CN104349892A - 层积体 - Google Patents
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Abstract
本实施方式的目的在于提供一种具有能容易去除污垢的防污性和耐擦伤性优良的表层的层积体。本实施方式的层积体,其为具有表层的层积体,其中,表层具有形成了微细凹凸结构的表面,其特征在于,所述表层的弹性模量小于250MPa,并且所述表层的摩擦系数的斜率为0.0018以下。
Description
技术领域
本实施方式涉及具有微细凹凸结构的层积体及使用该层积体的防反射物品、图像显示装置、触摸屏。
本申请要求基于2012年6月15日在日本申请的特愿2012-135981号和特愿2012-135983号、2012年9月13日在日本申请的特愿2012-201734号以及2012年11月13日在日本申请的特愿2012-249312号的优先权,在这里引用其内容。
背景技术
在各种显示器、透镜、橱窗等与空气接触的界面(表面)存在由太阳光或照明等在表面反射所引起的可视性下降这样的问题。作为用于减少反射的方法,已知如下的方法:使在膜表面的反射光以及在膜与基材的界面的反射光通过干涉而消除的方式来层积折射率不同的多层的膜。这些膜通常是以溅射、蒸镀和涂布等方法来制造的。然而,这样的方法中,即使增加膜的层积数,要降低反射率和反射率的波长依赖性,也存在界限。另外,为了消减制造成本而减少层积数,需要具有更低折射率的材料。
要降低材料的折射率,用任一方法向材料中导入空气是有效的。另外,作为使膜表面的折射率下降的方法之一,例如,在膜表面上形成微细凹凸结构的方法是众所周知的。根据这些方法,形成有微细凹凸结构的表面的整个层的折射率取决于空气与形成微细凹凸结构的材料之间的体积比,因而,能大幅降低折射率。其结果,即使层积数少,也能降低折射率。
另外,被提出的有在玻璃基板上形成的防反射膜中角锥状的凸部在整个膜上连续形成的防反射膜(例如,参照专利文献1)。如专利文献1所记载,对于形成有角锥状的凸部(微细凹凸结构)的防反射膜,由于在与膜面平行的面上切断微细凹凸结构时的截面积连续地发生变化,并且折射率从空气侧朝向基板侧慢慢增大,因而,成为有效的防反射手段。此外,该防反射膜显示出优良的光学性能。
对于由如上所述的由微细凹凸结构构成的防反射膜,由于其与空气接触,因此,优选具有防污性。
作为赋予防污性的方法,可举出在微细凹凸结构的表面上使由聚四氟乙烯构成的膜成膜的方法(例如,参照专利文献2)、在由含有含氟化合物的树脂组合物所形成的层上压焊具有微细凹凸结构的压模的方法(例如,参照专利文献3)等。这些方法中,通过使表面能量下降而防污,从而赋予防污性。
另外,也提出了以下方法:在基材表面上涂布带有微细凹凸结构的光催化剂层(氧化钛等)的方法(例如,参照专利文献4)、通过在基材表面溅射由硅酸化合物等无机氧化物构成的亲水性膜而形成的方法(例如,参照专利文献5)、在钠钙玻璃表面旋涂无机微粒子溶液后加热使其固化的方法(例如,参照专利文献6)等。这些方法中,通过使表面亲水化,使附着的污垢在水中浮出而令擦拭容易。
另外,专利文献7中,公开了由特定的氟系表面活性剂与特定组成的聚合性化合物构成的光固化性组合物作为光盘用涂布材料。
此外,如专利文献8所记载,提出了通过降低形成微细凹凸结构的材料的弹性模量而挤出进入了凹部的污垢的方法。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本专利特开昭63-75702号公报
专利文献2:日本专利特开2003-172808号公报
专利文献3:日本专利特开2005-97371号公报
专利文献4:日本专利特开2001-183506号公报
专利文献5:日本专利特开2001-315247号公报
专利文献6:日本专利特开平11-217560号公报
专利文献7:日本专利特开平7-316468号公报
专利文献8:日本专利特开2011-76072号公报
发明内容
发明要解决的问题
如专利文献2和3所记载,降低表面能量时,污垢变得难以附着。然而,使用时存在污垢进入凹部的情况,并且一旦污垢附着,存在难以去除该污垢的情况。
另外,如专利文献4所记载,使用光催化剂时,存在以室内的光难以进行污垢分解的情况。此外,在将树脂膜等作为基材使用并在其表面涂布光催化剂层时,存在树脂膜也会被分解的情况。
另外,专利文献5和6记载的通过溅射的制造方法所得到的具有微细凹凸结构的防污性物品中,存在难以调节相邻凸部间的距离和凸部高度的情况,存在无法充分得到防反射性的情况。
另外,即使将专利文献7所记载的混合氟系表面活性剂的方法适用于微细凹凸结构,也存在不能赋予充分的防污性的情况。
另外,专利文献8所记载的方法的效果如下:虽确认了微细凹凸结构的间距为250nm以上的层积体,但存在其表层耐擦伤性差的情况,例如,从作为建材或显示器用途等的防反射物品的实用性的观点来看,还有改善的余地。
本实施方式的目的在于提供一种具备能容易去除污垢的防污性和耐擦伤性优良的表层的层积体。
解决问题的手段
(1)本发明的一形式是如下的一种层积体,其为具有表层的层积体,所述表层具有形成了微细凹凸结构的表面;其特征在于,所述表层的弹性模量小于250MPa,并且所述表层的摩擦系数的斜率为1.8×10-3以下。
(2)本发明的一形式是如(1)记载的层积体,其中,所述表层的摩擦系数的斜率为-2.0×10-3以上。
(3)本发明的一形式是如(1)或(2)记载的层积体,其中,所述表层的摩擦系数的斜率为-1.8×10-3以上、1.0×10-3以下。
(4)本发明的一形式是如(1)~(3)中的任一项记载的层积体,其中,所述表层的弹性模量小于160MPa。
(5)本发明的一形式是如(1)~(4)中的任一项记载的层积体,其中,所述表层的弹性模量小于100MPa。
(6)本发明的一形式是如(1)~(5)中的任一项记载的层积体,其中,所述表层的水接触角为25°以下或130°以上。
(7)本发明的一形式是如(1)~(6)中的任一项记载的层积体,其中,所述表层包含由活化能射线固化性树脂组合物的固化物构成的层。
(8)本发明的一形式是如(7)记载的层积体,其中,所述活化能射线固化性树脂组合物含有:3官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(A)1~55质量份、双官能团的(甲基)丙烯酸酯(B)10~95质量份(其中将所述活化能射线固化性树脂组合物中的聚合性成分的合计作为100质量份)。
(9)本发明的一形式是如(8)记载的层积体,其中,所述3官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(A)的含量为5~40质量份,所述双官能团的(甲基)丙烯酸酯(B)的含量为20~80质量份。
(10)本发明的一形式是如(8)记载的层积体,其中,所述3官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(A)的含量为10~30质量份,所述双官能团的(甲基)丙烯酸酯(B)的含量为30~70质量份。
(11)本发明的一形式是如(8)记载的层积体,其中,所述活化能射线固化性树脂组合物还含有硅酮(甲基)丙烯酸酯(C)3~85质量份(其中将所述活化能射线固化性树脂组合物中的聚合性成分的合计作为100质量份,并且(A)和(B)分别为(C)以外的物质)。
(12)本发明的一形式是如(9)记载的层积体,其中,所述活化能射线固化性树脂组合物还含有硅酮(甲基)丙烯酸酯(C)7~70质量份(其中将所述活化能射线固化性树脂组合物中的聚合性成分的合计作为100质量份,并且(A)和(B)分别为(C)以外的物质)。
(13)本发明的一形式是如(7)记载的层积体,其中,所述活化能射线固化性树脂组合物含有具有SH基的化合物(D)。
(14)本发明的一形式是如(13)记载的层积体,其中,所述活化能射线固化性树脂组合物含有:双官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(E)0~95质量份;硅酮(甲基)丙烯酸酯(C)0~75质量份;以及所述具有SH基的化合物(D)1~60质量份(其中将聚合性成分的合计作为100质量份)。
(15)本发明的一形式是如(7)~(14)中的任一项记载的层积体,其中,所述表层是由所述活化能射线固化性树脂组合物的固化物构成的层所构成的。
(16)本发明的一形式是如(7)~(14)中的任一项记载的层积体,其中,所述表层是由以下的层所构成:
由所述活化能射线固化性树脂组合物的固化物构成的层;以及
作为最表面层的表面处理层;
其中,表面处理层是在由该活化能射线固化性树脂组合物的固化物构成的层上所形成的。
(17)本发明的一形式是如(1)~(15)中的任一项记载的层积体,其中,所述微细凹凸结构的间距为100nm以上、250nm以下。
(18)本发明的一形式是一种防反射物品,其具有(1)~(17)中的任一项记载的层积体。
(19)本发明的一形式是一种图像显示装置,其具有(1)~(17)中的任一项记载的层积体。
(20)本发明的一形式是一种触摸屏,其具有(1)~(17)中的任一项记载的层积体。
发明的效果
根据本实施方式,可提供一种具有能容易去除污垢的防污性和耐擦伤性优良的表层的层积体。另外,根据本实施方式,优选能得到即使在表面不用水或醇也能容易去除污垢的防污性良好的层积体。此外,根据本实施方式,优选能得到用布等擦拭污垢时不会损伤表层的耐擦伤性良好的层积体。
附图说明
图1是显示本实施方式涉及的层积体的构成的一例的示意截面图。
图2是显示本实施方式涉及的层积体的构成的一例的示意截面图。
图3是显示本实施方式涉及的层积体的构成的一例的示意截面图。
图4是显示本实施方式涉及的层积体的构成的一例的示意截面图。
符号说明
10:层积体
11:基材
12:表层
13:凸部
14:凹部
具体实施方式
以下,对本实施方式进行详细说明。
(实施方式1)
图1是显示本实施方式所涉及的层积体10的构成的一例的示意截面图。图1中,在具有透明性的基材11表面上形成有由活化能射线固化性树脂组合物的固化物构成的表层12。层积体10中,在表层12的表面上形成有微细凹凸结构。
层积体10中,优选在表层的整个表面形成有微细凹凸结构,但在表层的一部分表面上也可形成有微细凹凸结构。另外,层积体10具有膜形状时,可在层积体10的两面形成有微细凹凸结构。
本实施方式的层积体中,微细凹凸结构区域的弹性模量,即表层的弹性模量,小于250MPa。另外,表层的弹性模量优选小于160MPa,更优选50MPa以上、100MPa以下。表层的弹性模量小于250MPa时,微细凹凸结构柔软,因此,能容易地挤出进入凹部的污垢。另外,表层的弹性模量小于160MPa时,微细凹凸结构更柔软,因此,能更容易地挤出进入凹部的污垢。表层的弹性模量为50MPa以上时,微细凹凸结构具有充分的硬度,因此,能有效防止凸部的突起合一。表层的弹性模量为100MPa以下时,微细凹凸结构足够柔软,因此,微细凹凸结构能自由地变形,并能更容易地去除进入凹部的污垢。
本实施方式的层积体中,微细凹凸结构区域的摩擦系数的斜率,即表层的摩擦系数的斜率为1.8×10-3以下。另外,表层的摩擦系数的斜率优选为-2.0×10-3以上,更优选为-1.8×10-3以上、1.0×10-3以下。表层的摩擦系数的斜率为0.0018以下时,用布等擦拭表层时,摩擦系数的增加小,因此,不会引起表层的破坏。表层的摩擦系数的斜率为-1.8×10-3以上时,用布等擦拭表层时,不会产生微细凹凸结构的凸部合一,并且在擦伤后,也能保持于与擦伤前相同的防反射性能。表层的摩擦系数的斜率为1.0×10-3以下时,用布等擦拭表层时,摩擦系数的增加更小,因此,不会损伤表层。
微细凹凸结构区域的水接触角,即表层的水接触角并没有特别限定,优选25°以下或130°以上,更优选15°以下或135°以上。表层的水接触角为25°以下时,表面为亲水性,因此,能容易地擦掉污垢。表层的水接触角为130°以上时,表层的表面能量小,因此,能容易地擦掉污垢。表层的水接触角为15°以下时,表面的亲水性高,因此能更容易地擦掉污垢。表层的水接触角为135°以上时,表层的表面能量足够小,因此,能抑制污垢的附着。表层的水接触角的下限并没有特别限定,但优选表层的水接触角为5°以上,更优选为7°以上。表层的水接触角的上限并没有特别限定,但优选表层的水接触角为150°以下,更优选为145°以下。
本实施方式的层积体中,表层可由活化能射线固化性树脂组合物的固化物所构成。另外,如后所述,表层也可由以下的层所构成:由活化能射线固化性树脂组合物的固化物构成的层;以及作为最表面层的表面处理层;其中,表面处理层是在由该活化能射线固化性树脂组合物的固化物构成的层上所形成的。
活化能射线固化性树脂组合物优选含有:3官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(A)1~55质量份和双官能团的(甲基)丙烯酸酯(B)10~95质量份(其中将所述活化能射线固化性树脂组合物中的聚合性成分的合计作为100质量份)。
活化能射线固化性树脂组合物优选还含有硅酮(甲基)丙烯酸酯(C)3~85质量份。也就是说,活化能射线固化性树脂组合物,例如,优选含有:
3官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(A)1~55质量份;双官能团的(甲基)丙烯酸酯(B)10~95质量份;以及硅酮(甲基)丙烯酸酯(C)3~85质量份(其中将所述活化能射线固化性树脂组合物中的聚合性成分的合计作为100质量份)。另外,3官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(A)和双官能团的(甲基)丙烯酸酯(B)是硅酮(甲基)丙烯酸酯(C)以外的物质。
此处,3官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯意味着在分子内至少具有3个以上的选自丙烯酰基(CH2=CHCO-)和甲基丙烯酰基(CH2=C(CH3)CO-)的基团的化合物。另外,双官能团的(甲基)丙烯酸酯意味着在分子内具有2个选自丙烯酰基(CH2=CHCO-)和甲基丙烯酰基(CH2=C(CH3)CO-)的基团的化合物。
3官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(A)优选4官能团以上,更优选5官能团以上。作为3官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(A),例如,可举出四(甲基)丙烯酸二三羟甲基丙烷酯、四(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、四(甲基)丙烯酸季戊四醇乙氧基酯、五(甲基)丙烯酸二季戊四醇羟基酯、六(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯、琥珀酸/三羟甲基乙烷/丙烯酸的摩尔比为1:2:4的缩合反应物、聚氨酯丙烯酸酯类、聚醚丙烯酸酯类、改性环氧丙烯酸酯类、聚酯丙烯酸酯类等。作为聚氨酯丙烯酸酯类,例如,可举出ダイセル·サイテック公司制造的“EBECRYL220”、“EBECRYL1290”、“EBECRYL1290K”、“EBECRYL5129”、“EBECRYL8210”、“EBECRYL8301”、“KRM8200”。作为聚醚丙烯酸酯类,例如,可举出ダイセル·サイテック公司制造的“EBECRYL81”。作为改性环氧丙烯酸酯类,例如,可举出ダイセル·サイテック公司制造的“EBECRYL3416”。作为聚酯丙烯酸酯类,例如,可举出ダイセル·サイテック公司制造的“EBECRYL450”、“EBECRYL657”、“EBECRYL800”、“EBECRYL810”、“EBECRYL811”、“EBECRYL812”、“EBECRYL1830”、“EBECRYL845”、“EBECRYL846”和“EBECRYL1870”。另外,作为3官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(A),其它也可举出,例如,上述单体加成环氧乙烷或环氧丙烷而得到的单体。这些多官能团(甲基)丙烯酸酯(A)可单独使用1种或将2种以上并用。
在将活化能射线固化性树脂组合物中的聚合性成分的合计作为100质量份时,3官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(A)优选为1~55质量份,更优选为5~40质量份,进一步优选为10~30质量份。通过使3官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(A)的含量在1质量份以上,可赋予能将微细凹凸结构转印至表层程度的弹性模量。另外,通过使3官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(A)的含量在55质量份以下,能抑制表层弹性模量的增加。其结果是,能易于将污垢从凹部中挤出,并能赋予层积体充分的防污性。另外,通过设3官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(A)的含量在5质量份以上,能赋予表层良好的弹性模量,并能抑制微细凹凸结构中的凸部的突起合一。另外,通过设3官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(A)的含量在40质量份以下,凸部的运动性下降被抑制,且有效地体现出即使不使用水或醇也能容易地去除污垢的防污性。此外,本说明书中,突起或凸部的突起合一是指相邻突起或凸部合并而成为一个。
作为双官能团的(甲基)丙烯酸酯(B),优选具有聚乙二醇的双官能团丙烯酸酯类、具有聚丙二醇的双官能团丙烯酸酯类、具有聚丁二醇的双官能团丙烯酸酯类等具有聚亚烷基二醇的双官能团丙烯酸酯。作为具有聚乙二醇的双官能团丙烯酸酯类的具体例子,可举出アロニックスM-240、アロニックスM-260(东亚合成公司制造)、NK酯AT-20E、NK酯ATM-35E(新中村化学公司制造)等。作为具有聚丙二醇的双官能团丙烯酸酯类的具体例子,可举出APG-400、APG-700(新中村化学公司制造)等。作为具有聚丁二醇的双官能团丙烯酸酯类的具体例子,可举出A-PTMG-650(新中村化学公司制造)等。通过使用具有聚亚烷基二醇的双官能团丙烯酸酯作为双官能团的(甲基)丙烯酸酯(B),表层的弹性模量被抑制,变得易于从凹部挤出污垢,有效地体现出防污性。具有聚亚烷基二醇的双官能团丙烯酸酯中,从能得到更良好的防污性方面来看,适宜采用聚乙二醇二丙烯酸酯。通过使用聚乙二醇二丙烯酸酯作为双官能团的(甲基)丙烯酸酯(B),表层树脂的分子运动性提高,变得更易于挤出进入凹部的污垢,表现出良好的防污性。
聚乙二醇二丙烯酸酯的一分子内存在的聚乙二醇链的平均重复单元的合计优选为6~40,更优选为9~30,进一步优选为12~20。聚乙二醇链的平均重复单元为6以上时,保持分子的运动性,体现良好的防污性。聚乙二醇链的平均重复单元为40以下时,与3官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(A)的相溶性变良好。另外,具有聚亚烷基二醇的双官能团丙烯酸酯中,从相溶性方面来看,也适宜使用聚丙二醇二丙烯酸酯、聚丁二醇二丙烯酸酯。通过使用聚丙二醇二丙烯酸酯或聚丁二醇二丙烯酸酯作为双官能团的(甲基)丙烯酸酯(B),与亲水性低的硅酮二(甲基)丙烯酸酯等的硅酮(甲基)丙烯酸酯(C)的相溶性提高,并能得到透明的活化能射线固化性树脂组合物。这些双官能团的(甲基)丙烯酸酯(B)可单独使用1种,也可以将2种以上并用。另外,从兼顾防污性和相溶性方面来看,优选将聚乙二醇与聚丙二醇二丙烯酸酯和/或聚丁二醇二丙烯酸酯并用。
在将活化能射线固化性树脂组合物中的聚合性成分的合计作为100质量份时,双官能团的(甲基)丙烯酸酯(B)优选为10~95质量份,更优选为20~80质量份,进一步优选为30~70质量份。通过使双官能团的(甲基)丙烯酸酯(B)的含量在10质量份以上,表层的弹性模量增加被抑制,易于从凹部中挤出污垢,体现出充分的防污性。通过使双官能团的(甲基)丙烯酸酯(B)的含量变为95质量份以下,可保持能将微细凹凸结构转印至表层程度的弹性模量。另外,通过使双官能团的(甲基)丙烯酸酯(B)的含量在20质量份以上,能对凸部赋予运动性,有效地体现出防污性。此外,通过使双官能团的(甲基)丙烯酸酯(B)的含量在80质量份以下,弹性模量的下降得到制,能抑制凸部的突起合一。
对于硅酮(甲基)丙烯酸酯(C),只要其是在具有有机硅氧烷结构的化合物的侧链和/或末端具有至少一个以上的选自丙烯酰基(CH2=CHCO-)和甲基丙烯酰基(CH2=C(CH3)CO-)的基团的化合物,就没有特别限定。对于硅酮(甲基)丙烯酸酯(C),最好根据3官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(A)与硅酮(甲基)丙烯酸酯(C)的相溶性的观点来进行选择;作为硅酮(甲基)丙烯酸酯(C),优选使用具有有助于与(A)和(B)的相溶性的相溶性片段的化合物。作为相溶性片段,例如,可举出聚烯化氧结构、聚酯结构和聚酰胺结构等。这些相溶性片段,可在硅酮(甲基)丙烯酸酯(C)中单独含有1种,此外也可以含有2种以上。另外,从处理方面来看,硅酮(甲基)丙烯酸酯(C)也可以稀释后使用。作为稀释剂,从自固化物的渗出等方面来看,优选具有反应性的物质。另外,通过将3官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(A)或双官能团的(甲基)丙烯酸酯(B)与硅酮(甲基)丙烯酸酯(C)混合,能提高硅酮(甲基)丙烯酸酯(C)的处理性。
作为这样的硅酮(甲基)丙烯酸酯(C),具体来说,例如,可适宜举出チッソ公司制造的サイラプレーン系列、信越化学工业公司制造的硅酮二丙烯酸酯“X-22-164”、“X-22-1602”、ビックケミー·ジャパン公司制造的“BYK-UV3500”、“BYK-UV3570”、エボニックデグサジャパン公司制造的TEGO Rad系列。这些硅酮(甲基)丙烯酸酯(C)可单独使用1种,也可以将2种以上并用。
在将活化能射线固化性树脂组合物中的聚合性成分的合计作为100质量份时,硅酮(甲基)丙烯酸酯(C)优选为3~85质量份,更优选为7~70质量份,进一步优选为20~70质量份。通过使硅酮(甲基)丙烯酸酯(C)的含量在3质量份以上,具有微细凹凸结构的表层的水接触角易于变为130°以上,赋予层积体防污性。另外,通过使硅酮(甲基)丙烯酸酯(C)的含量在85质量份以下,可赋予能将微细凹凸结构转印至表层程度的弹性模量。另外,通过使硅酮(甲基)丙烯酸酯(C)的含量在7质量份以上,表层的水接触角易于变为135°以上,层积体的防污性提高。另外,通过使硅酮(甲基)丙烯酸酯(C)的含量变为70质量份以下,能抑制活化能射线固化性树脂组合物的粘度,处理性提高。此外,通过使硅酮(甲基)丙烯酸酯(C)的含量在20质量份以上,相对于活化能射线固化性树脂组合物中的成分、特别是(A)和(B)的相溶性变良好且表层的疏水性和突起的柔软性提高,因此,体现出具有优良的防污性。
此外,活化能射线固化性树脂组合物中,还可包含单官能团单体。对于单官能团单体,最好考虑与3官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(A)和双官能团的(甲基)丙烯酸酯(B)的相溶性来进行选择,从这样的观点来看,例如,优选举出在酯基上具有聚乙二醇链的单官能团(甲基)丙烯酸酯类、在羟烷基(甲基)丙烯酸酯等的酯基上具有羟基的单官能团(甲基)丙烯酸酯类、单官能团丙烯酰胺类、甲基丙烯酰胺丙基三甲基铵甲基硫酸酯或甲基丙烯酰氧基乙基三甲基铵甲基硫酸酯等阳离子性单体类等的亲水性单官能团单体。作为单官能团单体,具体来说,可使用单官能团(甲基)丙烯酸酯类的“M-20G”、“M-90G”、“M-230G”(新中村化学公司制造)等。
另外,活化能射线固化性树脂组合物中,也可添加丙烯酰吗啉或乙烯基吡咯烷酮等粘度调整剂、提高对透明基材的粘附性的丙烯酰基异氰酸酯类等的粘附性提高剂等。
在将活化能射线固化性树脂组合物中的聚合性成分的合计作为100质量份时,活化能射线固化性树脂组合物中的单官能团单体的含量,例如,优选0.1~20质量份,更优选5~15质量份。通过含有单官能团单体,提高基材与表层(活化能射线固化性树脂)之间的粘附性。通过使单官能团单体的含量在20质量份以下,能调整3官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(A)和双官能团的(甲基)丙烯酸酯(B)的含量,并易于充分体现防污性。单官能团单体可单独使用1种或将2种以上混合使用。
另外,活化能射线固化性树脂组合物中,可添加将单官能团单体中的1种或2种以上进行聚合的低聚合度的聚合物(低聚物)。作为这样的低聚合度的聚合物,具体来说,例如,可举出在酯基上具有聚乙二醇链的单官能团(甲基)丙烯酸酯类(例如,“M-230G”,新中村化学公司制造)、甲基丙烯酰胺丙基三甲基铵甲基硫酸酯的40/60共聚低聚物(例如,MRCユニテック公司制造,“MG聚合物”)等。
进一步地,活化能射线固化性树脂组合物中,除了包含上述各种单体和低聚合度的聚合物以外,还可包含防静电剂、脱模剂、紫外线吸收剂、胶体二氧化硅等的微粒子。
活化能射线固化性树脂组合物也可含有脱模剂。当活化能射线固化性树脂组合物含有脱模剂时,在连续制造层积体时,能维持良好的脱模性。作为脱模剂,例如,可举出(聚)氧亚烷基烷基磷酸化合物。特别是,使用阳极氧化的氧化铝的模具时,通过(聚)氧亚烷基烷基磷酸化合物与氧化铝相互作用,脱模剂能容易地吸附于模具表面。
作为(聚)氧亚烷基烷基磷酸化合物的市售产品,例如,可举出城北化学工业株式会社制造的“JP-506H”(商品名)、アクセル公司制造的“モールドウイズINT-1856”(商品名)、日光化学株式会社制造的“TDP-10”、“TDP-8”、“TDP-6”、“TDP-2”、“DDP-10”、“DDP-8”、“DDP-6”、“DDP-4”、“DDP-2”、“TLP-4”、“TCP-5”、“DLP-10”(商品名)等。
活化能射线固化性树脂组合物中所含的脱模剂可单独使用1种,也可以将2种以上并用。
相对于聚合性成分100质量份,活化能射线固化性树脂组合物中所含的脱模剂的含量优选为0.01~2.0质量份,更优选为0.05~0.2质量份。脱模剂的含量为0.01质量份以上时,在表面具有微细凹凸结构的物品的自模具的脱模性良好。另一方面,脱模剂的比例为2.0质量份以下时,活化能射线固化性树脂组合物的固化物与基材之间的粘附性良好,并且固化物的硬度适当,能充分维持微细凹凸结构。
微细凹凸结构优选微细凹凸结构的相邻凸部间的距离w1(间距)为可见光的波长以下,更优选w1为100nm以上、300nm以下,进一步优选150nm以上、250nm以下,特别优选170nm以上、230nm以下。通过w1为100nm以上,能有效防止凸部间的突起合一。通过使w1为300nm以下,由于足够小于可见光波长,因此,能有效抑制可见光的散射,易于赋予优良的防反射性。
另外,本实施方式中,“可见光的波长”意味着400nm的波长。
凸部13的高度d1优选为100nm以上,更优选为150nm以上。通过使高度d1为100nm以上,能防止最低反射率的上升和特定波长的反射率的上升,易于赋予优良的防反射性。
高宽比(凸部13的高度/相邻凸部间的间隔)优选为0.5~5.0,更优选为0.6~2.0,进一步优选为0.8~1.2。高宽比为0.5以上时,能防止最低反射率的上升和特定波长的反射率的上升,体现优良的防反射性。另外,高宽比为5以下时,由于擦拭表层时微细凹凸结构的凸部难以被折断,因此,体现良好的耐擦伤性和防反射性。
另外,本实施方式中,如图1所示,“凸部的高度”是指从凸部13的顶端13a至相邻的凹部14的底部14a为止的垂直方向的距离。另外,微细凹凸结构的凸部13的形状并没有特别限定,但为了得到以折射率连续增加而令低折射率和低波长依赖性两全的防反射功能,优选如图1所示的大致圆锥形状或如图2所示的吊钟形状等的以与膜面平行的面切断时的截面积的占有率在面向基材侧连续增大的结构。另外,也可通过多个更微细的凸部的突起合一来形成上述微细凹凸结构。
作为在层积体的表面形成微细凹凸结构的方法,并没有特别限定,例如,可举出使用形成有微细凹凸结构的压模进行注塑成形或冲压成形的方法。另外,作为微细凹凸结构的形成方法,例如,也可举出以下的方法:在形成有微细凹凸结构的压模与透明基材之间填充活化能射线固化性树脂组合物,通过照射活化能射线使活化能射线固化性树脂组合物固化,并在转印压模的凹凸形状后,进行脱模。另外,作为微细凹凸结构的形成方法,还可举出以下的方法:在形成有微细凹凸结构的压模与透明基材之间填充活化能射线固化性树脂组合物,在活化能射线固化性树脂组合物上转印压模的凹凸形状后进行脱模,然后,照射活化能射线,使活化能射线固化性树脂组合物固化。这些方法中,考虑凹凸结构的转印性、表面组成的自由度时,优选以下的方法:在形成有微细凹凸结构的压模与透明基材之间填充活化能射线固化性树脂组合物,通过照射活化能射线而使活化能射线固化性树脂组合物固化,并在转印压模的凹凸形状后进行脱模。
基材并没有特别限定,但优选透明基材。作为透明基材,只要其是透光的材料,就没有特别限定。作为透明基材的材料,例如,可举出甲基丙烯酸甲酯(共)聚合物、聚碳酸酯、苯乙烯(共)聚合物、甲基丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物、二醋酸纤维素、三醋酸纤维素、醋酸丁酸纤维素、聚酯、聚酰胺、聚酰亚胺、聚醚砜、聚砜、聚丙烯、聚甲基戊烯、聚氯乙烯、聚乙烯基缩醛、聚醚酮、聚氨酯、玻璃、水晶等。透明基材可通过注塑成形、挤出成形、铸造成形中的任一种方法进行制作。
透明基材的形状并没有特别限定,可根据用途进行适当选择,例如,在用途为防反射膜时,优选片状或膜状。另外,为了改良与活化能射线固化性树脂组合物的粘附性、防静电性、耐擦伤性、耐候性等,可在透明基材的表面上实施如各种涂布或电晕放电处理。
制作形成有微细凹凸结构的压模的方法,并没有特别限定,例如,可举出电子束光刻和激光干涉法等。例如,通过在适当的支持基板上涂布适当的光致抗蚀剂膜后,用紫外线激光、电子束、X射线等光进行曝光,接着显影,从而形成具有微细凹凸结构的模型。该模型可直接作为压模使用。此外,通过用光致抗蚀剂层对支持基板进行干法蚀刻来选择性地蚀刻后,除去光致抗蚀剂层,从而在支持基板自身上直接形成微细凹凸结构。
此外,可将阳极氧化的多孔氧化铝作为压模利用。例如,如日本专利特开2005-156695号所公开的那样,通过在草酸、硫酸、磷酸等的电解液中在设定的电压下对铝进行阳极氧化的方法而得到的氧化铝纳米孔阵列也可作为压模利用。按照该方法,通过将高纯度铝在恒压下长时间进行阳极氧化后,暂且除去氧化膜,再次阳极氧化,可自组织化地形成具有非常高规则性的细孔。进一步地,通过在再次阳极氧化时,将阳极氧化处理和孔径扩大处理进行组合,除了形成大致圆锥状以外,也可形成凹部为吊钟形状的微细凹凸结构。此外,也可由具有微细凹凸结构的原型用电铸法等制作复制型,并将其作为压模使用。
如此制作的压模的形状并没有特别限定,可为平板状或辊状,但从能连续将微细凹凸结构转印至活化能射线固化性树脂组合物的观点来看,优选辊状。
本实施方式中的活化能射线固化性树脂组合物可适当含有分子中具有自由基聚合性和/或阳离子聚合性键的单体、低聚合度的聚合物、反应性聚合物,所述组合物是通过后述的聚合引发剂而固化的物质。另外,活化能射线固化性树脂组合物也可含有非反应性聚合物。
作为使活化能射线固化性树脂组合物固化时所使用的活化能射线,具体来说,例如,可举出可见光、紫外线、电子束、等离子体、红外线等。
活化能射线的光照射,例如可使用高压汞灯进行。对于累积光照射能量,只要是能进行活化能射线固化性树脂组合物的固化的能量,就没有特别限定,例如,优选100~5000mJ/cm2,更优选200~4000mJ/cm2,进一步优选400~3200mJ/cm2。活化能射线的累积光照射量存在影响活化能射线固化性树脂组合物的固化度的情况,因此,最好适当选择进行光照射。
作为活化能射线固化性树脂组合物的固化(光固化)中所使用的聚合引发剂(光聚合引发剂),并没有特别限定,例如,可举出2,2-二乙氧基乙酰氧基苯甲酮、对二甲基苯乙酮、1-羟基二甲基苯基酮、1-羟基环己基苯基酮、2-甲基-4-甲硫基-2-吗啉代苯丙酮、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉代苯基)丁酮等的苯乙酮类;安息香甲醚、安息香甲苯磺酸酯、安息香甲醚、安息香***、安息香异丙醚等安息香类;二苯甲酮、2,4-二氯二苯甲酮、4,4-二氯二苯甲酮、对氯二苯甲酮等的二苯甲酮类;2,4,6-三甲基苯甲酰二苯基氧化膦等的膦氧化物类;缩酮类;蒽醌类;噻吨酮类;偶氮化合物;过氧化物;2,3-二烷基二酮化合物;二硫化物化合物;氟胺化合物;芳香族锍类等。这些光聚合引发剂可单独使用1种,也可以将2种以上并用。
另外,活化能射线固化性树脂组合物也可通过光固化与热固化并用来进行固化。并用热固化时所添加的热聚合引发剂并没有特别限定,例如,可举出2,2'-偶氮双(4-甲氧基-2,4-二甲基戊腈)、2,2'-偶氮双(2,4-二甲基戊腈)、2,2'-偶氮双(2-甲基丙腈)、2,2'-偶氮双(2-甲基丁腈)、1,1'-偶氮双(环己烷-1-腈)、1-[(1-氰基-1-甲基乙基)偶氮]甲酰胺、2-苯基偶氮-4-甲氧基-2,4-二甲基戊腈、二甲基2,2'-偶氮双(2-甲基丙酸酯)等偶氮化合物;过氧化苯甲酰、叔己基过氧新癸酸酯、二(3-甲基-3-甲氧基丁基)过氧二碳酸酯、叔丁基过氧新癸酸酯、2,4-二氯过氧化苯甲酰、叔己基过氧化新戊酸酯、叔丁基过氧化新戊酸酯、3,5,5-三甲基己酰基过氧化物、辛酰基过氧化物、癸酰基过氧化物、月桂酰基过氧化物、枯基过氧化辛酸酯、琥珀酸过氧化物、过氧化乙酰、叔丁基过氧化异丁酸酯、1,1'-双(叔丁基过氧)-3,3,5-三甲基环己烷、1,1'-双(叔丁基过氧)环己烷、叔丁基过氧化苯甲酸酯、二枯基过氧化物等的过氧化物等。这些热聚合引发剂可单独使用1种,也可以将2种以上并用。
本实施方式的层积体,例如,可用于防反射膜(包括防反射塑料膜)或防反射体等的防反射物品、图像显示装置、触摸屏、光波导路、浮雕全息图、太阳能电池、透镜、偏振分离元件、有机电致发光的光提取率提高构件等的光学物品、细胞培养片等的用途中。本实施方式的层积体,特别适合于作为防反射膜(包括防反射塑料膜)或防反射体等的防反射物品的用途。
本实施方式的层积体是具有容易去除污垢的防污性和耐擦伤性优良的表层的层积体,因此,通过将本实施方式的层积体设置于防反射物品、图像显示装置、触摸屏等的最表面,使用时附着的皮脂等的污垢难以附着且易于掉落,能发挥良好的防反射性能。进一步地,即使在表面不用水或醇,也能容易地去除污垢,因此,能得到实用面也优良的物品。
防反射物品为膜形状时,例如,可将其粘贴于以下的对象物的表面来使用:如液晶显示装置、等离子显示面板、电致发光显示器、阴极管显示装置这样的图像显示装置、透镜、橱窗、汽车仪表罩、眼镜镜片等。
防反射物品具有立体形状时,使用事先根据用途所确定形状的透明基材来制造层积体,并可将其作为构成上述对象物表面的构件来使用。
另外,对象物为图像显示装置时,并不限于其表面,既可在其前面板粘贴防反射物品,也可由本实施方式的层积体构成前面板本身。
(实施方式2)
如上所述,表层可由活化能射线固化性树脂组合物的固化物所构成,在本实施方式的层积体中,优选活化能射线固化性树脂组合物包含具有SH基的化合物(D)。SH基是指硫醇基、氢硫基、巯基或硫氢基。通过在活化能射线固化性树脂组合物中包含具有SH基的化合物,能得到硫原子与硫原子或碳原子结合的化学键。由此,可以维持固化物的交联密度的情况下降低弹性模量,因此,能维持突起的形状的同时赋予突起柔软性,变得能去除在凹部所滞留的污垢,所以防污性提高。
在本实施方式的层积体中,活化能射线固化性树脂组合物优选包含:双官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(E)0~95质量份;上述硅酮(甲基)丙烯酸酯(C)0~75质量份;以及具有SH基的化合物(D)1~60质量份(其中将聚合性成分的合计作为100质量份)。另外,双官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(E)是不含硅酮(甲基)丙烯酸酯(C)的物质。
此处,双官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(E)意味着在分子内至少具有2个以上的选自丙烯酰基(CH2=CHCO-)和甲基丙烯酰基(CH2=C(CH3)CO-)的基团的化合物。
作为双官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(E),可举出二(甲基)丙烯酸乙二醇酯、二(甲基)丙烯酸三丙二醇酯、异氰脲酸环氧乙烷改性二(甲基)丙烯酸酯、二(甲基)丙烯酸三乙二醇酯、二(甲基)丙烯酸二乙二醇酯、二(甲基)丙烯酸新戊二醇酯、二(甲基)丙烯酸1,6-己二醇酯、二(甲基)丙烯酸1,5-戊二醇酯、二(甲基)丙烯酸1,3-丁二醇酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、2,2-双(4-(甲基)丙烯酰氧基聚乙氧基苯基)丙烷、2,2-双(4-(甲基)丙烯酰氧基乙氧基苯基)丙烷、2,2-双(4-(3-(甲基)丙烯酰氧基-2-羟基丙氧基)苯基)丙烷、1,2-双(3-(甲基)丙烯酰氧基-2-羟基丙氧基)乙烷、1,4-双(3-(甲基)丙烯酰氧基-2-羟基丙氧基)丁烷、二羟甲基三环癸烷二(甲基)丙烯酸酯、双酚A的环氧乙烷加成物二(甲基)丙烯酸酯、双酚A的环氧丙烷加成物二(甲基)丙烯酸酯、二(甲基)丙烯酸羟基特戊酸新戊二醇酯、二乙烯基苯、亚甲基双丙烯酰胺等的双官能团单体;三(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、三(甲基)丙烯酸三羟甲基丙烷酯、三羟甲基丙烷环氧乙烷改性三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷环氧丙烷改性三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷环氧乙烷改性三丙烯酸酯、异氰脲酸环氧乙烷改性三(甲基)丙烯酸酯等的三官能团单体;琥珀酸/三羟甲基乙烷/丙烯酸的缩合反应混合物、六(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯、五(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯、四丙烯酸二三羟甲基丙烷酯、四(甲基)丙烯酸四羟甲基甲烷酯等的多官能团单体;双官能团以上的聚氨酯丙烯酸酯、双官能团以上的聚酯丙烯酸酯等。这些可单独使用1种,也可以将2种以上组合使用。
在将活化能射线固化性树脂组合物中的聚合性成分的合计作为100质量份时,双官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(E)优选为0~95质量份,更优选为25~90质量份,特别优选为40~90质量份。双官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(E)的含量为0质量份以上、95质量份以下时,能抑制弹性模量的过度下降,并能维持突起的形状。另外,通过在组合物中添加双官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(E),即双官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(E)的含量超过0质量份时,容易抑制弹性模量,容易维持突起的形状。另外,双官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(E)的含量为40质量份以上时,能抑制弹性模量的下降,能更有效地防止突起的合一。另外,双官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(E)的含量为95质量份以下时,弹性模量降低,能更有效地去除污垢。此外,含量为90质量份以下时,弹性模量足够低,能更有效地去除滞留在凹部的污垢。其结果,变得易于将污垢从凹部中挤出,赋予层积体充分的防污性。
本实施方式中,在将活化能射线固化性树脂组合物中的聚合性成分的合计作为100质量份时,硅酮(甲基)丙烯酸酯(C)优选为0~75质量份,更优选为5~70质量份。硅酮(甲基)丙烯酸酯(C)的含量为0质量份以上、75质量份以下时,赋予疏水性,防污性进一步提高。另外,通过在组合物中添加硅酮(甲基)丙烯酸酯(C),即硅酮(甲基)丙烯酸酯(C)的含量超过0质量份时,能更有效地赋予疏水性,防污性提高。另外,硅酮(甲基)丙烯酸酯(C)的含量为5质量份以上时,表层的表面能量下降,相对于水的接触角变为130°以上,因此,能进一步提高防污性。另外,硅酮(甲基)丙烯酸酯(C)的含量为75质量份以下时,与其它成分的相溶性变良好,因此,透明性提高。此外,硅酮(甲基)丙烯酸酯(C)的含量为70质量份以下时,能抑制活化能射线固化性树脂组合物的粘度,提高处理性。
具有SH基的化合物(D),只要其是具有SH基的化合物,就没有特别限定,但为了增加表层的交联密度并维持强度,优选含有2个以上SH基的化合物,从活化能射线固化性树脂组合物的储藏稳定性的观点来看,SH基更优选为仲硫醇基。
作为具有2个以上SH基的化合物,例如,可举出1,2-乙烷二硫醇、1,2-丙烷二硫醇、1,3-丙烷二硫醇、1,4-丁烷二硫醇、1,6-己烷二硫醇、1,7-庚烷二硫醇、1,8-辛烷二硫醇、1,9-壬烷二硫醇、1,10-癸烷二硫醇、1,12-十二烷二硫醇、2,2-二甲基-1,3-丙烷二硫醇、3-甲基-1,5-戊烷二硫醇、2-甲基-1,8-辛烷二硫醇、1,4-环己烷二硫醇、1,4-双(巯基甲基)环己烷、1,1-环己烷二硫醇、1,2-环己烷二硫醇、二环[2,2,1]庚-外-顺式-2,3-二硫醇、1,1-双(巯基甲基)环己烷、双(2-巯基乙基)醚、乙二醇双(2-巯基乙酸酯)、乙二醇双(3-巯基丙酸酯)等的二硫醇化合物;1,1,1-三(巯基甲基)乙烷、2-乙基-2-巯基甲基-1,3-丙烷二硫醇、1,2,3-丙烷三硫醇、三羟甲基丙烷三(2-巯基乙酸酯)、三羟甲基丙烷三(3-巯基丙酸酯)、三((巯基丙酰氧基)-乙基)异氰脲酸酯等的三硫醇化合物;季戊四醇四(2-巯基乙酸酯)、季戊四醇四(3-巯基丙酸酯)、季戊四醇四(3-巯基丁酸酯)、二季戊四醇六-3-巯基丙酸酯等的具有4个以上SH基的硫醇化合物。
作为具有仲硫醇的化合物,可举出カレンズMT PE1、カレンズMT NR1、カレンズMT BD1(商品名,昭和电工公司制造)。
这样的含有SH基的化合物(D),具体来说,可适宜举出昭和电工公司制造的“カレンズMT PE1”、“カレンズMT BD1”、“カレンズMT NR1”(均为商品名)。
在将活化能射线固化性树脂组合物中的聚合性成分的合计作为100质量份时,含有SH基的化合物(D)优选为1~60质量份,更优选为1~15质量份。含有SH基的化合物(D)的含量为1质量份以上时,维持交联密度的情况下降低表层的弹性模量,因此,变得易于从凹部中挤出污垢,其结果是,能赋予层积体充分的防污性,并且能维持凸部形状的复原力。另外,含有SH基的化合物(D)的含量为60质量份以下时,能维持活化能射线固化性树脂组合物的储藏稳定性。此外,含有SH基的化合物(D)的含量为15质量份以下时,能更有效地抑制表层弹性模量的下降,防止凸部的合一。
活化能射线固化性树脂组合物中,还可含有其他的单官能团单体。对于单官能团单体,最好考虑其与双官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(E)和硅酮(甲基)丙烯酸酯(C)的相溶性来进行选择,从这样的观点来看,作为单官能团单体,例如,可优选举出在酯基上具有聚乙二醇链的单官能团(甲基)丙烯酸酯类、在羟烷基(甲基)丙烯酸酯等的酯基上具有羟基的单官能团(甲基)丙烯酸酯类、单官能团丙烯酰胺类、甲基丙烯酰胺丙基三甲基铵甲基硫酸酯或甲基丙烯酰氧基乙基三甲基铵甲基硫酸酯等阳离子性单体类等的亲水性单官能团单体。作为单官能团单体,具体来说,可使用单官能团(甲基)丙烯酸酯类的“M-20G”、“M-90G”、“M-230G”(新中村化学公司制造,均为商品名)等。另外,从提高防污性的观点来看,适宜使用烷基单(甲基)丙烯酸酯、硅酮(甲基)丙烯酸酯、氟化烷基(甲基)丙烯酸酯。作为这样的单官能团单体,具体来说,可使用日油公司制造的“ブレンマーLA”、“ブレンマーCA”、“ブレンマーSA”(均为商品名)、信越化学工业公司制造的“X-24-8201”、“X-22-174DX”(均为商品名)以及エクスフロアー·リサーチ公司制造的“C10GACRY”(商品名)等。
(实施方式3)
表层是由以下的层所构成:
由上述活化能射线固化性树脂组合物的固化物构成的层;以及在由该活化能射线固化性树脂组合物的固化物构成的层上所形成的作为最表面层的表面处理层。
图3是显示本实施方式涉及的层积体110的构成的一例的示意截面图。图3中,在具有透明性的基材111上形成有由活化能射线固化性树脂组合物的固化物构成的层(以下,也称为固化物层)112,并且在该固化物层112上形成有作为最表面层的表面处理层113。层积体110中,固化物层112的表面侧形成有微细凹凸结构,表面处理层113是沿着该微细凹凸结构所形成的。表层104是由固化物层112和表面处理层113所构成的。微细凹凸结构的形状,并不局限于如图3所示的形状,也可为如图4所示的形状,也可以是其他形状。
本实施方式的层积体中,微细凹凸结构区域的水接触角,即表面处理层的水接触角优选为130°以上,更优选135°以上。表面处理层的水接触角为130°以上时,表面能量足够小,因此,能容易地擦掉污垢。另外,表面处理层的水接触角为135°以上时,表面能量足够小,因此,能抑制污垢的附着。表面处理层的水接触角的上限并没有特别限定,但优选为150°以下,更优选为145°以下。作为这样的呈现疏水性的表面处理层的材料,适宜使用具有烷基、聚二甲基硅氧烷结构或氟化烷基的化合物。另外,从对微细凹凸结构的粘附性的观点来看,表面处理层的材料优选为具有硅烷、烷氧基硅烷、硅氮烷、(甲基)丙烯酸酯等的反应性基团的化合物。作为这样的化合物,具体来说,适宜举出信越化学工业公司制造的“KBM”系列、“KBE”系列、“X”系列、ビックケミー·ジャパン公司制造的“BYK”系列、エボニックデグサジャパン公司制造的“TEGO Rad”系列、フロロテクノロジー公司制造的“FG”系列、“FS”系列等。
表面处理层的材料,可通过浸涂、喷涂、刷涂、旋涂等一般的方法将其涂布至固化物上。另外,为了增加表面处理层与具有微细凹凸结构的固化物层之间的粘附性,优选进行微细凹凸结构区域的前处理。作为前处理,可举出通过二氧化硅蒸镀或等离子体等向微细凹凸结构表面导入官能团、含有与表面处理层的反应性良好的化合物的底漆的涂布等。从维持微细凹凸结构的防反射性能的观点来看,表面处理层的厚度优选为100nm以下。表面处理层的存在可根据角度可变的ATR测定中的由入射角而引起的光谱变化或根据TEM的截面观察来确认。
(实施方式4)
以下,对本实施方式进行详细说明。
本实施方式涉及的层积体是在表面设置了具有微细凹凸结构的表层的层积体,所述表层的弹性模量小于200MPa,所述表层的水接触角为25°以下。
所述表层包含活化能射线固化性树脂组合物的固化物,所述活化能射线固化性树脂组合物的固化物优选包含聚合性成分的聚合物,其中,所述聚合性成分包含:3官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯5~55质量份和聚乙二醇二丙烯酸酯(乙二醇的平均重复单元为6~40)45~95质量份(其中聚合性成分的合计作为100质量份)。对于本实施方式涉及的层积体,即使在表面不使用水或醇等,也能容易地去除污垢,防污性优良。
图1是显示本实施方式涉及的层积体的一例的纵截面图。如图1所示的层积体10中,在后述的透明基材11上形成有表层12。表层12的表面上形成有微细凹凸结构。另外,表层12包含活化能射线固化性树脂组合物的固化物。
本实施方式涉及的微细凹凸结构中,优选图1中相邻的凸部13间的间隔(pitch)w1为可见光的波长以下,更优选100nm以上、300nm以下,进一步优选150nm以上、250nm以下,特别优选170nm以上、230nm以下。特别地,上述间距为150nm以上时,即使表层的弹性模量小于200MPa,也能进一步防止凸部13间的突起合一。另外,特别是,上述间距为250nm以下时,充分低于可见光的波长,因此,更能抑制可见光的散射,适宜作为防反射物品使用。另外,本实施方式中,“可见光的波长”意味着400nm的波长。此外,相邻凸部间的间隔在图1中表示从凸部的顶端13a至相邻凸部的顶端13a的间隔w1。
本实施方式涉及的微细凹凸结构中,图1中的凸部13的高度d1优选为100nm以上,更优选为120nm以上,进一步优选为150nm以上,特别优选为170nm以上。通过凸部13的高度d1为100nm以上,最低反射率和特定波长的反射率都不会上升,即使在将层积体作为防反射物品使用时,也能得到充分的防反射性。凸部13的高度d1的上限并没有特别限定,例如,可为1μm以下。另外,凸部的高度表示以下的值:在图1中,从凸部的顶端13a至相邻凹部的底部14a的垂直距离d1。
高宽比(凸部13的高度d1/相邻凸部13间的间隔w1)优选为0.5~5.0,更优选为0.6~2.0,进一步优选为0.7~1.5,特别优选为0.8~1.2。高宽比大于0.5时,最低反射率和特定波长的反射率都不会上升,即使在将层积体作为防反射物品使用时,也能得到充分的防反射性。另外,高宽比小于5.0时,擦拭时,凸部也难以折断,耐擦伤性提高,呈现出充分的防反射性。
另外,相接凸部间的间隔和凸部的高度是以下的值:在微细凹凸结构上进行10分钟的铂蒸镀后,使用扫描电子显微镜(商品名:“JSM-7400F”,日本电子(株)制造),通过在加速电压3.00kv的条件下进行观察,各自测定10个点而得到的平均值。
本实施方式涉及的表层的弹性模量小于200MPa。弹性模量为200MPa以上时,表层的微细凹凸结构***,不能充分挤出进入凹部的污垢,防污性差。表层的弹性模量优选为40MPa以上、180MPa以下,更优选为60MPa以上、170MPa以下,进一步优选为90MPa以上、160MPa以下,特别优选为100MPa以上、150MPa以下。表层的弹性模量为40MPa以上时,能防止微细凹凸结构的凸部的突起合一。特别是,表层的弹性模量为90MPa以上时,微细凹凸结构足够硬,因此,更能防止凸部的突起合一。此外,特别是,表层的弹性模量为150MPa以下时,微细凹凸结构足够柔软,因此,微细凹凸结构能自由地进行变形,能更简便地去除进入凹部的污垢,防污性变良好。
另外,表层的弹性模量是通过以下方法所测定的值。使用“FISCHERSCOPE(R)HM2000”(商品名,フィッシャー公司制造),在50mN/10秒的条件下,边增加负荷边对表层的照射面施加负荷,并在50mN下保持60秒后,在与负荷增加相同的条件下卸荷。使用承受这时的65%与95%的负荷的点,并通过外插法计算弹性模量。或者,也可以将厚度500μm的Teflon(テフロン,特氟龙)片作为隔片使用,并用2枚玻璃夹住作为表层材料的活化能射线固化性树脂组合物,以累积光照射量3000mJ/cm2的能量照射紫外线,使活化能射线固化性树脂组合物光固化,制作厚度500μm的活化能射线固化性树脂组合物的固化物,对该固化物的照射面进行与上述同样的测定,计算弹性模量。
本实施方式涉及的表层的水接触角为25°以下,优选20°以下,更优选15°以下,进一步优选10°以下。表层的水接触角为25°以下时,层积体的表面被亲水化,如日本专利特许4689718号所记载的用水能使附着的污垢浮起而擦掉。表层的水接触角优选越低越好,其下限并没有特别限定,例如,可为1°以上,优选3%以上。
另外,表层的水接触角是以下的值:使用自动接触角测定装置(KRUSS公司制造),在表层的表面上滴下1μl的水,并以θ/2法算出7秒后的接触角而得到的值。
本实施方式涉及的层积体可以设有基材。例如,如图1所示的层积体10,可设有与表层12相邻接的基材11。
本实施方式涉及的活化能射线固化性树脂组合物可为以下的组合物:适当含有分子内具有自由基聚合性和/或阳离子聚合性键的的单体、低聚合度的聚合物、反应性聚合物,并通过后述的聚合引发剂而被固化的组合物。另外,本实施方式涉及的活化能射线固化性树脂组合物也可含有非反应性聚合物。
本实施方式涉及的活化能射线固化性树脂组合物,优选包含聚合性成分,其中,该聚合性成分包含:3官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯5~55质量份和聚乙二醇二丙烯酸酯(乙二醇的平均重复单元为6~40)45~95质量份(其中将聚合性成分的合计作为100质量份)。如此,可以使表层的弹性模量能小于200MPa。另外,本说明书中,(甲基)丙烯酸酯表示丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。此外,聚合性成分表示具有聚合性的官能团的化合物。
作为3官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯,并没有特别限定,优选4官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯,更优选5官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯。例如,可举出四(甲基)丙烯酸二三羟甲基丙烷酯、四(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、四(甲基)丙烯酸季戊四醇乙氧基酯、五(甲基)丙烯酸二季戊四醇羟基酯、六(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯(例如,カヤラッドDPEA(商品名,日本化药(株)制造))、琥珀酸/三羟甲基乙烷/丙烯酸的摩尔比为1:2:4的缩合反应混合物、聚氨酯丙烯酸酯类(例如,EBECRYL220、EBECRYL1290、EBECRYL1290K、EBECRYL5129、EBECRYL8210、EBECRYL8301、KRM8200(以上为商品名,ダイセル·サイテック(株)制造))、聚醚丙烯酸酯类(例如,EBECRYL81(商品名,ダイセル·サイテック(株)制造)、改性环氧丙烯酸酯类(例如,EBECRYL3416(商品名,ダイセル·サイテック(株)制造)、聚酯丙烯酸酯类(例如,EBECRYL450、EBECRYL657、EBECRYL800、EBECRYL810、EBECRYL811、EBECRYL812、EBECRYL1830、EBECRYL845、EBECRYL846、EBECRYL1870(以上为商品名,ダイセル·サイテック(株)制造)、环氧乙烷改性二季戊四醇六丙烯酸酯(例如,カヤラッドDPEA-12(商品名,日本化药(株)制造))、DPEA-18(商品名,第一工业制药(株)制造))等的在上述单体加成了环氧乙烷或环氧丙烷而得到的单体等。这些可单独使用,也可以将2种以上并用。
在将聚合性成分的合计作为100质量份时,聚合性成分中所含的3官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯优选为5~55质量份,更优选为10~50质量份,进一步优选为20~45质量份,特别优选为25~40质量份。小于5质量份时,存在不能赋予将微细凹凸结构转印至表层程度的弹性模量的情况。另外,超过55质量份时,存在不能使表层的弹性模量小于200MPa、***不能挤出污垢的情况。另一方面,特别是,25质量份以上时,能赋予表层充分的弹性性,并进一步抑制微细凹凸结构的凸部的突起合一。另外,特别是,45质量份以下时,进一步抑制凸部的运动性下降,并体现出高的防污性。
作为双官能团(甲基)丙烯酸酯的聚乙二醇二丙烯酸酯(乙二醇的平均重复单元为6~40),可举出アロニックスM-260(东亚合成(株)制造,乙二醇的平均重复单元:13)、A-400(乙二醇的平均重复单元:9)、A-600(乙二醇的平均重复单元:14)、A-1000(乙二醇的平均重复单元:23)(以上为商品名,新中村化学工业(株)制造)等。这些可单独使用,也可以将2种以上并用。通过聚合物含有聚乙二醇二丙烯酸酯,能提高表层所含的固化物的分子运动性,因此,能挤出进入凹部的污垢。
聚乙二醇二丙烯酸酯内存在的乙二醇的平均重复单元优选为6~40,更优选为9~30,进一步优选为10~25,特别优选为12~20。乙二醇的平均重复单元小于6时,不能使表层的水接触角变为25°以下,存在无法得到充分的防污性的情况。另一方面,乙二醇的平均重复单元超过40时,存在与3官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯的相溶性不充分的情况。
在将聚合性成分的合计作为100质量份时,聚合性成分中所含的上述聚乙二醇二丙烯酸酯优选为45~95质量份,更优选为50~85质量份,进一步优选为53~80质量份,特别优选为55~75质量份。小于45质量份时,存在不能使表层的弹性模量小于200MPa的情况。另外,超过95质量份时,存在无法保持将微细凹凸结构转印至表层程度的弹性模量的情况。另一方面,特别是,55质量份以上时,能赋予凸部充分的运动性,并体现出充分的防污性。另外,特别是,在75质量份以下时,进一步抑制弹性模量下降,能进一步抑制凸部的突起合一。
聚合性成分中还可含有单官能团单体。作为单官能团单体,只要其是与上述3官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯和上述聚乙二醇二丙烯酸酯相溶的物质,就没有特别限定。作为单官能团单体,例如,优选M-20G、M-90G、M-230G(以上为商品名,新中村化学工业(株)制造)等的在酯基上具有聚乙二醇链的单官能团(甲基)丙烯酸酯类、羟烷基(甲基)丙烯酸酯等的在酯基上具有羟基的单官能团(甲基)丙烯酸酯类、单官能团丙烯酰胺类、甲基丙烯酰胺丙基三甲基铵甲基硫酸酯、甲基丙烯酰氧基乙基三甲基铵甲基硫酸酯等的阳离子性单体类等的亲水性单官能团单体。这些可使用一种,也可以将两种以上并用。
在将聚合性成分的合计作为100质量份时,聚合性成分中所含的上述单官能团单体优选为0~20质量份,更优选为5~15质量份。通过在聚合物中导入单官能团单体单元,能增加基材与表层之间的粘附性。通过将上述单官能团单体的含量变为20质量份以下,聚合物中的上述3官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯单元和上述聚乙二醇二丙烯酸酯单元的含量并没有不足,体现出充分的防污性。
另外,还可在活化能射线固化性树脂组合物中混合将上述单官能团单体的1种或2种以上进行(共)聚合而得到的低聚合度的聚合物。在将聚合性成分的合计作为100质量份时,可在活化能射线固化性树脂组合物中混合例如0~35质量份的该低聚合度的聚合物。作为该低聚合度的聚合物,例如,可举出在酯基上具有聚乙二醇链的单官能团(甲基)丙烯酸酯类与甲基丙烯酰胺丙基三甲基铵甲基硫酸酯的40/60的共聚合低聚物(商品名:“MG聚合物”,MRCユニテック(株)制造)等。
另外,活化能射线固化性树脂组合物中,除了含有上述各种单体或低聚合度的聚合物以外,还可含有防静电剂、脱模剂、紫外线吸收剂、胶体二氧化硅等的微粒子。进一步地,活化能射线固化性树脂组合物还可含有丙烯酰吗啉或乙烯基吡咯烷酮等的粘度调整剂、提高对基材的粘附性的丙烯酰基异氰酸酯类等的粘附性提高剂等。
活化能射线固化性树脂组合物中含有脱模剂时,可以在连续制造本实施方式涉及的层积体时维持良好的脱模性。特别是,使用阳极氧化的氧化铝的模具时,通过(聚)氧亚烷基烷基磷酸化合物和氧化铝相互作用,脱模剂能容易地吸附于模具表面。
作为(聚)氧亚烷基烷基磷酸化合物的市售产品,例如,可举出城北化学工业株式会社制造的“JP-506H”、アクセル公司制造的“モールドウイズINT-1856”、日光化学株式会社制造的“TDP-10”、“TDP-8”、“TDP-6”、“TDP-2”、“DDP-10”、“DDP-8”、“DDP-6”、“DDP-4”、“DDP-2”、“TLP-4”、“TCP-5”、“DLP-10”(以上为商品名)等。活化能射线固化性树脂组合物中所含的脱模剂可单独使用1种,也可以将2种以上并用。
相对于聚合性成分100质量份,活化能射线固化性树脂组合物中所含的脱模剂的比例优选为0.01~2.0质量份,更优选为0.05~0.2质量份。脱模剂的比例为0.01质量份以上时,表面具有微细凹凸结构的物品的自模具的脱模性良好。另一方面,脱模剂的比例为2.0质量份以下时,活化能射线固化性树脂组合物的固化物与基材之间的粘附性良好,并且固化物的硬度适当,能充分维持微细凹凸结构。
作为使活化能射线固化性树脂组合物固化时所使用的活化能射线,具体来说,可举出可见光、紫外线、电子束、等离子体、红外线等的热线等。
另外,活化能射线固化性树脂组合物也可通过光固化与热固化并用来进行固化。
如此,本实施方式涉及的层积体设有表层,其中,该表层包含表面具有微细凹凸结构的活化能射线固化性树脂组合物的固化物,该表层的弹性模量小于200MPa,且该表层是由特定的树脂组成所构成的,因此,防污性优良。另外,微细凹凸结构的相邻凸部间的间隔为可见光的波长(400nm)以下时,防反射性更优良,因此,本实施方式涉及的层积体特别适合作为防防反射物品使用。另外,凸部的高度为100nm以上时,防反射性更优良。
进一步地,本实施方式涉及的防反射物品、图像装置和触摸屏由于具有本实施方式涉及的层积体,因此,防反射性能和防污性优良。特别是,在防反射物品、图像装置和触摸屏的最表面设置本实施方式涉及的层积体时,由于使用时所附着的皮脂等的污垢难以附着并易于掉落,因此,能发挥良好的防反射性能。
(实施方式5)
以下,对本实施方式进行详细说明。
图1是显示本实施方式涉及的层积体10的构成的一例的示意截面图。图1中,在具有透明性的基材11表面上形成有由活化能射线固化性树脂组合物的固化物构成的表层12。层积体10中,在表层12的表面上形成有微细凹凸结构。
本实施方式的层积体中,形成有微细凹凸结构部分的表层的水接触角为130°以上,更优选135°以上。表层的水接触角为130°以上时,表面能量足够小,因此,能容易地擦掉污垢。另外,表层的水接触角为135°以上时,表面能量足够小,因此,能抑制污垢的附着。表层的水接触角的上限并没有特别限定,但优选150°以下,更优选为145°以下。
本实施方式涉及的层积体中,微细凹凸结构的表面的弹性模量,即表层的弹性模量小于200MPa,优选50~100MPa。表层的弹性模量小于200MPa时,微细凹凸结构柔软,因此,能挤出进入凹部的污垢。另外,表层的弹性模量为50MPa以上时,微细凹凸结构足够硬,因此,能有效防止凸部的突起合一。表层的弹性模量为100MPa以下时,微细凹凸结构足够柔软,因此,微细凹凸结构能自由地变形,并能容易地去除进入凹部的污垢。
本实施方式的层积体中,表层是由活化能射线固化性树脂组合物的固化物所构成的。另外,活化能射线固化性树脂组合物优选包含:3官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(A)1~55质量份、双官能团的(甲基)丙烯酸酯(B)10~95质量份、硅酮(甲基)丙烯酸酯(C)3~85质量份。另外,3官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(A)和双官能团的(甲基)丙烯酸酯(B)是硅酮(甲基)丙烯酸酯(C)以外的物质。
此处,3官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯意味着在分子内至少具有3个以上的选自丙烯酰基(CH2=CHCO-)和甲基丙烯酰基(CH2=C(CH3)CO-)的基团的化合物。另外,双官能团的(甲基)丙烯酸酯意味着在分子内具有2个选自丙烯酰基(CH2=CHCO-)和甲基丙烯酰基(CH2=C(CH3)CO-)的基团的化合物。
3官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(A)优选4官能团以上,更优选5官能团以上。作为3官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(A),例如,可举出四(甲基)丙烯酸二三羟甲基丙烷酯、四(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、四(甲基)丙烯酸季戊四醇乙氧基酯、五(甲基)丙烯酸二季戊四醇羟基酯、六(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯、琥珀酸/三羟甲基乙烷/丙烯酸的摩尔比为1:2:4的缩合反应物、聚氨酯丙烯酸酯类、聚醚丙烯酸酯类、改性环氧丙烯酸酯类、聚酯丙烯酸酯类等。作为聚氨酯丙烯酸酯类,例如,可举出ダイセル·サイテック公司制造的“EBECRYL220”、“EBECRYL1290”、“EBECRYL1290K”、“EBECRYL5129”、“EBECRYL8210”、“EBECRYL8301”、“KRM8200”。作为聚醚丙烯酸酯类,例如,可举出ダイセル·サイテック公司制造的“EBECRYL81”。作为改性环氧丙烯酸酯类,例如,可举出ダイセル·サイテック公司制造的“EBECRYL3416”。作为聚酯丙烯酸酯类,例如,可举出ダイセル·サイテック公司制造的“EBECRYL450”、“EBECRYL657”、“EBECRYL800”、“EBECRYL810”、“EBECRYL811”、“EBECRYL812”、“EBECRYL1830”、“EBECRYL845”、“EBECRYL846”、“EBECRYL1870”。另外,作为3官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(A),其它也可举出,例如,在上述单体加成环氧乙烷或环氧丙烷而得到的单体。这些多官能团(甲基)丙烯酸酯(A)可单独使用,也可以将2种以上并用。
在将活化能射线固化性树脂组合物中的聚合性成分的合计作为100质量份时,3官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(A)优选为1~55质量份,更优选为11~30质量份。通过使3官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(A)的含量变为1质量份以上,可赋予将微细凹凸结构转印至表层程度的弹性模量。另外,通过使3官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(A)的含量为55质量份以下,能抑制表层弹性模量的增加。其结果是,能易于将污垢从凹部中挤出,并能赋予层积体充分的防污性。另外,通过使3官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(A)的含量为11质量份以上,能赋予表层良好的弹性模量,能抑制微细凹凸结构中的凸部的突起合一。另外,通过使3官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(A)的含量变为30质量份以下,凸部的运动性下降被抑制,有效地体现出即使不使用水或醇也能容易地去除污垢的防污性。此外,本说明书中,突起或凸部的突起合一是指相邻的突起或凸部合并而成为一个。
作为双官能团的(甲基)丙烯酸酯(B),优选具有聚乙二醇的双官能团丙烯酸酯类、具有聚丙二醇的双官能团丙烯酸酯类、具有聚丁二醇的双官能团丙烯酸酯类等的具有聚亚烷基二醇的双官能团丙烯酸酯。作为具有聚乙二醇的双官能团丙烯酸酯类的具体例子,可举出アロニックスM-240、アロニックスM-260(东亚合成公司制造)、NK酯AT-20E、NK酯ATM-35E(新中村化学公司制造)等。作为具有聚丙二醇的双官能团丙烯酸酯类的具体例子,可举出APG-400、APG-700(新中村化学公司制造)等。作为具有聚丁二醇的双官能团丙烯酸酯类的具体例子,可举出A-PTMG-650(新中村化学公司制造)等。通过使用具有聚亚烷基二醇的双官能团丙烯酸酯作为双官能团的(甲基)丙烯酸酯(B),表层的弹性模量被抑制、变得易于从凹部挤出污垢,有效地体现出防污性。具有聚亚烷基二醇的双官能团丙烯酸酯中,从能得到更良好的防污性方面来看,适宜采用聚乙二醇二丙烯酸酯。通过使用聚乙二醇二丙烯酸酯作为双官能团的(甲基)丙烯酸酯(B),表层树脂的分子运动性提高,变得更易于挤出进入凹部的污垢,体现出良好的防污性。
聚乙二醇二丙烯酸酯的一分子内存在的聚乙二醇链的平均重复单元的合计优选为6~40,更优选为9~30,进一步优选为12~20。聚乙二醇链的平均重复单元为6以上时,保持分子的运动性而体现出良好的防污性。聚乙二醇链的平均重复单元为40以下时,与3官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(A)的相溶性变良好。另外,具有聚亚烷基二醇的双官能团丙烯酸酯中,从相溶性方面来看,也适宜使用聚丙二醇二丙烯酸酯、聚丁二醇二丙烯酸酯。通过使用聚丙二醇二丙烯酸酯或聚丁二醇二丙烯酸酯作为双官能团的(甲基)丙烯酸酯(B),与亲水性低的硅酮二(甲基)丙烯酸酯等硅酮(甲基)丙烯酸酯(C)的相溶性提高能得到透明的活化能射线固化性树脂组合物。这些双官能团的(甲基)丙烯酸酯(B)可单独使用,也可以将2种以上并用。另外,从兼顾防污性和相溶性方面来看,优选将聚乙二醇与聚丙二醇二丙烯酸酯和/或聚丁二醇二丙烯酸酯并用。
在将活化能射线固化性树脂组合物中的聚合性成分的合计作为100质量份时,双官能团的(甲基)丙烯酸酯(B)优选为10~95质量份,更优选为20~70质量份。通过使双官能团的(甲基)丙烯酸酯(B)的含量为10质量份以上,表层的弹性模量增加被抑制,变得易于从凹部中挤出污垢,体现出充分的防污性。通过使双官能团的(甲基)丙烯酸酯(B)的含量为95质量份以下,可保持将微细凹凸结构转印至表层程度的弹性模量。另外,通过使双官能团的(甲基)丙烯酸酯(B)的含量为20质量份以上,能赋予凸部运动性,有效地体现出防污性。此外,通过使双官能团的(甲基)丙烯酸酯(B)的含量为70质量份以下,能抑制弹性模量的下降,能抑制凸部的突起合一。
对于硅酮(甲基)丙烯酸酯(C),只要是在具有有机硅氧烷结构的化合物的侧链和/或末端具有至少一个以上的选自丙烯酰基(CH2=CHCO-)和甲基丙烯酰基(CH2=C(CH3)CO-)的基团的化合物,就没有特别限定。对于硅酮(甲基)丙烯酸酯(C),最好根据3官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(A)与硅酮(甲基)丙烯酸酯(C)的相溶性的观点来进行选择;作为硅酮(甲基)丙烯酸酯(C),优选使用具有有助于与(A)和(B)相溶性的相溶性片段的化合物。作为相溶性片段,例如,可举出聚烯化氧结构、聚酯结构和聚酰胺结构等。这些相溶性片段,可在硅酮(甲基)丙烯酸酯(C)中单独含有,也可以含有2种以上。另外,从处理方面出发,硅酮(甲基)丙烯酸酯(C)也可以稀释使用。作为稀释剂,出于自固化物的渗出等方面,优选具有反应性的物质。另外,通过将3官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(A)或双官能团的(甲基)丙烯酸酯(B)与硅酮(甲基)丙烯酸酯(C)混合,能提高硅酮(甲基)丙烯酸酯(C)的处理性。
作为这样的硅酮(甲基)丙烯酸酯(C),具体来说,例如,可适宜举出チッソ公司制造的サイラプレーン系列、信越化学工业公司制造的硅酮二丙烯酸酯“X-22-164”、“X-22-1602”、ビックケミー·ジャパン公司制造的“BYK-UV3500”、“BYK-UV3570”、エボニックデグサジャパン公司制造的TEGO Rad系列。这些硅酮(甲基)丙烯酸酯(C)可单独使用,也可以将2种以上并用。
在将活化能射线固化性树脂组合物中的聚合性成分的合计作为100质量份时,硅酮(甲基)丙烯酸酯(C)优选为3~85质量份,更优选为5~70质量份,进一步优选为45~70质量份,特别优选为45~65质量份。通过使硅酮(甲基)丙烯酸酯(C)的含量为3质量份以上,具有微细凹凸结构的表层的水接触角易于变为130°以上,赋予层积体防污性。另外,通过使硅酮(甲基)丙烯酸酯(C)的含量为85质量份以下,可赋予能将微细凹凸结构转印至表层程度的弹性模量。另外,通过使硅酮(甲基)丙烯酸酯(C)的含量为5质量份以上,表层的水接触角易于变为135°以上,能提高层积体的防污性。另外,通过使硅酮(甲基)丙烯酸酯(C)的含量为70质量份以下,活化能射线固化性树脂组合物的粘度被抑制,处理性提高。此外,通过使硅酮(甲基)丙烯酸酯(C)的含量变为45质量份以上,对于活化能射线固化性树脂组合物中的成分、特别是(A)和(B)的相溶性变良好,并且表层的疏水性和突起的柔软性提高,体现出具有优良的防污性。另外,通过使硅酮(甲基)丙烯酸酯(C)的含量为65质量份以下,能抑制表层弹性模量的下降,能抑制微细凹凸结构的凸部的突起合一。
活化能射线固化性树脂组合物中,还可包含其他单官能团单体。对于单官能团单体,最好考虑到与3官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(A)和双官能团的(甲基)丙烯酸酯(B)的相溶性来进行选择;从这样的观点来看,例如,优选举出在酯基上具有聚乙二醇链的单官能团(甲基)丙烯酸酯类、在羟烷基(甲基)丙烯酸酯等的酯基上具有羟基的单官能团(甲基)丙烯酸酯类、单官能团丙烯酰胺类、甲基丙烯酰胺丙基三甲基铵甲基硫酸酯或甲基丙烯酰氧基乙基三甲基铵甲基硫酸酯等阳离子性单体类等的亲水性单官能团单体。作为单官能团单体,具体来说,可使用单官能团(甲基)丙烯酸酯类的“M-20G”、“M-90G”和“M-230G”(新中村化学公司制造)等。
另外,活化能射线固化性树脂组合物中,也可添加丙烯酰吗啉或乙烯基吡咯烷酮等粘度调整剂、提高对透明基材的粘附性的丙烯酰基异氰酸酯类等的粘附性提高剂等。
在将活化能射线固化性树脂组合物中的聚合性成分的合计作为100质量份时,活化能射线固化性树脂组合物中的单官能团单体的含量,例如,优选0.1~20质量份,更优选5~15质量份。通过含有单官能团单体,能提高基材与表层(活化能射线固化性树脂)之间的粘附性。通过使单官能团单体的含量为20质量份以下,能调整3官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(A)和双官能团的(甲基)丙烯酸酯(B)的含量,易于充分体现出防污性。单官能团单体可单独使用1种,也可以将2种以上混合使用。
另外,活化能射线固化性树脂组合物中,可添加将单官能团单体中的1种或2种以上进行聚合的低聚合度的聚合物(低聚物)。作为这样的低聚合度的聚合物,具体来说,例如,可举出在酯基上具有聚乙二醇链的单官能团(甲基)丙烯酸酯类(例如,“M-230G”,新中村化学公司制造)或者甲基丙烯酰胺丙基三甲基铵甲基硫酸酯的40/60共聚低聚物(例如,MRCユニテック公司制造,“MG聚合物”)等。
进一步地,活化能射线固化性树脂组合物中,除了包含上述各种单体或低聚合度的聚合物以外,还可包含防静电剂、脱模剂、紫外线吸收剂、胶体二氧化硅等的微粒子。
活化能射线固化性树脂组合物也可含有脱模剂。当活化能射线固化性树脂组合物含有脱模剂时,在连续制造层积体时,能维持良好的脱模性。作为脱模剂,例如,可举出(聚)氧亚烷基烷基磷酸化合物。特别是,使用阳极氧化的氧化铝的模具时,通过(聚)氧亚烷基烷基磷酸化合物与氧化铝相互作用,脱模剂容易地吸附于模具表面。
作为(聚)氧亚烷基烷基磷酸化合物的市售产品,例如,可举出城北化学工业株式会社制造的“JP-506H”(商品名)、アクセル公司制造的“モールドウイズINT-1856”(商品名)、日光化学株式会社制造的“TDP-10”、“TDP-8”、“TDP-6”、“TDP-2”、“DDP-10”、“DDP-8”、“DDP-6”、“DDP-4”、“DDP-2”、“TLP-4”、“TCP-5”、“DLP-10”(商品名)等。
活化能射线固化性树脂组合物中所含的脱模剂可单独使用1种,也可以将2种以上并用。
相对于聚合性成分100质量份,活化能射线固化性树脂组合物中所含的脱模剂的含量优选为0.01~2.0质量份,更优选为0.05~0.2质量份。脱模剂的含量为0.01质量份以上时,表面具有微细凹凸结构的物品的自模具的脱模性良好。另一方面,脱模剂的比例为2.0质量份以下时,活化能射线固化性树脂组合物的固化物与基材之间的粘附性良好,并且固化物的硬度适当,能充分维持微细凹凸结构。
本实施方式中的活化能射线固化性树脂组合物可适当含有分子中具有自由基聚合性和/或阳离子聚合性键的单体、低聚合度的聚合物、反应性聚合物,所述组合物是通过后述的聚合引发剂而固化的物质。另外,活化能射线固化性树脂组合物也可含有非反应性聚合物。
由于本实施方式的层积体是具有污垢容易去除的防污性优良的表层的层积体,因此,通过将本实施方式的层积体设置于防反射物品、图像显示装置、触摸屏等的最表面,使用时附着的皮脂等的污垢难以附着且易于掉落,并能发挥良好的防反射性能。进一步地,即使在表面不用水或醇,也能容易地去除污垢,因此,能得到实用方面也优良的物品。
(实施方式6)
以下,对本实施方式进行详细说明。
图1是显示本实施方式所涉及的层积体10的构成的一例的示意截面图。图1中,在具有透明性的基材11表面上形成有由活化能射线固化性树脂组合物的固化物构成的表层12,在表层12的表面上具有表面处理层13。
本实施方式的层积体中,层积体表面的弹性模量,即包含表面处理层和表层的微细凹凸结构层的弹性模量为2000MPa以下,优选为200MPa以下,更优选为50~100MPa。微细凹凸结构层的弹性模量为2000MPa以下时,微细凹凸结构柔软,因此,能以较少的外力来移动进入了凹部的污垢。微细凹凸结构层的弹性模量为200MPa以下时,微细凹凸结构更柔软,因此,能以极少的外力挤出进入了凹部的污垢。另外,微细凹凸结构层的弹性模量为50MPa以上时,能有效防止微细凹凸结构的凸部的合一。表层的弹性模量为100MPa以下时,微细凹凸结构足够柔软,因此,能以极少的外力使微细凹凸结构自由地变形,能容易地去除进入了凹部的污垢。另外,本说明书中,突起或凸部的合一是指相邻突起或凸部合并而形成一个。
本实施方式的层积体中,表层是由活化能射线固化性树脂组合物的固化物所构成的。另外,活化能射线固化性树脂组合物包含:3官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(A)25~70质量份、双官能团的(甲基)丙烯酸酯(B)30~75质量份(其中将聚合性成分的合计作为100质量份)。
此处,3官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯意味着在分子内至少具有3个以上的选自丙烯酰基(CH2=CHCO-)和甲基丙烯酰基(CH2=C(CH3)CO-)的基团的化合物。另外,双官能团的(甲基)丙烯酸酯意味着在分子内具有2个选自丙烯酰基(CH2=CHCO-)和甲基丙烯酰基(CH2=C(CH3)CO-)的基团的化合物。
3官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(A)优选4官能团以上,更优选5官能团以上。作为3官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(A),例如,可举出四(甲基)丙烯酸二三羟甲基丙烷酯、四(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、四(甲基)丙烯酸季戊四醇乙氧基酯、五(甲基)丙烯酸二季戊四醇羟基酯、六(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯、琥珀酸/三羟甲基乙烷/(甲基)丙烯酸的摩尔比为1:2:4的缩合反应物、聚氨酯(甲基)丙烯酸酯类、聚醚(甲基)丙烯酸酯类、改性环氧(甲基)丙烯酸酯类、聚酯(甲基)丙烯酸酯类、硅酮(甲基)丙烯酸酯类等。作为聚氨酯(甲基)丙烯酸酯类,例如,可举出ダイセル·サイテック公司制造的“EBECRYL220”、“EBECRYL1290”、“EBECRYL1290K”、“EBECRYL5129”、“EBECRYL8210”、“EBECRYL8301”、“KRM8200”。作为聚醚(甲基)丙烯酸酯类,例如,可举出ダイセル·サイテック公司制造的“EBECRYL81”。作为改性环氧(甲基)丙烯酸酯类,例如,可举出ダイセル·サイテック公司制造的“EBECRYL3416”。作为聚酯(甲基)丙烯酸酯类,例如,可举出ダイセル·サイテック公司制造的“EBECRYL450”、“EBECRYL657”、“EBECRYL800”、“EBECRYL810”、“EBECRYL811”、“EBECRYL812”、“EBECRYL1830”、“EBECRYL845”、“EBECRYL846”、“EBECRYL1870”。作为硅酮(甲基)丙烯酸酯类,适宜举出ビックケミー·ジャパン公司制造的“BYK-3570”、エボニックデグサジャパン公司制造的TEGO Rad系列。另外,作为3官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(A),其它也可举出,例如,在上述单体加成环氧乙烷或环氧丙烷而得到的单体。这些多官能团(甲基)丙烯酸酯(A)可单独使用,也可以将2种以上并用。
在将活化能射线固化性树脂组合物中的聚合性成分的合计作为100质量份时,3官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(A)为25~70质量份。通过使3官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(A)的含量为25质量份以上,可赋予能将微细凹凸结构转印至表层程度的弹性模量。另外,通过使3官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(A)的含量为70质量份以下,能抑制表层弹性模量的增加。其结果是,能易于将污垢从凹部中挤出,能赋予层积体充分的防污性。
作为双官能团的(甲基)丙烯酸酯(B),优选具有聚乙二醇的双官能团丙烯酸酯类、具有聚丙二醇的双官能团丙烯酸酯类、具有聚丁二醇的双官能团丙烯酸酯类等具有聚亚烷基二醇的双官能团丙烯酸酯。作为具有聚乙二醇的双官能团丙烯酸酯类的具体例子,可举出アロニックスM-240和アロニックスM-260(东亚合成公司制造)、NK酯AT-20E、NK酯ATM-35E(新中村化学公司制造)等。作为具有聚丙二醇的双官能团丙烯酸酯类的具体例子,可举出APG-400、APG-700(新中村化学公司制造)等。作为具有聚丁二醇的双官能团丙烯酸酯类的具体例子,可举出A-PTMG-650(新中村化学公司制造)等。通过使用具有聚亚烷基二醇的双官能团丙烯酸酯作为双官能团的(甲基)丙烯酸酯(B),表层的弹性模量被抑制,变得易于从凹部挤出污垢,有效地体现出防污性。具有聚亚烷基二醇的双官能团丙烯酸酯中,从能得到更良好的防污性方面来看,适宜采用聚乙二醇二丙烯酸酯。通过使用聚乙二醇二丙烯酸酯作为双官能团的(甲基)丙烯酸酯(B),表层树脂的分子运动性提高,变得更易于挤出进入凹部的污垢,体现良好的防污性。
聚乙二醇二丙烯酸酯的一分子内存在的聚乙二醇链的平均重复单元的合计优选为6~40,更优选为9~30,进一步优选为12~20。聚乙二醇链的平均重复单元为6以上时,保持分子的运动性,体现良好的防污性。聚乙二醇链的平均重复单元为40以下时,与3官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(A)的相溶性变良好。另外,具有聚亚烷基二醇的双官能团丙烯酸酯中,从相溶性方面来看,也适宜使用聚丙二醇二丙烯酸酯、聚丁二醇二丙烯酸酯。通过使用聚丙二醇二丙烯酸酯或聚丁二醇二丙烯酸酯作为双官能团的(甲基)丙烯酸酯(B),与后述的亲水性低的硅酮二(甲基)丙烯酸酯等地硅酮(甲基)丙烯酸酯(C)的相溶性提高,能得到透明的活化能射线固化性树脂组合物。这些双官能团的(甲基)丙烯酸酯(B)可单独使用,也可以将2种以上并用。另外,从兼顾防污性和相溶性方面来看,优选将聚乙二醇与聚丙二醇二丙烯酸酯和/或聚丁二醇二丙烯酸酯并用。
另外,作为双官能团的(甲基)丙烯酸酯(B),从表面自由能小并具有防污性提高的效果的观点来看,适宜使用硅酮(甲基)丙烯酸酯。作为硅酮(甲基)丙烯酸酯,具体来说,例如,可适宜举出チッソ公司制造的サイラプレーン系列、信越化学工业公司制造的硅酮二丙烯酸酯“X-22-164”、“X-22-1602”、ビックケミー·ジャパン公司制造的“BYK-UV3500”、エボニックデグサジャパン公司制造的TEGO Rad系列。这些双官能团的(甲基)丙烯酸酯(B)可单独使用,也可以将2种以上并用。
在将活化能射线固化性树脂组合物中的聚合性成分的合计作为100质量份时,双官能团的(甲基)丙烯酸酯(B)为30~75质量份。通过使双官能团的(甲基)丙烯酸酯(B)的含量为30质量份以上,表层的弹性模量增加被抑制,变得易于将污垢从凹部中挤出,体现充分的防污性。通过使双官能团的(甲基)丙烯酸酯(B)的含量为75质量份以下,弹性模量的降低被抑制,能抑制凸部的合一。
活化能射线固化性树脂组合物中,还可包含其他单官能团单体。对于单官能团单体,最好考虑到与3官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(A)和双官能团的(甲基)丙烯酸酯(B)的相溶性来进行选择;从这样的观点来看,例如,优选举出在酯基上具有聚乙二醇链的单官能团(甲基)丙烯酸酯类、在羟烷基(甲基)丙烯酸酯等的酯基上具有羟基的单官能团(甲基)丙烯酸酯类、单官能团丙烯酰胺类、甲基丙烯酰胺丙基三甲基铵甲基硫酸酯或甲基丙烯酰氧基乙基三甲基铵甲基硫酸酯等阳离子性单体类等的亲水性单官能团单体。作为单官能团单体,具体来说,可使用“M-20G”、“M-90G”、“M-230G”(新中村化学公司制造)等。另外,从提高防污性的观点来看,适宜使用烷基单(甲基)丙烯酸酯、硅酮(甲基)丙烯酸酯、氟化烷基(甲基)丙烯酸酯。作为这样的单官能团单体,具体来说,可使用日油公司制造的“ブレンマーLA”、“ブレンマーCA”、信越化学工业公司制造的“X-24-8201”和“X-22-174DX”、エクスフロアー·リサーチ公司制造的“C10GACRY”等。
另外,活化能射线固化性树脂组合物中,也可添加丙烯酰吗啉或乙烯基吡咯烷酮等粘度调整剂、或者提高对透明基材的粘附性的丙烯酰基异氰酸酯类等的粘附性提高剂等。
在将活化能射线固化性树脂组合物中的聚合性成分的合计作为100质量份时,活化能射线固化性树脂组合物中的单官能团单体的含量,例如,优选0.1~20质量份,更优选5~15质量份。通过含有单官能团单体,基材与表层(活化能射线固化树脂)之间的粘附性提高。通过使单官能团单体的含量为20质量份以下,调整3官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(A)和双官能团的(甲基)丙烯酸酯(B)的含量,易于充分体现防污性。单官能团单体可单独使用1种,也可以将2种以上混合使用。
另外,活化能射线固化性树脂组合物中,可添加将单官能团单体中的1种或2种以上进行聚合的低聚合度的聚合物(低聚物)。作为这样的低聚合度的聚合物,具体来说,例如,可举出在酯基上具有聚乙二醇链的单官能团(甲基)丙烯酸酯类(例如,“M-230G”,新中村化学公司制造)或者甲基丙烯酰胺丙基三甲基铵甲基硫酸酯的40/60共聚低聚物(例如,MRCユニテック公司制造,“MG聚合物”)等。
进一步地,活化能射线固化性树脂组合物中,除了包含上述各种单体或低聚合度的聚合物以外,还可包含防静电剂、脱模剂、紫外线吸收剂、胶体二氧化硅等的微粒子。
活化能射线固化性树脂组合物也可含有脱模剂。当活化能射线固化性树脂组合物含有脱模剂时,可以在连续制造层积体时维持良好的脱模性。作为脱模剂,例如,可举出(聚)氧亚烷基烷基磷酸化合物。特别是,使用阳极氧化氧化铝的模具时,通过(聚)氧亚烷基烷基磷酸化合物与氧化铝相互作用,脱模剂容易地吸附于模具表面。
作为(聚)氧亚烷基烷基磷酸化合物的市售产品,例如,可举出城北化学工业株式会社制造的“JP-506H”(商品名)、アクセル公司制造的“モールドウイズINT-1856”(商品名)、日光化学株式会社制造的“TDP-10”、“TDP-8”、“TDP-6”、“TDP-2”、“DDP-10”、“DDP-8”、“DDP-6”、“DDP-4”、“DDP-2”、“TLP-4”、“TCP-5”、“DLP-10”(商品名)等。
活化能射线固化性树脂组合物中所含的脱模剂可单独使用1种,也可以将2种以上并用。
相对于聚合性成分100质量份,活化能射线固化性树脂组合物中所含的脱模剂的含量优选为0.01~2.0质量份,更优选为0.05~0.2质量份。脱模剂的含量为0.01质量份以上时,表面具有微细凹凸结构的物品的自模具的脱模性良好。另一方面,脱模剂的比例为2.0质量份以下时,活化能射线固化性树脂组合物的固化物与基材之间的粘附性良好,并且固化物的硬度适当,能充分维持微细凹凸结构。
本实施方式的层积体中,表面处理层的水接触角优选为120°以上,更优选130°以上。表面处理层的水接触角为120°以上时,表面能量足够小,因此,能容易地擦掉污垢。另外,表面处理层的水接触角为130°以上时,表面能量足够小,因此,能抑制污垢的附着。表面处理层的水接触角的上限并没有特别限定,但优选为150°以下,更优选为145°以下。作为这样的呈现疏水性的表面处理层,适宜使用具有烷基、聚二甲基硅氧烷结构、氟化烷基的化合物,从对微细凹凸结构的粘附性的观点来看,优选具有硅烷、烷氧基硅烷、硅氮烷、(甲基)丙烯酸酯等的反应性基团。作为这样的化合物,具体来说,适宜举出信越化学工业公司制造的“KBM”系列、“KBE”系列、“X”系列、ビックケミー·ジャパン公司制造的“BYK”系列、エボニックデグサジャパン公司制造的“TEGO Rad”系列、フロロテクノロジー公司制造的“FG”系列、“FS”系列等。
对于表面处理层,可通过浸涂、喷涂、刷涂、旋涂等一般的方法进行涂布。另外,为了提高表面处理层与微细凹凸结构表面之间的粘附性,优选对微细凹凸结构进行前处理。作为前处理,可举出通过二氧化硅蒸镀或等离子体等向表面导入官能团、含有与表面处理层的反应性良好的化合物的底漆的涂布等。从维持微细凹凸结构的防反射性能的观点来看,表面处理层的厚度优选为100nm以下。表面处理层的存在可根据角度可变的ATR测定中的伴随着入射角而引起的光谱变化或根据TEM的截面观察来确认。
本实施方式中的活化能射线固化性树脂组合物可适当含有分子中具有自由基聚合性和/或阳离子聚合性键的单体、低聚合度的聚合物、反应性聚合物,且是通过后述的聚合引发剂而固化的物质。另外,活化能射线固化性树脂组合物也可含有非反应性聚合物。
本实施方式的层积体是具有容易去除污垢的防污性优良的表层的层积体,因此,通过将本实施方式的层积体设置于防反射物品、图像显示装置、触摸屏等的最表面,使用时附着的皮脂等的污垢难以附着且易于掉落,能发挥良好的防反射性能。进一步地,即使在表面不用水或醇,也能容易地去除污垢,因此,能得到实用方面也优良的物品。
(实施方式7)
以下,对本实施方式进行详细说明。
图1是显示本实施方式所涉及的层积体10的构成的一例的示意截面图。图1中,在具有透明性的基材11表面上形成有由活化能射线固化性树脂组合物的固化物构成的表层12。层积体10中,在表层12的表面上形成有微细凹凸结构。
本实施方式的层积体中,表层是活化能射线固化性树脂组合物的固化物,所述活化能射线固化性树脂组合物包含具有SH基的化合物(D)。SH基是指硫醇基、氢硫基、巯基或硫氢基。通过在活化能射线固化性树脂组合物中包含具有SH基的化合物(D),能得到硫原子与硫原子或碳原子结合的化学键。由此,可以在维持固化物的交联密度的情况下降低弹性模量,因此,能维持突起的形状的同时赋予突起柔软性,变得能去除在凹部所滞留的污垢,所以防污性提高。
在本实施方式的层积体中,表层是活化能射线固化性树脂组合物的固化物,所述活化能射线固化性树脂组合物优选包含:双官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(A)0~95质量份;硅酮(甲基)丙烯酸酯(C)0~75质量份;以及具有SH基的化合物(D)1~60质量份(其中将聚合性成分的合计作为100质量份)。另外,双官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(A)是排除了硅酮(甲基)丙烯酸酯(C)的物质。
此处,双官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(A)意味着在分子内至少具有2个以上的选自丙烯酰基(CH2=CHCO-)和甲基丙烯酰基(CH2=C(CH3)CO-)的基团的化合物。
作为双官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(A),可举出二(甲基)丙烯酸乙二醇酯、二(甲基)丙烯酸三丙二醇酯、异氰脲酸环氧乙烷改性二(甲基)丙烯酸酯、二(甲基)丙烯酸三乙二醇酯、二(甲基)丙烯酸二乙二醇酯、二(甲基)丙烯酸新戊二醇酯、二(甲基)丙烯酸1,6-己二醇酯、二(甲基)丙烯酸1,5-戊二醇酯、二(甲基)丙烯酸1,3-丁二醇酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、2,2-双(4-(甲基)丙烯酰氧基聚乙氧基苯基)丙烷、2,2-双(4-(甲基)丙烯酰氧基乙氧基苯基)丙烷、2,2-双(4-(3-(甲基)丙烯酰氧基-2-羟基丙氧基)苯基)丙烷、1,2-双(3-(甲基)丙烯酰氧基-2-羟基丙氧基)乙烷、1,4-双(3-(甲基)丙烯酰氧基-2-羟基丙氧基)丁烷、二羟甲基三环癸烷二(甲基)丙烯酸酯、双酚A的环氧乙烷加成物二(甲基)丙烯酸酯、双酚A的环氧丙烷加成物二(甲基)丙烯酸酯、二(甲基)丙烯酸羟基特戊酸新戊二醇酯、二乙烯基苯、亚甲基双丙烯酰胺等的双官能团单体;三(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、三(甲基)丙烯酸三羟甲基丙烷酯、三羟甲基丙烷环氧乙烷改性三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷环氧丙烷改性三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷环氧乙烷改性三丙烯酸酯、异氰脲酸环氧乙烷改性三(甲基)丙烯酸酯等的三官能团单体;琥珀酸/三羟甲基乙烷/丙烯酸的缩合反应混合物、六(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯、五(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯、四丙烯酸二三羟甲基丙烷酯、四(甲基)丙烯酸四羟甲基甲烷酯等的多官能团单体;双官能团以上的聚氨酯丙烯酸酯、双官能团以上的聚酯丙烯酸酯等。这些可单独使用,也可以将2种以上组合使用。
在将活化能射线固化性树脂组合物中的聚合性成分的合计作为100质量份时,双官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(A)优选为0~95质量份,更优选为25~90质量份,特别优选为40~90质量份。双官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(A)的含量为0质量份以上、95质量份以下时,能抑制弹性模量的过度下降,并能维持突起的形状。另外,通过在组合物中添加双官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(A),即双官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(A)的含量超过0质量份时,抑制弹性模量变得容易,并且突起的形状维持也变得容易。另外,双官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(A)的含量为40质量份以上时,能抑制弹性模量的下降,并能更有效地防止突起的合一。另外,双官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(A)的含量为95质量份以下时,弹性模量降低,并能更有效地去除污垢。此外,含量为90质量份以下时,弹性模量足够低,能更有效地去除滞留在凹部的污垢。其结果是,变得易于将污垢从凹部中挤出,并赋予层积体充分的防污性。
硅酮(甲基)丙烯酸酯(C)是在具有有机硅氧烷结构的化合物的侧链和/或末端具有至少一个以上的选自丙烯酰基(CH2=CHCO-)和甲基丙烯酰基(CH2=C(CH3)CO-)的基团的化合物。对于硅酮(甲基)丙烯酸酯(C),最好根据与2官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(A)的相溶性的观点来进行选择;作为硅酮(甲基)丙烯酸酯(C),优选使用具有有助于与(A)相溶性的相溶性片段的化合物。作为相溶性片段,例如,可举出聚烯化氧结构、聚酯结构和聚酰胺结构等。对于这些相溶性片段,可在硅酮(甲基)丙烯酸酯(C)中单独含有,也可以含有2种以上。另外,出于处理方面,硅酮(甲基)丙烯酸酯(C)也可以稀释使用。作为稀释剂,出于自固化物的渗出等方面,优选具有反应性的物质。另外,通过将2官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(A)与硅酮(甲基)丙烯酸酯(C)混合,能增加硅酮(甲基)丙烯酸酯(C)的处理性。
作为这样的硅酮(甲基)丙烯酸酯(C),具体来说,例如,可适宜举出チッソ公司制造的サイラプレーン系列(商品名)、信越化学工业公司制造的硅酮二丙烯酸酯“X-22-164”、“X-22-1602”(均为商品名)、ビックケミー·ジャパン公司制造的“BYK-UV3500”、“BYK-UV3570”(均为商品名)、エボニックデグサジャパン公司制造的TEGO Rad系列(商品名)。这些硅酮(甲基)丙烯酸酯(C)可单独使用,也可以将2种以上并用。
在将活化能射线固化性树脂组合物中的聚合性成分的合计作为100质量份时,硅酮(甲基)丙烯酸酯(C)优选为0~75质量份,更优选为5~70质量份。在使硅酮(甲基)丙烯酸酯(C)的含量为0质量份以上、75质量份以下时,能赋予疏水性,防污性进一步提高。另外,通过在组合物中添加硅酮(甲基)丙烯酸酯(C),即其含量超过0质量份时,能更有效地赋予疏水性,提高防污性。另外,硅酮(甲基)丙烯酸酯(C)的含量为5质量份以上时,表层的表面能量下降,对于水的接触角变为130°以上,因此,防污性进一步提高。另外,硅酮(甲基)丙烯酸酯(C)的含量为75质量份以下时,与其它成分的相溶性变良好,因此,透明性提高。此外,硅酮(甲基)丙烯酸酯(C)的含量为70质量份以下时,抑制活化能射线固化性树脂组合物的粘度,处理性提高。
含有SH基的化合物(D),只要是含有SH基的化合物,就没有特别限定,但为了提高表层的交联密度并维持强度,优选含有2个以上SH基的化合物,从活化能射线固化性树脂组合物的储藏稳定性的观点来看,SH基更优选为仲硫醇基。
作为具有2个以上SH基的化合物,可举出1,2-乙烷二硫醇、1,2-丙烷二硫醇、1,3-丙烷二硫醇、1,4-丁烷二硫醇、1,6-己烷二硫醇、1,7-庚烷二硫醇、1,8-辛烷二硫醇、1,9-壬烷二硫醇、1,10-癸烷二硫醇、1,12-十二烷二硫醇、2,2-二甲基-1,3-丙烷二硫醇、3-甲基-1,5-戊烷二硫醇、2-甲基-1,8-辛烷二硫醇、1,4-环己烷二硫醇、1,4-双(巯基甲基)环己烷、1,1-环己烷二硫醇、1,2-环己烷二硫醇、二环[2,2,1]庚-外-顺式-2,3-二硫醇、1,1-双(巯基甲基)环己烷、双(2-巯基乙基)醚、乙二醇双(2-巯基乙酸酯)、乙二醇双(3-巯基丙酸酯)等的二硫醇化合物;1,1,1-三(巯基甲基)乙烷、2-乙基-2-巯基甲基-1,3-丙烷二硫醇、1,2,3-丙烷三硫醇、三羟甲基丙烷三(2-巯基乙酸酯)、三羟甲基丙烷三(3-巯基丙酸酯)、三((巯基丙酰氧基)-乙基)异氰脲酸酯等的三硫醇化合物;季戊四醇四(2-巯基乙酸酯)、季戊四醇四(3-巯基丙酸酯)、季戊四醇四(3-巯基丁酸酯)、二季戊四醇六-3-巯基丙酸酯等的具有4个以上SH基的硫醇化合物。
作为具有仲硫醇的化合物,可举出カレンズMT PE1、カレンズMT NR1、カレンズMT BD1(商品名,昭和电工公司制造)。
这样的含有SH基的化合物(D),具体来说,可适宜举出昭和电工公司制造的“カレンズMT PE1”、“カレンズMT BD1”、“カレンズMT NR1”(均为商品名)。
在将活化能射线固化性树脂组合物中的聚合性成分的合计作为100质量份时,含有SH基的化合物(D)优选为1~60质量份,更优选为1~15质量份。含有SH基的化合物(D)的含量为1质量份以上时,可以在维持交联密度的情况下降低表层的弹性模量,因此,变得易于从凹部中挤出污垢,其结果是,能赋予层积体充分的防污性,并且能维持凸部形状的复原力。另外,含有SH基的化合物(D)的含量为60质量份以下时,能维持活化能射线固化性树脂组合物的储藏稳定性。此外,含有SH基的化合物(D)的含量为15质量份以下时,能更有效地抑制表层弹性模量的下降,并防止凸部的合一。
活化能射线固化性树脂组合物中,还可含有其他的单官能团单体。对于单官能团单体,最好考虑其与双官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(A)和硅酮(甲基)丙烯酸酯(C)的相溶性来进行选择,从这样的观点来看,作为单官能团单体,例如,可优选举在酯基上具有聚乙二醇链的单官能团(甲基)丙烯酸酯类、在羟烷基(甲基)丙烯酸酯等的酯基上具有羟基的单官能团(甲基)丙烯酸酯类、单官能团丙烯酰胺类、甲基丙烯酰胺丙基三甲基铵甲基硫酸酯或甲基丙烯酰氧基乙基三甲基铵甲基硫酸酯等阳离子性单体类等的亲水性单官能团单体。作为单官能团单体,具体来说,可使用单官能团(甲基)丙烯酸酯类的“M-20G”、“M-90G”、“M-230G”(新中村化学公司制造,均为商品名)等。另外,从提高防污性的观点来看,适宜使用烷基单(甲基)丙烯酸酯、硅酮(甲基)丙烯酸酯、氟化烷基(甲基)丙烯酸酯。作为这样的单官能团单体,具体来说,可使用日油公司制造的“ブレンマーLA”、“ブレンマーCA”、“ブレンマーSA”(均为商品名)、信越化学工业公司制造的“X-24-8201”、“X-22-174DX”(均为商品名)、エクスフロアー·リサーチ公司制造的“C10GACRY”(商品名)等。
另外,活化能射线固化性树脂组合物中,也可添加丙烯酰吗啉或乙烯基吡咯烷酮等粘度调整剂、或者提高对透明基材的粘附性的丙烯酰基异氰酸酯类等的粘附性提高剂等。
在将活化能射线固化性树脂组合物中的聚合性成分的合计作为100质量份时,并使组合物含有单官能团单体时,例如,单官能团单体优选0.1~20质量份,更优选5~15质量份。通过含有单官能团单体,能提高基材与表层(活化能射线固化性树脂组合物)之间的粘附性。通过单官能团单体的含量变为20质量份以下,能调整2官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯(A)、硅酮(甲基)丙烯酸酯(C)和含有SH基的化合物(D)的含量,并易于充分发现防污性。单官能团单体可单独使用1种或将2种以上混合使用。
另外,活化能射线固化性树脂组合物中,可添加将单官能团单体中的1种或2种以上进行聚合的低聚合度的聚合物(低聚物)。作为这样的低聚合度的聚合物,具体来说,例如,可举出在酯基上具有聚乙二醇链的单官能团(甲基)丙烯酸酯类(例如,“M-230G”,新中村化学公司制造)或者甲基丙烯酰胺丙基三甲基铵甲基硫酸酯的40/60共聚低聚物(例如,MRCユニテック公司制造,“MG聚合物”)等。
进一步地,活化能射线固化性树脂组合物中,除了包含上述各种单体或低聚合度的聚合物以外,还可包含防静电剂、脱模剂、紫外线吸收剂、胶体二氧化硅等的微粒子。
活化能射线固化性树脂组合物也可含有脱模剂。当活化能射线固化性树脂组合物含有脱模剂时,在连续制造层积体时能维持良好的脱模性。作为脱模剂,例如,可举出(聚)氧亚烷基烷基磷酸化合物。特别是,使用阳极氧化氧化铝的模具时,通过(聚)氧亚烷基烷基磷酸化合物与氧化铝相互作用,脱模剂容易地吸附于模具表面。
作为(聚)氧亚烷基烷基磷酸化合物的市售产品,例如,可举出城北化学工业株式会社制造的“JP-506H”(商品名)、アクセル公司制造的“モールドウイズINT-1856”(商品名)以及日光化学株式会社制造的“TDP-10”、“TDP-8”、“TDP-6”、“TDP-2”、“DDP-10”、“DDP-8”、“DDP-6”、“DDP-4”、“DDP-2”、“TLP-4”、“TCP-5”和“DLP-10”(均为商品名)等。
活化能射线固化性树脂组合物中所含的脱模剂可单独使用1种,也可以将2种以上并用。
相对于聚合性成分100质量份,活化能射线固化性树脂组合物中所含的脱模剂的含量优选为0.01~2.0质量份,更优选为0.05~0.2质量份。脱模剂的含量为0.01质量份以上时,表面具有微细凹凸结构的物品的自模具的脱模性良好。另一方面,脱模剂的比例为2.0质量份以下时,活化能射线固化性树脂组合物的固化物与基材之间的粘附性良好,并且固化物的硬度适当,能充分维持微细凹凸结构。
本实施方式的层积体中,微细凹凸结构表面的弹性模量,即表层的压入弹性模量优选为500MPa以下,更优选为50~100MPa。表层的弹性模量为50MPa以上时,微细凹凸结构足够硬,因此,能有效防止凸部的突起合一。表层的弹性模量为500MPa以下时,微细凹凸结构柔软,因此,能挤出进入了凹部的污垢。表层的弹性模量为100MPa以下时,微细凹凸结构足够柔软,因此,微细凹凸结构自由地变形,能容易地去除进入了凹部的污垢。
本实施方式的层积体中,形成有微细凹凸结构部分的表层的水接触角并没有特别限定,优选为130°以上。表层的水接触角为130°以上时,表面能量足够小,因此,能容易地擦掉污垢。表层的水接触角的上限并没有特别限定,但优选150°以下,更优选为145°以下。
本实施方式中的活化能射线固化性树脂组合物可适当含有分子中具有自由基聚合性和/或阳离子聚合性键的单体、低聚合度的聚合物、反应性聚合物。另外,活化能射线固化性树脂组合物可通过后述的聚合引发剂进行固化。此外,活化能射线固化性树脂组合物也可含有非反应性聚合物。
本实施方式的层积体是具有容易去除污垢的防污性优良的表层的层积体,因此,通过将本实施方式的层积体设置于防反射物品、图像显示装置、触摸屏等的最表面,使用时附着的皮脂等的污垢难以附着且易于掉落,能发挥良好的防反射性能。进一步地,即使在表面不用水或醇,也能容易地去除污垢,因此,能得到实用方面也优良的物品。
(实施例A)
以下,通过实施例A对本实施方式进行具体说明,但本发明并不局限于此。
<各种评价和测定方法>
(固化液相溶性的判定)
在荧光灯下对活化能射线固化性树脂组合物(固化前的状态)的透明性进行肉眼观察来作为相溶性的评价。
A:透明(相溶性良好)
B:将室温下白浊的活化能射线固化性树脂组合物加热至50度时,变透明。
C:室温和50度下都白浊(相溶性不好)
(水接触角的判定)
使用自动接触角测定装置(KRUSS公司制造),在后述的实施例A和比较例A中所制作的活化能射线固化性树脂组合物的固化树脂(活化能射线固化树脂)的表面上滴下1μL的水,以θ/2法算出自滴下7秒钟后的水滴的接触角。
(弹性模量的测定)
使用“FISCHERSCOPE(R)HM2000”(商品名,フィッシャー公司制造),在50mN/10秒的条件下,边增加负荷边对表层的表面施加负荷,在50mN下保持60秒后,在50mN/10秒的条件下边减少负荷边卸载负荷。采用承受这时的65%和95%的负荷的点,并通过外插法计算弹性模量。另外,也可以将厚度500μm的特氟龙片作为隔片使用,并用2枚玻璃板夹住活化能射线固化性树脂组合物,以累积光照射量3000mJ/cm2的能量照射紫外线,使活化能射线固化性树脂组合物光固化,制作厚度500μm的活化能射线固化树脂,并对该固化树脂的照射面(表面)进行与上述同样的测定,计算弹性模量。
(防污性试验)
首先,按照日本专利特开2006-147149号公报所记载的方法,将模拟指纹转印至附着有人工指纹液(JIS K2246,伊势久公司制造)的层积体表面。该方法中,首先,以磁力搅拌器充分地搅拌模拟指纹成分,同时,取约1mL,将该模拟指纹成分通过旋涂法涂布于聚碳酸酯制基板(直径120mm,厚度1.2mm)上。通过在60℃下加热该基板3分钟,完全去除了作为不需要的稀释剂的甲氧基丙醇。将其作为模拟指纹转印用的原版。接着,用#240的研磨纸对NO.1的硅酮橡胶塞的小的端面(直径12mm)均一地研磨后,将其作为模拟指纹转印材,将该研磨的端面以负荷29N在上述原版上按压10秒,使模拟指纹成分转移到转印材的端面上。接着,在上述各样品的透光性基体表面,将上述转印材端面以负荷29N按压10秒来转印模拟指纹成分。另外,指纹图案被转移至介质的半径40mm附近的位置。
接着,通过使用擦除纸(商品名:ソフトスーパーワイパーS132,大王制纸(株)制造)以39KPa的压力往复擦拭6次,擦去人工指纹液后,在荧光灯下目视观察层积体上是否还残留有污垢。按照以下基准进行评价。
A:目视确认无污垢。
B:目视确认有若干污垢。
C:模拟指纹延展开,污垢不能被擦去。
(突起合一的评价)
从膜端面侧(侧面侧)入射LED光,自入射方向观察时,目视观察是否看到有白斑。按照以下基准进行评价。
A:斜向观察时,未见白斑。
B:斜向观察时看到白斑,但从正面观察时未见白斑。
C:从斜向和正面观察时,都看到白斑。
(摩擦系数的斜率)
摩擦系数的测定中,使用摩擦试验机(商品名:HEIDON TRIBOGEAR HHS-2000,浸透科学公司制造)。在放置于层积体表面的2cm见方的BEMCOT M-3II(商品名,旭化成纤维公司制造)上施加1000g的负荷,以往复距离:30mm、前行速度(headspeed):30mm/秒进行50次的往复磨耗。以第一次摩擦时的动摩擦系数的值作为μ1、以第50次摩擦时的动摩擦系数的值作为μ50,根据下述式,算出摩擦系数的斜率。
μs=(μ50-μ1)/(50-1)
(耐擦伤性)
耐擦伤性的评价中,使用上述方法进行往复磨耗1000次。评价外观时,在透明的2.0mm厚的黑色丙烯酸板(商品名:アクリライト,三菱丽阳公司制造)mp单面上粘贴该透光性物品,在屋内举荧光灯以目视来进行评价。按照以下基准进行评价。
A:目视确认无损伤。
B:目视确认有数根损伤。
C:目视确认有多个损伤。
(通过电子显微镜进行样品表面的观察)
使用扫描电子显微镜(日本电子公司制造,“JSM-7400F”),在加速电压3.00kV的条件下,观察压模和层积体的表面所形成的微细凹凸结构。另外,关于层积体的观察,在进行铂蒸镀10分钟后进行观察。从所得的图像,测定相邻的凸部间的距离和凸部的高度。分别测定10个点,求平均值。
<压模的制作>
将被电解研磨后的铝圆盘(纯度99.99质量%、厚度2mm、φ65mm)作为铝基材使用。将铝基材浸渍于调整至15℃的0.3M草酸水溶液,通过反复进行直流稳定化装置的电源的ON/OFF,间歇地将电流通向铝基材,使铝基材进行阳极氧化。接着,每隔30秒施加5秒80V的恒压,反复该操作60次,形成具有细孔的氧化膜。接下来,将形成有氧化膜的铝基材在混合了6质量%的磷酸和1.8质量%的铬酸的70℃水溶液中浸渍6小时,溶解并除去氧化膜。将溶解除去氧化膜后的铝基材浸渍于调整至16℃的0.05M草酸水溶液,用80V的电压实施7秒阳极氧化。接下来,将铝基材在调整至32℃的5质量%磷酸水溶液中浸渍20分钟,实施扩大氧化膜的细孔的孔径扩大处理。交替重复这样的阳极氧化处理和孔径扩大处理。阳极氧化处理和孔径扩大处理分别进行5次。通过将得到的压模在TDP-8(日光化学株式会社制造)的0.1质量%水溶液中浸渍10分钟后,捞出并干燥一晚,从而实施脱模处理。
以电子显微镜观察所得的多孔氧化铝的表面,其结果是,形成了由相邻凹部间的距离为180nm、深度为180nm的大致圆锥状的锥状的凹部构成的微细凹凸结构。
[实施例A1]
<层积体的制造>
通过混合以下的材料制备活化能射线固化性树脂组合物。
·氧化乙烯改性二季戊四醇六丙烯酸酯(“カヤラッドDPEA-12”,一分子内的氧化乙烯结构单元数n=12,日本化药公司制造)40质量份
·アロニックスM-260(商品名,东亚合成公司制造,聚乙二醇链的平均重复单元为13)60质量份
·イルガキュア(IRGACURE)184(商品名,汽巴精化(チバ·スペシャリティーケミカルズ)公司制造)1质量份
·イルガキュア(IRGACURE)819(商品名,汽巴精化公司制造)0.5份
·TDP-2(商品名,日光化学株式会社制造)0.1质量份
在压模上滴下数滴该活化能射线固化性树脂组合物,以三醋酸纤维素膜(FTTD80ULM(商品名),富士胶片公司制造)边铺开边覆盖压模。接着,从膜侧以累积光照射量1000mJ/cm2的能量照射紫外线,使活化能射线固化性树脂组合物光固化。然后,剥离膜与压模,得到如图1所示的具有相邻凸部间的距离w1为180nm、凸部的高度d1为180nm的微细凹凸结构的层积体。
<评价>
分别进行活化能射线固化性树脂组合物中的成分的相溶性和涉及所得层积体的水接触角、弹性模量、防污性、摩擦系数的斜率(μs)、耐擦伤性、突起合一的评价。结果如表2所示。
【表2】
表1中的简称如下所述。
DPHA:六丙烯酸二季戊四醇酯(日本化药公司制造,“カヤラッドDPHA”)
DPEA-12:环氧乙烷改性二季戊四醇六丙烯酸酯(日本化药公司制造,“カヤラッドDPEA-12”,一分子内的环氧乙烷结构单元数n=12)
DPEA-18(第一工业制药公司制造,“商品名DPHA-18EO改性”,一分子内的环氧乙烷结构单元数n=18)
M-260:聚乙二醇二丙烯酸酯(“アロニックスM-260”,东亚合成公司制造,聚乙二醇链的平均重复单元为13)
APG-700:聚丙二醇二丙烯酸酯(新中村化学公司制造,聚丙二醇链的平均重复单元为12)
BYK-UV3570:硅酮丙烯酸酯环氧丙烷改性新戊二醇二丙烯酸酯稀释品(ビッグケミー·ジャパン公司制造)
PE1:カレンズMT PE1(商品名,昭和电工公司制造,具有4个SH基的化合物)
IRG.184:羟基环己基苯基酮(“Irgacure184”,汽巴精化公司制造)
IRG.819:苯基双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)-氧化膦(“Irgacure819”,汽巴精化公司制造)
TDP-2:聚氧乙烯烷基醚磷酸(商品名,日光化学株式会社制造)
[实施例A2~A19]
除了使用表1所示组成的活化能射线固化性树脂组合物以外,其他同实施例A1一样地实施,得到层积体。结果如表2所示。
[实施例A20]
除了使用表1所示组成的活化能射线固化性树脂组合物以外,其他同实施例A1一样地实施,得到具有固化物层的层积体。通过旋涂在所得的具有微细凹凸结构的固化物层上涂布作为底漆的PC-3B(商品名,フロロテクノロジー公司制造)。然后,常温下干燥90分钟后,旋涂FG5070S135-0.1(商品名,フロロテクノロジー公司制造),在60℃下干燥3小时,得到具有表面处理层的层积体。结果如表2所示。
[比较例A1~A3]
除了使用表1所示组成的活化能射线固化性树脂组合物以外,其他同实施例A1一样地实施,得到层积体。结果如表2所示。
实施例A1~A20所得的层积体中,表层的弹性模量小于250MPa,并且摩擦系数的斜率为1.8×10-3以下,因此,呈现出容易去除污垢的防污性和优良的耐擦伤性。
表层的弹性模量为45~65MPa且表层的水接触角为135°以上的实施例A11~A13和A19所得的层积体,其相溶性和防污性特别优良。
特别是,表层的弹性模量为50~65MPa且表层的水接触角为140°以上的实施例A12和A20所得的层积体中,得到相溶性、防污性和耐擦伤性非常优良的层积体。
比较例A1~A3所得的层积体中,防污性并不充分。
比较例A3中,耐擦伤性差,因而,评价过程中在表层产生多个损伤,表层被破坏剥离,因此,评价中断。
(实施例B)
以下,通过实施例B对本实施方式进行具体说明,但本发明并不局限于此。
<各种评价和测定方法>
(水接触角的测定)
使用自动接触角测定装置(KRUSS公司制造),并在后述的实施例B和比较例B中所制作的层积体的表层的表面上滴下1μL的水。以θ/2法算出7秒钟后的接触角。
(弹性模量的测定)
将厚度500μm的特氟龙片作为隔片使用,并用2枚玻璃夹住活化能射线固化性树脂组合物,以3000mJ/cm2的能量照射紫外线。由此,使活化能射线固化性树脂组合物光固化,制作厚度500μm的活化能射线固化性树脂组合物。使用“FISCHERSCOPE(R)HM2000”(商品名,フィッシャー公司制造),在50mN/10秒的条件下,对该固化物的照射面增加负荷,保持60秒后,与增加负荷相同的条件下卸载负荷。采用承受这时的65%和95%的负荷的点,并通过外插法计算弹性模量。
(防污性试验)
按照日本专利特开2006-147149号公报所记载的方法使人工指纹液(JIS K2246,伊势久公司制造)附着,并将模拟指纹转印至层积体的表面。具体来说,对于模拟指纹成分,以磁力搅拌器充分地搅拌,同时,取约1mL该模拟指纹成分,通过旋涂法将其涂布于聚碳酸酯制基板(直径120mm,厚度1.2mm)上。通过在60℃下加热该基板3分钟,完全去除了作为不需要的稀释剂的甲氧基丙醇。将其作为模拟指纹转印用的原版。接着,用#240的研磨纸对NO.1的硅酮橡胶塞的小的端面(直径12mm)均一地研磨后,将其作为模拟指纹转印材,将该研磨的端面在上述原版上以负荷29N按压10秒,使模拟指纹成分转移到转印材的端面上。接着,在上述各样品的透光性基体表面,以负荷29N按压上述转印材端面10秒来转印模拟指纹成分。另外,指纹图案被转移至介质的半径40mm附近的位置。接着,通过使用擦除纸(商品名:ソフトスーパーワイパーS132,大王制纸(株)制造)以98KPa的压力往复擦拭6次,擦去人工指纹液后,在荧光灯下目视观察层积体上是否残留有污垢。按照以下基准进行评价。
○:目视观察确认无污垢。
×:模拟指纹延展开,污垢不能被擦去。
(通过电子显微镜进行样品表面的观察)
使用扫描电子显微镜(商品名:“JSM-7400F”,日本电子(株)制造),在加速电压3.00kV的条件下,观察压模和层积体的表层的表面所形成的微细凹凸结构。另外,关于层积体的表层的观察,在进行铂蒸镀10分钟后进行观察。从所得的图像,测定相邻凸部间的距离和凸部的高度。
(突起合一的评价)
从膜端面侧(侧面侧)入射LED光,自入射方向观察时,目视观察是否看到有白斑。按照以下基准进行评价。
○:斜向观察时,未见白斑。
△:从正面观察时,未见白斑。
×:从正面和斜向观察时,都看到白斑。
<压模的制作>
将纯度99.99质量%、电解研磨后的厚度2mm的φ65mm的铝圆盘作为铝基材使用。将该铝基材浸渍于调整至15℃的0.3M草酸水溶液,反复进行直流稳定化装置的电源的ON/OFF。如此,间歇地将电流通向铝基材,进行阳极氧化。每隔30秒施加5秒80V的恒压,反复该操作60次,形成具有细孔的氧化膜。接下来,将形成有氧化膜的铝基材在混合了6质量%的磷酸和1.8质量%的铬酸的70℃水溶液中浸渍6小时,溶解并除去氧化膜。将溶解除去氧化膜后的铝基材浸渍于调整至16℃的0.05M草酸水溶液,用80V的电压实施7秒阳极氧化。接下来,将铝基材在调整至32℃的5质量%磷酸水溶液中浸渍20分钟,实施扩大氧化膜的细孔的孔径扩大处理。交替重复这样的阳极氧化和孔径扩大处理,合计各自实施5次。将得到的压模在TDP-8(商品名,日光化学(株)制造)的0.1质量%水溶液中浸渍10分钟,捞出后,通过干燥一晚实施脱模处理。
以电子显微镜观察所得的压模的表面,其结果是,形成了由相邻凹部间的间隔为180nm、深度为180nm的大致圆锥状的锥状凹部构成的微细凹凸结构。
[实施例B1]
<层积体的制造>
将环氧乙烷改性二季戊四醇六丙烯酸酯(商品名:カヤラッドDPEA-12,日本化药(株)制造,一分子内的环氧乙烷结构单元数n=12)40质量份、アロニックスM-260(商品名,东亚合成(株)制造,乙二醇的平均重复单元为13)60质量份作为聚合性成分使用。该聚合性成分中,溶解了イルガキュア(Irgacure)184(商品名,BASF公司制造)1质量份、イルガキュア(Irgacure)819(商品名,BASF公司制造)0.5质量份、TDP-2(商品名,日光化学(株)制造)0.1质量份。由此,得到活化能射线固化性树脂组合物。在上述压模上滴下数滴该活化能射线固化性树脂组合物,以三醋酸纤维素膜(商品名:FTTD80ULM,富士胶片株式会社制造,以下也以膜表示)边铺开,边在该膜覆盖该活化能射线固化性树脂组合物。然后,从膜侧以1000mJ/cm2的能量照射紫外线,使活化能射线固化性树脂组合物光固化。从活化能射线固化性树脂组合物的固化物上剥离压模,得到如图1所示的、在表层12的表面具有相邻凸部间的间隔为180nm、凸部的高度d1为180nm的微细凹凸结构的层积体10。
<评价>
根据上述各种评价和测定方法,进行水接触角、弹性模量、防污性和突起合一的各评价。结果如表3所示。
[实施例B2~B6、比较例B1~B3]
除了在活化能射线固化性树脂组合物的制备中将所使用的聚合性成分、聚合引发剂等的种类和混合量变更为如表1所示的以外,其他同实施例B1一样地实施,制造层积体。结果如表3所示。
表3中的简称如下所述。
DPHA:六丙烯酸二季戊四醇酯(商品名:“カヤラッドDPHA”,日本化药(株)制造)
DPEA-12:环氧乙烷改性二季戊四醇六丙烯酸酯(商品名:“カヤラッドDPEA-12”,日本化药(株)制造,一分子内的环氧乙烷结构单元数n=12)
DPEA-18:环氧乙烷改性二季戊四醇六丙烯酸酯(商品名:DPHA-18,第一工业制药(株)制造,一分子内的环氧乙烷结构单元数n=18)
M-260:聚乙二醇二丙烯酸酯(东亚合成(株)制造,乙二醇的平均重复单元为13)
APG700:聚丙二醇二丙烯酸酯(新中村化学工业(株)制造,丙二醇的平均重复单元为12)
IRG.184:イルガキュア(Irgacure)184(商品名,BASF公司制造,羟基环己基苯基酮)
IRG.819:イルガキュア(Irgacure)819(商品名,BASF公司制造,苯基双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)-氧化膦)
TDP-2:TDP-2(商品名,日光化学(株)制造,聚氧乙烯烷基醚磷酸)。
另外,表3中,实施例1~6和比较例1~3分别表示实施例B1~B6和比较例B1~B3。
实施例B1~B6中,弹性模量小于200MPa,因此,防污性优良,即使不用水或醇也能容易地去除污垢。特别是,实施例B1、B2和B5中,弹性模量在90~150MPa的范围,因此,不会产生微细凹凸结构的凸部的突起合一,并且防污性优良。
另一方面,比较例B1和B2中,弹性模量为200MPa以上,因此,防污性不充分,不使用水或醇就不能容易地去除污垢。另外,比较例B3中,使用聚丙二醇二丙烯酸酯代替聚乙二醇二丙烯酸酯,因此,分子的运动性低,防污性不充分,不使用水或醇就不能容易地去除污垢。
(实施例C)
以下,通过实施例C对本实施方式进行具体说明,但本发明并不局限于此。
<各种评价和测定方法>
(固化液相溶性的判定)
在荧光灯下对活化能射线固化性树脂组合物(固化前的状态)的透明性进行目视观察来作为相溶性的评价。
○:透明(相溶性良好)
△:虽然在室温下白浊,但将活化能射线固化性树脂组合物加热至50度时变透明。
×:室温和50度下都白浊(相溶性不好)
(水接触角的判定)
使用自动接触角测定装置(KRUSS公司制造),并在后述的实施例C和比较例C中所制作的活化能射线固化性树脂组合物的固化树脂(活化能射线固化树脂)的表面上滴下1μL的水,以θ/2法算出自滴下7秒钟后的水滴的接触角。
(弹性模量的测定)
使用“FISCHERSCOPE(R)HM2000”(商品名,フィッシャー公司制造),在50mN/10秒的条件下,边增加负荷边对表层的照射面施加负荷,在50mN下保持60秒后,在50mN/10秒的条件下边减少负荷边卸载负荷。采用承受这时的65%和95%的负荷的点,并通过外插法计算弹性模量。另外,也可将厚度500μm的特氟龙片作为隔片使用,并用2枚玻璃板夹住活化能射线固化性树脂组合物,以累积光照射量3000mJ/cm2的能量照射紫外线,使活化能射线固化性树脂组合物光固化,制作厚度500μm的活化能射线固化树脂,并对该固化树脂的照射面(表面)进行与上述同样的测定,计算弹性模量。
(防污性试验)
日本专利特开2006-147149号公报中记载了如下方法:对于模拟指纹成分,以磁力搅拌器充分地搅拌,同时取约1mL该模拟指纹成分,通过旋涂法将其涂布于聚碳酸酯制基板(直径120mm,厚度1.2mm)上。通过在60℃下加热该基板3分钟,完全去除了作为不需要的稀释剂的甲氧基丙醇。将其作为模拟指纹转印用的原版。接着,用#240的研磨纸对NO.1的硅酮橡胶塞的小的端面(直径12mm)均一地研磨后将其作为模拟指纹转印材,将该研磨的端面在上述原版上以负荷29N按压10秒,使模拟指纹成分转移到转印材的端面上。接着,在上述各样品的透光性基体表面,将上述转印材端面以负荷29N按压10秒来转印模拟指纹成分。另外,指纹图案被转移至介质的半径40mm附近的位置。用如上的方法使人工指纹液(JIS K2246,伊势久公司制造)附着,并将模拟指纹转印至层积体的表面。接着,通过使用擦除纸(商品名:ソフトスーパーワイパーS132,大王制纸(株)制造)以98KPa的压力往复擦拭6次,擦去人工指纹液,在荧光灯下目视观察层积体上是否残留有污垢。按照以下基准进行评价。
◎:目视确认无污垢。
○:目视确认有若干污垢。
×:模拟指纹延展开,污垢不能被擦去。
(突起合一的评价)
从膜端面侧(侧面侧)入射LED光,自入射方向观察时,目视观察是否看到有白斑。按照以下基准进行评价。
○:斜向观察时,未见白斑。
△:斜向观察时,看到白斑,但从正面观察时,未见白斑。
×:从斜向和正面观察时,都看到白斑。
(通过电子显微镜进行样品表面的观察)
使用扫描电子显微镜(日本电子公司制造,“JSM-7400F”),在加速电压3.00kV的条件下,观察在压模和层积体的表面形成的微细凹凸结构。另外,关于层积体的观察,在铂蒸镀10分钟后进行观察。从所得的图像,测定相邻凸部间的距离和凸部的高度。各自测定10个点,求平均值。
<压模的制作>
将电解研磨后的铝圆盘(纯度99.99质量%、厚度2mm、φ65mm)作为铝基材使用。将铝基材浸渍于调整至15℃的0.3M草酸水溶液,通过反复进行直流稳定化装置的电源的ON/OFF间歇地将电流通向铝基材,使铝基材进行阳极氧化。接着,每隔30秒施加5秒80V的恒压,反复该操作60次,形成具有细孔的氧化膜。接下来,将形成有氧化膜的铝基材在混合了6质量%的磷酸和1.8质量%的铬酸的70℃水溶液中浸渍6小时,溶解除去氧化膜。将溶解除去氧化膜后的铝基材浸渍于调整至16℃的0.05M草酸水溶液,用80V的电压实施7秒阳极氧化。接下来,将铝基材在调整至32℃的5质量%磷酸水溶液中浸渍20分钟,实施扩大氧化膜的细孔的孔径扩大处理。交替重复这样的阳极氧化处理和孔径扩大处理。阳极氧化处理和孔径扩大处理分别进行5次。将得到的压模在TDP-8(日光化学株式会社制造)的0.1质量%水溶液中浸渍10分钟后捞出,通过一晚干燥实施脱模处理。
以电子显微镜观察所得的多孔氧化铝的表面,其结果是,形成了由相邻凹部间的距离为180nm、深度为180nm的大致圆锥状的锥状凹部构成的微细凹凸结构。
[实施例C1]
<层积体的制造>
通过混合以下的材料制备活化能射线固化性树脂组合物。
·环氧乙烷改性二季戊四醇六丙烯酸酯(“カヤラッドDPEA-12”,一分子内的环氧乙烷结构单元数n=12,日本化药公司制造)27质量份
·アロニックスM-260(商品名,东亚合成公司制造,聚乙二醇链的平均重复单元为13)64质量份
·BYK-3570(商品名,ビッグケミー·ジャパン公司制造,4官能团硅酮丙烯酸酯/环氧丙烷改性新戊二醇二丙烯酸酯=7/3)9质量份
·イルガキュア(IRGACURE)184(商品名,汽巴精化公司制造)1质量份
·イルガキュア(IRGACURE)819(商品名,汽巴精化公司制造)0.5份
·TDP-2(商品名,日光化学株式会社制造)0.1质量份
在压模上滴下数滴该活化能射线固化性树脂组合物,以三醋酸纤维素膜(FTTD80ULM(商品名),富士胶片(富士フィルム)公司制造)边铺开边覆盖。接着,从膜侧以累积光照射量1000mJ/cm2的能量照射紫外线,使活化能射线固化性树脂组合物光固化。然后,剥离膜与压模,得到如图1所示的具有相邻凸部间的距离w1为180nm、凸部的高度d1为180nm的微细凹凸结构的层积体。
<评价>
进行活化能射线固化性树脂组合物中的成分的相溶性和涉及所得层积体的水接触角、弹性模量、防污性、突起合一的各评价。结果如表4所示。
表4中的简称如下所述。
DPEA-12:环氧乙烷改性二季戊四醇六丙烯酸酯(日本化药公司制造,“カヤラッドDPEA-12”,一分子内的环氧乙烷结构单元数n=12)
M-260:聚乙二醇二丙烯酸酯(“アロニックスM-260”,东亚合成公司制造,聚乙二醇链的平均重复单元为13)
APG-700:聚丙二醇二丙烯酸酯(新中村化学公司制造,聚丙二醇链的平均重复单元为12)
BYK-3570:硅酮丙烯酸酯环氧丙烷改性新戊二醇二丙烯酸酯稀释品(ビッグケミー·ジャパン公司制造)
IRG.184:羟基环己基苯基酮(“イルガキュア(Irgacure)184”,汽巴精化公司制造)
IRG.819:苯基双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)-氧化膦(“イルガキュア(Irgacure)819”,汽巴精化公司制造)
TDP-2:聚氧乙烯烷基醚磷酸(商品名,日光化学株式会社制造)
另外,表4中,实施例1~8和比较例1分别表示实施例C1~C8和比较例C1。
[实施例C2~C8]
除了变更为表4所示的组成以外,其他同实施例C1一样地实施,得到层积体。结果如表4所示。
[比较例C1]
除了变更为表4所示的组成以外,其他同实施例C1一样地实施,得到层积体。结果如表4所示。
实施例C1~C8所得的层积体中,表层的水接触角为130°以上,显示出即使不用水或醇也能容易地去除污垢的防污性。实施例C5~C7所得的层积体中,由于硅酮丙烯酸酯为45质量份以上,因此,显示出非常良好的防污性。进一步地,实施例C5和C6所得的层积体中,由于硅酮丙烯酸酯为45~65质量份,因此,活化能射线固化性树脂组合物的相溶性良好,突起合一被抑制,并且显示出非常良好的防污性。
比较例C1所得的层积体中,防污性并不充分。
(实施例D)
以下,通过实施例D对本实施方式进行具体说明,但本发明并不局限于此。
<各种评价和测定方法>
(水接触角的判定)
使用自动接触角测定装置(KRUSS公司制造),并在后述的实施例D和比较例D中所制作的层积体的表面上滴下1μL的水,以θ/2法算出自滴下7秒钟后的水滴的接触角。
(弹性模量的测定)
将涂布了厚度500μm的特氟龙(注册商标)的片作为隔片使用,并用2枚玻璃板夹住活化能射线固化性树脂组合物,以3000mJ/cm2的能量照射紫外线,使活化能射线固化性树脂组合物光固化,制作厚度500μm的活化能射线固化树脂,在照射面侧涂布表面处理层,得到层积体。使用フィッシャー公司制造的“FISCHERSCOPE(R)HM2000”,在50mN/10秒的条件下,边增加负荷边对制作的积层的表面处理层面施加负荷,在50mN下保持60秒后,在50mN/10秒的条件下边减少负荷边卸载负荷。采用承受这时的65%和95%的负荷的点,并通过外插法计算固化树脂的弹性模量(压入弹性模量)。另外,也可将涂布了厚度500μm的特氟龙(注册商标)的片作为隔片使用,并用2枚玻璃板夹住活化能射线固化性树脂组合物,以累积光照射量3000mJ/cm2的能量照射紫外线,使活化能射线固化性树脂组合物光固化,制作厚度500μm的活化能射线固化树脂,并对该固化树脂的照射面进行与上述同样的测定,计算弹性模量。
(防污性试验)
日本专利特开2006-147149号公报记载了如下方法:对于模拟指纹成分,以磁力搅拌器充分地搅拌,同时取约1mL该模拟指纹成分,通过旋涂法将其涂布于聚碳酸酯制基板(直径120mm,厚度1.2mm)上。通过在60℃下加热该基板3分钟,完全去除了作为不需要的稀释剂的甲氧基丙醇。将该基板作为模拟指纹转印用的原版。接着,用#240的研磨纸对NO.1的硅酮橡胶塞的小的端面(直径12mm)均一地研磨后,将其作为模拟指纹转印材,将该研磨的端面在上述原版上以负荷29N按压10秒,使模拟指纹成分转移到转印材的端面上。接着,在上述各样品的透光性基体表面,将上述转印材端面以负荷29N按压10秒来转印模拟指纹成分。另外,指纹图案被转移至介质的半径40mm附近的位置。以该方法使人工指纹液(JIS K2246,伊势久公司制造)附着,并将模拟指纹转印至层积体的表面。接着,通过使用擦除纸(商品名:ソフトスーパーワイパーS132,大王制纸(株)制造)以98KPa的压力往复擦拭6次,擦去人工指纹液后,在荧光灯下目视观察层积体上是否残留有污垢。按照以下基准进行评价。
◎:目视确认无污垢。
○:目视确认有若干污垢。
×:模拟指纹延展开,污垢不能被擦去。
(通过电子显微镜进行层积体表面的观察)
使用扫描电子显微镜(日本电子公司制造,“JSM-7400F”),在加速电压3.00kV的条件下,观察压模和层积体的表面所形成的微细凹凸结构。另外,关于层积体的观察,在铂蒸镀10分钟后进行观察。从所得的图像,测定相邻凸部间的距离和凸部的高度。各自测定10个点,求平均值。
<压模的制作>
将电解研磨后的铝圆盘(纯度99.99质量%、厚度2mm、φ65mm)作为铝基材使用。将铝基材浸渍于调整至15℃的0.3M草酸水溶液,通过反复进行直流稳定化装置的电源的ON/OFF间歇地将电流通向铝基材,使铝基材进行阳极氧化。接着,每隔30秒施加5秒80V的恒压,反复该操作60次,形成具有细孔的氧化膜。接下来,将形成有氧化膜的铝基材在混合了6质量%的磷酸和1.8质量%的铬酸的70℃水溶液中浸渍6小时,溶解除去氧化膜。将溶解除去氧化膜后的铝基材浸渍于调整至16℃的0.05M草酸水溶液,用80V的电压实施7秒阳极氧化。接下来,将铝基材在调整至32℃的5质量%磷酸水溶液中浸渍20分钟,实施扩大氧化膜的细孔的孔径扩大处理。交替重复这样的阳极氧化处理和孔径扩大处理。阳极氧化处理和孔径扩大处理分别进行5次。通过将得到的压模在TDP-8(日光化学公司制造)的0.1质量%水溶液中浸渍10分钟后捞出并一晚干燥,从而实施脱模处理。
以电子显微镜观察所得的多孔氧化铝的表面,其结果是,形成了由相邻凹部间的距离为180nm、深度为180nm的大致圆锥状的锥状凹部构成的微细凹凸结构。
[实施例D1]
<层积体的制造>
通过混合以下的材料制备活化能射线固化性树脂组合物。
·环氧乙烷改性二季戊四醇六丙烯酸酯(“カヤラッドDPEA-12”,一分子内的环氧乙烷结构单元数n=12,日本化药公司制造)30质量份
·アロニックスM-260(商品名,东亚合成公司制造,聚乙二醇链的平均重复单元为13)70质量份
·イルガキュア(IRGACURE)184(商品名,汽巴精化公司制造)1质量份
·イルガキュア(IRGACURE)819(商品名,汽巴精化公司制造)0.5份
·TDP-2(商品名,日光化学公司制造)0.1质量份
在压模上滴下数滴该活化能射线固化性树脂组合物,以三醋酸纤维素膜(FTTD80ULM(商品名),富士胶片公司制造)边铺开边覆盖。接着,从膜侧以1000mJ/cm2的能量照射紫外线,使活化能射线固化性树脂组合物光固化。然后,剥离膜与压模,在得到的具有微细凹凸结构的表层上,向微细凹凸结构表面以ベンコットM-3II(旭化成纤维公司制造)刷涂作为底漆的PC-3B(商品名,フロロテクノロジー公司制造),常温下干燥90分钟后,以ベンコット刷涂FG5070S135-0.1(商品名,フロロテクノロジー公司制造),在60℃下干燥3小时。接着,从膜侧以累积光照射量1000mJ/cm2的能量照射紫外线,使活化能射线固化性树脂组合物光固化,形成表面处理层。然后,剥离膜和压模,得到如图3所示的具有相邻凸部间的距离w1为180nm、凸部的高度d1为180nm的微细凹凸结构的层积体。
<评价>
对得到的层积体进行水接触角、弹性模量、防污性的各评价。结果如表4所示。
表5中的简称如下所述。
DPEA-12:环氧乙烷改性二季戊四醇六丙烯酸酯(日本化药公司制造,“カヤラッドDPEA-12”,一分子内的环氧乙烷结构单元数n=12)
BYK-3570:硅酮丙烯酸酯环氧丙烷改性新戊二醇二丙烯酸酯稀释品(ビッグケミー·ジャパン公司制造)
TAS:将三羟甲基乙烷/丙烯酸/琥珀酸酐以2/4/1进行缩合反应而得到的混合物(大阪有机化学工业公司制造)
M-260:聚乙二醇二丙烯酸酯(“アロニックスM-260”,东亚合成公司制造,聚乙二醇链的平均重复单元为13)
X-22-1602:硅酮丙烯酸酯(信越化学工业公司制造)
C6DA:1,6-己二醇二丙烯酸酯(大阪有机化学工业公司制造)
IRG.184:羟基环己基苯基酮(“イルガキュア(Irgacure)184”,汽巴精化公司制造)
IRG.819:苯基双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)-氧化膦(“イルガキュア(Irgacure)819”,汽巴精化公司制造)
TDP-2:聚氧乙烯烷基醚磷酸(商品名,日光化学株式会社制造)
PC-3B:底漆(プライマー)(商品名,フロロテクノロジー公司制造)
FG5070S135:氟涂布剂(商品名,フロロテクノロジー公司制造)
另外,表5中,实施例1~2和比较例1~2分别表示实施例D1~D2和比较例D1~D2。
[实施例D2]
除了变更为表5所示的组成以外,其他同实施例D1一样地实施,得到层积体。结果如表5所示。
[比较例D1~D2]
除了变更为表5所示的组成以外,其他同实施例D1一样地实施,得到层积体。结果如表5所示。
实施例D1~D2所得的层积体中,表层的水接触角为120°以上,显示出即使不用水或醇也容易去除污垢的防污性。实施例D2所得的层积体中,弹性模量为100MPa以下且水接触角为130°以上,因此,显示出非常良好的防污性。
比较例D1~D2所得的层积体中,防污性并不充分。
(实施例E)
以下,通过实施例E对本实施方式进行具体说明,但本发明并不局限于此。
<各种评价和测定方法>
(水接触角的判定)
使用自动接触角测定装置(KRUSS公司制造),并在后述的实施例E和比较例E中所制作的活化能射线固化性树脂组合物的固化物(活化能射线固化树脂)的表面上滴下1μL的水,以θ/2法算出自滴下7秒钟后的水滴的接触角。
(压入弹性模量的测定)
使用“FISCHERSCOPE(R)HM2000”(商品名,フィッシャー公司制造),在100mN/10秒的条件下,边增加负荷边对层积体的表层的照射面施加负荷,在100mN下保持60秒后,在100mN/10秒的条件下边减少负荷边卸载负荷。采用承受这时的65%和95%的负荷的点,并通过外插法计算弹性模量。另外,也可将厚度500μm的特氟龙片作为隔片使用,并用2枚玻璃板夹住活化能射线固化性树脂组合物,以累积光照射量3000mJ/cm2的能量照射紫外线,使活化能射线固化性树脂组合物光固化,制作厚度500μm的活化能射线固化树脂,并对该固化树脂的照射面进行与上述同样的测定,计算弹性模量。
(防污性试验)
按照日本专利特开2006-147149号公报所记载的方法,进行防污性试验。首先,对于模拟指纹成分,以磁力搅拌器充分地搅拌,同时取约1mL该模拟指纹成分,通过旋涂法将其涂布于聚碳酸酯制基板(直径120mm,厚度1.2mm)上。通过在60℃下加热该基板3分钟,完全去除了作为不需要的稀释剂的甲氧基丙醇。将其作为模拟指纹转印用的原版。
接着,用#240的研磨纸对NO.1的硅酮橡胶塞的小的端面(直径12mm)均一地研磨后,将其作为模拟指纹转印材,将该研磨的端面在上述原版上以负荷29N按压10秒,使模拟指纹成分转移到转印材的端面上。接着,在上述各样品的层积体表面,将上述转印材端面以负荷29N按压10秒来转印模拟指纹成分。另外,指纹图案被转移至介质的半径40mm附近的位置。
接着,通过使用擦除纸(商品名:ソフトスーパーワイパーS132,大王制纸(株)制造)以98KPa的压力往复擦拭6次,擦去模拟指纹成分后,在荧光灯下目视观察层积体上是否残留有污垢。按照以下基准进行评价。
◎:目视确认无污垢。
○:目视确认有若干污垢。
×:模拟指纹延展开,污垢不能被擦去。
(突起合一的评价)
从膜端面侧(侧面侧)入射LED光,自入射方向观察时,目视观察是否看到有白斑。按照以下基准进行评价。
○:斜向观察时,未见白斑。
△:斜向观察时,看到白斑,但从正面观察时,未见白斑。
×:从斜向和正面观察时,都看到白斑。
(通过电子显微镜进行样品表面的观察)
使用扫描电子显微镜(日本电子公司制造,“JSM-7400F”),在加速电压3.00kV的条件下,观察压模和层积体的表面所形成的微细凹凸结构。另外,关于层积体的观察,在铂蒸镀10分钟后进行观察。从所得的图像,测定相邻凸部间的距离和凸部的高度。各自测定10个点,求平均值。
<压模的制作>
将电解研磨后的铝圆盘(纯度99.99质量%、厚度2mm、φ65mm)作为铝基材使用。将铝基材浸渍于调整至15℃的0.3M草酸水溶液,通过反复进行直流稳定化装置的电源的ON/OFF间歇地将电流通向铝基材,使铝基材进行阳极氧化。接着,每隔30秒施加5秒80V的恒压,反复该操作60次,形成具有细孔的氧化膜。接下来,将形成有氧化膜的铝基材在混合了6质量%的磷酸和1.8质量%的铬酸的70℃水溶液中浸渍6小时,溶解除去氧化膜。将溶解除去氧化膜后的铝基材浸渍于调整至16℃的0.05M草酸水溶液,用80V的电压实施5秒阳极氧化。接下来,将铝基材在调整至32℃的5质量%磷酸水溶液中浸渍20分钟,实施扩大氧化膜的细孔的孔径扩大处理。交替重复这样的阳极氧化处理和孔径扩大处理。阳极氧化处理和孔径扩大处理分别进行5次。通过将得到的压模在TDP-8(日光化学株式会社制造)的0.1质量%水溶液中浸渍10分钟后捞出并且一晚干燥,从而实施脱模处理。
以电子显微镜观察所得的多孔氧化铝的表面,其结果是,形成了由相邻凹部间的距离为180nm、深度为150nm的大致圆锥状的锥状凹部构成的微细凹凸结构。
[实施例E1]
<层积体的制造>
通过混合以下的材料制备活化能射线固化性树脂组合物。
·环氧乙烷改性二季戊四醇六丙烯酸酯(“カヤラッドDPEA-12”,一分子内的环氧乙烷结构单元数n=12,日本化药公司制造)22质量份
·アロニックスM-260(商品名,东亚合成公司制造,聚乙二醇链的平均重复单元为13)32质量份
·APG-700(商品名,新中村化学公司制造,聚丙二醇链的平均重复单元为12)32质量份
·BYK-3570(商品名,ビッグケミー·ジャパン公司制造,硅酮丙烯酸酯环氧丙烷改性新戊二醇二丙烯酸酯稀释品)9质量份
·カレンズMT PE1(商品名,昭和电工公司制造,具有4个SH基的化合物)5质量份
·イルガキュア(IRGACURE)184(商品名,汽巴精化公司制造)1质量份
·イルガキュア(IRGACURE)819(商品名,汽巴精化公司制造)0.5份
·TDP-2(商品名,日光化学株式会社制造)0.1质量份
在压模上滴下数滴该活化能射线固化性树脂组合物,以三醋酸纤维素膜(FTTD80ULM(商品名),富士胶片公司制造)边铺开边覆盖。接着,从膜侧以累积光照射量1000mJ/cm2的能量照射紫外线,使活化能射线固化性树脂组合物光固化。得到如图1所示的具有相邻凸部间的距离w1为180nm、凸部的高度d1为150nm的微细凹凸结构的层积体。
<评价>
进行涉及所得层积体的水接触角、弹性模量、防污性、突起合一的各评价。所得层积体的弹性模量为非常低的60MPa,并且水接触角也为130°以上,因此,所得层积体是干擦也能充分去除污垢并且无突起合一、防污性优良的层积体。结果如表7所示。
【表7】
表6中的简称如下所述。
DPHA:六丙烯酸二季戊四醇酯(第一工业制药公司制造)
DPEA-12:环氧乙烷改性二季戊四醇六丙烯酸酯(日本化药公司制造,“カヤラッドDPEA-12”,一分子内的环氧乙烷结构单元数n=12)
DPHA-30EO:环氧乙烷改性二季戊四醇六丙烯酸酯((第一工业制药公司制造,一分子内的环氧乙烷结构单元数n=30)
M-260:聚乙二醇二丙烯酸酯(“アロニックスM-260”,东亚合成公司制造,聚乙二醇链的平均重复单元为13)
APG-700(商品名,新中村化学公司制造,聚丙二醇链的平均重复单元为12)
C6DA:1,6-己二醇二丙烯酸酯(大阪有机化学工业公司制造)
BYK-3570:硅酮丙烯酸酯环氧丙烷改性新戊二醇二丙烯酸酯稀释品(ビッグケミー·ジャパン公司制造)
X-22-1602:硅酮丙烯酸酯(信越化学工业公司制造)
PE1:カレンズMT PE1(商品名,昭和电工公司制造,具有4个SH基的化合物)
NR1:カレンズMT NR1(商品名,昭和电工公司制造,具有3个SH基的化合物)
BD1:カレンズMT BD1(商品名,昭和电工公司制造,具有2个SH基的化合物)
nOM:n-辛基硫醇(エルファトムケムジャパン公司制造,具有1个SH基的化合物)
IRG.184:羟基环己基苯基酮(“イルガキュア(Irgacure)184”,汽巴精化公司制造)
IRG.819:苯基双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)-氧化膦(“イルガキュア(Irgacure)819”,汽巴精化公司制造)
TDP-2:聚氧乙烯烷基醚磷酸(商品名,日光化学株式会社制造)
另外,表6和表7中,实施例1~13和比较例1分别表示实施例E1~E13和比较例E1。
[实施例E2~E13、比较例E1]
除了变更为表6所示的组成以外,其他同实施例E1一样地实施,得到层积体。结果如表7所示。
实施例E2~E13所得的层积体中,显示出即使不用水或醇也能容易地去除污垢的防污性。
实施例E2~E11中,压入弹性模量(押込み弾性率)为500MPa以下,水接触角为130°以上,因此,显示出良好的防污性。其中,实施例1~6、8、10中,压入弹性模量为100MPa以下,因此,显示出特别良好的防污性。实施例E12和E13中,由于具有SH基的化合物的添加量多,因此,虽然水接触角为130°以下,但显示出良好的防污性。
产业上的利用可能性
本实施方式的层积体能维持优良的光学性能并且能容易地去除污垢,因此,可作为电视、手机、便携式游戏机等的各种显示屏、触摸屏、陈列橱、包装盖等利用,在工业上极其有用。
Claims (20)
1.一种层积体,其为具有表层的层积体,所述表层具有形成了微细凹凸结构的表面,其特征在于,
所述表层的弹性模量小于250MPa,并且所述表层的摩擦系数的斜率为1.8×10-3以下。
2.如权利要求1记载的层积体,其中,所述表层的摩擦系数的斜率为-2.0×10-3以上。
3.如权利要求1或2记载的层积体,其中,所述表层的摩擦系数的斜率为-1.8×10-3以上、1.0×10-3以下。
4.如权利要求1~3中的任一项记载的层积体,其中,所述表层的弹性模量小于160MPa。
5.如权利要求1~4中的任一项记载的层积体,其中,所述表层的弹性模量小于100MPa。
6.如权利要求1~5中的任一项记载的层积体,其中,所述表层的水接触角为25°以下或130°以上。
7.如权利要求1~6中的任一项记载的层积体,其中,所述表层包含由活化能射线固化性树脂组合物的固化物构成的层。
8.如权利要求7记载的层积体,其中,所述活化能射线固化性树脂组合物含有:
3官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯A 1~55质量份和双官能团的(甲基)丙烯酸酯B 10~95质量份;
其中,将所述活化能射线固化性树脂组合物中的聚合性成分的合计作为100质量份。
9.如权利要求8记载的层积体,其中,所述3官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯A的含量为5~40质量份,所述双官能团的(甲基)丙烯酸酯B的含量为20~80质量份。
10.如权利要求8记载的层积体,其中,所述3官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯A的含量为10~30质量份,所述双官能团的(甲基)丙烯酸酯B的含量为30~70质量份。
11.如权利要求8记载的层积体,其中,所述活化能射线固化性树脂组合物还含有硅酮(甲基)丙烯酸酯C 3~85质量份;
其中,将所述活化能射线固化性树脂组合物中的聚合性成分的合计作为100质量份,并且A和B分别为C以外的物质。
12.如权利要求9记载的层积体,其中,所述活化能射线固化性树脂组合物还含有硅酮(甲基)丙烯酸酯C 7~70质量份;
其中,将所述活化能射线固化性树脂组合物中的聚合性成分的合计作为100质量份,并且A和B分别为C以外的物质。
13.如权利要求7记载的层积体,其中,所述活化能射线固化性树脂组合物含有具有SH基的化合物D。
14.如权利要求13记载的层积体,其中,所述活化能射线固化性树脂组合物含有:
双官能团以上的多官能团(甲基)丙烯酸酯E 0~95质量份;
硅酮(甲基)丙烯酸酯C 0~75质量份;以及
所述具有SH基的化合物D 1~60质量份;
其中,将聚合性成分的合计作为100质量份。
15.如权利要求7~14中的任一项记载的层积体,其中,所述表层是由所述活化能射线固化性树脂组合物的固化物构成的层所构成的。
16.如权利要求7~14中的任一项记载的层积体,其中,所述表层由以下的层所构成:
由所述活化能射线固化性树脂组合物的固化物构成的层;以及
作为最表面层的表面处理层;
其中,表面处理层是在由该活化能射线固化性树脂组合物的固化物构成的层上所形成的。
17.如权利要求1~15中的任一项记载的层积体,其中,所述微细凹凸结构的间距为100nm以上、250nm以下。
18.一种防反射物品,其具有权利要求1~17中的任一项记载的层积体。
19.一种图像显示装置,其具有权利要求1~17中的任一项记载的层积体。
20.一种触摸屏,其具有权利要求1~17中的任一项记载的层积体。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107718729A (zh) * | 2017-11-10 | 2018-02-23 | 江苏瑞和磨料磨具有限公司 | 一种柔软耐水强力磨砂布 |
CN110446948A (zh) * | 2017-03-21 | 2019-11-12 | 夏普株式会社 | 防污性膜 |
CN110444568A (zh) * | 2019-07-31 | 2019-11-12 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 有机发光二极管显示面板及其制作方法、显示装置 |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10317578B2 (en) | 2014-07-01 | 2019-06-11 | Honeywell International Inc. | Self-cleaning smudge-resistant structure and related fabrication methods |
JPWO2016006627A1 (ja) * | 2014-07-11 | 2017-04-27 | 三菱レイヨン株式会社 | 微細凹凸構造体 |
CN105319614A (zh) * | 2014-08-05 | 2016-02-10 | 群创光电股份有限公司 | 抗反射结构及电子装置 |
JP6165127B2 (ja) * | 2014-12-22 | 2017-07-19 | 三菱重工工作機械株式会社 | 半導体装置及び半導体装置の製造方法 |
JP5951165B1 (ja) | 2015-04-30 | 2016-07-13 | シャープ株式会社 | 光学フィルムの製造方法、及び、光学フィルム |
JP6881317B2 (ja) * | 2015-12-22 | 2021-06-02 | 日油株式会社 | 剥離シート用硬化性樹脂組成物、剥離シート、これを用いた工程基材、及び基材を保護する方法 |
CN108778733B (zh) * | 2016-03-14 | 2021-05-18 | 电化株式会社 | 拒液性树脂片及使用了该拒液性树脂片的物品 |
WO2017164046A1 (ja) * | 2016-03-23 | 2017-09-28 | シャープ株式会社 | 光学フィルムの製造方法、及び、金型 |
US10781335B2 (en) | 2016-10-25 | 2020-09-22 | Daikin Industries, Ltd. | Functional film |
CN108921075B (zh) * | 2018-06-26 | 2021-02-23 | 业成科技(成都)有限公司 | 导光元件 |
KR102168854B1 (ko) * | 2019-04-16 | 2020-10-22 | 울산과학기술원 | 자기 회복성을 가지는 방오 장치 |
KR102132728B1 (ko) * | 2019-04-16 | 2020-07-10 | 울산과학기술원 | 방오성을 가지는 방오 표면 구조 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1652932A (zh) * | 2002-06-27 | 2005-08-10 | Tdk株式会社 | 带有复合硬涂层的物体及复合硬涂层的形成方法 |
CN101253227A (zh) * | 2005-10-04 | 2008-08-27 | 日本印帝股份公司 | 具有特定的表面形状与物性的结构体及用于形成该结构体的(甲基)丙烯酸系聚合性组合物 |
CN101663600A (zh) * | 2007-02-09 | 2010-03-03 | 三菱丽阳株式会社 | 透明成形体及使用其的防反射物品 |
CN102004273A (zh) * | 2009-09-02 | 2011-04-06 | 索尼公司 | 光学元件及其制造方法 |
CN102460228A (zh) * | 2009-06-23 | 2012-05-16 | 三菱丽阳株式会社 | 防反射物品以及显示器装置 |
JP2012163723A (ja) * | 2011-02-04 | 2012-08-30 | Sony Corp | 光学素子およびその製造方法、表示装置、情報入力装置、ならびに写真 |
WO2012133943A1 (ja) * | 2011-03-31 | 2012-10-04 | ソニー株式会社 | 印刷物および印画物 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6375702A (ja) | 1986-09-19 | 1988-04-06 | Hitachi Ltd | 反射防止膜 |
JP3360940B2 (ja) | 1994-05-20 | 2003-01-07 | 三菱レイヨン株式会社 | 光ディスク用コーティング材および光ディスク |
JPH11217560A (ja) | 1998-02-03 | 1999-08-10 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | 防曇性膜 |
JP2001183506A (ja) | 1999-12-24 | 2001-07-06 | Sony Corp | 光学素子及び表示装置 |
JP2001315247A (ja) | 2000-05-12 | 2001-11-13 | Nikon Corp | 親水性被膜を具えた物品 |
JP2002201230A (ja) * | 2000-11-02 | 2002-07-19 | Mitsubishi Chemicals Corp | 光硬化性樹脂組成物、低複屈折光学部材及びその製造方法 |
JP4191742B2 (ja) | 2001-09-19 | 2008-12-03 | Tdk株式会社 | 光情報媒体表面への擬似指紋液の転写方法 |
JP2003172808A (ja) | 2001-12-06 | 2003-06-20 | Hitachi Maxell Ltd | 超撥水性プラスチック基板及び反射防止膜 |
AU2003265169A1 (en) * | 2002-08-15 | 2004-03-03 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Antireflection film, polarizing plate and image display device |
WO2005026789A1 (en) * | 2003-09-16 | 2005-03-24 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Optical functional film, antireflection film, polarizing plate and image display device |
JP2005097371A (ja) | 2003-09-22 | 2005-04-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | フッ素含有樹脂組成物及び光学物品、並びにそれを用いた画像表示装置 |
JP4406553B2 (ja) | 2003-11-21 | 2010-01-27 | 財団法人神奈川科学技術アカデミー | 反射防止膜の製造方法 |
TWI408160B (zh) * | 2006-09-29 | 2013-09-11 | Fujifilm Corp | 透明保護薄膜、光學補償薄膜、偏光板及液晶顯示裝置 |
WO2009001629A1 (ja) * | 2007-06-26 | 2008-12-31 | Konica Minolta Opto, Inc. | クリアーハードコートフィルム、これを用いた反射防止フィルム、偏光板、及び表示装置 |
JP5264113B2 (ja) * | 2007-07-13 | 2013-08-14 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | 光硬化性樹脂組成物及び、成型体及び、成型体の製造方法 |
EP2404739A1 (en) * | 2010-07-09 | 2012-01-11 | 3M Innovative Properties Co. | Durable hyrophobic structured surface |
JP2013018910A (ja) * | 2011-07-13 | 2013-01-31 | Asahi Kasei E-Materials Corp | 樹脂硬化物 |
-
2013
- 2013-06-14 CN CN201380030398.7A patent/CN104349892B/zh active Active
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Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1652932A (zh) * | 2002-06-27 | 2005-08-10 | Tdk株式会社 | 带有复合硬涂层的物体及复合硬涂层的形成方法 |
CN101253227A (zh) * | 2005-10-04 | 2008-08-27 | 日本印帝股份公司 | 具有特定的表面形状与物性的结构体及用于形成该结构体的(甲基)丙烯酸系聚合性组合物 |
CN101663600A (zh) * | 2007-02-09 | 2010-03-03 | 三菱丽阳株式会社 | 透明成形体及使用其的防反射物品 |
CN102460228A (zh) * | 2009-06-23 | 2012-05-16 | 三菱丽阳株式会社 | 防反射物品以及显示器装置 |
CN102004273A (zh) * | 2009-09-02 | 2011-04-06 | 索尼公司 | 光学元件及其制造方法 |
JP2012163723A (ja) * | 2011-02-04 | 2012-08-30 | Sony Corp | 光学素子およびその製造方法、表示装置、情報入力装置、ならびに写真 |
WO2012133943A1 (ja) * | 2011-03-31 | 2012-10-04 | ソニー株式会社 | 印刷物および印画物 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110446948A (zh) * | 2017-03-21 | 2019-11-12 | 夏普株式会社 | 防污性膜 |
CN107718729A (zh) * | 2017-11-10 | 2018-02-23 | 江苏瑞和磨料磨具有限公司 | 一种柔软耐水强力磨砂布 |
CN110444568A (zh) * | 2019-07-31 | 2019-11-12 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 有机发光二极管显示面板及其制作方法、显示装置 |
US11211434B2 (en) | 2019-07-31 | 2021-12-28 | Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co., Ltd. | Organic light emitting diode display panel and manufacturing method thereof, and display device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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