO2023024086A1 (zh) * 2021-08-27 2023-03-02 京东方科技集团股份有限公司 显示基板及显示装置
CN114438457A (zh) * 2021-12-27 2022-05-06 长沙惠科光电有限公司 掩膜板结构、oled显示面板与其制作方法及显示装置
WO2024000310A1 (zh) * 2022-06-29 2024-01-04 京东方科技集团股份有限公司 透明显示面板及显示装置

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005123153A (ja) * 2003-09-24 2005-05-12 Fuji Photo Film Co Ltd エレクトロルミネッセンス表示パネル、エレクトロルミネッセンス表示装置およびそれらの製造方法
CN102130300A (zh) * 2010-09-16 2011-07-20 昆山维信诺显示技术有限公司 一种有机电致发光器件,显示器及其应用
CN102655154A (zh) * 2012-02-27 2012-09-05 京东方科技集团股份有限公司 一种otft阵列基板、显示装置及制作方法
CN104134681A (zh) * 2014-06-17 2014-11-05 京东方科技集团股份有限公司 一种有机发光二极管显示面板及其制备方法、掩膜板

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103187432A (zh) 2013-03-20 2013-07-03 北京京东方光电科技有限公司 一种掩膜板、oled透明显示面板及其制造方法
CN104505373B (zh) * 2014-12-19 2017-11-21 上海天马微电子有限公司 一种显示面板和显示装置及显示面板的制造方法
CN105552107A (zh) 2016-02-29 2016-05-04 上海天马有机发光显示技术有限公司 一种显示面板、制作方法以及电子设备

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005123153A (ja) * 2003-09-24 2005-05-12 Fuji Photo Film Co Ltd エレクトロルミネッセンス表示パネル、エレクトロルミネッセンス表示装置およびそれらの製造方法
CN102130300A (zh) * 2010-09-16 2011-07-20 昆山维信诺显示技术有限公司 一种有机电致发光器件,显示器及其应用
CN102655154A (zh) * 2012-02-27 2012-09-05 京东方科技集团股份有限公司 一种otft阵列基板、显示装置及制作方法
CN104134681A (zh) * 2014-06-17 2014-11-05 京东方科技集团股份有限公司 一种有机发光二极管显示面板及其制备方法、掩膜板

Also Published As

Publication number Publication date
DE102017125633B4 (de) 2022-09-15
CN106981585A (zh) 2017-07-25
US10084150B1 (en) 2018-09-25
DE102017125633A1 (de) 2018-11-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN106981585B (zh) 透明oled面板和显示装置
CN106409870B (zh) 有机发光显示装置
JP2024023305A (ja) 表示装置
CN104598074B (zh) 一种触控面板、触控显示装置及触控面板的制作方法
EP1168448B1 (en) Full color organic EL display panel
TWI263956B (en) Image display device
CN101645492B (zh) 沉积发光层的方法、有机电致发光器件及其制造方法
JP5845322B2 (ja) 画素配置方法及び表示パネル
CN103609108B (zh) 自动立体显示设备
CN108598122A (zh) 显示基板及其制作方法、显示装置
US20190189699A1 (en) Flexible touch panel and oled display panel
CN207320119U (zh) 一种显示面板和装置
EP1346610A1 (en) Electroluminescent color display panel
CN103021334A (zh) 一种像素结构、像素单元结构、显示面板及显示装置
CN109817664B (zh) 显示基板及其制备方法、显示面板
CN108010945A (zh) 显示面板和显示装置
US10396130B2 (en) Display substrate including sub-electrodes having trapezium shape and method for manufacturing the same
CN101427377A (zh) 电光器件及其制造方法
CN108010449A (zh) 一种显示面板及其制作方法、显示装置
CN108281464B (zh) 显示面板及显示装置
CN110061147A (zh) 显示面板及其制作方法、显示装置
CN108492771A (zh) 双面显示装置及其控制方法
CN108183121A (zh) 柔性显示面板及其制作方法
CN109449190A (zh) 一种柔性显示面板及oled显示装置
CN109920827A (zh) 阵列基板及其制作方法、显示面板、显示装置及控制方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant