CN110942041B - 显示基板及其制作方法和显示装置 - Google Patents

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Abstract

本公开公开了一种显示基板及其制作方法和显示装置，该显示基板包括依次层叠的阵列基板、阳极层、发光层和位于发光层上的至少一层膜层，所述至少一层膜层包括目标膜层，所述显示基板具有：第一显示区域和第二显示区域，在所述第一显示区域内，所述目标膜层上具有镂空，在所述第二显示区域内，所述目标膜层为无镂空结构。本公开能增大了显示基板的透光率，以提高屏下面部识别的识别效率。

Description

显示基板及其制作方法和显示装置
技术领域
本公开涉及显示技术领域，特别涉及一种显示基板及其制作方法和显示装置。
背景技术
随着用户对于高屏占比终端的外观美学和视觉感观的体验需求，全面屏移动终端已经逐渐成为一种发展趋势，并逐步面向市场。为提升移动终端的整机屏占比及其美观性，屏下面部识别技术也得到逐步发展。
相关技术中的屏下面部识别技术是利用在显示面板上的红外相机和红外发光器件实现的，具体过程为：红外发光器件发出红外光照射到人脸，经人脸反射至红外相机接收，红外相机接收反射的红外光以获取人脸的特征信息，从而进行后续识别。其中，红外相机放置在显示面板下方，无需在显示面板上设置“刘海区”作为红外相机的载体，以提高屏占比。
发明内容
本公开实施例提供了一种显示基板及其制作方法和显示装置，能增大显示基板部分区域的透光率，以提高屏下面部识别的识别效率。所述技术方案如下：
本公开实施例提供了一种显示基板，所述显示基板包括依次层叠的阵列基板、阳极层、发光层和位于发光层上的至少一层膜层，所述至少一层膜层包括目标膜层，所述显示基板具有：第一显示区域和第二显示区域，在所述第一显示区域内，所述目标膜层上具有镂空，在所述第二显示区域内，所述目标膜层为无镂空结构。
在本公开实施例的一种实现方式中，在所述第一显示区域内，所述目标膜层包括阵列布置的多个块状结构和连接相邻的两个所述块状结构的连接结构；或者，在所述第一显示区域内，所述目标膜层包括阵列布置的多个块状结构。
在本公开实施例的另一种实现方式中，所述阳极层包括阵列布置的多个阳极，每个所述块状结构对应至少一个所述阳极，每个所述块状结构在所述阵列基板上的正投影包含所对应的阳极在所述阵列基板上的正投影。
在本公开实施例的另一种实现方式中，所述块状结构呈矩形，所述连接结构呈条状，所述连接结构的两端分别与相邻的两个所述块状结构上相对的侧边连接。
在本公开实施例的另一种实现方式中，所述块状结构和所述连接结构均呈矩形，多个所述连接结构阵列布置，每个所述连接结构的四个角部分别与四个所述块状结构的角部连接。
在本公开实施例的另一种实现方式中，具有所述镂空的膜层包括阴极层、粘合层和封盖层中的至少一种。
本公开实施例提供了一种显示基板的制作方法，所述制作方法包括提供目标基板，所述目标基板包括依次层叠的阵列基板、阳极层和发光层；在所述发光层上形成至少一层膜层，所述至少一层膜层包括目标膜层，在所述目标基板的第一显示区域内，所述目标膜层上具有镂空，在所述目标基板的第二显示区域内，所述目标膜层为无镂空结构。
在本公开实施例的另一种实现方式中，在所述发光层上形成目标膜层，包括：在所述发光层上形成第一膜层，所述第一膜层位于所述第一显示区域且具有镂空；在所述发光层上形成覆盖所述第二显示区域的第二膜层，所述第二膜层为无镂空结构，所述第一膜层和所述第二膜层形成所述目标膜层。
在本公开实施例的另一种实现方式中，所述在所述发光层上形成第一膜层，包括：采用第一网格掩膜板在所述第一显示区域内形成阵列排布的块状结构，所述第一网格掩膜板上的开口为阵列排布的矩形开口；采用第二网格掩膜板在所述第一显示区域内形成连接相邻的两个所述块状结构的连接结构，所述第二网格掩膜板上的开口为形成条形的所述连接结构的条状开口。
在本公开实施例的另一种实现方式中，所述在所述发光层上形成第一膜层，包括：采用第一网格掩膜板在所述第一显示区域内形成阵列排布的块状结构，所述第一网格掩膜板上的开口为阵列排布的矩形开口；平移所述第一网格掩膜板；采用所述第一网格掩膜板在所述第一显示区域内形成阵列排布的连接结构，所述连接结构的四个角部分别与四个所述块状结构的角部连接。
在本公开实施例的另一种实现方式中，所述在所述发光层上形成覆盖所述第二显示区域的第二膜层，包括：采用单开口掩膜板在所述第二显示区域内形成整面的膜层，所述单开口掩膜板具有一个与所述第二显示区域对应的开口。
本公开实施例提供了一种显示装置，所述显示装置包括如前文所述的显示基板。
在本公开实施例的另一种实现方式中，所述显示装置还包括感光器件，所述感光器件在所述显示基板上的正投影位于所述第一显示区域。
本公开实施例提供的技术方案带来的有益效果是：
本公开实施例提供的显示基板的发光层上的至少一层膜层包括目标膜层。且在第一显示区域内，目标膜层上具有镂空，使得光线可以通过目标膜层上的镂空穿过显示基板的第一显示区域，从显示基板的一侧传递至另一侧，这样当在显示基板的第一显示区域下方放置红外相机时，红外相机就能更容易获取到从人脸处反射而来的红外光，通过增大显示基板的透光率的方式，实现屏下面部识别，以提高屏下面部识别的识别效率。同时，在显示基板的第二显示区域内位于发光层以上的目标膜层均为无镂空结构，这样能保证显示基板的第二显示区域内阳极层的各个阳极均能与发光层上处于第二显示区域的阴极层相对，从而使第二显示区域内的各个阳极都能充分发挥作用，以保证显示基板的发光效果。
附图说明
为了更清楚地说明本公开实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是相关技术提供的一种显示面板的正视图；
图2是相关技术提供的一种显示面板的侧视图；
图3是本公开实施例提供的一种显示基板的结构示意图；
图4是本公开实施例提供的一种显示基板的结构示意图；
图5是本公开实施例提供的一种显示基板的结构示意图；
图6是本公开实施例提供的一种显示基板的局部放大示意图；
图7是本公开实施例提供的一种显示基板的局部放大示意图；
图8是本公开实施例提供的一种显示基板的结构示意图；
图9是本公开实施例提供的一种显示基板的层级结构示意图；
图10是本公开实施例提供的一种显示基板的层级结构示意图；
图11是本公开实施例提供的一种显示基板的层级结构示意图；
图12是本公开实施例提供的一种显示基板的结构示意图；
图13是本公开实施例提供的一种显示基板的制作方法的流程图；
图14是本公开实施例提供的一种掩膜板的结构示意图；
图15是本公开实施例提供的一种掩膜板的结构示意图；
图16是本公开实施例提供的一种掩膜板的结构示意图；
图17是本公开实施例提供的一种掩膜板的结构示意图。
具体实施方式
为使本公开的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本公开实施方式作进一步地详细描述。
图1是相关技术提供的一种显示面板的正视图。如图1所示，显示面板P上设置有红外相机C1和红外发光器件C2。
图2是相关技术提供的一种显示面板的侧视图。如图2所示，红外相机C1和红外发光器件C2均放置在显示面板P下方，以提高屏占比。
然而，将红外相机C1放置在显示面板P下方时，经由目标对象反射红外光的传输至红外相机C1需要透过显示面板P。为了保证红外相机能高效地进行人脸识别，需要提高显示面板的透光率，使更多的红外光能反射至红外相机。
相关技术中，在提高显示面板的透光率时，通常是控制显示面板内各个相邻的像素区域分布更加稀疏，以使得控制各个像素区域的阳极、控制电路分布更加稀疏，使红外光更容易从显示面板中透过，以提高透光率，由于该种调节方式使像素区域分布不密集，因而会降低显示面板的像素密度(Pixels Per lnch，简称PPI)，影响显示面板的显示效果。
本公开实施例提供了一种显示基板，图3是本公开实施例提供的一种显示基板的结构示意图。如图3所示，该显示基板包括依次层叠的阵列基板1、阳极层2、发光层3和位于发光层3上的至少一层膜层A，至少一层膜层A包括目标膜层。
图4是本公开实施例提供的一种显示基板的结构示意图。如图4所示，该显示基板还包括：第一显示区域41和第二显示区域42，在第一显示区域41内，目标膜层上具有镂空B；在第二显示区域42内，目标膜层为无镂空结构。
其中，无镂空结构是指在第二显示区域42内，目标膜层为整面结构。
在本公开实施例中，显示区域是指能够显示图像的区域，也被称作有效显示区。第一显示区域41和第二显示区域42均属于该显示区域。
本公开实施例提供的显示基板的发光层上的至少一层膜层包括目标膜层。且在第一显示区域内，目标膜层上具有镂空，使得光线可以通过目标膜层上的镂空穿过显示基板的第一显示区域，从显示基板的一侧传递至另一侧，这样当在显示基板的第一显示区域下方放置红外相机时，红外相机就能更容易获取到从人脸处反射而来的红外光，通过增大显示基板的透光率的方式，实现屏下面部识别，以提高屏下面部识别的识别效率。同时，在显示基板的第二显示区域内位于发光层以上的目标膜层均为无镂空结构，这样能保证显示基板的第二显示区域内阳极层的各个阳极均能与发光层上处于第二显示区域的阴极层相对，从而使第二显示区域内的各个阳极都能充分发挥作用，以保证显示基板的发光效果。
本公开实施例中，目标膜层可以包括阴极层、位于阴极层上的粘合层和位于粘合层上的封盖层(Capping Layer，简称CPL)。其中，CPL是覆盖于阴极层上的一层保护膜层，可以采用有机材料制成。由于有机材料制成的CPL和金属材质的阴极层的粘合性能较差，因此，本实施例中在CPL与阴极层之间设置了粘合层。例如，LIF(氟化锂)膜层，以使CPL和阴极层粘合更加牢固。
本公开实施例中，在第一显示区域内，阴极层、粘合层和CPL中的至少一层具有镂空。
图5是本公开实施例提供的一种显示基板的结构示意图。如图5所示，在第一显示区域内，目标膜层包括阵列布置的多个块状结构51和连接相邻的两个块状结构51的连接结构52。其中，在第一显示区域41内的目标膜层具有多个阵列布置的块状结构51，多个块状结构51相互间隔，即各个相互间隔的块状结构51之间形成空隙，该空隙可以供红外光穿过，以提高透光率。对于整层需要电连接的膜层，例如，阴极层，膜层上除了具有多个块状结构51外，还可以设置连接相邻的两个块状结构51的连接结构52，从而保证在阴极层通电后，阴极层上的各个位置均能得到相同电压。对于不需要导电的膜层，例如，CPL层和粘合层，也可以采用该结构。
示例性地，如图5所示，目标膜层可以是阴极层，在第一显示区域41内，阴极层具有多个块状结构51和多个连接结构52，多个块状结构51阵列布置，且相邻的两个块状结构51之间通过连接结构52连接，以使得阴极层通电后，阴极层上的各个块状结构51均能得到相同电压。多个块状结构51和多个连接结构52限定出的空隙即为镂空B。
可选地，块状结构可以为多边形或者曲线连成的封闭图形。且连接结构可以为多边形或者曲线连成的封闭图形。对于同时具有块状结构和连接结构的膜层，其块状结构和连接结构均可以是矩形、五边形、圆形、椭圆形等。
在一种可能的实现方式中，目标膜层中的块状结构呈矩形，连接结构呈条状，即块状结构和连接结构均为四边形。
示例性地，图6是本公开实施例提供的一种显示基板的局部放大示意图。结合图5、6，呈条状的连接结构52的两端分别与相邻的两个块状结构51上相对的侧边连接，且连接结构52在平行于块状结构51与连接结构52连接的侧边的方向上的宽度H不大于与连接结构52对应连接的块状结构51的侧边的长度L。
可选地，当连接结构52的宽度H小于块状结构51的侧边长度L时，如图6所示，块状结构51与连接结构52形成的镂空B呈十字形。由于连接结构52的宽度H比块状结构51的侧边长度L小，因此使用连接结构51与块状结构52连接，会更少地占用块状结构51之间的间隙区域，从而使得连接结构51和连接结构52可以形成更大面积的镂空，有利于提高透光率。
可选地，当连接结构52的宽度H等于块状结构51的侧边长度L时，如图4、7所示，块状结构51与连接结构52形成的镂空B呈矩形。由于连接结构52的宽度H与块状结构51的侧边长度L相同，因此使用连接结构51与块状结构52连接后，能使得电流在块状结构51之间更加平稳地传递，同时连接结构51和连接结构52也能形成较大面积的镂空，便于红外光透过。
在另一种可能的实现方式中，目标膜层中的块状结构和连接结构均呈矩形，即块状结构和连接结构均为四边形。
示例性地，如图8所示，多个连接结构52阵列布置，每个连接结构52的四个角部分别与四个块状结构51的角部连接。也即是，任意四个阵列布置的块状结构51形成的单元区域D中均具有一个连接结构52，且四个块状结构51中靠近单元区域D的中部的角部区域分别与连接结构52的四个角部区域连接。该种目标膜层每四个块状结构51仅需要使用一个连接结构52，就可以实现四个块状结构51之间的导电，相较于连接结构52与块状结构51侧边连接的布置方式中，实现四个块状结构51之间的导电需要使用四个连接结构52。
可选地，阳极层包括阵列布置的多个阳极，每个块状结构对应至少一个阳极，每个块状结构在阵列基板上的正投影包含所对应的阳极在阵列基板上的正投影。本公开实施例中，块状结构与阳极层的关系可以包括以下两种。
第一种，每个块状结构对应一个阳极。即每个块状结构在阵列基板上的正投影覆盖阳极层中所对应的一个阳极在阵列基板上的正投影。
其中，各个块状结构与阳极层中的各个阳极一一对应，一个块状结构覆盖与之对应的一个阳极，且块状结构的投影面积与对应的阳极的投影面积相等。
示例性地，如图9所示，当目标膜层为阴极层时，阴极层上的块状结构为导电块61，每个导电块61与阳极层2中的各个阳极21一一相对。这样在阴极层和阳极层2上施加电压时，每个阳极21均能与一个导电块61对应，以使得每个阳极21能得到利用，又由于阳极21与对应的导电块61的横截面的面积相同，从而使每个阳极21均能得到充分的利用。在提高透光率的同时还保障了显示基板的发光效果。
示例性地，当目标膜层为LiF膜层或CPL时，设置目标膜层中的各个块状结构与阳极层中的各个阳极一一相对，以使得LiF膜层或CPL能完全覆盖阳极层中控制显示基板发光的像素区域(即阳极)，实现对阳极层、发光层及阴极层的保护。
第二种，每个块状结构在阵列基板上的正投影包含阳极层中所对应的多个(即至少两个)阳极在阵列基板上的正投影。
其中，每个块状结构同时覆盖多个阳极，即一个块状结构的投影面积大于一个阳极的投影面积。
示例性地，如图10所示，当目标膜层为阴极层时，阴极层上的块状结构为导电块61，每个导电块61同时与阳极层2中的三个阳极21相对，即每个导电块61同时覆盖三个阳极21。该种阴极层的结构能确保覆盖各个阳极21，保障了显示基板的发光效果。
示例性地，当目标膜层为LiF膜层或CPL时，设置膜层中的各个块状结构同时覆盖多个阳极，以使得LiF膜层或CPL能完全覆盖阳极层中控制显示基板发光的像素区域(即阳极)，实现对阳极层、发光层及阴极层的保护。
可替换地，目标膜层上的多个块状结构可以同时覆盖一个阳极，此时一个块状结构的面积小于一个阳极的面积。即一个块状结构的投影面积小于一个阳极的投影面积。
示例性地，如图11所示，当目标膜层为阴极层时，阴极层上的块状结构为导电块61，三个导电块61同时与阳极层2中的一个阳极21相对，即三个导电块61同时覆盖于一个阳极21上。该种阴极层的结构具有更多的镂空B，从而使得更多的光能透过镂空B，提高显示基板的透光率，从而提高屏下面部识别的识别效率。
图12是本公开实施例提供的一种显示基板的结构示意图。图12示出的显示基板与图5示出的显示基板的区别在于，如图12所示，在该显示基板的第一显示区域41内，目标膜层包括多个块状结构51，且不包括连接结构，即目标膜层仅包括块状结构51。
其中，多个块状结构阵列布置，即各个相互间隔的块状结构之间形成空隙，该空隙可以供红外光穿过，以提高透光率。由于该种目标膜层中未设置连接块状结构的连接结构，因此，该种镂空形式的膜层适用于无需通电的膜层。例如，LiF膜层、CPL等。
示例性地，如图12所示，目标膜层可以是LiF膜层，在第一显示区域41内，LiF膜层具有多个块状结构51，多个块状结构51阵列布置，该种镂空形式的膜层的镂空面积更大，从而能使显示面板的透光率更大。
可选地，图12示出的显示基板中的阳极层也可以包括阵列布置的多个阳极，每个块状结构对应至少一个阳极，每个块状结构在阵列基板上的正投影包含所对应的阳极在阵列基板上的正投影。且该显示基板中目标膜层的块状结构与阳极层的阳极之间的层级关系，可以如图9至11所示出的块状结构与阳极之间的层级关系相同，本实施例不做赘述。
可选地，块状结构可以为多边形或者曲线连成的封闭图形。对于仅具有块状结构的膜层，其块状结构可以是矩形、五边形、圆形、椭圆形等。
图13是本公开实施例提供的一种显示基板的制作方法的流程图。如图13所示，该制作方法包括：
步骤101：提供目标基板。
其中，目标基板包括依次层叠的阵列基板、阳极层和发光层。
步骤102：在发光层上形成至少一层膜层。
其中，至少一层膜层包括目标膜层，在目标基板的第一显示区域内，目标膜层上具有镂空，在目标基板的第二显示区域内，目标膜层为无镂空结构。
本实施例中，在发光层上形成具有镂空的目标膜层的工艺为蒸镀。蒸镀是指在真空条件下，采用一定的加热蒸发方式蒸发镀膜材料并使之气化，粒子飞至基片表面凝聚成膜的工艺方法。
可选地，在发光层上形成目标膜层可以包括：在发光层上形成第一膜层，第一膜层位于第一显示区域且具有镂空；在发光层上形成覆盖第二显示区域的第二膜层，第二膜层为无镂空结构，第一膜层和第二膜层形成目标膜层。
在本实施例的一些实现方式中，在发光层上形成第一膜层可以包括以下两步。
第一步，采用第一网格掩膜板在第一显示区域内形成阵列排布的块状结构，第一网格掩膜板上的开口为阵列排布的矩形开口。
第二步，采用第二网格掩膜板在第一显示区域内形成连接相邻的两个块状结构的连接结构，第二网格掩膜板上的开口为形成条形的连接结构的条状开口。
本实施例中，第一网格掩膜板和第二网格掩膜板均为两种掩膜板的组装体。示例性地，第一网格掩膜板和第二网格掩膜板均可以为半开口掩膜板和精细金属掩膜板(FineMetal Mask，简称FMM)的组装体。
其中，半开口掩膜板可以是半开口的F-mask(Full mask)或者半开口的Openmask。如图14所示，半开口的F-mask和Open mask掩膜板Y，可以是具有一个开口X的掩膜板Y，且一个开口X覆盖掩膜板Y的部分区域，以使得该掩膜板Y的部分区域呈框状，而掩膜板Y的另外部分区域封闭。
其中，精细金属掩膜板为网格掩膜板。即精细金属掩膜板上具有多个开口，且多个开口通过精细金属交织形成。
示例性地，半开口掩膜板和精细金属掩膜板的组装体可以是指：在半开口掩膜板的开口区域采用精细金属交织形成多个细小的开口。
可选地，如图15所示，第一网格掩膜板Y具有整列排布的多个开口X，该第一网格掩膜板用于形成与阳极层中各阳极对应的多个块状结构，多个块状结构阵列排布。
可选地，如图16所示，第二网格掩膜板Y具有间隔排布的多个开口X，该第二网格掩膜板用于形成连接多个块状结构的连接结构，多个连接结构间隔排布。
在第一步中，如图12所示，采用图15所示的第一网格掩膜板进行第一次蒸镀，蒸镀完成后，在第一显示区域内形成阵列排布的块状结构，实现第一显示区域内控制阳极层上方的目标膜层的图案化覆盖。
在第二步中，如图5所示，采用图16所示的第二网格掩膜板进行第二次蒸镀，蒸镀完成后，在第一显示区域内形成连接各个块状结构的连接结构，实现第一显示区域间隔排布的块状结构相互连接。
在本实施例的另一些实现方式中，在发光层上形成第一膜层可以包括以下三步。
第一步，采用第一网格掩膜板在第一显示区域内形成阵列排布的块状结构，第一网格掩膜板上的开口为阵列排布的矩形开口。
第二步，平移第一网格掩膜板，
第三步，采用第一网格掩膜板在第一显示区域内形成阵列排布的连接结构。
其中，连接结构的四个角部分别与四个块状结构的角部连接。
本实施例中，第一网格掩膜板可以为半开口掩膜板和精细金属掩膜板(FineMetal Mask，简称FMM)的组装体。
示例性地，半开口掩膜板和精细金属掩膜板的组装体可以是指：在半开口掩膜板的开口区域采用精细金属交织形成多个细小的开口。
可选地，如图15所示，第一网格掩膜板用于形成与阳极层中各阳极对应的多个块状结构，多个块状结构阵列排布。
在第一步中，如图12所示，采用图15所示的第一网格掩膜板进行第一次蒸镀，蒸镀完成后，在第一显示区域内形成阵列排布的块状结构，实现第一显示区域内控制阳极层上方的目标膜层的图案化覆盖。
在第二步中，将第一网格掩膜板朝着设定方向平移，以使得第二蒸镀形成的图案能连接阵列排布的块状结构。
示例性地，如图8所示，在进行第一次蒸镀时，通过第一网格掩膜板形成的各个块状结构呈矩形。在进行第二次蒸镀时，则将第一网格掩膜板朝着块状结构的对角线的方向平移，使得第二次蒸镀形成呈矩形的连接结构的四个角部区域分别连接相邻的各个块状结构的角部区域，从而可以实现块状结构与连接结构相互连接。
需要说明的是，当块状结构和连接结构为导电结构时，例如作为阴极层，可以保证第一显示区域内的像素正常发光。
在本实施例的又一些实现方式中，在发光层上形成覆盖第二显示区域的第二膜层可以包括：采用单开口掩膜板在第二显示区域内形成整面的膜层。
其中，单开口掩膜板具有一个与第二显示区域对应的开口，单开口掩膜板的开口的形状和面积与第二显示区域的形状和面积相同。
本实施例中，单开口掩膜板为半开口掩膜板。其中，半开口掩膜板可以是半开口的F-mask(Full mask)或者半开口的Open mask。F-mask和Open mask均属于全开口的掩膜板，该单开口掩膜板具有一个开口，且一个开口覆盖掩膜板的大部分区域，以使得该单开口掩膜板呈框状。如图17所示，而半开口的F-mask和Open mask，则可以是该单开口掩膜板具有一个开口，且一个开口覆盖掩膜板的部分区域，以使得该单开口掩膜板的部分区域呈框状，而单开口掩膜板的另外部分区域封闭。
示例性地，单开口掩膜板可以为半开口的Open mask。利用半开口的Open mask，可实现第二显示区域内整面阴极层均匀覆盖，保证第二显示区域内的像素正常发光。
在发光层上形成目标膜层时，经过以上三次蒸镀，实现阴极层在阳极层上覆盖。通过半开口的Open mask蒸镀保证了第二显示区域内阴极层的均一性，通过第一显示区域的FMM和半开口的Open mask的组装体蒸镀实现第一显示区域的阳极覆盖，通过第一显示区域的FMM和半开口的Open mask的组装体蒸镀还实现的阴极的导电块与连接结构相互连接。
本公开实施例既能保证第二显示区域的目标膜层覆盖均匀，第二显示区域的像素正常发光，又能保证第一显示区域的像素正常发光，同时减少了目标膜层覆盖面积，提升了第一显示区域的透光率。进而保证第一显示区域的屏下红外相机功能实现。
本公开实施例提供了一种显示装置，该显示装置包括如前文所述的显示基板。
示例性地，本公开实施例提供的显示装置可以为手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。
由于该显示装置中的显示基板具有高透光率。因此，该显示装置可以包括感光器件，且感光器件在显示基板上的正投影位于第一显示区域，也即是感光器件位于第一显示区域的一侧。
在本公开实施例中，感光器件可以位于第一显示区域中靠近阵列基板的一侧。示例性地，感光器件可以是红外相机、红外线发射管等。
以上仅为本公开的可选实施例，并不用以限制本公开，凡在本公开的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本公开的保护范围之内。

Claims (11)

1.一种显示基板，其特征在于，所述显示基板包括依次层叠的阵列基板(1)、阳极层(2)、发光层(3)和位于发光层(3)上的至少一层膜层(A)，所述至少一层膜层(A)包括目标膜层，所述目标膜层包括粘合层和封盖层中的至少一种，所述显示基板具有：第一显示区域(41)和第二显示区域(42)，所述阳极层(2)包括阵列布置的多个阳极，
在所述第一显示区域(41)内，所述目标膜层上具有镂空(B)，所述目标膜层包括阵列布置的多个块状结构(51)，且各所述块状结构(51)均不相连，多个所述块状结构(51)位于一个阳极上，各所述块状结构(51)在所述阵列基板(1)上的正投影位于对应的所述阳极在所述阵列基板(1)上的正投影内，
在所述第二显示区域(42)内，所述目标膜层为无镂空结构。
2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述目标膜层还包括阴极层，在所述第一显示区域(41)内，所述阴极层包括阵列布置的多个块状结构(51)和连接相邻的两个所述块状结构(51)的连接结构(52)。
3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述块状结构(51)呈矩形，所述连接结构(52)呈条状，所述连接结构(52)的两端分别与相邻的两个所述块状结构(51)上相对的侧边连接。
4.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述块状结构(51)和所述连接结构(52)均呈矩形，多个所述连接结构(52)阵列布置，每个所述连接结构(52)的四个角部分别与四个所述块状结构(51)的角部连接。
5.一种显示基板的制作方法，其特征在于，所述制作方法包括：
提供目标基板，所述目标基板包括依次层叠的阵列基板、阳极层和发光层，所述阳极层包括阵列布置的多个阳极；
在所述发光层上形成至少一层膜层，所述至少一层膜层包括目标膜层，所述目标膜层包括粘合层和封盖层中的至少一种，在所述目标基板的第一显示区域内，所述目标膜层上具有镂空，所述目标膜层包括阵列布置的多个块状结构，且各所述块状结构均不相连，多个所述块状结构位于一个阳极上，各所述块状结构在所述阵列基板上的正投影位于对应的所述阳极在所述阵列基板上的正投影内，在所述目标基板的第二显示区域内，所述目标膜层为无镂空结构。
6.根据权利要求5所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述目标膜层还包括阴极层，在所述第一显示区域内，所述阴极层包括阵列布置的多个块状结构和连接相邻的两个所述块状结构的连接结构；
在所述发光层上形成目标膜层，包括：
在所述发光层上形成第一膜层，所述第一膜层位于所述第一显示区域且具有镂空；
在所述发光层上形成覆盖所述第二显示区域的第二膜层，所述第二膜层为无镂空结构，所述第一膜层和所述第二膜层形成所述目标膜层。
7.根据权利要求6所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述在所述发光层上形成第一膜层，包括：
采用第一网格掩膜板在所述第一显示区域内形成阵列排布的块状结构，所述第一网格掩膜板上的开口为阵列排布的矩形开口；
采用第二网格掩膜板在所述第一显示区域内形成连接相邻的两个所述块状结构的连接结构，所述第二网格掩膜板上的开口为形成条形的所述连接结构的条状开口。
8.根据权利要求6所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述在所述发光层上形成第一膜层，包括：
采用第一网格掩膜板在所述第一显示区域内形成阵列排布的块状结构，所述第一网格掩膜板上的开口为阵列排布的矩形开口；
平移所述第一网格掩膜板；
采用所述第一网格掩膜板在所述第一显示区域内形成阵列排布的连接结构，所述连接结构的四个角部分别与四个所述块状结构的角部连接。
9.根据权利要求6所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述在所述发光层上形成覆盖所述第二显示区域的第二膜层，包括：
采用单开口掩膜板在所述第二显示区域内形成整面的膜层，所述单开口掩膜板具有一个与所述第二显示区域对应的开口。
10.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括如权利要求1至4任一项所述的显示基板。
11.根据权利要求10所述的显示装置，其特征在于，所述显示装置还包括感光器件，所述感光器件在所述显示基板上的正投影位于所述第一显示区域。
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