CN101878117B - 处理平版印刷板的方法 - Google Patents
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Abstract
清洁平版印刷板的方法,包括以下步骤:向板施加包括水相、溶剂相和至少一种烷基(聚)葡糖苷的液体,所述溶剂相包括包含脂族和/或芳族烃的混合物,特征在于液体中溶剂相的量≤40wt%。
Description
技术领域
本发明涉及处理平版印刷板的方法。
发明背景
平版印刷机使用装配在印刷机机筒上的所谓印刷原版(printingmaster),例如印刷板。原版在其表面上带有平版图像,并且通过向所述图像施加油墨,然后将油墨从原版上转印到通常为纸的接收材料上来获得印刷品。在常规的所谓“湿法”平版印刷中,油墨和水性润版液(也称为浸版液)被供给至由亲油(或疏水,即接收油墨,排斥水)区域和亲水(或疏油,即接收水,排斥油墨)区域组成的平版图像。在所谓的无水平版(driographic)印刷中,平版图像由接收油墨和不粘油墨(排斥油墨)区域组成,并且在无水平版印刷期间,仅将油墨供给至原版。
通常通过成像式(image-wise)曝光和处理被称为板前体的成像材料来获得印刷原版。除了公知的光敏的所谓预敏化板,其适合于经由薄膜掩模进行UV接触曝光,在二十世纪90年代后期,热敏印刷板前体也已变得非常普及。这种热材料提供日光稳定性的优点,并且特别用于所谓的计算机直接制版(computer-to-plate)方法,其中板前体直接曝光,即不使用薄膜掩模。材料暴露于热或红外光,产生的热引发(物理)化学过程,例如烧蚀、聚合、由于聚合物交联而不溶、热塑性聚合物胶乳的热诱导溶解或颗粒凝聚。
最普遍的热板通过涂层的曝光和未曝光区域之间的碱性显影剂的热诱导溶解性差异而形成图像。涂层通常包括亲油基料,例如酚醛树脂,其在显影剂中的溶解速度由于成像式曝光而降低(负像工作)或升高(正像工作)。处理期间,溶解性差异导致涂层的未成像(未印刷)区域去除,由此暴露亲水载体,而涂层的成像(印刷)区域保持在载体上。这种板的典型实例在例如EP-A 625728、823327、825927、864420、894622和901902中描述。这种热材料的负像工作实施方案经常需要曝光和显影之间的预热步骤,如例如EP-625,728中描述的。
不需要预热步骤的负像工作板前体可以含有通过热塑性聚合物颗粒(胶乳)的热诱导颗粒聚结工作的图像记录层,如例如EP-As 770494、770 495、770 496和770 497中描述的。这些专利公开了一种制造平版印刷板的方法,包括以下步骤:(1)成像式曝光包括分散在亲水基料中的疏水热塑性聚合物颗粒和能够将光转化成热的化合物的成像元件,(2)和通过施加润版液和/或油墨,使该成像式曝光的元件显影。
这些热过程的一些能够在没有湿法处理的情况下制版,并且例如基于一个或多个涂层的烧蚀。在曝光区域,底层的表面被暴露,与未曝光涂层的表面相比,对油墨或润版液具有不同的亲合性。
能够在没有湿法处理的情况下制版的其它热方法例如为基于一个或多个涂层的热诱导亲水/亲油转化的方法,使得在曝光区域,产生与未曝光涂层的表面相比对油墨或润版液不同的亲合性。
US 4,576,743公开了一种板清洁剂,包括含有硅酸盐和至少一种选自阳离子或两性表面活性剂的表面活性剂的水溶液。
EP 1 361 480中公开了一种稳定的组合物,包括碱性组分,以及减少或防止残余物和浮渣形成的化合物,例如含芳族硫化合物以及糖和糖衍生物。
US 4,504,406中公开了一种用于平版印刷板的清洁组合物,包括(i)具有特定沸点和闪点的主要脂族烃,(ii)具有约3至10的亲水/亲油平衡值的表面活性剂和(iii)选自硅酸盐、硫酸盐、磷酸盐或硝酸盐的电解质。
US 5,691,288公开了一种主要由稳定乳液组成的组合物,该稳定乳液包括0.1wt%至7wt%的多元醇,1wt%至15wt%的淀粉或糊精,0.5wt%至2wt%的烷基苯磺酸胺盐和1.0wt%至20wt%的含有少于10wt%芳族烃的烃,0.1至5wt%的取代的苯氧基聚(氧乙烯)乙醇,约0.1wt%的C12至C20醇和0.01wt%至1.0wt%的乙醇胺。
US 4,829,897公开了一种毯子洗涤介质,包括5wt%-35wt%的水和65wt%-95wt%的水不溶性相,该水不溶性相含有特定比例的某些烃和具有3-11的HLB值的表面活性剂。
US 6,346,156中公开了一种用于去除位于印刷设备表面上的油墨和/或残油的清洁组合物,包括烷基(聚)葡糖苷。
WO 95/14755公开了一种清洁组合物,包括下列组分的混合物:烃溶剂、其中烷基为C6-C20烷基的低VOC的C12-C26烷基苯、其中烷基为C6-C20烷基的低VOC的C16-C30烷基萘和任选的表面活性剂。
在印刷步骤之前、期间和之后,平版印刷板通常用各种液体处理,来改善成像和未成像区域的平版性能。施用这种液体例如来改善未成像区域的亲水性和保护、恢复或甚至增强成像区域的疏水性。非常重要的是这些流体,通常称为板处理液,在其施涂期间和之后不久不损坏成像和/或未成像区域。由于这种处理的二价特性,即同时改善亲水和疏水区域,处理液通常同时含有水和一种或多种有机溶剂,并因此为乳液;优选为水包油(O/W)乳液。
板清洁液或板清洁剂的清洁强度或所谓的“油墨溶解力”,即从板去除油墨的能力,主要由板清洁剂的组成决定,更具体地由有机溶剂的浓度和/或性质决定。芳族烃溶剂比脂族烃溶剂优选,因为它们显示很好的油墨溶解力。通常使用的芳族烃溶剂为C9-C10烷基苯烃的混合物。但是,含有这种芳族烃的清洁液具有低闪点,因此产生清洁液不仅在印刷机房环境中而且在运输过程中***的高风险。优选不使用具有较高闪点的芳族烃,例如C10-C11烷基苯烃溶剂的混合物,因为它们的油墨溶解力降低并且它们通常含有萘和/或萘衍生物。清洁液中萘和/或萘衍生物的存在应受到限制,因为这些化合物具有臭味并且被分类为致癌化合物;例如它们被International Agency for Research on Cancer(IARC2002)分类为2B级致癌物质。C9-C10芳族烷基苯烃溶剂的闪点可以例如通过使它们与具有较高闪点的脂族烃溶剂混合来提高。但是,这种板清洁剂的溶剂水平显著升高,从环境和经济观点来看,这是不利的。
因此,仍然急需满足高健康和安全标准的高效处理液。
发明内容
本发明的目的是提供印刷板用清洁液,其具有优异的油墨溶解力、高闪点、低臭味并且以可接受的***格符合高健康和安全要求。
这一目的由权利要求1实现,即清洁平版印刷板的方法,包括以下步骤:向板施加包括水相、溶剂相和至少一种烷基(聚)葡糖苷的液体,所述溶剂相包括包含脂族和/或芳族烃的混合物,
特征在于液体中的溶剂相的量≤40wt%。
令人吃惊地发现包括水相、烷基(聚)葡糖苷表面活性剂和40wt%或更少的含有芳族烃和/或脂族烃的混合物的溶剂相的清洁液具有优异的油墨溶解力。
本发明的其它特征、元素、步骤、特性和优点将从本发明的优选实施方案的以下详细说明变得更加明显。
发明详述
本发明中使用的处理液,也称为清洁液或板清洁剂,是一种乳液,优选为水包油乳液,包括水相和溶剂相。该清洁液优选具有超过60℃的闪点。乳液中的溶剂相的总体水平≤40wt%,优选≤35wt%,更优选≤30wt%。溶剂相介于10wt%-40wt%之间,更优选介于15wt%-35wt%之间,和最优选介于20wt%-30wt%之间。该乳液优选含有≥60wt%的水,更优选水的水平介于60wt%-90wt%之间,更优选介于65wt%-85wt%之间,和最优选介于70wt%-80wt%之间。
溶剂相包括一种或多种芳族和/或一种或多种脂族烃溶剂的混合物。芳族烃溶剂优选为C10-C11烃的混合物。这种C10-C11烃的混合物可以含有部分更高级或更低级烃;即具有更高或更低碳含量的烃。C10-C11烃混合物优选为烷基取代的苯的混合物;更优选为用一个或多个C1-C5烷基取代的苯的混合物。为满足高健康和安全标准,优选溶剂相中不存在乙基苯。为了同样的理由,溶剂相中萘和萘衍生物的水平优选低于1wt%,更优选低于0.5wt%和最优选低于0.1wt%。芳族C10-C11烃优选具有超过60℃的闪点。C10-C11芳族烃混合物的优选实例包括SOLVESSO150TM,SOLVESSO 150NDTM和SOLVESSO 150ULNTM,购自ExxonMobil Chemical。
脂族烃优选选自C7-C14脂族烃,但是可以存在部分更低级和/或更高级烃,例如C5-C6和/或C15-C18脂族烃。它们可以是线性、支化或环状的,优选具有超过60℃的闪点。具体实例包括EXXSOL D-60TM,购自ExxonMobil Chemical,和SHELLSOL D-60TM,购自Shell Chemicals。
溶剂相中脂族对芳族烃的重量比优选为5/1至1/5,更优选为3/1至1/3,和最优选为2/1至1/2。在特别优选的实施方案中,清洁液含有比率为2/1的脂族和芳族烃。特别是在其中芳族烃可以含有萘衍生物的实施方案中,脂族对芳族烃的比率为2/1是有利的。另外,溶剂相可以仅含有芳族烃。高度优选的是仅含有芳族烃,例如C10-C11烃混合物的溶剂相中的萘和萘衍生物的水平优选低于1wt%,更优选低于0.5wt%,和最优选低于0.1wt%。
清洁液进一步包括至少一种表面活性剂,即烷基(聚)葡糖苷,其为乳液提供稳定性。令人吃惊地发现非离子表面活性剂烷基(聚)葡糖苷已经以极低水平为乳液提供稳定性。清洁液包括至少一种烷基(聚)葡糖苷,并且该表面活性剂优选在0.05wt%至2wt%范围内使用。超过2wt%,清洁液的油墨溶解力显著劣化。更优选,表面活性剂在0.1wt%至1.8wt%,最优选0.5wt%至1.6wt%范围内使用。烷基(聚)葡糖苷表面活性剂可以存在于乳液的水相、溶剂相或两个相中。其也可以存在于两个相之间的界面处。烷基(聚)葡糖苷是一种非离子表面活性剂,包括至少一个烷基和至少一个葡糖苷基团。烷基优选含有4至30个碳原子,更优选7至25个碳原子,和最优选8至20个碳原子。烷基可以是线性、支化、饱和或不饱和的;优选烷基为线性和饱和的。(聚)葡糖苷基团包括至少一个葡糖苷基团,即单糖苷(monoglycoside),或多于一个葡糖苷基团。葡糖苷衍生自葡萄糖;当水解糖苷时产生葡萄糖。葡糖苷含有糖苷键,所述糖苷键为将葡萄糖分子连接至另一个化合物的某一类型官能团。例如,糖苷键可以在葡萄糖分子(式1)的半缩醛基(1位)和例如醇的有机化合物的羟基之间形成,由此形成烷基葡糖苷。此外,可以形成在2-、3-或4-位具有烷基的葡糖苷;但是1-位是优选的。糖苷键可以在葡萄糖分子或烷基葡糖苷和另一个葡萄糖分子之间形成,由此形成聚葡糖苷或烷基(聚)葡糖苷。聚葡糖苷基团的聚合度优选为1-10,更优选为1-4,最优选为1-3。额外的葡萄糖和/或葡糖苷基团可以经由1-、2-、3-或4-位连接至葡糖苷或烷基葡糖苷基团上的任何位置。优选,额外的葡萄糖和/或葡糖苷基团主要经由1-位连接至葡糖苷或烷基葡糖苷基团的4-位(C1-O-C4键,包括一个葡萄糖分子或葡糖苷基团的C1和另一个的C4)或连接或葡糖苷或烷基葡糖苷基团的6-位(C1-O-C6键,包括一个葡萄糖分子或葡糖苷基团的C1和另一个的C6)。葡糖苷或烷基葡糖苷基团的1-位与6-位连接(C1-O-C6)是优选的。
烷基(聚)葡糖苷优选由式II表示。
其中
R5为烷基,优选为优选包括4至30个碳原子的线性烷基链;
q为0-9的整数。
在优选的实施方案中,R5为包括7至25个碳原子,更优选8至20个碳原子的线性烷基链;和q为0至3,更优选0至2的整数。
市售的烷基(聚)葡糖苷的适合实例包括但不限于GLUCOPONTM产品,购自Cognis,例如Glucopon 425HHTM、Glucopon 600ECTM、Glucopon 600CSUPTM、Glucopon 625UPTM和Glucopon 625ECTM。
如本领域中已知的,其它的适合的添加剂可以存在于清洁液中,在溶剂相和/或水相中,并且包括例如亲水剂(hydrophiliser),例如山梨醇或甘油,螯合剂,包括至少一个酸基的化合物,例如磷酸、柠檬酸、葡萄糖酸、乙醇酸或聚乙烯基膦酸,杀菌剂,缓冲剂,pH调节剂,像无机酸或碱,缓蚀剂,防沫剂,其它表面活性剂,减感剂,例如硝酸盐和/或具有优异成膜能力的水溶性聚合物,例如聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮、部分水解的聚乙酸乙烯酯,防护剂,脂肪酸酯,例如脂肪酸的烷基酯,染料,着色剂,香料,抗氧剂,防腐剂,例如酚和其衍生物,增稠剂,例如黄原(xanthane)胶、明胶、***树胶、各种淀粉、碳水化合物或纤维素衍生物,例如羧甲基纤维素、甲基或乙基纤维素、半纤维素、羟乙基纤维素。
本发明方法中使用的清洁液施加至印刷板;其可以在印刷步骤之前、之后和/或期间施加。清洁液通常用来从板去除油墨和碎屑,使未成像区域脱敏和恢复未成像区域的亲水性能,其随着时间推移可能变得不能够排斥油墨,并且可能易于保留一些油墨,本领域中称为渣油。有效的板清洁剂在不刻划或研磨板的情况下,去除油墨、污垢、氧化点、污点和/或其它缺陷。该液体也可以用来去除从制版直到印刷的任何阶段中形成的污渍。
处理液可以例如通过在将板装配到印刷机之前和/或之后以及在印刷机运行期间和/或之后,用例如浸透处理液的棉垫或海绵擦拭印刷板来施加。棉垫或海绵可以任选在浸透处理液之前和/或之后用润版液润湿。擦拭可以与机械摩擦,例如通过使用(旋转)刷相结合。另外,处理液可以通过将其喷涂、浸涂或涂布到印刷板上来施涂。可以使用各种涂布技术,例如浸涂、喷涂或“悬浮(on the fly)”涂布(印刷期间)、缝隙涂布(slot coating)、逆辊涂布或电化学涂布;最优选浸涂和喷涂。
本发明中使用的平版印刷板包括具有亲水表面或配备有亲水层的载体。载体可以为片状材料,例如板,或者其可以为圆筒形元件,例如可以围绕印刷机的印刷筒滑动的套筒。优选,载体为金属载体,例如铝或不锈钢。载体也可以为包括铝箔和塑料层,例如聚酯薄膜的层压材料。
特别优选的平版载体为电化学粗糙化和阳极化铝载体。铝载体通常具有约0.1-0.6mm的厚度。但是,这一厚度可以根据使用的印刷板的尺寸和/或印刷板前体在其上曝光的制版机的尺寸加以适当改变。铝优选通过电化学粗糙化来使表面粗糙,以及通过使用磷酸或硫酸/磷酸混合物的阳极化技术来阳极化。铝的粗糙化和阳极化的方法是本领域中公知的。
通过使铝载体粗糙化(或***糙),印刷图像的附着力和未成像区域的润湿特性得到改善。通过改***糙化步骤中的电解质和外加电压的类型和/或浓度,可以获得不同类型的粗糙化。表面粗糙度经常以算术平均中线粗糙度Ra(ISO 4287/1或DIN 4762)表示,并且可以为0.05-1.5μm。本发明的铝基材优选具有低于0.45μm,更优选低于0.40μm,和最优选低于0.30μm的Ra值。Ra值的下限优选为约0.1μm。有关粗糙化和阳极化铝载体表面的优选Ra值的更多细节在EP 1 356 926中描述。
通过使铝载体阳极化,其耐磨性和亲水性得到改善。Al2O3层的微结构和厚度由阳极化步骤决定,阳极重量(g/m2铝表面上形成的Al2O3)为1-8g/m2。阳极重量优选≥3g/m2,更优选≥3.5g/m2和最优选≥4.0g/m2。
铝载体表面的孔径和可以在其上形成的疏水热塑性颗粒的平均粒度之间的最佳比率可以提高印刷板的印刷寿命并且可以改善印刷品的调色性能。铝载体表面的平均孔径对可以存在于涂层的图像记录层中的热塑性颗粒的平均粒度的这一比率优选为0.05∶1至1.0∶1,更优选为0.10∶1至0.80∶1,最优选为0.15∶1至0.65∶1。
粗糙化和阳极化铝载体可以进行所谓的后阳级化处理,以改善其表面的亲水性。例如,铝载体可以通过在例如95℃的高温下用硅酸钠溶液处理其表面来加以硅酸盐化。另外可以施加磷酸盐处理,包括用可以进一步含有无机氟化物的磷酸盐溶液处理氧化铝表面。此外,氧化铝表面可以用柠檬酸或柠檬酸酯溶液冲洗。这一处理可以在室温下进行或者可以在约30至50℃的略微高温下进行。另一令人感兴趣的处理包括用碳酸氢盐溶液冲洗氧化铝表面。更进一步地,氧化铝表面可以用聚乙烯基膦酸、聚乙烯基甲基膦酸、聚乙烯醇的磷酸酯、聚乙烯基磺酸、聚乙烯基苯磺酸、聚乙烯醇的硫酸酯,和通过与磺化脂族醛反应形成的聚乙烯醇的缩醛来处理。
可以利用聚丙烯酸或包括至少30mol%的丙烯酸单体单元的聚合物的溶液,例如购自Ciba Speciality Chemicals的GLASCOL E15,一种聚丙烯酸,来进行另一种有用的后阳级化处理。
载体也可以为柔性载体,其可以配备有亲水层,以下称为‘基础层’。柔性载体为例如纸、塑料薄膜或铝。塑料薄膜的优选实例为聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜、聚萘二甲酸乙二醇酯薄膜、醋酸纤维素薄膜、聚苯乙烯薄膜、聚碳酸酯薄膜等。塑料薄膜载体可以是不透明的或透明的。
基础层优选为交联的亲水层,由用例如甲醛、乙二醛、聚异氰酸酯或水解的四-烷基原硅酸酯的固化剂交联的亲水基料获得。后者是特别优选的。亲水基础层的厚度可以为0.2至25μm,优选为1至10μm。基础层的优选实施方案的更多细节可以在例如EP-A 1 025 992中得到。
本发明中使用的平版印刷板通过曝光和任选显影印刷板前体来获得,所述印刷板前体包括亲水载体上的热敏和/或光敏涂层。所述前体可以为负像或正像工作,即可以分别在曝光或未曝光区域形成油墨接收区域。以下详细地讨论热敏和光敏涂层的合适实例。
热敏印刷板前体
热印刷板前体的成像机理可以通过直接暴露于热,例如借助于热头,或通过涂层中的能够将光,更优选红外光转化成为热的一种或多种化合物的光吸收来引发。
热印刷板前体的第一种合适实例为基于优选分散在亲水基料中的疏水热塑性聚合物颗粒的热诱导聚结的前体,例如EP 770 494、EP 770495、EP 770 497、EP 773 112、EP 774 364、EP 849 090、EP 1 614538、EP 1 614 539、EP 1 614 540、EP 1 777 067、EP 1 767 349、WO2006/037716、WO 2006/133741和WO 2007/045515中描述的。
优选这种图像记录层包括有机化合物,其特征在于所述有机化合物包括至少一个膦酸基团或至少一个磷酸基团或其盐,如WO2007/045515中描述的。在特别优选的实施方案中,图像记录层包括由式III表示的有机化合物:
或其盐,以及其中R′独立地表示氢、任选取代的线性、支化、环状或杂环烷基或任选取代的芳基或(杂)芳基。
式III的化合物可以以相对于图像记录层的各成分的总重量,0.05-15wt%,优选0.5-10wt%,更优选1-5wt%的量存在于图像记录层中。
在第二种合适的实施方案中,热印刷板前体包括包含芳基重氮磺酸酯均聚或共聚物的涂层,所述均聚或共聚物是亲水的并且在暴露于热或UV光之前溶于处理液,而在暴露之后变得疏水和较不可溶。
这种芳基重氮磺酸酯聚合物的优选实例为可以通过芳基重氮磺酸酯单体与其它芳基重氮磺酸酯单体和/或与乙烯基单体,例如(甲基)丙烯酸或其酯、(甲基)丙烯酰胺、丙烯腈、乙烯乙酸酯、氯乙烯、偏氯乙烯、苯乙烯、α-甲基苯乙烯等的均聚或共聚制备的化合物。合适的芳基重氮磺酸酯单体在EP-A 339393、EP-A 507008和EP-A 771645中公开,合适的芳基重氮磺酸酯聚合物在EP 507,008、EP 960,729、EP 960,730和EP 1,267,211中公开。
另一种合适的热印刷板前体是正像工作的,并且依赖于亲油树脂的热诱导溶解。亲油树脂优选为可溶于水性显影剂,更优选pH为7.5-14的水性碱性显影溶液的聚合物。优选的聚合物为酚醛树脂,例如酚醛清漆、甲阶酚醛树脂、聚乙烯基苯酚和羧基取代的聚合物。这些聚合物的典型实例在DE-A-4007428、DE-A-4027301和DE-A-4445820中描述。第一层中存在的酚醛树脂的量为相对于第一层中存在的所有组分的总重量,优选至少50wt%,优选至少80wt%。
在优选的实施方案中,亲油树脂优选为其中苯基或羟基用有机取代基化学改性的酚醛树脂。用有机取代基化学改性的酚醛树脂可以显示对印刷化学品,例如润版液或板处理液,例如板清洁剂的耐化学性提高。这种化学改性的酚醛树脂的实例在EP-A 0 934 822、EP-A 1 072432、US 5 641 608、EP-A 0 982 123、WO 99/01795、EP-A 02 102446、EP-A 02 102 444、EP-A 02 102 445、EP-A 02 102 443、EP-A 03102 522中描述。EP-A 02 102 446中描述的改性树酯是优选的,特别是其中所述酚醛树脂的苯基用具有结构-N=N-Q的基团取代的那些树脂,其中-N=N-基团共价连接至苯基的碳原子和其中Q为芳基。
在后者实施方案中,涂层可以包括第二层,该第二层包括包含至少一个包括至少一个磺酰胺基团的单体单元的聚合物或共聚物(即(共)聚合物)。这一层设置在包括亲油树脂的上述层和亲水载体之间。以下,‘包括至少一个包括至少一个磺酰胺基团的单体单元的(共)聚合物’也称为“磺酰胺(共)聚合物”。磺酰胺(共)聚合物优选是碱溶性的。磺酰胺基团优选由-NR-SO2-、-SO2-NR-或-SO2-NRR′表示,其中R和R′各自独立地表示氢或有机取代基。
磺酰胺(共)聚合物优选为通过含有至少一个磺酰胺基团的单体单元均聚或通过这种单体单元与其它可聚合单体单元共聚制备的高分子化合物。
含有至少一个磺酰胺基团的单体单元的实例包括进一步含有至少一个例如丙烯酰基、烯丙基或乙烯基氧基的可聚合不饱和键的单体单元。适合的实例在US 5,141,838、EP 1545878、EP 909,657、EP 0 894622和EP 1,120,246中公开。
与含有至少一个磺酰胺基团的单体单元共聚合的单体单元的实例包括EP 1,262,318、EP 1,275,498、EP 909,657、EP 1,120,246、EP 0 894622和EP 1,400,351中公开的单体单元。
磺酰胺(共)聚合物和/或其制备方法的合适实例在EP-A 933 682、EP-A 982 123、EP-A 1 072 432、WO 99/63407和EP 1,400,351中公开。
磺酰胺(共)聚合物的高度优选的实例为包括由以下通式(IV)表示的结构单元的均聚物或共聚物:
其中:
R1表示氢或具有最多12个碳原子的烃基;优选R1表示氢或甲基;
X1表示单键或二价连接基。二价连接基可以具有最多20个碳原子,并且可以含有至少一个选自C、H、N、O和S的原子。
优选的二价连接基为具有1至18个碳原子的线性烯烃基,具有3至18个碳原子的线性、支化或环状基,具有2至18个碳原子的亚炔基,具有6至20个原子的亚芳基,-O-,-S-,-CO-,-CO-O-,-O-CO-,-CS-,-NRhRi-,-CO-NRh-,-NRh-CO-,-NRh-CO-O-,-O-CO-NRh-,-NRh-CO-NRi-,-NRh-CS-NRi-,亚苯基,亚萘基,亚蒽基,杂环基,或其组合,其中Rh和Ri各自独立地表示氢或任选取代的烷基、烯基、炔基、环烷基、杂环、芳基、杂芳基、芳烷基或杂芳烷基。后者基团上的优选取代基为具有最多12个碳原子的烷氧基,卤素或羟基。优选X1为亚甲基、亚乙基、亚丙基、亚丁基、亚异丙基、亚环己基、亚苯基、亚甲苯基或亚联苯基;
Y1为由-NRj-SO2-或-SO2-NRk-表示的二价磺酰胺基团,其中Rj和Rk各自独立地表示氢、任选取代的烷基、烷酰基、烯基、炔基、环烷基、杂环、芳基、杂芳基、芳烷基或杂芳烷基或式-C(=N)-NH-R2的基团,其中R2表示氢或任选取代的烷基或芳基;
Z1表示优选由以下表示的端基:氢或任选取代的具有1至18个碳原子的线性、支化或环状烯烃基或烷基,例如甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、异丁基、叔丁基、仲丁基、戊基、己基、环戊基、环己基、辛基,任选取代的具有6至20个碳原子的亚芳基或芳基;任选取代的杂亚芳基或杂芳基;具有2至18个碳原子的线性、支化或环状亚烯基或烯基,具有2至18个碳原子的线性、支化或环状亚炔基或炔基,或烷氧基。
任选在表示Z1的基团上存在的优选取代基的实例为具有最多12个碳原子的烷基,具有最多12个碳原子的烷氧基,卤素原子或羟基。
由通式(IV)表示的结构单元优选具有以下基团:
X1表示亚烷基、亚环己基、亚苯基或亚甲苯基,-O-,-S-,-CO-,-CO-O-,-O-CO-,-CS-,-NRhRi-,-CO-NRh-,-NRh-CO-,-NRh-CO-O-,-O-CO-NRh-,-NRh-CO-NRi-,-NRh-CS-NRi-,或其组合,其中Rh和Ri各自独立地表示氢或任选取代的烷基、烯基、炔基、环烷基、杂环、芳基、杂芳基、芳烷基或杂芳烷基。后者基团上的优选取代基为具有最多12个碳原子的烷氧基,卤素或羟基;
Y1为由-NRj-SO2-、-SO2-NRk-表示的二价磺酰胺基团,其中Rj和Rk各自独立地表示氢、任选取代的烷基、烷酰基、烯基、炔基、环烷基、杂环、芳基、杂芳基、芳烷基或杂芳烷基;
Z1为由以下表示的端基:氢,烷基,例如甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、异丁基、叔丁基、仲丁基、戊基、己基、环戊基、环己基或辛基,苯甲基,任选取代的芳基或杂芳基,萘基,蒽基,吡啶基,烯丙基或乙烯基。
磺酰胺(共)聚合物的具体优选实例为包括N-(对-氨基磺酰基苯基)(甲基)丙烯酰胺、N-(间-氨基磺酰基苯基)(甲基)丙烯酰胺和/或N-(邻-氨基磺酰基苯基)(甲基)丙烯酰胺的聚合物。特别优选的磺酰胺(共)聚合物为包括N-(对-氨基磺酰基苯基)甲基丙烯酰胺的聚合物,其中磺酰胺基团包括任选取代的线性、支化、环状或杂环烷基,任选取代的芳基或任选取代的杂芳基。
包括磺酰胺(共)聚合物的层可以进一步包括另外的疏水基料,例如酚醛树脂(例如酚醛清漆、甲阶酚醛树脂或聚乙烯基苯酚)、化学改性的酚醛树脂或含有羧基、腈基团或马来酰亚胺基团的聚合物。
显影剂中后者实施方案的涂层的溶解行为可以由任选的溶解性调节组分微调。更具体地,可以使用显影促进剂和显影抑制剂。在其中涂层包括多于一个层的实施方案中,这些成分可以加入到涂层的第一层、第二层和/或任选的其它层。
显影促进剂为起溶解促进剂作用的化合物,因为它们能够提高涂层的溶解速率。例如,为了改善水性显影性,可以使用环状酸酐、酚或有机酸。环状酸酐的实例包括邻苯二甲酸酐、四氢邻苯二甲酸酐、六氢邻苯二甲酸酐、3,6-桥氧-4-四氢-邻苯二甲酸酐、四氯邻苯二甲酸酐、马来酸酐、氯代马来酸酐、α-苯基马来酸酐、琥珀酸酐和苯均四酸酐,如US 4,115,128中描述的。酚的实例包括双酚A、对-硝基苯酚、对-乙氧基苯酚、2,4,4′-三羟基二苯甲酮、2,3,4-三羟基-二苯甲酮、4-羟基二苯甲酮、4,4′,4″-三羟基-三苯基甲烷和4,4′,3″,4″-四羟基-3,5,3′,5′-四甲基三苯基-甲烷等。有机酸的实例包括磺酸、亚磺酸、烷基硫酸、膦酸、磷酸和羧酸,如JP-A 60-88,942和JP-A 2-96,755中描述。这些有机酸的具体实例包括对-甲苯磺酸、十二烷基苯磺酸、对-甲苯亚磺酸、乙基硫酸、苯基膦酸、苯基亚膦酸、磷酸苯酯、磷酸二苯酯、苯甲酸、间苯二甲酸、己二酸、对-甲苯酸、3,4-二甲氧基苯甲酸、3,4,5-三甲氧基苯甲酸、3,4,5-三甲氧基肉桂酸、邻苯二甲酸、对苯二甲酸、4-环己烯-1,2-二甲酸、芥酸、月桂酸、正十一烷酸和抗坏血酸。相对于作为整体的涂层来说,涂层中包含的环状酸酐、酚或有机酸的量优选为0.05至20wt%。聚合物显影促进剂,例如包括至少70mol%间-甲酚作为重复单体单元的酚醛树脂也是合适的显影促进剂。
在优选的实施方案中,涂层也含有显影剂抵抗剂,也称为显影抑制剂,即能够延迟处理期间未曝光区域溶解的一种或多种成分。溶解抑制作用优选通过加热逆转,使得曝光区域的溶解不被显著延迟,由此可以获得曝光和未曝光区域之间大的溶解差异。例如EP-A 823 327和WO97/39894中描述的化合物据信起溶解抑制剂的作用,原因是例如通过氢桥键形成,与涂层中的一种或多种碱金属可溶树脂的相互作用。此类抑制剂通常包括至少一个氢桥键形成基团,例如氮原子、鎓基、羰基(-CO-)、亚磺酰基(-SO-)或磺酰基(SO2-),和大型疏水部分,例如一个或多个芳族环。下述化合物的一些,例如红外染料,例如花青和对照染料(contrast dye),例如季铵化三芳基甲烷染料也可以起溶解抑制剂的作用。
其它合适的抑制剂改善显影剂抗性,因为它们延迟水性碱性显影剂渗入涂层。这种化合物可以存在于第一层中,和/或如果存在第二层,存在于第二层中,如例如EP-A 950 518中描述的,和/或存在于所述层上的显影阻隔层中,如例如EP-A 864 420、EP-A 950 517、WO99/21725和WO 01/45958中描述的。在后者实施方案中,通过暴露于热或红外光,阻隔层在显影剂中的溶解性或显影剂对阻隔层的渗透性可以得到提高。
延迟水性碱性显影剂渗入涂层的抑制剂的优选实例包括以下:
(a)不可溶于显影剂或不可被显影剂渗透的聚合物材料,例如疏水或抗水性聚合物或共聚物,例如丙烯酸系聚合物、聚苯乙烯、苯乙烯-丙烯酸系共聚物、聚酯、聚酰胺、聚脲、聚氨酯、硝基纤维素和环氧树脂;或包括硅氧烷(硅酮)和/或全氟烷基单元的聚合物。
(b)双官能化合物,例如包括极性基团和例如长链烃基、多或寡硅氧烷和/或全氟化烃基的疏水基团的表面活性剂。典型实例为MegafacF-177,一种全氟化表面活性剂,购自Dainippon Ink&Chemicals,Inc.。这种化合物的合适量为10-100mg/m2,更优选为50-90mg/m2。
(c)包括例如多或寡(氧化烯)的极性嵌段和例如长链烃基、多或寡硅氧烷和/或全氟化烃基的疏水嵌段的双官能嵌段共聚物。这种化合物的合适量为0.5-25mg/m2,优选为0.5-15mg/m2和最优选为0.5-10mg/m2。合适的共聚物包括约15至25个硅氧烷单元和50至70个氧化烯基。优选的实例包括包含苯基甲基硅氧烷和/或二甲基硅氧烷以及环氧乙烷和/或环氧丙烷的共聚物,例如Tego Glide 410、Tego Wet 265、Tego Protect 5001或Silikophen P50/X,全部购自Tego Chemie,Essen,德国。所述多或寡硅氧烷可以为线性、环状或复杂交联聚合物或共聚物。术语聚硅氧烷化合物应包括含有多于一个硅氧烷基团-Si(R,R′)-O-的任何化合物,其中R和R′为任选取代的烷基或芳基。优选的硅氧烷为苯基烷基硅氧烷和二烷基硅氧烷。聚合物或低聚物中硅氧烷基团的数目为至少2,优选为至少10,更优选为至少20。其可以低于100,优选低于60。
据信在涂布和干燥期间,上述类型(b)和(c)的抑制剂倾向于由于其双官能结构,即使当用作第一和/或任选第二层的涂料溶液的成分时,也自身定位于涂层和空气之间的界面,并由此形成单独的上层。同时,表面活性剂也起改善涂层质量的铺展剂的作用。因此形成的单独的上层似乎能够起上述延迟显影剂渗入涂层的阻隔层的作用。
另外,(a)至(c)类型的抑制剂可以应用于涂布在涂层的第一、任选第二和/或其它层之上的单独的溶液中。在该实施方案中,可能有利的是在单独的溶液中使用不能溶解其它层中存在的成分的溶剂,以便在涂层顶部获得能够起上述显影阻隔层作用的高浓缩抗水或疏水相。
另外,第一或任选第二层和/或其它层可以包括进一步改善板的行程(run length)和/或耐化学性的聚合物。其实例为包括亚氨基(-CO-NR-CO-)侧基的聚合物,其中R为氢、任选取代的烷基或任选取代的芳基,例如EP-A 894 622、EP-A 901 902、EP-A 933 682和WO99/63407中描述的聚合物。
上述热敏印刷板前体的涂层优选还含有红外光吸收染料或颜料,在其中涂层包括多于一个层的实施方案中,所述红外光吸收染料或颜料可以存在于第一层和/或第二层和/或任选的其它层中。优选的IR吸收染料为花青染料、部花青染料、靛苯胺染料、氧杂菁染料、吡啶鎓(pyrilium)染料和方形鎓(squarilium)染料。合适的IR染料的实例描述在例如EP-A 823327、EP-A 978376、EP-A 1029667、EP-A 1053868、EP-A 1093934;WO 97/39894和WO 00/29214中。优选的化合物为以下花青染料:
涂层中IR染料的浓度优选为0.25-15.0wt%,更优选为0.5-10.0wt%,最优选为1.0-7.5wt%,相对于作为整体的涂层。
该涂层可以进一步包括一种或多种着色剂,例如为涂层提供可见颜色并且保留在处理步骤期间不被去除的成像区域处的涂层中的染料或颜料。由此形成可见图像,并且检查显影的印刷板上的平版图像成为可能。这种染料经常被称为对照染料或指示染料。优选,该染料具有蓝色和在600nm-750nm的波长范围内具有最大吸收。这种对照染料的典型实例为氨基-取代的三-或二芳基甲烷染料,例如结晶紫、甲基紫、维多利亚纯蓝、flexoblau 630、basonylblau 640、槐黄和孔雀绿。在EP-A 400,706中深入讨论的染料也是合适的对照染料。如WO2006/005688中描述的,与特殊添加剂结合的仅使涂层略微显色,但是在曝光之后变得强烈显色的染料也可以用作着色剂。
热敏板前体可以直接利用热,例如借助于热头,或间接通过红外光,优选近红外光成像式曝光。红外光优选通过上述IR光吸收化合物转化成热。热敏平版印刷板前体优选对可见光不敏感,即暴露于可见光不会对涂层在显影剂中的溶解速率产生显著影响。最优选该涂层对环境日光不敏感。
印刷板前体可以借助于例如LED或激光器暴露于红外光。最优选,曝光使用的光是波长为约750至约1500nm,更优选750至1100nm的例如半导体激光二极管、Nd:YAG或Nd:YLF激光器的激光器发射的近红外光。所需的激光功率取决于板前体的敏感度、由光斑直径决定的激光束的像素停留时间(现代制版机在最大强度1/e2下的典型值:5-25μm)、曝光装置的扫描速率和分辨率(即每单位直线距离的可寻址像素的数目,经常用每英寸点数或dpi表示;典型值:1000-4000dpi)。
通常使用两种类型的激光器-曝光装置:内鼓(ITD)和外鼓(XTD)制版机。热板的ITD制版机通常特征在于高达500米/秒的极高扫描速率并且可能需要几瓦的激光功率。热板的XTD制版机具有约200mW至约1W的典型激光功率,以例如0.1至10米/秒的较低扫描速率工作。装有发射波长为750-850nm的一个或多个激光二极管的XTD制版机是本发明方法的特别优选实施方案。
已知的制版机可以用作印刷机外曝光装置,提供印刷机停机时间减少的好处。XTD制版机构造也可以用于印刷机内曝光,提供在多色印刷机中即时对版(immediate registration)的好处。印刷机内曝光装置的更多技术细节在例如US 5,174,205和US 5,163,368中描述。
曝光之后,前体可以借助于合适的处理液,例如水碱性溶液显影,由此去除涂层的未成像区域;显影步骤可以与例如使用回转刷的机械研磨相结合。显影期间,存在的任何水溶性保护层也被去除。基于胶乳聚结的热敏印刷板前体也可以使用普通水或水溶液,例如EP1,342,568中描述的涂胶溶液(gumming solution)来显影。另外,这种印刷板前体可以在曝光之后直接装配到印刷机上并通过向该前体供给油墨和/或润版液而在印刷机内显影。
有关显影步骤的更多细节可以在例如EP 1614538、EP 1614539、EP 1614540和WO/2004071767中找到。
光敏印刷板前体
除上述热材料之外,也可以使用光敏涂层。这种板的典型实例为UV敏感的“PS”板和含有当曝光时硬化的可光聚合组合物的所谓的感光聚合物板。
在本发明的特殊实施方案中,使用常规的UV敏感的“PS”板前体。在300-450nm(近UV和蓝光)范围内敏感的这种板前体的合适实例已经在EP 1,029,668A2中论述。正像和负像工作组合物通常用于“PS”板前体。
正像工作成像层优选包括邻-萘醌二叠氮化合物(NQD)和碱溶性树脂。特别优选的是各种羟基化合物的邻-萘醌-二叠氮磺酸酯或邻-萘醌二叠氮羧酸酯和各种芳族胺化合物的邻-萘醌-二叠氮磺酸酰胺或邻-萘醌-二叠氮羧酸酰胺。可以使用NQD体系的两种变体:单组分体系和双组分体系。这种光敏印刷板已经广泛地在现有技术中公开,所述现有技术例如US 3,635,709、J.P.KOKAI No.55-76346、J.P.KOKAI No.Sho50-117503、J.P.KOKAI No.Sho 50-113305、US 3,859,099;US3,759,711;GB-A 739654、US 4,266,001和J.P.KOKAI No.55-57841。
“PS”板的负像工作层优选包括重氮盐、重氮化树脂或芳基重氮磺酸酯均聚或共聚物。低分子量重氮盐的合适实例包括:联苯胺双偶氮鎓氯化物(benzidine tetrazoniumchloride)、3,3′-二甲基联苯胺双偶氮鎓氯化物、3,3′-二甲氧基联苯胺双偶氮鎓氯化物、4,4′-二氨基二苯二胺双偶氮鎓氯化物、3,3′-二乙基联苯胺双偶氮鎓硫酸盐、4-氨基二苯基胺重氮鎓硫酸盐、4-氨基二苯基胺重氮鎓氯化物、4-哌啶子基苯胺重氮鎓硫酸盐、4-二乙基氨基苯胺重氮鎓硫酸盐和重氮二苯胺与甲醛的低聚缩合产物。重氮树脂的实例包括作为光敏材料的芳族重氮鎓盐的缩合产物。这种缩合产物例如在DE-P-1 214 086中描述。光敏或热敏层优选还包含基料,例如聚乙烯醇。
当曝光时,重氮树脂或重氮鎓盐由水溶性转化为水不溶性(由于重氮鎓基团的破坏),并且另外,重氮的光解产物可以提高聚合物基料或重氮树脂的交联水平,由此有选择地将成像图案中的涂层从水溶性转化为水不溶性。未曝光区域保持无变化,即水溶性。
这种印刷板前体可以使用上述碱性水溶液显影。
在第二个合适的实施方案中,光敏印刷板前体基于光聚合反应并且含有包括可光致固化组合物的涂层,所述可光致固化组合物包括自由基引发剂(如US 5,955,238;US 6,037,098;US 5,629,354;US6,232,038;US 6,218,076;US 5,955,238;US 6,037,098;US6,010,824;US 5,629,354;DE 1,470,154;EP 024,629;EP 107,792;US4,410,621;EP 215,453;DE 3,211,312和EP A 1,091,247中公开的),可聚合化合物(如EP1,161,4541、EP 1349006、WO2005/109103和未公布的欧洲专利申请EP 5,111,012.0、EP 5,111,025.2、EP 5110918.9和EP5,110,961.9中公开的)和聚合物基料(如US2004/0260050;US2005/0003285;US2005/0123853;EP 1,369,232;EP 1,369,231;EP1,341,040;US 2003/0124460,EP 1 241 002,EP 1 288 720,US6,027,857,US 6,171,735;US 6,420,089;EP 152,819;EP 1,043,627;US 6,899,994;US2004/0260050;US 2005/0003285;US2005/0170286;US2005/0123853;US2004/0260050;US2005/0003285;US 2004/0260050;US 2005/0003285;US2005/0123853和US2005/0123853中公开的)。可以任选添加其它成分,例如增感剂、共引发剂、粘合性促进化合物、着色剂、表面活性剂和/或打印输出试剂。这些印刷板前体可以使用例如Ar激光器(488nm)或FD-YAG激光器(532nm)、半导体激光器InGaN(350至450nm)、红外激光器二极管(830nm或Nd-YAG激光器(1064nm),用蓝、绿或红光(即波长范围为450-750nm),紫光(即波长范围为350-450nm)或红外光(即波长范围为750-1500nm)感光。
通常,光聚合物板前体在pH>10的碱性显影剂中处理(参见以上)并随后胶粘。另外,也可以通过向涂层施加胶溶液,由此去除未曝光区域,来使曝光的光聚合物板前体显影。合适的涂胶溶液在WO/2005/111727中描述。曝光步骤之后,成像前体也可以直接装配到印刷机上并通过施加油墨和/或润版液在印刷机内处理。制备这种板的方法公开在WO 93/05446、US 6,027,857、US 6,171,735、US6,420,089、US 6,071,675、US 6,245,481、US 6,387,595、US6,482,571、US 6,576,401、US 6,548,222、WO 03/087939、US2003/16577和US 2004/13968中。
为保护热和/或光敏印刷板前体的涂层表面特别是免于机械损坏,也可以任选应用保护层。保护层通常包括至少一种水溶性基料,例如聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮、部分水解的聚乙酸乙烯酯、明胶、碳水化合物或羟乙基纤维素,并且可以以任何已知的方式由例如水溶液或者分散体生产,如果需要,所述水溶液或分散体可以含有少量,即低于5wt%的有机溶剂,基于保护层的涂层溶剂的总重量。保护层的厚度可以适当地为任何数量,有利地为至多5.0μm,优选为0.1至3.0μm,特别优选为0.15至1.0μm。
任选,涂层可以进一步含有另外的成分,例如表面活性剂,特别是全氟表面活性剂,硅或二氧化钛颗粒或聚合物颗粒,例如消光剂和隔离剂。
任何涂布方法可以用于将两种或多种涂料溶液施涂至载体的亲水表面。多层涂层可以通过连续涂布/干燥每个层或者通过一次同时涂布若干涂料溶液来施涂。干燥步骤中,从涂层去除挥发性溶剂,直到涂层是自支撑的并且是触干的。但是在干燥步骤中去除全部溶剂并非必要(并且甚至是不可能的)。实际上,剩余溶剂含量可以被认为是另外的组成变量,组合物借此可以得到优化。干燥通常通过典型地在至少70℃,适当地为80-150℃和特别是90-140℃的温度下,在涂层上吹送热空气来进行。也可以使用红外灯。干燥时间通常可以为15-600秒。
涂布和干燥之间,或干燥步骤之后,热处理和随后的冷却可以提供另外的好处,如WO99/21715、EP-A 1074386、EP-A 1074889、WO00/29214和WO/04030923、WO/04030924、WO/04030925中描述的。
热敏和/或光敏印刷板可以用本发明中使用的清洁液处理。然后它们可以用于常规的所谓湿法胶版印刷,其中油墨和水性浸版液被提供到板上。另一种合适的印刷方法使用所谓的单流体油墨,而不是浸版液。合适的单流体油墨已经在US 4,045,232;US 4,981,517和US6,140,392中描述。在最优选实施方案中,单流体油墨包括油墨相,也称为疏水或亲油相,以及多元醇相,如WO 00/32705中描述的。此外在印刷步骤期间,可以将本发明的清洁液施加到印刷板上。
本发明中使用的处理液也可以用于处理例如PCB(印刷电路板)应用中的热抗蚀剂(thermo-resist),如US 2003/0003406A1中描述的。
实施例
实施例1
1.制备对照板清洁剂PC-01
如下制备具有表1中给出的组成的一种良好工作的对照板清洁剂PC-01。
制备水相:
将柠檬酸一水化物加入到去离子水中,混合直到充分溶解。然后添加Parmetol A26同时混合;和随后添加85%w/w的磷酸和RewopolD510,混合直到它们溶解。
制备溶剂相:
将Atlas G3300B、NANSA YS94和Caflon PHC040加入到ExxsolD-40和Solvesso 100中,混合直到它们充分溶解。
制备乳液:
将溶剂相加入到水相中,同时混合,保持搅拌叶片刚好在乳液表面以下(高剪切Silversone混合器)。一旦乳液形成并且已经添加所有的溶剂,进一步缓慢混合该乳液10分钟。
表1:对照板清洁剂PC-01的组成
成分 | g |
水相 | |
去离子水 | 431.05 |
Parmetol A26(1) | 0.80 |
柠檬酸一水化物 | 52.50 |
磷酸85%w/w | 47.65 |
Rewopol D510(2) | 4.20 |
溶剂相 | |
Exxsol D-40(3) | 251 |
Solvesso 100(4) | 189.60 |
Atlas G3300B(5) | 2.0 |
NANSA YS94(6) | 2.0 |
Caflon PHC040(7) | 2.0 |
(1)杀菌剂,Schülke&Maier GmbH(德国)的商品名;
(2)硫酸2-乙基己酯,购自Goldschmidt;
(3)Exxsol D-40为具有40℃闪点的脂族烃溶剂混合物,Exxon的商品名;
(4)C9-C10芳族烃溶剂混合物,Exxon的商品名;
(5)烷基芳基磺酸盐表面活性剂,Uniquema的商品名;
(6)异丙基酰胺十二烷基苯磺酸盐表面活性剂,Huntsman的商品名;
(7)烷基乙氧基化物(alkyletholyate)(C4-4EO)表面活性剂,Unilever的商品名。
对照板清洁剂的溶剂水平为44.7wt%。
2.制备本发明的板清洁剂PC-02
如下制备具有表2中给出的组成的本发明的板清洁剂PC-02。
制备水相:
除了Rheogel IRX55395,将水性部分的组分在室温下加入到去离子水中,搅拌直到所有组分完全溶解。
制备溶剂相:
在室温下混合有机部分的组分。
制备乳液:
在装有S25N混合头的Ultra Turrax T25数字混合器(都为IKA WerkeGmbH&Co的商标)中以15K转/分钟搅拌的同时,将有机部分非常缓慢地加入到水性部分的旋涡中。添加完有机部分之后,以相同的速率搅拌该所得乳液另外2分钟。然后允许乳液中的泡沫消散。
最后,将Rheogel IRX55395缓慢加入到该乳液中,避免形成团块,使用装有分散盘R1303(IKA Werke GmbH&Co的商标)的搅拌器RW20(IKA Werke GmbH&Co的商标)搅拌所得板清洁剂另外30分钟。由于增加的粘度逐渐升高转速。
表2:本发明的板清洁剂PC-02的组成
成分 | g |
水相 | |
去离子水 | 58.42 |
Parmetol A26(1) | 0.15 |
Glucopon 600CSUP(2) | 1.28 |
磷酸85wt% | 2.92 |
山梨糖醇(3) | 7.30 |
溶剂相 | |
Exxsol D-60(4) | 19.46 |
Solvesso 150ND(5) | 9.75 |
增稠剂 | |
Rheogel IRX 55395(6) | 0.73 |
(1)参见表1;
(2)Glucopon 600CSUP:烷基(聚)葡糖苷,购自Cognis,具有C12-C14,葡糖苷单元的平均数为1.4;
(3)山梨糖醇的70%溶液,购自Roquette Frères SA,法国;
(4)脂族烃溶剂,具有62℃的闪点,Exxon的商品名;
(5)C10-C11芳族烃溶剂混合物,Exxon的商品名;萘耗竭(ND)表示萘含量低于1.0wt%;
(6)黄原胶增稠剂,CNI SA,法国的商品名。
这种板清洁剂的溶剂水平为29.21wt%。
3.板清洁剂PC-01和PC-02的评价
使用以下印刷条件,使用印刷板Thermostar P970(Agfa-Graphics的商标)在Heidelberg Speedmaster SM74印刷机(购自HeidelbergerDruckmaschinen AG)上评价板清洁剂:
油墨:K+E 700黑色油墨(K&E的商标)。
润版液:4%Agfa Prima FS303(Agfa-Graphics的商标)+10%异丙醇。
纸:机械涂布纸(90g/m2)。
通过4个印刷机操作者的专家小组,使用通常的板清洁程序评价两个板清洁剂的清洁效率。将少量板清洁剂施加到海绵(用润版液湿润)上,随后使用该海绵清洁印刷机上的板。
操作者一致指出就清洁效率和油墨溶解力而言,两个板清洁剂表现相同,而本发明的板清洁剂PC-02的气味明显更优选。两个板清洁剂都不损坏板的图像部分。板清洁剂PC-02具有仅仅29.21wt%的溶剂水平,而对照板清洁剂具有44.7wt%的溶剂水平。
实施例2
1.制备板清洁剂PC-03至PC-07
用和PC-02一样的方法制备具有表3中给出的组成的板清洁剂PC-03至PC-07(参见实施例1,序号2)。
表3:板清洁剂PC-03至PC-07的组成
成分*g | PC-03 | PC-04 | PC-05 | PC-06 | PC-07 |
水相 | |||||
去离子水 | 50.4 | 50.1 | 49.9 | 50.8 | 50.55 |
Parmetol A26 | 0.2 | 0.15 | 0.14 | 0.15 | 0.15 |
山梨糖醇 | 7.3 | 7.24 | 7.21 | 7.38 | 7.30 |
磷酸85wt% | 2.9 | 2.9 | 2.89 | 2.93 | 2.92 |
Glucopon 600SCUP | 1.8 | 23 | 2.8 | 1.0 | 1.50 |
Parmetol A26 | 0.2 | 0.15 | 0.14 | 0.15 | 0.15 |
氢氧化钠溶液(wt%) | 7.8 | 8 | 8 | 7.9 | 7.86 |
溶剂相 | |||||
Exxsol D-60 | 19.3 | 19.2 | 19.1 | 19.44 | 19.35 |
Solvesso 150ND | 9.7 | 9.6 | 9.54 | 9.72 | 9.67 |
增稠剂 | |||||
Rheogel IRX 55395 | 0.7 | 0.69 | 0.69 | 0.7 | 0.7 |
*:如表2中定义的成分。
表4中,总结了清洁液PC-03至PC-07的溶剂水平和烷基(聚)葡糖苷(APG)表面活性剂水平。
表4:板清洁剂PC-03至PC-07的组成
PC-03 | PC-04 | PC-05 | PC-06 | PC-07 | |
溶剂水平wt% | 29.0 | 28.8 | 28.64 | 29.16 | 29.02 |
APG表面活性剂的浓度wt% | 1.8 | 2.3 | 2.8 | 1.0 | 1.5 |
2.评价板清洁剂PC-03至PC-07
使用以下印刷条件,使用印刷板Thermostar P970(Agfa-Graphics的商标)在Heidelberg Speedmaster SM74印刷机(购自HeidelbergerDruckmaschinen AG)上评价板清洁剂PC-03至PC-07和对照PC-02:
油墨:K+E 700黑色油墨(K&E的商标)。
润版液:4%Agfa Prima FS303(Agfa-Graphics的商标)+10%异丙醇。
纸:机械涂布纸(90g/m2)。
通过在海绵(用润版液湿润)上施加少量板清洁剂,随后使用该海绵清洁印刷机上的板,评价板清洁剂的清洁效率。
板清洁剂配方PC-03至PC-07,和对照板清洁剂配方PC-02均没有损坏板的图像部分。表5中给出使用通常的板清洁程序的油墨溶解力评价结果。
表5:板清洁剂的油墨溶解力结果
板清洁剂 | PC-02对照 | PC-03 | PC-04 | PC-05 | PC-06 | PC-07 |
油墨溶解力* | 5 | 4 | 3 | 3 | 5 | 5 |
*使用以下定性的油墨溶解力等级:
1=非常差
2=差
3=不佳
4=良好
5=很好
表5中的结果显示,清洁液中烷基(聚)葡糖苷表面活性剂的浓度超过2.0wt%,油墨溶解力不佳(清洁液PC-04和PC-05),烷基(聚)葡糖苷表面活性剂低于2.0wt%,油墨溶解力变为良好至很好(清洁液PC-03、PC-6和PC-07),与对照清洁液PC-02的油墨溶解力相似。
Claims (18)
1.清洁平版印刷板的方法,包括以下步骤:向板施加包括水相、包括包含脂族和/或芳族烃的混合物的溶剂相和至少一种烷基(聚)葡糖苷的液体,特征在于液体中所述溶剂相的量≤40wt%。
2.根据权利要求1的方法,其中液体中所述溶剂相的量≤30wt%。
3.根据权利要求1的方法,其中烷基(聚)葡糖苷的水平≤2wt%。
4.根据权利要求2的方法,其中烷基(聚)葡糖苷的水平≤2wt%。
5.根据权利要求1的方法,其中芳族烃选自C10-C11烃。
6.根据权利要求4的方法,其中芳族烃选自C10-C11烃。
7.根据权利要求5的方法,其中芳族C10-C11烃选自烷基取代的苯。
8.根据权利要求6的方法,其中芳族C10-C11烃选自烷基取代的苯。
9.根据权利要求1的方法,其中脂族烃选自线性或支化C7-C14烃。
10.根据权利要求4的方法,其中脂族烃选自线性或支化C7-C14烃。
11.根据权利要求1的方法,其中芳族烃对脂族烃的重量比为1/3至3/1。
12.根据权利要求4的方法,其中芳族烃对脂族烃的重量比1/3至3/1。
13.根据权利要求1的方法,其中液体的闪点≥60℃。
14.根据权利要求4的方法,其中液体的闪点≥60℃。
15.根据权利要求8的方法,其中液体的闪点≥60℃。
16.根据权利要求1的方法,其中印刷板通过曝光和显影印刷板前体来获得,所述印刷板前体包括包含可溶于水性碱性显影剂的亲油树脂的涂层。
17.根据权利要求3的方法,其中印刷板通过曝光和显影印刷板前体来获得,所述印刷板前体包括包含可溶于水性碱性显影剂的亲油树脂的涂层。
18.包括水相、至少一种烷基(聚)葡糖苷和40wt%或更少的包括包含脂族和/或芳族烃的混合物的溶剂相的液体用于清洁平版印刷板的用途。
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WO (1) | WO2009068426A1 (zh) |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4504406A (en) * | 1983-02-22 | 1985-03-12 | American Hoechst Corporation | Cleansing agent for printing plates |
US4576743A (en) * | 1984-01-12 | 1986-03-18 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Plate cleaner for lithographic printing plate |
US4829897A (en) * | 1988-07-05 | 1989-05-16 | Printex Products Corporation | Automatic cleaner for offset printing blanket |
WO1995014755A1 (en) * | 1993-11-24 | 1995-06-01 | Penetone Corporation | Cleaning composition |
US5691288A (en) * | 1996-03-29 | 1997-11-25 | Bayer Corporation | Finisher-preserver-cleaner composition for lithographic printing plates |
US6346156B1 (en) * | 1997-10-30 | 2002-02-12 | Cognis Deutschland Gmbh | Application of alkyl polyglucosides in printing ink cleaners |
EP1361480A1 (en) * | 2002-05-07 | 2003-11-12 | Shipley Co. L.L.C. | Residue reducing stable concentrate |
Family Cites Families (151)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL185407B (nl) | 1953-03-11 | Mitsui Petrochemical Ind | Werkwijze voor het polymeriseren of copolymeriseren van 1-alkenen alsmede katalysatorsamenstelling voor toepassing van deze werkwijze. | |
NL132774C (zh) | 1960-10-07 | |||
NL296772A (zh) | 1962-03-21 | |||
US3635709A (en) | 1966-12-15 | 1972-01-18 | Polychrome Corp | Light-sensitive lithographic plate |
US3759711A (en) | 1970-09-16 | 1973-09-18 | Eastman Kodak Co | Er compositions and elements nitrogen linked apperding quinone diazide light sensitive vinyl polym |
US3859099A (en) | 1972-12-22 | 1975-01-07 | Eastman Kodak Co | Positive plate incorporating diazoquinone |
US4045232A (en) | 1973-11-12 | 1977-08-30 | Topar Products Corporation | Printing ink composition |
JPS5236043B2 (zh) | 1974-02-21 | 1977-09-13 | ||
JPS5645127B2 (zh) | 1974-02-25 | 1981-10-24 | ||
JPS5280022A (en) | 1975-12-26 | 1977-07-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | Light solubilizable composition |
DE2828037A1 (de) | 1978-06-26 | 1980-01-10 | Hoechst Ag | Lichtempfindliches gemisch |
JPS5557841A (en) | 1978-10-20 | 1980-04-30 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Photosensitive composition |
JPS5576346A (en) | 1978-12-05 | 1980-06-09 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Photosensitive composition |
US4252887A (en) | 1979-08-14 | 1981-02-24 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Dimers derived from unsymmetrical 2,4,5-triphenylimidazole compounds as photoinitiators |
US4399243A (en) * | 1980-12-12 | 1983-08-16 | Richardson Graphics Company | Cleaner and scratch remover composition |
US4459349A (en) | 1981-03-27 | 1984-07-10 | Toyo Boseki Kabushiki Kaisha | Photosensitive resin composition |
US4410621A (en) | 1981-04-03 | 1983-10-18 | Toyo Boseki Kabushiki Kaisha | Photosensitive resin containing a combination of diphenyl-imiazolyl dimer and a heterocyclic mercaptan |
JPS5956403A (ja) | 1982-09-27 | 1984-03-31 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 光重合性組成物 |
JPS6088942A (ja) | 1983-10-21 | 1985-05-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
DE3404366A1 (de) | 1984-02-08 | 1985-08-14 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Lichtempfindliches gemisch auf basis eines diazoniumsalz-polykondensationsprodukts und daraus hergestelltes lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial |
US4622286A (en) | 1985-09-16 | 1986-11-11 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photoimaging composition containing admixture of leuco dye and 2,4,5-triphenylimidazolyl dimer |
JPH0769605B2 (ja) | 1988-02-25 | 1995-07-31 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物 |
DE3814164A1 (de) | 1988-04-27 | 1989-11-09 | Bayer Ag | Polymerisierbare aryldiazosulfonate, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung zur herstellung von polymerisaten |
US5163368B1 (en) | 1988-08-19 | 1999-08-24 | Presstek Inc | Printing apparatus with image error correction and ink regulation control |
US5380453A (en) * | 1988-09-26 | 1995-01-10 | Unichema Chemie B.V. | Composition comprising alkyl esters of aliphatic (C8 -C22) monocarboxylic acids and oil in water emulsifier |
JPH0296755A (ja) | 1988-10-03 | 1990-04-09 | Konica Corp | 感光性組成物 |
US4997588A (en) * | 1989-02-14 | 1991-03-05 | Hoechst Celanese Corporation | Cleaner for lithographic printing plates free of aromatic hydrocarbons |
CA2016687A1 (en) | 1989-05-31 | 1990-11-30 | Agfa-Gevaert Naamloze Vennootschap | Dyes and dye-donor elements for use in thermal dye sublimation transfer |
US4981517A (en) | 1989-06-12 | 1991-01-01 | Desanto Jr Ronald F | Printing ink emulsion |
DE4007428A1 (de) | 1990-03-09 | 1991-09-12 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
DE4027301A1 (de) | 1990-08-29 | 1992-03-05 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes photopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial |
US5174205B1 (en) | 1991-01-09 | 1999-10-05 | Presstek Inc | Controller for spark discharge imaging |
GB9101850D0 (en) | 1991-01-29 | 1991-03-13 | Du Pont Howson Ltd | Improvements in or relating to printing |
EP0507008B1 (en) | 1991-03-08 | 1995-06-07 | Agfa-Gevaert N.V. | Lithographic printing plate based on a resin comprising aryldiazosulfonates |
US5258263A (en) | 1991-09-10 | 1993-11-02 | Polaroid Corporation | Printing plate and methods of making and use same |
WO1994009993A1 (en) | 1992-11-02 | 1994-05-11 | Fuji Oil Co., Ltd. | Assistant for printing |
US6010824A (en) | 1992-11-10 | 2000-01-04 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Photosensitive resin composition containing a triazine compound and a pre-sensitized plate using the same, and photosensitive resin composition containing acridine and triazine compounds and a color filter and a pre-sensitized plate using the same |
US5340495A (en) * | 1993-04-30 | 1994-08-23 | Siebert, Inc. | Compositions for cleaning ink from a printing press and methods thereof |
US5340699A (en) | 1993-05-19 | 1994-08-23 | Eastman Kodak Company | Radiation-sensitive composition containing a resole resin and a novolac resin and use thereof in lithographic printing plates |
DE4445820A1 (de) | 1994-12-21 | 1996-06-27 | Hoechst Ag | Verfahren zum Entwickeln bestrahlter, strahlungsempfindlicher Aufzeichnungsmaterialien |
US5629354A (en) | 1995-02-28 | 1997-05-13 | Eastman Kodak Company | Photopolymerization initiator system comprising a spectral sensitizer and a polycarboxylic acid co-initiator |
US5925497A (en) | 1995-04-27 | 1999-07-20 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Negative-acting no-process printing plates |
US5641608A (en) | 1995-10-23 | 1997-06-24 | Macdermid, Incorporated | Direct imaging process for forming resist pattern on a surface and use thereof in fabricating printing plates |
EP0770494B1 (en) | 1995-10-24 | 2000-05-24 | Agfa-Gevaert N.V. | A method for making a lithographic printing plate involving on press development |
EP1092555B1 (en) | 1995-10-24 | 2002-08-21 | Agfa-Gevaert | A method for making a lithographic printing plate involving on-press development |
EP0770496B1 (en) | 1995-10-24 | 2002-03-13 | Agfa-Gevaert | Printing apparatus for making a lithographic printing plate involving on press development |
EP0770495B1 (en) | 1995-10-24 | 2002-06-19 | Agfa-Gevaert | A method for making a lithographic printing plate involving on press development |
EP0771645B1 (en) | 1995-10-31 | 2000-08-23 | Agfa-Gevaert N.V. | On-press development of a lithographic printing plate having an aryldiazosulfonate resin in a photosensitive layer |
EP0773112B1 (en) | 1995-11-09 | 2001-05-30 | Agfa-Gevaert N.V. | Heat sensitive imaging element and method for making a printing plate therewith |
DE69519100T2 (de) | 1995-11-16 | 2001-05-10 | Agfa Gevaert Nv | Verfahren zur Herstellung einer Flachdruckplatte durch bildmässige Erwärmung eines Bildaufnahmeelements mittels eines Thermodruckkopfes |
JPH09239942A (ja) | 1996-03-08 | 1997-09-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | 湿し水不要平版印刷原版及びその製版方法 |
ES2114521T3 (es) | 1996-04-23 | 2000-01-16 | Kodak Polychrome Graphics Co | Precursor de la forma para impresion litografica y su utilizacion en la formacion de imagenes por calor. |
JP3814961B2 (ja) | 1996-08-06 | 2006-08-30 | 三菱化学株式会社 | ポジ型感光性印刷版 |
EP0849090A3 (en) | 1996-12-19 | 1998-07-01 | Agfa-Gevaert N.V. | Thermosensitive imaging element for the preparation of lithographic printing plates with improved transporting properties |
DE69833046T2 (de) | 1997-03-11 | 2006-08-03 | Agfa-Gevaert | Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte |
EP0869393B1 (en) | 1997-03-31 | 2000-05-31 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Positive photosensitive composition |
BR9810668A (pt) | 1997-07-05 | 2001-09-04 | Kodak Polychrome Graphics Co | Processos para formação de moldes e materiais sensìveis a radiação |
JP3779444B2 (ja) | 1997-07-28 | 2006-05-31 | 富士写真フイルム株式会社 | 赤外線レーザ用ポジ型感光性組成物 |
GB9722861D0 (en) | 1997-10-29 | 1997-12-24 | Horsell Graphic Ind Ltd | Improvements in relation to the manufacture of lithographic printing forms |
US6218076B1 (en) | 1997-08-26 | 2001-04-17 | Showa Denko K.K. | Stabilizer for organic borate salts and photosensitive composition containing the same |
US6261740B1 (en) | 1997-09-02 | 2001-07-17 | Kodak Polychrome Graphics, Llc | Processless, laser imageable lithographic printing plate |
EP0901902A3 (en) | 1997-09-12 | 1999-03-24 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Positive photosensitive composition for use with an infrared laser |
US6573022B1 (en) | 1997-10-17 | 2003-06-03 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Positive type photosensitive image-forming material for an infrared laser and a positive type photosensitive composition for an infrared laser |
GB9722862D0 (en) | 1997-10-29 | 1997-12-24 | Horsell Graphic Ind Ltd | Pattern formation |
DE19803564A1 (de) | 1998-01-30 | 1999-08-05 | Agfa Gevaert Ag | Polymere mit Einheiten aus N-substituiertem Maleimid und deren Verwendung in strahlungsempfindlichen Gemischen |
DE69925053T2 (de) | 1998-02-04 | 2006-03-02 | Mitsubishi Chemical Corp. | Positiv arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzung, lichtempfindliche Druckplatte und Verfahren zur Herstellung eines positiven Bildes |
EP0950518B1 (en) | 1998-04-15 | 2002-01-23 | Agfa-Gevaert N.V. | A heat mode sensitive imaging element for making positive working printing plates |
EP0950517B1 (en) | 1998-04-15 | 2001-10-04 | Agfa-Gevaert N.V. | A heat mode sensitive imaging element for making positive working printing plates |
EP0960730B1 (en) | 1998-05-25 | 2003-07-02 | Agfa-Gevaert | A heat sensitive imaging element for providing a lithographic printing plate |
EP0960729B1 (en) | 1998-05-25 | 2003-05-28 | Agfa-Gevaert | A heat sensitive imaging element for providing a lithographic printing plate |
DE19824236A1 (de) * | 1998-05-29 | 1999-12-02 | Basf Ag | Verfahren zum Reinigen von Druckmaschinen und Druckformen |
GB9811813D0 (en) | 1998-06-03 | 1998-07-29 | Horsell Graphic Ind Ltd | Polymeric compounds |
US6352811B1 (en) | 1998-06-23 | 2002-03-05 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Thermal digital lithographic printing plate |
DE19834746A1 (de) | 1998-08-01 | 2000-02-03 | Agfa Gevaert Ag | Strahlungsempfindliches Gemisch mit IR-absorbierenden, betainischen oder betainisch-anionischen Cyaninfarbstoffen und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial |
DE69918754T2 (de) | 1998-08-24 | 2005-07-21 | Fuji Photo Film Co., Ltd., Minami-Ashigara | Bildaufzeichnungsmaterial und Flachdruckplatte, die dieses verwendet |
US6294318B1 (en) | 1998-09-09 | 2001-09-25 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Plate surface protective agent for lithographic printing plate, and fountain solution composition for lithographic printing plate |
US6232038B1 (en) | 1998-10-07 | 2001-05-15 | Mitsubishi Chemical Corporation | Photosensitive composition, image-forming material and image-forming method employing it |
ATE236791T1 (de) | 1998-11-16 | 2003-04-15 | Mitsubishi Chem Corp | Positiv-arbeitende photo-empfindliche lithographische druckplatte und verfahren zu ihrer herstellung |
US6140392A (en) | 1998-11-30 | 2000-10-31 | Flint Ink Corporation | Printing inks |
DE69909734T2 (de) | 1999-02-02 | 2004-04-15 | Agfa-Gevaert | Verfahren zur Herstellung positiv arbeitender Druckplatten |
JP3996305B2 (ja) | 1999-02-15 | 2007-10-24 | 富士フイルム株式会社 | ポジ型平版印刷用材料 |
DE19915717A1 (de) | 1999-04-08 | 2000-10-12 | Agfa Gevaert Ag | Aufzeichnungsmaterial mit pigmentgefärbter strahlungsempfindlicher Schicht |
DE10022786B4 (de) | 1999-05-12 | 2008-04-10 | Kodak Graphic Communications Gmbh | Auf der Druckmaschine entwickelbare Druckplatte |
DE60037951T2 (de) | 1999-05-21 | 2009-02-05 | Fujifilm Corp. | Fotoempfindliche Zusammensetzung und Flachdruckplatte, die diese Zusammensetzung verwendet |
US6071675A (en) | 1999-06-05 | 2000-06-06 | Teng; Gary Ganghui | On-press development of a lithographic plate comprising dispersed solid particles |
JP4480812B2 (ja) | 1999-07-27 | 2010-06-16 | 富士フイルム株式会社 | 感光又は感熱性ポジ型平版印刷版原版、および製版方法 |
US6251559B1 (en) | 1999-08-03 | 2001-06-26 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Heat treatment method for obtaining imagable coatings and imagable coatings |
US6706466B1 (en) | 1999-08-03 | 2004-03-16 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Articles having imagable coatings |
US6284720B1 (en) | 1999-09-03 | 2001-09-04 | Vertec Biosolvents, Llc | Environmentally friendly ink cleaning preparation |
JP4037015B2 (ja) | 1999-09-22 | 2008-01-23 | 富士フイルム株式会社 | 光重合性組成物、画像形成材料及び平版印刷版用版材 |
US6245481B1 (en) | 1999-10-12 | 2001-06-12 | Gary Ganghui Teng | On-press process of lithographic plates having a laser sensitive mask layer |
US6673510B1 (en) | 1999-10-19 | 2004-01-06 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive composition and planographic printing plate using the same |
JP2001209172A (ja) | 2000-01-27 | 2001-08-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版及びその製版方法 |
US6482571B1 (en) | 2000-09-06 | 2002-11-19 | Gary Ganghui Teng | On-press development of thermosensitive lithographic plates |
US6576401B2 (en) | 2001-09-14 | 2003-06-10 | Gary Ganghui Teng | On-press developable thermosensitive lithographic plates utilizing an onium or borate salt initiator |
US6548222B2 (en) | 2000-09-06 | 2003-04-15 | Gary Ganghui Teng | On-press developable thermosensitive lithographic printing plates |
US6387595B1 (en) | 2000-10-30 | 2002-05-14 | Gary Ganghui Teng | On-press developable lithographic printing plate having an ultrathin overcoat |
US6863933B2 (en) * | 2001-01-30 | 2005-03-08 | The Procter And Gamble Company | Method of hydrophilizing materials |
JP4098483B2 (ja) | 2001-03-12 | 2008-06-11 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
US6899994B2 (en) | 2001-04-04 | 2005-05-31 | Kodak Polychrome Graphics Llc | On-press developable IR sensitive printing plates using binder resins having polyethylene oxide segments |
US7261998B2 (en) | 2001-04-04 | 2007-08-28 | Eastman Kodak Company | Imageable element with solvent-resistant polymeric binder |
US6893797B2 (en) | 2001-11-09 | 2005-05-17 | Kodak Polychrome Graphics Llc | High speed negative-working thermal printing plates |
JP2002357894A (ja) | 2001-06-01 | 2002-12-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用原版およびその処理方法 |
EP1267211A1 (en) | 2001-06-13 | 2002-12-18 | Agfa-Gevaert | UV-sensitive imaging element for making lithographic printing plates |
EP1275498A3 (en) | 2001-07-09 | 2005-05-04 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor and production method of lithographic printing plate |
EP1275371A1 (en) * | 2001-07-13 | 2003-01-15 | Johnson and Johnson GmbH | Dry products comprising a sheet and two phases |
US6590817B2 (en) | 2001-07-23 | 2003-07-08 | Micron Technology, Inc. | 6F2 DRAM array with apparatus for stress testing an isolation gate and method |
JP2003054150A (ja) | 2001-08-20 | 2003-02-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版の版面洗浄方法 |
ATE544095T1 (de) | 2001-08-29 | 2012-02-15 | Fujifilm Corp | Verfahren zur herstellung einer druckplatte |
JP2003252939A (ja) | 2002-03-01 | 2003-09-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性組成物 |
EP1342568B1 (en) | 2002-03-06 | 2005-10-12 | Agfa-Gevaert N.V. | Method of developing a heat-sensitive lithographic printing plate precursor with a gum solution |
EP1349006B1 (en) | 2002-03-28 | 2013-09-25 | Agfa Graphics N.V. | Photopolymerizable composition sensitized for the wavelength range from 300 to 450 nm. |
US7659046B2 (en) | 2002-04-10 | 2010-02-09 | Eastman Kodak Company | Water-developable infrared-sensitive printing plate |
US7172850B2 (en) | 2002-04-10 | 2007-02-06 | Eastman Kodak Company | Preparation of solvent-resistant binder for an imageable element |
JP4079678B2 (ja) | 2002-04-24 | 2008-04-23 | 旭化成ケミカルズ株式会社 | スクリーン版洗浄剤及び製造方法 |
ATE333378T1 (de) | 2002-04-25 | 2006-08-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | Korrekturflüssigkeit für lithographische druckplatten |
EP1356926B1 (en) | 2002-04-26 | 2008-01-16 | Agfa Graphics N.V. | Negative-working thermal lithographic printing plate precursor comprising a smooth aluminum support. |
EP1369231A3 (en) | 2002-06-05 | 2009-07-08 | FUJIFILM Corporation | Infrared photosensitive composition and image recording material for infrared exposure |
JP2004012706A (ja) | 2002-06-05 | 2004-01-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版 |
US6902865B2 (en) | 2002-07-22 | 2005-06-07 | Gary Ganghui Teng | Non-alkaline aqueous development of thermosensitive lithographic printing plates |
DE60304528T2 (de) | 2002-09-19 | 2006-12-07 | Fuji Photo Film Co., Ltd., Minami-Ashigara | Lithographischer Druckplattenvorläufer |
JP2004117514A (ja) * | 2002-09-24 | 2004-04-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版 |
CN100439119C (zh) | 2002-10-04 | 2008-12-03 | 爱克发印艺公司 | 制造平版印刷版前体的方法 |
CN100439120C (zh) | 2002-10-04 | 2008-12-03 | 爱克发印艺公司 | 制造平版印刷版前体的方法 |
US6858359B2 (en) | 2002-10-04 | 2005-02-22 | Kodak Polychrome Graphics, Llp | Thermally sensitive, multilayer imageable element |
WO2004030923A2 (en) | 2002-10-04 | 2004-04-15 | Agfa-Gevaert | Method of marking a lithographic printing plate precursor |
CN100556692C (zh) | 2003-02-11 | 2009-11-04 | 爱克发印艺公司 | 热敏性平版印刷版前体 |
JP4167160B2 (ja) * | 2003-09-29 | 2008-10-15 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
WO2005032832A1 (en) * | 2003-10-03 | 2005-04-14 | Fuji Photo Film B.V. | Recording medium |
US20070224543A1 (en) | 2004-05-06 | 2007-09-27 | Agfa-Gevaert | Photopolymer Printing Plate Precursor |
ES2372289T3 (es) | 2004-05-19 | 2012-01-18 | Agfa Graphics N.V. | Método de fabricación de una plancha de impresión de fotopolímero. |
DE102004025364A1 (de) | 2004-05-19 | 2005-12-08 | Basf Drucksysteme Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Flexodruckformen mittels Laser-Direktgravur |
EP1614540B1 (en) | 2004-07-08 | 2008-09-17 | Agfa Graphics N.V. | Method for making a lithographic printing plate |
EP1614539B1 (en) | 2004-07-08 | 2008-09-17 | Agfa Graphics N.V. | Method for making a lithographic printing plate |
DE602005013029D1 (de) | 2004-07-08 | 2009-04-16 | Agfa Graphics Nv | Verfahren zur Herstellung einer negativarbeitenden, wärmeempfindlichen, lithographischen Druckplattenvorstufe |
EP1614541A3 (en) | 2004-07-08 | 2006-06-07 | Agfa-Gevaert | Method of making a lithographic printing plate. |
CN1984778B (zh) | 2004-07-08 | 2010-12-29 | 爱克发印艺公司 | 阴片热敏平版印刷版前体的制备方法 |
JP4404734B2 (ja) * | 2004-09-27 | 2010-01-27 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
WO2006037716A1 (en) | 2004-10-01 | 2006-04-13 | Agfa Graphics N.V. | Method of making lithographic printing plates |
CN104739665A (zh) * | 2005-03-07 | 2015-07-01 | 戴博全球保健有限公司 | 含有有机硅表面活性剂的高醇含量发泡组合物 |
ATE434518T1 (de) | 2005-06-17 | 2009-07-15 | Agfa Graphics Nv | Verfahren zur herstellung eines negativ arbeitenden lithographischen druckplattenvorläufers |
ATE402012T1 (de) | 2005-09-27 | 2008-08-15 | Agfa Graphics Nv | Verfahren zur herstellung einer lithographischen druckplatte |
ATE421922T1 (de) | 2005-10-20 | 2009-02-15 | Agfa Graphics Nv | Negativ arbeitender, wärmeempfindlicher lithografiedruckplattenvorläufer |
EP1777067B1 (en) | 2005-10-20 | 2008-07-23 | Agfa Graphics N.V. | A method for making a lithographic printing plate precursor |
ES2479066T3 (es) | 2005-11-18 | 2014-07-23 | Agfa Graphics N.V. | Método de fabricación de una plancha de impresión litográfica |
EP1788434B2 (en) | 2005-11-18 | 2019-01-02 | Agfa Nv | Method of making a lithographic printing plate |
ES2324542T3 (es) | 2005-11-21 | 2009-08-10 | Agfa Graphics N.V. | Metodo para fabricar una plancha de impresion litografica. |
PL1788435T3 (pl) | 2005-11-21 | 2013-09-30 | Agfa Nv | Sposób wytwarzania litograficznej płyty drukowej |
JP2007196557A (ja) | 2006-01-27 | 2007-08-09 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc | 平版印刷版用消去液とそれを用いた平版印刷版材料の製版方法 |
CA2656115A1 (en) | 2006-07-05 | 2008-01-10 | Enviro Image Solutions Inc. | Method and composition for removing residual ink image from offset printing blanket |
ES2365885T3 (es) | 2008-03-31 | 2011-10-13 | Agfa Graphics N.V. | Un método para tratar una plancha de impresión litográfica. |
-
2007
- 2007-11-30 AT AT07121963T patent/ATE468981T1/de not_active IP Right Cessation
- 2007-11-30 EP EP07121963A patent/EP2065211B1/en not_active Not-in-force
- 2007-11-30 DE DE602007006822T patent/DE602007006822D1/de active Active
- 2007-11-30 ES ES07121963T patent/ES2344668T3/es active Active
-
2008
- 2008-11-07 WO PCT/EP2008/065124 patent/WO2009068426A1/en active Application Filing
- 2008-11-07 US US12/743,414 patent/US8468942B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2008-11-07 CN CN2008801183248A patent/CN101878117B/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4504406A (en) * | 1983-02-22 | 1985-03-12 | American Hoechst Corporation | Cleansing agent for printing plates |
US4576743A (en) * | 1984-01-12 | 1986-03-18 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Plate cleaner for lithographic printing plate |
US4829897A (en) * | 1988-07-05 | 1989-05-16 | Printex Products Corporation | Automatic cleaner for offset printing blanket |
WO1995014755A1 (en) * | 1993-11-24 | 1995-06-01 | Penetone Corporation | Cleaning composition |
US5691288A (en) * | 1996-03-29 | 1997-11-25 | Bayer Corporation | Finisher-preserver-cleaner composition for lithographic printing plates |
US6346156B1 (en) * | 1997-10-30 | 2002-02-12 | Cognis Deutschland Gmbh | Application of alkyl polyglucosides in printing ink cleaners |
EP1361480A1 (en) * | 2002-05-07 | 2003-11-12 | Shipley Co. L.L.C. | Residue reducing stable concentrate |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20110000384A1 (en) | 2011-01-06 |
EP2065211A1 (en) | 2009-06-03 |
WO2009068426A1 (en) | 2009-06-04 |
DE602007006822D1 (de) | 2010-07-08 |
EP2065211B1 (en) | 2010-05-26 |
CN101878117A (zh) | 2010-11-03 |
ATE468981T1 (de) | 2010-06-15 |
ES2344668T3 (es) | 2010-09-02 |
US8468942B2 (en) | 2013-06-25 |
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