WO2024096023A1

WO2024096023A1 - ジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体の除去方法

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Publication number: WO2024096023A1
Application number: PCT/JP2023/039324
Authority: WO
Inventors: 宏希芹澤; 志央小宮
Original assignee: 中外製薬株式会社
Priority date: 2022-11-01
Filing date: 2023-10-31
Publication date: 2024-05-10

Abstract

亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンまたはこれらイオンを生じさせる化合物を捕捉剤として用いることで、ジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体を捕捉できるとともに、ジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体が再生することなく除去できることを見出した。また、Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基を脱保護する新たな方法、及び、ペプチドのようなアミノ基含有化合物を製造する新たな方法を見出した。

Description

ジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体の除去方法

　本発明は、ジベンゾフルベン（ＤＢＦ）またはジベンゾフルベン誘導体を除去する方法に関する。

　Ｆｍｏｃ（９－フルオレニルメトキシカルボニル）基は、ペプチド合成において、アミノ酸およびペプチドのアミノ基の保護基として広く用いられている。ペプチド合成には固相合成法と液相合成法があり、医薬品等の大量生産には液相合成法が用いられることが多い。Ｆｍｏｃ基は、塩基性条件下で容易に脱保護できるため、液相合成法においても、アミノ基の保護基として用いられている。

　しかしながら、Ｆｍｏｃ基の脱保護工程においてはジベンゾフルベンまたは脱保護に用いたアミンがジベンゾフルベンに付加した化合物（以下「アミン付加体」ともいう）が副生成物として生じる。当該副生成物を残留させたままペプチド合成を続けると、９－フルオレニルメチル化などの副反応を引き起こしうるため、この脱保護工程でジベンゾフルベンまたはアミン付加体を除去しなければならない。

　このジベンゾフルベンの除去手段は、捕捉剤としてアミンまたはチオールを用いてジベンゾフルベンをアミン付加体またはジベンゾフルベンにチオールが付加した化合物（以下「チオール付加体」ともいう）に変換し、トリチュレーションによって除去する手段（非特許文献１）、または炭化水素溶媒と極性有機溶媒を使用する分液によって除去する手段（特許文献１）が報告されている。また、特許文献２では、アミン付加体を含む反応混合物に二酸化炭素を接触さることでアミン付加体を炭酸塩として除去する手段が記載されている。さらに、捕捉剤としてチオカルボン酸、チオスルホン酸またはチオホスホン酸を用いてジベンゾフルベンをチオール付加体に変換し、続く塩基性水溶液による洗浄によって除去する手段（特許文献３－４）が報告されている。

国際公開第２００９／０１４１７７号国際公開第２０１０／０１６５５１号国際公開第２０１３／０８９２４１号特許第７０６３４０９号公報

J. E. Sheppeck II, et al. Tetrahedron Lett. 2000, No.41, vol.28, 5329-5333

　しかしながら、前記各文献に記載された方法では、ジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体を十分に除去できない、あるいは捕捉したジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体が除去中に再生してしまいジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体を除去しきれない可能性があった。したがって、本発明の課題は、ジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体を捕捉するとともに、ジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体が再生することなく除去することが可能な、ジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体の新たな除去方法を提供することにある。

　本発明者らは、ジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体の新たな除去方法について検討したところ、亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンまたはこれらのイオンを生じさせる化合物を捕捉剤として用いることで、ジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体を捕捉できるとともに、ジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体が再生することなく除去できることを見出し、本発明を完成するに至った。本発明者は、多種多様な合成過程、特に、アミノ基含有化合物の合成、例えば、ペプチドの合成に適用することができる。例えば、いくつかの実施例において、本発明は、Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基を脱保護する新たな方法も提供する。いくつかの具体例において、本発明はペプチドのようなアミノ基含有化合物を製造する新たな方法を提供する。

　すなわち、本発明は以下を含む。
〔１〕（１）以下の(i)と(ii)とを混合する工程を含む、ジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体の除去方法：
(i)ジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体、
(ii)亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンまたは亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンを生じさせる化合物。
〔１－１〕以下の（１）、（１’）、または（１’’）の工程を含むジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体の除去方法：
（１）以下の(i)と(ii)とを混合する工程：
(i)ジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体、
(ii)亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンまたは亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンを生じさせる化合物
（１’）以下の(i)と(ii)とを混合する工程：
(i)ジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体、
(ii)亜硫酸水素塩、二亜硫酸およびその塩、亜硫酸およびその塩、亜ジチオン酸およびその塩、ならびにそれらの溶媒和物からなる群より選択される少なくとも一種。
（１’’）（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸もしくはその塩、または（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸誘導体もしくはその塩を形成させる工程。
〔２〕（１’）以下の(i)と(ii)とを混合する工程を含む、ジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体の除去方法：
(i)ジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体、
(ii)亜硫酸水素塩、二亜硫酸およびその塩、亜硫酸およびその塩、亜ジチオン酸およびその塩、ならびにそれらの溶媒和物からなる群より選択される少なくとも一種。
〔３〕（１’’）（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸もしくはその塩、または（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸誘導体もしくはその塩を形成させる工程を含む、ジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体の除去方法。
〔４〕前記（１）または（１’）の工程において、（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸もしくはその塩、または（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸誘導体もしくはその塩を形成させる、〔１〕または〔２〕に記載の方法。
〔４－１〕（１’’’）(i)ジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体と、(ii)亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンまたは亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンを生じさせる化合物とを混合して、（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸もしくはその塩、または（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸誘導体もしくはその塩を形成させる工程を含む、ジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体が含まれる混合物からジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体を除去する方法。
〔４－２〕（１’’’’）(i)ジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体と、(ii)亜硫酸水素塩、二亜硫酸およびその塩、亜硫酸およびその塩、亜ジチオン酸およびその塩、ならびにそれらの溶媒和物からなる群より選択される少なくとも一種とを混合して、（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸もしくはその塩、または（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸誘導体もしくはその塩を形成させる工程を含む、ジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体が含まれる混合物からジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体を除去する方法。
〔５〕ジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体が含まれる混合物からジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体を除去する、〔１〕～〔４〕のいずれかに記載の方法。
〔６〕（２）前記（１）、（１’）、（１’’）、（１’’’）または（１’’’’）の工程前に、Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基でアミノ基が保護された第一のアミノ基含有化合物と脱保護剤を混合する工程を含む、〔１〕～〔５〕のいずれかに記載の方法。
〔６－１〕（２）前記（１）、（１’）、（１’’）、（１’’’）または（１’’’’）の工程前に、Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基でアミノ基が保護された第一のアミノ基含有化合物と、Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基を脱保護できる脱保護剤を混合する工程を含む、〔１〕～〔５〕のいずれかに記載の方法。
〔７〕前記（２）の工程により生じたジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体を前記（２）の混合物から除去する、〔６〕に記載の方法。
〔８〕（３）以下の(i)～(iii)を混合する工程を含む、ジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体の除去方法：
(i)Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基でアミノ基が保護された第一のアミノ基含有化合物、
(ii)脱保護剤、
(iii)亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンまたは亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンを生じさせる化合物。
〔８－１〕（３）以下の(i)～(iii)を混合する工程を含む、ジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体の除去方法：
(i)Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基でアミノ基が保護された第一のアミノ基含有化合物、
(ii)Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基を脱保護できる脱保護剤、
(iii)亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンまたは亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンを生じさせる化合物。
〔Ｂ１〕（３）以下の(i)～(iii)を混合する工程を含む、Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基を脱保護する方法：
(i)Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基でアミノ基が保護された第一のアミノ基含有化合物、
(ii)Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基を脱保護できる脱保護剤、
(iii)亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンまたは亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンを生じさせる化合物。
〔９〕（３’）以下の(i)～(iii)を混合する工程を含む、ジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体の除去方法：
(i)Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基でアミノ基が保護された第一のアミノ基含有化合物、
(ii)脱保護剤、
(iii)亜硫酸水素塩、二亜硫酸およびその塩、亜硫酸およびその塩、亜ジチオン酸およびその塩、ならびにそれらの溶媒和物からなる群より選択される少なくとも一種。
〔９－１〕（３’）以下の(i)～(iii)を混合する工程を含む、ジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体の除去方法：
(i)Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基でアミノ基が保護された第一のアミノ基含有化合物、
(ii)Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基を脱保護できる脱保護剤、
(iii)亜硫酸水素塩、二亜硫酸およびその塩、亜硫酸およびその塩、亜ジチオン酸およびその塩、ならびにそれらの溶媒和物からなる群より選択される少なくとも一種。
〔Ｂ１－１〕（３’）以下の(i)～(iii)を混合する工程を含む、Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基を脱保護する方法：
(i)Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基でアミノ基が保護された第一のアミノ基含有化合物、
(ii)Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基を脱保護できる脱保護剤、
(iii)亜硫酸水素塩、二亜硫酸およびその塩、亜硫酸およびその塩、亜ジチオン酸およびその塩、ならびにそれらの溶媒和物からなる群より選択される少なくとも一種。
〔９－２〕以下の（３）または（３’）の工程を含むジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体の除去方法：
（３）以下の(i)～(iii)を混合する工程
(i)Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基でアミノ基が保護された第一のアミノ基含有化合物、
(ii)Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基を脱保護できる脱保護剤、
(iii)亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンまたは亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンを生じさせる化合物
（３’）以下の(i)～(iii)を混合する工程
(i)Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基でアミノ基が保護された第一のアミノ基含有化合物、
(ii)Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基を脱保護できる脱保護剤、
(iii)亜硫酸水素塩、二亜硫酸およびその塩、亜硫酸およびその塩、亜ジチオン酸およびその塩、ならびにそれらの溶媒和物からなる群より選択される少なくとも一種。
〔Ｂ１－２〕以下の（３）または（３’）の工程を含む、Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基を脱保護する方法：
（３）以下の(i)～(iii)を混合する工程
(i)Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基でアミノ基が保護された第一のアミノ基含有化合物、
(ii)Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基を脱保護できる脱保護剤、
(iii)亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンまたは亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンを生じさせる化合物
（３’）以下の(i)～(iii)を混合する工程
(i)Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基でアミノ基が保護された第一のアミノ基含有化合物、
(ii)Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基を脱保護できる脱保護剤、
(iii)亜硫酸水素塩、二亜硫酸およびその塩、亜硫酸およびその塩、亜ジチオン酸およびその塩、ならびにそれらの溶媒和物からなる群より選択される少なくとも一種。
〔１０〕前記（３）または（３’）の工程において、（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸もしくはその塩、または（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸誘導体もしくはその塩を形成させる、〔８〕、〔９〕または〔Ｂ１〕に記載の方法。
〔１０－１〕（３）以下の(i)～(iii)を混合し、（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸もしくはその塩、または（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸誘導体もしくはその塩を形成させる工程を含む、ジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体が含まれる混合物からジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体を除去する方法：
(i)Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基でアミノ基が保護された第一のアミノ基含有化合物、
(ii)Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基を脱保護できる脱保護剤、
(iii)亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンまたは亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンを生じさせる化合物。
〔１０－２〕（３’）以下の(i)～(iii)を混合し、（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸もしくはその塩、または（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸誘導体もしくはその塩を形成させる工程を含む、ジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体が含まれる混合物からジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体を除去する方法
(i)Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基でアミノ基が保護された第一のアミノ基含有化合物、
(ii)Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基を脱保護できる脱保護剤、
(iii)亜硫酸水素塩、二亜硫酸およびその塩、亜硫酸およびその塩、亜ジチオン酸およびその塩、ならびにそれらの溶媒和物からなる群より選択される少なくとも一種。
〔１０－３〕以下の（３）または（３’）の工程を含む、ジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体が含まれる混合物からジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体を除去する方法：
（３）以下の(i)～(iii)を混合する工程
(i)Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基でアミノ基が保護された第一のアミノ基含有化合物、
(ii)Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基を脱保護できる脱保護剤、
(iii)亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンまたは亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンを生じさせる化合物
（３’）以下の(i)～(iii)を混合する工程
(i)Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基でアミノ基が保護された第一のアミノ基含有化合物、
(ii)Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基を脱保護できる脱保護剤、
(iii)亜硫酸水素塩、二亜硫酸およびその塩、亜硫酸およびその塩、亜ジチオン酸およびその塩、ならびにそれらの溶媒和物からなる群より選択される少なくとも一種。
〔Ｂ１－３〕（３）以下の(i)～(iii)を混合し、（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸もしくはその塩、または（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸誘導体もしくはその塩を形成させる工程を含む、Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基を脱保護する方法：
(i)Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基でアミノ基が保護された第一のアミノ基含有化合物、
(ii)Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基を脱保護できる脱保護剤、
(iii)亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンまたは亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンを生じさせる化合物。
〔Ｂ１－４〕（３’）以下の(i)～(iii)を混合し、（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸もしくはその塩、または（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸誘導体もしくはその塩を形成させる工程を含む、Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基を脱保護する方法：
(i)Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基でアミノ基が保護された第一のアミノ基含有化合物、
(ii)Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基を脱保護できる脱保護剤、
(iii) 亜硫酸水素塩、二亜硫酸およびその塩、亜硫酸およびその塩、亜ジチオン酸およびその塩、ならびにそれらの溶媒和物からなる群より選択される少なくとも一種。
〔Ｂ１－５〕以下の（３）または（３’）の工程を含む、Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基を脱保護する方法：
（３）以下の(i)～(iii)を混合する工程
(i)Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基でアミノ基が保護された第一のアミノ基含有化合物、
(ii)Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基を脱保護できる脱保護剤、
(iii)亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンまたは亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンを生じさせる化合物、
（３’）以下の(i)～(iii)を混合する工程
(i)Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基でアミノ基が保護された第一のアミノ基含有化合物、
(ii)Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基を脱保護できる脱保護剤、
(iii)亜硫酸水素塩、二亜硫酸およびその塩、亜硫酸およびその塩、亜ジチオン酸およびその塩、ならびにそれらの溶媒和物からなる群より選択される少なくとも一種。
〔１１〕ジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体が含まれる混合物からジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体を除去する、〔８〕～〔１０〕または〔Ｂ１〕のいずれかに記載の方法。
〔１２〕Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基でアミノ基が保護された第一のアミノ基含有化合物と脱保護剤を混合する工程により生じたジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体を前記（３）または（３’）の混合物から除去する、〔８〕～〔１１〕または〔Ｂ１〕のいずれかに記載の方法。
〔１２－１〕Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基でアミノ基が保護された第一のアミノ基含有化合物と、Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基を脱保護できる脱保護剤を混合する工程により生じたジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体を前記（３）または（３’）の混合物から除去する、〔８〕～〔１１〕または〔Ｂ１〕のいずれかに記載の方法。
〔１３〕（４）前記（１）、（１’）、（１’’）、（１’’’）、（１’’’’）、（３）または（３’）のうち、１つ以上の工程後の混合物を、洗浄用溶液で洗浄する工程を更に含む、〔１〕～〔１２〕または〔Ｂ１〕のいずれかに記載の方法。
〔１４〕前記（４）の工程において、前記混合物から、（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸もしくはその塩、または（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸誘導体もしくはその塩を除去する、〔１３〕に記載の方法。
〔１５〕前記ジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体が、下記式（１）で表される化合物である、〔１〕～〔１４〕または〔Ｂ１〕のいずれかに記載の方法。

（式中、
　Ｒ_１～Ｒ_８は、独立して、水素、Ｃ_１－Ｃ_８アルキル、Ｃ_１－Ｃ_８フルオロアルキル、ハロゲン、スルホ、およびトリメチルシリルからなる群より選択され、Ｒ_９～Ｒ_１０は、独立して、水素またはメチルである）。
〔１５－１〕前記ジベンゾフルベン誘導体が、下記式（１）で表される化合物である、〔１〕～〔１４〕または〔Ｂ１〕のいずれかに記載の方法。

（式中、
　Ｒ_１～Ｒ_８は、独立して、水素、Ｃ_１－Ｃ_８アルキル、Ｃ_１－Ｃ_８フルオロアルキル、ハロゲン、スルホ、およびトリメチルシリルからなる群より選択され、Ｒ_９～Ｒ_１０は、独立して、水素またはメチルであり、Ｒ_１～Ｒ_８のうちいずれか２つのみが水素ではない）。
〔１６〕前記ジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体が、ジベンゾフルベンである、〔１〕～〔１５〕または〔Ｂ１〕のいずれかに記載の方法。
〔１７〕前記（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸もしくはその塩、または（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸誘導体もしくはその塩が、下記式（２）で表される化合物もしくはその塩、または下記式（３）で表される化合物である、〔１－１〕、〔３〕～〔１６〕または〔Ｂ１〕のいずれかに記載の方法。

（式中、
　Ｒ_１～Ｒ_８は、独立して、水素、Ｃ_１－Ｃ_８アルキル、Ｃ_１－Ｃ_８フルオロアルキル、ハロゲン、スルホ、およびトリメチルシリルからなる群より選択され、Ｒ_９～Ｒ_１０は、独立して、水素またはメチルである）。

（式中、
　Ｒ_１～Ｒ_８は、独立して、水素、Ｃ_１－Ｃ_８アルキル、Ｃ_１－Ｃ_８フルオロアルキル、ハロゲン、スルホ、およびトリメチルシリルからなる群より選択され、Ｒ_９～Ｒ_１０は、独立して、水素またはメチルである）。
〔１７－１〕前記（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸誘導体もしくはその塩が、下記式（２）で表される化合物もしくはその塩、または下記式（３）で表される化合物である、〔１－１〕、〔３〕～〔１６〕または〔Ｂ１〕のいずれかに記載の方法。

（式中、
　Ｒ_１～Ｒ_８は、独立して、水素、Ｃ_１－Ｃ_８アルキル、Ｃ_１－Ｃ_８フルオロアルキル、ハロゲン、スルホ、およびトリメチルシリルからなる群より選択され、Ｒ_９～Ｒ_１０は、独立して、水素またはメチルであり、Ｒ_１～Ｒ_８のうちいずれか２つのみが水素ではない）。

（式中、
　Ｒ_１～Ｒ_８は、独立して、水素、Ｃ_１－Ｃ_８アルキル、Ｃ_１－Ｃ_８フルオロアルキル、ハロゲン、スルホ、およびトリメチルシリルからなる群より選択され、Ｒ_９～Ｒ_１０は、独立して、水素またはメチルであり、Ｒ_１～Ｒ_８のうちいずれか２つのみが水素ではない）。
〔１８〕前記Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基が、下記式（４）で表される化合物である、〔６〕～〔１７〕または〔Ｂ１〕のいずれかに記載の方法。

（式中、
　Ｒ_１～Ｒ_８は、独立して、水素、Ｃ_１－Ｃ_８アルキル、Ｃ_１－Ｃ_８フルオロアルキル、ハロゲン、スルホ、およびトリメチルシリルからなる群より選択され、Ｒ_９～Ｒ_１０は、独立して、水素またはメチルである。波線は、アミノ基との結合点を表す）。
〔１８－１〕前記Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基が、下記式（４）で表される化合物である、〔６〕～〔１７〕または〔Ｂ１〕のいずれかに記載の方法。

（式中、
　Ｒ_１～Ｒ_８は、独立して、水素、Ｃ_１－Ｃ_８アルキル、Ｃ_１－Ｃ_８フルオロアルキル、ハロゲン、スルホ、およびトリメチルシリルからなる群より選択され、Ｒ_９～Ｒ_１０は、独立して、水素またはメチルであり、Ｒ_１～Ｒ_８のうちいずれか２つのみが水素ではない。波線は、アミノ基との結合点を表す）。
〔１９〕前記Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基が、９－フルオレニルメチルオキシカルボニル（Ｆｍｏｃ）基、２，７－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－Ｆｍｏｃ（Ｆｍｏｃ（２，７ｔｂ））基、１－メチル－Ｆｍｏｃ（Ｆｍｏｃ（１Ｍｅ））基、２－フルオロ－Ｆｍｏｃ（Ｆｍｏｃ（２Ｆ））基、２，７－ジブロモ－Ｆｍｏｃ（Ｆｍｏｃ（２，７Ｂｒ））基、２－モノイソオクチル－Ｆｍｏｃ（ｍｉｏ－Ｆｍｏｃ）基、２，７－ジイソオクチル－Ｆｍｏｃ（ｄｉｏ－Ｆｍｏｃ）基、２，７－（３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８－トリデカフルオロオクチル）－Ｆｍｏｃ（ｔｄｆ－Ｆｍｏｃ）基、２，７－ビス（トリメチルシリル）－Ｆｍｏｃ（Ｆｍｏｃ（２ＴＭＳ））基、（２－スルホ－９Ｈ－フルオレン－９－イル）メチルオキシカルボニル基（Ｆｍｏｃ（２ｓｏ３ｈ））、［（１Ｓ）－１－（９Ｈ－フルオレン－９－イル）エトキシ］カルボニル基（ｓｍ－Ｆｍｏｃ）、または［（１Ｒ）－１－（９Ｈ－フルオレン－９－イル）エトキシ］カルボニル基（ｒｍ－Ｆｍｏｃ）である、〔６〕～〔１７〕または〔Ｂ１〕のいずれかに記載の方法。
〔２０〕前記Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基が、９－フルオレニルメチルオキシカルボニル基である、〔６〕～〔１９〕または〔Ｂ１〕のいずれかに記載の方法。
〔２１〕前記第一のアミノ基含有化合物が、ペプチド、アミノ酸、またはアミノ酸アミドである、〔６〕～〔２０〕または〔Ｂ１〕のいずれかに記載の方法。
〔２１－１〕前記第一のアミノ基含有化合物が、ペプチドまたはアミノ酸である、〔２１〕に記載の方法。
〔２２〕前記第一のアミノ基含有化合物が、ペプチドである、〔２１〕に記載の方法。
〔２２－１〕前記第一のアミノ基含有化合物が、アミノ酸である、〔２１〕に記載の方法。
〔２３〕前記亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンまたは亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンを生じさせる化合物が、ジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体を捕捉する、〔１〕および〔４〕～〔２２〕または〔Ｂ１〕のいずれかに記載の方法。
〔２４〕前記亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンまたは亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンを生じさせる化合物が、亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンである、〔１〕および〔４〕～〔２３〕または〔Ｂ１〕のいずれかに記載の方法。
〔２５〕前記亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンまたは亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンを生じさせる化合物が、亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンを生じさせる化合物である、〔１〕および〔４〕～〔２３〕または〔Ｂ１〕のいずれかに記載の方法。
〔２６〕前記亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンを生じさせる化合物が、亜硫酸水素塩、二亜硫酸およびその塩、亜硫酸およびその塩、亜ジチオン酸及びその塩、ならびにそれらの溶媒和物からなる群より選択される少なくとも一種である、〔２５〕に記載の方法。
〔２６－１〕前記亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンまたは亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンを生じさせる化合物が、亜硫酸水素塩、二亜硫酸およびその塩、亜硫酸およびその塩、亜ジチオン酸及びその塩、ならびにそれらの溶媒和物からなる群より選択される少なくとも一種である、〔１〕、〔４〕～〔２３〕または〔Ｂ１〕のいずれかに記載の方法。
〔２７〕前記亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンを生じさせる化合物が、亜硫酸水素塩、二亜硫酸塩、亜硫酸塩、および亜ジチオン酸塩、ならびにそれらの溶媒和物からなる群より選択される少なくとも一種である、〔２５〕に記載の方法。
〔２７－１〕前記亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンまたは亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンを生じさせる化合物が、亜硫酸水素塩、二亜硫酸塩、亜硫酸塩、および亜ジチオン酸塩、ならびにそれらの溶媒和物からなる群より選択される少なくとも一種である、〔１〕、〔４〕～〔２３〕または〔Ｂ１〕のいずれかに記載の方法。
〔２８〕前記亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンを生じさせる化合物が、亜硫酸水素塩、二亜硫酸塩、亜硫酸塩、および亜ジチオン酸塩、ならびにそれらの溶媒和物からなる群より選択される少なくとも１種であり、前記亜硫酸水素塩、二亜硫酸塩、亜硫酸塩、および亜ジチオン酸塩が、アルカリ金属、アルカリ土類金属、及びアンモニウムからなる群より選ばれる少なくとも一種との塩である、〔２５〕に記載の方法。
〔２８－１〕前記亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンまたは亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンを生じさせる化合物が、亜硫酸水素塩、二亜硫酸塩、亜硫酸塩、および亜ジチオン酸塩、ならびにそれらの溶媒和物からなる群より選択される少なくとも１種であり、前記亜硫酸水素塩、二亜硫酸塩、亜硫酸塩、および亜ジチオン酸塩が、アルカリ金属、アルカリ土類金属、及びアンモニウムからなる群より選ばれる少なくとも一種との塩である、〔１〕、〔４〕～〔２３〕または〔Ｂ１〕のいずれかに記載の方法。
〔２９〕前記亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンを生じさせる化合物が、亜硫酸水素塩、二亜硫酸塩、亜硫酸塩、および亜ジチオン酸塩、ならびにそれらの溶媒和物からなる群より選択される少なくとも一種であり、前記亜硫酸水素塩、二亜硫酸塩、亜硫酸塩、および亜ジチオン酸塩が、ナトリウム、カリウム、カルシウム、およびアンモニウムからなる群より選ばれる少なくとも一種との塩である、〔２５〕に記載の方法。
〔２９－１〕前記亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンまたは亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンを生じさせる化合物が、亜硫酸水素塩、二亜硫酸塩、亜硫酸塩、および亜ジチオン酸塩、ならびにそれらの溶媒和物からなる群より選択される少なくとも一種であり、前記亜硫酸水素塩、二亜硫酸塩、亜硫酸塩、および亜ジチオン酸塩が、ナトリウム、カリウム、カルシウム、およびアンモニウムからなる群より選ばれる少なくとも一種との塩である、〔１〕、〔４〕～〔２３〕または〔Ｂ１〕のいずれかに記載の方法。
〔３０－１〕前記亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンを生じさせる化合物が、亜硫酸水素ナトリウム、メタ重亜硫酸ナトリウム、亜硫酸水素カリウム、亜ジチオン酸ナトリウム、亜硫酸アンモニウム１水和物、亜硫酸カルシウム０．５水和物、亜硫酸ナトリウム、および亜硫酸カリウムからなる群より選択される少なくとも一種である、〔２５〕に記載の方法。
〔３０－２〕前記亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンまたは亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンを生じさせる化合物が、亜硫酸水素ナトリウム、メタ重亜硫酸ナトリウム、亜硫酸水素カリウム、亜ジチオン酸ナトリウム、亜硫酸アンモニウム１水和物、亜硫酸カルシウム０．５水和物、亜硫酸ナトリウム、および亜硫酸カリウムからなる群より選択される少なくとも一種である、〔１〕、〔４〕～〔２３〕または〔Ｂ１〕のいずれかに記載の方法。
〔３１〕前記亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンを生じさせる化合物が、亜硫酸水素ナトリウム、亜硫酸水素カリウム、および亜ジチオン酸ナトリウムからなる群より選択される少なくとも一種である、〔２５〕に記載の方法。
〔３１－１〕前記亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンまたは亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンを生じさせる化合物が、亜硫酸水素ナトリウム、亜硫酸水素カリウム、および亜ジチオン酸ナトリウムからなる群より選択される少なくとも一種である、〔１〕、〔４〕～〔２３〕または〔Ｂ１〕のいずれかに記載の方法。
〔３２〕前記（１）、（１’）、（１’’）、（１’’’）、（１’’’’）、（３）もしくは（３’）の工程において、添加剤を更に混合することを含む、〔１〕～〔３１〕または〔Ｂ１〕のいずれかに記載の方法。
〔３３〕前記添加剤が、第一の塩基である、〔３２〕に記載の方法。
〔３４〕前記第一の塩基が、第三級アミンである、〔３３〕に記載の方法。
〔３５〕前記第三級アミンが、トリエチルアミン、N,N-ジイソプロピルエチルアミン、および2,6-ルチジンからなる群より選択される少なくとも一種である、〔３４〕に記載の方法。
〔３６〕前記（１）、（１’）、（１’’）、（１’’’）、（１’’’’）、（３）または（３’）の工程において、水を更に混合することを含む、〔１〕～〔３５〕のいずれかに記載の方法。
〔３６－１〕前記（１）、（１’）、（１’’）、（１’’’）、（１’’’’）、（３）または（３’）の工程において、水を更に混合することを含まない、〔１〕～〔３５〕のいずれかに記載の方法。
〔３６－２〕前記水が、有機溶媒に含まれた状態の水ではない、〔３６〕に記載の方法。
〔３７〕前記脱保護剤が、第二の塩基である、〔６〕～〔３６〕または〔Ｂ１〕のいずれかに記載の方法。
〔３８〕前記第二の塩基が、アミジン骨格を有する有機塩基、第一級アミン、第二級アミン、第三級アミン、および無機塩基からなる群より選択される少なくとも一種である、〔３７〕に記載の方法（ただし、第一級アミン、第二級アミン、および第三級アミンはいずれも分子内にアミジン骨格を有しない）。
〔３９〕前記第二の塩基が、アミジン骨格を有する有機塩基である、〔３８〕に記載の方法。
〔４０〕前記アミジン骨格を有する有機塩基が、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ－７－エン（ＤＢＵ）、１，５－ジアザビシクロ［４．３．０］－５－ノネン（ＤＢＮ）、および7-メチル-1,5,7-トリアザビシクロ[4.4.0]デカ-5-エン（ＭＴＢＤ）からなる群より選択される少なくとも一種である、〔３９〕に記載の方法。
〔４１〕前記アミジン骨格を有する有機塩基が、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ－７－エン（ＤＢＵ）である、〔３９〕に記載の方法。
〔４２〕前記第二の塩基が、第一級アミンである、〔３７〕に記載の方法。
〔４３〕前記第一級アミンが、プロパン-1-アミンである、〔４２〕に記載の方法。
〔４４〕前記第二の塩基が、第二級アミンである、〔３７〕に記載の方法。
〔４５〕前記第二級アミンが、モルホリン、ジエチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、1,1,1,3,3,3-ヘキサメチルジシラザン、ピペリジン、ピロリジン、およびピペラジンからなる群より選択される少なくとも一種である、〔４４〕に記載の方法。
〔４６〕前記第二級アミンが、モルホリン、ジエチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、および1,1,1,3,3,3-ヘキサメチルジシラザンからなる群より選択される少なくとも一種である、〔４４〕に記載の方法。
〔４７〕前記第二の塩基が、第三級アミンである、〔３７〕に記載の方法。
〔４８〕前記第三級アミンが、トリエチルアミンである、〔４７〕に記載の方法。
〔４９〕前記第二の塩基が、無機塩基である、〔３７〕に記載の方法。
〔５０〕前記無機塩基が、炭酸塩、および金属アルコキシドからなる群より選択される少なくとも一種である、〔４９〕に記載の方法。
〔５１〕前記無機塩基が、炭酸ナトリウム、およびカリウム tert-ブトキシドからなる群より選択される少なくとも一種である、〔４９〕に記載の方法。
〔５２〕前記（１）、（１’）、（１’’）、（１’’’）、（１’’’’）、（２）、（３）または（３’）のうち、１つ以上の工程が、ニトリル系溶媒、アミド系溶媒、スルホキシド系溶媒、アルコール系溶媒およびエーテル系溶媒からなる群より選択される少なくとも一種を含む溶媒の存在下でおこなわれる、〔６〕～〔５１〕または〔Ｂ１〕のいずれかに記載の方法。
〔５３〕前記（１）、（１’）、（１’’）、（１’’’）、（１’’’’）、（２）、（３）または（３’）のうち、１つ以上の工程が、アセトニトリル、プロピオニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N-メチル-2-ピロリドン、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、メタノール、エタノール、n-プロパノール、2-プロパノール、テトラヒドロフラン、2-メチルテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテルおよびt-ブチルメチルエーテルからなる群より選択される少なくとも一種を含む溶媒の存在下でおこなわれる、〔６〕～〔５１〕または〔Ｂ１〕のいずれかに記載の方法。
〔５４〕前記（１）、（１’）、（１’’）、（１’’’）、（１’’’’）、および（２）のうち、１つ以上の工程が、アセトニトリル、ジメチルアセトアミド、2-メチルテトラヒドロフランおよびメタノールからなる群より選択される少なくとも一種を含む溶媒の存在下でおこなわれる、〔６〕～〔５１〕または〔Ｂ１〕のいずれかに記載の方法。
〔５４－１〕前記（１）、（１’）、（１’’）、（１’’’）、（１’’’’）、および（２）のうち、１つ以上の工程が、アセトニトリルを含む溶媒の存在下でおこなわれる、〔６〕～〔５１〕または〔Ｂ１〕のいずれかに記載の方法。
〔５４－２〕（３）または（３’）のうち１つ以上の工程が、アセトニトリル、メタノール、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、およびジメチルスルホキシドからなる群より選択される少なくとも一種を含む溶媒の存在下でおこなわれる、〔６〕～〔５１〕または〔Ｂ１〕のいずれかに記載の方法。
〔５４－１〕（３）または（３’）のうち１つ以上の工程が、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノンを含む溶媒の存在下でおこなわれる、〔６〕～〔５１〕または〔Ｂ１〕のいずれかに記載の方法。
〔５５〕前記洗浄用溶液が、１０～１４のｐＨを有する、〔１３〕～〔５４〕のいずれかに記載の方法。
〔５６〕前記洗浄用溶液が、アンモニア水溶液、炭酸塩水溶液、およびリン酸塩水溶液からなる群より選択される少なくとも一種を含む、〔１３〕～〔５４〕のいずれかに記載の方法。
〔５７〕前記洗浄用溶液が、アンモニア水溶液である、〔１３〕～〔５４〕のいずれかに記載の方法。
〔５８〕〔１〕～〔５７〕のいずれかに記載の方法を含む、第一の化合物の製造方法。
〔Ａ１〕以下の工程を含むペプチド化合物の製造方法：
１）亜硫酸イオンまたは亜硫酸水素イオンの存在下で、Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基を脱保護できる脱保護剤によりＦｍｏｃ骨格を有する保護基で保護された保護基ペプチドを処理し、保護基を除去した脱保護ペプチドを得る工程、
２）必要に応じて１種以上のアミノ酸で、脱保護されたペプチドを伸長させ、伸長させたペプチドを得る工程。
〔Ａ２〕以下の工程を含むペプチド化合物の製造方法：
１）アミノ基がＦｍｏｃ骨格を有する保護基により保護された保護ペプチドを、Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基を脱保護できる脱保護剤で処理し、（ａ）ジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体、及び（ｂ）保護基を除去した脱保護ペプチドの第一の混合物を得る工程；
２）第一の混合物を亜硫酸イオンまたは亜硫酸水素イオンで処理してジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体を除去し、脱保護されたペプチドを含む第二の混合物を得る工程、
３）必要に応じて１種以上のアミノ酸で、脱保護されたペプチドを伸長させ、伸長させたペプチドを得る工程。
〔Ａ３〕脱保護されたペプチドまたは伸長させたペプチドが、Ｃ末端側に１つの反応部位を有するアミノ酸残基を有し、Ｎ末端側に他の反応部位を有するアミノ酸残基を有し、更に、当該1つの反応部位と他の反応部位とが結合して環状ペプチド化合物を形成する工程を含む、〔Ａ１〕または〔Ａ２〕の方法。
〔５９〕前記第一の化合物がアミノ酸またはペプチドである、〔５８〕に記載の製造方法。
〔６０〕前記第一の化合物が（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸もしくはその塩、または（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸誘導体もしくはその塩である、〔５８〕に記載の製造方法。
〔６１〕液相合成法による、〔５８〕～〔６０〕のいずれかに記載の製造方法。
〔６２〕固相合成法による、〔５８〕～〔６０〕のいずれかに記載の製造方法。
〔６３〕前記（２）、（３）または（３’）の工程の前に、Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基でアミノ基が保護された第二のアミノ基含有化合物と、第三のアミノ基含有化合物とを縮合させて、Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基でアミノ基が保護された前記第一のアミノ基含有化合物を得る工程を更に含む、〔５８〕～〔６２〕のいずれかに記載の製造方法。
〔６４〕前記第二のアミノ基含有化合物が、カルボキシル基を有するアミノ基含有化合物である、〔６３〕に記載の製造方法。
〔６５〕前記第二のアミノ基含有化合物が、アミノ酸またはペプチドである、〔６３〕に記載の製造方法。
〔６６〕前記第二のアミノ基含有化合物が、アミノ酸である、〔６３〕に記載の製造方法。
〔６７〕前記第三のアミノ基含有化合物が、液相ペプチド合成用担体と結合していないアミノ基含有化合物である、〔６３〕～〔６６〕のいずれかに記載の製造方法。
〔６８〕前記液相ペプチド合成用担体が、前記第三のアミノ基含有化合物に直接またはリンカーを介して結合して、それらを有機溶媒に溶解性で水に不溶性にする化合物である、〔６７〕に記載の製造方法。
〔６８－１〕前記第三のアミノ基含有化合物が、液相ペプチド合成用担体と結合していないアミノ基含有化合物であり、前記液相ペプチド合成用担体が、前記第三のアミノ基含有化合物に直接またはリンカーを介して結合して、それらを有機溶媒に対する溶解性を高め、水に対する不溶性を高める化合物である、〔６３〕～〔６６〕のいずれかに記載の製造方法。
〔６９〕前記第三のアミノ基含有化合物が、ペプチド、アミノ酸、またはアミノ酸アミドである、〔６７〕に記載の製造方法。
〔７０〕Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基が、９－フルオレニルメチルオキシカルボニル基である、〔６３〕～〔６９〕のいずれかに記載の方法。
〔７１〕〔１〕～〔５７〕のいずれかに記載の方法を２回以上繰り返すことを含む、〔５８〕～〔７０〕のいずれかに記載の製造方法。
〔７１－１〕ジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体を除去するための以下の（ａ）および／または（ｂ）の使用：
（ａ）亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオン、または亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンを生成する化合物、
（ｂ）亜硫酸水素塩、二亜硫酸及びその塩、亜硫酸及びその塩、亜ジチオン酸及びその塩、並びにこれらの溶媒和物からなる群から選択される少なくとも一つの化合物。
〔７１－２〕Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基を脱保護するための以下の（ａ）および／または（ｂ）とＦｍｏｃ骨格を有する保護基を脱保護できる脱保護剤との併用：
（ａ）亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオン、または亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンを生成する化合物、
（ｂ）亜硫酸水素塩、二亜硫酸及びその塩、亜硫酸及びその塩、亜ジチオン酸及びその塩、並びにこれらの溶媒和物からなる群から選択される少なくとも一つの化合物。
〔７２〕アミノ基含有化合物、および（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸もしくはその塩、または（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸誘導体もしくはその塩を含む組成物であって、HPLC分析による210nmでのUVarea値により算出される、下記式Aで表される値が１％以下である組成物。
（式A）：（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸もしくはその塩、または（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸誘導体もしくはその塩の面積値/(アミノ基含有化合物の面積値＋（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸もしくはその塩、または（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸誘導体もしくはその塩の面積値)×100　(％)
〔７２－１〕アミノ基含有化合物、および（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸もしくはその塩、または（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸誘導体もしくはその塩を含む組成物であって、（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸もしくはその塩、または（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸誘導体もしくはその塩の含有割合が、アミノ基含有化合物及び（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸もしくはその塩、または（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸誘導体もしくはその塩に対して、０．０１以下である組成物。
〔７３〕前記（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸もしくはその塩、または（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸誘導体もしくはその塩が、（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸もしくはその塩である、〔７２〕に記載の組成物。
〔７４〕前記アミノ基含有化合物が、ペプチド、アミノ酸、またはアミノ酸アミドである、〔７２〕または〔７３〕に記載の組成物。

　上記番号付けにおいて、従属項が引用する番号は、特に言及がない限りその番号の枝番号が異なる番号をも含む。例えば、従属項において引用する〔７２〕は、〔７２〕とともに、〔７２－１〕を含むことを示す。他の番号付けにおいても同様である。

　本発明によれば、Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基の脱保護工程で生じるジベンゾフルベンを捕捉するとともに、ジベンゾフルベンが再生することなく除去することが可能な、ジベンゾフルベンの新たな除去方法を提供することができる。

（用語の定義）
　本明細書において「ジベンゾフルベン誘導体」とは、ジベンゾフルベンにおけるフルオレン環上の任意の位置に任意の置換基が導入された化合物を意味する。ジベンゾフルベン誘導体として、例えば下記式で表される化合物が挙げられる

（式中、
　Ｒ_１～Ｒ_８は、独立して、水素、Ｃ_１－Ｃ_８アルキル、Ｃ_１－Ｃ_８フルオロアルキル、ハロゲン、スルホ、およびトリメチルシリルからなる群より選択され、Ｒ_１～Ｒ_８の少なくとも一つは水素以外であり、Ｒ_９～Ｒ_１０は、独立して、水素またはメチルである）。
　ジベンゾフルベン誘導体は、Ｒ_１～Ｒ_８のうち１つ、２つ、３つ、または４つのみが水素ではないものが好ましく、Ｒ_１～Ｒ_８のうち１つ、または２つのみが水素ではないものがより好ましく、Ｒ_１～Ｒ_８のうち２つのみが水素ではないものが最も好ましい。

　本明細書において「（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸」および「（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸誘導体」とは、ジベンゾフルベンおよびジベンゾフルベン誘導体におけるエキソオレフィン上の末端に「－ＳＯ_３Ｈ」で表される基が導入された化合物を意味する。（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸および（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸誘導体として、例えば下記式で表される化合物が挙げられる

（式中、
　Ｒ_１～Ｒ_８は、独立して、水素、Ｃ_１－Ｃ_８アルキル、Ｃ_１－Ｃ_８フルオロアルキル、ハロゲン、スルホ、およびトリメチルシリルからなる群より選択され、Ｒ_９～Ｒ_１０は、独立して、水素またはメチルである）。
　（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸誘導体は、Ｒ_１～Ｒ_８のうち１つ、２つ、３つ、または４つのみが水素ではないものが好ましく、Ｒ_１～Ｒ_８のうち１つ、または２つのみが水素ではないものがより好ましく、Ｒ_１～Ｒ_８のうち２つのみが水素ではないものが最も好ましい。

　本明細書において「（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸の塩」および「（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸誘導体の塩」とは、ジベンゾフルベンおよびジベンゾフルベン誘導体におけるエキソオレフィン上に「－ＳＯ_３ ^－」で表される基が導入された化合物、またはジベンゾフルベンおよびジベンゾフルベン誘導体におけるエキソオレフィン上の末端に「－ＳＯ_３Ｈ」で表される基が導入された化合物の塩を意味する。本明細書に記載の化合物の塩は、例えば、アルカリ金属、アルカリ土類金属、及びアンモニウム（ＮＨ_４ ^＋）からなる群より選ばれる少なくとも一種との塩であることができる。（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸の塩および（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸誘導体の塩として、例えば下記式で表される化合物が挙げられる

（式中、
　Ｒ_１～Ｒ_８は、独立して、水素、Ｃ_１－Ｃ_８アルキル、Ｃ_１－Ｃ_８フルオロアルキル、ハロゲン、スルホ、およびトリメチルシリルからなる群より選択され、Ｒ_９～Ｒ_１０は、独立して、水素またはメチルである）。
　（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸誘導体の塩は、Ｒ_１～Ｒ_８のうち１つ、２つ、３つ、または４つのみが水素ではないものが好ましく、Ｒ_１～Ｒ_８のうち１つ、または２つのみが水素ではないものがより好ましく、Ｒ_１～Ｒ_８のうち２つのみが水素ではないものが最も好ましい。

　本明細書において「Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基」とは、Ｆｍｏｃ基またはＦｍｏｃ基の構成骨格の任意の位置に任意の置換基が導入された基を意味する。このようなＦｍｏｃ骨格を含む保護基として、具体的には例えば下記式で表される保護基が挙げられる

（式中、
　Ｒ_１～Ｒ_８は、独立して、水素、Ｃ_１－Ｃ_８アルキル、Ｃ_１－Ｃ_８フルオロアルキル、ハロゲン、スルホ、およびトリメチルシリルからなる群より選択され、
　Ｒ_９～Ｒ_１０は、独立して、水素またはメチルである。波線は、アミノ基との結合点を表す）。
　Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基は、Ｒ_１～Ｒ_８のうち１つ、２つ、３つ、または４つのみが水素ではないものが好ましく、Ｒ_１～Ｒ_８のうち１つ、または２つのみが水素ではないものがより好ましく、Ｒ_１～Ｒ_８のうち２つのみが水素ではないものが最も好ましい。

　Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基としてより具体的には、例えば、９－フルオレニルメチルオキシカルボニル（Ｆｍｏｃ）基、２，７－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－Ｆｍｏｃ（Ｆｍｏｃ（２，７ｔｂ））基、１－メチル－Ｆｍｏｃ（Ｆｍｏｃ（１Ｍｅ））基、２－フルオロ－Ｆｍｏｃ（Ｆｍｏｃ（２Ｆ））基、２，７－ジブロモ－Ｆｍｏｃ（Ｆｍｏｃ（２，７Ｂｒ））基、２－モノイソオクチル－Ｆｍｏｃ（ｍｉｏ－Ｆｍｏｃ）基、２，７－ジイソオクチル－Ｆｍｏｃ（ｄｉｏ－Ｆｍｏｃ）基、２，７－（３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８－トリデカフルオロオクチル）－Ｆｍｏｃ（ｔｄｆ－Ｆｍｏｃ）基、２，７－ビス（トリメチルシリル）－Ｆｍｏｃ（Ｆｍｏｃ（２ＴＭＳ））基、（２－スルホ－９Ｈ－フルオレン－９－イル）メチルオキシカルボニル基（Ｆｍｏｃ（２ｓｏ３ｈ））、［（１Ｓ）－１－（９Ｈ－フルオレン－９－イル）エトキシ］カルボニル基（ｓｍ－Ｆｍｏｃ）、［（１Ｒ）－１－（９Ｈ－フルオレン－９－イル）エトキシ］カルボニル基（ｒｍ－Ｆｍｏｃ）などが挙げられる。これらＦｍｏｃ骨格を有する保護基として好ましくはＦｍｏｃ基である。これらＦｍｏｃ骨格を有する保護基は、市販の試薬などを用い既知の方法により導入することができる。

　本明細書において、「保護基を除去する」は、「保護基を脱保護する」とも言う。

　本明細書において、「ジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体を捕捉する」とは、ジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体、および亜硫酸イオンまたは亜硫酸水素イオンの共存状態を経て、（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸もしくはその塩、または（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸誘導体もしくはその塩を形成することを意味する。

　本明細書において「亜硫酸イオン」とは、「ＳＯ_３ ^２－」で表されるイオンを、「亜硫酸水素イオン」とは「ＨＳＯ_３ ^－」で表されるイオンをそれぞれ意味する。また、本明細書において「亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンを生じさせる化合物」は、溶液中（好ましくは水溶液中）で電離することで亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンを生じさせる化合物であれば特に限定されず、例えば、亜硫酸水素塩、二亜硫酸（Ｈ_２Ｓ_２Ｏ_５）およびその塩、亜硫酸（Ｈ_２ＳＯ_３）およびその塩、亜ジチオン酸（Ｈ_２Ｓ_２Ｏ_４）及びその塩、ならびにそれらの溶媒和物などが挙げられる。亜硫酸水素塩、二亜硫酸塩、亜硫酸塩、および亜ジチオン酸塩としては、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属；カルシウム等のアルカリ土類金属、及びアンモニウムからなる群より選ばれる少なくとも一種との塩が挙げられる。亜硫酸水素塩の具体例としては、亜硫酸水素ナトリウム、亜硫酸水素カリウムなどが挙げられる。二亜硫酸塩の具体例としては、二亜硫酸ナトリウム（メタ重亜硫酸ナトリウム）、二亜硫酸カリウム（メタ重亜硫酸カリウム）などが挙げられる。亜硫酸塩の具体例としては、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸アンモニウム、亜硫酸カルシウムなどが挙げられる。亜ジチオン酸塩の具体例としては、亜ジチオン酸ナトリウム、亜ジチオン酸カリウムなどが挙げられる。

　本明細書における「ハロゲン」としては、Ｆ、Ｃｌ、ＢｒまたはＩが例示される。

　本明細書において「アルキル」とは、脂肪族炭化水素から任意の水素原子を１個除いて誘導される１価の基であり、骨格中にヘテロ原子（炭素及び水素原子以外の原子をいう。）または不飽和の炭素－炭素結合を含有せず、水素及び炭素原子を含有するヒドロカルビルまたは炭化水素基構造の部分集合を有する基である。アルキルは直鎖状のものだけでなく、分枝鎖状のものも含む。アルキルとして具体的には、炭素原子数１～２０（Ｃ_１－Ｃ_２０、以下「Ｃ_ｐ－Ｃ_ｑ」とは炭素原子数がｐ～ｑ個であることを意味する）のアルキルであり、好ましくはＣ_１－Ｃ_１０アルキル、より好ましくはＣ_１－Ｃ_８アルキル、更に好ましくはＣ_１－Ｃ_６アルキルが挙げられる。アルキルとして、具体的には、メチル、エチル、ｎ－プロピル、ｉ－プロピル、ｎ－ブチル、ｓ－ブチル、ｔ－ブチル、イソブチル（２－メチルプロピル）、ｎ－ペンチル、ｓ－ペンチル（１－メチルブチル）、ｔ－ペンチル（１，１－ジメチルプロピル）、ネオペンチル（２，２－ジメチルプロピル）、イソペンチル（３－メチルブチル）、３－ペンチル（１－エチルプロピル）、１，２－ジメチルプロピル、２－メチルブチル、ｎ－ヘキシル、１，１，２－トリメチルプロピル、１，２，２－トリメチルプロピル、１，１，２，２－テトラメチルプロピル、１，１－ジメチルブチル、１，２－ジメチルブチル、１，３－ジメチルブチル、２，２－ジメチルブチル、２，３－ジメチルブチル、３，３－ジメチルブチル、１－エチルブチル、２－エチルブチル等が挙げられる。

　本明細書において「フルオロアルキル」とは、前記定義の「アルキル」の１つまたは複数の水素原子がフッ素原子で置換された基を意味し、Ｃ_１－Ｃ_８フルオロアルキルが好ましい。フルオロアルキルとして具体的には、たとえば、モノフルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、２，２－ジフルオロエチル、２，２，２－トリフルオロエチル、３，３－ジフルオロプロピル、４，４－ジフルオロブチル、５，５－ジフルオロペンチル、３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８－トリデカフルオロオクチルなどが挙げられる。

　本明細書において「スルホ」とは、－ＳＯ_３Ｈで表される１価の基である。

　本明細書において「アルケニル」とは、少なくとも１個の二重結合（２個の隣接ＳＰ^２炭素原子）を有する１価の基である。二重結合および置換分（存在する場合）の配置によって、二重結合の幾何学的形態は、エントゲーゲン（Ｅ）またはツザンメン（Ｚ）、シスまたはトランス配置をとることができる。アルケニルは、直鎖状のものだけでなく、分枝鎖状ものも含む。アルケニルとして好ましくはＣ_２－Ｃ_１０アルケニル、より好ましくはＣ_２－Ｃ_６アルケニルが挙げられ、具体的には、たとえば、ビニル、アリル、１－プロペニル、２－プロペニル、１－ブテニル、２－ブテニル（シス、トランスを含む）、３－ブテニル、ペンテニル、３－メチル－２－ブテニル、ヘキセニルなどが挙げられる。

　本明細書において「アルキニル」とは、少なくとも１個の三重結合（２個の隣接ＳＰ炭素原子）を有する、１価の基である。アルキニルは、直鎖状のものだけでなく、分枝鎖状のものも含む。アルキニルとして好ましくはＣ_２－Ｃ_１０アルキニル、より好ましくはＣ_２－Ｃ_６アルキニルが挙げられ、具体的には、たとえば、エチニル、１－プロピニル、プロパルギル、３－ブチニル、ペンチニル、ヘキシニル、３－フェニル－２－プロピニル、３－（２'－フルオロフェニル）－２－プロピニル、２－ヒドロキシ－２－プロピニル、３－（３－フルオロフェニル）－２－プロピニル、３－メチル－（５－フェニル）－４－ペンチニルなどが挙げられる。

　本明細書において「アリール」とは１価の芳香族炭化水素環を意味し、好ましくはＣ_６－Ｃ_１０アリールが挙げられる。アリールとして具体的には、たとえば、フェニル、ナフチル（たとえば、１－ナフチル、２－ナフチル）などが挙げられる。

　本明細書において「ヘテロアリール」とは、炭素原子に加えて１～５個のヘテロ原子を含有する、芳香族性の環状の１価の基を意味する。環は単環でも、他の環との縮合環でもよく、部分的に飽和されていてもよい。環を構成する原子の数は好ましくは５～１０（５～１０員ヘテロアリール）であり、より好ましくは５～７（５～７員ヘテロアリール）である。ヘテロアリールとして具体的には、たとえば、フリル、チエニル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、オキサジアゾリル、チアジアゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、ピリジル、ピリミジル、ピリダジニル、ピラジニル、トリアジニル、ベンゾフラニル、ベンゾチエニル、ベンゾチアジアゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾオキサジアゾリル、ベンゾイミダゾリル、インドリル、イソインドリル、インダゾリル、キノリル、イソキノリル、シンノリニル、キナゾリニル、キノキサリニル、インドリジニル、イミダゾピリジルなどが挙げられる。

　本明細書において「アラルキル（アリールアルキル）」とは、前記定義の「アルキル」の少なくとも一つの水素原子が前記定義の「アリール」で置換された基を意味し、Ｃ_７－Ｃ_１４アラルキルが好ましく、Ｃ_７－Ｃ_１０アラルキルがより好ましい。アラルキルとして具体的には、たとえば、ベンジル、フェネチル、３－フェニルプロピルなどが挙げられる。

　本明細書において「ヘテロアリールアルキル（ヘテロアラルキル）」とは、前記定義の「アルキル」の少なくとも一つの水素原子が前記定義の「ヘテロアリール」で置換された基を意味し、５～１０員ヘテロアリールＣ_１－Ｃ_６アルキルが好ましく、５～１０員ヘテロアリールＣ_１－Ｃ_２アルキルがより好ましい。ヘテロアリールアルキルとして具体的には、たとえば、３－チエニルメチル、４－チアゾリルメチル、２－ピリジルメチル、３－ピリジルメチル、４－ピリジルメチル、２－（２－ピリジル）エチル、２－（３－ピリジル）エチル、２－（４－ピリジル）エチル、２－（６－キノリル）エチル、２－（７－キノリル）エチル、２－（６－インドリル）エチル、２－（５－インドリル）エチル、２－（５－ベンゾフラニル）エチルなどが挙げられる

　本明細書において「シクロアルキル」とは、飽和または部分的に飽和した環状の１価の脂肪族炭化水素基を意味し、単環、ビシクロ環（縮合環、架橋環、二環式スピロ環など）、および他の多環式環を含む。シクロアルキルとして好ましくはＣ_３－Ｃ_８シクロアルキルが挙げられ、具体的には、たとえば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、ビシクロ［２．２．１］ヘプチル、スピロ［３．３］ヘプチルなどが挙げられる。

　本明細書において「アルコキシ」とは、前記定義の「アルキル」が結合したオキシ基を意味し、好ましくはＣ_１－Ｃ_６アルコキシが挙げられる。アルコキシとして具体的には、たとえば、メトキシ、エトキシ、１－プロポキシ、２－プロポキシ、ｎ－ブトキシ、ｉ－ブトキシ、ｓ－ブトキシ、ｔ－ブトキシ、ペンチルオキシ、３－メチルブトキシなどが挙げられる。

　本明細書において「フルオロアルコキシ」とは、前記定義の「アルコキシ」の１つまたは複数の水素原子がフッ素原子で置換された基を意味し、Ｃ_１－Ｃ_８フルオロアルコキシが好ましい。フルオロアルコキシとして具体的には、たとえば、モノフルオロメトキシ、ジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキシなどが挙げられる。

　本明細書において「アミノ」とは、－ＮＲＲ’を意味し、ここで、ＲおよびＲ’はそれぞれ独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール、およびヘテロアリールからなる群から選択される、または、ＲおよびＲ’はそれらが結合している窒素原子と一緒になって環を形成した基を意味する。アミノとして、好ましくは－ＮＨ_２、モノＣ_１－Ｃ_６アルキルアミノ、ジＣ_１－Ｃ_６アルキルアミノ、４～８員環状アミノが挙げられる。

　本明細書において「アミノカルボニル」とは、前記定義の「アミノ」が結合したカルボニル基を意味し、好ましくは、－ＣＯＮＨ_２、モノＣ_１－Ｃ_６アルキルアミノカルボニル、ジＣ_１－Ｃ_６アルキルアミノカルボニル、４～８員環状アミノカルボニルが挙げられる。アミノカルボニルとして具体的には、例えば、－ＣＯＮＨ_２、ジメチルアミノカルボニル、１－アゼチジニルカルボニル、１－ピロリジニルカルボニル、１－ピペリジニルカルボニル、１－ピペラジニルカルボニル、４－モルホリニルカルボニル、３－オキサゾリジニルカルボニル、１，１－ジオキシドチオモルホリニル－４－イルカルボニル、３－オキサ－８－アザビシクロ［３．２．１］オクタン－８－イルカルボニルなどが挙げられる。

　本明細書において「アルキルスルホニル」とは、前記定義の「アルキル」が結合したスルホニル基を意味し、好ましくはＣ_１－Ｃ_６アルキルスルホニルが挙げられる。アルキルスルホニルとして具体的には、たとえば、メチルスルホニルなどが挙げられる。

　本明細書において「アルキルスルホニルアミノ」とは、前記定義の「アルキルスルホニル」が結合したアミノ基を意味し、好ましくはＣ_１－Ｃ_６アルキルスルホニルアミノが挙げられる。アルキルスルホニルアミノとして具体的には、たとえば、メチルスルホニルアミノなどが挙げられる。

　本明細書において「ヘテロシクリル」とは、炭素原子に加えて１～５個のヘテロ原子を含有する、非芳香族の環状の１価の基を意味する。ヘテロシクリルは、環中に二重およびまたは三重結合を有していてもよく、環中の炭素原子は酸化されてカルボニルを形成してもよく、単環でも縮合環でもよい。環を構成する原子の数は好ましくは４～１０であり（４～１０員ヘテロシクリル）、より好ましくは４～７である（４～７員ヘテロシクリル）。ヘテロシクリルとしては具体的には、たとえば、アゼチジニル、オキシラニル、オキセタニル、アゼチジニル、ジヒドロフリル、テトラヒドロフリル、ジヒドロピラニル、テトラヒドロピラニル、テトラヒドロピリジル、テトラヒドロピリミジル、モルホリニル、チオモルホリニル、ピロリジニル、ピペリジニル、ピペラジニル、ピラゾリジニル、イミダゾリニル、イミダゾリジニル、オキサゾリジニル、イソオキサゾリジニル、チアゾリジニル、イソチアゾリジニル、１，２－チアジナン、チアジアゾリジニル、アゼチジニル、オキサゾリドン、ベンゾジオキサニル、ベンゾオキサゾリル、ジオキソラニル、ジオキサニル、テトラヒドロピロロ[１,２－ｃ]イミダゾール、チエタニル、３，６－ジアザビシクロ［３．１．１］ヘプタニル、２，５－ジアザビシクロ［２．２．１］ヘプタニル、３－オキサ－８－アザビシクロ[３．２．１]オクタニル、スルタム、２－オキサスピロ[３．３]ヘプチルなどが挙げられる。

　本明細書において「溶媒和物」とは、化合物が溶媒とともに、一つの分子集団を形成したものをさす。その例としては、水和物、アルコール和物（エタノール和物、メタノール和物、１－プロパノール和物、２－プロパノール和物など）、ジメチルスルホキシドなどの単独の溶媒との溶媒和物だけでなく、化合物１分子に対して複数個の溶媒と溶媒和物を形成したもの、または化合物１分子に対して複数種類の溶媒と溶媒和物を形成したものなどが挙げられる。溶媒が水であれば水和物と言う。本発明の化合物の溶媒和物としては、水和物が好ましく、そのような水和物として具体的には０．５～１０水和物、好ましくは０．５～５水和物、さらに好ましくは０．５～３水和物が挙げられる。

　本明細書における「アミノ酸」には、天然アミノ酸、及び非天然アミノ酸が含まれる。また本明細書において「アミノ酸」はアミノ酸残基を意味することがある。本明細書における「天然アミノ酸」とは、Ｇｌｙ、Ｌ－Ａｌａ、Ｌ－Ｓｅｒ、Ｌ－Ｔｈｒ、Ｌ－Ｖａｌ、Ｌ－Ｌｅｕ、Ｌ－Ｉｌｅ、Ｌ－Ｐｈｅ、Ｌ－Ｔｙｒ、Ｌ－Ｔｒｐ、Ｌ－Ｈｉｓ、Ｌ－Ｇｌｕ、Ｌ－Ａｓｐ、Ｌ－Ｇｌｎ、Ｌ－Ａｓｎ、Ｌ－Ｃｙｓ、Ｌ－Ｍｅｔ、Ｌ－Ｌｙｓ、Ｌ－Ａｒｇ、Ｌ－Ｐｒｏを指す。非天然アミノ酸は特に限定されないが、β－アミノ酸、Ｄ型アミノ酸、Ｎ置換アミノ酸、α，α－ジ置換アミノ酸、側鎖が天然アミノ酸と異なるアミノ酸、ヒドロキシカルボン酸などが例示される。本明細書におけるアミノ酸としては、任意の立体配置が許容される。アミノ酸の側鎖の選択は特に制限を設けないが、水素原子の他にも例えばアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アラルキル基、ヘテロアラルキル基、シクロアルキル基、スピロ結合したシクロアルキル基から自由に選択される。それぞれには置換基が付与されていてもよく、それら置換基も制限されず、例えば、ハロゲン原子、Ｏ原子、Ｓ原子、Ｎ原子、Ｂ原子、Ｓｉ原子、またはＰ原子を含む任意の置換基の中から独立して１つまたは２つ以上自由に選択されてよい。すなわち、置換されていてもよいアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アラルキル基、シクロアルキル基など、または、オキソ、アミノカルボニル、ハロゲン原子などが例示される。非限定の一態様において、本明細書におけるアミノ酸は、同一分子内にカルボキシル基とアミノ基を有する化合物であってよい（この場合であっても、アミノ基の窒素原子と側鎖の任意の原子がと一緒になって環を形成したプロリン、ヒドロキシプロリン、アゼチジン-2-カルボン酸などもアミノ酸に含まれる。）

　本明細書において「アミノ酸アミド」とは、天然アミノ酸または非天然アミノ酸の少なくとも一つのカルボキシル基がアミド基に変換された化合物を意味する。

　本明細書における「ペプチド」は、２以上のアミノ酸がアミド結合によって連結した化合物を意味する。デプシペプチドのように主鎖の一部にエステル結合を有するペプチドも本明細書におけるペプチドに含まれる。ペプチドとして好ましくは２～２９残基、より好ましくは３～２０残基、さらに好ましくは４～１４残基のペプチドである。ペプチドおよびペプチド化合物は、直鎖ペプチドでも環状ペプチドでもよい。

　本明細書において「アミノ基含有化合物」とは、第一級アミノ基および／または第二級アミノ基を少なくとも一つ有する化合物を意味する。本明細書において「保護基でアミノ基が保護されたアミノ基含有化合物」とは、アミノ基含有化合物に含まれる第一級アミノ基および／または第二級アミノ基の少なくとも一つが、保護基により保護された化合物を意味する。

　本明細書において「置換されていてもよい」とは、ある基が任意の置換基によって置換されていてもよいことを意味する。さらにこれらそれぞれに置換基が付与されていてもよく、それら置換基も制限されず、例えば、ハロゲン原子、酸素原子、硫黄原子、窒素原子、ホウ素原子、ケイ素原子、またはリン原子を含む任意の置換基の中から独立して１つまたは２つ以上自由に選択されてよい。その置換基としては、例えば、アルキル、アルコキシ、フルオロアルキル、フルオロアルコキシ、オキソ、アミノカルボニル、アルキルスルホニル、アルキルスルホニルアミノ、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル、ハロゲン、ニトロ、アミノ、モノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、シアノ、カルボキシル、アルコキシカルボニルなどが例示される。

　本明細書において、ニトリル系溶媒としては、例えば、アセトニトリル、プロピオニトリルなどが挙げられる。

　本明細書において、アミド系溶媒としては、例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N-メチル-2-ピロリドン、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノンなどが挙げられる。

　本明細書において、スルホキシド系溶媒としては、例えば、ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシド、メチルエチルスルホキシド、メチルフェニルスルホキシドなどが挙げられる。

　本明細書において、アルコール系溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ－プロパノール、２－プロパノールなどが挙げられる。

　本明細書において、エーテル系溶媒としては、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、２－メチルテトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン、１，３－ジオキソラン、１，２－ジメトキシエタン、ジイソプロピルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、ｔ－ブチルメチルエーテル、４－メチルテトラヒドロピラン、ジグリム、トリグリム、テトラグリムなどが挙げられる。

　本明細書において、ベンゼン系溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、フルオロベンゼン、クロロベンゼン、１，２－ジクロロベンゼン、ブロモベンゼン、アニソール、エチルベンゼン、ニトロベンゼン、クメン、ベンゾトリフルオリドなどが挙げられる。

　本明細書において、エステル系溶媒としては、例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n-プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸n-ブチル、酢酸イソブチルなどが挙げられる。

　本明細書において「１つまたは複数の」とは、１つまたは２つ以上の数を意味する。「１つまたは複数の」が、ある基の置換基に関連する文脈で用いられる場合、この用語は、１つからその基が許容する置換基の最大数までの数を意味する。「１つまたは複数の」として具体的には、たとえば、１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、および／またはそれより大きい数が挙げられる。

　本明細書において、「および／または」との用語の意義は、「および」と「または」が適宜組み合わされたあらゆる組合せを含む。具体的には、例えば、「A、B、および／またはC」には、以下の７通りのバリエーションが含まれる；
(i) A、(ii) B、(iii) C、(iv) AおよびB、(v) AおよびC、(vi) BおよびC、(vii) A、B、およびC。

（除去方法）
　本発明のジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体の除去方法について説明する。ある局面において、ジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体は、以下の（１）、（１’）または（１’’）のいずれかの工程によって除去することができる。本明細書において、「ジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体を除去する」とは、ジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体を、（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸もしくはその塩、または（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸誘導体もしくはその塩に変換して除去することを含む。本発明のジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体の除去方法は、ジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体が含まれる混合物からジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体を除去する方法であってよい。

　本明細書において、「除去する」とは、特に限定されないが、例えば、対象を含んだ混合物全体の総量を基準として、対象を１％以下、０．５％以下、０．１％以下、または検出不能な量まで低減させることを意味する。本明細書において、「ジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体を除去する」とは、例えば、HPLC分析による210nmでのUVarea値により算出される、下記式Aで表される値を１％以下、０．５％以下、０．１％以下、または検出不能な量まで低減させることを意味する。
（式A）：（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸もしくはその塩、または（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸誘導体もしくはその塩の面積値/(アミノ基含有化合物の面積値＋（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸もしくはその塩、または（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸誘導体もしくはその塩の面積値)×100　(％)

工程（１）および（１’）
　工程（１）は、(i)ジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体、および(ii)亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンまたは亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンを生じさせる化合物を混合する工程である。また、工程（１’）は、(i)ジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体、および(ii)亜硫酸水素塩、二亜硫酸およびその塩、亜硫酸およびその塩、亜ジチオン酸およびその塩、ならびにそれらの溶媒和物からなる群より選択される少なくとも一種を混合する工程である。

　本発明においては、亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンまたはこれらを生じさせる化合物を捕捉剤として用い、ジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体を（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸もしくはその塩、または（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸誘導体もしくはその塩に変換することで、ジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体を除去することができる。

　工程（１）および（１’）では、(i)および(ii)そのものを混合してもよく、(i)および／または(ii)が以下に記載する溶媒に溶解した溶液を混合してもよい。本明細書において、「(i)と(ii)とを混合する」とは、(i)を(ii)に添加する行為、(ii)を(i)に添加する行為、および(i)と(ii)とを同時に添加する行為のいずれの態様も含む。ここで、「混合する」とは、混合する際に均質な混合物が得られることを必要としない。

　工程（１）および（１’）は、溶媒の存在または非存在下、好ましくは－２０℃～８０℃の温度、より好ましくは１０℃～８０℃の温度で、好ましくは０．１時間～４８時間、より好ましくは１時間～２４時間で行うことができる。

　(i)としては、ジベンゾフルベンが好ましく用いられる。また、工程（１’）における(ii)としては、亜硫酸水素塩、二亜硫酸塩、亜硫酸塩、および亜ジチオン酸塩、ならびにそれらの溶媒和物が好ましく用いられる。これらの中でも、亜硫酸水素、二亜硫酸、亜硫酸、および亜ジチオン酸と、アルカリ金属、アルカリ土類金属、およびアンモニウムからなる群より選ばれる少なくとも一種との塩が好ましく用いられ、亜硫酸水素、二亜硫酸、亜硫酸、および亜ジチオン酸と、ナトリウム、カリウム、カルシウム、およびアンモニウムからなる群より選ばれる少なくとも一種との塩がより好ましく用いられ、亜硫酸水素ナトリウム、メタ重亜硫酸ナトリウム、亜硫酸水素カリウム、亜ジチオン酸ナトリウム、亜硫酸アンモニウム１水和物、亜硫酸カルシウム０．５水和物、亜硫酸ナトリウム、および亜硫酸カリウムが更に好ましく用いられ、亜硫酸水素ナトリウム、亜硫酸水素カリウム、および亜ジチオン酸ナトリウムが特に好ましく用いられる。

　(ii)の使用量は、特に限定するものではないが、例えば、(i)に対して、１モル当量以上１０モル当量以下とすることが好ましく、１モル当量以上５モル当量以下とすることがより好ましい。

　溶媒としては、例えば、ニトリル系溶媒、アミド系溶媒、スルホキシド系溶媒、アルコール系溶媒およびエーテル系溶媒からなる群より選択される少なくとも一種を用いることができる。中でも、アセトニトリル、プロピオニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N-メチル-2-ピロリドン、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、メタノール、エタノール、n-プロパノール、2-プロパノール、テトラヒドロフラン、2-メチルテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテルおよびt-ブチルメチルエーテルからなる群より選択される少なくとも一種を含む溶媒が好ましく、アセトニトリル、ジメチルアセトアミド、メタノール、および2-メチルテトラヒドロフランからなる群より選択される少なくとも一種を含む溶媒がより好ましい。

　工程（１）および（１’）は、添加剤の存在下で行うことができる。添加剤としては、塩基を用いることができ、例えば、トリエチルアミン、N,N-ジイソプロピルエチルアミン、2,6-ルチジン等の第三級アミンが好ましく用いられ、トリエチルアミンがより好ましく用いられる。

　添加剤の使用量は、特に限定するものではないが、例えば、(i)に対して、１モル当量以上２０モル当量以下とすることが好ましく、１モル当量以上１０モル当量以下とすることがより好ましい。

　工程（１）および（１’）は、水の存在下または非存在下で行うことができるが、水の存在下で行うことが好ましい。水の使用量は、特に限定するものではないが、例えば、(i)に対して、１モル当量以上３００モル当量以下とすることが好ましく、１モル当量以上１００モル当量以下とすることがより好ましい。好ましくは、水は、有機溶媒に含まれた状態の水とは異なるものである。

工程（１’’）、（１’’’）および（１’’’’）
　工程（１’’）は、（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸もしくはその塩、または（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸誘導体もしくはその塩を形成させる工程である。（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸もしくはその塩、または（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸誘導体もしくはその塩を形成させる方法は特に限定されないが、例えば、上記した工程（１）または（１’）を行うことによって形成させることができる。
　工程（１’’’）は、ジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体を、亜硫酸イオンまたは亜硫酸水素イオンと反応させて（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸もしくはその塩、または（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸誘導体もしくはその塩を形成させる工程である。
　工程（１’’’’）は、ジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体と、亜硫酸水素塩、二亜硫酸およびその塩、亜硫酸およびその塩、亜ジチオン酸およびその塩、ならびにそれらの溶媒和物からなる群より選択される少なくとも一種とを混合して、（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸もしくはその塩、または（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸誘導体もしくはその塩を形成させる工程である。

　ある局面において、（１）、（１’）、（１’’）、（１’’’）または（１’’’’）のいずれかの工程前に、以下の（２）の工程を含んでもよい。

工程（２）
　工程（２）は、上記（１）、（１’）、（１’’）、（１’’’）または（１’’’’）の工程前に、Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基でアミノ基が保護された第一のアミノ基含有化合物と脱保護剤を混合する工程である。

　Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基でアミノ基が保護された第一のアミノ基含有化合物における「Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基」としては、９－フルオレニルメチルオキシカルボニル（Ｆｍｏｃ）基が好ましい。Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基でアミノ基が保護された第一のアミノ基含有化合物における「第一のアミノ基含有化合物」としては、ペプチド、アミノ酸、またはアミノ酸アミドが好ましく、ペプチドがより好ましい。ここで、ペプチド、アミノ酸、またはアミノ酸アミドは、固相合成用樹脂、または液相ペプチド合成用担体（例えば疎水性タグ）と結合したペプチド、アミノ酸、またはアミノ酸アミドを含む。液相ペプチド合成用担体の例は、例えば、特許文献４、特許第５１１３１１８号公報、特許第５９２９７５６号公報、特許第６０９２５１３号公報、特許第５７６８７１２号公報、特許第５８０３６７４号公報、特許第６１１６７８２号公報、特許第６２０１０７６号公報、特許第６２８３７７４号公報、特許第６２８３７７５号公報、特許第６３２２３５０号公報、特許第６３９３８５７号公報、特許第６５３１２３５号公報、国際公開第２０２０／１７５４７２号、国際公開第２０２０／１７５４７３号に記載の化合物が挙げられる。

　工程（２）は、溶媒の存在または非存在下、好ましくは－２０℃～８０℃の温度、より好ましくは１０℃～８０℃の温度で、好ましくは０．１時間～４８時間、より好ましくは０．５時間～２４時間で行うことができる。

　脱保護剤としては、Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基を脱保護できる脱保護剤が用いられる。脱保護剤としては、塩基を用いることができ、アミジン骨格を有する有機塩基、第一級アミン、第二級アミン、第三級アミン、無機塩基が挙げられる。アミジン骨格を有する有機塩基としては、例えば、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ－７－エン（ＤＢＵ）、１，５－ジアザビシクロ［４．３．０］－５－ノネン（ＤＢＮ）、7-メチル-1,5,7-トリアザビシクロ[4.4.0]デカ-5-エン（ＭＴＢＤ）などが挙げられ、これらの中でも、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ－７－エン（ＤＢＵ）が好ましく用いられる。第一級アミンとしては、例えば、プロパン-1-アミンなどが挙げられる。第二級アミンとしては、例えば、モルホリン、ジエチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、1,1,1,3,3,3-ヘキサメチルジシラザン、ピペリジン、ピロリジン、ピペラジンなどが挙げられ、これらの中でも、モルホリン、ジエチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、および1,1,1,3,3,3-ヘキサメチルジシラザンが好ましく用いられる。第三級アミンとしては、例えば、トリエチルアミンなどが挙げられる。無機塩基としては、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩；ナトリウムtert-ブトキシド、カリウムtert-ブトキシド等の金属アルコキシドなどが挙げられ、これらの中でも、炭酸ナトリウム、カリウムtert-ブトキシドが好ましく用いられる。

　脱保護剤の使用量は、特に限定するものではないが、例えば、Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基でアミノ基が保護された第一のアミノ基含有化合物に対して、０．５モル当量以上１０モル当量以下とすることが好ましく、１モル当量以上５モル当量以下とすることがより好ましい。

　ある局面において、ジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体は、以下の（３）または（３’）のいずれかの工程によって除去することができる。好ましくは、以下の（３）または（３’）のいずれかの工程によって生じた混合物からジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体を除去することができる。

工程（３）および（３’）
　工程（３）は、(i)Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基でアミノ基が保護された第一のアミノ基含有化合物、(ii)脱保護剤、および(iii)亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンまたは亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンを生じさせる化合物を混合する工程である。また、工程（３’）は、(i)Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基でアミノ基が保護された第一のアミノ基含有化合物、(ii)脱保護剤、および(iii)亜硫酸水素塩、二亜硫酸およびその塩、亜硫酸およびその塩、亜ジチオン酸およびその塩、ならびにそれらの溶媒和物からなる群より選択される少なくとも一種を混合する工程である。

　工程（３）および（３’）では、(i)、(ii)および(iii)そのものを混合してもよく、(i)、(ii)および／または(iii)が以下に記載する溶媒に溶解した溶液を混合してもよい。ここで、「(i)～(iii)を混合する」とは、(i)～(iii)のいずれかの成分に他の成分を順次添加する行為、および(i)～(iii)を同時に添加する行為のいずれの態様も含む。ここで、「混合する」とは、混合する際に均質な混合物が得られることを必要としない。

　(i)における「Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基」としては、９－フルオレニルメチルオキシカルボニル（Ｆｍｏｃ）基が好ましい。(i)における「第一のアミノ基含有化合物」としては、ペプチド、アミノ酸、またはアミノ酸アミドが好ましく、ペプチドまたはアミノ酸がより好ましい。ここで、ペプチド、アミノ酸、またはアミノ酸アミドは、固相合成用樹脂、または液相ペプチド合成用担体（例えば疎水性タグ）と結合したペプチド、アミノ酸、またはアミノ酸アミドを含む。上記液相ペプチド合成用担体としては、例えば、特許文献４、特許第５１１３１１８号公報、特許第５９２９７５６号公報、特許第６０９２５１３号公報、特許第５７６８７１２号公報、特許第５８０３６７４号公報、特許第６１１６７８２号公報、特許第６２０１０７６号公報、特許第６２８３７７４号公報、特許第６２８３７７５号公報、特許第６３２２３５０号公報、特許第６３９３８５７号公報、特許第６５３１２３５号公報、国際公開第２０２０／１７５４７２号、国際公開第２０２０／１７５４７３号に記載の化合物が挙げられる。

　(ii)脱保護剤としては、Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基を脱保護できる脱保護剤が用いられる。(ii)としては、塩基を用いることができ、アミジン骨格を有する有機塩基、第一級アミン、第二級アミン、第三級アミン、無機塩基が挙げられる。アミジン骨格を有する有機塩基としては、例えば、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ－７－エン（ＤＢＵ）、１，５－ジアザビシクロ［４．３．０］－５－ノネン（ＤＢＮ）、7-メチル-1,5,7-トリアザビシクロ［４．４．０］デカ－５－エン（ＭＴＢＤ）などが挙げられ、これらの中でも、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ－７－エン（ＤＢＵ）が好ましく用いられる。第一級アミンとしては、例えば、プロパン－１－アミンなどが挙げられる。第二級アミンとしては、例えば、モルホリン、ジエチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、1,1,1,3,3,3-ヘキサメチルジシラザン、ピペリジン、ピロリジン、ピペラジンなどが挙げられ、これらの中でも、モルホリン、ジエチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、および1,1,1,3,3,3-ヘキサメチルジシラザンが好ましく用いられる。第三級アミンとしては、例えば、トリエチルアミンなどが挙げられる。無機塩基としては、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩；ナトリウムtert-ブトキシド、カリウムtert-ブトキシド等の金属アルコキシドなどが挙げられ、これらの中でも、炭酸ナトリウム、カリウムtert-ブトキシドが好ましく用いられる。

　(ii)の使用量は、特に限定するものではないが、例えば、(i)に対して、０．５モル当量以上１０モル当量以下とすることが好ましく、１モル当量以上５モル当量以下とすることがより好ましい。

　工程（３’）における(iii)としては、亜硫酸水素塩、二亜硫酸塩、亜硫酸塩、および亜ジチオン酸塩、ならびにそれらの溶媒和物が好ましく用いられる。これらの中でも、亜硫酸水素、二亜硫酸、亜硫酸、および亜ジチオン酸と、アルカリ金属、アルカリ土類金属、およびアンモニウムからなる群より選ばれる少なくとも一種との塩が好ましく用いられ、亜硫酸水素、二亜硫酸、亜硫酸、および亜ジチオン酸と、ナトリウム、カリウム、カルシウム、およびアンモニウムからなる群より選ばれる少なくとも一種との塩がより好ましく用いられ、亜硫酸水素ナトリウム、メタ重亜硫酸ナトリウム、亜硫酸水素カリウム、亜ジチオン酸ナトリウム、亜硫酸アンモニウム１水和物、亜硫酸カルシウム０．５水和物、亜硫酸ナトリウム、および亜硫酸カリウムが更に好ましく用いられ、亜硫酸水素ナトリウム、亜硫酸水素カリウム、および亜ジチオン酸ナトリウムが特に好ましく用いられる。

　(iii)の使用量は、特に限定するものではないが、例えば、(i)に対して、１モル当量以上１０モル当量以下とすることが好ましく、１モルモル当量以上５モルモル当量以下とすることがより好ましい。

　工程（３）および（３’）は、溶媒の存在または非存在下、好ましくは－２０℃～８０℃の温度、より好ましくは１０℃～８０℃の温度で、好ましくは１時間～４８時間、より好ましくは１時間～２４時間で行うことができる。

　溶媒としては、例えば、ニトリル系溶媒、アミド系溶媒、スルホキシド系溶媒、アルコール系溶媒およびエーテル系溶媒からなる群より選択される少なくとも一種を用いることができる。中でも、アセトニトリル、プロピオニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N-メチル-2-ピロリドン、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、メタノール、エタノール、n-プロパノール、2-プロパノール、テトラヒドロフラン、2-メチルテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテルおよびt-ブチルメチルエーテルからなる群より選択される少なくとも一種を含む溶媒が好ましく、アセトニトリル、ジメチルアセトアミド、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、メタノール、および2-メチルテトラヒドロフランからなる群より選択される少なくとも一種を含む溶媒がより好ましい。

　工程（３）および（３’）は、添加剤の存在下で行うことができる。一部の実施形態では、工程（３）および（３’）は、添加剤なしで実施される。添加剤としては、塩基を用いることができ、例えば、トリエチルアミン、N,N-ジイソプロピルエチルアミン、2,6-ルチジン等の第三級アミンが好ましく用いられ、トリエチルアミンがより好ましく用いられる。

　工程（３）および（３’）は、水の存在下または非存在下で行うことができるが、水の存在下で行うことが好ましい。水の使用量は、特に限定するものではないが、例えば、(i)に対して、１モル当量以上３００モル当量以下とすることが好ましく、１モル当量以上１００モル当量以下とすることがより好ましい。好ましくは、水は、有機溶媒に含まれた状態の水ではないものである。

　ある局面において、（１）、（１’）、（１’’）、（１’’’）、（１’’’’）、（３）または（３’）のうち、１つ以上の工程後に、以下の（４）の工程を含んでもよい。

工程（４）
　工程（４）は、（１）、（１’）、（１’’）、（１’’’）、（１’’’’）、（３）または（３’）のうち、１つ以上の工程後の混合物を、洗浄用溶液で洗浄する工程である。本工程により、混合物中のジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体（好ましくは（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸もしくはその塩、または（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸誘導体もしくはその塩）を（１）、（１’）、（１’’）、（１’’’）、（１’’’’）、（３）または（３’）のうち、１つ以上の工程後の混合物である有機溶液から効率的に除去することができる。本明細書において、「洗浄」とは、分液操作によって、目的物を含む溶液から、目的物を含まない溶液を用いて、目的物以外の不純物となりうる物質を取り除くことを意味する。目的物は、通常、有機層に存在しており、この場合には有機層を水溶液で洗浄することにより、水層に不純物となりうる物質を抽出して取り除くことができる。

　洗浄用溶液としては、塩基性溶液（ｐＨ１０～１４）、通常、ｐＨ１０～１４の塩基性水溶液を用いることが好ましい。洗浄用溶液として、好ましくはアンモニア水溶液、炭酸塩水溶液、およびリン酸塩水溶液からなる群より選択される少なくとも一種であり、より好ましくはアンモニア水溶液である。炭酸塩溶液は、例えば、炭酸ナトリウム水溶液であってよい。リン酸塩水溶液は、例えば、リン酸カリウム水溶液であってよい。

　工程（４）においては、混合物中からＦｍｏｃ骨格を有する保護基が脱保護されたアミノ基含有化合物を効率よく抽出するために抽出溶媒を用いることが好ましい。このような抽出溶媒としては、例えば、ベンゼン系溶媒、エステル系溶媒およびエーテル系溶媒およからなる群より選択される少なくとも一種を用いることができる。中でも、ベンゼン、トルエン、キシレン、フルオロベンゼン、クロロベンゼン、１，２－ジクロロベンゼン、ブロモベンゼン、アニソール、エチルベンゼン、ニトロベンゼン、クメン、ベンゾトリフルオリド、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n-プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸n-ブチル、酢酸イソブチル、2-メチルテトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテルおよびt-ブチルメチルエーテルからなる群より選択される少なくとも一種を含む溶媒が好ましく、トルエン、酢酸イソプロピルおよび2-メチルテトラヒドロフランからなる群より選択される少なくとも一種を含む溶媒がより好ましい。

（化合物の製造方法）
　一局面において本発明は、上記したジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体の除去方法を含む、第一の化合物の製造方法を提供する。当該方法によって製造される第一の化合物は特に限定されないが、例えば、アミノ酸、ペプチドなどが挙げられる。また、ある局面において、本発明の製造方法により、（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸もしくはその塩、または（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸誘導体もしくはその塩を製造することができる。
　一局面において本発明は、以下の工程を含むペプチド化合物の製造方法を提供する。
１）亜硫酸イオンまたは亜硫酸水素イオンの存在下で、Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基を脱保護できる脱保護剤によりＦｍｏｃ骨格を有する保護基で保護された保護基ペプチドを処理し、保護基を除去した脱保護ペプチドを得る工程、
２）必要に応じて１種以上のアミノ酸で脱保護されたペプチドを伸長させ、伸長させたペプチドを得る工程。
　一局面において本発明は、以下の工程を含むペプチド化合物の製造方法を提出する。
１）アミノ基がＦｍｏｃ骨格を有する保護基により保護された保護ペプチドを、Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基を脱保護できる脱保護剤で処理し、（ａ）ジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体、及び（ｂ）保護基を除去した脱保護ペプチドの第一の混合物を得る工程；
２）第一の混合物を亜硫酸イオンまたは亜硫酸水素イオンで処理してジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体を除去し、脱保護されたペプチドを含む第二の混合物を得る工程、
３）必要に応じて１種以上のアミノ酸で脱保護されたペプチドを伸長させ、伸長させたペプチドを得る工程。
　本発明の製造方法において、脱保護されたペプチドまたは伸長させたペプチドが、Ｃ末端側に１つの反応部位を有するアミノ酸残基を有していてよく、Ｎ末端側に他の反応部位を有するアミノ酸残基を有していてよく、本発明の製造方法は、更に、当該１つの反応部位と他の反応部位とが結合して環状ペプチド化合物を形成する工程を含んでもよい。

　本発明の製造方法は、液相合成法、固相合成法の何れであってもよく、これらに限定されるものでもないが、液相合成法が好ましい。液相合成法および固相合成法は当業者に周知の方法で実施することができる。

　固相合成法とは、化合物を固相（合成用樹脂）に結合させ、その固相上で前記化合物と試薬を化学反応させ目的の化合物を合成する方法である。
　ペプチドの固相合成法は、固相に所望のアミノ酸またはペプチドを結合させ、固相に結合したアミノ酸またはペプチドに対して更に所望のアミノ酸またはペプチドを順次連結することでペプチド鎖を伸長し、固相に結合したままペプチドを合成する方法である。この固相に結合されたペプチドを固相から切り離すことで、目的のペプチドを得ることができる。

　液相合成法とは、化合物を液相中（溶液中）で化学反応をさせ目的の化合物を合成する方法である。ペプチドの液相合成法は、アミノ酸並びにペプチドを含む全ての試薬が溶媒に溶解している均一反応に加えて、試薬の全部または一部が溶媒に溶解せず、分散または懸濁している不均一反応も包含する。

　本発明の製造方法は、上記除去方法における（２）、（３）または（３’）のうち１つ以上の工程の前に、Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基でアミノ基が保護された第二のアミノ基含有化合物と、第三のアミノ基含有化合物とを縮合させて、Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基でアミノ基が保護された前記第一のアミノ基含有化合物を得る工程を更に含むものであってもよい。

　Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基でアミノ基が保護された第二のアミノ基含有化合物における「Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基」としては、９－フルオレニルメチルオキシカルボニル（Ｆｍｏｃ）基が好ましい。Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基でアミノ基が保護された第二のアミノ基含有化合物における「第二のアミノ基含有化合物」の一態様としては、カルボキシル基を有するアミノ基含有化合物が好ましい。Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基でアミノ基が保護された第二のアミノ基含有化合物における「第二のアミノ基含有化合物」の別の態様としては、ペプチド、またはアミノ酸が好ましく、アミノ酸がより好ましい。

　第三のアミノ基含有化合物の一態様としては、液相ペプチド合成用担体と結合していないアミノ基含有化合物が好ましく、上記第三のアミノ基含有化合物が、液相ペプチド合成用担体と結合していないアミノ基含有化合物であり、上記液相ペプチド合成用担体は、第三のアミノ基含有化合物に直接またはリンカーを介して結合して、それらを有機溶媒に対する溶解性を高め、水に不溶性を高める化合物であることがより好ましい。上記液相ペプチド合成用担体としては、例えば特許文献４に記載の化合物が挙げられる。第三のアミノ基含有化合物の別の態様としては、ペプチド、アミノ酸、またはアミノ酸アミドが好ましい。

　Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基でアミノ基が保護された前記第一のアミノ基含有化合物を得る工程は、溶媒の存在または非存在下、縮合剤の存在または非存在下、好ましくは－５０℃～溶媒の沸点付近の範囲の温度、より好ましくは－２０℃～８０℃の範囲の温度で、好ましくは０．１時間～４８時間、より好ましくは０．５時間～２４時間で行うことができる。

　溶媒としては、例えば、アセトニトリル、２－ＭｅＴＨＦ、ＴＨＦ、ジクロロメタン、トルエン、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、ＤＭＦ、ＤＭＡ、ＮＭＰなどを用いることができる。

　縮合剤としては、例えば、ＨＡＴＵ（1-[ビス(ジメチルアミノ)メチレン]-1H-1,2,3-トリアゾロ[4,5-b]ピリジニウム3-オキシドヘキサフルオロホスファート、CAS RN: 148893-10-1）、Ｔ３Ｐ（2,4,6-トリプロピル-1,3,5,2,4,6-トリオキサトリホスホリナン-2,4,6-トリオキシド (50%酢酸エチル溶液, 約1.7mol/L)、CAS RN: 68957-94-8)、ＨＢＴＵ（1-[ビス(ジメチルアミノ)メチレン]-1H-ベンゾトリアゾリウム3-オキシドヘキサフルオロホスファート、CAS RN: 94790-37-1）、ＣＯＭＵ（(1-シアノ-2-エトキシ-2-オキソエチリデンアミノオキシ)ジメチルアミノモルホリノカルベニウムヘキサフルオロホスファート、CAS RN: 1075198-30-9）、ＢＥＰ（テトラフルオロほう酸2-ブロモ-1-エチルピリジニウム、CAS RN: 878-23-9）、ＰｙＢＯＰ（1H-ベンゾトリアゾール-1-イルオキシトリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスファート、CAS RN: 128625-52-5）、ＤＭＴ－ＭＭ（4-(4,6-ジメトキシ-1,3,5-トリアジン-2-イル)-4-メチルモルホリニウムクロリド、CAS RN: 3945-69-5）、ＰｙＯｘｉｍ（[エチルシアノ(ヒドロキシイミノ)アセタト-O2]トリ-1-ピロリジニルホスホニウムヘキサフルオロリン酸、CAS RN: 153433-21-7）、ＴＡＴＵ（1-[ビス(ジメチルアミノ)メチレン]-1H-1,2,3-トリアゾロ[4,5-b]ピリジニウム3-オキシドテトラフルオロボラート、CAS RN: 873798-09-5）、ＴＢＴＵ（1-[ビス(ジメチルアミノ)メチレン]-1H-ベンゾトリアゾリウム3-オキシドテトラフルオロボラート、CAS RN: 125700-67-6）、ＴＯＴＵ（O-[(エトキシカルボニル)シアノメチレンアミノ]-N,N,N',N'-テトラメチルウロニウムテトラフルオロボラート、CAS RN: 136849-72-4）、ＥＤＣＩ（1-(3-ジメチルアミノプロピル)-3-エチルカルボジイミド、CAS RN: 1892-57-5）、ＤＩＣ（N,N'-ジイソプロピルカルボジイミド、CAS RN: 693-13-0）、ＤＣＣ（N,N'-ジシクロヘキシルカルボジイミド、CAS RN: 538-75-0）などを用いることができる。このような縮合反応による第一のアミノ基含有化合物を得る工程は、文献記載の方法を参照して行うことができる。例えば、Amino Acids, 2018, 50, 39-68、Solid phase peptide synthesis (Bachem社発行) [2022年9月18日検索]、インターネット<URL: https://www.bachem.com/wpfd_file/solid-phase-peptide-synthesis/>、Amino Acids, Peptides and Proteins in Organic Chemistry: Building Blocks, Catalysis and Coupling Chemistry, Volume 3, 2011、J. Peptide Res., 2005, 65, 153-166、Org. Process Res. Dev., 2018, 22, 760-772、ペプチド合成の基礎と実験：泉屋信夫（著）丸善（1985）などを参照することができる。

　本発明の製造方法は、上記したジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体の除去方法を２回以上、または３回以上繰り返すことを含むものであってもよい。

　本発明の方法の具体的な順序の一つとして、工程（２）を行い、続いて工程（１）、（１’）、（１’’）、（１’’’）または（１’’’’）を行い、続いて（４）を行うことが挙げられる。例えば、反応容器中でＦｍｏｃ骨格を有する保護基でアミノ基が保護された第二のアミノ基含有化合物と、第三のアミノ基含有化合物とを縮合させて、Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基でアミノ基が保護された前記第一のアミノ基含有化合物を得る。続いて、反応容器中のＦｍｏｃ骨格を有する保護基でアミノ基が保護された第一のアミノ基含有化合物と脱保護剤を混合し、Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基の脱保護を行う。この際、ジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体が生じる。続いて、反応容器に亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンまたは亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンを生じさせる化合物を加え、ジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体と混合し、（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸もしくはその塩、または（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸誘導体もしくはその塩を形成させる。続いて、反応容器に有機溶媒を加え、有機層を洗浄用溶液で洗浄する。

　本発明の方法の具体的な順序の一つとして、工程（３）を行い、続いて（４）を行うことが挙げられる。例えば、反応容器中でＦｍｏｃ骨格を有する保護基でアミノ基が保護された第二のアミノ基含有化合物と、第三のアミノ基含有化合物とを縮合させて、Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基でアミノ基が保護された前記第一のアミノ基含有化合物を得る。続いて、反応容器中の(i)Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基でアミノ基が保護された第一のアミノ基含有化合物に(ii)脱保護剤、及び(iii)亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンまたは亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンを生じさせる化合物を混合し、（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸もしくはその塩、または（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸誘導体もしくはその塩を形成させる。続いて、反応容器に有機溶媒を加え、有機層を洗浄用溶液で洗浄する。本方法では、Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基の脱保護と、（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸もしくはその塩、または（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸誘導体もしくはその塩の形成が１工程で行われている。

（脱保護方法）
　一局面において本発明は、亜硫酸イオンまたは亜硫酸水素イオンの存在下で、Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基を脱保護できる脱保護剤によりＦｍｏｃ骨格を有する保護基により保護されている第一のアミノ基含有化合物を処理する工程を含む、Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基を脱保護する方法を提供する。

（使用）
　本発明の他の側面は、ジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体を除去するための以下の（ａ）及び／または（ｂ）の使用である。
（ａ）亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオン、または亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンを生成する化合物、
（ｂ）亜硫酸水素塩、二亜硫酸及びその塩、亜硫酸及びその塩、亜ジチオン酸及びその塩、並びにこれらの溶媒和物からなる群から選択される少なくとも一つの化合物。

（併用）
　本発明の他の側面は、Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基を脱保護するための以下の（ａ）及び／または（ｂ）とＦｍｏｃ骨格を有する保護基を脱保護できる脱保護剤との併用である。
（ａ）亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオン、または亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンを生成する化合物、
（ｂ）亜硫酸水素塩、二亜硫酸及びその塩、亜硫酸及びその塩、亜ジチオン酸及びその塩、並びにこれらの溶媒和物からなる群から選択される少なくとも一つの化合物。

（組成物）
　本発明は、アミノ基含有化合物、および（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸もしくはその塩、または（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸誘導体もしくはその塩を含む組成物であって、HPLC分析による210nmでのUVarea値により算出される、下記式Aで表される値が１％以下である組成物を提供する。
（式A）：（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸もしくはその塩、または（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸誘導体もしくはその塩の面積値/(アミノ基含有化合物の面積値＋（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸もしくはその塩、または（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸誘導体もしくはその塩の面積値)×100　(％)
　ある態様において、式Aで表される値は、１％以下、０．５％以下、または検出不能である。

　本発明は、アミノ基含有化合物、および（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸もしくはその塩、または（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸誘導体もしくはその塩を含む組成物であって、（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸もしくはその塩、または（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸誘導体もしくはその塩の含有割合が、アミノ基含有化合物及び（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸もしくはその塩、または（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸誘導体もしくはその塩に対して、０．０１以下である組成物を提供する。ある態様において、前記含有割合は、HPLC分析による210 nmでのUVarea値を測定することにより算出される。ある態様において、前記含有割合は、０．０１以下、０．００５以下、または検出不能である。

　ある局面において、本発明の組成物に含まれるアミノ基含有化合物は、ペプチド、アミノ酸、またはアミノ酸アミドである。また、ある局面において、本発明の組成物に含まれる（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸もしくはその塩、または（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸誘導体もしくはその塩は、（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸もしくはその塩である。

　なお、本明細書において引用された全ての先行技術文献は、参照として本明細書に組み入れられる。本出願は、2022年11月1日出願の日本特許出願である特願2022-175592の優先権を主張し、この内容はその全体が参照として本明細書中に援用される。また、以下の文献を含む、本明細書中で引用される参照文献は、特許出願及び公報も含めて、全て、それらの全体が参照として本明細書中に援用される：WO2013100132、WO2018225851、WO2018225864、WO2019117274、WO2020111238、WO2020122182、WO2021075478、WO2021090856、WO2021132545、WO2021246471、WO2022097540、WO2022138891、WO2022145444、WO2022234864、WO2023127869。

　以下、本開示を実施例に基づいてさらに詳しく説明するが、本開示は以下の実施例に限定されるものではない。

　本明細書において使用される略語を以下に記す。
2-MeTHF：2-メチルテトラヒドロフラン
CPME：シクロペンチルメチルエーテル
Cy：シクロヘキシル
DIPEA：N,N-ジイソプロピルエチルアミン
DMA：ジメチルアセトアミド
DMF：N,N-ジメチルホルムアミド
DMI：1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン
DMSO：ジメチルスルホキシド
DBF：ジベンゾフルベン
DBU：ジアザビシクロウンデセン
Et：エチル
EtOAc：酢酸エチル
Fmoc：9-フルオレニルメトキシカルボニル
FMSA：9H-フルオレン-9-イルメタンスルホン酸
FMSA Salt：9H-フルオレン-9-イルメタンスルホン酸塩
HATU：O-(7-アザベンゾトリアゾール-1-イル)-N,N,N',N'-テトラメチルウロニウムヘキサフルオロリン酸塩
HMDS：1,1,1,3,3,3-ヘキサメチルジシラザン
IPAc：酢酸イソプロピル
Me：メチル
MeCN：アセトニトリル
MeOH：メタノール
NMM：N-メチルモルホリン
NMP：N-メチル-2-ピロリドン
ⁿPr：ノルマルプロピル
T3P：プロピルホスホン酸無水物
TFA：トリフルオロ酢酸

　本発明の内容を以下の実施例でさらに説明するが、本発明はその内容に限定されるものではない。特に記載したものを除き、出発物質、出発原料、溶媒、および試薬は商業的供給業者から入手、もしくは公知の方法を用いて合成した。

　HPLCによる分析にはWaters製H-Classシステムを使用し、PDA検出器を用いて測定し、210nmの波長で解析した。分析条件を以下に示した。

HPLC分析条件 method 1
装置：Waters^TM ACQUITY UPLC H-Class
カラム：CAPCELL CORE ADME (OSAKA SODA), 2.1 mm ID×50 mm, 2.7 μm
移動相：0.05% TFA/water (A)、0.05% TFA/MeCN (B)
溶出法：B)：5%(0 min)→100%(5 min)→5%(5.1 min)→5%(7 min)
流速：0.5 mL/min
カラム温度：35℃
検出波長：210nm(PDA)

HPLC分析条件 method 2
装置：Waters^TM ACQUITY UPLC H-Class
カラム：Ascentis Express C18 (Sigma Aldrich^TM), 4.6 mm ID×50 mm, 2.7 μm
移動相：0.05% TFA/water (A)、0.05% TFA/MeCN (B)
溶出法：B)：5%(0 min)→100%(6 min)→100%(7 min)→5%(7.1 min)→5%(9 min)
流速：0.8 mL/min
カラム温度：35℃
検出波長：210nm(PDA)

　LCMS分析では、Waters製H-Classシステムを使用し、MS分析にはQDa検出器またはSQD2検出器を用いた。分析条件を以下に示した。

LCMS分析条件 method 1
装置：Waters^TM ACQUITY UPLC H-Class + ACQUITY QDA
カラム：CAPCELL CORE ADME (OSAKA SODA), 2.1 mm ID×50 mm, 2.7 μm
移動相：0.05% TFA/water (A)、0.05% TFA/MeCN (B)
溶出法：B)：5%(0 min)→100%(5 min)→5%(5.1 min)→5%(7 min)
流速：0.5 mL/min
カラム温度：35℃
検出波長：210nm(PDA)

LCMS分析条件 method 2
装置：Waters^TM ACQUITY UPLC H-Class + SQD2
カラム：Ascentis Express C18 (Sigma Aldrich), 4.6 mm ID×50 mm, 2.7 μm
移動相：0.05% TFA/water (A)、0.05% TFA/MeCN (B)
溶出法：B)：5%(0 min)→100%(6 min)→100%(7 min)→5%(7.1 min)→5%(9 min)
流速：0.8 mL/min
カラム温度：35℃
検出波長：210nm(PDA)

LCMS分析条件 method 3
装置：Waters^TM ACQUITY UPLC H-Class + SQD2
カラム：ACQUITY UPLC CSH C18 (Waters), 2.1 mm ID×150 mm, 1.7 μm
移動相：0.05% TFA/water (A)、0.05% TFA/MeCN (B)
溶出法：B) 20%(0 min)→100%(24 min)→100%(29 min)→20%(29.1 min)→20%(34 min)
流速：0.3 mL/min
カラム温度：50 ℃
検出波長：220 nm(PDA)

　¹H-NMRスペクトルと¹⁹F-NMRスペクトルは、核磁気共鳴装置JNM-ECZ500R（日本電子社製）を用いて測定した。サンプル溶媒からの重水素ロック信号を参照した。サンプル溶媒は測定の目的に応じ、市販の重水素化溶媒を用いた。内部標準物質として用いたテトラメチルシランのケミカルシフトを0 ppmとし、分析対象化合物のシグナルのケミカルシフトはppmで表記した。シグナルの***の略語は、s:シングレット、brs:ブロードシングレット、d:ダブレット、t:トリプレット、q:カルテット、dd:ダブルダブレット、m:マルチプレットで表記し、シグナルの分列幅はJ値（Hz）で表記した。シグナルの積分値は各シグナルのシグナル面積強度の比をもとに算出した。

　qNMRによる測定法は、目的化合物を含む残渣と内部標準物質をDMSO‐d₆に溶解させ、以下の分析条件により行った。収率の算出は、qNMRにより算出された残渣中の目的物の含量の値を用いて、以下の式により行った。
収率(%)=[残渣の重量(mg)×含量(%)]/理論収量(mg)×100
測定装置：JNM-ECZ500R
内部標準物質：3,5－ビス（トリフルオロメチル）安息香酸
測定条件（¹H-NMR）：DMSO-d₆、24.3℃、パルス角度 90°、デジタル分解能 0.25Hz、緩和時間 60秒、スピン無し、積算回数8回
測定条件（¹⁹F-NMR）：DMSO-d₆, 24.3℃, パルス角度 90°, デジタル分解能 0.22Hz, 緩和時間 60秒、スピン無し、積算回数8回

　HPLCとLCMSによる測定法は、目的化合物を含む混合液を以下のいずれかの方法にてサンプル調製し、上述の分析条件により行った。
サンプル調製法1：目的化合物を含む混合液をMeCNで希釈した。
サンプル調製法2：目的化合物を含む混合液を、MeCNとH₂NⁿPrを9対1の比率で混ぜた混合液で希釈した。
サンプル調製法3：目的物を含む混合液を、MeOHと水を4対1の比率で混ぜた混合液で希釈した。

　反応転換率の算出は、HPLC分析により算出された原料の面積値と目的物の面積値、または原料の面積値と原料のプロピルアミド体の面積値と目的物の面積値を用いて、以下のいずれかの式により行った。
反応転換率の算出式1：反応転換率(％)＝目的物の面積値/(原料の面積値＋目的物の面積値)×100
反応転換率の算出式2:反応転換率(％)＝目的物の面積値/(原料の面積値＋原料のプロピルアミド体の面積値＋目的物の面積値)×100

　Fmoc基の脱保護反応転換率の算出は、HPLC分析により算出されたFmoc体の面積値と脱Fmoc体の面積値を用いて、以下の式により行った。
Fmoc基の脱保護反応転換率の算出式：Fmoc基の脱保護反応転換率(％)＝脱Fmoc体の面積値/(Fmoc体の面積値＋脱Fmoc体の面積値)×100

　DBFの捕捉反応転換率の算出は、HPLC分析により算出されたDBFの面積値とFMSAまたはFMSA Saltの面積値、または化合物35の面積値、または化合物36の面積値、または化合物37の面積値を用いて、以下の式により行った。
DBFの捕捉反応転換率の算出式1：DBFの捕捉反応転換率(％)＝FMSAまたはFMSA Saltの面積値/(DBFの面積値＋FMSAまたはFMSA Saltの面積値)×100
DBFの捕捉反応転換率の算出式2：DBFの捕捉反応転換率(％)＝FMSAまたはFMSA Saltの面積値/(DBFの面積値＋化合物35の面積＋FMSAまたはFMSA Saltの面積値)×100
DBFの捕捉反応転換率の算出式3：DBFの捕捉反応転換率(％)＝化合物36の面積値/(DBFの面積値＋化合物36の面積値)×100
DBFの捕捉反応転換率の算出式4：DBFの捕捉反応転換率(％)＝化合物37の面積値/(DBFの面積値＋化合物37の面積値)×100

　FMSAまたはFMSA Saltの残留率は、HPLC分析により算出された脱Fmoc体の面積値とFMSAまたはFMSA Saltの面積値を用いて、以下の式により行った。
FMSAまたはFMSA Saltの残留率の算出式：FMSAまたはFMSA Saltの残留率(％)＝FMSAまたはFMSA Saltの面積値/(脱Fmoc体の面積値＋FMSAまたはFMSA Saltの面積値)×100

実施例1
(i)化合物3：(2S)-2-[[(1S)-1-ベンジル-2-tert-ブトキシ-2-オキソ-エチル]カルバモイル]ピロリジン-1-カルボン酸 9H-フルオレン-9-イルメチルの合成

　化合物1(0.964 g)、および化合物2(0.813 g, 1.1 eq.)を反応容器へ加え、反応容器の窒素置換を行った。次いで、2-MeTHF(12 mL, 12 v/w)、DIPEA(1.70 mL, 3.4 eq.)を室温にて順次加えた。反応混合物を攪拌しながらT3P(50 w/w% 2-MeTHF溶液、2.68 mL, 1.5 eq.)を加えた後、室温にて1時間撹拌した。ついで、攪拌しながらDIPEA(1.70 mL, 3.4 eq.）とT3P(50 w/w% 2-MeTHF溶液、2.68 mL, 1.5 eq.)を室温にて追加し、さらに0.5時間撹拌した。反応混合物をサンプリングしてサンプル調製し(サンプル調製法1)、HPLC分析により反応転換率が99.9%であることを確認した(反応転換率の算出式1)。反応容器に5%炭酸ナトリウム水溶液(15 mL)を加えて10分攪拌した。水層を排出した後、得られた有機層を5%硫酸水素ナトリウム一水和物水溶液(15 mL×2)、5%炭酸ナトリウム水溶液(15 mL)、5%塩化ナトリウム水溶液(15 mL)で洗浄した。得られた有機層に対し硫酸ナトリウムによる脱水、ろ過による硫酸ナトリウムの除去を行った。外温40℃にて減圧濃縮し、化合物3を含む残渣(1.43 g)を得た。
化合物3のLC純度: 99.0% (HPLC分析条件: method 1)
含量: 98.8 wt%(得られた残渣と3,5-ビス(トリフルオロメチル)安息香酸をDMSO‐d₆に溶解させ、qNMR分析に付した。)

亜硫酸水素ナトリウムをDBF捕捉剤として用いた実施例
(ii)化合物4：(2S)-3-フェニル-2-[[(2S)-ピロリジン-2-カルボニル]アミノ]プロパン酸 tert-ブチルの合成

　化合物3(95.0 mg, 含量 98.8 wt%, 実質量 94 mg)、およびMeCN(0.27 mL, 3.0 v/w)を反応容器へ加え、反応容器の窒素置換を行った。次いで、反応混合物を攪拌しながらDBU(25.9 μL, 1.0 eq.)を室温にて加えた後、室温にて30分撹拌した。反応混合物をサンプリングしてサンプル調製し(サンプル調製法1)、HPLC分析によりFmoc基の脱保護反応を評価し、反応転換率が99.9%以上進行していることを確認した(Fmoc基の脱保護反応転換率の算出式)。次いで、反応混合物にトリエチルアミン(96.0 μL, 4.0 eq.)、水(31.3 μL, 10 eq.)、亜硫酸水素ナトリウム(45.6 mg, 2.5 eq.)を室温にて順次加えた。反応混合物を1時間攪拌後、反応混合物をサンプリングしてサンプル調製し(サンプル調製法1)、HPLC分析によりDBFの捕捉反応を評価し、反応転換率が99.9%以上であることを確認した(DBFの捕捉反応転換率の算出式1)。反応容器にIPAc(0.50 mL)、トルエン(0.50 mL)、20%アンモニア水溶液(1.0 mL)を加えて5分攪拌した。水層を排出した後、得られた有機層を再度20%アンモニア水溶液(1.0 mL)で洗浄した。サンプリングしてサンプル調製し(サンプル調製法1)、HPLC分析によりFMSAまたはFMSA Saltの残留率が0.39%であることを確認した(FMSAまたはFMSA Saltの残留率の算出式)。得られた有機層を外温40℃にて減圧濃縮した。MeCN(50 μL)を加えて、化合物4を含むMeCN溶液(124 mg)として以下に示す分析に付した。
化合物4のLC純度: 96.2% (HPLC分析条件: method 1)
含量: 43.2 wt%(得られた残渣と3,5-ビス(トリフルオロメチル)安息香酸をDMSO‐d₆に溶解させ、qNMR分析に付した。)
収率: 96.7%

メタ亜硫酸水素ナトリウム（Na₂S₂O₅）をDBF捕捉剤として用いた実施例
(iii)化合物4：(2S)-3-フェニル-2-[[(2S)-ピロリジン-2-カルボニル]アミノ]プロパン酸 tert-ブチルの合成

　化合物3(200 mg, 含量 98.8 wt%, 実質量 198 mg)を0.94 mLのアセトニトリル中に懸濁させ、DBU(55 μL, 1.0 eq.)を加えた。反応混合物を室温で30分撹拌した後にFmoc脱保護反応の完了をHPLCで確認した(Fmoc基の脱保護反応転換率の算出式)。ついで、Na₂S₂O₅(88 mg, 1.25 eq.)、トリエチルアミン(206 μL, 4.0 eq.)、水(67 μL, 10.0 eq.)を加え、1時間撹拌後にジベンゾフルベン捕捉反応の完了をHPLCで確認した(DBFの捕捉反応転換率の算出式1)。反応混合物にIPAc(0.94 mL)とトルエン(0.94 mL)を加えた。20%アンモニア水溶液(2.0 mL)を加え、10分撹拌後に静置し、水層を除去した。得られた有機層を再度20%アンモニア水溶液で洗浄した。5%炭酸ナトリウム水溶液(2.0 mL)を加え、10分撹拌した後に静置し、水層を除去した。得られた有機層を減圧下で濃縮し、化合物4を得た。
化合物4のLC純度: 89.5% (HPLC分析条件: method 2)

実施例2
(9H-fluoren-9-yl)methanesulfonic acid (FMSAまたはFMSA salt)の構造同定

　実施例1-(iii)において20%アンモニア水溶液による分液洗浄工程で得られた水層を減圧条件下での凍結乾燥によって水とその他揮発性成分を除去し、FMSAをDBUとの1:1混合物として得た。
LC純度(DBUピークを除く)：98.3%(HPLC分析条件: method 2)
1H-NMR (500MHz, D2O, DBUシグナルを除く) δ: 3.04 (2H, d, J=5.7 Hz), 4.03 (1H, t, J=5.7 Hz), 7.01-7.08 (4H, m), 7.24-7.26 (2H, d, J=7.4 Hz), 7.52-7.54 (2H, d, J=7.4 Hz)

実施例3
化合物6：(2S)-2-[[(2S)-1-[(2S)-2-(9H-フルオレン-9-イルメトキシカルボニルアミノ)-3-(p-トリル)プロパノイル]ピロリジン-2-カルボニル]アミノ]-3-フェニル-プロパン酸 tert-ブチルの合成

　実施例1-(iii)で得られた化合物4(177 mg)と化合物5(245 mg, 1.1 eq.)をフラスコ中でMeCN(1.0 mL)に溶解し、反応容器を窒素置換した。NMM(183 μL, 3.0 eq.)とHATU(317 mg, 1.5 eq.)を順次加えた。反応混合物を室温で1時間撹拌した後にHPLC分析で反応完結を確認した(反応転換率の算出式1)。シクロペンチルメチルエーテル(2.0 mL)、5%炭酸ナトリウム水溶液(1.0 mL)、N-メチルイミダゾール(44.5μL, 1.0 eq.)を順次加えた。反応混合物を1時間撹拌した後に静置し、水層を除去した。反応容器に20%アンモニア水溶液(1.0 mL)を加え、5分撹拌後に静置し、水層を除去した。10%硫酸水素ナトリウム水溶液(1.0 mL)を加え、5分撹拌後に静置し、水層を除去した。5%炭酸ナトリウム水溶液(1.0 mL)を加え、5分撹拌した後に静置し、水層を除去した。得られた有機層を減圧下で濃縮し、化合物6を得た。
化合物6のLC純度: 92.0% (HPLC分析条件: method 2)

実施例4
(i)化合物8：（tert-ブチル (3S)-3-[ベンジルオキシカルボニル(メチル)アミノ]-4-(ジメチルアミノ)-4-オキソ-ブタノアート）の合成

　窒素で置換した反応釜に、化合物7(62.8 kg)、2-MeTHF(310 kg)を室温にて順次加えた。反応釜の外温を10℃に設定し、反応混合物を撹拌しながらDIPEA(89.5 kg)、ジメチルアミン－THF溶液(2 M、THF溶液、71.4 kg)を順次加えて30分間撹拌した。T3P(50 %w/w、2-MeTHF溶液、151 kg)を加えた後、反応釜の外温を25℃に設定し、2時間撹拌した。反応混合物をサンプリングしてサンプル調製(サンプル調製法2)し、HPLC分析により反応転換率が90.2%であることを確認した(反応転換率の算出式2)。反応釜の外温を10℃に設定し、攪拌しながらジメチルアミン－THF溶液(2 M、THF溶液、9.80 kg)を追加した後、反応釜の外温を25℃に設定し、20分間攪拌した。攪拌を止めて10時間静置させた後、反応混合物をサンプリングしてサンプル調製(サンプル調製法2)し、HPLC分析により反応転換率が99.4%であることを確認した(反応転換率の算出式2)。反応釜の外温を10℃に設定し、反応混合物に10%クエン酸一水和物水溶液(380 kg)を加えた。反応釜の外温を25℃に設定し、10分間撹拌後、撹拌を停止し、反応釜から水層を排出した。得られた有機層を10%クエン酸一水和物水溶液(380 kg×2)および5%炭酸ナトリウム水溶液(380 kg×2)で洗浄した。得られた有機層の液量が220L程度なるまで外温55℃にて減圧濃縮した。2-MeTHF(85 kg)を加え、再度液量が100L程度になるまで外温55℃にて減圧濃縮し、化合物8を含む溶液(95.6 kg)を得た。

(ii)化合物9：(tert-ブチル (3S)-4-(ジメチルアミノ)-3-(メチルアミノ)-4-オキソ-ブタノアート)の合成

　窒素で置換した反応釜に、5% Pd/C(17.9 kg, 50%含水品)、2-MeTHF(85 kg)を室温にて順次加えた。反応釜を窒素置換した後、水素で0.45 MPaG（5.5 atm）まで加圧し、反応釜の内温を25℃に設定した。内圧が0.40 MPaG（5.0 atm）まで加圧された状態を保ちながら2時間攪拌した。ついで、実施例4-(i)で得られた化合物8を含む溶液(94.6 kg)、2-MeTHF(174 kg)を室温にて順次加えた。反応釜の内圧が0.18 MPaG（2.8 atm）になるまで水素で加圧した。1.5時間撹拌後、内圧の変動がないことを確認した後、反応釜を水素で0.18 MPaG（2.8 atm）まで加圧し、さらに0.5時間撹拌した。反応混合物をサンプリングしてサンプル調製(サンプル調製法１)し、HPLC分析により反応転換率が99.9％であることを確認した(反応転換率の算出式１)。反応釜内を窒素で置換後、反応混合物を加圧濾過した。反応釜内と濾過機を2-MeTHF(85 kg×2)で洗浄後、窒素置換した反応釜に濾液と洗浄液を加え、液量が100 L程度になるまで外温40℃にて攪拌しながら減圧濃縮した。この濃縮液と反応釜を2-MeTHF(43 kg)で洗浄した洗浄液を合わせて化合物9を含む溶液(132 kg)を得た。

(iii)化合物11：(tert-ブチル (3S)-3-[[(2S)-2-[ベンジルオキシカルボニル(メチル)アミノ]-2-シクロペンチル-アセチル]-メチル-アミノ]-4-(ジメチルアミノ)-4-オキソ-ブタノアート)の合成

　窒素で置換した反応釜に、実施例4-(ii)で得られた化合物9を含む溶液(132 kg)、を室温にて加えた。反応釜の外温を10℃に冷却し、アセトニトリル(38 kg)、化合物10 (41.5 kg)、2-MeTHF(16 kg)、DIPEA(67.7 kg)を順次加えた。次いで、HATU(67.7 kg)を加えた後、外温を25℃に昇温した。反応混合物を25℃にて3時間撹拌した後、反応混合物をサンプリングしてサンプル調製(サンプル調製法2)し、HPLC分析により反応転換率が98.5%であることを確認した(反応転換率の算出式2)。反応釜にCPME(54 kg)、5%炭酸カリウム水溶液(48 kg)、N-メチルイミダゾール(9.70 kg)を順次加え、30分間撹拌した。ついで、2.5%アンモニア水溶液(190 kg)と2-MeTHF(55 kg)を加え、10分撹拌後、水層を排出した。得られた有機層を2.5%アンモニア水溶液(240 kg)、10%硫酸水素ナトリウム一水和物水溶液(240 kg×2)、5%炭酸カリウム水溶液(240 kg×2)で洗浄した。得られた有機層に2-MeTHF(86 kg)を加え、液量が100 L程度になるまで外温60℃にて攪拌しながら減圧濃縮し、化合物11を含む溶液(98.1 kg)を得た。

(iv)化合物12：(tert-ブチル (3S)-3-[[(2S)-2-シクロペンチル-2-(メチルアミノ)アセチル]-メチル-アミノ]-4-(ジメチルアミノ)-4-オキソ-ブタノアート)の合成

　窒素で置換した反応釜に、5% Pd/C(17.5 kg、50%含水品)、2-MeTHF(85 kg)を室温にて順次加えた。反応釜を窒素置換した後、水素で0.45 MPaG（5.5 atm）まで加圧し、反応釜の内温を25℃に設定した。内圧が0.40 MPaG（5.0 atm）まで加圧された状態を保ちながら2時間攪拌した。実施例4-(iii)で得られた化合物11を含む溶液(97.1 kg)、2-MeTHF(160 kg)を室温にて順次加えた。反応釜の外温を25℃に設定し、反応容器の内圧が0.18 MPaG（2.8 atm）になるまで水素で加圧した。2時間撹拌後、内圧の変動がないことを確認した後、反応釜を水素で0.18 MPaG（2.8 atm）まで加圧し、さらに1時間撹拌した。反応混合物をサンプリングしてサンプル調製(サンプル調製法1)し、HPLC分析により反応転換率が99.9%であることを確認した(反応転換率の算出式1)。反応釜を水素で0.18 MPaG（2.8 atm）まで加圧し、1時間撹拌した。反応混合物をサンプリングしてサンプル調製(サンプル調製法1)し、HPLC分析により反応転換率が99.9%以上であることを確認した(反応転換率の算出式1)。反応釜内を窒素で置換後、反応混合物を加圧濾過した。反応釜内と濾過機を2-MeTHF(85 kg×2)で洗浄し、得られた濾液および洗浄液を合わせて、液量が100 L程度になるまで外温60℃にて攪拌しながら減圧濃縮した。この濃縮液と反応釜を2-MeTHF(43 kg)を用いて洗浄した洗浄液を合わせて化合物12を含む溶液(133 kg)を得た。

(v)化合物14：(tert-ブチル (3S)-3-[[(2S)-2-シクロペンチル-2-[メチル-[1-[(2,2,2-トリフルオロアセチル)アミノ]シクロペンタンカルボニル]アミノ]アセチル]-メチル-アミノ]-4-(ジメチルアミノ)-4-オキソ-ブタノアート)の合成

　窒素で置換した反応釜に、化合物13 (51.8 kg)、2-MeTHF(210 kg)を順次、室温にて加えた。反応釜の外温を10℃に冷却し、DIPEA(77.1 kg)、実施例4-(iv)で得た化合物12を含む溶液(133 kg)、T3P(50 %w/w、2-MeTHF溶液、194 kg)、およびDMAP(28.1 kg)を順次加えた。反応容器の外温を50℃に設定し、5時間撹拌した。反応混合物をサンプリングしてサンプル調製し(サンプル調製法2)、HPLC分析により反応転換率が99.3%であることを確認した(反応転換率の算出式2)。反応容器の外温を10℃に設定し、5%炭酸ナトリウム水溶液(350 kg)を加えた。反応容器の外温を25℃に設定し、30分間撹拌後、撹拌を停止し、反応容器から水層を排出した。ついで、5%硫酸水素ナトリウム一水和物水溶液(350 L)を加え、10分間撹拌後、撹拌を停止して反応容器から水層を排出した。得られた有機層を、5%硫酸水素ナトリウム一水和物水溶液(350 kg)、5%炭酸ナトリウム水溶液(350 kg)で洗浄した。反応混合液を濃縮釜に移送した後、反応釜内を2-MeTHF(86 kg)で洗浄し、反応混合物と洗浄液を合わせて、液量が200 L程度になるまで外温60℃にて攪拌しながら減圧濃縮した。ついで、2-MeTHF(63 kg)を加えて、液量が200 L程度になるまで外温60℃にて攪拌しながら減圧濃縮した。メタノール(29 kg)を加えて、化合物14を含む溶液(223 kg)を得た。

(vi)化合物15：(tert-ブチル (3S)-3-[[(2S)-2-[(1-アミノシクロペンタンカルボニル)-メチル-アミノ]-2-シクロペンチル-アセチル]-メチル-アミノ]-4-(ジメチルアミノ)-4-オキソ-ブタノアート)の合成

　窒素で置換した反応容器に、化合物14を含む溶液(223 kg)、2-MeTHF(110 kg)を室温にて順次加えた。反応容器の外温を-20℃に設定し、撹拌しながらLiBH4(4 M、THF溶液、51.5 kg)を加えた後、3時間撹拌した。撹拌しながらLiBH4(4 M、THF溶液、0.6 kg)を追加して、さらに反応混合物をサンプリングしてサンプル調製(サンプル調製法3)し、HPLC分析により反応転換率が99.5%であることを確認した(反応転換率の算出式1)。TFE(228 kg)を加えた後、反応釜の外温を1時間かけて0℃に昇温し、0℃にて1時間攪拌した。ついで、20%塩化アンモニウム水溶液(200 kg)を2時間かけて滴下し、外温25℃にて30分間攪拌後、攪拌を停止し、反応容器から水層を排出した。反応容器の外温を10℃に設定し、トリフルオロ酢酸(26.0 kg)を加えた。反応容器の外温を25℃に設定し、１時間撹拌した。得られた反応混合物、および反応釜を2-MeTHF(84.7 kg×2)で洗浄した洗浄液を混ぜ合わせて混合物とした。窒素で置換した別の反応釜に2 M水酸化ナトリウム水溶液(630 kg)を室温にて加え、反応容器の外温を10℃に設定した。これに対し、上記の混合物を1.5時間かけて滴下した後、反応容器の外温を25℃に設定した。10分間攪拌後、撹拌を停止し、反応容器から水層を排出した。得られた有機層を2 M水酸化ナトリウム水溶液(630 kg×3)、10%リン酸水素二カリウム水溶液(330 kg)で洗浄した。得られた有機層を、液量が220 L程度になるまで外温40℃にて減圧濃縮した。再度、2-MeTHF(85 kg)加えた後、液量が100 L程度になるまで外温40℃にて減圧濃縮した。この濃縮操作を10回繰り返し、濃縮液および反応釜をアセトニトリル(56.2 kg)を用いて洗浄した洗浄液を合わせて化合物15を含む溶液(151 kg)を得た。

(vii)化合物17：(ベンジル (2S)-2-[[1-[[(1S)-2-[[(1S)-3-tert-ブトキシ-1-(ジメチルカルバモイル)-3-オキソ-プロピル]-メチル-アミノ]-1-シクロペンチル-2-オキソ-エチル]-メチル-カルバモイル]シクロペンチル]カルバモイル]ピロリジン-1-カルボキシラート)の合成

　窒素で置換した反応容器の外温を10℃に設定した後、実施例4-(vi)で得られた化合物15を含む溶液(94.8 kg)、化合物16 (36.6 kg)、アセトニトリル(157 kg)を順次加えた。ついで、DIPEA(43.8 kg)および2-ブロモ-1-エチルピリジニウムテトラフルオロホウ酸塩(47.1 kg)を順次加えた。反応容器の外温を25℃に設定し、1時間撹拌した。反応混合物をサンプリングしてサンプル調製(サンプル調製法1)し、HPLC分析により反応転換率が99.6％であることを確認した(反応転換率の算出式2)。反応容器の外温を10℃に設定し、CPME(470 kg)、5%炭酸ナトリウム水溶液(320 kg)、N-メチルイミダゾール(9.40 kg)を順次加えた。反応容器の外温を25℃に設定し、40分間撹拌した後、反応容器から水層を排出した。得られた有機層を5%硫酸水素ナトリウム一水和物水溶液(320 kg×2)、5%炭酸ナトリウム水溶液(320 kg×2)で洗浄した。得られた有機層を、液量が500 L程度になるまで外温60℃にて減圧濃縮した。再度、2-MeTHF(86 kg)加えた後、液量が200 L程度になるまで外温40℃にて減圧濃縮し、化合物17を含む溶液 (176 kg)を得た。

(viii)化合物18：(tert-ブチル (3S)-3-[[(2S)-2-シクロペンチル-2-[メチル-[1-[[(2S)-ピロリジン-2-カルボニル]アミノ]シクロペンタンカルボニル]アミノ]アセチル]-メチル-アミノ]-4-(ジメチルアミノ)-4-オキソ-ブタノアート)の合成

　窒素で置換した反応釜に、5% Pd/C(16.7 kg、50%含水品)、THF(90 kg)を室温にて順次加えた。反応釜を窒素置換した後、水素で0.45 MPaG（5.5 atm）まで加圧し、反応釜の内温を25℃に設定した。内圧が0.40 MPaG（5.0 atm）まで加圧された状態を保ちながら2時間攪拌した。実施例4-(vii)で得られた化合物17を含む溶液(176 kg)、THF(230 kg)を室温にて順次加えた。反応容器の外温を25℃に設定し、反応容器の内圧が0.18 MPaG（2.8 atm）になるまで水素で加圧した。4時間後、内圧の変動がないことを確認した後、窒素置換後に水素で0.18 MPaG（2.8 atm）まで加圧し、さらに1時間撹拌した。反応混合物をサンプリングしてサンプル調製(サンプル調製法1)し、HPLC分析により反応転換率が99.6%であることを確認した(反応転換率の算出式1)。反応容器内を窒素で置換後、反応混合物を加圧濾過した。反応容器と濾過機を2-MeTHF(85 kg×2)で洗浄した。得られた濾液および洗浄液を、液量が600 L程度になるまで外温50℃にて減圧濃縮した。再度、2-MeTHF(160 kg)加えた後、液量が230 L程度になるまで外温50℃にて減圧濃縮した。この濃縮操作を3回繰り返した。ついで、反応釜の外温を50℃に設定し、ヘプタン(100 kg)を加えた後、化合物18の種晶(116 g)とヘプタン(5.3 kg)を順次加えた。2時間攪拌した後、ヘプタン(85 L)を15分かけて滴下し、再度、2時間攪拌した。さらに、ヘプタン(470 L)を75分かけて滴下し、17時間攪拌した。反応釜の外温を2時間かけて22 ℃に冷却し、20時間攪拌した。反応釜の内温を1時間かけて10℃に冷却し、1時間攪拌した。得られたスラリーを濾過し、得られた結晶をヘプタン(170 kg)と2-MeTHF(17 kg)の混合液で洗浄した。さらに、ヘプタン(180 kg)で洗浄し、得られた結晶を3時間40℃にて減圧乾燥して、化合物18 (34.5 kg)を得た。化合物18の種晶は、国際公開第2023/127869号の実施例70に記載の方法に準じて得た。

(ix)化合物20：(3S)-3-[[(2S)-2-シクロペンチル-2-[[1-[[(2S)-1-[(2S)-2-[9H-フルオレン-9-イルメトキシカルボニル(メチル)アミノ]プロパノイル]ピロリジン-2-カルボニル]アミノ]シクロペンタンカルボニル]-メチル-アミノ]アセチル]-メチル-アミノ]-4-(ジメチルアミノ)-4-オキソ-ブタン酸 tert-ブチルの合成

　化合物19(0.931 g)、および化合物18(1.82 g, 1.1 eq.)を反応容器へ加え、反応容器の窒素置換を行った。次いで、2-MeTHF(12 mL, 12 v/w)、DIPEA(1.70 mL, 3.4 eq.)を室温にて順次加えた。反応混合物を攪拌しながらT3P(50 w/w% 2-MeTHF溶液、2.68 mL, 1.5 eq.)を加えた後、室温にて1時間撹拌した。反応混合物をサンプリングしてサンプル調製し(サンプル調製法1)、HPLC分析により反応転換率が99.9%以上であることを確認した(反応転換率の算出式1)。反応容器に5%炭酸ナトリウム水溶液(15 mL)を加えて5分攪拌した。水層を排出した後、得られた有機層を5%硫酸水素ナトリウム一水和物水溶液(15 mL×4)、5%炭酸ナトリウム水溶液(15 mL)、5%塩化ナトリウム水溶液(15 mL)で洗浄した。得られた有機層に対し硫酸ナトリウムによる脱水、ろ過による硫酸ナトリウムの除去を行った。外温40℃にて減圧濃縮し、化合物20を含む残渣(2.42 g)を得た。
化合物20のLC純度: 99.2% (HPLC分析条件: method 1)
含量: 91.7 wt%(得られた残渣と3,5-ビス(トリフルオロメチル)安息香酸をDMSO‐d₆に溶解させ、qNMR分析に付した。)

(x)化合物21：(3S)-3-[[(2S)-2-シクロペンチル-2-[メチル-[1-[[(2S)-1-[(2S)-2-(メチルアミノ)プロパノイル]ピロリジン-2-カルボニル]アミノ]シクロペンタンカルボニル]アミノ]アセチル]-メチル-アミノ]-4-(ジメチルアミノ)-4-オキソ-ブタン酸 tert-ブチルの合成

　化合物20(168 mg, 含量 91.7 wt%, 実質量 154 mg)、およびMeCN(0.31 mL, 2.0 v/w)を反応容器へ加え、反応容器の窒素置換を行った。次いで、反応混合物を攪拌しながらDBU(25.9 μL, 1.0 eq.)を室温にて加えた後、室温にて30分撹拌した。反応混合物をサンプリングしてサンプル調製し(サンプル調製法1)、HPLC分析によりFmoc基の脱保護反応を評価し、反応転換率が99.9%以上進行していることを確認した(Fmoc基の脱保護反応転換率の算出式)。次いで、反応混合物にトリエチルアミン(96.0 μL, 4.0 eq.)、水(31.3 μL, 10 eq.)、亜硫酸水素ナトリウム(44.5 mg, 2.5 eq.)を室温にて順次加えた。1時間攪拌後、反応混合物をサンプリングしてサンプル調製し(サンプル調製法1)、HPLC分析によりDBFの捕捉反応を評価し、反応転換率が99.9%以上であることを確認した(DBFの捕捉反応転換率の算出式1)。反応容器にIPAc(0.75 mL)、トルエン(0.75 mL)、20%アンモニア水溶液(1.5 mL)を加えて5分攪拌した。水層を排出した後、得られた有機層を再度20%アンモニア水溶液(1.5 mL)で洗浄した。サンプリングしてサンプル調製し(サンプル調製法1)、HPLC分析によりFMSAまたはFMSA Saltの残留率が0.33%であることを確認した(FMSAまたはFMSA Saltの残留率の算出式)。得られた有機層を外温40℃にて減圧濃縮した。MeCN(100 μL)を加えて、化合物21を含むMeCN溶液(211 mg)として以下に示す分析に付した。
化合物21のLC純度: 97.9% (HPLC分析条件: method 1)
含量: 40.6 wt%(得られた残渣と3,5-ビス(トリフルオロメチル)安息香酸をDMSO‐d₆に溶解させ、qNMR分析に付した。)
収率: 74.3%

実施例5
(i)化合物23：tert-ブチル N-((S)-2-((S)-1-(N-N-((S)-3-((S)-2-(1-((S)-1-((S)-2-アミノ-4-(3,5-ジフルオロ-4-(トリフルオロメチル)フェニル)ブタノイル)ピロリジン-2-カルボキサミド)-N-メチルシクロペンタン-1-カルボキサミド)-2-シクロペンチル-N-メチルアセトアミド)-4-(ジメチルアミノ)-4-オキソブタノイル)-N-メチル-L-ロイシル-L-イソロイシル-N-メチル-L-アラニル)-N-エチルアゼチジン-2-カルボキサミド)-3-(p-トリル)プロパノイル)-N-メチルグリシナートの合成

　窒素で置換した反応容器に、10% Pd/C(425.1 mg、50%含水品)、2-MeTHF(6.0 mL)を室温にて順次加えた。反応容器を窒素置換した後、水素で0.40 MPaG (5.0 atm)まで加圧し、反応容器の内温を25℃に設定した。内圧が0.40 MPaG (5.0 atm)まで加圧された状態を保ちながら30分攪拌した。国際公開2022/234864の実施例21に記載の方法に準じて合成した化合物22を含む溶液(7.22 g, 含量 42.4 wt%, 実質量 3.06 g)、2-MeTHF(6.0 mL)を室温にて順次加えた。反応容器の外温を25℃に設定し、反応容器の内圧が0.20 MPaG (3.0 atm)になるまで水素で加圧した。1時間20分後、内圧の変動がないことを確認した後、窒素置換後に水素で0.20 MPaG (3.0 atm)まで加圧し、さらに2時間30分撹拌した。反応混合物をサンプリングしてサンプル調製(サンプル調製法1)し、HPLC分析により反応転換率が97.3%であることを確認した(反応転換率の算出式1)。反応容器内を窒素で置換後、反応混合物を加圧濾過した。反応容器と濾過機を2-MeTHF(12mL×3)で洗浄した。得られた濾液および洗浄液を外温30℃にて減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶離液：MeOH/ジクロロメタン0:100から10:90）により精製した。化合物23を含む溶出液を30℃にて減圧濃縮し、化合物23(2.49 g)を得た。
化合物23のLC純度: 98.5% (HPLC分析条件: method 1)

(ii)化合物25：tert-ブチル N-((S)-2-((S)-1-(N-N-((S)-3-((S)-2-(1-((S)-1-((S)-2-((S)-2-((((9H-フルオレン-9-イル)メトキシ)カルボニル)(メチル)アミノ)-3-メチルブタンアミド)-4-(3,5-ジフルオロ-4-(トリフルオロメチル)フェニル)ブタノイル)ピロリジン-2-カルボキサミド)-N-メチルシクロペンタン-1-カルボキサミド)-2-シクロペンチル-N-メチルアセトアミド)-4-(ジメチルアミノ)-4-オキソブタノイル)-N-メチル-L-ロイシル-L-イソロイシル-N-メチル-L-アラニル)-N-エチルアゼチジン-2-カルボキサミド)-3-(p-トリル)プロパノイル)-N-メチルグリシナートの合成

　実施例5-(i)で得られた化合物23(1.00 g)、化合物24 (281 mg)、2-MeTHF(3.0 mL)、アセトニトリル(3.0 mL)、DIPEA(0.578 mL)を順次加えた。次いで、反応容器を窒素置換し、HATU(378 mg)を加えた。外温を25℃に設定し、3時間撹拌した後、反応混合物をサンプリングしてサンプル調製(サンプル調製法1)し、HPLC分析により反応転換率が96.1%であることを確認した(反応転換率の算出式1)。2-MeTHF (3.0 mL)、5%炭酸カリウム水溶液(6.0 mL)、N-メチルイミダゾール(52.9 μL)を順次加え、30分間撹拌した後、水層を排出した。得られた有機層を10%アンモニア水溶液(6.0 mL×2)、5%硫酸水溶液(6.0 mL)、5%炭酸カリウム水溶液(6.0 mL)で洗浄した。得られた有機層を外温40℃にて減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶離液：MeOH/酢酸エチル0:100から8:92）により精製した。化合物25を含む溶出液を30℃にて減圧濃縮し、化合物25(1.04 g)を得た。
化合物25のLC純度: 95.6% (HPLC分析条件: method 1)
含量: 95.8 wt%(得られた残渣と3,5-ビス(トリフルオロメチル)安息香酸をDMSO‐d₆に溶解させ、qNMR分析に付した。)

(iii)化合物26：tert-ブチル N-((S)-2-((S)-1-(N-N-((S)-3-((S)-2-シクロペンチル-2-(1-((S)-1-((S)-4-(3,5-ジフルオロ-4-(トリフルオロメチル)フェニル)-2-((S)-3-メチル-2-(メチルアミノ)ブタンアミド)ブタノイル)ピロリジン-2-カルボキサミド)-N-メチルシクロペンタン-1-カルボキサミド)-N-メチルアセトアミド)-4-(ジメチルアミノ)-4-オキソブタノイル)-N-メチル-L-ロイシル-L-イソロイシル-N-メチル-L-アラニル)-N-エチルアゼチジン-2-カルボキサミド)-3-(p-トリル)プロパノイル)-N-メチルグリシナートの合成

　化合物25(300 mg, 含量 95.8 wt%, 実質量 287 mg)、およびMeCN(0.6 mL, 2.0 v/w)を反応容器へ加え、反応容器の窒素置換を行った。次いで、反応混合物を攪拌しながらDBU(22.8 μL, 1.0 eq.)を室温にて加えた後、室温にて30分撹拌した。反応混合物をサンプリングしてサンプル調製し(サンプル調製法1)、HPLC分析によりFmoc基の脱保護反応を評価し、反応が完結している（脱Fmoc体のピークが確認され、Fmoc体のピークが確認されないことを指す。以下同じ。）ことを確認した(Fmoc基の脱保護反応転換率の算出式)。次いで、反応混合物にトリエチルアミン(106 μL, 5.0 eq.)、水(27.5 μL, 10 eq.)、亜硫酸水素ナトリウム(55.5 mg, 3.5 eq.)を室温にて順次加えた。1時間30分攪拌後、反応混合物をサンプリングしてサンプル調製し(サンプル調製法1)、HPLC分析によりDBFの捕捉反応を評価し、反応転換率が99.9%以上であることを確認した(DBFの捕捉反応転換率の算出式1)。反応容器にIPAc(1.5 mL)、トルエン(1.5 mL)、20%アンモニア水溶液(3.0 mL)を加えて5分攪拌した。水層を排出した後、得られた有機層を再度20%アンモニア水溶液(3.0 mL)で洗浄した。サンプリングしてサンプル調製し(サンプル調製法1)、HPLC分析によりFMSAまたはFMSA Saltの残留率が0.11%であることを確認した(FMSAまたはFMSA Saltの残留率の算出式)。得られた有機層を外温40℃にて減圧濃縮し、化合物26を含む残渣(261 mg)を得て、以下に示す分析に付した。
化合物26のLC純度: 98.5% (HPLC分析条件: method 1)
含量: 95.7 wt%(得られた残渣と3,5-ビス(トリフルオロメチル)安息香酸をDMSO‐d₆に溶解させ、qNMR分析に付した。)
収率: 98.9%

実施例6
(i)化合物28：(S)-2-((((9H-フルオレン-9-イル)メトキシ)カルボニル)アミノ)-3-(4-ヨードフェニル)プロパン酸 tert-ブチルの合成

　反応容器内を窒素で置換し、化合物27（2.00 g）を反応容器に加えた。次いで、反応容器にシクロヘキサン(10 mL)、ジクロロメタン(4 mL)、tert-ブチル2,2,2-トリクロロアセトイミダート(1.75 mL)を加えた。三フッ化ほう素ジエチルエーテル錯体(98.8 μL)を加えた後、室温にて45分間撹拌した。次いで、三フッ化ほう素ジエチルエーテル錯体(98.8 μL)を追加した後、室温にて1時間5分撹拌した。さらに、tert-ブチル2,2,2-トリクロロアセトイミダート(1.05 mL)を追加した後、室温にて1時間撹拌した。反応混合物をサンプリングしてサンプル調製し(サンプル調製法1)、HPLC分析により反応転換率が81.7%であることを確認した(反応転換率の算出式1)。トリエチルアミン(0.217 mL)を加えて、得られたスラリーをろ過し、固体残渣をシクロヘキサン(20 mL×3)にて洗浄した。得られた濾液を外温30℃にて減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶離液：酢酸エチル/ヘプタン 10:90から39:61）により精製した。化合物28を含む溶出液を30℃にて減圧濃縮し、化合物28(1.60 g)を得た。
化合物28のLC純度：99.6% (HPLC分析条件：method 1)
含量: 96.9 wt%(得られた残渣と3,5-ビス(トリフルオロメチル)安息香酸をDMSO‐d₆に溶解させ、qNMR分析に付した。)
収率: 70.1%

(ii)化合物29：(S)-2-アミノ-3-(4-ヨードフェニル)プロパン酸 tert-ブチルの合成

　化合物28 (300 mg, 含量 96.9 wt%, 実質量 291 mg)、およびMeCN(0.57 mL, 2 v/w)を反応容器へ加え、反応容器の窒素置換を行った。次いで、反応混合物を攪拌しながらDBU(74.8 μL, 1.0 eq.)を室温にて加えた後、室温にて30分撹拌した。反応混合物をサンプリングしてサンプル調製し(サンプル調製法1)、HPLC分析によりFmoc基の脱保護反応を評価し、反応が完結していることを確認した(Fmoc基の脱保護反応転換率の算出式)。次いで、反応混合物にトリエチルアミン(279 μL, 4.0 eq.)、水(90.1 μL, 10 eq.)、亜硫酸水素ナトリウム(130 mg, 2.5 eq.)を室温にて順次加えた。1時間攪拌後、反応混合物をサンプリングしてサンプル調製し(サンプル調製法1)、HPLC分析によりDBFの捕捉反応を評価し、反応転換率が99.9%であることを確認した(DBFの捕捉反応転換率の算出式1)。反応容器にIPAc(1.5 mL)、トルエン(1.5 mL)、20%アンモニア水溶液(3.0 mL)を加えて5分攪拌した。水層を排出した後、得られた有機層を再度20%アンモニア水溶液(3.0 mL)で洗浄した。サンプリングしてサンプル調製し(サンプル調製法1)、HPLC分析によりFMSAまたはFMSA Saltの残留率が1.09%であることを確認した(FMSAまたはFMSA Saltの残留率の算出式)。得られた有機層を外温40℃にて減圧濃縮し、化合物29を含む残渣(175 mg)を得て、以下に示す分析に付した。
化合物29のLC純度: 93.3% (HPLC分析条件: method 1)
含量: 93.7 wt% (得られた残渣と3,5-ビス(トリフルオロメチル)安息香酸をDMSO‐d₆に溶解させ、qNMR分析に付した。)
収率: 92.7%

実施例７
化合物31：5-メチル-4-フェニルチアゾール-2-アミンの合成

　化合物30 (300 mg)、およびMeCN(0.60 mL, 2 v/w)を反応容器へ加え、反応容器の窒素置換を行った。次いで、反応混合物を攪拌しながらDBU(109 μL, 1.0 eq.)を室温にて加えた後、室温にて30分撹拌した。反応混合物をサンプリングしてサンプル調製し(サンプル調製法1)、HPLC分析によりFmoc基の脱保護反応を評価し、反応が完結していることを確認した(Fmoc基の脱保護反応転換率の算出式)。次いで、反応混合物にトリエチルアミン(406 μL, 4.0 eq.)、水(131 μL, 10 eq.)、亜硫酸水素ナトリウム(190 mg, 2.5 eq.)を室温にて順次加えた。1時間攪拌後、反応混合物をサンプリングしてサンプル調製し(サンプル調製法1)、HPLC分析によりDBFの捕捉反応を評価し、反応転換率が99.8%であることを確認した(DBFの捕捉反応転換率の算出式1)。反応容器にIPAc(1.50 mL)、トルエン(1.50 mL)、20%アンモニア水溶液(3.0 mL)を加えて5分攪拌した。水層を排出した後、得られた有機層を再度20%アンモニア水溶液(1.0 mL)で洗浄した。サンプリングしてサンプル調製し(サンプル調製法1)、HPLC分析によりFMSAまたはFMSA Saltの残留率が0.65%であることを確認した(FMSAまたはFMSA Saltの残留率の算出式)。得られた有機層を外温40℃にて減圧濃縮し、化合物31を含む残渣(130 mg)を得て、以下に示す分析に付した。
化合物31のLC純度: 95.1% (HPLC分析条件: method 1)
含量: 80.4 wt% (得られた残渣と3,5-ビス(トリフルオロメチル)安息香酸をDMSO‐d₆に溶解させ、qNMR分析に付した。)
収率: 75.7%

実施例8
(i)化合物33：(2S)-2-[[(2S)-2-(9H-フルオレン-9-イルメトキシカルボニルアミノ)ペンタ-4-エノイル]アミノ]-3-フェニル-プロパン酸 tert-ブチルの合成

　化合物32(0.964 g)、および化合物2(0.809 g, 1.1 eq.)を反応容器へ加え、反応容器の窒素置換を行った。次いで、反応混合物に2-MeTHF(12 mL, 12 v/w)、DIPEA(1.70 mL, 3.4 eq.)を室温にて順次加えた。攪拌しながらT3P(50 w/w% 2-MeTHF溶液、2.68 mL, 1.5 eq.)を加えた後、室温にて1時間撹拌した。反応混合物をサンプリングしてサンプル調製し(サンプル調製法1)、HPLC分析により反応転換率が99.9%であることを確認した(反応転換率の算出式1)。反応容器に5%炭酸ナトリウム水溶液(15 mL)を加えて5分攪拌した。水層を排出した後、得られた有機層を5%硫酸水素ナトリウム一水和物水溶液(15 mL×2)、5%炭酸ナトリウム水溶液(15 mL)、5%塩化ナトリウム水溶液(15 mL)で洗浄した。得られた有機層に対し硫酸ナトリウムによる脱水、ろ過による硫酸ナトリウムの除去を行った。外温40℃にて減圧濃縮し、化合物33を含む残渣(0.794 g)を得た。
化合物33のLC純度: 99.3% (HPLC分析条件: method 1)
含量: 93.8 wt%(得られた残渣と3,5-ビス(トリフルオロメチル)安息香酸をDMSO‐d₆に溶解させ、qNMR分析に付した。)

(ii)化合物34：(2S)-2-[[(2S)-2-アミノペンタ-4-エノイル]アミノ]-3-フェニル-プロパン酸 tert-ブチルの合成

　化合物33 (100 mg, 含量 93.8%, 実質量 94 mg)、およびMeCN(0.18 mL, 2 v/w)を反応容器へ加え、反応容器の窒素置換を行った。次いで、反応混合物を攪拌しながらDBU(25.9 μL, 1.0 eq.)を室温にて加えた後、室温にて30分撹拌した。反応混合物をサンプリングしてサンプル調製し(サンプル調製法1)、HPLC分析によりFmoc基の脱保護反応を評価し、反応転換率が99.9%以上進行していることを確認した(Fmoc基の脱保護反応転換率の算出式)。次いで、反応混合物にトリエチルアミン(96.0 μL, 4.0 eq.)、水(31.3 μL, 10 eq.)、亜硫酸水素ナトリウム(45.4 mg, 2.5 eq.)を室温にて順次加えた。1時間攪拌後、反応混合物をサンプリングしてサンプル調製し(サンプル調製法1)、HPLC分析によりDBFの捕捉反応を評価し、反応転換率が99.9%以上であることを確認した(DBFの捕捉反応転換率の算出式1)。反応容器にIPAc(0.50 mL)、トルエン(0.50 mL)、20%アンモニア水溶液(1.0 mL)を加えて5分攪拌した。水層を排出した後、得られた有機層を再度20%アンモニア水溶液(1.0 mL)で洗浄した。サンプリングしてサンプル調製し(サンプル調製法1)、HPLC分析によりFMSAまたはFMSA Saltの残留率が0.30%であることを確認した(FMSAまたはFMSA Saltの残留率の算出式)。得られた有機層を外温40℃にて減圧濃縮した。MeCN(50 μL)を加えて、化合物34を含むMeCN溶液(121 mg)として以下に示す分析に付した。
化合物34のLC純度: 99.1% (HPLC分析条件: method 1)
含量: 44.9 wt% (得られた残渣と3,5-ビス(トリフルオロメチル)安息香酸をDMSO‐d₆に溶解させ、qNMR分析に付した。)
収率: 98.6%

実施例9
反応条件検討
　化合物33を用いて、実施例8-(ii)と同様な操作において下表に示す反応条件にてFmoc基の脱保護、続くDBFの捕捉反応を実施し、Fmoc基の脱保護率およびDBFの捕捉率を測定した(Fmoc基の脱保護反応転換率の算出式、DBFの捕捉反応転換率の算出式1)。
　実施例9-1では、各試薬のモル当量を増やして実施し、DBFの捕捉反応の反応転換率が99.9%以上であることを確認した。
　実施例9-2では、トリエチルアミンを添加せずに実施したところDBFの捕捉反応の反応転換率が15.9%に低下したが、反応温度を50℃に加熱した実施例9-3では反応開始6時間後に転換率が88.9%に向上し、80℃に加熱した実施例9-4では反応開始6時間後に転換率が100%になることを確認した。
　実施例9-5、9-6、9-7、9-8、9-9、9-10では、それぞれ亜硫酸カリウム、亜硫酸水素カリウム、亜硫酸アンモニウム1水和物、亜硫酸カルシウム0.5水和物、亜ジチオン酸ナトリウムを捕捉剤として用いて検討し、どの条件もFMSAまたはFMSA SaltとしてDBFの捕捉が進行することを確認した。
　実施例9-11、9-12では、アミド系溶媒のDMAやアルコール系溶媒のMeOHを溶媒として用いて検討し、DBFの捕捉反応の転換率がそれぞれ99.1%、99.9%以上であることを確認した。
　実施例9-13、9-14では、DBFの捕捉条件時に添加する塩基としてDIPEA、2,6-lutidineを用いて検討し、DBFの捕捉反応の転換率がそれぞれ99.8%、67.4%であることを確認した。

実施例10
洗浄条件検討

　化合物33(32.0 mg, 含量 79.4%, 実質量 25.4 mg)、およびMeCN(540 μL, 21 v/w)を反応容器へ加え、反応容器の窒素置換を行った。次いで、反応混合物を攪拌しながらDBU(7.0 μL, 1.0 eq.)を室温にて加えた後、室温にて1時間撹拌した。反応混合物をサンプリングしてサンプル調製し(サンプル調製法1)、HPLC分析によりFmoc基の脱保護反応を評価し、反応転換率が99.3%であることを確認した(Fmoc基の脱保護反応転換率の算出式)。次いで、反応混合物にトリエチルアミン(65.5 μL, 10 eq.)、水(16.9 μL, 20 eq.)、亜硫酸水素ナトリウム(69.1 mg, 14 eq.)を室温にて順次加えた。3時間攪拌後、反応混合物をサンプリングしてサンプル調製し(サンプル調製法1)、HPLC分析によりDBFの捕捉反応を評価し、反応転換率が99.8%であることを確認した(DBFの捕捉反応転換率の算出式1)。反応溶液を3つに分け、それぞれに2-MeTHF(300 μL)を加えて、下表に示す条件にて洗浄を行い、HPLC分析によりFMSAまたはFMSA Saltの残留率を確認した（FMSAまたはFMSA Saltの残留率の計算式）。

実施例11
脱保護剤としてモルホリンを用いた実施例

　化合物33(32.5 mg, 含量 79.4%, 実質量 25.8 mg)、およびMeCN (0.127 mL, 5 v/w)を反応容器へ加え、反応容器の窒素置換を行った。次いで、反応混合物を攪拌しながらモルホリン(20.2 μL, 5.0 eq.)を室温にて加えた後、室温にて30分撹拌した。ついで、反応混合物を攪拌しながらモルホリン(20.2 μL, 5.0 eq.)を室温にて追加し、さらに1時間撹拌した反応混合物をサンプリングしてサンプル調製し(サンプル調製法1)、HPLC分析によりFmoc基の脱保護反応を評価し、反応転換率が91.8%であることを確認した(Fmoc基の脱保護反応転換率の算出式)。この時、DBFとDBFのモルホリン付加体である化合物35が観測され、DBFと化合物35の比率は6.5:93.5であった。次いで、反応混合物にトリエチルアミン(26.1 μL, 4.0 eq.)、水(8.4 μL, 10 eq.)、亜硫酸水素ナトリウム(27.5 mg, 5.6 eq.)を室温にて順次加え、15時間攪拌後、反応混合物をサンプリングしてサンプル調製し(サンプル調製法1)、HPLC分析によりFmoc基の脱保護反応およびDBFの捕捉反応を評価し、Fmoc基の脱保護反応の反応転換率は100%、DBFの捕捉反応の反応転換率が15.6%であることを確認した(Fmoc基の脱保護反応転換率の算出式、DBFの捕捉反応転換率の算出式2)。反応容器の外温を50℃に加温し、2時間攪拌した後に反応混合物をサンプリングしてサンプル調製し(サンプル調製法1)、HPLC分析によりDBFの捕捉反応を評価し、反応転換率が44.3%であることを確認した(DBFの捕捉反応転換率の算出式2)。さらに反応容器の外温を78℃に加温し、反応混合物を2時間攪拌した後に反応混合物をサンプリングしてサンプル調製し(サンプル調製法1)、HPLC分析によりDBFの捕捉反応を評価し、反応転換率が95.7%であることを確認した(DBFの捕捉反応転換率の算出式2)。

実施例12
脱保護剤として1級アミンまたは2級アミンを用いた実施例
　化合物33を用いて、実施例11と同様にFmoc基の脱保護反応において下表に示すアミンを用いてFmoc基の脱保護反応と、続くDBFの捕捉反応を実施し、Fmoc基の脱保護率およびDBFの捕捉率を測定した(Fmoc基の脱保護反応転換率の算出式、DBFの捕捉反応転換率の算出式1)。
　実施例12-1、12-2、12-3、12-4では、実施例11のモルホリン添加時の検討と異なり対応するアミンがDBFに付加した化合物は観測されなかったが、FMSAまたはFMSA SaltとしてDBFが捕捉されることを確認した。また、DBFの捕捉条件に付した後もFmoc基の脱保護反応が進行し、脱保護反応とDBFの捕捉反応が同時に進行することを確認した。

実施例13
脱保護とDBF捕捉を同時に行う実施例

　化合物33(32.0 mg, 含量79.4%, 実質量 25.4 mg)、MeCN(110 μL, 4.3 v/w)、2-MeTHF(110 μL, 4.3 v/w)を反応容器へ加え、反応容器の窒素置換を行った。次いで、反応混合物を攪拌しながらトリエチルアミン(65.2 μL, 10 eq.)、水(8.4 μL, 10 eq.)、亜硫酸水素ナトリウム(16.5 mg, 3.4 eq.)、DBU(20.9 μL, 3.0 eq.)を順次、室温にて加え1時間攪拌した。反応混合物をサンプリングしてサンプル調製し(サンプル調製法1)、HPLC分析によりFmoc基の脱保護反応の反応転換率が100%(Fmoc基の脱保護反応転換率の算出式)、ジベンゾフルベンの捕捉反応の反応転換率が99.9%以上(DBFの捕捉反応転換率の算出式1)であることを確認した。

実施例14
反応条件検討
　化合物33を用いて、実施例13と同様な操作において下表に示す反応条件にてFmoc基の脱保護とDBFの捕捉を同時に実施し、Fmoc基の脱保護率およびDBFの捕捉率を測定した(Fmoc基の脱保護反応転換率の算出式、DBFの捕捉反応転換率の算出式1)。
　実施例14-1、14-2、14-3、14-4では、MeOH溶媒を用いて実施し、水の有無に限らず25℃でも脱保護反応とDBFの捕捉反応は進行し、50℃に加熱すると1時間で脱保護反応とDBFの捕捉反応が完結することを確認した。
　実施例14-5のDMI溶媒を用いた場合は、反応温度が25℃でも1時間で脱保護反応とDBFの捕捉反応が完結した。実施例14-6では、DMI溶媒下、水を添加しない条件で実施したところ、DBFの捕捉反応の遅延が確認された。一方で、実施例14-17のようにトリエチルアミンを添加しない条件では、50℃にて1時間で脱保護反応とDBFの捕捉反応が完結することを確認した。
　実施例14-8、14-9では、DMSO溶媒を用い、どちらもトリエチルアミンを添加しない条件で実施した。実施例14-8の水を添加する条件では1時間で脱保護反応とDBFの捕捉反応は完結し、実施例14-9の水を添加しない条件でも反応時間を4時間に延長することでどちらの反応も完結することを確認した。

実施例15
亜硫酸水素ナトリウムを捕捉剤として用いた場合の塩基洗浄除去時のDBF再生の有無確認

　化合物33(32.0 mg, 含量 79.4%, 実質量 25.4 mg)、およびMeCN(540 μL, 21 v/w)を反応容器へ加え、反応容器の窒素置換を行った。次いで、反応混合物を攪拌しながらDBU(7.0 μL, 1.0 eq.)を室温にて加えた後、室温にて1時間撹拌した。反応混合物をサンプリングしてサンプル調製し(サンプル調製法1)、HPLC分析によりFmoc基の脱保護反応を評価し、反応転換率が99.4%であることを確認した(Fmoc基の脱保護反応転換率の算出式)。次いで、反応混合物にトリエチルアミン(65.5 μL, 10 eq.)、水(85 μL, 100 eq.)、亜硫酸水素ナトリウム(27.6 mg, 5.6 eq.)を室温にて順次加えた。4時間攪拌後、反応混合物をサンプリングしてサンプル調製し(サンプル調製法1)、HPLC分析によりDBFの捕捉反応を評価し、反応転換率が99.9%以上であることを確認した(DBFの捕捉反応転換率の算出式1)。次いで、反応混合物に酢酸エチル(0.5 mL)加えて、2.5%アンモニア水溶液(0.5 mL)で4回洗浄を行った。洗浄後の各水層に化合物34がほとんど存在していないことを確認し、化合物34を内部標準としてHPLC分析によりFMSAまたはFMSA Saltと化合物34との面積比およびDBFと化合物34との面積比を測定した。結果を表７に示す。洗浄回数を増やすとFMSAまたはFMSA Saltの面積比は徐々に減少し、一方でDBFには変化がないこと、つまりFMSAまたはFMSA saltからDBFが再生していないことを確認した。

比較例1
2-メルカプトエタンスルホン酸ナトリウムを捕捉剤として用いた場合の塩基洗浄除去時のDBF再生の有無確認

　化合物33(60.0 mg, 含量 79.4%, 実質量 47.6 mg)、2-メルカプトエタンスルホン酸ナトリウム(21.6 mg, 1.5 eq.)および2-MeTHF(1.1 mL, 23 v/w)を反応容器へ加え、反応容器の窒素置換を行った。次いで、反応混合物を攪拌しながらDBU(13.1 μL, 1.0 eq.)，を室温にて加えた後、外温を50℃に設定して3時間撹拌した。反応混合物をサンプリングしてサンプル調製し(サンプル調製法1)、HPLC分析によりFmoc基の脱保護反応の反応転換率が100%(Fmoc基の脱保護反応転換率の算出式)、DBFの捕捉反応の反応転換率は84.8%(DBFの捕捉反応転換率の算出式3)であることを確認した。次いで、反応混合物を5%リン酸三カリウム水溶液(1 mL)で4回洗浄を行った。洗浄後の各水層に化合物34がほとんど存在していないことを確認し、化合物34を内部標準としてHPLC分析により化合物36と化合物34との面積比およびDBFと化合物34との面積比を測定した。結果を表８に示す。洗浄回数を増やすと化合物36の面積比は徐々に減少し、一方でDBFは徐々に増加していること、つまり化合物36からDBFが再生していることを確認した。

比較例2
2-メルカプトエタンスルホン酸ナトリウムを捕捉剤として用いた場合の塩基洗浄除去時のDBF再生の有無確認

　化合物33 (94.0 mg, 含量 92.9%, 実質量 87.3 mg)、およびMeCN(2.0 mL, 21 v/w)を反応容器へ加え、反応容器の窒素置換を行った。次いで、反応混合物を攪拌しながらDBU(25.9 μL, 1.0 eq.)を室温にて加えた後、室温にて1時間撹拌した。反応混合物をサンプリングしてサンプル調製し(サンプル調製法1)、HPLC分析によりFmoc基の脱保護反応を評価し、反応が完結していることを確認した(Fmoc基の脱保護反応転換率の算出式)。次いで、反応混合物にトリエチルアミン(240 μL, 10 eq.)、水(310 μL, 100 eq.)、2-メルカプトエタンスルホン酸ナトリウム(160 mg, 5.6 eq.)を室温にて順次加えた。1時間攪拌後、反応混合物をサンプリングしてサンプル調製し(サンプル調製法1)、HPLC分析によりDBFの捕捉反応を評価し、反応転換率が100%であることを確認した(DBFの捕捉反応転換率の算出式3)。次いで、反応混合物に酢酸エチル(2.0 mL)加えて、2.5%アンモニア水溶液(2.0 mL)で4回洗浄を行った。洗浄後の各水層に化合物34がほとんど存在していないことを確認し、化合物34を内部標準としてHPLC分析によりFMSAまたはFMSA Saltと化合物34との面積比およびDBFと化合物34との面積比を測定した。結果を表９に示す。洗浄回数を増やすと化合物36の面積比は徐々に減少し、一方でDBFは徐々に増加していること、つまり化合物36からDBFが再生していることを確認した。

比較例3
(3-メルカプトプロピル)ホスホン酸を捕捉剤として用いた場合の塩基洗浄除去時のDBF再生の有無確認

　化合物33(29.1 mg, 含量 92.9%, 実質量 27.0 mg)、およびMeCN(611 μL, 21 v/w)を反応容器へ加え、反応容器の窒素置換を行った。次いで、反応混合物を攪拌しながらDBU(7.48 μL, 1.0 eq.)を室温にて加えた後、室温にて30分間撹拌した。反応混合物をサンプリングしてサンプル調製し(サンプル調製法1)、HPLC分析によりFmoc基の脱保護反応を評価し、反応が完結していることを確認した(Fmoc基の脱保護反応転換率の算出式)。次いで、反応混合物にトリエチルアミン(69.7 μL, 10 eq.)、水(90 μL, 100 eq.)、特許文献４に記載の合成例1の方法に準じて合成した(3-メルカプトプロピル)ホスホン酸(43.7 mg, 5.6 eq.)とを室温にて順次加えた。2時間攪拌後、(3-メルカプトプロピル)ホスホン酸(43.7 mg, 5.6 eq.)とトリエチルアミン(69.7 μL, 10 eq.)を追加した。1時間30分間攪拌後、トリエチルアミン(69.7 μL, 10 eq.)をさらに追加した。さらに1時間攪拌後、反応混合物をサンプリングしてサンプル調製し(サンプル調製法1)、HPLC分析によりDBFの捕捉反応を評価し、反応転換率が97.6%であることを確認した(DBFの捕捉反応転換率の算出式4)。次いで、反応混合物に酢酸エチル(0.6 mL)加えて、2.5%アンモニア水溶液(0.6 mL)で4回洗浄を行った。洗浄後の各水層に化合物34がほとんど存在していないことを確認し、化合物34を内部標準としてHPLC分析により化合物37と化合物34との面積比およびDBFと化合物34との面積比を測定した。結果を表１０に示す。洗浄回数を増やすと化合物37の面積比は徐々に減少し、一方でDBFは徐々に増加していること、つまり化合物37からDBFが再生していることを確認した。

　本発明は、Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基の脱保護工程で生じるジベンゾフルベンを捕捉するとともに、ジベンゾフルベンを再生することなく除去することが可能な、ジベンゾフルベンの新たな除去方法を提供するものである。

Claims

　以下の（１）、（１’）、または（１’’）の工程を含むジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体の除去方法：
（１）以下の(i)と(ii)とを混合する工程：
(i)ジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体、
(ii)亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンまたは亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンを生じさせる化合物
（１’）以下の(i)と(ii)とを混合する工程：
(i)ジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体、
(ii)亜硫酸水素塩、二亜硫酸およびその塩、亜硫酸およびその塩、亜ジチオン酸およびその塩、ならびにそれらの溶媒和物からなる群より選択される少なくとも一種
（１’’）（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸もしくはその塩、または（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸誘導体もしくはその塩を形成させる工程。
　前記（１）または（１’）の工程において、（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸もしくはその塩、または（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸誘導体もしくはその塩を形成させる、請求項１に記載の方法。
　（２）前記（１）、（１’）または（１’’）の工程前に、Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基でアミノ基が保護された第一のアミノ基含有化合物とＦｍｏｃ骨格を有する保護基を脱保護できる脱保護剤を混合する工程を含む、請求項１または２に記載の方法。
　以下の（３）または（３’）の工程を含むジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体の除去方法：
（３）以下の(i)～(iii)を混合する工程
(i)Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基でアミノ基が保護された第一のアミノ基含有化合物、
(ii)Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基を脱保護できる脱保護剤、
(iii)亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンまたは亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンを生じさせる化合物
（３’）以下の(i)～(iii)を混合する工程
(i)Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基でアミノ基が保護された第一のアミノ基含有化合物、
(ii)Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基を脱保護できる脱保護剤、
(iii)亜硫酸水素塩、二亜硫酸およびその塩、亜硫酸およびその塩、亜ジチオン酸およびその塩、ならびにそれらの溶媒和物からなる群より選択される少なくとも一種。
　以下の（３）または（３’）の工程を含む、Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基を脱保護する方法：
（３）以下の(i)～(iii)を混合する工程
(i)Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基でアミノ基が保護された第一のアミノ基含有化合物、
(ii)Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基を脱保護できる脱保護剤、
(iii)亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンまたは亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンを生じさせる化合物
（３’）以下の(i)～(iii)を混合する工程
(i)Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基でアミノ基が保護された第一のアミノ基含有化合物、
(ii)Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基を脱保護できる脱保護剤、
(iii)亜硫酸水素塩、二亜硫酸およびその塩、亜硫酸およびその塩、亜ジチオン酸およびその塩、ならびにそれらの溶媒和物からなる群より選択される少なくとも一種。
　前記（３）または（３’）の工程において、（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸もしくはその塩、または（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸誘導体もしくはその塩を形成させる、請求項４または５に記載の方法。
　Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基でアミノ基が保護された第一のアミノ基含有化合物とＦｍｏｃ骨格を有する保護基を脱保護できる脱保護剤を混合する工程により生じたジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体を前記（３）または（３’）の工程により生じた混合物から除去する、請求項４～６のいずれか一項に記載の方法。
　（４）前記（１）、（１’）、（１’’）、（３）または（３’）のうち、１つ以上の工程後の混合物を、洗浄用溶液で洗浄する工程を更に含む、請求項１～７のいずれか一項に記載の方法。
　前記（１）、（１’）、（１’’）、（３）もしくは（３’）のうち、１つ以上の工程において、添加剤を更に混合することを含む、請求項１～８のいずれか一項に記載の方法。
　前記Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基を脱保護できる脱保護剤が、第二の塩基である、請求項３～９のいずれか一項に記載の方法。
　請求項１～１０のいずれか一項に記載の方法を含む、第一の化合物の製造方法。
　前記第一の化合物がアミノ酸またはペプチドである、請求項１１に記載の製造方法。
　以下の工程を含むペプチド化合物の製造方法：
１）亜硫酸イオンまたは亜硫酸水素イオンの存在下で、Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基を脱保護できる脱保護剤によりＦｍｏｃ骨格を有する保護基で保護された保護基ペプチドを処理し、保護基を除去した脱保護ペプチドを得る工程、
２）必要に応じて１種以上のアミノ酸で、脱保護されたペプチドを伸長させ、伸長させたペプチドを得る工程。
　ジベンゾフルベンまたはジベンゾフルベン誘導体を除去するための以下の（ａ）または（ｂ）の使用：
（ａ）亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオン、または亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンを生成する化合物、及び／または
（ｂ）亜硫酸水素塩、二亜硫酸及びその塩、亜硫酸及びその塩、亜ジチオン酸及びその塩、並びにこれらの溶媒和物からなる群から選択される少なくとも一つの化合物。
　Ｆｍｏｃ骨格を有する保護基を脱保護するための以下の（ａ）および／または（ｂ）とＦｍｏｃ骨格を有する保護基を脱保護できる脱保護剤との併用：
（ａ）亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオン、または亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンを生成する化合物、
（ｂ）亜硫酸水素塩、二亜硫酸及びその塩、亜硫酸及びその塩、亜ジチオン酸及びその塩、並びにこれらの溶媒和物からなる群から選択される少なくとも一つの化合物。
　アミノ基含有化合物、および（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸もしくはその塩、または（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸誘導体もしくはその塩を含む組成物であって、（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸もしくはその塩、または（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸誘導体もしくはその塩の含有割合が、アミノ基含有化合物及び（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸もしくはその塩、または（９Ｈ－フルオレン－９－イル）メタンスルホン酸誘導体もしくはその塩に対して、０．０１以下である組成物。