JPH0769605B2 - 感光性組成物 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の分野〕 本発明は平版印刷版、IC回路やフオトマスクの製造に適
する感光性組成物に関するものである。更に詳しくは、
ポジ型に作用する感光性化合物と、耐摩耗性、耐薬品性
に優れた高分子化合物からなる感光性組成物に関するも
のである。

〔従来の技術〕

ｏ−ナフトキノンジアジド化合物とノボラツク型フエノ
ール樹脂からなる感光性組成物は、非常に優れた感光性
組成物として平版印刷版の製造やフオトレジストとして
工業的に用いられてきた。

しかし主体として用いられるノボラツク型フエノール樹
脂の性質上基板に対する密着性が悪いこと、皮膜がもろ
いこと、塗布性が劣ること、耐摩耗性が劣り、平版印刷
版に用いた時の耐刷力が十分でないこと、さらに耐薬品
性に乏しく、特にUVインキを使用すると耐刷力が極めて
不十分である等の改良すべき点がある。これらの諸性能
を向上させる方法としてはバーニング処理（露光、現像
後、加熱処理する事）が一般に用いられている。しか
し、バーニング処理を行うと、画像部より感光層中の低
分子化合物が非画像部等に付着し、印刷時に汚れを生じ
やすくなるという問題がある。

かかる問題を解決するため種々の高分子化合物が、バイ
ンダーとして検討されてきた。たとえば特公昭52-41050
号に記載されているポリヒドロキシスチレンまたはヒド
ロキシスチレン共重合体は確かに皮膜性が改良された
が、耐摩耗性、耐薬品性が劣るという欠点を有してい
た。また、特開昭51-34711号公報中にはアクリル酸誘導
体の構造単位を分子構造中に有する高分子化合物をバイ
ンダーとして用いることが提案されているが、かかる高
分子化合物は適正な現像条件の範囲が狭く、また耐摩耗
性も十分でないなどの問題があつた。

〔発明の目的〕

従って本発明の目的は、バインダーとして用いる高分子
化合物の耐摩耗性が優れ、水性アルカリ現像液で現像が
でき、耐刷力の大きい平版印刷版を与える感光性組成物
を提供することである。

本発明の他の目的は、耐薬品性に優れ、バーニング処理
を行なう事なくUVインキを用いた印刷を行っても耐刷力
の大きい平版印刷版を与える感光性組成物を提供するこ
とである。

さらに本発明の目的は基板に対する密着性が良く、柔軟
な皮膜を与え、有機溶剤溶解性の優れた感光性組成物を
提供することである。

〔発明の構成〕

本発明者らは上記目的を達成すべく鋭意検討した結果、
新規な感光性組成物を使用することで、これらの目的が
達成されることを見い出し、本発明に到達した。

即ち本発明は、下記一般式（Ｉ）〜（Ｖ）で示される低
分子化合物を単量体成分として含有する、水不溶かつア
ルカリ性水溶液に可溶な高分子化合物と、ｏ−ナフトキ
ノンジアジド化合物を含有することを特徴とするポジ型
に作用する感光性組成物を提供するものである。

〔式中、X¹、X²はそれぞれ−Ｏ−または−NR⁷−を示
す。R¹、R⁴はそれぞれ−Ｈまたは−CH₃を示す。R²、R⁵
はそれぞれ置換基を有していてもよい炭素数１〜12の、
アルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基また
はアラルキレン基を示す。R³は水素原子、または置換基
を有してもよい炭素数１〜12の、アルキル基、シクロア
ルキル基、アリール基もしくはアラルキル基を示す。R⁶
は置換基を有していてもよい炭素数１〜12の、アルキル
基、シクロアルキル基、アリール基またはアラルキル基
を示す。R⁷は水素原子、または置換基を有していてもよ
い炭素数１〜12の、アルキル基、シクロアルキル基、ア
リール基もしくはアラルキル基を示す。

Y¹、Y²はそれぞれ単結合または を示す。R⁸、R¹⁰、R¹⁴はそれぞれ水素原子、ハロゲン原
子またはメチル基を示す。R⁹は置換されていてもよい炭
素数１〜12の、アルキレン基、シクロアルキレン基、ア
リーレン基またはアラルキレン基を示す。R¹¹、R¹⁵はそ
れぞれ単結合または置換されていてもよい炭素数１〜12
の、アルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基
もしくはアラルキレン基を示す。R¹²、R¹⁶はそれぞれ置
換されていてもよい炭素数１〜12の、アルキレン基、シ
クロアルキレン基、アリーレン基またはアラルキレン基
を示す。R¹³は水素原子、または置換されていてもよい
炭素数１〜12の、アルキル基、シクロアルキル基、アリ
ール基もしくはアラルキル基を示す。R¹⁷は置換されて
いてもよい炭素数１〜12の、アルキル基、シクロアルキ
ル基、アリール基またはアラルキル基を示す。〕 本発明に使用されるスルホンアミド基を有し、水不溶か
つアルカリ性水溶液に可溶な高分子化合物は、上記式
（Ｉ）〜（Ｖ）で示される低分子化合物を公知の重合開
始剤を用いて適当な溶媒中で重合する事により得られ
る。

一般式（Ｉ）または（II）で示される低分子化合物の
内、本発明において特に好適に使用されるものは、R²、
R⁵がそれぞれC₂〜C₆のアルキレン基、シクロアルキレン
基、または置換基を有していてもよいフエニレン基、ナ
フチレン基であり、R³がＨまたはC₁〜C₆のアルキル基、
シクロアルキル基また置換基を有していてもよいフエニ
ル基、ナフチル基であり、R⁶がC₁〜C₆のアルキル基、シ
クロアルキル基または置換基を有していてもよいフエニ
ル基、ナフチル基であり、R⁷が水素原子である化合物で
ある。

このような低分子化合物としては、例えばＮ−（ｏ−ア
ミノスルホニルフエニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｍ
−アミノスルホニルフエニル）メタクリルアミド、Ｎ−
（ｐ−アミノスルホニルフエニル）メタクリルアミド、
Ｎ−（ｏ−メチルアミノスルホニルフエニル）メタクリ
ルアミド、Ｎ−（ｍ−メチルアミノスルホニルフエニ
ル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−メチルアミノスルホ
ニルフエニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｏ−エチルア
ミノスルホニルフエニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｍ
−エチルアミノスルホニルフエニル）メタクリルアミ
ド、Ｎ−（ｐ−エチルアミノスルホニルフエニル）メタ
クリルアミド、Ｎ−（ｏ−ｎ−プロピルアミノスルホニ
ルフエニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｍ−ｎ−プロピ
ルアミノスルホニルフエニル）メタクリルアミド、Ｎ−
（ｐ−ｎ−プロピルアミノスルホニルフエニル）メタク
リルアミド、Ｎ−（ｏ−ｉ−プロピルアミノスルホニル
フエニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｍ−ｉ−プロピル
アミノスルホニルフエニル）メタクリルアミド、Ｎ−
（ｐ−ｉ−プロピルアミノスルホニルフエニル）メタク
リルアミド、Ｎ−（ｏ−ｎ−ブチルアミノスルホニルフ
エニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｍ−ｎ−ブチルアミ
ノスルホニルフエニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−
ｎ−ブチルアミノスルホニルフエニル）メタクリルアミ
ド、Ｎ−（ｏ−ｉ−ブチルアミノスルホニルフエニル）
メタクリルアミド、Ｎ−（ｍ−ｉ−ブチルアミノスルホ
ニルフエニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−ｉ−ブチ
ルアミノスルホニルフエニル）メタクリルアミド、Ｎ−
（ｏ−sec−ブチルアミノスルホニルフエニル）メタク
リルアミド、Ｎ−（ｍ−sec−ブチルアミノスルホニル
フエニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−sec−ブチル
アミノスルホニルフエニル）メタクリルアミド、Ｎ−
（ｏ−ｔ−ブルチアミノスルホニルフエニル）メタクリ
ルアミド、Ｎ−（ｍ−ｔ−ブチルアミノスルホニルフエ
ニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−ｔ−ブチルアミノ
スルホニルフエニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｏ−フ
エニルアミノスルホニルフエニル）メタクリルアミド、
Ｎ−（ｍ−フエニルアミノスルホニルフエニル）メタク
リルアミド、Ｎ−（ｐ−フエニルアミノスルホニルフエ
ニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｏ−（α−ナフチルア
ミノスルホニル）フエニル）メタクリルアミド、Ｎ−
（ｍ−（α−ナフチルアミノスルホニル）フエニル）メ
タクリルアミド、Ｎ−（ｐ−（α−ナフチルアミノスル
ホニル）フエニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｏ−（β
−ナフチルアミノスルホニル）フエニル）メタクリルア
ミド、Ｎ−（ｍ−（β−ナフチルアミノスルホニル）フ
エニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−（β−ナフチル
アミノスルホニル）フエニル）メタクリルアミド、Ｎ−
（１−（３−アミノスルホニル）ナフチル）メタクリル
アミド、Ｎ−（１−（３−メチルアミノスルホニル）ナ
フチル）メタクリルアミド、Ｎ−（１−（３−エチルア
ミノスルホニル）ナフチル）メタクリルアミド、Ｎ−
（ｏ−メチルスルホニルアミノフエニル）メタクリルア
ミド、Ｎ−（ｍ−メチルスルホニルアミノフエニル）メ
タクリルアミド、Ｎ−（ｐ−メチルスルホニルアミノフ
エニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｏ−エチルスルホニ
ルアミノフエニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｍ−エチ
ルスルホニルアミノフエニル）メタクリルアミド、Ｎ−
（ｐ−エチルスルホニルアミフエニル）メタクリルアミ
ド、Ｎ−（ｏ−フエニルスルホニルアミノフエニル）メ
タクリルアミド、Ｎ−（ｍ−フエニルスルホニルアミノ
フエニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−フエニルスル
ホニルアミノフエニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｏ−
（ｐ−メチルフエニルスルホニルアミノ）フエニル）メ
タクリルアミド、Ｎ−（ｍ−（ｐ−メチルフエニルスル
ホニルアミノ）フエニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ
−（ｐ−メチルフエニルスルホニルアミノ）フエニル）
メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−（α−ナフチルスルホニ
ルアミノ）フエニルメタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−（β
−ナフチルスルホニルアミノ）フエニル）メタクリルア
ミド、Ｎ−（２−メチルスルホニルアミノエチル）メタ
クリルアミド、Ｎ−（２−エチルスルホニルアミノエチ
ル）メタクリルアミド、Ｎ−（２−フエニルスルホニル
アミノエチル）メタクリルアミド、Ｎ−（２−ｐ−メチ
ルフエニルスルホニルアミノエチル）メタクリルアミ
ド、Ｎ−（２−α−ナフチルスルホニルアミノエチル）
メタクリルアミド、Ｎ−（２−β−ナフチルスルホニル
アミノ）エチルメタクリルアミド等のメタクリルアミド
類、上記と同様の置換基を有するアクリルアミド類、ま
たｏ−アミノスルホニルフエニルメタクリレート、ｍ−
アミノスルホニルフエニルメタクリレート、ｐ−アミノ
スルホニルフエニルメタクリレート、ｏ−メチルアミノ
スルホニルフエニルメタクリレート、ｍ−メチメアミノ
スルホニルフエニルメタクリレート、ｐ−メチルアミノ
スルホニルフエニルメタクリレート、ｏ−エチルアミノ
スルホニルフエニルメタクリレート、ｍ−エチルアミノ
スルホニルフエニルメタクリレート、ｐ−エチルアミノ
スルホニルフエニルメタクリレート、ｏ−ｎ−プロピル
アミノスルホニルフエニルメタクリレート、ｍ−ｎ−プ
ロピルアミノスルホニルフエニルメタクリレート、ｐ−
ｎ−プロピルアミノスルホニルフエニルメタクリレー
ト、ｏ−ｉ−プロピルアミノスルホニルフエニルメタク
リレート、ｍ−ｉ−プロピルアミノスルホニルフエニル
メタクリレート、ｏ−ｎ−ブチルアミノスルホニルフエ
ニルメタクリレート、ｍ−ｎ−ブチルアミノスルホニル
フエニルメタクリレート、ｐ−ｎ−ブチルアミノスルホ
ニルフエニルメタクリレート、ｍ−ｉ−ブチルアミノス
ルホニルフエニルメタクリレート、ｐ−ｉ−ブチルアミ
ノスルホニルフエニルメタクリレート、ｍ−sec−ブチ
ルアミノスルホニルフエニルメタクリレート、ｐ−sec
−ブチルアミノスルホニルフエニルメタクリレート、ｍ
−ｔ−ブチルアミノスルホニルフエニルメタクリレー
ト、ｐ−ｔ−ブチルアミノスルホニルフエニルメタクリ
レート、ｏ−フエニルアミノスルホニルフエニルメタク
リレート、ｍ−フエニルアミノスルホニルフエニルメタ
クリレート、ｐ−フエニルアミノスルホニルフエニルメ
タクリレート、ｍ−（α−ナフチルアミノスルホニル）
フエニルメタクリレート、ｐ−（α−ナフチルアミノス
ルホニルフエニル）メタクリレート、ｍ−（β−ナフチ
ルアミノスルホニル）フエニルメタクリレート、ｐ−
（β−ナフチルアミノスルホニル）フエニルメタクリレ
ート、１−（３−アミノスルホニル）ナフチルメタクリ
レート、１−（３−メチルアミノスルホニル）ナフチル
メタクリレート、１−（３−エチルアミノスルホニル）
ナフチルメタクリレート、ｏ−メチルスルホニルアミノ
フエニルメタクリレート、ｍ−メチルスルホニルアミノ
フエニルメタクリレート、ｐ−メチルスルホニルアミノ
フエニルメタクリレート、ｏ−エチルスルホニルアミノ
フエニルメタクリレート、ｍ−エチルスルホニルアミノ
フエニルメタクリレート、ｐ−エチルスルホニルアミノ
フエニルメタクリレート、ｏ−フエニルスルホニルアミ
ノフエニルメタクリレート、ｍ−フエニルスルホニルア
ミノフエニルメタクリレート、ｐ−フエニルスルホニル
アミノフエニルメタクリレート、ｏ−（ｐ−メチルフエ
ニルスルホニルアミノ）フエニルメタクリレート、ｍ−
（ｐ−メチルフエニルスルホニルアミノ）フエニルメタ
クリレート、ｐ−（ｐ−メチルフエニルスルホニルアミ
ノ）フエニルメタクリレート、ｐ−（α−ナフチルスル
ホニルアミノ）フエニルメタクリレート、ｐ−（β−ナ
フチルスルホニルアミノ）フエニルメタクリレート、２
−メチルスルホニルアミノエチルメタクリレート、２−
エチルスルホニルアミノエチルメタクリレート、２−フ
エニルスルホニルアミノエチルメタクリレート、２−ｐ
−メチルフエニルスルホニルアミノエチルメタクリレー
ト、２−α−ナフチルスルホニルアミノエチルメタクリ
レート、２−β−ナフチルスルホニルアミノエチルメタ
クリレート等のメタクリル酸エステル類、上記と同様の
置換基を有するアクリル酸エステル類などが挙げられ
る。

また、一般式（III）〜（Ｖ）で示される低分子化合物
において、好ましい置換基は、それぞれ、R⁸、R¹⁰、R¹⁴
は水素原子であり、R⁹は置換されていてもよいメチレン
基、フェニレン基、ナフチレン基であり、R¹¹、R¹⁵は単
結合またはメチレン基であり、R¹²、R¹⁶は炭素数１〜６
のアルキレン基または置換されていてもよいフェニレン
基もしくはナフチレン基であり、R¹³は水素原子、また
は炭素数１〜６のアルキル基、シクロアルキル基、置換
されていてもよいフェニル基、ナフチル基であり、R¹⁷
は炭素数１〜６のアルキル基、シクロアルキル基、置換
されていてもよいフェニル基またはナルチル基である。

上記のような一般式（III）〜（Ｖ）で示される化合物
の具体例としては、ｐ−アミノスルホニルスチレン、ｐ
−アミノスルホニル−α−メチルスチレン、ｐ−アミノ
スルホニルフエニルアリルエーテル、ｐ−（Ｎ−メチル
アミノスルホニル）フエニルアリルエーテル、メチルス
ルホニルアミノ酢酸ビニルエステル、フエニルスルホニ
ルアミノ酢酸ビニルエステル、メチルスルホニルアミノ
酢酸アリルエステル、フエニルスルホニルアミノ酢酸ア
リルエステル、ｐ−メチルスルホニルアミノフエニルア
リルエーテルなどがある。

本発明に使用される高分子化合物は、一般式（Ｉ）〜
（Ｖ）で示される低分子化合物の単独重合体または二種
以上の共重合体であつてもよいが、好ましくは１つ以上
の重合可能な不飽和結合を含有し、かつスルホンアミド
基を含まない化合物の一種以上との共重合体である。

このような重合可能な不飽和結合を含有し、かつスルホ
ンアミド基を含まない化合物としては、例えばアクリル
酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル類、アクリルア
ミド類、メタクリル酸エステル類、メタクリルアミド
類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル
類、スチレン類、クロトン類エステル類などから選ばれ
る重合性不飽和結合を有する化合物である。具体的に
は、例えばアクリル酸エステル類、例えばアルキル（該
アルキル基の炭素原子数は１〜10のものが好ましい）ア
クリレート（例えばアクリル酸メチル、アクリル酸エチ
ル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル
酸アミル、アクリル酸エチルヘキシル、アクリル酸オク
チル、アクリル酸−ｔ−オクチル、クロルエチルアクリ
レート、2,2−ジメチルヒドロキシプロピルアクリレー
ト、５−ヒドロキシペンチルアクリレート、トリメチロ
ールプロパンモノアクリレート、ペンタエリスリトール
モノアクリレート、グリシジルアクリレート、ベンジル
アクリレート、メトキシベンジルアクリレート、フルフ
リルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレー
ト、など）、アリールアクリレート（例えばフエニルア
クリレートなど）：メタクリル酸エステル類、例えば、
アルキル（該アルキル基の炭素原子数は１〜10のものが
好ましい）メタクリレート（例えばメチルメタクリレー
ト、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、
イソプロピルメタクリレート、アミルメタクリレート、
ヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレー
ト、ベンジルメタクリレート、クロルベンジルメタクリ
レート、オクチルメタクリレート、４−ヒドロキシブチ
ルメタクリレート、５−ヒドロキシペンチルメタクリレ
ート、2,2−ジメチル−３−ヒドロキシプロピルメタク
リレート、トリメチロールプロパンモノメタクリレー
ト、ペンタエリスリトールモノメタクリレート、グリシ
ジルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テト
ラヒドロフルフリルメタクリレートなど）、アリールメ
タクリレート（例えば、フエニルメタクリレート、クレ
ジルメタクリレート、ナフチルメタクリレートなど）：
アクリルアミド類、例えばアクリルアミド、Ｎ−アルキ
ルアクリルアミド（該アルキル基としては、炭素原子数
１〜10のもの、例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ｔ−ブチル基、ヘプチル基、オクチル
基、シクロヘキシル基、ヒドロキシエチル基、ベンジル
基などがある。）、Ｎ−アリールアクリルアミド（該ア
リール基としては、例えばフエニル基、トリル基、ニト
ロフエニル基、ナフチル基、ヒドロキシフエニル基など
がある。）、N,N−ジアルキルアクリルアミド（該アル
キル基としては、炭素原子数１〜10のもの、例えばメチ
ル基、エチル基、ブチル基、イソブチル基、エチルヘキ
シル基、シクロヘキシル基などがある。）、N,N−アリ
ールアクリルアミド（該アリール基としては、例えばフ
エニル基などがある。）、Ｎ−メチル−Ｎ−フエニルア
クリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルアク
リルアミド、Ｎ−２−アセトアミドエチル−Ｎ−アセチ
ルアクリルアミドなど：メタクリルアミド類、例えばメ
タクリルアミド、Ｎ−アルキルメタクリルアミド（該ア
ルキル基としては、炭素原子数１〜10のもの、例えばメ
チル基、エチル基、ｔ−ブチル基、エチルヘキシル基、
ヒドロキシエチル基、シクロヘキシル基などがあ
る。）、Ｎ−アリールメタクリルアミド（該アリール基
としては、フエニル基などがある。）、N,N−ジアルキ
ルメタクリルアミド（該アルキル基としては、エチル
基、プロピル基、ブチル基などがある。）、N,N−ジア
リールメタクリルアミド（該アリール基としては、フエ
ニル基などがある。）、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メ
チルメタクリルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−フエニルメタ
クリルアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−フエニルメタクリルア
ミドなど：アリル化合物、例えばアリルエステル類（例
えば酢酸アリル、カプロン酸アリル、カプリル酸アリ
ル、ラウリン酸アリル、パルミチン酸アリル、ステアリ
ン酸アリル、安息香酸アリル、アセト酢酸アリル、乳酸
アリルなど）、アリルオキシエタノールなど：ビニルエ
ーテル類、例えばアルキルビニルエーテル（例えばヘキ
シルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、デシル
ビニルエーテル、エチルヘキシルビニルエーテル、メト
キシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエー
テル、クロルエチルビニルエーテル、１−メチル−2,2
−ジメチルプロピルビニルエーテル、２−エチルブチル
ビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ジ
エチレングリコールビニルエーテル、ジメチルアミノエ
チルビニルエーテル、ジエチルアミノエチルビニルエー
テル、ブチルアミノエチルビニルエーテル、ベンジルビ
ニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテル
など）、ビニルアリールエーテル（例えばビニルフエニ
ルエーテル、ビニルトリルエーテル、ビニルクロルフエ
ニルエーテル、ビニル−2,4−ジクロルフエニルエーテ
ル、ビニルナフチルエーテル、ビニルアントラニルエー
テルなど）：ビニルエステル類、例えばビニルブチレー
ト、ビニルイソブチレート、ビニルトリメチルアセテー
ト、ビニルジエチルアセテート、ビニルバレート、ビニ
ルカプロエート、ビニルクロルアセテート、ビニルジク
ロルアセテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルブ
トキシアセテート、ビニルフエニルアセテート、ビニル
アセトアセテート、ビニルラクテート、ビニル−β−フ
エニルブチレート、ビニルシクロヘキシルカルボキシレ
ート、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル、クロル安息
香酸ビニル、テトラクロル安息香酸ビニル、ナフトエ酸
ビニルなど：スチレン類、例えばスチレン、アルキルス
チレン（例えばメチルスチレン、ジメチルスチレン、ト
リメチルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレ
ン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシル
スチレン、シクロヘキシルスチレン、デシルスチレン、
ベンジルスチレン、クロルメチルスチレン、トリフルオ
ルメチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキ
シメチルスチレンなど）、アルコキシスチレン（例えば
メトキシスチレン、４−メトキシ−３−メチルスチレ
ン、ジメトキシスチレンなど）、ハロゲンスチレン（例
えばクロルスチレン、ジクロルスチレン、トリクロルス
チレン、テトラクロルスチレン、ペンタクロルスチレ
ン、ブロムスチレン、ジブロムスチレン、ヨードスチレ
ン、フルオルスチレン、トリフルオルスチレン、２−ブ
ロム−４−トリフルオルメチルスチレン、４−フルオル
−３−トリフルオルメチルスチレンなど）：クロトン酸
エステル類、例えば、クロトン酸アルキル（例えばクロ
トン酸ブチル、クロトン酸ヘキシル、グリセリンモノク
ロトネートなど）：イタコン酸ジアルキル類（例えばイ
タコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジ
ブチルなど）：マレイン酸あるいはフマール酸のジアル
キル類（例えばジメチルマレエート、ジブチルフマレー
トなど）：アクロニトリル、メタクリロニトリル等があ
る。

これらの重合性不飽和結合を有する化合物のうち、好適
に使用されるのはメタクリル酸エステル類、アクリル酸
エステル類、メタクリルアミド類、アクリルアミド類、
アクリロトリル、メタクリロニトリル、メタクリル酸、
アクリル酸である。

これらの重合性不飽和結合を有する化合物の１種以上
と、一般式（Ｉ）〜（Ｖ）で示される低分子化合物の１
種以上の共重合体は、ブロツク体、ランダム体、グラフ
ト体等いずれも用いる事ができる。

これらの共重合体中で、スルホンアミド基を含有する構
成単位は、共重合体を構成するすべての構成単位に対し
て５モル％以上含有する事が好ましく、10〜90モル％含
有する事がさらに好ましい。

このような高分子化合物を合成する際に用いられる溶媒
としては、例えばエチレンジクロリド、シクロヘキサノ
ン、メチルエチルケトン、アセトン、メタノール、エタ
ノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチ
レングリコールモノエチルエーテル、２−メトキシエチ
ルアセテート、１−メトキシ−２−プロパノール、１−
メトキシ−２−プロピルアセテート、N,N−ジメチルホ
ルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルス
ルホキシド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸
エチルなどが挙げられる。

これらの溶媒は単独あるいは２種以上混合して用いられ
る。

本発明の高分子化合物の分子量は、好ましくは重量平均
で2,000以上であり、数平均で1,000以上である。更に好
ましくは重量平均で5,000〜30万の範囲であり、数平均
で2,000〜25万の範囲である。また多分散度（重量平均
分子量／数平均分子量）は１以上が好ましく、更に好ま
しくは1.1〜10の範囲である。

また、本発明の高分子化合物中には、未反応の単量体を
含んでいてもよい。この場合、単量体の高分子化合物中
に占める割合は15重量％以下が望ましい。

本発明の高分子化合物は単独で用いても混合して用いて
もよい。感光性組成物中に含まれる、これらの高分子化
合物の含有量は約５〜95％であり、好ましくは約10〜85
％である。

本発明に使用されるｏ−ナフトキノンジアジド化合物と
しては、特公昭43-28403号公報に記載されている1,2−
ジアゾナフトキノンスルホン酸クロライドとピロガロー
ル−アセトン樹脂とのエステルであるものが好ましい。
その他の好適なオルトキノンジアジド化合物としては、
米国特許第3,046,120号および同第3,188,210号明細書中
に記載されている1,2−ジアゾナフトキノンスルホン酸
クロライドとフエノール−ホルムアルデヒド樹脂とのエ
ステルがある。その他の有用なｏ−ナフトキノンジアジ
ド化合物としては、数多くの特許に報告され、知られて
いる。たとえば、特開昭47-5303号、同昭48-63802号、
同昭48-63803号、同昭48-96575号、同昭49-38701号、同
昭48-13354号、特公昭37-18015号、同昭41-11222号、同
昭45-9610号、同昭49-17481号公報、米国特許第2,797,2
13号、同第3,454,400号、同第3,544,323号、同第3,573,
917号、同第3,674,495号、同第3,785,825号、英国特許
第1,227,602号、同第1,251,345号、同第1,267,005号、
同第1,329,888号、同第1,330,932号、ドイツ特許第854,
890号などの各明細書中に記載されているものをあげる
ことができる。

本発明において特に好ましいｏ−ナフトキノンジアジド
化合物は、分子量1,000以下のポリヒドロキシ化合物と
1,2−ジアゾナフトキノンスルホン酸クロリドとの反応
により得られる化合物である。このような化合物の具体
例は、特開昭51-139402号、同58-150948号、同58-20343
4号、同59-165053号、同60-121445号、同60-134235号、
同60-163043号、同61-118744号、同62-10645号、同62-1
0646号、同62-153950号、同62-178562号、特願昭62-233
292号、米国特許第3,102,809号、同第3,126,281号、同
第3,130,047号、同第3,148,983号、同第3,184,310号、
同第3,188,210号、同第4,639,406号などの各公報または
明細書に記載されているものを挙げることができる。

これらのｏ−ナフトキノンジアジド化合物を合成する際
は、ポリヒドロキシ化合物のヒドロキシル基に対して1,
2−ジアゾナフトキノンスルホン酸クロリドを0.2〜1.2
当量反応させる事が好ましく、さらに0.3〜1.0当量反応
させる事が好ましい。

また得られるｏ−ナフトキノンジアジド化合物は、1,2
−ジアゾナフトキノンスルホン酸エステル基の位置及び
導入量の種々異なるものの混合物となるが、ヒドロキシ
ル基がすべて1,2−ジアゾナフトキノンスルホン酸エス
テルで転換された化合物がこの混合物中に占める割合
（完全にエステル化された化合物の含有量）は５モル％
以上である事が好ましく、さらに好ましくは20〜99モル
％である。

本発明の感光性組成物中に占めるｏ−ナフトキノンジア
ジド化合物の量は10〜50重量％で、より好ましくは15〜
40重量％である。

本発明の組成物中には、前記スルホンアミド基を有する
高分子化合物の他にフエノールホルムアルデヒド樹脂、
ｍ−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、ｐ−クレゾール
ホルムアルデヒド樹脂、ｍ−/p−混合クレゾールホルム
アルデヒド樹脂、フエノール／クレゾール（ｍ−、ｐ
−、又はｍ−/p−混合のいずれでもよい）混合ホルムア
ルデヒド樹脂などのクレゾールホルムアルデヒド樹脂、
フエノール変性キシレン樹脂、ポリヒドロキシスチレ
ン、ポリハロゲン化ヒドロキシスチレン等、公知のアル
カリ可溶性の高分子化合物を含有させることができる。
これらのアルカリ可溶性高分子化合物は、重量平均分子
量が500〜20,000で数平均分子量が200〜60,000のものが
好ましい。

かかるアルカ可溶性の高分子化合物は全組成物の70重量
％以下の添加量で用いられる。

更に、米国特許第4,123,279号明細書に記載されている
ように、ｔ−ブチルフエノールホルムアルデヒド樹脂、
オクチルフエノールホルムアルデヒド樹脂のような、炭
素数３〜８のアルキル基を置換基として有するフエノー
ルとホルムアルデヒドとの縮合物を併用することは画像
の感脂性を向上させる上で好ましい。

本発明の組成物中には、感度を高めるために環状酸無水
物、露光後直ちに可視像を得るための焼出し剤、画像着
色剤として染料やその他のフイラーなどを加えることが
できる。環状酸無水物としては米国特許第4,115,128号
明細書に記載されているように無水フタル酸、テトラヒ
ドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、3,6−
エンドオキシ−Δ⁴−テトラヒドロ無水フタル酸、テト
ラクロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水マ
レイン酸、α−フエニル無水マレイン酸、無水コハク
酸、無水ピロメリツト酸等がある。これらの環状酸無水
物を全組成物中の１から15重量％含有させることによつ
て感度を最大３倍程度に高めることができる。露光後直
ちに可視像を得るための焼出し剤としては露光によつて
酸を放出する感光性化合物と塩を形成し得る有機染料の
組合せを代表としてあげることができる。具体的には特
開昭50-36209号公報、特開昭53-8128号公報に記載され
ているｏ−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸ハロ
ゲニドと塩形成性有機染料の組合せや特開昭53-36223
号、同54-74728号、同60-3626号、同61-143748号、同61
-151644号、同63-58440号公報に記載されているトリハ
ロメチル化合物と塩形成性有機染料の組合せをあげるこ
とができる。画像の着色剤として前記の塩形成性有機染
料以外に他の染料も用いることができる。塩形成有機染
料を含めて好適な染料として油溶性染料および塩基染料
をあげることができる。具体的には、オイルイエロー＃
101、オイルイエロー＃130、オイルピンク＃312、オイ
ルグリーンBG、オイルブルーBOS、オイルブルー＃603、
オイルブラツクBY、オイルブラツクBS、オイルブラツク
Ｔ−505（以上、オリエント化学工業株式会社製）、ビ
クトリアピユアブルー、クリスタルバイオレツト（CI42
555）、メチルバイオレツト（CI42535）、ローダミンＢ
（CI45170B）、マラカイトグリーン（CI42000）、メチ
レンブルー（CI52015）などをあげることができる。ま
た、特開昭62-293247号公報に記載されている染料は特
に好ましい。

本発明の組成物は、上記各成分を溶解する溶媒に溶かし
て支持体上に塗布する。ここで使用する溶媒としては、
エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチ
ルケトン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エ
チレングリコールモノエチルエーテル、２−メトキシエ
チルアセテート、１−メトキシ−２−プロパノール、１
−メトキシ−２−プロピルアセテート、トルエン、酢酸
エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、ジメチルスルホキシ
ド、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、
水、Ｎ−メチルピロリドン、テトラヒドロフルフリルア
ルコール、アセトン、ジアセトンアルコール、メタノー
ル、エタノール、イソプロパノール、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテルなどがあり、これらの溶媒を単独
あるいは混合して使用する。そして、上記成分中の濃度
（固形分）は、２〜50重量％である。また、塗布量は用
途により異なるが、例えば感光性平版印刷版についてい
えば一般的に固形分として0.5〜3.0g/m²が好ましい。塗
布量が薄くなるにつれ感光性は大になるが、感光膜の物
性は低下する。

本発明の組成物中には、塗布性を良化するための界面活
性剤、例えば特開昭62-170950号公報に記載されている
ようなフツ素系界面活性剤を添加することができる。好
ましい添加量は、全感光性組成物の0.01〜１重量％、さ
らに好ましくは0.05〜0.5重量％である。

本発明の感光性組成物を用いて平版印刷版を製造する場
合、その支持体としては、アルミニウム板が好ましい。
アルミニウム板には純アルミニウム及びアルミニウム合
金板が含まれる。アルミニウム合金としては種々のもの
が使用でき、例えばけい素、銅、マンガン、マグネシウ
ム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニツケルなどの金属
とアルミニウムの合金が用いられる。これらの組成物
は、いくらかの鉄およびチタンに加えその他無視し得る
程度の量の不純物をも含むものである。

アルミニウム板は、必要に応じて表面処理される。例え
ば砂目立て処理、珪酸ソーダ、弗化ジルコニウム酸カリ
ウム、燐酸塩等の水溶液へ浸漬処理、あるいは陽極酸化
処理などの表面処理がなされていることが好ましい。ま
た、米国特許第2,714,066号明細書に記載されているよ
うに、砂目立てしたのち珪酸ナトリウム水溶液に浸漬処
理したアルミニウム板、米国特許第3,181,461号明細書
に記載されているようにアルミニウム板を陽極酸化処理
を行った後にアルカリ金属珪酸塩の水溶液に浸漬処理し
たものも好適に使用される。上記陽極酸化処理は、例え
ば、燐酸、クロム酸、硫酸、硼酸等の無機酸、若しくは
蓚酸、スルフアミン酸等の有機酸またはこれらの塩の水
溶液又は非水溶液の単独又は二種以上を組み合わせた電
界液中でアルミニウム板を陽極として電流を流すことに
より実施される。

また、米国特許第3,658,662号明細書に記載されている
ようなシリケート電着も有効である。

これらの親水化処理は、支持体の表面を親水性とする為
に施される以外に、その上に設けられる感光性組成物と
の有害な反応を防ぐ為や、感光層との密着性を向上させ
る為に施されるものである。

アルミニウム板を砂目立てするに先立って、必要に応じ
て表面の圧延油を除去すること及び清浄なアルミニウム
面を表出させるためにその表面の前処理を施しても良
い。前者のためには、トリクレン等の溶剤、界面活性剤
等が用いられている。又後者のためには水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等のアルカリ・エツチング剤を用い
る方法が広く行われている。

砂目立て方法としては、機械的、化学的および電気化学
的な方法のいずれの方法も有効である。機械的方法とし
ては、ボール研磨法、ブラスト研磨法、軽石のような研
磨剤の水分散スラリーをナイロンブラシで擦りつけるブ
ラシ研磨法などがあり、化学的方法としては、特開昭54
-31187号公報に記載されているような鉱酸のアルミニウ
ム塩の飽和水溶液に浸漬する方法が適しており、電気化
学的方法としては塩酸、硝酸またはこれらの組合せのよ
うな酸性電解液中で交流電解する方法が好ましい。この
ような粗面化方法の内、特に特開昭55-137993号公報に
記載されているような機械的粗面化と電気化学的粗面化
を組合せた粗面化方法は、感脂性画像の支持体への接着
力が強いので好ましい。

上記の如き方法による砂目立ては、アルミニウム板の表
面の中心線表面粗さ（Ha）が0.3〜1.0μとなるような範
囲で施されることが好ましい。

このようにして砂目立てされたアルミニウム板は必要に
応じて水洗および化学的にエツチングされる。

エツチング処理液は、通常アルミニウムを溶解する塩基
あるいは酸の水溶液より選ばれる。この場合、エツチン
グされた表面に、エツチング液成分から誘導されるアル
ミニウムと異なる被膜が形成されないものでなければな
らない。好ましいエツチング剤を例示すれば、塩基性物
質としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リン酸
三ナトリウム、リン酸二ナトリウム、リン酸三カリウ
ム、リン酸二カリウム等；酸性物質としては硫酸、過硫
酸、リン酸、塩酸及びその塩等であるが、アルミニウム
よりイオン化傾向の低い金属例えば亜鉛、クロム、コバ
ルト、ニツケル、銅等の塩はエツチング表面に不必要な
被膜を形成するから好ましくない。

これ等のエツチング剤は、使用濃度、温度の設定におい
て、使用するアルミニウムあるいは合金の溶解速度が浸
漬時間１分あたり0.3グラムから40グラム／m²になる様
に行なわれるのが最も好ましいが、これを上回るあるい
は下回るものであつても差支えない。

エツチングは上記エツチング液にアルミニウム板を浸漬
したり、該アルミニウム板にエツチング液を塗布するこ
と等により行われ、エツチング量が0.5〜10g/m²の範囲
となるように処理されることが好ましい。

上記エツチング剤としては、そのエツチング速度が早い
という特長から塩基の水溶液を使用することが好まし
い。この場合、スマツトが生成するので、通常デスマツ
ト処理される。デスマツト処理に使用される酸は、硝
酸、硫酸、りん酸、クロム酸、ふつ酸、ほうふつ化水素
酸等が用いられる。

エツチング処理されたアルミニウム板は、必要により水
洗及び陽極酸化される。陽極酸化は、この分野で従来よ
り行なわれている方法で行なうことができる。具体的に
は、硫酸、りん酸、クロム酸、蓚酸、スルフアミン酸、
ベンゼンスルホン酸等あるいはそれらの二種類以上を組
み合せた水溶液又は非水溶液中でアルミニウムに直流ま
たは交流の電流を流すと、アルミニウム支持体表面に陽
極酸化被膜を形成させることができる。

陽極酸化の処理条件は使用される電解液によつて種々変
化するので一概には決定され得ないが一般的には電解液
の濃度が１〜80重量％、液温５〜70℃、電流密度0.5〜6
0アンペア/dm²、電圧１〜100V、電解時間30秒〜50分の
範囲が適当である。

これらの陽極酸化処理の内でも、とくに英国特許第1,41
2,768号明細書に記載されている硫酸中で高電流密度で
陽極酸化する方法、米国特許第4,211,619号明細書に記
載されているような低濃度の硫酸中で陽極酸化する方法
および米国特許第3,511,661号明細書に記載されている
燐酸を電解浴として陽極酸化する方法が好ましい。

上記のように粗面化され、さらに陽極酸化されたアルミ
ニウム板は、必要に応じて親水化処理しても良く、その
好ましい例としては米国特許第2,714,066号及び同第3,1
81,461号に開示されているようなアルカリ金属シリケー
ト、例えば珪酸ナトリウム水溶液または特公昭36-22063
号公報に開示されている弗化ジルコニウム酸カリウムお
よび米国特許第4,153,461号明細書に開示されているよ
うなポリビニルスルホン酸で処理する方法がある。

また、上述のように粗面化され、陽極酸化され、更に必
要に応じて親水化処理されたアルミニウム板上には水溶
性化合物からなる下塗層を設けることができる。このよ
うな水溶性化合物の例としては特公昭57-16349号公報に
開示されている、水溶性金属塩と親水性セルロースの組
合せ（例えば、塩化亜鉛とカルボキシルメチルセルロー
ス、塩化マグネシウムとヒドロキシエチルセルロースな
ど）、米国特許3,511,661号明細書に開示されているポ
リアクリルアミド、特公昭46-35685号公報に開示されて
いるポリビニルホスホン酸、特開昭60-149491号公報に
開示されているアミノ酸およびその塩類（Na塩、Ｋ塩等
のアルカリ金属塩、アンモニウム塩、塩酸塩、蓚酸塩、
酢酸塩、りん酸塩等）、特開昭60-232998号公報に開示
されている水酸基を有するアミン類およびその塩類（塩
酸塩、蓚酸塩、りん酸塩等）が挙げられ、中でもアミノ
酸およびその塩、水酸基をもつアミンおよびその塩は特
に好ましい。このような水溶性化合物の下塗り層は固型
分で1mg/m²〜80mg/m²の範囲で設けるのが好ましい。

本発明の感光性組成物に対する現像液としては、珪酸ナ
トリウム、珪酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウム、第二
リン酸ナトリウム、第三リン酸アンモニウム、第二リン
酸アンモニウム、メタ珪酸ナトリウム、重炭酸ナトリウ
ム、アンモニア水などのような無機アルカリ剤の水溶液
が適当であり、それらの濃度が0.1〜10重量％、好まし
くは0.5〜５重量％になるように添加される。

また、該アルカリ性水溶液には、必要に応じ界面活性剤
やアルコールなどのような有機溶媒を加えることもでき
る。

露光に使用される光源としてはカーボンアーク灯、水銀
灯、キセノンランプ、タングステンランプ、メタルハラ
イドランプなどがある。

〔発明の効果〕

本発明の感光性組成物は支持体上に塗布する際の塗布性
に優れ、また塗布、乾燥、画像露光後、露光部を水性ア
ルカリ現像液で使用する際の現像性に優れる。得られた
レリーフ像は耐摩耗性、支持体への密着性が良く、印刷
版として使用した場合、良好な印刷物が多数枚得られ
る。

さらに、UVインキを使用した印刷を行った場合において
も良好な印刷物が多数枚得られる。

「実施例」 以下、本発明を合成例、実施例により更に詳細に説明す
るが、本発明の内容がこれにより限定されるものではな
い。

合成例１ 攪拌機、冷却管、滴下ロートを備えた１三ツ口フラス
コにｐ−アミノベンゼンスルホンアミド170.2g（1.0mol
e）及びテトラヒドロフラン700mlを入れ、氷水浴下攪拌
した。この混合物にメタクリル酸クロリド52.3g（0.5mo
le）を約１時間かけて滴下ロートにより滴下した。滴下
終了後、氷水浴をとり去り、30分間室温下で攪拌し、さ
らにオイルバスを用いて60℃に加熱しながら１時間攪拌
した。反応終了後、この反応混合物を水3lに攪拌下投入
し、30分間攪拌した後、ろ過する事により、Ｎ−（ｐ−
アミノスルホニルフエニル）メタクリルアミドの白色固
体が得られた。この白色固体は、水−アセトンの混合溶
媒より再結晶する事により精製する事ができた（収量3
9.3g）。

このように得られたＮ−（ｐ−アミノスルホニルフエニ
ル）メタクリルアミド9.72g（0.0408mole）及びメタク
リル酸メチル7.93g（0.0792mole）、N,N−ジメチルホル
ムアミド50mlを攪拌機、冷却管を備えた200ml三ツ口フ
ラスコに入れ湯水浴により64℃に加熱しながら攪拌し
た。この混合物にα，α′−アゾビスイソブチロニトリ
ル0.246gを加え64℃に保ちながら窒素気流下５時間攪拌
した。反応終了後、この反応混合物を水2lに攪拌下投入
し30分間攪拌したのちろ過、乾燥する事により16gの白
色固体を得た。ゲルパーミエーシヨンクロマトグラフイ
ーによりこの高分子化合物の重量平均分子量（ポリスチ
レン標準）を測定したところ49000であつた。（本発明
の高分子化合物（ａ）） 合成例２ 攪拌機、冷却管、滴下ロートを備えた500ml三ツ口フラ
スコにメタクリル酸31.0g（0.36mole）、クロロギ酸エ
チル39.1g（0.36mole）及びアセトニトリル200mlを入
れ、氷水浴下攪拌した。この混合物にトリエチルアミン
36.4g（0.36mole）を約１時間かけて滴下ロートにより
滴下した。滴下終了後、氷水浴をとり去り、室温下で30
分間攪拌し、油浴を取り付けた。

この反応混合物に、ｐ−アミノベンゼンスルホンアミド
51.7g（0.30mole）を加え、油浴にて70℃に温めながら
１時間攪拌した。反応終了後、この混合物を水１にか
くはん下投入し、30分間攪拌した。固体をろ過により集
め、さらに水500mlにリスラリーしたのち、ろ過、乾燥
する事によりＮ−（ｐ−アミノスルホニルフエニル）メ
タクリルアミドの白色固体が得られた。（収量46.9g） 次に攪拌機、冷却管、滴下ロートを備えた200ml三ツ口
フラスコに、Ｍ−（ｐ−アミノスルホニルフエニル）メ
タクリルアミド4.61g（0.0192mole）、メタクリル酸エ
チル2.94g（0.0258mole）、アクリロニトリル0.80g（0.
015mole）及びN,N−ジメチルアセトアミド20gを入れ、
湯水浴により65℃に加熱しながら攪拌した。この混合物
にＶ−65（和光純薬（株）製）0.15gを加え65℃に保ち
ながら窒素気流下２時間攪拌した。この反応混合物にさ
らにＮ−（ｐ−アミノスルホニルフエニル）メタクリル
アミド4.61g、メタクリル酸エチル2.94g、アクリロニト
リル0.80g、N,N−ジメチルアセトアミド及びＶ−650.15
gの混合物を２時間かけて滴下ロートにより滴下した。
滴下終了後さらに65℃で２時間攪拌した。反応終了後メ
タノール40gを加え冷却し、水2lに攪拌下投入し、30分
間攪拌した後ろ過乾燥する事により15gの白色固体を得
た。ゲルパーミエーシヨンクロマトグラフイーによりこ
の高分子化合物の重量平均分子量（ポリスチレン標準）
を測定したところ53,000であつた。（本発明の高分子化
合物（ｂ）） 合成例３〜５ 合成例１又は２と同様にして第１表に示される高分子化
合物（ｃ）〜（ｅ）を合成した。これらの高分子化合物
の重量平均分子量（ポリスチレン標準）はいずれも9,00
0〜80,000であつた。

実施例１〜６および比較例１ 厚さ0.30mmのアルミニウム板をナイロンブラシと400メ
ツシユのパミストンの水懸濁液を用いその表面を砂目立
てした後、よく水で洗浄した。10％水酸化ナトリウムに
70℃で60秒間浸漬してエツチングした後、流水で水洗後
20％ HNO₃で中和洗浄、水洗した。これをV_A＝12.7Vの
条件下で正弦波の交番波形電流を用いて１％硝酸水溶液
中で160クローン/dm²の陽極時電気量で電解粗面化処理
を行った。その表面粗さを測定したところ、0.6μ（Ra
表示）であつた。ひきつづいて30％のH₂SO₄水溶液中に
浸漬し55℃で２分間デスマツトした後、20％H₂SO₄水溶
液中、電流密度2A/dm²において厚さが2.7g/m²になるよ
うに陽極酸化した。

次に下記感光液〔Ａ〕の本発明の高分子化合物の種類を
変えて、５種類の感光液〔Ａ〕−１〜〔Ａ〕−５を調整
した。

これらの感光液を陽極酸化されたアルミニウム板上に塗
布し、100℃で２分間乾燥してそれぞれの感光性平版印
刷版〔Ａ〕−１〔Ａ〕−５を作成した。このときの塗布
量は乾燥重量で2.5g/m²であつた。

なお感光液〔Ａ〕−１〜〔Ａ〕−５に用いた本発明の高
分子化合物は第２表に示した。

感光液〔Ａ〕 次に比較例として下記の感光液〔Ｃ〕を感光液〔Ａ〕と
同様に塗布し、感光性平版印刷版〔Ｃ〕を作製した。乾
燥後の塗布重量は2.5g/m²であつた。

感光液〔Ｃ〕 感光性平版印刷版〔Ａ〕−１〜５及び〔Ｃ〕の感光層上
に線画及び網点画像のポジ透明原画を密着させ、30アン
ペアのカーボンアーク灯で70cmの距離から露光を行なつ
た。

露光された感光性平版印刷版〔Ａ〕−１〜５及び〔Ｃ〕
をDP−４（商品名：富士写真フイルム（株）製）の８倍
希釈水溶液で25℃において60秒間浸漬現像した。

得られた平版印刷版〔Ａ〕−１〜５及び〔Ｃ〕を用いて
ハイデルベルグ社製KOR型印刷機で市販の通常インキ及
びUVインキを用いて上質紙に印刷した。平版印刷版
〔Ａ〕−１〜５及び〔Ｃ〕の最終印刷枚数を調べたとこ
ろ第２表に示すとおりであつた。

第２表からわかる様に、本発明の高分子化合物を用いた
平版印刷版〔Ａ〕−１〜５（実施例１〜５）は、比較例
の〔Ｃ〕と比べて通常インキ、UVインキのどちらを用い
た場合においても印刷枚数が多く耐刷性が非常に優れた
ものであつた。

実施例７〜10および比較例２ 厚さ0.24mmのアルミニウム板をナイロンブラシと400メ
ツシユのパミストン−水懸濁を用いその表面を砂目立て
した後、よく水で洗浄して基板〔Ｉ〕を用意した。基板
〔Ｉ〕を10％水酸化ナトリウムに70℃で20秒間浸漬して
エツチングした後流水で水洗後、20％HNO₃で中和洗浄、
水洗し、12.7Vの条件下で正弦波の交番波形電流を用い
て0.7％硝酸水溶液中で400クーロン/dm²の電気量で電解
粗面化処理を行い、水洗して基板〔II〕を用意した。

この基板〔II〕を10％水酸化ナトリウム水溶液中で表面
の溶解量が0.9g/m²になるように処理した。水洗後、20
％硝酸溶液中で中和、洗浄してデスマツトを行なつた
後、18％硫酸水溶液中で、酸化皮膜量が3g/m²になるよ
うに陽極酸化した。

このようにして得られたアルミニウム板上に、下記の感
光液〔Ｄ〕で本発明の高分子化合物の種類を変えた３種
類の感光液〔Ｄ〕−１〜〔Ｄ〕−３を塗布した。100℃
で２分間乾燥し、それぞれの感光性平版印刷版〔Ｄ〕−
１〜〔Ｄ〕−３を作製した。

さらに下記感光液〔Ｅ〕および〔Ｆ〕を調製し、〔Ｄ〕
−１〜〔Ｄ〕−３と同様にして塗布乾燥し感光性平版印
刷版〔Ｅ〕，〔Ｆ〕を作製した。

これらの感光性平版印刷版の乾燥後の塗布量は2.5g/m²
であつた。

なお感光液〔Ｄ〕−１〜〔Ｄ〕−３および〔Ｅ〕に用い
た本発明の高分子化合物は第３表に示した。

感光液〔Ｄ〕 2,3,4−トリヒドロキシベンゾフエノンとナフトキノ
ン−1,2−ジアジド−５−スルホニルクロリドとのエス
テル化合物 （エステル化率;90mol％） 0.45g 本発明の高分子化合物 0.77g クレゾール（メタ体60％、オルト体40％）−ホルムア
ルデヒド樹脂（重量平均分子量;4,000） 0.33g ２−（ｐ−メトキシフエニル）−4,6−ビス（トリク
ロロメチル）−ｓ−トリアジン 0.02g ナフトキノン−1,2−ジアジド−４−スルホニルクロ
リド 0.01g ビクトリアピユアブルーBOH（保土谷化学（株）製の
染料） 0.015g メガフアツクＦ−177 0.004g （大日本インキ化学工業（株）製フツ素系界面活性剤） ジメチルホルムアミド 4g １−メトキシ−２−プロパノール 9g メチルエチルケトン 7g 〔感光液Ｅ〕 3,3,3′,3′−テトラメチル−1,1′−スピロビ−イン
ダン−5,6,7,5′,6′,7′−ヘキソオールとナフトキノ
ン−1,2−ジアジド−５−スルホニルクロリドとのエス
テル化物 0.45g （特願昭62-233292号明細書（特開昭64-76047号公報）
実施例１の感光物（ａ）） 本発明の高分子化合物 0.77g クレゾール（メタ体60％、オルト体40％）−ホルムア
ルデヒド樹脂（重量平均分子量;4,000） 0.33g ２−（ｐ−メトキシフエニル）−4,6−ビス（トリク
ロロメチル）−ｓ−トリアジン 0.02g ビクトリアピユアブルーBOH（保土谷化学（株）製の
染料） 0.015g メガフアツクＦ−177 0.004g （大日本インキ化学工業（株）製フツ素系界面活性剤） ジメチルスルフオキシド 5g 乳酸メチル 8g メチルエチルケトン 7g 感光液〔Ｆ〕 感光液〔Ｄ〕において、本発明の高分子化合物を用いず
にクレゾール（メタ体60％、オルト体40％）−ホルムア
ルデヒド樹脂（重量平均分子量;4,000）を1.1g使用した
感光液。

感光性平版印刷版〔Ｄ〕−１〜〔Ｄ〕−３、〔Ｅ〕及び
〔Ｆ〕を実施例１〜６および比較例１と同様な方法で性
能を評価したところ第３表に示すとうりであつた。

第３表からわかるように、本発明の高分子化合物を用い
た平版印刷版〔Ｄ〕−１〜〔Ｄ〕−３、および〔Ｅ〕
（実施例７〜10）は、比較例の〔Ｆ〕と比べて通常イン
キ、UVインキのどちらを用いた場合においても、耐刷性
が優れ、非常に優れているものであることがわかる。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】下記一般式（Ｉ）〜（Ｖ）で示される低分
   子化合物を単量体成分として含有する、水不溶かつアル
   カリ性水溶液に可溶な高分子化合物と、ｏ−ナフトキノ
   ンジアジド化合物を含有することを特徴とするポジ型に
   作用する感光性組成物。 〔式中、X¹、X²はそれぞれ−Ｏ−または−NR⁷−を示
   す。R¹、R⁴はそれぞれ−Ｈまたは−CH₃を示す。R²、R⁵
   はそれぞれ置換基を有していてもよい炭素数１〜12の、
   アルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基また
   はアラルキレン基を示す。R³は水素原子、または置換基
   を有していてもよい炭素数１〜12の、アルキル基、シク
   ロアルキル基、アリール基もしくはアラルキル基を示
   す。R⁶は置換基を有していてもよい炭素数１〜12の、ア
   ルキル基、シクロアルキル基、アリール基またはアラル
   キル基を示す。R⁷は水素原子、または置換基を有してい
   てもよい炭素数１〜12の、アルキル基、シクロアルキル
   基、アリール基もしくはアラルキル基を示す。 Y¹、Y²はそれぞれ単結合または を示す。R⁸、R¹⁰、R¹⁴はそれぞれ水素原子、ハロゲン原
   子またはメチル基を示す。R⁹は置換されていてもよい炭
   素数１〜12の、アルキレン基、シクロアルキレン基、ア
   リーレン基またはアラルキレン基を示す。R¹¹、R¹⁵はそ
   れぞれ単結合または置換されていてもよい炭素数１〜12
   の、アルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基
   もしくはアラルキレン基を示す。R¹²、R¹⁶はそれぞれ置
   換されていてもよい炭素数１〜12の、アルキレン基、シ
   クロアルキレン基、アリーレン基またはアラルキレン基
   を示す。R¹³は水素原子、または置換されていてもよい
   炭素数１〜12の、アルキル基、シクロアルキル基、アリ
   ール基もしくはアラルキル基を示す。R¹⁷は置換されて
   いてもよい炭素数１〜12の、アルキル基、シクロアルキ
   ル基、アリール基またはアラルキル基を示す。〕