WO2018092531A1 - 蒸着マスク - Google Patents

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    • H10K71/166—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using selective deposition, e.g. using a mask

Definitions

  • organic EL display devices are attracting attention because of their excellent responsiveness, low power consumption, and high contrast.
  • a method of forming pixels of an organic EL display device a method of forming pixels with a desired pattern using a vapor deposition mask including through holes arranged in a desired pattern is known. Specifically, first, the deposition mask is brought into intimate contact with the organic EL substrate (deposition substrate) for the organic EL display device, and then the adhered deposition mask and the organic EL substrate are both put into the deposition apparatus, A vapor deposition step of vapor-depositing an organic material (vapor deposition material) on the organic EL substrate is performed.
  • the magnetic force acting between two objects is inversely proportional to the square of the distance between the two objects.
  • minute undulations are generated in the vapor deposition mask in the width direction of the vapor deposition mask.
  • the inventors of the present invention cause variations in the distance from the magnet in the width direction of the vapor deposition mask due to the minute undulations generated in the width direction of the vapor deposition mask, and the vapor deposition mask is attracted to the vapor deposition substrate due to this. We believe that timing will vary.
  • a plurality of through holes 25 intended to allow the vapor deposition material to pass when the vapor deposition material is vapor-deposited on the deposition target substrate which is the vapor deposition object are formed in a desired pattern.
  • the through hole 25 is formed by etching the metal plate 21 from at least the second surface 21b side.
  • the vapor deposition mask device 10 has a first surface 20a of the vapor deposition mask 20 (a first surface 21a of the metal plate 21) facing a lower surface of a substrate to be vapor-deposited, for example, an organic EL substrate 92.
  • the central portion of the vapor deposition mask 20 in the longitudinal direction d L is most warped in a cross section perpendicular to the longitudinal direction d L. That is, the central portion in the longitudinal direction d L of the deposition mask 20 has the greatest curvature in a cross section perpendicular to the longitudinal direction d L. In other words, the central portion in the longitudinal direction d L of the deposition mask 20 has the smallest radius of curvature in a cross section perpendicular to the longitudinal direction d L.
  • the width along the width direction d W of the deposition mask 20 is changed only to be narrower toward the central portion in the longitudinal direction d L from the end portion of each ear region 24 side . More particularly, in the illustrated example, the width along the width direction d W of the deposition mask 20 is narrow so as to change toward the end of each ear region 24 side to the central portion in the longitudinal direction d L continuing. As a result, the width along the width direction d W of the deposition mask 20 in the central portion in the longitudinal direction d L, the end of each ear region 24 side of the region sandwiched by the pair of ear regions 24 in the vapor deposition mask 20 It is smaller than the width along the width direction d W of the deposition mask 20 in. Especially, the width along the width direction d W of the deposition mask 20 in the central portion in the longitudinal direction d L, within interposed between a pair of ear regions 24 in the vapor deposition mask 20 regions, and has a smallest width.
  • connection portion 41 which is a portion having the minimum cross-sectional area of the through hole 25, and other arbitrary positions of the wall surface 36 of the second recess 35. It is advantageous to sufficiently increase the minimum angle ⁇ (see FIG. 7) formed by the straight line L1 passing through the normal direction of the vapor deposition mask 20.
  • one active region 22 is disposed on the central portion in the longitudinal direction d L .
  • one or more total pitches arranged on one side of the effective area 22 in the width direction d W. among pitch mark 47, and one of the reference point 45 of the longitudinal d L closest first total pitch mark 47a two reference points 45 in the central portion of the second total corresponding to the first total pitch mark 47a
  • the pitch mark 47 b is set as the other reference point 45 of the two reference points 45.
  • the total content of nickel and cobalt is 30% by mass or more and 54% by mass or less, and the content of cobalt is 0% by mass or more and 6% by mass or less.
  • An iron alloy or the like can be used.
  • Specific examples of nickel or an iron alloy containing nickel and cobalt include an invar material containing nickel of 34% by mass or more and 38% by mass or less, a super containing cobalt in addition to nickel of 30% by mass or more and 34% by mass or less. Invar materials can be mentioned.
  • the metal plate 64 is manufactured by rolling a metal material.

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Abstract

［課題］蒸着マスクを被蒸着基板に密着させた際に当該蒸着マスクにシワを生じることを抑制する。 ［解決手段］蒸着マスク２０は、被蒸着基板に対面する側の面をなす第１面２０ａと、第１面２０ａと反対側の面をなす第２面２０ｂとを備え、複数の貫通孔２５が形成された有効領域２２を有し、長手方向ｄＬを有するとともに、長手方向ｄＬに沿って１以上の有効領域２２が配列されており、少なくとも長手方向ｄＬの中央部における、長手方向ｄＬに直交する断面において、第１面２０ａ側に凸になるように反っている。

Description

蒸着マスク
　本発明は、有機ＥＬ基板等の被蒸着基板に、蒸着材料を所望のパターンで蒸着させる際に用いられる蒸着マスクに関する。
　近年、スマートフォンやタブレットＰＣ等の持ち運び可能なデバイスで用いられる表示装置に対して、高精細であること、例えば画素密度が５００ｐｐｉ以上であることが求められている。また、持ち運び可能なデバイスにおいても、ウルトラハイディフィニション（ＵＨＤ）に対応することへの需要が高まっており、この場合、表示装置の画素密度が例えば８００ｐｐｉ以上であることが求められる。
　表示装置の中でも、応答性の良さ、消費電力の低さやコントラストの高さのため、有機ＥＬ表示装置が注目されている。有機ＥＬ表示装置の画素を形成する方法として、所望のパターンで配列された貫通孔を含む蒸着マスクを用い、所望のパターンで画素を形成する方法が知られている。具体的には、はじめに、有機ＥＬ表示装置用の有機ＥＬ基板（被蒸着基板）に対して蒸着マスクを密着させ、次に、密着させた蒸着マスク及び有機ＥＬ基板を共に蒸着装置に投入し、有機材料（蒸着材料）を有機ＥＬ基板に蒸着させる蒸着工程を行う。被蒸着基板に蒸着マスクを密着させる際には、例えば、被蒸着基板の蒸着マスクと反対の側の面上に磁石を配置しておき、蒸着マスクを被蒸着基板に近づけることにより、蒸着マスクを磁石からの磁力によって当該磁石に引き寄せ被蒸着基板に密着させるようにすることができる。
　このような蒸着マスクとして、フォトリソグラフィー技術を用いたエッチング法により複数の貫通孔が形成された蒸着マスクが知られている（ＪＰ２０１５－２１４７４１Ａ参照）。ＪＰ２０１５－２１４７４１Ａに開示された蒸着マスクでは、蒸着マスクを形成する金属板の一方の面側からエッチングにより第１凹部が形成され、当該金属板の他方の面側からエッチングにより第２凹部が形成され、この第１凹部及び第２凹部によって蒸着マスクの各貫通孔が形成される。これにより、複数の貫通孔を有する有効領域が、蒸着マスクの長手方向と平行な方向に沿って複数配列された蒸着マスクが得られる。
　蒸着マスクを用いて蒸着材料を被蒸着基板上に成膜する場合、基板だけでなく蒸着マスクにも蒸着材料が付着する。例えば、蒸着材料の中には、蒸着マスクの法線方向に対して大きく傾斜した方向に沿って被蒸着基板に向かうものも存在するが、そのような蒸着材料は、被蒸着基板に到達するよりも前に蒸着マスクの貫通孔の壁面に到達して付着する。この場合、被蒸着基板のうち蒸着マスクの貫通孔の壁面の近傍に位置する領域には蒸着材料が付着しにくくなり、この結果、付着する蒸着材料の厚みが他の部分に比べて小さくなってしまったり、蒸着材料が付着していない部分が生じてしまったりすることが考えられる。すなわち、蒸着マスクの貫通孔の壁面の近傍における蒸着が不安定になってしまうことが考えられる。したがって、有機ＥＬ表示装置の画素を形成するために蒸着マスクが用いられる場合、画素の寸法精度や位置精度が低下してしまい、この結果、有機ＥＬ表示装置の発光効率が低下してしまう虞がある。このような不具合の発生を抑制するため、蒸着マスク全体の厚みを小さくすることにより、蒸着マスクの貫通孔の壁面の高さを小さくし、蒸着材料のうち貫通孔の壁面に付着するものの比率を低くすることが求められている。
　しかしながら、このような厚みが小さくされたすなわち薄板化された蒸着マスクは、被蒸着基板に密着させる際にシワを生じやすい。とりわけ、蒸着マスクが長手方向を有し当該長手方向に沿って架張される場合、蒸着マスクは、その長手方向に沿って延びるシワを生じやすい。このような蒸着マスクのシワについて本件発明者らが鋭意検討を進めたところ、蒸着マスク内において、被蒸着基板の蒸着マスクと反対側に配置された磁石の磁力により被蒸着基板に引き寄せられるタイミングにばらつきがあることが知見された。
　２つの物体間に働く磁力は、当該２つの物体間の距離の二乗に反比例することが知られている。蒸着マスクが長手方向を有し当該長手方向に沿って架張される場合、架張にともなって蒸着マスクの幅方向において当該蒸着マスクに微小なうねりが生じる。本件発明者らは、この蒸着マスクの幅方向に生じた微小なうねりにより、蒸着マスクの幅方向において磁石との距離にばらつきを生じ、これに起因して当該蒸着マスクが被蒸着基板に引き寄せられるタイミングにばらつきが生じるものと考えている。すなわち、蒸着マスク内の磁石との距離が小さい箇所が磁石との距離が大きい箇所よりも先に被蒸着基板に密着するようになるものと考えられる。蒸着マスクと被蒸着基板とが密着した箇所には摩擦力が働き、この摩擦力により当該箇所において蒸着マスクが被蒸着基板の板面方向に移動することが妨げられる。したがって、蒸着マスクにおける被蒸着基板に先に密着した二つの箇所の間に位置する領域は、当該密着した箇所における蒸着マスクが被蒸着基板の板面方向に移動することが妨げられていることにより、被蒸着基板に密着することができない。薄板化された蒸着マスクは、薄板化されていない蒸着マスクと比較して、長手方向に架張された際に生じるうねりが相対的に大きくなる。これにより、薄板化された蒸着マスクは、被蒸着基板に密着させる際にシワを生じやすくなるものと考えられる。
　本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、蒸着マスクを被蒸着基板に密着させた際に当該蒸着マスクにシワを生じることを抑制することを目的とする。
　本発明の蒸着マスクは、
　蒸着材料の被蒸着基板への蒸着に用いられ、前記被蒸着基板に対面する側の面をなす第１面と、前記第１面と反対側の面をなす第２面とを備えた蒸着マスクであって、
　複数の貫通孔が形成された有効領域を有し、
　長手方向を有するとともに、前記長手方向に沿って１以上の前記有効領域が配列されており、
　少なくとも前記長手方向の中央部における、前記長手方向に直交する断面において、前記第１面側に凸になるように反っている。
　本発明の蒸着マスクにおいて、
　前記有効領域を取り囲む周囲領域を有し、
　前記周囲領域における前記有効領域の前記幅方向の一方側に配置された１以上のトータルピッチマークのうち、前記長手方向の中央部に最も近いトータルピッチマークを第１トータルピッチマークとし、
　前記周囲領域における前記有効領域の前記幅方向の他方側に配置された１以上のトータルピッチマークのうち、前記第１トータルピッチマークに対応するトータルピッチマークを第２トータルピッチマークとし、
　前記蒸着マスクを、前記第１面が上方を向くようにして水平な平坦面上に載置し、前記第１トータルピッチマークと前記第２トータルピッチマークとの間の前記幅方向に沿った距離をＤ１（ｍｍ）とし、
　前記蒸着マスクを、前記第１面が上方を向くようにして水平な平坦面上に載置し、前記蒸着マスクに上方から荷重をかけて前記蒸着マスクを平坦化したときの、前記第１トータルピッチマークと前記第２トータルピッチマークとの間の前記幅方向に沿った距離をＤ２（ｍｍ）としたときに、
　前記距離Ｄ２と前記距離Ｄ１との差（Ｄ２－Ｄ１）の値が、０ｍｍより大きく０．０５ｍｍより小さくてもよい。
　本発明の蒸着マスクにおいて、
　前記蒸着マスクの前記幅方向の一方側の端縁に最も近接した１以上の前記貫通孔のうち、前記長手方向の中央部に最も近い貫通孔を第１貫通孔とし、
　前記蒸着マスクの前記幅方向の他方側の端縁に最も近接した１以上の前記貫通孔のうち、前記第１貫通孔との間の前記長手方向に沿った離間距離が最も小さい貫通孔を第２貫通孔とし、
　前記蒸着マスクを、前記第１面が上方を向くようにして水平な平坦面上に載置し、前記第１貫通孔と前記第２貫通孔との間の前記幅方向に沿った距離をＤ１（ｍｍ）とし、
　前記蒸着マスクを、前記第１面が上方を向くようにして水平な平坦面上に載置し、前記蒸着マスクに上方から荷重をかけて前記蒸着マスクを平坦化したときの、前記第１貫通孔と前記第２貫通孔との間の前記幅方向に沿った距離をＤ２（ｍｍ）としたときに、
　前記距離Ｄ２と前記距離Ｄ１との差（Ｄ２－Ｄ１）の値が、０ｍｍより大きく０．０５ｍｍより小さくてもよい。
［発明の効果］
　本発明によれば、蒸着マスクを被蒸着基板に密着させた際に当該蒸着マスクにシワを生じることを効果的に抑制することができる。
図１は、本発明の一実施の形態を説明するための図であって、蒸着マスクを含む蒸着マスク装置の一例を示す概略平面図である。 図２は、図１に示す蒸着マスク装置を用いて被蒸着基板に蒸着材料を蒸着させる方法を説明するための図である。 図３は、図１に示された蒸着マスクを示す斜視図である。 図４は、図３のＩＶ－ＩＶ線に対応する断面において蒸着マスクを示す図である。 図５は、図３の蒸着マスクを示す平面図である。 図６は、図１に示された蒸着マスクを示す部分平面図である。 図７は、図６の蒸着マスクのＶＩＩ－ＶＩＩ線に沿った断面図である。 図８は、図６の蒸着マスクのＶＩＩＩ－ＶＩＩＩ線に沿った断面図である。 図９は、図６の蒸着マスクのＩＸ－ＩＸ線に沿った断面図である。 図１０は、図５の蒸着マスクを示す部分平面図であり、とりわけ蒸着マスクの基準点の一例について説明するための図である。 図１１は、図１０の２つの基準点間の距離を測定する方法について説明するための図である。 図１２は、図１０の２つの基準点間の距離を測定する方法について説明するための図である。 図１３は、蒸着マスクの基準点の他の例について説明するための図である。 図１４は、蒸着マスクの基準点のさらに他の例について説明するための図である。 図１５は、蒸着マスクの基準点のさらに他の例について説明するための図である。 図１６は、図１に示す蒸着マスクの製造方法の一例を全体的に説明するための模式図である。 図１７は、蒸着マスクの製造方法の一例を説明するための図である。 図１８は、蒸着マスクの製造方法の一例を説明するための図である。 図１９は、蒸着マスクの製造方法の一例を説明するための図である。 図２０は、蒸着マスクの製造方法の一例を説明するための図である。 図２１は、蒸着マスクの製造方法の一例を説明するための図である。 図２２は、蒸着マスクの製造方法の一例を説明するための図である。 図２３は、蒸着マスクが被蒸着基板に密着する様子を示す図である。 図２４は、蒸着マスクが被蒸着基板に密着する様子を示す図である。 図２５は、蒸着マスクが被蒸着基板に密着する様子を示す図である。 図２６は、実施例について説明するための図である。 図２７は、実施例について説明するための図である。
　以下、図面を参照して本発明の一実施の形態について説明する。なお、本件明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺及び縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。
　図１～図２５は、本発明による一実施の形態を説明するための図である。以下の実施の形態では、有機ＥＬ表示装置を製造する際に有機材料（蒸着材料）を所望のパターンで有機ＥＬ基板（被蒸着基板）上に蒸着させてパターニングするために用いられる蒸着マスク及びこの蒸着マスクを用いた蒸着方法を例にあげて説明する。ただし、このような適用に限定されることなく、種々の用途に用いられる蒸着マスク及びこの蒸着マスクを用いた蒸着方法に対し、本発明を適用することができる。
　なお、本明細書において、「板」、「シート」、「フィルム」の用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。例えば、「板」は「シート」や「フィルム」と呼ばれ得るような部材も含む概念であり、したがって、例えば「金属板」は、「金属シート」や「金属フィルム」と呼ばれる部材と呼称の違いのみにおいて区別され得ない。
　また、「板面（シート面、フィルム面）」とは、対象となる板状（シート状、フィルム状）の部材を全体的かつ大局的に見た場合において対象となる板状部材（シート状部材、フィルム状部材）の平面方向と一致する面のことを指す。また、板状（シート状、フィルム状）の部材に対して用いる法線方向とは、当該部材の板面（シート面、フィルム面）に対する法線方向のことを指す。
　さらに、本明細書において用いる、形状や幾何学的条件及び物理的特性並びにそれらの程度を特定する、例えば、「平行」、「直交」、「同一」、「同等」等の用語や長さや角度並びに物理的特性の値等については、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待し得る程度の範囲を含めて解釈することとする。
　まず、蒸着マスクを含む蒸着マスク装置の一例について、図１及び図２を参照して説明する。図１は、蒸着マスクが組み込まれた蒸着マスク装置の一例を示す平面図であり、図２は、図１に示す蒸着マスク装置の使用方法を説明するための図である。
　図１及び図２に示された蒸着マスク装置１０は、略矩形状の金属板２１からなる複数の蒸着マスク２０と、複数の蒸着マスク２０を保持するフレーム１５と、を備えている。蒸着マスク２０は、互いに対向する第１面２０ａ及び第２面２０ｂを有し、金属板２１は、互いに対向する第１面２１ａ及び第２面２１ｂを有している。金属板２１の第１面２１ａは、蒸着マスク２０の第１面２０ａの一部をなし、金属板２１の第２面２１ｂは、蒸着マスク２０の第２面２０ｂの一部をなしている。
　図１に示されているように、蒸着マスク２０は、その長手方向に沿って配列された複数の有効領域２２と、有効領域２２を取り囲む周囲領域２３と、有効領域２２及び周囲領域２３を挟んで蒸着マスク２０の長手方向の端部に位置する一対の耳部領域２４と、を有し、各耳部領域２４において、フレーム１５に取り付けられている。すなわち、フレーム１５は、矩形状の蒸着マスク２０の長手方向の端部に取り付けられている。図１及び図２に示された例では、蒸着マスク２０が撓んでしまうことがないように、フレーム１５は、蒸着マスク２０をその長手方向に架張した状態で、すなわち蒸着マスク２０の長手方向に張力が生じた状態で、保持している。蒸着マスク２０とフレーム１５とは、例えばスポット溶接により互いに対して固定されている。
　有効領域２２には、蒸着対象物である被蒸着基板へ蒸着材料を蒸着させる際に蒸着材料を通過させることを意図された複数の貫通孔２５が、所望のパターンで形成されている。図示された例では、貫通孔２５は、金属板２１を少なくとも第２面２１ｂ側からエッチングすることにより形成されている。この蒸着マスク装置１０は、図２に示すように、蒸着マスク２０の第１面２０ａ（金属板２１の第１面２１ａ）が、被蒸着基板、例えば有機ＥＬ基板９２、の下面に対面するようにして、蒸着マスク２０が蒸着装置９０内に支持され、被蒸着基板への蒸着材料の蒸着に使用される。したがって、蒸着マスク２０の第１面２０ａは被蒸着基板に対面する側の面をなし、第２面２０ｂは第１面２０ａと反対側の面をなしている。
　蒸着装置９０内では、磁石９３からの磁力によって、蒸着マスク２０と有機ＥＬ基板９２とが密着するようになる。蒸着装置９０内には、蒸着マスク装置１０の下方に、蒸着材料（一例として、有機発光材料）９８を収容するるつぼ９４と、るつぼ９４を加熱するヒータ９６とが配置されている。蒸着装置９０内を高真空に減圧した後、るつぼ９４内の蒸着材料９８が、ヒータ９６からの加熱により気化又は昇華して有機ＥＬ基板９２の表面に付着するようになる。上述したように、蒸着マスク２０には多数の貫通孔２５が形成されており、蒸着材料９８はこの貫通孔２５を介して有機ＥＬ基板９２に付着する。この結果、蒸着マスク２０の貫通孔２５の位置に対応した所望のパターンで、蒸着材料９８が有機ＥＬ基板９２の表面に成膜される。
　上述したように、本実施の形態では、貫通孔２５が蒸着マスク２０の各有効領域２２において所定のパターンで配置されている。なお、カラー表示を行いたい場合には、貫通孔２５の配列方向（前述の一方向）に沿って蒸着マスク２０（蒸着マスク装置１０）と有機ＥＬ基板９２とを少しずつ相対移動させ、赤色用の有機発光材料、緑色用の有機発光材料及び青色用の有機発光材料を順に蒸着させていってもよい。また、各色ごとに、例えば異なるパターンで貫通孔２５が配置された、異なる蒸着マスク２０を用いて、有機ＥＬ基板９２への有機発光材料の蒸着を行うようにしてもよい。
　ところで蒸着処理は、高温雰囲気となる蒸着装置９０の内部で実施される場合がある。この場合、蒸着処理の間、蒸着装置９０の内部に保持される蒸着マスク２０、フレーム１５、及び、被蒸着基板すなわち有機ＥＬ基板９２も加熱される。この際、蒸着マスク２０、フレーム１５及び有機ＥＬ基板９２は、各々の熱膨張係数に基づいた寸法変化の挙動を示すことになる。この場合、蒸着マスク２０やフレーム１５と有機ＥＬ基板９２の熱膨張係数が大きく異なっていると、それらの寸法変化の差異に起因した位置ずれが生じ、この結果、有機ＥＬ基板９２上に付着する蒸着材料の寸法精度や位置精度が低下してしまう。このような課題を解決するため、蒸着マスク２０及びフレーム１５の熱膨張係数が、有機ＥＬ基板９２の熱膨張係数と同等の値であることが好ましい。例えば、有機ＥＬ基板９２としてガラス基板が用いられる場合、蒸着マスク２０（金属板２１）及びフレーム１５の材料として、例えば、ニッケル及びコバルトの含有量が合計で３０質量％以上且つ５４質量％以下であり、且つコバルトの含有量が０質量％以上且つ６質量％以下である鉄合金を用いることができる。ニッケル若しくはニッケル及びコバルトを含む鉄合金の具体例としては、３４質量％以上且つ３８質量％以下のニッケルを含むインバー材、３０質量％以上且つ３４質量％以下のニッケルに加えてさらにコバルトを含むスーパーインバー材などを挙げることができる。
　蒸着マスク２０（金属板２１）の厚みは、一例として、１０μｍ以上４０μｍ以下とすることができる。蒸着マスクは、年々、高画素密度化とともにその厚みが小さくなっている。蒸着マスク２０の厚みが４０μｍ以下であると、内部応力の影響により蒸着マスク２０にカールが発生した場合であっても、蒸着マスク２０を磁石９３の磁力により有機ＥＬ基板９２に密着させる際に蒸着マスク２０が十分に変形するので、蒸着マスク２０の有機ＥＬ基板９２への密着性を向上させることができる。また、蒸着マスク２０の厚みが８μｍ以上であると、蒸着マスク２０のハンドリング中において蒸着マスク２０に変形が生じることを効果的に抑制することができ、これにより製品歩留まりの向上を図ることができる。とりわけ、蒸着マスク２０の材料として、ニッケル及びコバルトの含有量が合計で３０質量％以上且つ５４質量％以下であり、且つコバルトの含有量が０質量％以上且つ６質量％以下である鉄合金を用いた場合、蒸着マスク２０の厚みを１０μｍ以上とすることにより、蒸着マスク２０のハンドリング中において蒸着マスク２０に変形が生じることを抑制する効果がより顕著に発揮される。
　なお、蒸着処理の際に、蒸着マスク２０、フレーム１５及び有機ＥＬ基板９２の温度が高温に達しない場合には、蒸着マスク２０及びフレーム１５の熱膨張係数は、有機ＥＬ基板９２の熱膨張係数と同等の値でなくてもよい。この場合、蒸着マスク２０（金属板２１）の材料として、上述のニッケルを含む鉄合金以外の様々な材料を用いることができる。一例として、蒸着マスク２０（金属板２１）の材料として、クロムを含む鉄合金、ニッケル及びクロムを含む鉄合金等のいわゆるステンレス材を用いることができる。また、ニッケルやニッケル－コバルト合金など、鉄合金以外の金属材料を用いることもできる。
　次に、蒸着マスク２０について、主に図１及び図３～図５を参照して説明する。図３は、図１に示された蒸着マスク２０を示す斜視図であり、図４は、図３のＩＶ－ＩＶ線に対応する断面において蒸着マスク２０を示す図であり、図５は、図３の蒸着マスク２０を示す平面図である。
　本実施の形態において、蒸着マスク２０は、金属板２１からなり、蒸着マスク２０（金属板２１）の法線方向から見て、すなわち平面視において、略四角形形状、さらに正確には平面視において略矩形状の輪郭を有している。とりわけ図３に示された例では、蒸着マスク２０は、平面視において長手方向ｄＬ及び長手方向ｄＬと直交する幅方向ｄＷを有する略矩形状の輪郭を有している。蒸着マスク２０の金属板２１は、規則的な配列で貫通孔２５が形成された１以上の有効領域２２と、各有効領域２２を取り囲む周囲領域２３と、有効領域２２及び周囲領域２３を挟んで蒸着マスク２０の長手方向ｄＬの両端部に位置する一対の耳部領域２４と、を含んでいる。
　周囲領域２３及び耳部領域２４は、有効領域２２を支持するための領域であり、被蒸着基板へ蒸着されることを意図された蒸着材料が通過する領域ではない。例えば、有機ＥＬ表示装置用の有機発光材料の蒸着に用いられる蒸着マスク２０においては、有効領域２２とは、有機発光材料が蒸着して画素を形成するようになる被蒸着基板（有機ＥＬ基板９２）上の区域、すなわち、作製された有機ＥＬ表示装置の表示面をなすようになる有機ＥＬ基板９２上の区域に対面する、蒸着マスク２０内の領域のことである。ただし、種々の目的から、周囲領域２３や耳部領域２４に貫通孔や凹部が形成されていてもよい。本実施の形態では、各有効領域２２は、平面視において略四角形形状、さらに正確には平面視において略矩形状の輪郭を有している。なお、図示はしないが、各有効領域２２は、有機ＥＬ基板９２から作製される有機ＥＬ表示装置の表示領域の形状に応じて、様々な形状の輪郭を有することができる。例えば各有効領域２２は、円形状の輪郭を有していてもよい。
　図１に示された例では、蒸着マスク２０は複数の有効領域２２を有しており、各有効領域２２は、蒸着マスク２０の長手方向と平行な一方向に沿って所定の間隔を空けて一列に配列されている。図示された例では、有機ＥＬ基板９２は、１枚の当該有機ＥＬ基板９２から複数の有機ＥＬ表示装置が作製可能に構成されている。すなわち、有機ＥＬ基板９２は、有機ＥＬ表示装置の多数個取りが可能とされている。また、図示された例では、一つの有効領域２２が、有機ＥＬ基板９２から作製されるべき一つの有機ＥＬ表示装置に対応するようになっている。したがって、図１に示された蒸着マスク装置１０（蒸着マスク２０）によれば、有機ＥＬ基板９２への多面付蒸着が可能となっている。
　本実施の形態の蒸着マスク２０は、少なくとも長手方向ｄＬの中央部における、長手方向ｄＬに直交する断面において、第１面２０ａ側に凸になるように反っている。ここで、蒸着マスク２０の長手方向ｄＬの中央部は、蒸着マスク２０の長手方向ｄＬの中心２６を含んで長手方向ｄＬに沿って所定の長さを有する領域を指す。とりわけ蒸着マスク２０の長手方向ｄＬの中心２６と、中央部の長手方向ｄＬの中心とは一致する。したがって、中央部の長手方向ｄＬの中心も、符号２６で示される。また、中央部の長手方向ｄＬに沿った所定の長さは、有効領域２２の長手方向ｄＬに沿った長さの１／２とすることができる。そして、蒸着マスク２０が、長手方向ｄＬの中央部における、長手方向ｄＬに直交する断面において、第１面２０ａ側に凸になるように反っているとは、蒸着マスク２０が、長手方向ｄＬの中央部に含まれる、長手方向ｄＬに直交するいずれかの断面において、第１面２０ａ側に凸になるように反っていることを指す。とりわけ図３に示された例では、蒸着マスク２０は、少なくとも長手方向ｄＬの中心２６における、長手方向ｄＬに直交する断面において、第１面２０ａ側に凸になるように反っている。
　また、蒸着マスク２０が、第１面２０ａ側に凸になるように反っているとは、図１１を参照して後述するように、蒸着マスク２０を、第１面２０ａが上方を向くようにして水平な平坦面５２上に載置した場合に、第２面２０ｂにおける幅方向ｄＷの両端縁２９で平坦面５２と接触し、第２面２０ｂにおける幅方向ｄＷの中央部２７が平坦面５２と接触しない形状を指す。換言すると、蒸着マスク２０の第２面２０ｂと平坦面５２との間に、第２面２０ｂにおける幅方向ｄＷの両端縁２９の箇所を除いて、隙間Ｇが形成される形状を指す。
　図３に示された例では、蒸着マスク２０における、長手方向ｄＬの中央部を含む、有効領域２２が配置された領域の全体にわたって、長手方向ｄＬに直交する断面において、第１面２０ａ側に凸になるように反っている。言い換えると、蒸着マスク２０は、一対の耳部領域２４に挟まれた領域全体が、長手方向ｄＬに直交する断面において、第１面２０ａ側に凸になるように反っている。図示された例では、蒸着マスク２０の耳部領域２４は反っておらず、その全体にわたって平坦な形状を有している。なお、これに限られず、蒸着マスク２０の耳部領域２４は、その少なくとも一部が反っていてもよい。例えば、耳部領域２４における長手方向ｄＬの中央部側の一部が、長手方向ｄＬに直交する断面において、第１面２０ａ側に凸になるように反っていてもよい。ここで、第１面２０ａ側に凸になるように反っているとは、蒸着マスク２０の第１面２０ａが、蒸着マスク２０の湾曲の外側の面をなし、第２面２０ｂが蒸着マスク２０の湾曲の内側の面をなしていることを意味する。なお、図３～図５において、本実施の形態の蒸着マスク２０との比較のために、反っておらず全体として平坦な形状を有していると仮定した場合の蒸着マスクの形状を、二点鎖線で示している。
　図３に示された例では、蒸着マスク２０の長手方向ｄＬの中央部が、長手方向ｄＬに直交する断面において最も大きく反っている。すなわち、蒸着マスク２０の長手方向ｄＬの中央部が、長手方向ｄＬに直交する断面において最も大きな曲率を有している。言い換えると、蒸着マスク２０の長手方向ｄＬの中央部が、長手方向ｄＬに直交する断面において最も小さな曲率半径を有している。図示された例では、蒸着マスク２０の、一対の耳部領域２４に挟まれた領域において、各耳部領域２４側の端部から長手方向ｄＬの中央部に向かうにつれて、長手方向ｄＬに直交する断面における湾曲の曲率が大きくなっている。とりわけ、蒸着マスク２０の、一対の耳部領域２４に挟まれた領域において、各耳部領域２４側の端部から長手方向ｄＬの中央部に向かうにつれて、長手方向ｄＬに直交する断面における湾曲の曲率が大きくなり続けている。
　蒸着マスク２０を、その第１面２０ａが上方を向くとともに第２面２０ｂが下方を向くようにして配置した場合、図３に示された例では、長手方向ｄＬに直交する断面において当該蒸着マスク２０の幅方向ｄＷの中央部２７が最も高い箇所となっている。とりわけ図示された例では、蒸着マスク２０における一対の耳部領域２４に挟まれた領域において、一方の耳部領域２４側の端部から他方の耳部領域２４側の端部にわたる全ての領域において、長手方向ｄＬに直交する断面において当該蒸着マスク２０の幅方向ｄＷの中央部２７が最も高い箇所となっている。これにともなって、蒸着マスク２０の第１面２０ａにおける一対の耳部領域２４に挟まれた領域には、一方の耳部領域２４側の端部から他方の耳部領域２４側の端部にわたって、蒸着マスク２０の幅方向ｄＷの中央部２７が連続した稜線２８が形成される。稜線２８は、蒸着マスク２０の幅方向ｄＷの中央部２７上に、長手方向ｄＬに沿って延びている。とりわけ、図示された例では、稜線２８は、蒸着マスク２０の幅方向ｄＷの中央部２７上に、長手方向ｄＬに平行をなして直線状に延びている。
　図４は、蒸着マスク２０の長手方向ｄＬの中央部における、長手方向ｄＬに直交する断面を示している。図示された例では、幅方向ｄＷの中央部２７から幅方向ｄＷの両端縁２９，２９へ向かうにつれて、蒸着マスク２０は、その第２面２０ｂ側へ湾曲している。これにより、蒸着マスク２０は第１面２０ａ側に凸になるように、言い換えると第２面２０ｂ側に凹になるように、反っている。とりわけ図示された例では、幅方向ｄＷの中央部２７から幅方向ｄＷの両端縁２９，２９へ向かうにつれて、蒸着マスク２０は、その第２面２０ｂ側へのみ湾曲している。とりわけ、幅方向ｄＷの中央部２７から幅方向ｄＷの両端縁２９，２９へ向かうにつれて、蒸着マスク２０は、その第２面２０ｂ側へ湾曲し続けている。
　図５には、平面視において蒸着マスク２０が示されている。蒸着マスク２０が第１面２０ａ側に凸になるように反っていることにともなって、平面視において、蒸着マスク２０の幅方向ｄＷに沿った幅が、長手方向ｄＬに沿って変化する。図示された例では、蒸着マスク２０における一対の耳部領域２４に挟まれた領域において、蒸着マスク２０の幅方向ｄＷに沿った幅は、各耳部領域２４側の端部から長手方向ｄＬの中央部へ向かうにつれて狭くなるように変化している。とりわけ図示された例では、蒸着マスク２０の幅方向ｄＷに沿った幅は、各耳部領域２４側の端部から長手方向ｄＬの中央部へ向かうにつれて狭くなるようにのみ変化している。さらに詳しくは、図示された例において、蒸着マスク２０の幅方向ｄＷに沿った幅は、各耳部領域２４側の端部から長手方向ｄＬの中央部へ向かうにつれて狭くなるように変化し続けている。結果として、長手方向ｄＬの中央部における蒸着マスク２０の幅方向ｄＷに沿った幅は、蒸着マスク２０における一対の耳部領域２４に挟まれた領域の各耳部領域２４側の端部における蒸着マスク２０の幅方向ｄＷに沿った幅よりも狭くなっている。とりわけ、長手方向ｄＬの中央部における蒸着マスク２０の幅方向ｄＷに沿った幅は、蒸着マスク２０における一対の耳部領域２４に挟まれた領域内において、最も小さい幅となっている。
　したがって、長手方向ｄＬの中央部における蒸着マスク２０の幅方向ｄＷに沿った幅を評価することにより、ここから長手方向ｄＬの中央部における蒸着マスク２０の反りの程度を評価することができる。すなわち、長手方向ｄＬの中央部における蒸着マスク２０の幅方向ｄＷに沿った幅が小さいと評価される場合には、長手方向ｄＬの中央部における蒸着マスク２０の反りが大きい（湾曲の曲率が大きい、湾曲の曲率半径が小さい）、と評価することができる。また、長手方向ｄＬの中央部における蒸着マスク２０の幅方向ｄＷに沿った幅が大きいと評価される場合には、長手方向ｄＬの中央部における蒸着マスク２０の反りが小さい（湾曲の曲率が小さい、湾曲の曲率半径が大きい）、と評価することができる。なお、長手方向ｄＬの中央部における蒸着マスク２０の幅方向ｄＷに沿った幅の具体的な評価方法は後述する。
　従来の蒸着マスクでは、金属板の少なくとも第２面側から金属板をハーフエッチングすることにより複数の貫通孔が形成される。金属板は、金属材料を圧延加工することにより製造される。一般に、圧延加工された金属板内には、その板厚方向に沿って応力が残留する。したがって、圧延加工された金属板から蒸着マスクを製造する場合、従来技術では、圧延加工後、複数の貫通孔を形成するためのハーフエッチング工程前に、当該金属板を所定温度で所定時間保持するアニール工程を行い、金属板内に残留している応力を低減させ、好ましくは金属板内に残留している応力をゼロに近づけている。これにより、従来の金属板から製造された蒸着マスクには反りが生じず、蒸着マスクは全体として平坦な形状を有していた。
　本実施の形態では、一例として、ハーフエッチング工程前のアニール工程における後述の金属板６４の保持温度及び／又は保持時間を調整することにより、金属板６４内に残留している応力を所望量だけ残留させる。このとき、金属板６４の少なくとも第２面６４ｂ側からのハーフエッチングにより、金属板６４の板厚方向に残留金属量の多い箇所（第１面６４ａ側）と少ない箇所（第２面６４ｂ側）とが生じ、これにより、金属板６４の第１面６４ａ側と第２面６４ｂ側との間の残留応力量に差が生じる。したがって、この金属板６４を切断して作製された金属板２１からなる蒸着マスク２０に、少なくとも長手方向ｄＬの中央部における、長手方向ｄＬに直交する断面において、第１面２０ａ側に凸になるような反りを付与することができる。
　次に、蒸着マスク２０の各有効領域２２に形成された複数の貫通孔２５の一例について、図６～図９を主に参照して詳述する。図６は、図１に示された蒸着マスク２０を示す部分平面図であり、図７は、図６の蒸着マスク２０のＶＩＩ－ＶＩＩ線に沿った断面図であり、図８は、図６の蒸着マスク２０のＶＩＩＩ－ＶＩＩＩ線に沿った断面図であり、図９は、図６の蒸着マスク２０のＩＸ－ＩＸ線に沿った断面図である。図６に示された例では、蒸着マスク２０の各有効領域２２に形成された複数の貫通孔２５は、当該有効領域２２において、互いに直交する二方向に沿ってそれぞれ所定のピッチで配列されている。
　図７～図９に示すように、複数の貫通孔２５は、蒸着マスク２０の法線方向に沿った一方の側となる第１面２０ａと、蒸着マスク２０の法線方向に沿った他方の側となる第２面２０ｂと、の間を延びて、蒸着マスク２０を貫通している。図示された例では、後に詳述するように、蒸着マスク２０の法線方向における一方の側となる金属板２１の第１面２１ａの側から金属板２１に第１凹部３０がエッチングによって形成され、金属板２１の法線方向における他方の側となる第２面２１ｂの側から金属板２１に第２凹部３５が形成され、この第１凹部３０及び第２凹部３５によって貫通孔２５が形成されている。
　図６～図９に示すように、蒸着マスク２０の第１面２０ａの側から第２面２０ｂの側へ向けて、蒸着マスク２０の法線方向に沿った各位置における蒸着マスク２０の板面に沿った断面での各第１凹部３０の断面積は、しだいに小さくなっていく。図示された例では、第１凹部３０の壁面３１は、その全領域において蒸着マスク２０の法線方向に対して交差する方向に延びており、蒸着マスク２０の法線方向に沿った一方の側に向けて露出している。同様に、図示された例では、蒸着マスク２０の法線方向に沿った各位置における蒸着マスク２０の板面に沿った断面での各第２凹部３５の断面積は、蒸着マスク２０の第２面２０ｂの側から第１面２０ａの側へ向けて、しだいに小さくなっている。第２凹部３５の壁面３６は、その全領域において蒸着マスク２０の法線方向に対して交差する方向に延びており、蒸着マスク２０の法線方向に沿った他方の側に向けて露出している。
　なお、図７～図９に示すように、第１凹部３０の壁面３１と、第２凹部３５の壁面３６とは、周状の接続部４１を介して接続されている。接続部４１は、蒸着マスク２０の法線方向に対して傾斜した第１凹部３０の壁面３１と、蒸着マスク２０の法線方向に対して傾斜した第２凹部３５の壁面３６とが合流する張り出し部の稜線によって、画成されている。そして、接続部４１は、蒸着マスク２０の平面視において最も貫通孔２５の面積が小さくなる貫通部４２を画成する。
　図７～図９に示すように、蒸着マスク２０の法線方向に沿った一方の側の面、すなわち、蒸着マスク２０の第１面２０ａ上において、隣り合う二つの貫通孔２５は、蒸着マスク２０の板面に沿って互いから離間している。すなわち、後述する製造方法のように、蒸着マスク２０の第１面２０ａに対応するようになる金属板２１の第１面２１ａ側から当該金属板２１をエッチングして第１凹部３０を作製する場合、隣り合う二つの第１凹部３０の間に金属板２１の第１面２１ａが残存するようになる。
　一方、図７～図９に示すように、蒸着マスク２０の法線方向に沿った他方の側、すなわち、蒸着マスク２０の第２面２０ｂの側において、隣り合う二つの第２凹部３５が接続されている。すなわち、後述する製造方法のように、蒸着マスク２０の第２面２０ｂに対応するようになる金属板２１の第２面２１ｂ側から当該金属板２１をエッチングして第２凹部３５を形成する場合、隣り合う二つの第２凹部３５の間に、金属板２１の第２面２１ｂが残存しないようになる。すなわち、金属板２１の第２面２１ｂは、有効領域２２の全域にわたってエッチングされている。このような第２凹部３５によって形成される蒸着マスク２０の第２面２０ｂによれば、図２に示すように蒸着マスク２０の第２面２０ｂが蒸着材料９８に対面するようにしてこの蒸着マスク２０を用いた場合に、蒸着材料９８の利用効率を効果的に改善することができる。
　図２に示すようにして蒸着マスク装置１０が蒸着装置９０に収容された場合、図７に二点鎖線で示すように、蒸着マスク２０の第２面２０ｂが蒸着材料９８を保持したるつぼ９４側に位置し、蒸着マスク２０の第１面２０ａが有機ＥＬ基板９２に対面する。したがって、蒸着材料９８は、次第に断面積が小さくなっていく第２凹部３５を通過して有機ＥＬ基板９２に付着する。蒸着材料９８は、るつぼ９４から有機ＥＬ基板９２に向けて有機ＥＬ基板９２の法線方向に沿って移動するだけでなく、図７に矢印で示すように、有機ＥＬ基板９２の法線方向に対して大きく傾斜した方向に移動することもある。このとき、蒸着マスク２０の厚みが大きいと、斜めに移動する蒸着材料９８の多くは、貫通孔２５を通って有機ＥＬ基板９２に到達するよりも前に、第２凹部３５の壁面３６に到達して付着する。例えば、壁面３６のうち接続部４１近傍の部分や先端縁３２近傍の部分に、斜めに移動する蒸着材料９８の多くが付着する。この場合、有機ＥＬ基板９２上の貫通孔２５に対面する領域内には、蒸着材料９８が到達しやすい領域と到達しにくい部分が生じてしまう。したがって、蒸着材料の利用効率（成膜効率：有機ＥＬ基板９２に付着する割合）を高めて高価な蒸着材料を節約し、且つ、高価な蒸着材料を用いた成膜を所望の領域内に安定してむらなく実施するためには、斜めに移動する蒸着材料９８を可能な限り有機ＥＬ基板９２に到達させるように蒸着マスク２０を構成することが重要になる。すなわち、蒸着マスク２０の板面に直交する図７～図９の断面において、貫通孔２５の最小断面積を持つ部分となる接続部４１と、第２凹部３５の壁面３６の他の任意の位置と、を通過する直線Ｌ１が、蒸着マスク２０の法線方向に対してなす最小角度θ（図７参照）を、十分に大きくすることが有利となる。
　角度θを大きくするための方法の１つとして、蒸着マスク２０の厚みを小さくし、これによって、第２凹部３５の壁面３６や第１凹部３０の壁面３１の高さを小さくすることが考えられる。すなわち、蒸着マスク２０を構成するための金属板２１として、蒸着マスク２０の強度を確保できる範囲内で可能な限り厚みの小さな金属板２１を用いることが好ましいといえる。
　角度θを大きくするためのその他の方法として、第２凹部３５の輪郭を最適化することも考えられる。たとえば本実施の形態によれば、隣り合う二つの第２凹部３５の壁面３６が合流することにより、他の凹部と合流していない破線で示された壁面（輪郭）を有する凹部と比較して、この角度θを大幅に大きくすることができている（図７参照）。以下、その理由について説明する。
　第２凹部３５は、後に詳述するように、金属板２１の第２面２１ｂをエッチングすることにより形成される。エッチングによって形成される凹部の壁面は、一般的に、浸食方向に向けて凸となる曲面状となる。したがって、エッチングによって形成された凹部の壁面３６は、エッチングの開始側となる領域において切り立ち、エッチングの開始側とは反対側となる領域、すなわち凹部の最も深い側においては、金属板２１の法線方向に対して比較的に大きく傾斜するようになる。一方、図示された蒸着マスク２０では、隣り合う二つの第２凹部３５の壁面３６が、エッチングの開始側において合流しているので、二つの第２凹部３５の壁面３６の先端縁３２が合流する部分４３の外輪郭が、切り立った形状ではなく、面取された形状となっている。このため、貫通孔２５の大部分をなす第２凹部３５の壁面３６を、蒸着マスク２０の法線方向に対して効果的に傾斜させることができる。すなわち角度θを大きくすることができる。
　本実施の形態による蒸着マスク２０によれば、有効領域２２の全域において、第２凹部３５の壁面３６が蒸着マスク２０の法線方向に対してなす傾斜角度θを効果的に増大させることができる。これにより、蒸着材料９８の利用効率を効果的に改善しながら、所望のパターンでの蒸着を高精度に安定して実施することができる。
　また、後述する製造方法のように蒸着マスク２０の第２面２０ｂに対応するようになる金属板２１の第２面２１ｂ側から当該金属板２１をエッチングして第２凹部３５を作製する場合、蒸着マスク２０の有効領域２２をなすようになる金属板２１の全領域において、当該金属板２１の第２面２１ｂがエッチングにより浸食される。すなわち、有効領域２２には、金属板２１の第２面２１ｂが存在しない。さらに言い換えると、蒸着マスク２０の有効領域２２内の法線方向に沿った最大厚みＴａは、蒸着マスク２０の周囲領域２３内の法線方向に沿った最大厚みＴｂの１００％未満となる。このように有効領域２２内での厚みが全体的に薄くなることは、蒸着材料の利用効率を向上させる観点から好ましい。その一方で、蒸着マスク２０の強度の観点から、蒸着マスク２０の有効領域２２内の法線方向に沿った最大厚みＴａは、蒸着マスク２０の周囲領域２３内の法線方向に沿った最大厚みＴｂの一定以上の割合となっていることが好ましい。蒸着マスク２０をフレーム１５に張設した場合における蒸着マスク２０の有効領域２２内での変形を効果的に抑制することができ、これにより、所望のパターンでの蒸着を効果的に実施することができるためである。
　また、第２凹部３５の幅は、蒸着マスク２０の法線方向に沿った一方の側から他方の側に向けて、広くなっていくことから、第２凹部３５の壁面３６の先端縁３２と他の第２凹部３５の壁面３６の先端縁３２とが合流することにより稜線３３が形成されている。図示された例において、貫通孔２５は平面視において略矩形状に形成され、且つ、互いに直交する二つの方向のそれぞれに所定のピッチで配列されている。したがって、図６に示すように、有効領域２２内の最外方以外に位置する貫通孔２５を画成する第２凹部３５の壁面３６の先端縁３２は略矩形状に沿って延び、また、隣り合う二つの第２凹部３５の間を延びる稜線３３は、貫通孔２５の配列方向とそれぞれ平行となる二方向に延びるようになる。
　さらに、後述する製造方法のように第２凹部３５をエッチングにて形成する場合には、他の第２凹部３５の壁面３６の先端縁３２に合流する第２凹部３５の壁面３６の先端縁３２の、蒸着マスク２０の法線方向における位置は、一定ではなく変動する。後述する第２凹部３５の形成方法に起因して、先端縁３２の高さは、第２凹部３５の深さが最も深くなる貫通孔２５の貫通部４２からの蒸着マスク２０の板面に沿った距離に応じて変化する。具体的には、他の第２凹部３５の壁面３６の先端縁３２に合流する第２凹部３５の壁面３６の先端縁３２の、蒸着マスク２０の法線方向に沿った高さは、通常、当該第２凹部３５によって画成される貫通孔２５の貫通部４２から先端縁３２までの蒸着マスク２０の板面に沿った距離が長くなると、高くなる。したがって、図６に示されているように貫通孔２５（第２凹部３５）が正方配列されている場合には、二つの配列方向のそれぞれにおいて隣り合う貫通孔２５の中間となる位置において、先端縁３２の高さが最も高くなる。
　一般的な傾向として、このような蒸着マスク２０では、とりわけ図８からよく理解され得るように、第２凹部３５の壁面３６の先端縁３２の高さは、対象となる先端縁３２の位置から当該第２凹部３５によって画成される貫通孔２５のうちの平面視において金属板２１を貫通している領域（本例では貫通部４２）の中心までの平面視における距離ｋ（図６参照）が短くなると、低くなる。したがって、蒸着マスク２０の法線方向に対して壁面３６がなす上述の角度θを、効果的に増大することができる。これにより、より効果的に蒸着材料９８の利用効率を改善し且つ所望のパターンでの蒸着を高精度且つ安定して実施することができる。
　さらに、図示された例においては、後述する製造方法に起因して、蒸着マスク２０の法線方向に沿った断面での、二つの第２凹部３５の壁面３６の先端縁３２が合流する部分４３の外輪郭（断面での合流部分４３の外形を形作っている線）が、面取された形状となっている。上述したように、一般的に、エッチングで形成される凹部の壁面は、エッチングによる主たる進行方向に向けて凸となる曲面状となる。したがって、エッチングで形成された二つの第２凹部３５を単純に部分的に重ね合わせると、図７～図９に破線で示すように、合流部分４３は、エッチングの開始側となる蒸着マスク２０の法線方向に沿った他方の側へ向けて、尖った形状となる。これに対して図示された蒸着マスク２０では、合流部分４３における尖った部分が面取された形状となっている。図７～図９から理解されるように、この面取によって、蒸着マスク２０の法線方向に対して壁面３６がなす上述の角度θを、効果的に増大することができる。これにより、より効果的に蒸着材料９８の利用効率を改善し且つ所望のパターンでの蒸着を高精度且つ安定して実施することができる。
　次に、図１０～図１２を参照して、蒸着マスク２０の、長手方向ｄＬの中央部における蒸着マスク２０の幅方向ｄＷに沿った幅の評価方法について説明する。図示された例では、長手方向ｄＬの中央部における蒸着マスク２０の幅方向ｄＷに沿った幅に対応する寸法として、長手方向ｄＬの中央部近傍における、蒸着マスク２０の幅方向ｄＷに離間した２つの基準点４５間の幅方向ｄＷに沿った距離を用いて、長手方向ｄＬの中央部における蒸着マスク２０の幅方向ｄＷに沿った幅を評価する。
　図１０に示された例では、蒸着マスク２０の長手方向ｄＬの中央部における周囲領域２３にはトータルピッチマーク４７が配置されており、このトータルピッチマーク４７のうちの幅方向ｄＷに離間した２つのトータルピッチマーク４７を基準点４５として、当該２つのトータルピッチマーク４７間の幅方向ｄＷに沿った距離を測定する。トータルピッチマークとは、蒸着マスク２０内の複数の貫通孔２５間の位置精度等を評価するために設けられるマークであり、通常、有効領域２２の外側すなわち周囲領域２３に設けられる。図示された例では、有効領域２２に対応するトータルピッチマーク４７は、当該有効領域２２に含まれる複数の貫通孔２５のうち当該有効領域２２の四隅に位置する各貫通孔２５の幅方向ｄＷの外側の周囲領域２３内に設けられている。したがって、図示された例では、一つの有効領域２２に対応して、四つのトータルピッチマーク４７が設けられている。
　ここで、有効領域２２の幅方向ｄＷの一方側に配置された１以上のトータルピッチマーク４７のうち、長手方向ｄＬの中央部に最も近いトータルピッチマーク４７を第１トータルピッチマーク４７ａとし、有効領域２２の幅方向ｄＷの他方側に配置された１以上のトータルピッチマーク４７のうち、第１トータルピッチマーク４７ａに対して幅方向ｄＷの他方側に位置するトータルピッチマーク４７、すなわち第１トータルピッチマーク４７ａに対応するトータルピッチマーク４７、を第２トータルピッチマーク４７ｂとする。図１０に示された例では、第１トータルピッチマーク４７ａを２つの基準点４５のうちの一方の基準点４５とし、第２トータルピッチマーク４７ｂを２つの基準点４５のうちの他方の基準点４５とする。
　蒸着マスク２０の長手方向ｄＬに沿って奇数の有効領域２２が配置される場合、図１０に示されているように、長手方向ｄＬの中央部上に一つの有効領域２２が配置される。この場合には、長手方向ｄＬの中央に位置する有効領域２２に対応する複数のトータルピッチマーク４７の中で、当該有効領域２２の幅方向ｄＷの一方側に配置された１以上のトータルピッチマーク４７のうち、長手方向ｄＬの中央部に最も近い第１トータルピッチマーク４７ａを２つの基準点４５のうちの一方の基準点４５とし、第１トータルピッチマーク４７ａに対応する第２トータルピッチマーク４７ｂを２つの基準点４５のうちの他方の基準点４５とする。
　図１１に示すように、蒸着マスク２０を、第１面２０ａが上方を向くようにして載置台５１の上面に載置する。載置台５１の上面は、水平な平坦面５２をなしている。図１１及び図１２には、図１０のＸＩ－ＸＩ線に対応する断面において蒸着マスク２０が示されている。図１１に示された例では、蒸着マスク２０は、当該断面において、第１面２０ａ側に凸になるように反っており、これにより、図示された例では、蒸着マスク２０は、第２面２０ｂにおける幅方向ｄＷの両端縁２９で平坦面５２と接触し、第２面２０ｂにおける幅方向ｄＷの中央部２７は平坦面５２と接触していない。したがって、図示された例では、蒸着マスク２０の第２面２０ｂと平坦面５２との間には、第２面２０ｂにおける幅方向ｄＷの両端縁２９の箇所を除いて、隙間Ｇが形成されている。このときの、蒸着マスク２０の幅方向ｄＷに離間したトータルピッチマーク４７ａ，４７ｂ（基準点４５）間の幅方向ｄＷに沿った距離をＤ１（ｍｍ）とする。距離Ｄ１を測定する方法は特に限られないが、例えば新東Ｓプレシジョン株式会社製自動２次元座標測定機ＡＭＩＣ１７１０Ｄを用いて上方から光学的に測定することができる。
　また、図１２に示すように、蒸着マスク２０を、第１面２０ａが上方を向くようにして水平な平坦面５２上に載置し、蒸着マスク２０に上方から荷重をかけて蒸着マスク２０を平坦化する。図示された例では、平坦面５２上に載置された蒸着マスク２０の上から透明なガラス板５４を載せ、ガラス板５４に上方から荷重をかけることにより、蒸着マスク２０の反りを伸ばして平坦化する。このときの、蒸着マスク２０の幅方向ｄＷに離間したトータルピッチマーク４７ａ，４７ｂ（基準点４５）間の幅方向ｄＷに沿った距離をＤ２（ｍｍ）とする。距離Ｄ２は、距離Ｄ１と同様の方法を用いて測定することができる。とりわけ、ガラス板５４を介して光学的に測定することができる。
　そして、距離Ｄ２と距離Ｄ１との差（Ｄ２－Ｄ１）の値により、蒸着マスク２０の長手方向ｄＬの中央部の、長手方向ｄＬに直交する断面における蒸着マスク２０の反りの程度を評価することができる。図３～図５を参照して上述したように、蒸着マスク２０が、少なくとも長手方向ｄＬの中央部の、長手方向ｄＬに直交する断面において、第１面２０ａ側に凸になるように反っていることに起因して、蒸着マスク２０の長手方向ｄＬの中央部における幅方向ｄＷに沿った幅は、反っていない状態のすなわち平坦化された状態の蒸着マスク２０の幅よりも小さくなる。したがって、（Ｄ２－Ｄ１）の値が小さいほど蒸着マスク２０の反りの程度が小さく、（Ｄ２－Ｄ１）の値が大きいほど蒸着マスク２０の反りの程度が大きいものと評価することができる。
　（Ｄ２－Ｄ１）の値は、０ｍｍより大きく０．０５ｍｍより小さい値であることが好ましい。（Ｄ２－Ｄ１）の値が０ｍｍより大きい値であると、図２３～図２５を参照して後述するように、蒸着マスク２０の第１面２０ａが、蒸着マスク２０の幅方向ｄＷの中央部２７（稜線２８）から、幅方向ｄＷの端縁２９に向けて順に被蒸着基板に密着させることができる。これにより、蒸着マスク２０を被蒸着基板に密着させる際に蒸着マスク２０にシワを生じることを効果的に抑制することができる。また、（Ｄ２－Ｄ１）の値が０．０５ｍｍより小さい値であると、磁石９３の磁力による蒸着マスク２０の被蒸着基板への密着性を向上させることができる。
　なお、反りの程度が同じでも、蒸着マスク２０の寸法、とりわけ蒸着マスク２０の幅方向ｄＷに沿った幅、が異なると、（Ｄ２－Ｄ１）の値は異なり得る。例えば、反りの程度が同じでも、蒸着マスク２０の幅が大きいほど、（Ｄ２－Ｄ１）の値は大きくなり得る。ここで、本発明者らが蒸着マスク２０の反りの程度と（Ｄ２－Ｄ１）の値との関係について鋭意検討を進めたところ、次のような知見を得た。本実施の形態のように、蒸着マスク２０を、第１面２０ａが上方を向くようにして水平な平坦面５２上に載置すると、蒸着マスク２０の寸法が大きいほど、とりわけ蒸着マスク２０の幅方向ｄＷに沿った幅が大きいほど、自重により蒸着マスク２０の反りが小さくなる。したがって、（Ｄ２－Ｄ１）の値は平坦面５２上への載置前と比較して小さくなる。結果として、反りの程度が同じ場合、蒸着マスク２０の寸法に関わらず（Ｄ２－Ｄ１）の値は同程度の値をとる。これにより、距離Ｄ１及び距離Ｄ２を測定し（Ｄ２－Ｄ１）の値を求めるという簡便な方法により、蒸着マスク２０の長手方向ｄＬの中央部の、長手方向ｄＬに直交する断面における蒸着マスク２０の反りの程度を、ある程度の精度を持って評価することが可能であることが知見された。
　蒸着マスク２０の長手方向ｄＬの中央部の、長手方向ｄＬに直交する断面における蒸着マスク２０の反りの測定方法としては、例えば、蒸着マスク２０を長手方向ｄＬの中央部において長手方向ｄＬに直交する面で切断し、切断面を直接測定する方法や、３次元測定装置を用いて、当該３次元測定装置と蒸着マスク２０の第１面２０ａとの距離を、蒸着マスク２０の幅方向ｄＷに沿って測定する方法等も考えられる。しかしながら、切断面を直接測定する方法では、薄板化された蒸着マスク２０を、変形させることなくすなわちその反り量を変化させることなく切断することは困難である。また、３次元測定装置を用いた方法では、蒸着マスク２０を切断する必要がないものの、３次元測定装置を必要とすることから、蒸着マスク２０の反りを測定するための測定装置全体が複雑化及び大型化し、コストも増大する。これに対して、本実施の形態のように、長手方向ｄＬの中央部における、蒸着マスク２０の幅方向ｄＷに離間した２つの基準点４５間の幅方向ｄＷに沿った距離Ｄ１，Ｄ２を測定し、（Ｄ２－Ｄ１）の値で評価する評価方法によれば、蒸着マスク２０を切断する必要がなく、且つ、簡便な測定装置を用いて蒸着マスク２０の反りの程度を評価することができる。したがって、本実施の形態の蒸着マスク２０の反りの評価方法は、蒸着マスク２０の反りの評価精度や評価速度の向上及び評価のためのコストの抑制に大きく寄与する。
　本実施の形態では、図２３～図２５を参照して後述するように、蒸着マスク２０を被蒸着基板（有機ＥＬ基板９２）に密着させる工程において、蒸着マスク２０を有機ＥＬ基板９２へ下方から近づけると、まず、蒸着マスク２０の第１面２０ａの幅方向ｄＷの中央部２７（稜線２８）が、磁石９３からの磁力により有機ＥＬ基板９２に引き寄せられ、有機ＥＬ基板９２の下面に密着する。その後、蒸着マスク２０の第１面２０ａが、蒸着マスク２０の幅方向ｄＷの中央部２７から、幅方向ｄＷの端縁２９に向けて順に有機ＥＬ基板９２の下面に密着していく。このとき、蒸着マスク２０の幅方向ｄＷの両端縁２９は有機ＥＬ基板９２の下面に接していないので、有機ＥＬ基板９２の下面との間の摩擦力によって有機ＥＬ基板９２の板面方向の蒸着マスク２０の移動が妨げられることはない。最後に、蒸着マスク２０の幅方向ｄＷの端縁２９における第１面２０ａが有機ＥＬ基板９２の下面に密着し、これにより、シワを生じることなく、蒸着マスク２０の第１面２０ａの全体が有機ＥＬ基板９２の下面に密着する。
　これに対して、蒸着マスクが、当該蒸着マスクの長手方向の中央部における長手方向に直交する断面において、第２面側に凸になるように反っている場合、すなわち、第１面側に凹になるように反っている場合、蒸着マスクを被蒸着基板に密着させる工程において、蒸着マスクを有機ＥＬ基板へ下方から近づけると、まず、蒸着マスクの第１面の幅方向の端縁が、磁石からの磁力により有機ＥＬ基板に引き寄せられ、有機ＥＬ基板の下面に密着する。次に、磁石からの磁力により、蒸着マスクの幅方向の端縁に隣接する幅方向の中央部側の部分が有機ＥＬ基板に引き寄せられ、有機ＥＬ基板の下面に接する。そして、蒸着マスクの第１面は、蒸着マスクの幅方向の端縁から、幅方向の中央部に向けて順に有機ＥＬ基板の下面に密着していく。このとき、蒸着マスクの幅方向の両端縁はすでに有機ＥＬ基板の下面に接しており、有機ＥＬ基板の下面との間の摩擦力によって有機ＥＬ基板の板面方向の蒸着マスクの移動が妨げられている。したがって、蒸着マスクが長手方向に沿って架張されることにより生じた当該蒸着マスクの微小なうねりが当該蒸着マスクのとりわけ幅方向の中央部近傍に残り、当該蒸着マスクにシワが生じ得る。
　したがって、（Ｄ２－Ｄ１）の値が、０ｍｍより大きく０．０５ｍｍより小さい値であっても、蒸着マスクが、当該蒸着マスクの長手方向の中央部における長手方向に直交する断面において、第１面側に凹になるように反っている場合には、本実施の形態のような、蒸着マスク２０を被蒸着基板に密着させる工程において蒸着マスク２０にシワを生じない、という効果は奏し得ない。なお、蒸着マスクが第１面側に凸となっているか凹となっているかを判定するには、必ずしも立体的な観察を行わなくとも、例えば平面的な観察にて２次元座標測定機のスコープや顕微鏡観察時の焦点位置で、蒸着マスクの上面が凸の変化をしているか凹の変化をしているかを判断することによって行うことができる。
　図１３～図１５を参照して、蒸着マスク２０の２つの基準点４５の取り方の他の例について説明する。
　蒸着マスク２０の長手方向ｄＬに沿って偶数の有効領域２２が配置される場合、図１３に示されているように、長手方向ｄＬの中央部を挟んで長手方向ｄＬに沿って二つの有効領域２２が配置される。この場合には、長手方向ｄＬの中央部に対して長手方向ｄＬの一方側に位置する有効領域２２ａに対応する複数のトータルピッチマーク４７及び他方側に位置する有効領域２２ｂに対応する複数のトータルピッチマーク４７の中で、当該有効領域２２ａ，２２ｂの幅方向ｄＷの一方側に配置された複数のトータルピッチマーク４７のうち、長手方向ｄＬの中央部に最も近いトータルピッチマーク４７を第１トータルピッチマーク４７ａとする。そして、この第１トータルピッチマーク４７ａを２つの基準点４５のうちの一方の基準点４５とし、第１トータルピッチマーク４７ａに対応する第２トータルピッチマーク４７ｂを２つの基準点４５のうちの他方の基準点４５とする。
　また、有効領域２２に含まれる複数の貫通孔２５のうちの特定の貫通孔２５を、２つの基準点４５として用いることもできる。この場合、蒸着マスク２０の幅方向ｄＷの一方側の端縁２９に最も近接した１以上の貫通孔２５のうち、長手方向ｄＬの中央部に最も近い貫通孔２５を第１貫通孔２５ａとし、蒸着マスク２０の幅方向ｄＷの他方側の端縁２９に最も近接した１以上の貫通孔２５のうち、第１貫通孔２５ａとの間の長手方向ｄＬに沿った離間距離が最も小さい貫通孔２５を第２貫通孔２５ｂとする。そして、第１貫通孔２５ａを２つの基準点４５のうちの一方の基準点４５とし、第２貫通孔２５ｂを２つの基準点４５のうちの他方の基準点４５とする。
　蒸着マスク２０の長手方向ｄＬに沿って奇数の有効領域２２が配置される場合、図１４に示すように、長手方向ｄＬの中央に位置する有効領域２２に含まれる複数の貫通孔２５の、蒸着マスク２０の幅方向ｄＷの一方側の端縁２９に最も近接した１以上の貫通孔２５のうち、長手方向ｄＬの中央部に最も近い貫通孔２５を第１貫通孔２５ａとし、当該有効領域２２に含まれる複数の貫通孔２５の、蒸着マスク２０の幅方向ｄＷの他方側の端縁２９に最も近接した１以上の貫通孔２５のうち、第１貫通孔２５ａとの間の長手方向ｄＬに沿った離間距離が最も小さい貫通孔２５を第２貫通孔２５ｂとすることができる。
　なお、蒸着マスク２０が１つの有効領域２２のみを有している場合、すなわち１面付けの場合、図１０及び図１４において長手方向ｄＬに沿った中央の有効領域２２のみを有するものとして考えることができる。
　また、蒸着マスク２０の長手方向ｄＬに沿って偶数の有効領域２２が配置される場合、図１５に示すように、長手方向ｄＬの中央部に対して長手方向ｄＬの一方側に位置する有効領域２２ａに含まれる複数の貫通孔２５及び他方側に位置する有効領域２２ｂに含まれる複数の貫通孔２５の、蒸着マスク２０の幅方向ｄＷの一方側の端縁２９に最も近接した複数の貫通孔２５のうち、長手方向ｄＬの中央部に最も近い貫通孔２５を第１貫通孔２５ａとし、他方側の端縁２９に最も近接した１以上の貫通孔２５のうち、第１貫通孔２５ａとの間の長手方向ｄＬに沿った離間距離が最も小さい貫通孔２５を第２貫通孔２５ｂとすることができる。
　なお、図１３～図１５に示された例における、２つの基準点４５間の幅方向ｄＷに沿った距離Ｄ１，Ｄ２の測定は、図１０～図１２を参照して説明した距離Ｄ１，Ｄ２の測定方法と同様の方法で行うことができる。
　次に、このような蒸着マスク２０の製造方法の一例について、図１６～図２２を参照して説明する。
　本実施の形態では、第１面６４ａ及び第２面６４ｂを有し帯状に延びる長尺状の金属板６４を供給する工程と、フォトリソグラフィー技術を用いたエッチングを金属板６４に施して、金属板６４に第１面６４ａの側から第１凹部３０を形成する工程と、形成された第１凹部３０を封止する工程と、フォトリソグラフィー技術を用いたエッチングを金属板６４に施して、金属板６４に第２面６４ｂの側から第２凹部３５を形成する工程と、金属板６４を枚葉状に断裁して枚葉状の金属板２１を得る工程と、により、金属板２１からなる蒸着マスク２０が製造される。ここで、金属板６４に形成された第１凹部３０と第２凹部３５とが互いに通じ合うことによって、金属板６４に貫通孔２５が形成される。以下において、各工程の詳細を説明する。
　図１６には、蒸着マスク２０を作製するための製造装置６０が示されている。図示されるように、まず、長尺状の金属板６４をコア６１に巻き取った巻き体６２が準備される。巻き体６２は、長尺状の金属板６４が、その長手方向に沿った先端側が外側となり、その長手方向に沿った後端側に向かうにつれてコア６１に近づくようにして、コア６１に巻き取られている。そして、このコア６１が回転して巻き体６２が巻き出されることにより、帯状に延びる金属板６４が供給される。なお、この金属板６４は、後の工程で切断されて枚葉状の金属板２１、さらには蒸着マスク２０をなすようになる。金属板６４の材料としては、例えば、例えば、ニッケル及びコバルトの含有量が合計で３０質量％以上且つ５４質量％以下であり、且つコバルトの含有量が０質量％以上且つ６質量％以下である鉄合金等を用いることができる。ニッケル若しくはニッケル及びコバルトを含む鉄合金の具体例としては、３４質量％以上且つ３８質量％以下のニッケルを含むインバー材、３０質量％以上且つ３４質量％以下のニッケルに加えてさらにコバルトを含むスーパーインバー材などを挙げることができる。この金属板６４は、金属材料を圧延加工することにより製造されている。また、圧延加工後のアニール工程で金属板６４を所定の温度で所定の時間保持することにより、金属板６４内に残留している応力を低減させている。本実施の形態では、このアニール工程において、金属板６４の保持温度及び／又は保持時間を調整することにより、金属板６４内に残留する応力を所望量だけ残留させるようにする。また、金属板６４の厚みは、一例として、１０μｍ以上４０μｍ以下とすることができる。供給された金属板６４は、搬送ローラー７２によって、処理装置７０に搬送される。処理装置７０によって、図１７～図２２に示された各処理が施される。
　まず、図１７に示すように、金属板６４の第１面６４ａ上に第１レジストパターン６５ａが形成されるとともに、金属板６４の第２面６４ｂ上に第２レジストパターン６５ｂが形成される。一具体例として、次のようにしてネガ型のレジストパターンが形成される。まず、金属板６４の第１面６４ａ上（図１７の紙面における下側の面上）及び第２面６４ｂ上に感光性レジスト材料を塗布し、金属板６４上にレジスト膜を形成する。次に、レジスト膜のうちの除去したい領域に光を透過させないようにしたガラス乾板を準備し、ガラス乾板をレジスト膜上に配置する。その後、レジスト膜をガラス乾板越しに露光し、さらにレジスト膜を現像する。以上のようにして、金属板６４の第１面６４ａ上に第１レジストパターン６５ａを形成し、金属板６４の第２面６４ｂ上に第２レジストパターン６５ｂを形成することができる。
　次に、図１８に示すように、金属板６４上に形成された第１レジストパターン６５ａをマスクとして、エッチング液（例えば塩化第二鉄溶液）を用いて、金属板６４の第１面６４ａ側からエッチングする（第１回目のエッチング）。例えば、エッチング液が、搬送される金属板６４の第１面６４ａに対面する側に配置されたノズルから、第１レジストパターン６５ａ越しに金属板６４の第１面６４ａに向けて噴射される。この結果、図１８に示すように、金属板６４のうちの第１レジストパターン６５ａによって覆われていない領域で、エッチング液による浸食が進む。このようにして、第１面６４ａの側から金属板６４に壁面３１を有する多数の第１凹部３０が形成される。
　その後、図１９に示すように、エッチング液に対する耐性を有した樹脂６８によって、形成された第１凹部３０が被覆される。すなわち、エッチング液に対する耐性を有した樹脂６８によって、第１凹部３０が封止される。図１９に示す例において、樹脂６８の膜が、形成された第１凹部３０だけでなく、第１面６４ａ（第１レジストパターン６５ａ）も覆うように形成されている。
　次に、図２０に示すように、金属板６４に対して第２回目のエッチングを行う。第２回目のエッチングにおいて、金属板６４は第２面６４ｂの側のみからエッチングされ、第２面６４ｂの側から第２凹部３５の形成が進行していく。金属板６４の第１面６４ａの側には、エッチング液に対する耐性を有した樹脂６８が被覆されており、第１回目のエッチングにより所望の形状に形成された第１凹部３０の形状が損なわれてしまうことはない。
　エッチングによる浸食は、金属板６４のうちのエッチング液に触れている部分において行われていく。したがって、浸食は、金属板６４の法線方向（厚み方向）のみに進むのではなく、金属板６４の板面に沿った方向にも進んでいく。この結果、図２１に示すように、エッチングが金属板６４の法線方向に進んで第２凹部３５が第１凹部３０と接続するだけでなく、第２レジストパターン６５ｂの隣り合う二つの孔６６ｂに対面する位置にそれぞれ形成された二つの第２凹部３５が、二つの孔６６ｂの間に位置するブリッジ部６７ｂの裏側において、合流する。
　図２２に示すように、金属板６４の第２面６４ｂの側からのエッチングがさらに進むと、隣り合う二つの第２凹部３５が合流してなる合流部分４３が第２レジストパターン６５ｂ（ブリッジ部６７ｂ）から離間して、当該合流部分４３において、エッチングによる浸食が金属板６４の法線方向（厚さ方向）にも進む。これにより、蒸着マスク２０の法線方向に沿った一方の側へ向けて尖っていた合流部分４３が、蒸着マスク２０の法線方向に沿った一方の側からエッチングされ、図示されているように面取される。これにより、第２凹部３５の壁面３６が蒸着マスク２０の法線方向に対してなす傾斜角度θ（図７参照）を増大させることができる。このようにして、エッチングによる金属板６４の第２面６４ｂの浸食が、金属板６４の有効領域２２をなすようになる全領域内において進む。
　以上のようにして、金属板６４の第２面６４ｂの側からのエッチングが予め設定した量だけ進んで、金属板６４に対する第２回目のエッチングが終了する。このとき、第２凹部３５は金属板６４の厚さ方向に沿って第１凹部３０に到達する位置まで延びており、これにより、互いに通じ合っている第２凹部３５及び第１凹部３０によって貫通孔２５が金属板６４に形成される。
　その後、金属板６４から樹脂６８が除去される。樹脂６８は、例えばアルカリ系剥離液を用いることによって、除去することができる。その後、レジストパターン６５ａ，６５ｂが除去される。なお、樹脂６８と同時にレジストパターン６５ａ，６５ｂが除去されるようにしてもよい。
　このようにして多数の貫通孔２５を形成された金属板６４は、図１６に示されているように、当該金属板６４を狭持した状態で回転する搬送ローラー７２，７２により、切断装置７３へ搬送される。なお、図示された例では、この搬送ローラー７２，７２の回転によって金属板６４に作用するテンション（引っ張り応力）を介し、上述したコア６１が回転させられ、巻き体６２から金属板６４が供給されるようになっている。
　その後、多数の貫通孔２５が形成された金属板６４を切断装置７３によって所定の長さ及び幅に切断することにより、金属板６４から、図６～図９に示されるような、多数の貫通孔２５が形成された枚葉状の金属板２１が得られる。このとき、金属板６４の第１面６４ａが金属板２１の第１面２１ａをなし、金属板６４の第２面６４ｂが金属板２１の第２面２１ｂをなすようになる。このとき、金属板６４の第１面６４ａ側からのエッチング量と第２面６４ｂ側からのエッチング量との差により、金属板６４の板厚方向に残留金属量の多い箇所（第１面６４ａ側）と少ない箇所（第２面６４ｂ側）とが生じ、これにより、金属板６４の第１面６４ａ側と第２面６４ｂ側との間の残留応力量に差が生じる。したがって、この金属板６４を切断して作製された金属板２１からなる蒸着マスク２０には、少なくとも長手方向ｄＬの中央部における、長手方向ｄＬに直交する断面において、第１面２０ａ側に凸になるような反りが生じる。
　次に、図２３～図２５を参照して、蒸着マスク２０を用いた蒸着方法について説明する。図２３～図２５の蒸着マスク２０は、長手方向ｄＬの中央部の、長手方向ｄＬに直交する断面として示されている。本実施の形態の蒸着方法は、蒸着マスク２０を、その第１面２０ａが被蒸着基板に対面するようにして被蒸着基板に密着させる密着工程と、蒸着マスク２０の各貫通孔２５を介して蒸着材料９８を被蒸着基板に蒸着させる蒸着工程と、を有する。
　密着工程においては、被蒸着基板の一例としての有機ＥＬ基板９２の上面に対面するようにして、磁石９３が配置される。その後、有機ＥＬ基板９２の下面に対面するようにして、蒸着マスク２０が有機ＥＬ基板９２の下方から有機ＥＬ基板９２へ近づけられる。とりわけ、蒸着マスク２０の長手方向ｄＬに直交する断面において湾曲する凸側の面をなす第１面２０ａが有機ＥＬ基板９２の下面に対面するようにして、蒸着マスク２０が有機ＥＬ基板９２へ近づけられる。この場合、図２３に示すように、まず、蒸着マスク２０の第１面２０ａの幅方向ｄＷの中央部２７が、磁石９３からの磁力により有機ＥＬ基板９２に引き寄せられ、有機ＥＬ基板９２の下面に密着する。本実施の形態の蒸着マスク２０の第１面２０ａにおける一対の耳部領域２４に挟まれた領域には、一方の耳部領域２４側の端部から他方の耳部領域２４側の端部にわたって、蒸着マスク２０の幅方向ｄＷの中央部２７上に、長手方向ｄＬに沿って延びる稜線２８が形成されている。したがって、図示された例では、まず、蒸着マスク２０の第１面２０ａの稜線２８が有機ＥＬ基板９２の下面に密着することになる。
　次に、図２４に示すように、磁石９３からの磁力により、蒸着マスク２０の幅方向ｄＷの中央部２７（稜線２８）に幅方向ｄＷに隣接する部分が、有機ＥＬ基板９２に引き寄せられ、有機ＥＬ基板９２の下面に接する。そして、蒸着マスク２０の第１面２０ａは、蒸着マスク２０の幅方向ｄＷの中央部２７（稜線２８）から、幅方向ｄＷの端縁２９に向けて順に有機ＥＬ基板９２の下面に密着していく。このとき、蒸着マスク２０の幅方向ｄＷの両端縁２９は有機ＥＬ基板９２の下面に接していない、すなわち自由端となっているので、有機ＥＬ基板９２の下面との間の摩擦力によって有機ＥＬ基板９２の板面方向の蒸着マスク２０の移動が妨げられることはない。
　その後、蒸着マスク２０の幅方向ｄＷの端縁２９における第１面２０ａが有機ＥＬ基板９２の下面に密着し、これにより、シワを生じることなく、蒸着マスク２０の第１面２０ａの全体が有機ＥＬ基板９２の下面に密着する。
　密着工程後、蒸着マスク２０が有機ＥＬ基板９２の下面に密着した状態で、蒸着マスク２０の各貫通孔２５を介して蒸着材料９８を有機ＥＬ基板９２に蒸着させる。
　本実施の形態の蒸着マスク２０は、被蒸着基板に対面する側の面をなす第１面２０ａと、第１面２０ａと反対側の面をなす第２面２０ｂとを備え、複数の貫通孔２５が形成された有効領域２２を有し、長手方向ｄＬを有するとともに、長手方向ｄＬに沿って１以上の有効領域２２が配列されており、少なくとも長手方向ｄＬの中央部における、長手方向ｄＬに直交する断面において、第１面２０ａ側に凸になるように反っている。
　また、本実施の形態の蒸着方法は、蒸着マスク２０を、第１面２０ａが被蒸着基板に対面するようにして被蒸着基板に密着させる密着工程と、蒸着マスク２０の各貫通孔２５を介して蒸着材料９８を被蒸着基板に蒸着させる蒸着工程と、を有し、密着工程では、蒸着マスク２０の少なくとも長手方向ｄＬに沿った中央部において、まず蒸着マスク２０の幅方向ｄＷの中央部２７が被蒸着基板に密着し、その後、蒸着マスク２０の幅方向ｄＷの端縁２９に向けて順に被蒸着基板に密着していく。
　このような蒸着マスク２０及び蒸着方法によれば、蒸着マスク２０を、被蒸着基板に密着させる際に、まず蒸着マスク２０の幅方向ｄＷの中央部２７（稜線２８）を被蒸着基板に密着させ、その後、蒸着マスク２０を、幅方向ｄＷの端縁２９に向けて順に被蒸着基板に密着させていくことができる。この過程において、蒸着マスク２０の幅方向ｄＷの両端縁２９は被蒸着基板に接していない、すなわち自由端となっているので、被蒸着基板との間の摩擦力によって被蒸着基板の板面方向の蒸着マスク２０の移動が妨げられることはない。したがって、蒸着マスク２０にシワが生じることを効果的に抑制しつつ、蒸着マスク２０を被蒸着基板に密着させることができる。
　また、本実施の形態の蒸着マスク２０は、有効領域２２を取り囲む周囲領域２３を有し、周囲領域２３における有効領域２２の幅方向ｄＷの一方側に配置された１以上のトータルピッチマーク４７のうち、長手方向ｄＬの中央部に最も近いトータルピッチマーク４７を第１トータルピッチマーク４７ａとし、周囲領域２３における有効領域２２の幅方向ｄＷの他方側に配置された１以上のトータルピッチマーク４７のうち、第１トータルピッチマーク４７ａに対応するトータルピッチマーク４７を第２トータルピッチマーク４７ｂとし、蒸着マスク２０を、第１面２０ａが上方を向くようにして水平な平坦面５２上に載置し、第１トータルピッチマーク４７ａと第２トータルピッチマーク４７ｂとの間の幅方向ｄＷに沿った距離をＤ１（ｍｍ）とし、蒸着マスク２０を、第１面２０ａが上方を向くようにして水平な平坦面５２上に載置し、蒸着マスク２０に上方から荷重をかけて蒸着マスク２０を平坦化したときの、第１トータルピッチマーク４７ａと第２トータルピッチマーク４７ｂとの間の幅方向ｄＷに沿った距離をＤ２（ｍｍ）としたときに、距離Ｄ２と距離Ｄ１との差（Ｄ２－Ｄ１）の値が、０ｍｍより大きく０．０５ｍｍより小さい。
　さらに、本実施の形態の蒸着マスク２０は、蒸着マスク２０の幅方向ｄＷの一方側の端縁２９に最も近接した１以上の貫通孔２５のうち、長手方向ｄＬの中央部に最も近い貫通孔２５を第１貫通孔２５ａとし、蒸着マスク２０の幅方向ｄＷの他方側の端縁２９に最も近接した１以上の貫通孔２５のうち、第１貫通孔２５ａとの間の長手方向ｄＬに沿った離間距離が最も小さい貫通孔２５を第２貫通孔２５ｂとし、蒸着マスク２０を、第１面２０ａが上方を向くようにして水平な平坦面５２上に載置し、第１貫通孔２５ａと第２貫通孔２５ｂとの間の幅方向ｄＷに沿った距離をＤ１（ｍｍ）とし、蒸着マスク２０を、第１面２０ａが上方を向くようにして水平な平坦面５２上に載置し、蒸着マスク２０に上方から荷重をかけて蒸着マスク２０を平坦化したときの、第１貫通孔２５ａと第２貫通孔２５ｂとの間の幅方向ｄＷに沿った距離をＤ２（ｍｍ）としたときに、距離Ｄ２と距離Ｄ１との差（Ｄ２－Ｄ１）の値が、０ｍｍより大きく０．０５ｍｍより小さい。
　このような蒸着マスク２０によれば、蒸着マスク２０を切断する必要がなく、且つ、簡便な測定装置を用いて蒸着マスク２０の反りの程度を評価することができる。これにより、蒸着マスク２０の反りの評価精度及び評価速度を効果的に向上させることができる。また、蒸着マスク２０の反りの評価のためのコストを効果的に抑制することができる。
　なお、上述した実施の形態に対して様々な変更を加えることが可能である。なお、上述した実施の形態において得られる作用効果が変形例においても得られることが明らかである場合、その説明を省略する。
　上述した実施の形態では、第１凹部３０と第２凹部３５とが連通することにより貫通孔２５が形成されるものを示したが、貫通孔２５の形状及び形成方法は、上述したものに限られない。例えば、貫通孔２５がそれぞれ１つの凹部、例えば第１凹部３０又は第２凹部３５、のみで形成されていてもよい。
　他の変形例として、上述した実施の形態では、蒸着マスク２０が、金属板６４をエッチングすることにより貫通孔２５を形成した金属板２１からなるものを示したが、これに限られない。例えば、蒸着マスク２０として、めっきにより作製された蒸着マスク２０を用いてもよい。蒸着マスク２０をめっきにより作製する場合、一例として、特開２０１６－１４８１１２号公報に開示されているように、貫通孔２５が形成されるべき以外の領域にめっきにより金属層を堆積し、堆積された金属層から蒸着マスク２０を構成してもよい。
　金属層をめっきにより堆積する場合、堆積された金属層（めっき層）内には応力が残留する。したがって、めっきによる金属層の堆積後に当該金属層からなる蒸着マスク２０のアニール工程を行い、このアニール工程における蒸着マスク２０の保持温度及び／又は保持時間を調整することにより、蒸着マスク２０内に残留している応力を所望量だけ残留させる。これにより、蒸着マスク２０の第１面２０ａ側と第２面２０ｂ側との間の残留応力量に差を生じさせる。以上により、蒸着マスク２０に、少なくとも長手方向ｄＬの中央部における、長手方向ｄＬに直交する断面において、第１面２０ａ側に凸になるような反りを付与することができる。
　以下、実施例を用いて本発明をより詳細に説明するが、この実施例はあくまで一実験結果であり、本発明はこの実験結果により限定されて解釈されるべきではない。
　以下に説明する複数の蒸着マスクを実際に作製して、各蒸着マスクを用いて被蒸着基板に蒸着材料を蒸着した際の蒸着品質について確認した。
　ＫＯＢＥＬＣＯ製１２段圧延機で圧延された、３６％ニッケル－鉄合金からなる厚さ２０μｍの金属板を所定の温度及び時間でアニールした後、この金属板にエッチングにより第１凹部及び第２凹部を形成し、この金属板を切り出して、第１凹部及び第２凹部からなる貫通孔を有する、長さ１２００ｍｍ、幅６５ｍｍの蒸着マスクを作製した。蒸着マスクには、長手方向に沿って七つの有効領域を設けた。各有効領域の寸法は、蒸着マスクの長手方向に沿った長さを１３２ｍｍ、蒸着マスクの幅方向に沿った幅が６４ｍｍとした。各有効領域には、蒸着マスクの長手方向に沿って２５６０個、幅方向に沿って１４４０個の貫通孔を配置した。貫通孔の形状は、貫通部において蒸着マスクの長手方向に沿った寸法が３０μｍ、幅方向に沿った寸法が３０μｍの円形であった。
〔実施例１〕
　作製された蒸着マスクは、いずれも、長手方向の中央部における長手方向に直交する断面において、被蒸着基板に対面する側の面をなす第１面側に凸になるように反っていた。各蒸着マスクについて、Ｄ１（ｍｍ）及びＤ２（ｍｍ）を測定した。具体的には、各蒸着マスクについて、当該蒸着マスクを、第１面が上方を向くようにして水平な平坦面上に載置し、長手方向の中心に最も近い第１トータルピッチマークと第２トータルピッチマークとの間の幅方向に沿った距離を測定し、Ｄ１（ｍｍ）の値を得た。また、当該蒸着マスクを、第１面が上方を向くようにして水平な平坦面上に載置し、この蒸着マスクに上方からガラス基板を載せ、このガラス基板上から蒸着マスクに荷重をかけて蒸着マスクを平坦化したときの、第１トータルピッチマークと第２トータルピッチマークとの間の幅方向に沿った距離を測定し、Ｄ２（ｍｍ）の値を得た。Ｄ１及びＤ２の値は、新東Ｓプレシジョン株式会社製自動２次元座標測定機ＡＭＩＣ１７１０Ｄを用いて、上方から光学的に測定することにより得られた。具体的には、Ｄ１及びＤ２の値は、第１トータルピッチマーク、第２トータルピッチマークのそれぞれの中心の座標を求め、この中心同士の間の幅方向に沿った距離として算出した。その後、各蒸着マスクについて、Ｄ２とＤ１との差（Ｄ２－Ｄ１）（ｍｍ）の値を算出した。
〔実施例２〕
　各蒸着マスクについて、蒸着マスクの幅方向の一方側の端縁に最も近接した複数の貫通孔のうち、長手方向の中心に最も近い貫通孔を第１貫通孔とし、蒸着マスクの幅方向の他方側の端縁に最も近接した複数の貫通孔のうち、第１貫通孔との間の長手方向に沿った離間距離が最も小さい貫通孔を第２貫通孔とした。当該蒸着マスクを、第１面が上方を向くようにして水平な平坦面上に載置し、第１貫通孔と第２貫通孔との間の幅方向に沿った距離を測定し、Ｄ１（ｍｍ）の値を得た。また、当該蒸着マスクを、第１面が上方を向くようにして水平な平坦面上に載置し、この蒸着マスクに上方からガラス基板を載せ、このガラス基板上から蒸着マスクに荷重をかけて蒸着マスクを平坦化したときの、第１貫通孔と第２貫通孔との間の幅方向に沿った距離を測定し、Ｄ２（ｍｍ）の値を得た。第１トータルピッチマーク及び第２トータルピッチマークに代えて第１貫通孔及び第２貫通孔を利用してＤ１及びＤ２の値を得たこと以外は、実施例１と同様に行った。なお、Ｄ１及びＤ２の値は、第１貫通孔、第２貫通孔のそれぞれの中心の座標を求め、この中心同士の間の幅方向に沿った距離として算出した。
　作製された各蒸着マスクは、その耳部領域がフレームに溶接により固定され、これにより、蒸着マスク及びフレームからなる蒸着マスク装置が作製された。
　平面視寸法が９００ｍｍ×１５００ｍｍであり厚さが０．５ｍｍの無アルカリガラスからなる被蒸着基板の、蒸着マスクが配置される側とは反対側の面上に、平面視寸法が９００ｍｍ×１５００ｍｍである、永久磁石及び該永久磁石の磁力を増減制御し得るように極性方向が調節可能な電磁石を、被蒸着基板と密着するようにして配置した。この被蒸着基板の、磁石が配置された側とは反対側の面に対して、蒸着マスク装置の蒸着マスクの第１面を密着させた。その後、各蒸着マスクに形成された貫通孔を介して、有機発光材料からなる蒸着材料を被蒸着基板に蒸着した。蒸着マスクを被蒸着基板から除去した後、蒸着材料の被蒸着基板への蒸着品質について評価した。蒸着材料の蒸着品質は、二次元座標寸法測定器により評価した。ただし、後述のように製造後にすでにシワが生じていた蒸着マスクについては、当該蒸着マスクを用いた蒸着材料の被蒸着基板への蒸着を行っておらず、蒸着品質の評価も行っていない。
　図２６及び図２７に、作製された蒸着マスクのうち、長手方向の中央部における、長手方向に直交する断面において、第１面側に凸になるように反った蒸着マスクについて、本実施例におけるアニール条件（アニール温度及びアニール時間）、各アニール条件のアニールを経て作製された蒸着マスクの（Ｄ２－Ｄ１）（ｍｍ）の値、及び、各蒸着マスクを用いた場合の蒸着品質についてまとめた表を示す。蒸着品質の欄において、「○」は、各画素における蒸着材料の寸法精度及び位置精度が製品として使用可能なレベルであったもの、「◎」は各画素における蒸着材料がより高い寸法精度及び位置精度を有していたもの、「－」は製造後に蒸着マスクにシワが生じており蒸着品質の評価を行っていないもの、をそれぞれ示している。図２６は、実施例１における蒸着品質を示し、図２７は、実施例２における蒸着品質を示している。
　実施例１及び実施例２において、長手方向に直交する断面において、第１面側に凸になるように反った蒸着マスクでは、蒸着マスクにシワが生じておらず、各画素における蒸着材料の寸法精度及び位置精度が製品として使用可能なレベルの、良好な蒸着品質を確保できていることが確認された。これにより、これらの蒸着マスクを用いて製造された有機ＥＬ基板において、良好な発光品質が確保できる。また、（Ｄ２－Ｄ１）の値が０．０１５ｍｍ以上０．０５０ｍｍ以下の範囲にある蒸着マスクでは、各画素における蒸着材料がより高い寸法精度及び位置精度を有しており、さらに良好な蒸着品質を確保できていることが確認された。これにより、これらの蒸着マスクを用いて製造された有機ＥＬ基板において、さらに良好な発光品質が確保できる。
　その一方、作製された蒸着マスクのうち、長手方向の中央部における、長手方向に直交する断面において、第１面側に凹になるように反った蒸着マスクは、いずれも、幅方向の両端縁から先に被蒸着基板に密着し、幅方向の中央部にシワが生じた。結果として、各画素における蒸着材料の寸法及び形状のばらつきや、位置ずれが生じていた。

Claims (3)

  1. 　蒸着材料の被蒸着基板への蒸着に用いられ、前記被蒸着基板に対面する側の面をなす第１面と、前記第１面と反対側の面をなす第２面とを備えた蒸着マスクであって、
    　複数の貫通孔が形成された有効領域を有し、
    　長手方向を有するとともに、前記長手方向に沿って１以上の前記有効領域が配列されており、
    　少なくとも前記長手方向の中央部における、前記長手方向に直交する断面において、前記第１面側に凸になるように反っている、蒸着マスク。
  2. 　前記有効領域を取り囲む周囲領域を有し、
    　前記周囲領域における前記有効領域の前記幅方向の一方側に配置された１以上のトータルピッチマークのうち、前記長手方向の中央部に最も近いトータルピッチマークを第１トータルピッチマークとし、
    　前記周囲領域における前記有効領域の前記幅方向の他方側に配置された１以上のトータルピッチマークのうち、前記第１トータルピッチマークに対応するトータルピッチマークを第２トータルピッチマークとし、
    　前記蒸着マスクを、前記第１面が上方を向くようにして水平な平坦面上に載置し、前記第１トータルピッチマークと前記第２トータルピッチマークとの間の前記幅方向に沿った距離をＤ１（ｍｍ）とし、
    　前記蒸着マスクを、前記第１面が上方を向くようにして水平な平坦面上に載置し、前記蒸着マスクに上方から荷重をかけて前記蒸着マスクを平坦化したときの、前記第１トータルピッチマークと前記第２トータルピッチマークとの間の前記幅方向に沿った距離をＤ２（ｍｍ）としたときに、
    　前記距離Ｄ２と前記距離Ｄ１との差（Ｄ２－Ｄ１）の値が、０ｍｍより大きく０．０５ｍｍより小さい、請求項１に記載の蒸着マスク。
  3. 　前記蒸着マスクの前記幅方向の一方側の端縁に最も近接した１以上の前記貫通孔のうち、前記長手方向の中央部に最も近い貫通孔を第１貫通孔とし、
    　前記蒸着マスクの前記幅方向の他方側の端縁に最も近接した１以上の前記貫通孔のうち、前記第１貫通孔との間の前記長手方向に沿った離間距離が最も小さい貫通孔を第２貫通孔とし、
    　前記蒸着マスクを、前記第１面が上方を向くようにして水平な平坦面上に載置し、前記第１貫通孔と前記第２貫通孔との間の前記幅方向に沿った距離をＤ１（ｍｍ）とし、
    　前記蒸着マスクを、前記第１面が上方を向くようにして水平な平坦面上に載置し、前記蒸着マスクに上方から荷重をかけて前記蒸着マスクを平坦化したときの、前記第１貫通孔と前記第２貫通孔との間の前記幅方向に沿った距離をＤ２（ｍｍ）としたときに、
    　前記距離Ｄ２と前記距離Ｄ１との差（Ｄ２－Ｄ１）の値が、０ｍｍより大きく０．０５ｍｍより小さい、請求項１に記載の蒸着マスク。
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