JP2504916B2 - 基板洗浄装置 - Google Patents
基板洗浄装置Info
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- JP2504916B2 JP2504916B2 JP5233790A JP23379093A JP2504916B2 JP 2504916 B2 JP2504916 B2 JP 2504916B2 JP 5233790 A JP5233790 A JP 5233790A JP 23379093 A JP23379093 A JP 23379093A JP 2504916 B2 JP2504916 B2 JP 2504916B2
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- Japan
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- cleaning liquid
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、LCDなどの薄膜基板
製造工程において基板を洗浄する基板洗浄装置の改良に
関するものである。
製造工程において基板を洗浄する基板洗浄装置の改良に
関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、LCDなどの薄膜基板製造工程に
おいて基板を洗浄する際には搬送ローラによって基板を
洗浄液槽内に搬送させて洗浄する基板洗浄装置が知られ
ている。特に、近年では、基板に高い洗浄度が要求され
ており、次のような従来技術が提案されている。
おいて基板を洗浄する際には搬送ローラによって基板を
洗浄液槽内に搬送させて洗浄する基板洗浄装置が知られ
ている。特に、近年では、基板に高い洗浄度が要求され
ており、次のような従来技術が提案されている。
【0003】すなわち、図2に示すように、液槽2内に
は洗浄液3が満たされおり、基板1を支持、搬送する搬
送ローラ4が配設されている。この搬送ローラ4は、基
板1を一定方向に搬送するよう回動自在に複数配設され
ている。そして、このような搬送ローラ4上に基板1が
載置されると、基板の上面1aが洗浄液3の水面3a近
傍に位置するようにして洗浄液3に浸されるように構成
されている。さらに、液槽2内には、基板1の搬送方向
に直交して複数のジェットノズル5が配設されている。
このジェットノズル5は基板の上面1aに対して高圧水
6を噴射するようになっている。
は洗浄液3が満たされおり、基板1を支持、搬送する搬
送ローラ4が配設されている。この搬送ローラ4は、基
板1を一定方向に搬送するよう回動自在に複数配設され
ている。そして、このような搬送ローラ4上に基板1が
載置されると、基板の上面1aが洗浄液3の水面3a近
傍に位置するようにして洗浄液3に浸されるように構成
されている。さらに、液槽2内には、基板1の搬送方向
に直交して複数のジェットノズル5が配設されている。
このジェットノズル5は基板の上面1aに対して高圧水
6を噴射するようになっている。
【0004】このような構成を有する従来例によれば、
ジェットノズル5から噴射される高圧水6の圧力により
洗浄液3に強い水流が起き、基板の上面1aに付着して
いる汚れを効果的に洗い流すことができる。しかも、高
圧水6は水面3aの空気を巻込み、非常に細かい気泡で
あるキャビテーション7を発生させる。そして、このキ
ャビテーション7は基板の上面1aに衝突して弾けるこ
とにより、上面1aの微小な汚れを落とすことができ
る。したがって、基板の上面1aを極めて高い洗浄度で
洗浄することが可能である。
ジェットノズル5から噴射される高圧水6の圧力により
洗浄液3に強い水流が起き、基板の上面1aに付着して
いる汚れを効果的に洗い流すことができる。しかも、高
圧水6は水面3aの空気を巻込み、非常に細かい気泡で
あるキャビテーション7を発生させる。そして、このキ
ャビテーション7は基板の上面1aに衝突して弾けるこ
とにより、上面1aの微小な汚れを落とすことができ
る。したがって、基板の上面1aを極めて高い洗浄度で
洗浄することが可能である。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、以上の
ような従来例において、高い洗浄度による洗浄は基板の
上面1aに対してしか、その効果を及ぼすことができな
かった。すなわち、基板の上面1aはキャビテーション
7によって洗浄されているため高い洗浄度を有している
が、下面1b側は洗浄液3に浸されているだけであるた
め、上面1aと比べて格段に洗浄度が低かった。
ような従来例において、高い洗浄度による洗浄は基板の
上面1aに対してしか、その効果を及ぼすことができな
かった。すなわち、基板の上面1aはキャビテーション
7によって洗浄されているため高い洗浄度を有している
が、下面1b側は洗浄液3に浸されているだけであるた
め、上面1aと比べて格段に洗浄度が低かった。
【0006】このような課題を解消する従来例として、
液槽2の洗浄液3内にジェットノズル5を配設して基板
下面1bに対して高圧水6を噴射する技術が提案されて
いる。この従来例によれば、ジェットノズル5からの高
圧水6が下面1bに噴射されて、下面1bの汚れを落と
すことができる。
液槽2の洗浄液3内にジェットノズル5を配設して基板
下面1bに対して高圧水6を噴射する技術が提案されて
いる。この従来例によれば、ジェットノズル5からの高
圧水6が下面1bに噴射されて、下面1bの汚れを落と
すことができる。
【0007】ところが、このような従来例においても、
以下のような課題が指摘されていた。すなわち、高圧水
6が下面1bに噴射されても、洗浄液3中の下面1b付
近には空気が存在せず、キャビテーション7が発生する
ことがない。従って、微小な汚れを落とすことは困難で
あった。また、基板1の両面を高い洗浄度で洗浄するた
め、2つの液槽2を配置して、基板1の両面を片面づつ
洗浄するよう搬送させる技術も考えられるが、この場
合、装置の大形化を招くことと共に、洗浄液の必要量が
増大するなど、不具合が生じていた。以上のように、従
来技術においては、基板の両面を等しく高い洗浄度で洗
浄することができなかった。
以下のような課題が指摘されていた。すなわち、高圧水
6が下面1bに噴射されても、洗浄液3中の下面1b付
近には空気が存在せず、キャビテーション7が発生する
ことがない。従って、微小な汚れを落とすことは困難で
あった。また、基板1の両面を高い洗浄度で洗浄するた
め、2つの液槽2を配置して、基板1の両面を片面づつ
洗浄するよう搬送させる技術も考えられるが、この場
合、装置の大形化を招くことと共に、洗浄液の必要量が
増大するなど、不具合が生じていた。以上のように、従
来技術においては、基板の両面を等しく高い洗浄度で洗
浄することができなかった。
【0008】本発明の基板洗浄装置は、上記のような従
来技術の持つ課題を解決するために提案されたものであ
り、その目的は、簡単な構成で基板の上下両面を高い洗
浄度で洗浄することができる基板洗浄装置を提供するこ
とである。
来技術の持つ課題を解決するために提案されたものであ
り、その目的は、簡単な構成で基板の上下両面を高い洗
浄度で洗浄することができる基板洗浄装置を提供するこ
とである。
【0009】
【課題を解決するための手段】以上のような課題を解決
するために、本発明の請求項1記載の基板洗浄装置は、
洗浄液槽内を搬送する基板に対して高圧水を噴射して洗
浄する基板洗浄装置において、基板上面が洗浄液に浸さ
れるよう洗浄液の水面付近に設置される基板の搬送手段
と、基板上面に対して高圧水を噴射するように、水面よ
り上方に配設される第1高圧水ノズルと、基板下面に対
して空気を噴射するように、洗浄液槽内の洗浄液中に配
設されるエアノズルと、基板下面に対してエアノズルか
ら噴出された空気をまき込むことが可能な高圧水を噴射
するように、エアノズル近傍に配設される第2高圧水ノ
ズルと、を備えたことを特徴とする。
するために、本発明の請求項1記載の基板洗浄装置は、
洗浄液槽内を搬送する基板に対して高圧水を噴射して洗
浄する基板洗浄装置において、基板上面が洗浄液に浸さ
れるよう洗浄液の水面付近に設置される基板の搬送手段
と、基板上面に対して高圧水を噴射するように、水面よ
り上方に配設される第1高圧水ノズルと、基板下面に対
して空気を噴射するように、洗浄液槽内の洗浄液中に配
設されるエアノズルと、基板下面に対してエアノズルか
ら噴出された空気をまき込むことが可能な高圧水を噴射
するように、エアノズル近傍に配設される第2高圧水ノ
ズルと、を備えたことを特徴とする。
【0010】
【作用】以上のような構成を有する本発明の作用は次の
通りである。すなわち、請求項1記載の基板洗浄装置で
は、洗浄液の水面付近に設置された基板の搬送手段上に
おいて洗浄液に浸されている基板上面に対して、水面よ
り上方に配設される第1高圧水ノズルから高圧水が噴射
される。この高圧水の圧力によって基板上面近傍の洗浄
液に強い水流が起こるとともに、高圧水には洗浄液の水
面付近の空気が巻込まれて基板上面近傍の洗浄液中にキ
ャビテーションが発生する。一方、洗浄液中の基板下面
に対して、洗浄液槽内の洗浄液中に配設されるエアノズ
ルから空気が、その近傍に配設される第2高圧水ノズル
からは高圧水が噴射される。この高圧水の圧力によって
第1高圧水ノズルからの高圧水と同様に基板下面近傍の
洗浄液に強い水流が起こるとともに、高圧水にエアノズ
ルから噴射された空気が巻込まれて基板下面近傍の洗浄
液中にキャビテーションが発生する。
通りである。すなわち、請求項1記載の基板洗浄装置で
は、洗浄液の水面付近に設置された基板の搬送手段上に
おいて洗浄液に浸されている基板上面に対して、水面よ
り上方に配設される第1高圧水ノズルから高圧水が噴射
される。この高圧水の圧力によって基板上面近傍の洗浄
液に強い水流が起こるとともに、高圧水には洗浄液の水
面付近の空気が巻込まれて基板上面近傍の洗浄液中にキ
ャビテーションが発生する。一方、洗浄液中の基板下面
に対して、洗浄液槽内の洗浄液中に配設されるエアノズ
ルから空気が、その近傍に配設される第2高圧水ノズル
からは高圧水が噴射される。この高圧水の圧力によって
第1高圧水ノズルからの高圧水と同様に基板下面近傍の
洗浄液に強い水流が起こるとともに、高圧水にエアノズ
ルから噴射された空気が巻込まれて基板下面近傍の洗浄
液中にキャビテーションが発生する。
【0011】
【実施例】以上説明したような本発明の基板洗浄装置の
一実施例を図面に基づいて具体的に説明する。なお、従
来技術と同一の部分に関しては同符号を付し、説明は省
略する。
一実施例を図面に基づいて具体的に説明する。なお、従
来技術と同一の部分に関しては同符号を付し、説明は省
略する。
【0012】本実施例の基板洗浄装置は、図1の示すと
おりエアノズルの中に第2高圧水ノズルを収納して一体
化したものである。すなわち、液槽2内の洗浄液3の水
面3a付近に設置された搬送ローラ4上において洗浄液
3に浸されている基板1の上面1aに対して、高圧水を
噴射するように水面3aより上方に配設されるジェット
ノズル5(第1高圧水ノズルに相当)は従来と同様であ
るが、この液槽2の下方には、さらに中空の洗浄ユニッ
ト12が配設されている。洗浄ユニット12には、洗浄
ユニット12内部に空気14を供給するための供給口1
2aが設けられている。また、洗浄ユニット12には、
上面に搬送ローラ4の搬送方向に直交して複数の突起が
形成され、この突起中央にエアノズル11が開口して設
けられている。これらのエアノズル11は基板1の下面
1bに対して空気14を噴射するように構成されてい
る。さらに、洗浄ユニット12内部には、複数のジェッ
トノズル10(第2高圧水ノズルに相当)を備えた高圧
水パイプ13が収納されている。この高圧水パイプ13
は、ジェットノズル10に高圧水6を供給するようにな
っている。また、ジェットノズル10はエアノズル11
の真下に配置され、エアノズル11を通って基板1の下
面1bに向けて高圧水6を噴射するようになっている。
そして、ジェットノズル10からの高圧水6がエアノズ
ル11付近の空気14を巻込みむことが可能なように設
定されている。
おりエアノズルの中に第2高圧水ノズルを収納して一体
化したものである。すなわち、液槽2内の洗浄液3の水
面3a付近に設置された搬送ローラ4上において洗浄液
3に浸されている基板1の上面1aに対して、高圧水を
噴射するように水面3aより上方に配設されるジェット
ノズル5(第1高圧水ノズルに相当)は従来と同様であ
るが、この液槽2の下方には、さらに中空の洗浄ユニッ
ト12が配設されている。洗浄ユニット12には、洗浄
ユニット12内部に空気14を供給するための供給口1
2aが設けられている。また、洗浄ユニット12には、
上面に搬送ローラ4の搬送方向に直交して複数の突起が
形成され、この突起中央にエアノズル11が開口して設
けられている。これらのエアノズル11は基板1の下面
1bに対して空気14を噴射するように構成されてい
る。さらに、洗浄ユニット12内部には、複数のジェッ
トノズル10(第2高圧水ノズルに相当)を備えた高圧
水パイプ13が収納されている。この高圧水パイプ13
は、ジェットノズル10に高圧水6を供給するようにな
っている。また、ジェットノズル10はエアノズル11
の真下に配置され、エアノズル11を通って基板1の下
面1bに向けて高圧水6を噴射するようになっている。
そして、ジェットノズル10からの高圧水6がエアノズ
ル11付近の空気14を巻込みむことが可能なように設
定されている。
【0013】以上のような構成を有する本実施例によれ
ば、搬送ローラ4上において洗浄液3に浸されている基
板1の上面1aに対して、水面3aより上方に配設され
るジェットノズル5から高圧水6が噴射される。高圧水
6の圧力によって基板1の上面1a近傍の洗浄液3に強
い水流が起こるとともに、この高圧水6に洗浄液3の水
面3a付近の空気が巻込まれて基板1の上面1a近傍の
洗浄液3中にキャビテーション7が発生する。一方、基
板1の下面1bに対して、洗浄液槽2内の洗浄液3中に
配設されるエアノズル11からは空気14が噴射され、
さらにこのエアノズル11の真下に配置されたジェット
ノズル10からは高圧水6が噴射される。この高圧水6
の圧力によってジエットノズル5からの高圧水6と同様
に基板1の下面1b近傍の洗浄液3に強い水流が起こる
とともに、高圧水6がエアノズル11を通過する際にエ
アノズルから噴射された空気が巻込まれて基板1の下面
1b近傍の洗浄液3中にキャビテーション7が発生す
る。
ば、搬送ローラ4上において洗浄液3に浸されている基
板1の上面1aに対して、水面3aより上方に配設され
るジェットノズル5から高圧水6が噴射される。高圧水
6の圧力によって基板1の上面1a近傍の洗浄液3に強
い水流が起こるとともに、この高圧水6に洗浄液3の水
面3a付近の空気が巻込まれて基板1の上面1a近傍の
洗浄液3中にキャビテーション7が発生する。一方、基
板1の下面1bに対して、洗浄液槽2内の洗浄液3中に
配設されるエアノズル11からは空気14が噴射され、
さらにこのエアノズル11の真下に配置されたジェット
ノズル10からは高圧水6が噴射される。この高圧水6
の圧力によってジエットノズル5からの高圧水6と同様
に基板1の下面1b近傍の洗浄液3に強い水流が起こる
とともに、高圧水6がエアノズル11を通過する際にエ
アノズルから噴射された空気が巻込まれて基板1の下面
1b近傍の洗浄液3中にキャビテーション7が発生す
る。
【0014】上記のように、本実施例の基板洗浄装置に
よると、基板1の上面1a及び下面1bの両方を、同時
に高い洗浄度により洗浄することができ、近年要求され
る極めて高い洗浄度に応えることができる。すなわち、
基板1の上面1aが、従来と同様にジェットノズル5か
ら噴射される高圧水6が洗浄液3の水面3a付近の空気
を巻込むことで発生したキャビテーション7と、高圧水
6の圧力によって生じた強い水流によって、高い洗浄度
で洗浄されるのみならず、基板1の下面1bも同様に、
ジェットノズル10からの高圧水6がエアノズル11を
通過する際にエアノズル11から噴射された空気14を
巻き込むことで発生したキャビテーション7と強い水流
によって高い洗浄度で洗浄される。
よると、基板1の上面1a及び下面1bの両方を、同時
に高い洗浄度により洗浄することができ、近年要求され
る極めて高い洗浄度に応えることができる。すなわち、
基板1の上面1aが、従来と同様にジェットノズル5か
ら噴射される高圧水6が洗浄液3の水面3a付近の空気
を巻込むことで発生したキャビテーション7と、高圧水
6の圧力によって生じた強い水流によって、高い洗浄度
で洗浄されるのみならず、基板1の下面1bも同様に、
ジェットノズル10からの高圧水6がエアノズル11を
通過する際にエアノズル11から噴射された空気14を
巻き込むことで発生したキャビテーション7と強い水流
によって高い洗浄度で洗浄される。
【0015】しかも、本実施例は、エアノズル11の真
下にジェットノズル10が配置されているため、高圧水
6が空気14を効率良く巻込んで、洗浄液3中でも、洗
浄力が高いきめが細かく均一なキャビテーションを発生
させることができる。このような基板の下面1bでのキ
ャビテーション7によって、洗浄時には基板の下面1b
の微小な汚れを落とすことができる。
下にジェットノズル10が配置されているため、高圧水
6が空気14を効率良く巻込んで、洗浄液3中でも、洗
浄力が高いきめが細かく均一なキャビテーションを発生
させることができる。このような基板の下面1bでのキ
ャビテーション7によって、洗浄時には基板の下面1b
の微小な汚れを落とすことができる。
【0016】さらに、本実施例は、従来の液槽2内に洗
浄ユニット12を沈めるだけで構成することが可能であ
るため、高洗浄度の装置の小形化に貢献することができ
る。しかも、簡単な設置工事により、従来の装置を優れ
た洗浄効果を有する装置とすることができる。このよう
に、本実施例の基板洗浄装置は、製造及び設置作業が容
易であることから、全体として生産コストを削減するこ
とが可能となる。
浄ユニット12を沈めるだけで構成することが可能であ
るため、高洗浄度の装置の小形化に貢献することができ
る。しかも、簡単な設置工事により、従来の装置を優れ
た洗浄効果を有する装置とすることができる。このよう
に、本実施例の基板洗浄装置は、製造及び設置作業が容
易であることから、全体として生産コストを削減するこ
とが可能となる。
【0017】なお、本発明の基板洗浄装置は、以上のよ
うな実施例に限定されるものではなく、ジェットノズル
とエアノズルを洗浄ユニットに交互に配設しても良く、
また、ジェットノズルとエアノズルの具体的な配設数及
び形状なども適宜選択可能である。
うな実施例に限定されるものではなく、ジェットノズル
とエアノズルを洗浄ユニットに交互に配設しても良く、
また、ジェットノズルとエアノズルの具体的な配設数及
び形状なども適宜選択可能である。
【0018】
【発明の効果】以上述べたように、本発明の基板洗浄装
置によれば、洗浄液水面付近の基板上面に高圧水を噴射
する第1高圧水ノズルと、洗浄液槽内に配設されて基板
下面に空気を噴射するエアノズルと、このエアノズルか
ら噴出された空気をまき込むことが可能な高圧水を噴射
するように前記エアノズル近傍に配設される第2高圧水
ノズルとを備えるという簡単な構成により、同一液槽内
において基板上下面の近傍にキャビテーションを発生さ
せることが可能となる。したがって、基板の両面を高い
洗浄度で、しかも同時に洗浄することができる。また、
装置の小形化に貢献しつつ極めて高い洗浄能力を備える
優れた基板洗浄装置を提供することができる。
置によれば、洗浄液水面付近の基板上面に高圧水を噴射
する第1高圧水ノズルと、洗浄液槽内に配設されて基板
下面に空気を噴射するエアノズルと、このエアノズルか
ら噴出された空気をまき込むことが可能な高圧水を噴射
するように前記エアノズル近傍に配設される第2高圧水
ノズルとを備えるという簡単な構成により、同一液槽内
において基板上下面の近傍にキャビテーションを発生さ
せることが可能となる。したがって、基板の両面を高い
洗浄度で、しかも同時に洗浄することができる。また、
装置の小形化に貢献しつつ極めて高い洗浄能力を備える
優れた基板洗浄装置を提供することができる。
【図1】本発明の一実施例の基板洗浄装置を示す側面断
面図。
面図。
【図2】従来例の側面断面図。
1…基板 2…液槽 3…洗浄液 4…搬送ローラ 5…ジェットノズル 6…高圧水 7…キャビテーション 10…ジェットノズル 11…エアノズル 12…洗浄ユニット 13…高圧水パイプ 14…空気
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭49−3160(JP,A) 特開 昭61−182229(JP,A) 特開 昭61−178081(JP,A) 特開 平2−218481(JP,A) 特開 平2−310989(JP,A) 実開 昭63−108630(JP,U) 実開 昭58−147246(JP,U)
Claims (1)
- 【請求項1】 洗浄液槽内を搬送する基板に対して高圧
水を噴射して洗浄する基板洗浄装置において、 前記基板上面が洗浄液に浸されるよう洗浄液の水面付近
に設置される基板の搬送手段と、 前記基板上面に対して高圧水を噴射するように、水面よ
り上方に配設される第1高圧水ノズルと、 前記基板下面に対して空気を噴射するように、前記洗浄
液槽内の洗浄液中に配設されるエアノズルと、 前記基板下面に対して、前記エアノズルから噴出された
空気をまき込むことが可能な高圧水を噴射するように、
前記エアノズル近傍に配設される第2高圧水ノズルと、 を備えたことを特徴とする基板洗浄装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5233790A JP2504916B2 (ja) | 1993-09-20 | 1993-09-20 | 基板洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5233790A JP2504916B2 (ja) | 1993-09-20 | 1993-09-20 | 基板洗浄装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06208098A JPH06208098A (ja) | 1994-07-26 |
JP2504916B2 true JP2504916B2 (ja) | 1996-06-05 |
Family
ID=16960613
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5233790A Expired - Lifetime JP2504916B2 (ja) | 1993-09-20 | 1993-09-20 | 基板洗浄装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2504916B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19519210A1 (de) * | 1995-05-25 | 1996-11-28 | Hoellmueller Maschbau H | Verfahren zur Behandlung von Gegenständen, insbesondere von elektronischen Leiterplatten, sowie Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens |
JP3343013B2 (ja) * | 1995-12-28 | 2002-11-11 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板洗浄方法及びその装置 |
DE19618974A1 (de) * | 1996-05-10 | 1997-11-13 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur Behandlung von Halbleitermaterial |
TW373222B (en) | 1996-07-02 | 1999-11-01 | Toshiba Corp | Shade shelter lid fabricating method, shade shelter lid fabricating device, and the cleaning device using for the same |
KR20040042287A (ko) * | 2002-11-13 | 2004-05-20 | 주식회사 씨어테크 | 스크린 프린터의 세정액 공급장치 |
JP5639860B2 (ja) * | 2010-11-24 | 2014-12-10 | Sumco Techxiv株式会社 | ウェーハの洗浄方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS493160A (ja) * | 1972-04-26 | 1974-01-11 | ||
JPS58147246U (ja) * | 1982-03-30 | 1983-10-03 | 富士通株式会社 | 基板の液体搬送装置 |
JPS61178081A (ja) * | 1985-02-05 | 1986-08-09 | 八洋エンジニアリング株式会社 | 洗浄装置 |
JPS61182229A (ja) * | 1985-02-08 | 1986-08-14 | Hitachi Ltd | 洗浄装置 |
JPH0244522Y2 (ja) * | 1986-12-29 | 1990-11-27 |
-
1993
- 1993-09-20 JP JP5233790A patent/JP2504916B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH06208098A (ja) | 1994-07-26 |
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