CN101014667A - 颜料晶体制备阶段中的中间化学物质、使用它的颜料晶体制备方法、颜料晶体 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了能够制备出可以在固相中和液相两者之中适宜使用的获得颜料晶体所必须的极高纯度,而且控制了晶形、粒径、凝集性、分散性的颜料晶体的制备方法。为了由颜料前体(S0)利用分子结构转变而获得颜料晶体(S3),在由上述颜料前体(S0)到上述颜料晶体(S3)之间,经过与上述颜料前体(S0)和上述颜料晶体(S3)不同的、同时至少彼此不同的第1变位结构(S1)或第2变位结构(S2)。
Description
技术领域
本发明涉及新型的颜料晶体制备方法、使用该方法得到的颜料晶体。
背景技术
迄今为止,可以使用染料作为要求高精细度的喷墨用记录液(油墨)的色料。使用染料的油墨可以给出具有高透明度、高精细度、优异的显色性等特点的图像,但是常常具有耐光性和耐水性等图像牢固性差的问题。近年来,为了解决该图像的耐光性和耐水性等问题,代替染料,制备了使用有机颜料和炭黑作为色料的颜料油墨。这样一来,从提高图像牢固性的观点考虑,在油墨中使用的色料可以由染料转变为颜料。
但是,已经提出了以下的染料、以及使用该染料的油墨:通过形成对规定溶剂具有亲溶剂性基的结构的染料,可溶于该溶剂,并利用逆第尔斯-阿尔德反应(retro Diels-Alder reaction)脱掉该亲溶剂性基,从而相对于该溶剂的溶解度可以不可逆下降(专利文献1)。该色料进行逆第尔斯-阿尔德反应时,可以在溶剂中变为不溶解状态(即,染料状态),并且图像的牢固性好。另外,在这里,为了向记录材料赋予溶解于溶剂的化合物(即,颜料状态),在该记录材料上产生上述反应,可给与加热、或光、电磁波以及放射线的照射等外部能量。
另外,提出了向含有金属化合物的记录介质赋予进行逆第尔斯-阿尔德反应的化合物(染料),使上述进行逆第尔斯-阿尔德反应的化合物(染料)进行逆第尔斯-阿尔德反应,从而使其颜料化的建议(参考专利文献9)。但是,虽然得到的颜料在记录介质上,相对于溶剂转变为不溶解的颜料,但是形成了大多数是颜色不均匀的记录图像。使用X线衍射装置等各种观察装置研究该记录图像,结果可知是不均匀的颜料化状态、或混晶状态、以及凝集状态,要想获得良好的记录图像,需要使颜料进行单晶化。
此外,提出了把进行热可逆性的第尔斯-阿尔德反应的聚合反应化合物用作喷墨油墨·载体的粘度温度控制材料的相变化油墨(专利文献2)。该发明中,由于反应是可逆反应,在溶解性降低的状态下冷却时,引起环化反应,溶解性增加。
另外,提出了控制三烯丙基甲烷类化合物由紫外线、热产生的分解反应、和使用如光致变色的化合物的光、热可逆性化合物的极性(溶解性、凝集性)的建议(专利文献3)。但是,由于该极性部分是自由基离子开裂分解的部分,可以形成非可逆状态,但是由于副生成物非常不稳定,从而引起氧化劣化反应。此外,由于光致变色反应相对于可见光线、紫外线和热量是可逆反应,所以难以保持某种恒定状态。
另外,提出了如下建议:在记录材料上赋予油墨时,通过产生第尔斯-阿尔德反应,从而使得到的记录图像的牢固性变得良好(专利文献4)。此外,提出了如下建议:在记录介质中含有牢固的二烯亲和物作为产生第尔斯-阿尔德反应的成分,可防止由记录介质中的结构成分产生的因逆第尔斯-阿尔德反应引起产生的泛黄现象(专利文献5)。
作为颜料,即使化学式和组成、结构相同也可以有两种以上的颜料晶形,称为多晶形。如果举例,有酞菁蓝的α型、β型、ε型等,由于这些颜料在吸收系数和折射率不同时,色调和遮盖力就不同。有机颜料不仅可在涂料领域用作色料,而且即使在电子领域,也可以用于例如电子照片感光体的电荷产生剂、CD-R、DVD-R等的记录介质用色素、调色剂和喷墨打印机用油墨的着色剂、液晶显示元件用滤色镜色素、有机EL设备用发光材料等各种用途。其中,为了使有机颜料用于上述用途,首先需要高纯度,还需要具有特定的吸收特性。吸收特性受颜料的化学结构、粒径、颜料晶形、纯度等控制,特别是即使有机颜料是同一化学结构,也可以存在多个具有几个颜料晶形的物质,所以控制这些晶形,而且,同时如何高纯度地进行制备是开发新型有机颜料方面的重要点。
例如,虽然使用各种各样的有机颜料作为电子照片感光体的电荷产生材料,但是,近年来,强烈要求相对于作为半导体激光和LED光的振荡波长的近红外光,显示出高感度吸收的颜料。作为满足该要求的有机颜料,广泛研究了酞菁染料。酞菁染料不仅吸收光谱和光导性根据中心金属种类的不同而不同,而且它们的物性根据颜料晶形也有差别,并且公开了几个即使是相同中心金属的酞菁染料,在用于电子照片感光体时也选择特定的颜料晶形的例子。
就无金属酞菁染料来说,公开了X型的颜料晶形的光导性高,而且,即使相对于800nm以上的近红外光也具有感度,另外,就铜酞菁染料来说,公开了在多个颜料晶形中,ε型在最长波长处具有感度。但是,X型无金属酞菁染料是亚稳定型颜料晶形,并且难以制备,另外,具有难以获得稳定质量的缺点。另一方面,ε型铜酞菁染料与α型和β型的铜酞菁染料相比时,虽然分光感度在长波长处延伸,但是在800nm处与780nm相比较,急剧下降,并且形成了难以用于在振荡波长处具有变化的半导体激光用的性能。就铜酞菁染料来说,已知带电性、暗衰减、感度等根据α、β、γ、ε型等颜料晶形的不同具有较大差别(例如,非专利文献1),此外,还公开了从吸收光谱根据颜料晶形的不同而不同的观点考虑,分光感度也改变了(例如,非专利文献2)。
这样一来,众所周知由颜料晶形产生的电特性的不同与无金属酞菁染料和其它许多金属酞菁染料有关,并且就如何制作电特性良好的颜料晶形这一点进行了很多努力。另外,许多颜料在水中合成或者进行后处理,其中制备调整了大小和形状的一次粒子,但是由于在之后的工序、尤其是干燥工序中粒子彼此凝集形成二次粒子,所以需要在分散工序中对这些凝集的粒子进行微细化。
迄今为止,作为控制(或微细化)有机颜料晶形的方法,除了在合成阶段进行控制的方法外,通常是例如酸性胶合法、酸性浆液法等所谓的硫酸法(专利文献6);用溶剂研磨法、干磨法、盐磨法等粉碎法一旦溶解或形成非晶形后,转换为所希望的晶形的方法(非专利文献3);在加热条件下,使有机颜料加热溶解于溶剂后,慢慢冷却并使其结晶的方法(专利文献7)。另外,在有机薄膜中,就控制晶形的方法来说,通常是控制升华温度而获得所希望的晶形的方法(专利文献8)。
专利文献1:特开2003-327588号公报
专利文献2:特开平11-349877号公报
专利文献3:特开平10-31275号公报
专利文献4:特开平7-61117号公报
专利文献5:特开昭64-26444号公报
专利文献6:特开平5-72773号公报
专利文献7:特开2003-160738号公报
专利文献8:特开2003-003084号公报
专利文献9:特开2004-262807号公报
非专利文献1:染料和药品,第24卷6号,p122(1984)
非专利文献2:电子照片学会志第22卷、第2号,p111(1984)
非专利文献3:色材协会等,“第41回颜料入门讲座教材(1999)”
发明内容
但是,通常已知的上述方法以往仅在给与用于由颜料前体获得颜料晶体的能量的工序进行颜料化。其中得到的颜料具有晶形、粒径、凝集性、分散性等的偏差,并且满足所希望水平的颜料不稳定。
因此,本发明的目的在于提供获得颜料晶体(优选在固相中和液相中两者都可以适宜使用的晶体)所需的、纯度极高,而且,晶形、粒径、凝集性、分散性稳定,能够制备出所希望的稳定组成的颜料晶体的制备方法、以及作为用于实现该方法的中间体的中间化学物质。
本发明人等针对上述现有技术的课题,对由具有多环结构部分的颜料前体(优选使用逆第尔斯-阿尔德反应的),直接制备形成上述多环结构部分稳定的环状体的颜料晶体时,赋予外部能量的条件和此时颜料的生成和颜料晶体状态进行了详细研究。该结果,发现将作为初始阶段结构的颜料前体(S0)转变为作为最终阶段结构的颜料晶体(S3)时,在该过程中在颜料晶体结构上颜料前体(S0)和颜料晶体(S3)的结构不同,另外,还存在这种彼此结构不同的第1变位结构(S1)和第2变位结构(S2)的两种不同结构的中间化学物质。具体地讲,当颜料前体(S0)具有多环结构体时,其多环结构体进行变化,并将整体存在具有第1结构部分的状态识别为第1变位结构(S1),然后进行展开,将整体存在与第1结构不同的第2结构的状态识别为第2变位结构(S2)。当然,也会识别在各自中间存在的中间区域,即部分具有颜料前体(S0)并且大半是第1变位结构(S1)的区域,也会识别部分具有第1变位结构(S1)并且大半是第2变位结构(S2)、部分具有第2变位结构(S2)并且大半是形成多环结构体稳定的环状态的颜料晶体(S3)的区域。
于是,确立了一种颜料晶体制备方法,其严格规定了该两种变位结构(S1)、(S2)[本发明也考虑了上述中间区域]、和用于获得该变位结构的颜料结晶反应条件(赋予外部能量的条件),通过在将作为刚刚形成晶体前的结构的颜料前体(S0)转变为作为最终阶段结构的颜料晶体(S3)时的颜料结晶反应中用作中间体,可以制作出不能用以往的方法制备的、在固相中和液相中两者纯度都极高,而且控制所希望的晶形、粒径、凝集性、分散性的所希望的均匀组成的颜料晶体,至此完成了本发明。即,上述目的可通过下述各个本发明来实现。
本发明提供了以下内容:
[1]一种中间化学物质,其被用于颜料前体(S0)进行分子结构转变而获得颜料晶体(S3)的颜料晶体制备方法中,其特征在于该中间化学物质具有与上述颜料前体(S0)和上述颜料晶体(S3)不同的、第1变位结构(S1)或第2变位结构(S2)。
[2]作为本发明更优选的形式,[1]中记载的中间化学物质,其特征在于该分子结构转变由逆第尔斯-阿尔德反应产生。
本发明的另一种实施方式,[3]中间化学物质制备方法,该中间化学物质是在将颜料前体(S0)进行分子结构转变而获得颜料晶体(S3)的转变时产生的,而且具有与上述颜料前体(S0)和上述颜料晶体(S3)不同的第1变位结构(S1),其特征在于向上述颜料前体(S0)施加用于获得第1变位结构(S1)作为中间化学物质的制备条件。
[4]中间化学物质制备方法,该中间化学物质是在将颜料前体(S0)进行分子结构转变而获得颜料晶体(S3)的转变时产生的,而且具有与上述颜料前体(S0)和上述颜料晶体(S3)不同的第2变位结构(S2),其特征在于向上述颜料前体(S0)施加用于获得第2变位结构(S2)作为中间化学物质的制备条件。
[5]作为本发明更优选的形式,[3]或[4]中记载的中间体制备方法,其特征在于该分子结构转变由逆第尔斯-阿尔德反应产生。
本发明的另一种实施方式是用于使颜料前体(S0)进行分子结构转变而获得颜料晶体(S3)的下述列举的颜料晶体制备方法。
[6]一种颜料晶体制备方法,其特征在于使用具有与上述颜料前体(S0)和上述颜料晶体(S3)不同的第1变位结构(S1)的中间化学物质。
[7]一种颜料晶体制备方法,其特征在于使用具有与上述颜料前体(S0)和上述颜料晶体(S3)不同的第2变位结构(S2)的中间化学物质。
[8]一种颜料晶体制备方法,其特征在于该颜料晶体制备方法单独进行1)将上述颜料前体(S0)转变为上述第1变位结构(S1)的工序、2)将上述第1变位结构(S1)转变为上述第2变位结构(S2)的工序、和3)将上述第2变位结构(S2)转变为上述颜料晶体(S3)的工序。
[9]一种颜料晶体制备方法,其特征在于该颜料晶体制备方法连续地具有1)将上述颜料前体(S0)转变为上述第1变位结构(S1)的工序保持规定时间的工序、2)将上述第1变位结构(S1)转变为上述第2变位结构(S2)的工序保持规定时间的工序、和3)将上述第2变位结构(S2)转变为上述颜料晶体(S3)的工序保持规定时间的工序。
[10]作为本发明更优选的形式,[6]-[9]任何一项中记载的颜料晶体制备方法,其特征在于该分子结构转变由逆第尔斯-阿尔德反应产生。
[11]上述[10]中记载的颜料晶体制备方法,其特征在于颜料前体(S0)具有选自下述通式A、B、C、D表示的结构的至少一种结构。
(R1~R4各自独立地表示氢原子、或者直接或间接结合的给与溶剂可溶性的可溶性赋予基,R5~R8表示氢原子、或者直接或间接结合的取代基)。
[12]上述[6]-[11]任何一项中记载的颜料晶体制备方法,其特征在于上述颜料晶体(S3)是单晶。
本发明的另一种实施方式,[13]一种颜料晶体,其特征在于用上述[6]-[12]任何一项中记载的颜料晶体制备方法获得。
本发明的另一种实施方式,[14]一种喷墨记录方法,其特征在于上述[13]中记载的颜料晶体被用作喷墨记录用油墨用色料。
[15]一种记录图像,其由上述[13]中记载的颜料晶体形成。
根据本发明,提供了一种中间化学物质,其被用于由颜料前体(S0)获得颜料晶体(S3)的颜料晶体制备方法中,其特征在于其具有与上述颜料前体(S0)和上述颜料晶体(S3)不同的、第1变位结构(S1)和第2变位结构(S2)。
另外,通过在颜料结晶工序中使用上述中间化学物质的制备工艺,可提供可以在固相中和液相两者中适宜使用的、纯度极高,而且所希望的晶形、粒径、凝集性、分散性稳定,能够制备出所希望组成的颜料晶体的颜料晶体制备方法。
附图说明
图1是说明本发明的逆第尔斯-阿尔德反应的示意图。
图2是说明本发明的逆第尔斯-阿尔德反应的示意图。
图3是说明第尔斯-阿尔德反应的示意图。
图4是表示本发明中使用的硫靛蓝颜料颜料前体的合成方法的流程图。
图5是实施例中使用的硫靛蓝颜料颜料前体的、由CuKα特性X线产生的XRD谱图以及模拟结果(triclinic P-1)。
图6是将实施例中使用的硫靛蓝颜料颜料前体在200℃热处理5分钟所得颜料晶体的、由CuKα特性X线产生的XRD谱图以及模拟结果(P21/c)。
图7是市售的硫靛蓝颜料晶体的、由CuKα特性X线产生的XRD谱图以及模拟结果(P21/n)。
图8是由DSC-XRD产生的、使用逆第尔斯-阿尔德反应的有机颜料晶体生成工艺解析结果。
图9是表示本发明中使用的喹吖啶酮系颜料颜料前体的合成方法的流程图。
图10是将用本发明的颜料晶体制备方法获得各个变位结构的制备条件保持规定时间,同时连续制备时的能量曲线示意图。
具体实施方式
下面,通过列举实施发明的最佳方式,对本发明进行更加详细地说明。
[分子结构转变]
在这里,本发明所述的分子结构转变是指由外部向化合物赋予能量(搅拌混合、热能、光能、它们的组合等)时,该化合物的分子结构发生改变,例如,可以通过向具有溶剂可溶性基的有机化合物赋予能量,使溶剂可溶性基脱去,从而替换为不具有溶剂可溶性基的有机化合物,以及通过脱去部分原子,转变为多环结构部分稳定的一个环结构。具体地讲,可列举逆第尔斯-阿尔德反应、作为氨基保护反应的利用BOC基保护(丁氧基氧代羰基)和脱保护的潜在反应,其中可适当使用后述的逆第尔斯-阿尔德反应。
[逆第尔斯-阿尔德反应]
在这里,本发明所述的逆第尔斯-阿尔德反应是第尔斯-阿尔德反应的逆反应,但是与普通的二烯化合物和二烯亲和物化合物间的第尔斯-阿尔德反应系、即放热反应(第尔斯-阿尔德反应)、吸热反应(逆第尔斯-阿尔德反应)的平衡反应不同,指多环稠合结构脱去该结构中的一部分,形成芳香环的反应。这是作为本发明的分子结构转变优选的反应。例如,如图1和图2所示,在具有双环[2,2,2]辛二烯骨架的稠环结构部分的化合物(颜料前体化合物)中,使该稠环结构部分的交联部分作为乙烯化合物脱去,构筑芳香环(不可逆性)。
另外,本发明的逆第尔斯-阿尔德反应是指上述乙烯化合物在协奏反应脱去,构筑芳香环。所述协奏反应是不形成如离子种或自由基种的反应性中间体的反应,并且乙烯化合物的脱去反应可只使用颜料前体化合物分子内的构成元素终结。因此,其特点是在由颜料前体化合物脱去乙烯化合物的过程中不产生反应系的溶剂等和伴随副反应的杂质,无论在固相和液相的哪个之中都可以定量构筑芳香环。以上述特性为基础,由颜料前体化合物脱去乙烯化合物,进而进行颜料结晶化时,可以合成纯度极高的有机颜料晶体(单晶)。
另外,在该脱去部位(图1中和图2中的R1、R2、R3、R4)直接或间接引入溶剂溶解性良好的取代基时,可以改变化合物的溶剂溶解性。其中,该脱去部位具体地是R1~R4表示与脱去部分直接结合、或间接结合的可溶性赋予基,R5~R8表示并不限于可溶性赋予基的氢原子、或者取代基。其中R1~R4是与脱去部分结合,并且与脱去部分一起脱去的取代基,R5~R8是通过脱去部分的脱去构成的在芳香环上取代形式的取代基。只要不损害本发明的目的范围,即R1~R4、R5~R8的各个取代基的一部分通过脱去由前体的多环结构体形成“稳定的环状体”,就可以任选组合使用。该脱去所需的能量和附加物、催化剂也可以相对其结构任选使用。具体地讲,关于R1~R4,可列举氢原子、或用于向由水和水溶性有机溶剂组成的亲水性介质赋予可溶性的极性取代基,并且可列举含氧原子类的羟基、醇基类、氧化烯基类、羧基类,含氮原子类的氨基类,含硫原子类的磺基类。另外,除了极性基,还可列举烷基、芳基、烷氧基、巯基、酯基、卤原子等。此外,也可以根据需要如R1和R3、R2和R4各自彼此形成环状。
此时,通过逆第尔斯-阿尔德反应将具有溶剂可溶性赋予基的脱去部分脱去,该结果,转变为π共轭类构筑的化合物(溶剂不溶性化合物),但是此时,进一步地作为π共轭类构筑的结果,从分子的立体结构为体积大的结构出发,优选的方式是预先按照变化为平坦结构的方式构筑(设计)分子结构。即,这样一来,可以使本发明的颜料前体化合物(溶剂可溶性化合物)进行逆第尔斯-阿尔德反应,结果使得到的化合物(溶剂不溶性化合物)的集聚性和颜料结晶性变为所希望的特性。
另外,可以通过本发明的逆第尔斯-阿尔德反应使由该化合物脱去的部分(脱去部分)变为极稳定且安全性高的部分,也可以构筑如不会引起给体系带来坏影响的可逆反应、次要反应的反应。
此外,产生本发明的逆第尔斯-阿尔德反应的结构部位可以使用如图3所示的第尔斯-阿尔德反应进行构筑。该理由是由于与普通的逆第尔斯-阿尔德反应不同,图1和图2中记载的是不可逆反应,所以不会给本发明的效果带来任何阻碍。
[作为颜料晶体制备方法中使用的中间体的化学物质]
首先对由本发明的颜料前体(S0)获得颜料晶体(S3)的颜料晶体制备方法中使用的作为中间体的化学物质进行说明。
本发明的化学物质,其特征在于,其是在由上述颜料前体(S0)到上述颜料晶体(S3)之间,在与上述颜料前体(S0)和上述颜料晶体(S3)不同的,同时至少表现出彼此不同的第1变位结构(S1)和第2变位结构(S2)的结构变位工序中的上述第1变位结构(S1)或第2变位结构(S2)。
首先,向颜料前体(S0)施加外部能量E1~E2获得的第1变位结构(S1),颜料前体(S0)所具有的多环结构体结构通过外部能量转换为失去其结构的第1变位结构(S1)(称为第1阶段)。在该第1阶段的结构变位中,分子结构为在结构方面不具有峰的无定形状态或构成向结构再排列的预备阶段。例如,显而易见的是在硫靛蓝颜料前体的情况下该第1变位结构(S1)是颜料前体的无定形结构。这也可以从没有观察到XRD的峰来确认。
该第1变位结构通过被给与比E2更大的外部能量E3~E4,变为第2变位结构(S2)(称为第2阶段)。在该第2阶段的结构变位中,结构的一部分进行颜料结晶化或者局部产生作为向结晶化的预备阶段的峰。这也可由XRD的测量结果显而易见,是峰数比前体(S0)和颜料晶体(S3)的还少,晶体的面间隔宽且结晶性弱并且为不稳定的晶体。
此时如果不进一步地给与比E4还高的外部能量,则可以将化合物仍旧保持为第2变位结构(S2)。例如,显而易见的是在硫靛蓝颜料前体的情况下该第2变位结构(S2)变为比硫靛蓝颜料前体和硫靛蓝颜料晶体的周期还长的颜料晶体结构。当该第2变位结构具有无定形状态同时一部分进行颜料结晶化时,通常认为在固相中、液相中两者还存在易于以分子水平进行颜料结晶化、分散、分离等的效果。
于是,当给与比E4大的外部能量时,整个颜料前体通过分子结构转变促进结构变化的最终阶段的单晶化,生成单颜料晶形的颜料晶体(S3)。在硫靛蓝颜料前体的情况下该颜料晶体(S3)是P21/c晶形的单晶。
如上所述,在由颜料前体(S0)获得颜料晶体(S3)的颜料晶体制备方法中,作为该颜料结晶化的中间体,存在具有下述特点的化学物质:其是在由上述颜料前体(S0)到上述颜料晶体(S3)之间,在与上述颜料前体(S0)和上述颜料晶体(S3)不同的,同时至少表现出彼此不同的第1变位结构(S1)和第2变位结构(S2)的结构变位工序中的上述第1变位结构(S1)或第2变位结构(S2)。另外,结构变位的次数例如在硫靛蓝颜料前体的情况下是两次,但是根据颜料前体的种类,也可认为是两次以外。另外,随之而来的部位结构的种类在硫靛蓝颜料前体的情况下也是两种,但是根据颜料前体的种类,也可认为是二种以外。
如上所述本发明中作为颜料结晶化的中间体,可以通过掌握由上述颜料前体(S0)到上述颜料晶体(S3)的变位结构的生成、控制为了生成该变位结构所给与的外部能量,提供能够制作出所希望的均匀组成的颜料晶体的制备方法、和作为用于实现该制备方法的中间体的化学物质。
[本发明的颜料晶体制备方法中使用的颜料前体(S0)]
本发明的颜料晶体制备方法中使用的所述颜料前体(S0)是转变为颜料结构分子的前体。作为颜料晶体(S3),只要是可以合成目标的颜料前体(S0)的晶体,就可以是任何的颜料晶体(S3)。本发明中作为制造对象的颜料晶体,可适当列举例如无金属酞菁类、各种金属酞菁类、偶氮类、喹吖啶酮类、靛蓝类、苝类、多环醌类、苯并咪唑类、吡咯并吡咯类的各个有机颜料。
本发明的颜料晶体制备方法如上所述,为了由颜料前体(S0)利用分子结构转变获得颜料晶体(S3),必须在由上述颜料前体(S0)到上述颜料晶体(S3)之间,把与上述颜料前体(S0)和上述颜料晶体(S3)不同的、同时至少彼此不同的第1变位结构(S1)或第2变位结构(S2)的化学物质用作中间体。在颜料晶体制造工序中使用的相可以是固相中的颜料结晶化,也可以是液相中的颜料结晶化。此外,也可以通过将溶解于溶剂的颜料前体(S0)和第1变位结构(S1)和第2变位结构(S2)用普通的涂敷技术、精密印刷技术和喷墨记录方式等按照电路图案的方式涂敷在基板上,进行干燥,由形成各结构体薄膜的状态制备最终阶段的颜料晶体(S3)和所希望的均匀组成的颜料晶体。
作为将颜料前体(S0)转变为颜料晶体(S3)的简单方法,可列举加热的方法。此时作为加热的温度,适当的是50~400℃的温度范围。本发明的颜料晶体制备方法中适当使用的分子结构转变中,可以通过设计与反应有关的颜料前体化合物的分子结构,选择转变为各变位结构(S1和S2)和颜料晶体(S3)的温度、转变手段。因此,可以通过考虑所希望的颜料晶体的耐热性等,决定制备条件。
另外,进行分子结构转变的手段并不仅限于加热,根据该反应设计脱去颜料前体化合物的部分的结构时,也可以用照射紫外线、可见光线、电磁波等手段进行分子结构转变。尤其在作为目标的颜料晶体必须在制备过程中避免热滞后时,使用上述照射紫外线等的转变手段是有效的。
另外,在最终阶段的颜料晶体(S3)中成为哪个晶形影响决定颜料前体(S1)的颜料晶体结构、分子间相互作用等。因此一般认为可以通过颜料前体(S1)的分子设计转变为所希望的单颜料晶形的颜料晶体(S3)。
[关于本发明的中间体制备方法]
在将本发明的颜料前体(S0)进行分子结构转变获得颜料晶体(S3)的转变时产生,而且具有与上述颜料前体(S0)和上述颜料晶体(S3)不同结构的第1变位结构(S1)或第2变位结构(S2)的中间化学物质的制备方法,根据制备的中间化学物质的种类,区别为1)具有将上述颜料前体(S0)转变为第1变位结构(S1)的工序的方法、和2)具有将上述颜料前体(S0)转变为第2变位结构(S2)的工序的方法。这些中间体可以通过给与用于将颜料前体(S0)至第1变位结构(S1)的外部能量、或者用于由颜料前体(S0)至第2变位结构(S2)的外部能量,定量地制备各自的变位结构。另外,此时对于彼此相邻的变位结构(在这里是颜料前体(S0)和第1变位结构(S1)、以及第1变位结构(S1)和第2变位结构(S2))可以在本发明的中间化学物质制备方法中以任意的比例制备。
[关于本发明的颜料晶体制备方法]
为了由本发明的颜料前体(S0)利用分子结构转变获得颜料晶体(S3),把在由上述颜料前体(S0)到上述颜料晶体(S3)之间,与上述颜料前体(S0)和上述颜料晶体(S3)不同的,同时至少彼此不同的第1变位结构(S1)或第2变位结构(S2)的化学物质用作中间体的颜料晶体制备方法,区别为由第1变位结构(S1)到上述颜料晶体(S3)的制备方法、和由第2变位结构(S2)到上述颜料晶体(S3)的制备方法。这些颜料晶体(S3)可以通过给与用于将第1变位结构(S1)至颜料晶体(S3)的外部能量、或者用于由第2变位结构(S2)至颜料晶体(S3)的外部能量,定量地制备各自的颜料晶体(S3)。另外,此时对于彼此相邻的结构(在这里是第2变位结构(S2)和颜料晶体(S3))可以在本发明的颜料晶体制备方法中按照所希望的均匀组成制备。
另外,为了由颜料前体(S0)进行分子结构转变得到颜料晶体(S3),本发明的颜料晶体制备方法有将上述第1变位结构(S1)转变为上述颜料晶体(S3)、将第2变位结构(S2)转变为上述颜料晶体(S3)的方法。另外,还具有下述方法:通过分别独立地组合制造条件,一边确认在1)将上述颜料前体(S0)转变为上述第1变位结构(S1)的工序、2)将上述第1变位结构(S1)转变为上述第2变位结构(S2)的工序、和3)将上述第2变位结构(S2)转变为上述颜料晶体(S3)的工序的转变工序中生成的颜料晶体,一边逐次进行其次的工序。
此外,当连接各个工序连续地制备时,如图10所示,由颜料前体(S0)开始,给与成为第1变位结构(S1)的能量E1一定时间后,完全生成第1变位结构(S1),接着给与成为第2变位结构(S2)的能量E2一定时间后,完全生成第2变位结构(S2),然后给与成为颜料晶体(S3)的能量E3一定时间后,完全生成颜料晶体(S3),该能量E3是生成颜料晶体(S3)的能量,同时也是为了提高纯度给与的能量。
利用这些制备方法,可以确保由颜料前体(S0)按照组成的颜料晶体制备最终阶段的颜料晶体(S3)。
本发明的颜料晶体制备方法中,颜料晶体制备中利用的分子结构转变反应与以往的用颜料晶体转移的方法比较,由于以非常高的选择性进行,所以可以非常准确地进行使用DSC(差示扫描量热计)-XRD(X线衍射装置)等的反应解析、和随之而来的反应控制。利用该特点,如上所述,可以通过控制外部能量的赋予明确地区别颜料晶体的阶段,并可以制备以往不能实现的所希望稳定组成的颜料晶体。
(实施例)
下面,根据实施例更加具体地说明本发明,但是本发明的宗旨并不限于这些实施例。而且,除非特别声名,份和%是质量标准。
[实施例1]
<硫靛蓝颜料颜料前体化合物的合成>
根据图4中记载的流程图,合成实施本发明制备方法时使用的硫靛蓝颜料颜料前体化合物。而且,下述中使用了下面的缩写。
●THF:四氢呋喃
●DMF:二甲基甲酰胺
首先,合成中使用的化合物1按照Tetrahedrn Letters,Vol.22,No.35,1981,pp 3347-3350合成。下面,使用下述式中以[1]表示的化合物1,如下所述合成[2]。
首先,预备向50ml茄形烧瓶中加入氢化钠(NaH,0.062g,2.60mmol),在氮气置换条件下,加入干燥DMF(2ml),然后用水浴冷却。此外,向25ml茄形烧瓶中加入上述的[1](0.200g,0.62mmol),在氮气置换条件下,加入干燥DMF,加入硫代乙醇酸(0.090ml,1.30mmol),将其用转移试管慢慢地滴入刚才预备的50ml茄形烧瓶内,搅拌1小时。用TLC(薄层色谱法)确认反应结束后,向反应容器中加入0.1M柠檬酸水溶液直到pH为3,用醋酸乙酯进行萃取操作。用5%HCl洗涤萃取操作后的有机层,用无水硫酸钠干燥,然后在减压下进行浓缩。对得到的浓缩物用硅胶柱色谱法(展开溶剂:EtOAc/Hexane)进行精制,获得目标物[2](0.29g,收率:87.8%)。
接着,使用上述得到的下述[2]所示的化合物2,如下所述合成[3]。
首先,向25ml茄形烧瓶中,在氮气置换条件下,加入干燥THF(5.5ml)和二异丙酰胺(0.68ml,4.84mmol)后,冷却至0℃,向其中慢慢地加入正丁基锂。然后,预备将反应器冷却至-78℃。此外,预备向25ml茄形烧瓶中加入[2](0.325g,1.21mmol),在氮气置换条件下,加入干燥THF(2ml),将其用转移试管慢慢地滴入刚才的容器内,搅拌1小时。用TLC确认反应结束后,向反应容器中加入5%HCl直到pH为2,用醋酸乙酯进行萃取,用无水硫酸钠干燥有机层,进行浓缩。接着,使浓缩物溶解于二氯乙烷,滴加浓盐酸2、3滴,搅拌5小时,用水进行洗涤,用无水硫酸钠进行干燥浓缩。此外,用硅胶柱色谱法(EtOAc/Hexane)进行精制,获得目标物[3](0.16g,收率:74%)。
接着,使用上述得到的下述[3]所示的化合物3,如下所述合成[4]。
首先,预备向50ml茄形烧瓶中,加入上述得到的[3](0.120g,0.67mmol),在氮气置换条件下,加入干燥THF,将反应器冷却至-78℃。然后,另外,预备向25ml茄形烧瓶中,在氮气置换条件下,加入干燥THF(5.5ml)和二异丙酰胺(0.68ml,4.84mmol)后,冷却至0℃,慢慢地滴入正丁基锂。将其用转移试管加入刚才的50ml茄形烧瓶内,再加入碘(0.102g,0.80mmol),搅拌3小时。用水停止反应,用醋酸乙酯进行萃取操作,用无水硫酸钠干燥萃取操作后的有机层,在减压下进行浓缩。最后,用硅胶柱色谱法(EtOAc/Hexane)进行精制,获得目标物的硫靛蓝颜料前体[4](0.027g,收率:23%)。
接着,对由上述得到的硫靛蓝颜料前体的CuKα特性X线(波长=1.541)产生的X线衍射进行解析,结果晶格常数如表1所示。此时使用的装置是リガク社制的粉末X线衍射装置(XRD)RINT2000(商品名)。另外,图5中示出了用该装置测量的XRD谱图、和使用(株)リガク社制的颜料晶体结构解析软件Crystal Structure Ver.3.6.0模拟的结果。
表1:解析结果
晶格常数 | |
a | 5.891 |
b | 6.474 |
c | 10.710 |
α | 86.51 |
β | 79.61 |
γ | 84.09 |
对晶格常数进行解析,结果确认得到的物质是颜料晶形triclinic P-1的单一颜料晶体。接着,对将该硫靛蓝颜料前体在下述表2的颜料晶体(S3)的温度条件165.7℃以上加热处理第2变位结构(S2)得到的颜料晶体,图6中示出了由与上述相同的装置测量的CuKα特性X线(波长=1.541)产生的XRD谱图、和用与上述相同的颜料晶体结构解析软件,使用文献H.Von Eller,Bull Chem.Soc.Fr.,1955,106,1426中记载的P21/c(颜料晶形I)的晶格常数进行模拟的结果。
此外,对市售的硫靛蓝颜料晶体,图7中示出了由与上述相同的装置测量的CuKα特性X线(波长=1.541)产生的XRD谱图、和用与上述相同的颜料晶体结构解析软件,使用文献W.Haa Se-Wessel,M、Ohmasa and P.Susse,Naturwissenschaften,1977,64,435中记载的P21/n(颜料晶形II)的晶格常数进行模拟的结果。
如将如图5至图7比较时明显可知,使用本发明的颜料晶体的制备方法,可以极高的纯度(定量地),而且以晶形不混在的单晶形(均匀的晶形)制作出不能以市售品方式获得的晶形的硫靛蓝颜料晶体。
对上述得到的硫靛蓝颜料颜料前体,图8和表2中示出了通过用リガク社制的粉末X线衍射装置RI NT-Ultima II(X线衍射-差示扫描热量同时测量装置,商品名:XRD-DSCII)的CuKα特性X线(波长=1.541),对颜料前体(S0)、第1变位结构(S1)、第2变位结构(S2)、颜料晶体(S3),解析颜料晶体状态的结果。
表2:各区域的转变状态
反应温度环境 | 结构名称 | 布喇格角 |
142.7℃以下 | 硫靛蓝前体(相当于作为颜料前体的前体(S0)) | 8.38、15.78、16.40、16.84、18.74、19.64、22.70 |
142.8℃~148.4℃ | 无定形区域(相当于第1变位结构(S1)) | 由于无定形结构,没有峰 |
148.5℃~165.6℃ | 亚稳定晶体区域(相当于第2变位结构(S2)) | 7.02、15.00、15.64、25.42、25.96 |
165.7℃以上 | 稳定晶体区域(相当于晶体(S3)) | 8.72、11.26、14.46、14.52、23.96、25.32、25.86、26.40 |
如由该表中显而易见的是,在由颜料前体(S0)转变至第1变位结构(S1)的第1阶段的结构变位中,硫靛蓝颜料前体的分子结构为结构上不具有峰的无定形状态。在第2变位结构(S2)中局部5个地方产生了作为向结晶化的预备阶段的峰。这可以从XRD的测量结果理解为是由于峰数比前体(S0)的7个地方和颜料晶体(S3)的8个地方的还少,是晶体的面间隔宽且结晶性弱并且为不稳定的晶体。
如由图8和表2显而易见的是,在制作颜料前体化合物,通过加热该化合物进行颜料结晶化的实施本发明的颜料晶体制备方法的上述例子中,可以通过温度区域确认颜料晶体状态如下述进行变化。这意味着可以按照各反应温度区域控制以晶形为首的颜料晶体状态,并可确认可以通过灵活运用这些各个区域获得目标的所希望组成的颜料晶体。
即,上述的例子中,由图8和表2可知,首先,作为开始的逆第尔斯-阿尔德反应的前阶段的颜料前体(S0)是142.7℃以下。作为第1变位结构(S1),可知是142.8℃~148.4℃的范围。作为第2变位结构(S2),可知是148.5℃~165.6℃的范围。另外,作为颜料晶体(S3),可知在165.7℃以上生成。
因此,作为本发明的中间体制备方法,为了由颜料前体(S0)获得第1变位结构(S1),可以通过在142.8℃~148.4℃的范围内控制制备条件,获得均匀组成的第1变位结构(S1)。另外,为了由颜料前体(S0)获得第2变位结构(S2),可以通过在148.5℃~165.6℃的范围内控制制备条件,获得均匀组成的第2变位结构(S2)。进而,由中间体制备得到的第1变位结构(S1)和第2变位结构(S2)可以分别通过在165.7℃以上控制制备条件,获得均匀组成的颜料晶体(S3)。
[实施例2]
<喹吖啶酮颜料前体化合物的合成>
根据图9中记载的流程图,合成实施本发明制备方法时使用的喹吖啶酮颜料前体化合物。
首先,合成中使用的化合物1按照J.Org.Chem.,Vol.61,No.11.1996,pp3794-3798合成。下面,使用下述式中以[1]表示的化合物1,如下所述合成[2]。
首先,预备向50ml茄形烧瓶中加入[1](0.318g,2.60mmol),在氮气置换条件下,加入干燥CH2Cl2(2ml),然后用水浴冷却。此外,向25ml茄形烧瓶中加入氯代甲酸乙酯(0.284g,2.62mmol),在氮气置换条件下,加入干燥CH2Cl2,将其用转移试管慢慢地滴入刚才预备的50ml茄形烧瓶内,搅拌1小时。用TLC(薄层色谱法)确认反应结束后,结束反应,用醋酸乙酯进行萃取操作。用5%HCl洗涤萃取操作后的有机层,用无水硫酸钠干燥,然后在减压下进行浓缩。对得到的浓缩物用硅胶柱色谱法(展开溶剂:EtOAc/Hexane)进行精制,获得目标物[2](0.408g,收率:80.8%)。
接着,使用上述得到的下述[2]所示的化合物2,如下所述合成[3]。
首先,预备向50ml茄形烧瓶中,在氮气置换条件下,将干燥Et2O(20.5ml)和[2](0.777g,4.00mmol)冷却。此外,预备向25ml茄形烧瓶中加入1,4-苯二胺(0.216g,2.00mmol),在氮气置换条件下,加入干燥Et2O(15ml),将其用转移试管慢慢地滴入刚才的容器内,搅拌1小时。用TLC确认反应结束后,结束反应,用醋酸乙酯进行萃取,用无水硫酸钠干燥有机层,进行浓缩。此外,用硅胶柱色谱法(EtOAc/Hexane)进行精制,获得目标物[3](0.690g,收率:75%)。
接着,使用上述得到的下述[3]所示的化合物3,如下所述合成[4]。
首先,在100ml茄形烧瓶中,把DMSO(二甲基亚砜)30ml作为溶剂溶解上述得到的[3](0.921g,2.00mmol)。向其中加入叔丁醇钾,在50℃下加热搅拌1昼夜。用TLC确认反应结束后,用水停止反应,用醋酸乙酯进行萃取操作。用无水硫酸钠干燥萃取操作后的有机层,在减压下进行浓缩。最后,用硅胶柱色谱法(EtOH/Hexane)进行精制,获得目标物[4](0.728g,收率:90%)。
接着,使用上述得到的下述[4]所示的化合物4,如下所述合成[5]。
首先,在100ml茄形烧瓶中,把干燥DMSO(二甲基亚砜)30ml作为溶剂溶解上述得到的[4](0.808g,2.00mmol)。向其中加入多磷酸,在50℃下加热搅拌1昼夜。用TLC确认脱水闭环反应结束后,用水停止反应,用醋酸乙酯进行萃取操作。用无水硫酸钠干燥萃取操作后的有机层,在减压下进行浓缩。最后,用硅胶柱色谱法(EtOAc/Hexane)进行精制,获得目标物的喹吖啶酮颜料前体[5](0.331g,收率:45%)。
[实施例3]
<使用由实施例1的来自于第2变位结构(S2)的颜料晶体(S3)的颜料晶体制备方法得到的硫靛蓝颜料晶体的油墨>
将在颜料晶体(S3)的颜料结晶化条件下制备实施例1的第2变位结构(S2)得到的硫靛蓝颜料晶体用苯乙烯-丙烯酸共聚物系分散剂进行分散,使用得到的分散体、和含有水、甘油、乙二醇的溶剂,作成颜料浓度3.5%的油墨,并对得到的油墨进行显色性试验。
(显色性)
将上述制作的油墨装入佳能(株)制PIXUS950i用的墨盒,使用作为喷墨式图像形成装置的PIXUS950i形成图像。使用介质是佳能(株)制PR-101。对形成的图像,用肉眼进行观察,判断颜色的鲜明情况,结果除了均匀组成的颜料晶体(S3)以外,由于在没有混杂的所希望的颜料晶体状态下形成图像,所以可以获得显色性均匀的与以往不同的高显色性图像。
[实施例4]
<使用由实施例1的来自于第1变位结构(S1)的颜料晶体(S3)的颜料晶体制备方法得到的硫靛蓝颜料晶体的油墨>
首先,将在颜料晶体(S3)的颜料结晶化条件下制备实施例1的第1变位结构(S1)得到的硫靛蓝颜料晶体用苯乙烯-丙烯酸共聚物系分散剂进行分散。然后,将得到的分散体分别等量混合,使用该分散体、和含有水、甘油、乙二醇的溶剂,作成颜料浓度3.5%的油墨。对得到的油墨进行显色性试验。
(显色性)
将上述制作的油墨装入佳能(株)制PIXUS950i用的墨盒,使用作为喷墨式图像形成装置的PIXUS950i形成图像。使用介质是佳能(株)制PR-101。对形成的图像,用肉眼进行观察,判断颜色的鲜明情况,结果除了均匀组成的颜料晶体(S3)以外,由于在没有混杂的所希望的颜料晶体状态下形成图像,所以可以获得显色性均匀的与以往不同的高显色性图像。
[实施例5]
<使用由实施例2的喹吖啶酮颜料前体(S0)得到的喹吖啶酮颜料晶体(S3)的油墨>
将实施例2中合成的喹吖啶酮颜料前体化合物与实施例1相同地进行解析,在包含中间体的制备下逐次进行得到的喹吖啶酮颜料前体(S0)到颜料晶体(S3)的颜料结晶化过程,从而制备喹吖啶酮颜料晶体(S3)。将得到的喹吖啶酮颜料晶体用苯乙烯-丙烯酸共聚物系分散剂进行分散,使用得到的分散体、和含有水、甘油、乙二醇的溶剂,作成颜料浓度3.5%的油墨,并对得到的油墨进行显色性试验。
(显色性)
将上述制作的油墨装入佳能(株)制PIXUS950i用的墨盒,使用作为喷墨式图像形成装置的PIXUS950i形成图像。使用介质是佳能(株)制PR-101。对形成的图像,用肉眼进行观察,判断颜色的鲜明情况,结果除了均匀组成的颜料晶体(S3)以外,由于在没有混杂的所希望的颜料晶体状态下形成图像,所以可以获得兼具染色性和显色性的与以往不同的高显色性图像。
[实施例6]
<使用由实施例2的喹吖啶酮颜料前体(S0)得到的喹吖啶酮颜料晶体(S3)的油墨>
将实施例2中合成的喹吖啶酮颜料前体化合物与实施例1相同地进行解析,在各自的制备条件下一边将得到的喹吖啶酮颜料前体(S0)到颜料晶体(S3)的颜料结晶化过程保持一定时间,一边制备喹吖啶酮颜料晶体(S3)。将得到的喹吖啶酮颜料晶体用苯乙烯-丙烯酸共聚物系分散剂进行分散,然后,将得到的分散体分别等量混合,使用该分散体、和含有水、甘油、乙二醇的溶剂,作成颜料浓度3.5%的油墨。对得到的油墨进行显色性试验。
(显色性)
将上述制作的油墨装入佳能(株)制PIXUS950i用的墨盒,使用作为喷墨式图像形成装置的PIXUS950i形成图像。使用介质是佳能(株)制PR-101。对形成的图像,用肉眼进行观察,判断颜色的鲜明情况,结果,由于在颜料晶体和无定形体适当混杂的状态下形成图像,所以可以获得兼具染色性和显色性的与以往不同的高显色性图像。
产业上的可利用性
作为本发明的应用例,由于根据本发明的制备方法,可以极高的纯度制作出不能用以往的方法制备的、控制所希望的晶形、粒径、凝集性、分散性的颜料晶体,所以可以在各种用途中提供实现所希望的各种功能特性的颜料晶体,该结果,可以扩大颜料晶体的利用幅度。
本申请主张2004年9月8日申请的日本专利申请号第2004-261386的优先权,并且引用其内容作为本申请的一部分。
Claims (15)
1.中间化学物质,其被用于将颜料前体(S0)进行分子结构转变而获得颜料晶体(S3)的颜料晶体制备方法中,其特征在于该中间化学物质具有与上述颜料前体(S0)和上述颜料晶体(S3)不同的、第1变位结构(S1)或第2变位结构(S2)。
2.权利要求1记载的中间化学物质,其特征在于该分子结构转变由逆第尔斯-阿尔德反应产生。
3.中间化学物质制备方法,该中间化学物质是在将颜料前体(S0)进行分子结构转变而获得颜料晶体(S3)的转变时产生的,而且具有与上述颜料前体(S0)和上述颜料晶体(S3)不同的第1变位结构(S1),其特征在于向上述颜料前体(S0)施加用于获得第1变位结构(S1)作为中间化学物质的制备条件。
4.中间化学物质制备方法,该中间化学物质是在将颜料前体(S0)进行分子结构转变而获得颜料晶体(S3)的转变时产生的,而且具有与上述颜料前体(S0)和上述颜料晶体(S3)不同的第2变位结构(S2),其特征在于向上述颜料前体(S0)施加用于获得第2变位结构(S2)作为中间化学物质的制备条件。
5.权利要求3或4记载的中间体制备方法,其特征在于该分子结构转变由逆第尔斯-阿尔德反应产生。
6.颜料晶体制备方法,其是将颜料前体(S0)进行分子结构转变而获得颜料晶体(S3),其特征在于在上述分子结构转变时,使用具有与上述颜料前体(S0)和颜料晶体(S3)不同的第1变位结构(S1)的中间化学物质。
7.颜料晶体制备方法,其是将颜料前体(S0)进行分子结构转变而获得颜料晶体(S3),其特征在于在上述分子结构转变时,使用具有与上述颜料前体(S0)和上述颜料晶体(S3)不同的第2变位结构(S2)的中间化学物质。
8.颜料晶体制备方法,其是将颜料前体(S0)进行分子结构转变而获得颜料晶体(S3),使用在上述分子结构转变时产生的具有与上述颜料前体(S0)和上述颜料晶体(S3)不同的第1变位结构(S1)和第2变位结构(S2)的中间化学物质,其特征在于该颜料晶体制备方法单独进行
1)将上述颜料前体(S0)转变为上述第1变位结构(S1)的工序、
2)将上述第1变位结构(S1)转变为上述第2变位结构(S2)的工序、和
3)将上述第2变位结构(S2)转变为上述颜料晶体(S3)的工序。
9.颜料晶体制备方法,其是将颜料前体(S0)进行分子结构转变而获得颜料晶体(S3),使用在上述分子结构转变时产生的具有与上述颜料前体(S0)和上述颜料晶体(S3)不同的第1变位结构(S1)和第2变位结构(S2)的中间化学物质,其特征在于该颜料晶体制备方法连续地具有
1)将上述颜料前体(S0)转变为上述第1变位结构(S1)的工序保持规定时间的工序、
2)将上述第1变位结构(S1)转变为上述第2变位结构(S2)的工序保持规定时间的工序、和
3)将上述第2变位结构(S2)转变为上述颜料晶体(S3)的工序保持规定时间的工序。
10.权利要求6~9任何一项中记载的颜料晶体制备方法,其特征在于上述分子结构转变由逆第尔斯-阿尔德反应产生。
12.权利要求6~11任何一项中记载的颜料晶体制备方法,其特征在于上述颜料晶体(S3)是单晶。
13.颜料晶体,其特征在于用权利要求6~12任何一项中记载的颜料晶体制备方法获得。
14.喷墨记录方法,其特征在于权利要求13记载的颜料晶体被用作喷墨记录用油墨用色料。
15.记录图像,其由权利要求13记载的颜料晶体形成。
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