JP2504916B2 - 基板洗浄装置 - Google Patents
基板洗浄装置Info
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- JP2504916B2 JP2504916B2 JP5233790A JP23379093A JP2504916B2 JP 2504916 B2 JP2504916 B2 JP 2504916B2 JP 5233790 A JP5233790 A JP 5233790A JP 23379093 A JP23379093 A JP 23379093A JP 2504916 B2 JP2504916 B2 JP 2504916B2
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- cleaning liquid
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ＬＣＤなどの薄膜基板
製造工程において基板を洗浄する基板洗浄装置の改良に
関するものである。
製造工程において基板を洗浄する基板洗浄装置の改良に
関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、ＬＣＤなどの薄膜基板製造工程に
おいて基板を洗浄する際には搬送ローラによって基板を
洗浄液槽内に搬送させて洗浄する基板洗浄装置が知られ
ている。特に、近年では、基板に高い洗浄度が要求され
ており、次のような従来技術が提案されている。
おいて基板を洗浄する際には搬送ローラによって基板を
洗浄液槽内に搬送させて洗浄する基板洗浄装置が知られ
ている。特に、近年では、基板に高い洗浄度が要求され
ており、次のような従来技術が提案されている。
【０００３】すなわち、図２に示すように、液槽２内に
は洗浄液３が満たされおり、基板１を支持、搬送する搬
送ローラ４が配設されている。この搬送ローラ４は、基
板１を一定方向に搬送するよう回動自在に複数配設され
ている。そして、このような搬送ローラ４上に基板１が
載置されると、基板の上面１ａが洗浄液３の水面３ａ近
傍に位置するようにして洗浄液３に浸されるように構成
されている。さらに、液槽２内には、基板１の搬送方向
に直交して複数のジェットノズル５が配設されている。
このジェットノズル５は基板の上面１ａに対して高圧水
６を噴射するようになっている。
は洗浄液３が満たされおり、基板１を支持、搬送する搬
送ローラ４が配設されている。この搬送ローラ４は、基
板１を一定方向に搬送するよう回動自在に複数配設され
ている。そして、このような搬送ローラ４上に基板１が
載置されると、基板の上面１ａが洗浄液３の水面３ａ近
傍に位置するようにして洗浄液３に浸されるように構成
されている。さらに、液槽２内には、基板１の搬送方向
に直交して複数のジェットノズル５が配設されている。
このジェットノズル５は基板の上面１ａに対して高圧水
６を噴射するようになっている。
【０００４】このような構成を有する従来例によれば、
ジェットノズル５から噴射される高圧水６の圧力により
洗浄液３に強い水流が起き、基板の上面１ａに付着して
いる汚れを効果的に洗い流すことができる。しかも、高
圧水６は水面３ａの空気を巻込み、非常に細かい気泡で
あるキャビテーション７を発生させる。そして、このキ
ャビテーション７は基板の上面１ａに衝突して弾けるこ
とにより、上面１ａの微小な汚れを落とすことができ
る。したがって、基板の上面１ａを極めて高い洗浄度で
洗浄することが可能である。
ジェットノズル５から噴射される高圧水６の圧力により
洗浄液３に強い水流が起き、基板の上面１ａに付着して
いる汚れを効果的に洗い流すことができる。しかも、高
圧水６は水面３ａの空気を巻込み、非常に細かい気泡で
あるキャビテーション７を発生させる。そして、このキ
ャビテーション７は基板の上面１ａに衝突して弾けるこ
とにより、上面１ａの微小な汚れを落とすことができ
る。したがって、基板の上面１ａを極めて高い洗浄度で
洗浄することが可能である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、以上の
ような従来例において、高い洗浄度による洗浄は基板の
上面１ａに対してしか、その効果を及ぼすことができな
かった。すなわち、基板の上面１ａはキャビテーション
７によって洗浄されているため高い洗浄度を有している
が、下面１ｂ側は洗浄液３に浸されているだけであるた
め、上面１ａと比べて格段に洗浄度が低かった。
ような従来例において、高い洗浄度による洗浄は基板の
上面１ａに対してしか、その効果を及ぼすことができな
かった。すなわち、基板の上面１ａはキャビテーション
７によって洗浄されているため高い洗浄度を有している
が、下面１ｂ側は洗浄液３に浸されているだけであるた
め、上面１ａと比べて格段に洗浄度が低かった。
【０００６】このような課題を解消する従来例として、
液槽２の洗浄液３内にジェットノズル５を配設して基板
下面１ｂに対して高圧水６を噴射する技術が提案されて
いる。この従来例によれば、ジェットノズル５からの高
圧水６が下面１ｂに噴射されて、下面１ｂの汚れを落と
すことができる。
液槽２の洗浄液３内にジェットノズル５を配設して基板
下面１ｂに対して高圧水６を噴射する技術が提案されて
いる。この従来例によれば、ジェットノズル５からの高
圧水６が下面１ｂに噴射されて、下面１ｂの汚れを落と
すことができる。
【０００７】ところが、このような従来例においても、
以下のような課題が指摘されていた。すなわち、高圧水
６が下面１ｂに噴射されても、洗浄液３中の下面１ｂ付
近には空気が存在せず、キャビテーション７が発生する
ことがない。従って、微小な汚れを落とすことは困難で
あった。また、基板１の両面を高い洗浄度で洗浄するた
め、２つの液槽２を配置して、基板１の両面を片面づつ
洗浄するよう搬送させる技術も考えられるが、この場
合、装置の大形化を招くことと共に、洗浄液の必要量が
増大するなど、不具合が生じていた。以上のように、従
来技術においては、基板の両面を等しく高い洗浄度で洗
浄することができなかった。
以下のような課題が指摘されていた。すなわち、高圧水
６が下面１ｂに噴射されても、洗浄液３中の下面１ｂ付
近には空気が存在せず、キャビテーション７が発生する
ことがない。従って、微小な汚れを落とすことは困難で
あった。また、基板１の両面を高い洗浄度で洗浄するた
め、２つの液槽２を配置して、基板１の両面を片面づつ
洗浄するよう搬送させる技術も考えられるが、この場
合、装置の大形化を招くことと共に、洗浄液の必要量が
増大するなど、不具合が生じていた。以上のように、従
来技術においては、基板の両面を等しく高い洗浄度で洗
浄することができなかった。
【０００８】本発明の基板洗浄装置は、上記のような従
来技術の持つ課題を解決するために提案されたものであ
り、その目的は、簡単な構成で基板の上下両面を高い洗
浄度で洗浄することができる基板洗浄装置を提供するこ
とである。
来技術の持つ課題を解決するために提案されたものであ
り、その目的は、簡単な構成で基板の上下両面を高い洗
浄度で洗浄することができる基板洗浄装置を提供するこ
とである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】以上のような課題を解決
するために、本発明の請求項１記載の基板洗浄装置は、
洗浄液槽内を搬送する基板に対して高圧水を噴射して洗
浄する基板洗浄装置において、基板上面が洗浄液に浸さ
れるよう洗浄液の水面付近に設置される基板の搬送手段
と、基板上面に対して高圧水を噴射するように、水面よ
り上方に配設される第１高圧水ノズルと、基板下面に対
して空気を噴射するように、洗浄液槽内の洗浄液中に配
設されるエアノズルと、基板下面に対してエアノズルか
ら噴出された空気をまき込むことが可能な高圧水を噴射
するように、エアノズル近傍に配設される第２高圧水ノ
ズルと、を備えたことを特徴とする。
するために、本発明の請求項１記載の基板洗浄装置は、
洗浄液槽内を搬送する基板に対して高圧水を噴射して洗
浄する基板洗浄装置において、基板上面が洗浄液に浸さ
れるよう洗浄液の水面付近に設置される基板の搬送手段
と、基板上面に対して高圧水を噴射するように、水面よ
り上方に配設される第１高圧水ノズルと、基板下面に対
して空気を噴射するように、洗浄液槽内の洗浄液中に配
設されるエアノズルと、基板下面に対してエアノズルか
ら噴出された空気をまき込むことが可能な高圧水を噴射
するように、エアノズル近傍に配設される第２高圧水ノ
ズルと、を備えたことを特徴とする。
【００１０】
【作用】以上のような構成を有する本発明の作用は次の
通りである。すなわち、請求項１記載の基板洗浄装置で
は、洗浄液の水面付近に設置された基板の搬送手段上に
おいて洗浄液に浸されている基板上面に対して、水面よ
り上方に配設される第１高圧水ノズルから高圧水が噴射
される。この高圧水の圧力によって基板上面近傍の洗浄
液に強い水流が起こるとともに、高圧水には洗浄液の水
面付近の空気が巻込まれて基板上面近傍の洗浄液中にキ
ャビテーションが発生する。一方、洗浄液中の基板下面
に対して、洗浄液槽内の洗浄液中に配設されるエアノズ
ルから空気が、その近傍に配設される第２高圧水ノズル
からは高圧水が噴射される。この高圧水の圧力によって
第１高圧水ノズルからの高圧水と同様に基板下面近傍の
洗浄液に強い水流が起こるとともに、高圧水にエアノズ
ルから噴射された空気が巻込まれて基板下面近傍の洗浄
液中にキャビテーションが発生する。
通りである。すなわち、請求項１記載の基板洗浄装置で
は、洗浄液の水面付近に設置された基板の搬送手段上に
おいて洗浄液に浸されている基板上面に対して、水面よ
り上方に配設される第１高圧水ノズルから高圧水が噴射
される。この高圧水の圧力によって基板上面近傍の洗浄
液に強い水流が起こるとともに、高圧水には洗浄液の水
面付近の空気が巻込まれて基板上面近傍の洗浄液中にキ
ャビテーションが発生する。一方、洗浄液中の基板下面
に対して、洗浄液槽内の洗浄液中に配設されるエアノズ
ルから空気が、その近傍に配設される第２高圧水ノズル
からは高圧水が噴射される。この高圧水の圧力によって
第１高圧水ノズルからの高圧水と同様に基板下面近傍の
洗浄液に強い水流が起こるとともに、高圧水にエアノズ
ルから噴射された空気が巻込まれて基板下面近傍の洗浄
液中にキャビテーションが発生する。
【００１１】
【実施例】以上説明したような本発明の基板洗浄装置の
一実施例を図面に基づいて具体的に説明する。なお、従
来技術と同一の部分に関しては同符号を付し、説明は省
略する。
一実施例を図面に基づいて具体的に説明する。なお、従
来技術と同一の部分に関しては同符号を付し、説明は省
略する。
【００１２】本実施例の基板洗浄装置は、図１の示すと
おりエアノズルの中に第２高圧水ノズルを収納して一体
化したものである。すなわち、液槽２内の洗浄液３の水
面３ａ付近に設置された搬送ローラ４上において洗浄液
３に浸されている基板１の上面１ａに対して、高圧水を
噴射するように水面３ａより上方に配設されるジェット
ノズル５（第１高圧水ノズルに相当）は従来と同様であ
るが、この液槽２の下方には、さらに中空の洗浄ユニッ
ト１２が配設されている。洗浄ユニット１２には、洗浄
ユニット１２内部に空気１４を供給するための供給口１
２ａが設けられている。また、洗浄ユニット１２には、
上面に搬送ローラ４の搬送方向に直交して複数の突起が
形成され、この突起中央にエアノズル１１が開口して設
けられている。これらのエアノズル１１は基板１の下面
１ｂに対して空気１４を噴射するように構成されてい
る。さらに、洗浄ユニット１２内部には、複数のジェッ
トノズル１０（第２高圧水ノズルに相当）を備えた高圧
水パイプ１３が収納されている。この高圧水パイプ１３
は、ジェットノズル１０に高圧水６を供給するようにな
っている。また、ジェットノズル１０はエアノズル１１
の真下に配置され、エアノズル１１を通って基板１の下
面１ｂに向けて高圧水６を噴射するようになっている。
そして、ジェットノズル１０からの高圧水６がエアノズ
ル１１付近の空気１４を巻込みむことが可能なように設
定されている。
おりエアノズルの中に第２高圧水ノズルを収納して一体
化したものである。すなわち、液槽２内の洗浄液３の水
面３ａ付近に設置された搬送ローラ４上において洗浄液
３に浸されている基板１の上面１ａに対して、高圧水を
噴射するように水面３ａより上方に配設されるジェット
ノズル５（第１高圧水ノズルに相当）は従来と同様であ
るが、この液槽２の下方には、さらに中空の洗浄ユニッ
ト１２が配設されている。洗浄ユニット１２には、洗浄
ユニット１２内部に空気１４を供給するための供給口１
２ａが設けられている。また、洗浄ユニット１２には、
上面に搬送ローラ４の搬送方向に直交して複数の突起が
形成され、この突起中央にエアノズル１１が開口して設
けられている。これらのエアノズル１１は基板１の下面
１ｂに対して空気１４を噴射するように構成されてい
る。さらに、洗浄ユニット１２内部には、複数のジェッ
トノズル１０（第２高圧水ノズルに相当）を備えた高圧
水パイプ１３が収納されている。この高圧水パイプ１３
は、ジェットノズル１０に高圧水６を供給するようにな
っている。また、ジェットノズル１０はエアノズル１１
の真下に配置され、エアノズル１１を通って基板１の下
面１ｂに向けて高圧水６を噴射するようになっている。
そして、ジェットノズル１０からの高圧水６がエアノズ
ル１１付近の空気１４を巻込みむことが可能なように設
定されている。
【００１３】以上のような構成を有する本実施例によれ
ば、搬送ローラ４上において洗浄液３に浸されている基
板１の上面１ａに対して、水面３ａより上方に配設され
るジェットノズル５から高圧水６が噴射される。高圧水
６の圧力によって基板１の上面１ａ近傍の洗浄液３に強
い水流が起こるとともに、この高圧水６に洗浄液３の水
面３ａ付近の空気が巻込まれて基板１の上面１ａ近傍の
洗浄液３中にキャビテーション７が発生する。一方、基
板１の下面１ｂに対して、洗浄液槽２内の洗浄液３中に
配設されるエアノズル１１からは空気１４が噴射され、
さらにこのエアノズル１１の真下に配置されたジェット
ノズル１０からは高圧水６が噴射される。この高圧水６
の圧力によってジエットノズル５からの高圧水６と同様
に基板１の下面１ｂ近傍の洗浄液３に強い水流が起こる
とともに、高圧水６がエアノズル１１を通過する際にエ
アノズルから噴射された空気が巻込まれて基板１の下面
１ｂ近傍の洗浄液３中にキャビテーション７が発生す
る。
ば、搬送ローラ４上において洗浄液３に浸されている基
板１の上面１ａに対して、水面３ａより上方に配設され
るジェットノズル５から高圧水６が噴射される。高圧水
６の圧力によって基板１の上面１ａ近傍の洗浄液３に強
い水流が起こるとともに、この高圧水６に洗浄液３の水
面３ａ付近の空気が巻込まれて基板１の上面１ａ近傍の
洗浄液３中にキャビテーション７が発生する。一方、基
板１の下面１ｂに対して、洗浄液槽２内の洗浄液３中に
配設されるエアノズル１１からは空気１４が噴射され、
さらにこのエアノズル１１の真下に配置されたジェット
ノズル１０からは高圧水６が噴射される。この高圧水６
の圧力によってジエットノズル５からの高圧水６と同様
に基板１の下面１ｂ近傍の洗浄液３に強い水流が起こる
とともに、高圧水６がエアノズル１１を通過する際にエ
アノズルから噴射された空気が巻込まれて基板１の下面
１ｂ近傍の洗浄液３中にキャビテーション７が発生す
る。
【００１４】上記のように、本実施例の基板洗浄装置に
よると、基板１の上面１ａ及び下面１ｂの両方を、同時
に高い洗浄度により洗浄することができ、近年要求され
る極めて高い洗浄度に応えることができる。すなわち、
基板１の上面１ａが、従来と同様にジェットノズル５か
ら噴射される高圧水６が洗浄液３の水面３ａ付近の空気
を巻込むことで発生したキャビテーション７と、高圧水
６の圧力によって生じた強い水流によって、高い洗浄度
で洗浄されるのみならず、基板１の下面１ｂも同様に、
ジェットノズル１０からの高圧水６がエアノズル１１を
通過する際にエアノズル１１から噴射された空気１４を
巻き込むことで発生したキャビテーション７と強い水流
によって高い洗浄度で洗浄される。
よると、基板１の上面１ａ及び下面１ｂの両方を、同時
に高い洗浄度により洗浄することができ、近年要求され
る極めて高い洗浄度に応えることができる。すなわち、
基板１の上面１ａが、従来と同様にジェットノズル５か
ら噴射される高圧水６が洗浄液３の水面３ａ付近の空気
を巻込むことで発生したキャビテーション７と、高圧水
６の圧力によって生じた強い水流によって、高い洗浄度
で洗浄されるのみならず、基板１の下面１ｂも同様に、
ジェットノズル１０からの高圧水６がエアノズル１１を
通過する際にエアノズル１１から噴射された空気１４を
巻き込むことで発生したキャビテーション７と強い水流
によって高い洗浄度で洗浄される。
【００１５】しかも、本実施例は、エアノズル１１の真
下にジェットノズル１０が配置されているため、高圧水
６が空気１４を効率良く巻込んで、洗浄液３中でも、洗
浄力が高いきめが細かく均一なキャビテーションを発生
させることができる。このような基板の下面１ｂでのキ
ャビテーション７によって、洗浄時には基板の下面１ｂ
の微小な汚れを落とすことができる。
下にジェットノズル１０が配置されているため、高圧水
６が空気１４を効率良く巻込んで、洗浄液３中でも、洗
浄力が高いきめが細かく均一なキャビテーションを発生
させることができる。このような基板の下面１ｂでのキ
ャビテーション７によって、洗浄時には基板の下面１ｂ
の微小な汚れを落とすことができる。
【００１６】さらに、本実施例は、従来の液槽２内に洗
浄ユニット１２を沈めるだけで構成することが可能であ
るため、高洗浄度の装置の小形化に貢献することができ
る。しかも、簡単な設置工事により、従来の装置を優れ
た洗浄効果を有する装置とすることができる。このよう
に、本実施例の基板洗浄装置は、製造及び設置作業が容
易であることから、全体として生産コストを削減するこ
とが可能となる。
浄ユニット１２を沈めるだけで構成することが可能であ
るため、高洗浄度の装置の小形化に貢献することができ
る。しかも、簡単な設置工事により、従来の装置を優れ
た洗浄効果を有する装置とすることができる。このよう
に、本実施例の基板洗浄装置は、製造及び設置作業が容
易であることから、全体として生産コストを削減するこ
とが可能となる。
【００１７】なお、本発明の基板洗浄装置は、以上のよ
うな実施例に限定されるものではなく、ジェットノズル
とエアノズルを洗浄ユニットに交互に配設しても良く、
また、ジェットノズルとエアノズルの具体的な配設数及
び形状なども適宜選択可能である。
うな実施例に限定されるものではなく、ジェットノズル
とエアノズルを洗浄ユニットに交互に配設しても良く、
また、ジェットノズルとエアノズルの具体的な配設数及
び形状なども適宜選択可能である。
【００１８】
【発明の効果】以上述べたように、本発明の基板洗浄装
置によれば、洗浄液水面付近の基板上面に高圧水を噴射
する第１高圧水ノズルと、洗浄液槽内に配設されて基板
下面に空気を噴射するエアノズルと、このエアノズルか
ら噴出された空気をまき込むことが可能な高圧水を噴射
するように前記エアノズル近傍に配設される第２高圧水
ノズルとを備えるという簡単な構成により、同一液槽内
において基板上下面の近傍にキャビテーションを発生さ
せることが可能となる。したがって、基板の両面を高い
洗浄度で、しかも同時に洗浄することができる。また、
装置の小形化に貢献しつつ極めて高い洗浄能力を備える
優れた基板洗浄装置を提供することができる。
置によれば、洗浄液水面付近の基板上面に高圧水を噴射
する第１高圧水ノズルと、洗浄液槽内に配設されて基板
下面に空気を噴射するエアノズルと、このエアノズルか
ら噴出された空気をまき込むことが可能な高圧水を噴射
するように前記エアノズル近傍に配設される第２高圧水
ノズルとを備えるという簡単な構成により、同一液槽内
において基板上下面の近傍にキャビテーションを発生さ
せることが可能となる。したがって、基板の両面を高い
洗浄度で、しかも同時に洗浄することができる。また、
装置の小形化に貢献しつつ極めて高い洗浄能力を備える
優れた基板洗浄装置を提供することができる。
【図１】本発明の一実施例の基板洗浄装置を示す側面断
面図。
面図。
【図２】従来例の側面断面図。
１…基板 ２…液槽 ３…洗浄液 ４…搬送ローラ ５…ジェットノズル ６…高圧水 ７…キャビテーション １０…ジェットノズル １１…エアノズル １２…洗浄ユニット １３…高圧水パイプ １４…空気
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭49−3160（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−182229（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−178081（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−218481（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−310989（ＪＰ，Ａ) 実開 昭63−108630（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭58−147246（ＪＰ，Ｕ)
Claims (1)
- 【請求項１】 洗浄液槽内を搬送する基板に対して高圧
水を噴射して洗浄する基板洗浄装置において、 前記基板上面が洗浄液に浸されるよう洗浄液の水面付近
に設置される基板の搬送手段と、 前記基板上面に対して高圧水を噴射するように、水面よ
り上方に配設される第１高圧水ノズルと、 前記基板下面に対して空気を噴射するように、前記洗浄
液槽内の洗浄液中に配設されるエアノズルと、 前記基板下面に対して、前記エアノズルから噴出された
空気をまき込むことが可能な高圧水を噴射するように、
前記エアノズル近傍に配設される第２高圧水ノズルと、 を備えたことを特徴とする基板洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5233790A JP2504916B2 (ja) | 1993-09-20 | 1993-09-20 | 基板洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5233790A JP2504916B2 (ja) | 1993-09-20 | 1993-09-20 | 基板洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06208098A JPH06208098A (ja) | 1994-07-26 |
| JP2504916B2 true JP2504916B2 (ja) | 1996-06-05 |
Family
ID=16960613
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5233790A Expired - Lifetime JP2504916B2 (ja) | 1993-09-20 | 1993-09-20 | 基板洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2504916B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19519210A1 (de) * | 1995-05-25 | 1996-11-28 | Hoellmueller Maschbau H | Verfahren zur Behandlung von Gegenständen, insbesondere von elektronischen Leiterplatten, sowie Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens |
| JP3343013B2 (ja) * | 1995-12-28 | 2002-11-11 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板洗浄方法及びその装置 |
| DE19618974A1 (de) * | 1996-05-10 | 1997-11-13 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur Behandlung von Halbleitermaterial |
| TW373222B (en) | 1996-07-02 | 1999-11-01 | Toshiba Corp | Shade shelter lid fabricating method, shade shelter lid fabricating device, and the cleaning device using for the same |
| KR20040042287A (ko) * | 2002-11-13 | 2004-05-20 | 주식회사 씨어테크 | 스크린 프린터의 세정액 공급장치 |
| JP5639860B2 (ja) * | 2010-11-24 | 2014-12-10 | Ｓｕｍｃｏ Ｔｅｃｈｘｉｖ株式会社 | ウェーハの洗浄方法 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS493160A (ja) * | 1972-04-26 | 1974-01-11 | ||
| JPS58147246U (ja) * | 1982-03-30 | 1983-10-03 | 富士通株式会社 | 基板の液体搬送装置 |
| JPS61178081A (ja) * | 1985-02-05 | 1986-08-09 | 八洋エンジニアリング株式会社 | 洗浄装置 |
| JPS61182229A (ja) * | 1985-02-08 | 1986-08-14 | Hitachi Ltd | 洗浄装置 |
| JPH0244522Y2 (ja) * | 1986-12-29 | 1990-11-27 |
-
1993
- 1993-09-20 JP JP5233790A patent/JP2504916B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06208098A (ja) | 1994-07-26 |
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