WO2017183573A1 - 磁壁利用型アナログメモリ素子および磁壁利用型アナログメモリ - Google Patents
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Definitions
- the present invention relates to a domain wall-based analog memory element and a domain wall-based analog memory.
- a resistance change type memory that stores data using a resistance change type element, for example, MRAM (Magnetoresistive Random Access Memory), ReRAM (Resistance Random Access Memory), PCRAM Change Phase Random Access Memory, etc. are attracting attention.
- MRAM Magneticoresistive Random Access Memory
- ReRAM Resistance Random Access Memory
- PCRAM Change Phase Random Access Memory etc.
- a domain wall drive type or a domain wall displacement type for example, Patent Document 4
- a current is caused to flow in the in-plane direction of the domain wall drive layer (or magnetization free layer), the domain wall is moved by a spin transfer effect by spin-polarized electrons, and the magnetization of the ferromagnetic film is made to correspond to the direction of the write current. Data is written by reversing the direction.
- Patent Document 4 describes a multi-value recording and analog recording method for a domain wall drive type MRAM. In MRAM, different data writing methods have been proposed.
- magnetic field writing type In addition to the domain wall drive type MRAM, magnetic field writing type, yoke magnetic field writing type, STT (Spin Transfer Torque) type, SOT (Spin Orbit Torque) type MRAM, etc. are known. It has been.
- the domain wall movement is not completed outside the portion where the domain wall drive layer (or the magnetization free layer) and the magnetoresistive effect element overlap, the domain wall moves during reading and erroneous writing or reading is performed.
- the initial signal changes. That is, in the conventional domain wall drive type MRAM, there is no method for stably reading data even though the data can be written in multi-value or analog manner. If the data written in analog can be read stably, the data written in multiple values can also be read stably.
- the present invention has been made in view of the above circumstances, and provides a domain wall-based analog memory element and a domain wall-based analog memory that can stably read analog recording data.
- a first aspect of the present invention is a domain wall-based analog memory element, comprising a domain wall, a first region, a second region, a third region located between the first region and the second region, A domain wall drive layer having a magnetic pinned layer disposed on the third region via a nonmagnetic layer, and a second surface of the third region opposite to the first surface on which the magnetic pinned layer is disposed. , And a lower electrode layer installed at a position overlapping the magnetization fixed layer in plan view.
- a high resistance layer may be provided between the domain wall driving layer and the lower electrode layer.
- the length of the domain wall drive layer may be 60 nm or more.
- a first magnetization supply layer that is in contact with the first region and has a first magnetization direction.
- a second magnetization supply layer in contact with the second region and having a second magnetization direction opposite to the first magnetization direction.
- each of the magnetizations of the domain wall drive layer, the first magnetization supply layer, the second magnetization supply layer, and the magnetization fixed layer. May be parallel to each layer.
- the magnetizations of the domain wall driving layer, the first magnetization supply layer, the second magnetization supply layer, and the magnetization fixed layer, respectively. May be perpendicular to the respective layers.
- the domain wall drive layer may have a domain wall pinning portion.
- a bipolar element is provided in either the first magnetization supply layer or the second magnetization supply layer. May be connected.
- a ninth aspect of the present invention is a domain wall-based analog memory, comprising a plurality of domain wall-based analog memory elements according to any one of the first to eighth aspects.
- the tenth aspect of the present invention may comprise a mechanism for reading a resistance change between the lower electrode layer and the magnetization fixed layer at the time of reading in the domain wall utilizing analog memory according to the ninth aspect.
- An eleventh aspect of the present invention is a non-volatile logic circuit, wherein the domain wall-based analog memory according to any one of the first to eighth aspects is arranged in an array, An STT-MRAM, which has a storage function and a logic function, and includes the domain wall utilization type analog memory and the STT-MRAM as the storage function.
- a twelfth aspect of the present invention is a magnetic neuron element, comprising the domain wall-utilizing analog memory element according to any one of the first to eighth aspects, wherein the third region of the domain wall drive layer has a longitudinal direction.
- the first storage unit, the second storage unit, and the third storage unit are arranged in a direction and have a first storage unit and a second storage unit and a third storage unit that are disposed across the first storage unit.
- a current source having a control circuit that can be controlled to flow a write current that can move the domain wall in order so as to stay in all the storage units of the storage unit at least once is provided.
- multi-value recording data or analog recording data can be read stably.
- FIG. 4A It is a cross-sectional schematic diagram of an example of a domain wall utilization type analog memory element concerning one embodiment of the present invention. It is a cross-sectional schematic diagram of the other example of the domain wall utilization type
- FIG. 6 is a schematic cross-sectional view illustrating a path through which a read current flows in a conventional domain wall drive type magnetoresistive effect element.
- FIG. 5 is a schematic cross-sectional view illustrating a path through which a read current flows in the domain wall-based analog memory device of the present invention. It is a cross-sectional schematic diagram explaining the principle of writing and reading of the analog memory element using a domain wall of the present invention. It is a graph which shows notionally the relationship between the ratio of the area of the part parallel to the direction of magnetization of a magnetization fixed layer, and the resistance value of a magnetoresistive effect element part. It is a cross-sectional schematic diagram of the principal part of the cell in the analog memory using a domain wall of this invention.
- FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an example of a domain wall utilization type analog memory device according to an embodiment of the present invention.
- a domain wall utilization type analog memory device 100 shown in FIG. 1 has a domain wall DW, and includes a domain wall drive layer 1 including a first region 1a and a second region 1b, and a third region 1c located between these regions, A lower electrode layer 4 in contact with the third region, and a magnetization fixed layer 5 disposed through a nonmagnetic layer 6 on the surface of the third region opposite to the surface in contact with the lower electrode layer 4.
- 1 further includes a first magnetization supply layer 2 in contact with the first region 1a and having a first magnetization direction, a first magnetization supply layer 2 in contact with the second region, and a first magnetization direction.
- a second magnetization supply layer 3 having a second magnetization direction opposite to that of the second magnetization supply layer 3.
- the write current that flows through the domain wall drive layer 1 may be a spin-polarized current.
- 1 further includes a high resistance layer 7 between the domain wall drive layer 1 and the lower electrode layer 4.
- the high resistance layer 7 is a layer having a higher electrical resistivity than the domain wall drive layer 1.
- the high resistance layer 7 is a layer that prevents the domain wall drive from being hindered by a current flowing through the lower electrode layer 4 when the domain wall of the domain wall drive layer 1 is driven. If it is a material, there is no restriction
- FIG. Non-magnetic materials may be used.
- the high resistance layer 7 may be a tunnel barrier layer. Therefore, the high resistance layer 7 may be an insulating material capable of flowing a tunnel current.
- the stacking direction of each layer that is, the direction orthogonal to the main surface of each layer (plane normal direction) is defined as the Z direction. Each layer is formed in parallel to the XY plane orthogonal to the Z direction.
- the magnetization fixed layer means a layer in which the magnetization direction does not change before and after writing using a write current (magnetization is fixed), and may be used without any limitation as long as the layer satisfies the magnetization direction. it can.
- the domain wall drive layer 1 is a magnetization free layer made of a ferromagnetic material, and its magnetization direction can be reversed.
- the domain wall drive layer 1 has a domain wall, and by passing a current equal to or higher than a threshold value in a direction penetrating the domain wall (X direction), the spin polarized current generated in the domain (domain) of the domain wall drive layer 1 is The domain wall can be moved in the direction in which conduction electrons flow.
- the first magnetization supply layer 2, the second magnetization supply layer 3, and the magnetization fixed layer 5 are all layers (ferromagnetic layers) made of a ferromagnetic material with fixed magnetization.
- the first magnetization supply layer 2 and the second magnetization supply layer 3 are disposed so as to face the magnetization fixed layer 5 with the domain wall drive layer 1 interposed therebetween.
- the first magnetization supply layer 2 and the second magnetization supply layer 3 are magnetically coupled to the domain wall drive layer 1.
- a write current is passed from one end of the domain wall drive layer 1 to the other end.
- arrows M1, M2 and M3 indicate the magnetization directions of the respective layers
- arrows M4 and M5 respectively represent the first magnetization supply layer 2 side of the domain wall drive layer 1 with the domain wall DW as a boundary.
- the domain wall drive layer 1, the first magnetization supply layer 2, the second magnetization supply layer 3, and the magnetization fixed layer 5 have in-plane magnetization having in-plane magnetic anisotropy (in-plane magnetization easy axis).
- these layers may be perpendicular magnetic films having perpendicular magnetic anisotropy (perpendicular easy axis).
- An example of a material that can easily form an in-plane magnetization film is NiFe.
- An example of a film that can easily form a perpendicular magnetization film is a Co / Ni laminated film.
- the in-plane magnetization film When the in-plane magnetization film is used, it has a high MR ratio and it is difficult to perform writing by STT at the time of reading, so that a large reading voltage can be used.
- the domain wall utilization type analog memory device of this embodiment can stably write and read data.
- the domain wall utilization type analog memory element of the present embodiment has dramatically suppressed the domain wall movement at the time of reading, and thus cannot be realized by the conventional domain wall drive type MRAM. It is an element capable of obtaining a stable analog signal output.
- a conventional domain wall drive type MRAM will be described.
- the MRAM includes a magnetoresistive effect element that uses a magnetoresistive effect such as a GMR (Giant Magneto Resistance) effect or a TMR (Tunnel Magneto Resistance) effect as a memory cell.
- the magnetoresistive effect element has, for example, a laminated structure in which two ferromagnetic layers are laminated via a nonmagnetic layer. The two ferromagnetic layers are a magnetization fixed layer (pinned layer) whose magnetization direction is fixed and a magnetization free layer (free layer) whose magnetization direction can be reversed.
- the value of the electric resistance of the magnetoresistive effect element is larger when the magnetization directions of the magnetization fixed layer and the magnetization free layer are antiparallel than when the directions are parallel.
- the magnetoresistive effect element which is a memory cell of the MRAM
- the magnetization parallel state is associated with the data “0” and the antiparallel state is associated with the data “1”.
- Data is stored in a nonvolatile manner. Data is read by passing a read current so as to penetrate the magnetoresistive element (through the laminated structure) and measuring the resistance value of the magnetoresistive element. On the other hand, data is written by passing a spin-polarized current and reversing the magnetization direction of the magnetization free layer.
- the “STT method” using spin transfer torque is known as the main data writing method.
- a spin-polarized current is injected into the magnetization free layer, and a torque is generated in the magnetization free layer due to the interaction between the spin of conduction electrons responsible for the spin-polarization current and the magnetic moment of the magnetization free layer, Magnetization is reversed when the torque is sufficiently large. Since the magnetization reversal is more likely to occur as the current density increases, the write current can be reduced as the memory cell size is reduced.
- the STT method a method in which a write current is passed so as to penetrate the magnetoresistive effect element (for example, Patent Document 1), and a write current is passed in the in-plane direction of the magnetization free layer without penetrating the magnetoresistive effect element.
- a method for example, Patent Document 4
- spin-polarized electrons having the same spin state as the magnetization fixed layer are supplied from the magnetization fixed layer to the magnetization free layer, or extracted from the magnetization free layer to the magnetization fixed layer. As a result, the magnetization of the magnetization free layer is reversed by the spin transfer effect.
- the magnetization direction of the magnetization free layer can be defined by the direction of the write current passing through the magnetoresistive effect element.
- the domain wall drive type magnetic memory including a plurality of magnetoresistive effect elements of the former method is called a domain wall drive type MRAM.
- FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing an example of a conventional domain wall drive type magnetoresistive effect element. Compared with the configuration of the domain wall utilization type analog memory element shown in FIG. 1, the lower electrode layer 4 and the high resistance layer 7 are shown. The difference is that it does not have.
- the magnetization free layer 11 has a first region 11a and a second region 11b whose magnetizations are fixed substantially antiparallel to each other, and a third region 11c located between the first region 11a and the second region 11b.
- the magnetization of the three regions 11c is substantially parallel to either the first region 11a or the second region 11b. Due to the restriction of the magnetization state, a domain wall is introduced into the magnetization free layer 11. The domain wall can be moved in position by passing a current through the magnetization free layer 11.
- the conduction electrons are indicated by the solid line opposite to the current direction. It flows in the direction.
- the electrons spin according to the magnetization direction of the first magnetization supply layer 2 and the domain of the magnetization free layer 11 magnetically coupled to the first magnetization supply layer 2. It becomes a polarized electron.
- the spin-polarized electrons reach the domain wall, the spin possessed by the spin-polarized electrons in the domain wall causes spin transfer to the domain wall, and the domain wall moves in the same direction as the conduction electron flows.
- the conduction electrons are indicated by a solid line opposite to the current direction. It flows in the direction shown.
- the electrons correspond to the magnetization directions of the second magnetization supply layer 3 and the magnetically coupled domain of the second magnetization supply layer 3 of the magnetization free layer 11.
- Spin-polarized current When the spin-polarized electrons reach the domain wall, the spin possessed by the spin-polarized electrons in the domain wall causes spin transfer to the domain wall, and the domain wall moves in the same direction as the conduction electron flows.
- the magnetization of the portion of the magnetization free layer 11 immediately below the magnetization fixed layer 5 is made parallel to the magnetization direction of the magnetization fixed layer 5 or made antiparallel. Can do. Accordingly, information can be rewritten between the “0” state and the “1” state.
- a current is passed between the magnetization fixed layer 5 and the magnetization free layer 11 via the nonmagnetic layer 6, and the resistance according to the relative angle between the magnetization of the magnetization fixed layer 5 and the magnetization of the magnetization free layer 11.
- a data write current is generated by a magnetoresistive effect element (lamination including a magnetization fixed layer 5 and a magnetization free layer 11 via a nonmagnetic layer 6 in FIG. 3). It flows in the in-plane direction (direction parallel to the stacking direction) of the magnetization free layer without passing through the structure (see FIGS. 4A and 4B).
- the data read current passes through the magnetoresistive element (a laminated structure including the magnetization fixed layer 5 and the magnetization free layer 11 via the nonmagnetic layer 6) in the lamination direction.
- the read current path partially overlaps the write current path.
- the obtained output signal is finally a digital signal of 0 or 1. Also, in a plan view, if the domain wall movement is not completed outside the portion where the domain wall drive layer (magnetization free layer) and the magnetoresistive effect element overlap, the domain wall moves during reading and erroneous writing or initial reading The hour signal changes.
- the domain wall utilization type analog memory element of the present embodiment includes a lower electrode layer at a position overlapping the magnetization fixed layer constituting the magnetoresistive effect element in plan view. Therefore, the read current flows in the direction perpendicular to the domain wall drive layer (magnetization free layer) as shown by a two-dot chain line in FIG. Therefore, since the read current does not flow in the domain wall drive direction (in-plane direction) of the domain wall drive layer, the movement of the domain wall during reading can be suppressed. Further, since the distance of the domain wall drive layer through which the read current flows is short, magnetic noise can be reduced.
- FIG. 7 is a schematic cross-sectional view showing a case where the domain wall DW is positioned in a portion 1 cA between the magnetization fixed layer 5 and the nonmagnetic layer 6 and the lower electrode layer 4 in plan view.
- the tunnel barrier layer 7 and the lower electrode layer 4 are omitted.
- the domain wall DW can be moved by flowing a write current (spin polarization current) in the in-plane direction of the domain wall drive layer 1.
- the moving direction of the domain wall DW can be set by the direction in which the write current (spin polarization current) flows.
- a write current spin polarized current
- spin polarized current spin polarized current
- a write current spin polarized current
- the movement amount (movement distance) of the domain wall DW can be variably controlled by adjusting the magnitude and time of the write current.
- the magnitude and time of the write current may be set by the number of pulses or the pulse width, for example.
- the position of the domain wall DW in the domain wall drive layer 1 can be moved to a desired position by adjusting the direction, magnitude, time, number of pulses, or pulse width of the write current (spin polarization current). .
- magnetoresistive effect element portion When the magnetization fixed layer 5 and the nonmagnetic layer 6 have the same size in plan view and the width W in the X direction is the same as the width in the X direction of the lower electrode layer,
- the magnetic layer 6 and the portion 1cA of the domain wall drive layer 1 that overlaps the magnetization fixed layer 5 and the nonmagnetic layer 6 substantially in plan view are referred to as a magnetoresistive effect element 10 (hereinafter referred to as “magnetoresistance effect element portion”). May be formed).
- the resistance value varies depending on the position of the domain wall DW. When the domain wall DW is at the position shown in FIG.
- the magnetoresistive effect element unit 10 includes the magnetization fixed layer 5, the nonmagnetic layer 6, and the domain wall DW of the domain wall driving layer 1 on the second magnetization supply layer 3 side.
- a parallel circuit is provided with a high resistance portion formed by a portion 1 ca (a portion in which the magnetization direction is antiparallel to the magnetization direction of the magnetization fixed layer 5) 1 ca from the domain wall DW on the first magnetization supply layer 2 side.
- FIG. 8 is a graph conceptually showing the relationship between the ratio of the area (corresponding to the position of the domain wall DW) of the portion 1 cb parallel to the magnetization direction of the magnetization fixed layer 5 and the resistance value of the magnetoresistive effect element unit 10. .
- the lower electrode layer through which the read current passes is provided directly below the magnetization fixed layer 5, thereby allowing the read current to flow in the domain wall driving layer in the vertical direction. That is, by causing the read current (spin-polarized electron flow) to flow in a direction parallel to the domain wall, the influence on the domain wall at the time of readout can be drastically reduced as compared with the conventional technique. As a result, stable reading is possible as compared with the prior art.
- the material of the domain wall drive layer 1 a known material that can be used for the magnetization free layer can be used.
- a soft magnetic material can be applied.
- a metal selected from the group consisting of Cr, Mn, Co, Fe, and Ni, an alloy containing one or more of these metals, these metals and at least one element of B, C, and N are included. Alloys that can be used can be used. Specific examples include Co—Fe, Co—Fe—B, and Ni—Fe.
- the length of the domain wall drive layer 1, that is, the total length of the first region and the second region and the third region located between these regions is preferably 60 nm or more. This is because if the thickness is less than 60 nm, a single magnetic domain tends to be formed, and the domain wall may not be provided.
- the thickness of the domain wall drive layer 1 is not particularly limited as long as it functions as the domain wall drive layer, but may be 2 to 60 nm, for example.
- the thickness of the domain wall drive layer 1 is 60 nm or more, there is a possibility that a domain wall is formed in the stacking direction.
- whether or not a domain wall can be formed in the stacking direction is caused by a balance with the shape anisotropy of the domain wall drive layer. Therefore, as long as the thickness of the domain wall drive layer 1 is less than 60 nm, a domain wall cannot be formed.
- the domain wall drive layer 1 may have a domain wall pinning portion that stops the domain wall movement on the side surface of the layer.
- a specific configuration of the domain wall pinning portion a known configuration, for example, an unevenness, a groove, a bulge, a constriction, a notch, or the like can be used.
- the domain wall can be stopped (pinned), and the domain wall can be moved no further unless an electric current equal to or higher than a threshold is passed.
- the output signal can be multi-valued instead of analog. For example, by forming the domain wall pinning portion at a predetermined distance, the domain wall can be held more stably, enabling stable multi-level recording, and more stable multi-level output signals. Can be read.
- a known material that can be used for the magnetization fixed layer can be used.
- a metal selected from the group consisting of Cr, Mn, Co, Fe, and Ni and an alloy that includes one or more of these metals and exhibits ferromagnetism can be used.
- An alloy containing these metals and at least one element of B, C, and N can also be used. Specific examples include Co—Fe and Co—Fe—B.
- Heusler alloy such as Co 2 FeSi.
- the Heusler alloy includes an intermetallic compound having a chemical composition of X 2 YZ, where X is a transition metal element or noble metal element of Co, Fe, Ni, or Cu group on the periodic table, and Y is Mn, V It is a transition metal of Cr, Ti or Ti, and can take the elemental species of X, and Z is a typical element of Group III to Group V. Examples thereof include Co 2 FeSi, Co 2 MnSi, and Co 2 Mn 1-a Fe a Al b Si 1-b .
- the magnetization fixed layer 5 may have a synthetic structure including an antiferromagnetic layer, a ferromagnetic layer, and a nonmagnetic layer.
- the magnetization direction is strongly retained by the antiferromagnetic layer, so that it can function as a magnetization fixed layer that is hardly affected by the outside.
- the magnetization fixed layer 5 has [Co (0.24 nm) / Pt (0.16 nm)] 6 / Ru (0.9 nm) / [Pt (0.16 nm) / Co (0.16 nm)] 4. / Ta (0.2 nm) / FeB (1.0 nm).
- the magnetization of the magnetization fixed layer 5 is fixed in one direction, and the magnetization direction of the domain wall drive layer 1 (more precisely, the portion 1cA sandwiched between the magnetization fixed layer 5, the nonmagnetic layer 6, and the lower electrode layer 4) is It functions as the magnetoresistive effect element part 10 by changing relatively.
- a known method can be used as the magnetization method of the magnetization fixed layer 5.
- the coercive force of the magnetization fixed layer is larger than the coercivity of the domain wall drive layer 1.
- the magnetoresistive element portion 10 functions as a tunnel magnetoresistive (TMR) element when the nonmagnetic layer 6 is made of an insulator, and a giant magnetoresistive (GMR) element when the nonmagnetic layer 6 is made of metal. To play a role.
- TMR tunnel magnetoresistive
- GMR giant magnetoresistive
- the material of the nonmagnetic layer 6 a known material that can be used for the nonmagnetic layer can be used.
- the material thereof is Al 2 O 3 , SiO 2 , MgO, MgAl 2 O 4 , ZnAl 2 O 4 , MgGa 2 O 4.
- ZnGa 2 O 4 , MgIn 2 O 4 , ZnIn 2 O 4 , and multilayer films or mixed composition films of these materials can be used.
- materials in which a part of Al, Si, Mg is substituted with Zn, Be, or the like can also be used.
- MgO and MgAl 2 O 4 are materials that can realize a coherent tunnel, spin can be injected efficiently.
- the nonmagnetic layer 6 is made of metal, Cu, Au, Ag, or the like can be used as the material.
- a magnetic coupling layer 8 may be provided between the domain wall drive layer 1 and the nonmagnetic layer 6.
- the main function of the domain wall drive layer 1 is a layer for driving the domain wall, and it is not always possible to select a material suitable for the magnetoresistive effect generated through the magnetization fixed layer 5 and the nonmagnetic layer 6.
- a ferromagnetic material having a BCC structure is preferable for the magnetization fixed layer 5 and the magnetic coupling layer 8 in order to generate a coherent tunnel effect using the nonmagnetic layer 6.
- a large output can be obtained when a material having a composition of Co—Fe—B is formed by sputtering as a material of the magnetization fixed layer 5 and the magnetic coupling layer 8.
- the portion of the domain wall driving layer 1 that overlaps the magnetization fixed layer 5 in plan view may be thicker than the other portions.
- the domain wall moves below the nonmagnetic layer 6, the cross-sectional area of the domain wall increases, so the current density decreases and the domain wall drive speed decreases. This makes it easier to control the analog value of the output.
- the domain wall drive layer 1, the nonmagnetic layer 6, and the magnetization fixed layer 5 can be formed by continuous film formation, and an unnecessary portion can be scraped off. When continuous film formation is performed, the bonding between the layers to be bonded becomes stronger, and more efficient magnetic coupling and output can be obtained.
- each layer may include a plurality of layers, or may include other layers such as an antiferromagnetic layer that fixes the magnetization direction of the magnetization fixed layer 5.
- the shape of the lower electrode layer 4 is preferably the same size as the magnetization fixed layer 5 in a plan view so that a horizontal component of a read current (spin polarization current) that leads to moving the domain wall does not appear. Even if they are not the same size, they are more effective than conventional domain wall drive type magnetoresistive elements.
- the overlapping degree of the lower electrode layer 4 and the magnetization fixed layer 5 is preferably 50% or more, more preferably 90% or more, and further preferably 100%.
- the domain wall may move during reading. Whether the domain wall moves at the time of reading depends on the position of the overlap between the lower electrode layer 4 and the magnetization fixed layer 5 and the direction of the reading current.
- a known material used as an electrode material can be used.
- aluminum, silver, copper, gold, or the like can be used.
- the thickness of the high resistance layer 7 is preferably 0.8 nm or more so that a write current does not flow into the lower electrode layer 4.
- the material of the high resistance layer 7 is a layer that can suppress (substantially prevent) a current for driving the domain wall from flowing to the lower electrode layer 4 when driving the domain wall of the domain wall drive layer 1. If there is, there is no particular limitation.
- the high resistance layer 7 may be a tunnel barrier layer, and a known insulating material that can be used for the tunnel barrier layer can be used. For example, Al 2 O 3 , SiO 2 , MgO, MgAl 2 O 4 and the like can be used. In addition to the above, a material in which a part of Al, Si, Mg is substituted with Zn, Be, or the like can also be used.
- the material of the high resistance layer 7 functions as long as the resistivity is at least higher than that of the domain wall drive layer 1. For example, a semiconductor such as Si, SiGe or Ge, or a metal such as bismuth or nichrome may be used.
- the distance between the end portion in the X direction of the magnetization fixed layer 5 and the end portions in the X direction of the first magnetization supply layer 2 and the second magnetization supply layer 3 can be arbitrarily designed.
- the domain wall in the domain wall drive layer 1 has a maximum movable range at an end portion close to the magnetization fixed layer 5 in contact with the first magnetization supply layer 2 and the second magnetization supply layer 3. This is because the first magnetization supply layer 2 and the second magnetization supply layer 3 and the domain wall drive layer 1 are magnetically coupled, and even if the domain wall is driven to operate, if the current supply to the domain wall drive layer 1 is stopped, the domain wall is at the end. This is because it becomes stable. Further, the read output is not affected until the domain wall moves from the end portion to the end portion of the magnetization fixed layer 5.
- the domain wall utilization type analog memory of this embodiment includes a plurality of domain wall utilization type analog memory elements of this embodiment.
- FIG. 9 is a schematic cross-sectional view of the main part of the cell in the domain wall-based analog memory.
- a first wiring 11 and a second wiring 12 are connected to the first magnetization supply layer 2 and the second magnetization supply layer 3, respectively.
- the magnetization pinned layer 5 is connected to the third wiring 13, and the lower electrode layer 4 is connected to the fourth wiring 14.
- Reference numeral 15 denotes an interlayer insulating layer.
- FIG. 10 is a diagram schematically showing an example of the circuit structure of the domain wall utilization type analog memory 1000 according to the present embodiment.
- the first control element 15 is connected to the domain wall drive layer 1 through the second wiring 12 of each of the plurality of domain wall utilization type analog memory elements 100.
- the first control element 15 is connected to an external power supply (not shown) and controls the current flowing through the domain wall drive layer 1.
- the first cell selection element 16 is connected to the domain wall drive layer 1 via the first wiring 11 of each of the plurality of domain wall utilization type analog memory elements 100.
- One first cell selection element 16 is provided for one domain wall utilization type analog memory element 100.
- the first cell selection element 16 controls which of the domain wall utilization type analog memory elements 100 the write current is made to flow.
- the first cell selection element 16 is grounded.
- the second control element 17 is connected to the third wiring 13.
- the second control element 17 is connected to an external power supply (not shown) and controls the current flowing through the third wiring 13.
- the second cell selection element 18 is connected to the lower electrode layer 4 via the fourth wiring 14 of each of the plurality of domain wall utilization type analog memory elements 100.
- One second cell selection element 18 is provided for one domain wall utilization type analog memory element 100.
- the second cell selection element 18 controls which of the domain wall utilization type analog memory elements 100 allows the read current to flow.
- the second cell selection element 18 is grounded.
- the first control element 15, the second control element 17, the first cell selection element 16, and the second cell selection element 18 known switching elements can be used.
- a transistor element typified by a field effect transistor or the like can be used.
- a material used as a material for a normal wiring can be used.
- aluminum, silver, copper, gold, or the like can be used.
- the write operation is controlled by the first control element 15 and the first cell selection element 16.
- the first control element 15 is opened (connected), and the first cell selection element 16 to be opened is selected.
- the first control element 15 is connected to an external power source, and the first cell selection element 16 is grounded. Therefore, a write current flows in the order of the first control element 15, the second wiring 12, the second magnetization supply layer 3, the domain wall drive layer 1, the first wiring 11, and the selected first cell selection element 16. A description of the case where the current is reversed is omitted.
- the read operation is controlled by the second control element 17 and the second cell selection element 18.
- the second control element 17 is opened (connected), and the second cell selection element 18 to be opened is selected.
- the second control element 17 is connected to an external power source, and the second cell selection element 18 is grounded. Therefore, the read current flows in the order of the second control element 17, the third wiring 13, the magnetization fixed layer, the nonmagnetic layer 6, the domain wall drive layer 1, the lower electrode layer 4, and the selected second cell selection element 18. A description of the case where the current is reversed is omitted.
- the second control element 17 and the second cell selection element 18 function as a read mechanism.
- the domain wall-based analog memory of the present embodiment may have a configuration in which a bipolar element is connected to either the first magnetization supply layer 2 or the second magnetization supply layer 3. With such a configuration, the domain wall can be moved in any direction by changing the direction of the current.
- the domain wall-based analog memory element and domain wall-based analog memory of the present embodiment are compared with the conventional domain wall drive type magnetoresistive effect element and the domain wall drive type magnetic memory provided with each magnetoresistive effect element in each cell.
- the main difference in structure is only that the lower electrode layer (and tunnel barrier layer) is provided, and it can be manufactured using a known manufacturing method.
- the nonvolatile logic circuit of the present embodiment includes a domain wall-based analog memory in which the domain wall-based analog memory elements of the present embodiment are arranged in an array, and an STT-MRAM, and has a storage function and a logic function.
- a memory function the above-mentioned domain wall-utilizing analog memory and STT-MRAM are provided. Since the domain wall utilizing analog memory and the STT-MRAM can be manufactured in the same process, the cost can be reduced.
- digital STT-MRAM is installed in the same circuit as the domain wall type analog memory arranged on the array, so that input / output is digitized and logic that can be processed in analog is formed inside. can do.
- FIG. 13 is a schematic cross-sectional view of an example of a magnetic neuron element according to an embodiment of the present embodiment.
- the magnetic neuron element of the present embodiment includes the domain wall utilization type analog memory element of the present embodiment, and sandwiches the first storage unit 21b and the first storage unit 21b in which the third region 1c of the domain wall drive layer 1 is arranged in the longitudinal direction. It has the 2nd memory
- the first storage unit 21b is a portion of the third region 1c of the domain wall drive layer 1 that overlaps the magnetization fixed layer 5 in plan view, and the second storage unit 21a and the magnetization fixed layer 5 and the second layer in plan view.
- a portion between the first magnetization supply layer 2 (a portion that does not overlap with the fixed magnetization layer 5 and the first magnetization supply layer 2), and the third storage unit 21c has the second fixed magnetization supply and the second fixed magnetization supply in plan view. It is a portion between the layers 3 (a portion that does not overlap the magnetization fixed layer 5 and the second magnetization supply layer 3).
- the domain wall-based analog memory of this embodiment can be used as a magnetic neuron element that is an element that simulates synaptic operation. At the synapse, it is preferable to have a linear output with respect to external stimuli. In addition, when a reverse load is applied, it is preferable that there is no hysteresis and that the load is reversible. As shown in FIG. 8, the areas of the portions where the magnetization directions of the magnetization fixed layer 5 and the domain wall drive layer 1 are parallel change continuously by the drive (movement) of the domain wall. That is, a parallel circuit is formed by the area of the portion where the magnetization directions of the magnetization fixed layer 5 and the domain wall drive layer 1 are parallel and the area of the antiparallel portion.
- the horizontal axis in FIG. 8 can be regarded as the drive distance of the domain wall, and can show a relatively linear resistance change.
- the domain wall can be driven depending on the magnitude of the current and the time of the applied current pulse, the magnitude and direction of the current and the time of the applied current pulse are regarded as an external load. be able to.
- the domain wall movement is performed in the initial stage of memory, the main memory stage, and the deepening of memory. It is necessary to provide a current source through which a write current can flow so as to pass through the stages. That is, a current having a control circuit that can be controlled to flow a write current that can move the domain wall in order to stay at least once in all the storage units of the first storage unit, the second storage unit, and the third storage unit It is necessary to provide a source (not shown). Depending on the condition of the write current, it is possible to determine how many times the domain wall passes through each of the first storage unit, the second storage unit, and the third storage unit.
- the memory can be forgotten by moving the domain wall of the domain wall drive layer 1 in a non-memory state.
- the domain wall can be driven or lost by applying an external magnetic field, heat, and physical distortion.
- the output shows constant low resistance and high resistance values, memory and no memory are determined by definition.
- the domain wall is moved or disappeared by a method other than passing a current through the domain wall drive layer 1, it becomes random, so that the correlation of information among a plurality of domain wall-based analog memories is lost. These can be called the memory forgetting stage.
- the magnetic neuron element of the present embodiment is a memory that simulates synaptic movement and can go through an initial stage of memory, a main memory stage, and a deepening stage of memory. It is possible to simulate the brain by installing the domain wall type analog memory of this embodiment on a plurality of circuits.
- a brain with a high degree of integration can be formed with an arrangement in which the arrays are arranged vertically and horizontally like a general memory.
- FIG. 14 in the arrangement in which a plurality of magnetic neuron elements having specific circuits are arranged as one lump, it is possible to form brains with different recognition degrees from external loads.
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Abstract
磁壁利用型アナログメモリ素子(100)は、磁壁(DW)と、第1領域(1a)と、第2領域(1b)と、第1領域および第2領域の間に位置する第3領域(1c)と、を有する磁壁駆動層(1)と、第3領域に非磁性層(6)を介して設置された磁化固定層(5)と、第3領域の、磁化固定層が設置された第1面の反対の第2面に、平面視して磁化固定層と重なる位置に設置された下部電極層(4)と、備える。
Description
本発明は、磁壁利用型アナログメモリ素子および磁壁利用型アナログメモリに関する。
本願は、2016年4月21日に、日本に出願された特願2016-085530号に基づき優先権を主張し、これらの内容をここに援用する。
本願は、2016年4月21日に、日本に出願された特願2016-085530号に基づき優先権を主張し、これらの内容をここに援用する。
微細化に限界が見えてきたフラッシュメモリ等に代わる次世代の不揮発性メモリとして、抵抗変化型素子を利用してデータを記憶する抵抗変化型メモリ例えば、MRAM(Magnetoresistive Random Access Memory)、ReRAM(Resistance Random Access Memory)、PCRAM(Phase Change Random Access Memory)などが注目されている。
メモリの高密度化(大容量化)の方法としては、メモリを構成する素子自体を小さくする方法の他に、メモリを構成する素子一つあたりの記録ビットを多値化する方法があり、様々な多値化方法が提案されている(例えば、特許文献1~3)。
MRAMの一つに、磁壁駆動型あるいは磁壁移動型と呼ばれるタイプがある(例えば、特許文献4)。磁壁駆動型MRAMは、電流を磁壁駆動層(または磁化自由層)の面内方向に流し、スピン偏極電子によるスピントランスファー効果によって磁壁を移動させ、強磁性膜の磁化を書き込み電流の方向に応じた向きに反転させることでデータ書き込みを行う。
特許文献4には、磁壁駆動型MRAMについて、多値記録やアナログ記録の方法について記載されている。
MRAMでは、データの異なる書き込み方法が提案されており、磁壁駆動型MRAM以外にも、磁場書き込み型、ヨーク磁場書き込み型、STT(Spin Transfer Torque)型、SOT(Spin Orbit Torque)型MRAMなどが知られている。
特許文献4には、磁壁駆動型MRAMについて、多値記録やアナログ記録の方法について記載されている。
MRAMでは、データの異なる書き込み方法が提案されており、磁壁駆動型MRAM以外にも、磁場書き込み型、ヨーク磁場書き込み型、STT(Spin Transfer Torque)型、SOT(Spin Orbit Torque)型MRAMなどが知られている。
従来の磁壁駆動型MRAMでは、読み出し時に磁壁駆動層(または磁化自由層)の面内方向に電流を流す必要があるため、読み出し時に流した電流によって磁壁駆動層の磁壁が移動する可能性がある。磁壁駆動層と磁気抵抗効果素子とが重なる部分よりも外側に磁壁が移動すると、磁壁駆動型MRAMにおいて信号が最終的には0か1のデジタルの信号となり、アナログメモリとして使用することは困難である。
逆に、平面視して、磁壁駆動層(または磁化自由層)と磁気抵抗効果素子とが重なる部分よりも外側に磁壁移動が完了していないと、読み込み時に磁壁が移動して誤書き込みや読み出し初期時の信号が変化する。すなわち、従来の磁壁駆動型MRAMでは、データを多値的にあるいはアナログ的に書き込みはできても、データを安定的に読み出す方法がなかった。アナログ的に書き込んだデータを安定的に読み出すことができれば、多値的に書き込んだデータも安定的に読み出すことができる。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、アナログ記録データを安定的に読み出すことができる磁壁利用型アナログメモリ素子および磁壁利用型アナログメモリを提供する。
本発明の第1態様は、磁壁利用型アナログメモリ素子であって、磁壁と、第1領域と、第2領域と、前記第1領域および前記第2領域の間に位置する第3領域と、を有する磁壁駆動層と、前記第3領域に非磁性層を介して設置された磁化固定層と、前記第3領域の、前記磁化固定層が設置された第1面の反対の第2面に、平面視して前記磁化固定層と重なる位置に設置された下部電極層と、を備える。
本発明の第2態様は、上記第1態様に係る磁壁利用型アナログメモリ素子において、前記磁壁駆動層と前記下部電極層との間に高抵抗層を備えてもよい。
本発明の第3態様は、上記第1又は第2態様に係る磁壁利用型アナログメモリ素子において、前記磁壁駆動層の長さが60nm以上であってもよい。
本発明の第4態様は、上記第1~第3態様のいずれか一態様に係る磁壁利用型アナログメモリ素子において、前記第1領域に接し、第1の磁化の向きを有する第1磁化供給層と、前記第2領域に接し、前記第1の磁化の向きと反対向きの第2の磁化の向きを有する第2磁化供給層と、をさらに備えてもよい。
本発明の第5態様は、上記第4態様に係る磁壁利用型アナログメモリ素子において、前記磁壁駆動層、前記第1磁化供給層、前記第2磁化供給層、および前記磁化固定層のそれぞれの磁化の向きが、それぞれの層に平行であってもよい。
本発明の第6態様は、上記第4態様に係る磁壁利用型アナログメモリ素子において、前記磁壁駆動層、前記第1磁化供給層、前記第2磁化供給層、および前記磁化固定層のそれぞれの磁化の向きが、それぞれの層に垂直であってもよい。
本発明の第7態様は、上記第1~第6態様のいずれか一態様に係る磁壁利用型アナログメモリ素子において、前記磁壁駆動層が磁壁ピン止め部を有してもよい。
本発明の第8態様は、上記第4~第7態様のいずれか一態様に係る磁壁利用型アナログメモリ素子において、前記第1磁化供給層又は前記第2磁化供給層のいずれか一方にバイポーラ素子が接続されていてもよい。
本発明の第9態様は、磁壁利用型アナログメモリであって、上記第1~第8態様のいずれか一態様に係る磁壁利用型アナログメモリ素子を複数備えている。
本発明の第10態様は、上記第9態様に係る磁壁利用型アナログメモリにおいて、読み出し時に前記下部電極層と前記磁化固定層との間の抵抗変化を読み出す機構を備えていてもよい。
本発明の第11態様は、不揮発性ロジック回路であって、上記第1~第8態様のいずれか一態様に係る磁壁利用型アナログメモリ素子がアレイ状に配置された磁壁利用型アナログメモリと、STT-MRAMとを備え、記憶機能と論理機能を有し、記憶機能として前記磁壁利用型アナログメモリ及び前記STT-MRAMを備える。
本発明の第12態様は、磁気ニューロン素子であって、上記第1~第8態様のいずれか一態様に係る磁壁利用型アナログメモリ素子を備え、前記磁壁駆動層の前記第3領域が、長手方向に並び、かつ第1記憶部と該第1記憶部を挟んで配置される第2記憶部および第3記憶部とを有し、前記第1記憶部、前記第2記憶部および前記第3記憶部のすべての記憶部に少なくとも一回は留まるように順に磁壁を移動させ得る書き込み電流を流すように制御可能な制御回路を有する電流源を備えている。
上記本発明に係る態様によれば、多値記録データあるいはアナログ記録データを安定的に読み出すことができる。
以下、本発明を適用した磁壁利用型アナログメモリ素子及び磁壁利用型アナログメモリについて、図面を用いてその構成を説明する。なお、以下の説明で用いる図面は、特徴をわかりやすくするために便宜上特徴となる部分を拡大して示している場合があり、各構成要素の寸法比率などは実際と同じであるとは限らない。また、以下の説明において例示される材料、寸法等は一例であって、本発明はそれらに限定されるものではなく、本発明の効果を奏する範囲で適宜変更して実施することが可能である。本発明の素子において、本発明の効果を奏する範囲で他の層を備えてもよい。
(磁壁利用型アナログメモリ素子)
図1は、本発明の一実施形態に係る磁壁利用型アナログメモリ素子の一例の断面模式図である。
図1に示す磁壁利用型アナログメモリ素子100は、磁壁DWを有し、第1領域1aおよび第2領域1bとそれらの領域の間に位置する第3領域1cとからなる磁壁駆動層1と、第3領域に接する下部電極層4と、第3領域の、下部電極層4が接する面の反対の面に非磁性層6を介して設置された磁化固定層5と、を備える。
図1に示す磁壁利用型アナログメモリ素子100ではさらに、第1領域1aに接し、第1の磁化の向きを有する第1磁化供給層2と、第2領域に接し、第1の磁化の向きと反対向きの第2の磁化の向きを有する第2磁化供給層3と、を備えている。第1磁化供給層2および第2磁化供給層3を備えない場合には、磁壁駆動層1に流す書き込み電流をスピン偏極電流とすればよい。
また、図1に示す磁壁利用型アナログメモリ素子100ではさらに、磁壁駆動層1と下部電極層4の間に高抵抗層7を備えている。高抵抗層7は磁壁駆動層1よりも電気抵抗率が高い層である。なお、高抵抗層7は、磁壁駆動層1の磁壁を駆動する際に、電流が下部電極層4に流れることで磁壁の駆動が阻害されることを防止する層であり、上記防止機能を奏する材料であれば、高抵抗層7の材料に特に制限はない。非磁性の材料でもよい。高抵抗層7は、トンネルバリア層であってもよい。従って、高抵抗層7は、トンネル電流を流すことができる絶縁材料であってもよい。
図1において、各層の積層方向すなわち、各層の主面に直交する方向(面直方向)をZ方向として定義している。各層はZ方向に直交するXY面に平行に形成されている。
なお、磁化固定層とは、書き込み電流を用いた書き込み前後において磁化方向が変化しない(磁化が固定されている)層の意味であり、それを満たす層であれば、特に限定なく用いることとができる。
図1は、本発明の一実施形態に係る磁壁利用型アナログメモリ素子の一例の断面模式図である。
図1に示す磁壁利用型アナログメモリ素子100は、磁壁DWを有し、第1領域1aおよび第2領域1bとそれらの領域の間に位置する第3領域1cとからなる磁壁駆動層1と、第3領域に接する下部電極層4と、第3領域の、下部電極層4が接する面の反対の面に非磁性層6を介して設置された磁化固定層5と、を備える。
図1に示す磁壁利用型アナログメモリ素子100ではさらに、第1領域1aに接し、第1の磁化の向きを有する第1磁化供給層2と、第2領域に接し、第1の磁化の向きと反対向きの第2の磁化の向きを有する第2磁化供給層3と、を備えている。第1磁化供給層2および第2磁化供給層3を備えない場合には、磁壁駆動層1に流す書き込み電流をスピン偏極電流とすればよい。
また、図1に示す磁壁利用型アナログメモリ素子100ではさらに、磁壁駆動層1と下部電極層4の間に高抵抗層7を備えている。高抵抗層7は磁壁駆動層1よりも電気抵抗率が高い層である。なお、高抵抗層7は、磁壁駆動層1の磁壁を駆動する際に、電流が下部電極層4に流れることで磁壁の駆動が阻害されることを防止する層であり、上記防止機能を奏する材料であれば、高抵抗層7の材料に特に制限はない。非磁性の材料でもよい。高抵抗層7は、トンネルバリア層であってもよい。従って、高抵抗層7は、トンネル電流を流すことができる絶縁材料であってもよい。
図1において、各層の積層方向すなわち、各層の主面に直交する方向(面直方向)をZ方向として定義している。各層はZ方向に直交するXY面に平行に形成されている。
なお、磁化固定層とは、書き込み電流を用いた書き込み前後において磁化方向が変化しない(磁化が固定されている)層の意味であり、それを満たす層であれば、特に限定なく用いることとができる。
磁壁駆動層1は強磁性体材料からなる磁化自由層であり、その磁化の向きは反転可能である。磁壁駆動層1は、磁壁を有し、磁壁を貫通する方向(X方向)に閾値以上の電流を流すことにより、磁壁駆動層1のドメイン(磁区)中で生成されたスピン偏極電流によって、磁壁を伝導電子が流れる方向に移動させることができる。
第1磁化供給層2、第2磁化供給層3および磁化固定層5はいずれも、磁化が固定された強磁性体材料からなる層(強磁性層)である。第1磁化供給層2及び第2磁化供給層3は、磁壁駆動層1を挟んで磁化固定層5と対向するように配置されている。また、第1磁化供給層2及び第2磁化供給層3は、磁壁駆動層1と磁気的に結合している。データ書き込み時は書き込み電流が磁壁駆動層1の一端から他端に流される。
図1において、矢印M1、矢印M2および矢印M3は各層の磁化の向きを示しており、矢印M4および矢印M5はそれぞれ、磁壁駆動層1のうち、磁壁DWを境界として第1磁化供給層2側の部分の磁化の向き、磁壁DWを境界として第2磁化供給層3側の部分の磁化の向きを示す。
図1に示す例では、磁壁駆動層1、第1磁化供給層2、第2磁化供給層3および磁化固定層5は、面内磁気異方性(面内磁化容易軸)を有する面内磁化膜であるが、図2に示すように、それらの層は垂直磁気異方性(垂直磁化容易軸)を有する垂直磁化膜であってもよい。面内磁化膜を形成しやすい材料としては例えば、NiFeがある。また、垂直磁化膜を形成しやすい膜としては例えば、Co/Ni積層膜がある。
面内磁化膜を用いると、高いMR比を有し、読み込み時にSTTによる書き込みがされ難いために大きな読み取り電圧を用いることができる。一方、素子を微小化したい場合には磁気異方性が大きく、反磁界が小さい、垂直磁化膜を用いることが好ましい。熱擾乱に対する耐性が大きいため、データが消去されにくくなる。
図1に示す例では、磁壁駆動層1、第1磁化供給層2、第2磁化供給層3および磁化固定層5は、面内磁気異方性(面内磁化容易軸)を有する面内磁化膜であるが、図2に示すように、それらの層は垂直磁気異方性(垂直磁化容易軸)を有する垂直磁化膜であってもよい。面内磁化膜を形成しやすい材料としては例えば、NiFeがある。また、垂直磁化膜を形成しやすい膜としては例えば、Co/Ni積層膜がある。
面内磁化膜を用いると、高いMR比を有し、読み込み時にSTTによる書き込みがされ難いために大きな読み取り電圧を用いることができる。一方、素子を微小化したい場合には磁気異方性が大きく、反磁界が小さい、垂直磁化膜を用いることが好ましい。熱擾乱に対する耐性が大きいため、データが消去されにくくなる。
以下、本実施形態の磁壁利用型アナログメモリ素子が安定的にデータを書き込み、かつ読み出すことができる原理を説明する。
本実施形態の磁壁利用型アナログメモリ素子は従来の磁壁駆動型MRAMの各素子に比べて、読み込み時における磁壁の移動が劇的に抑制されているため、従来の磁壁駆動型MRAMでは実現できなかった安定したアナログ的信号出力を得ることが可能な素子である。
そこでまず、従来の磁壁駆動型MRAMについて説明する。
本実施形態の磁壁利用型アナログメモリ素子は従来の磁壁駆動型MRAMの各素子に比べて、読み込み時における磁壁の移動が劇的に抑制されているため、従来の磁壁駆動型MRAMでは実現できなかった安定したアナログ的信号出力を得ることが可能な素子である。
そこでまず、従来の磁壁駆動型MRAMについて説明する。
MRAMは、GMR(Giant Magneto Resistance)効果やTMR(Tunnel Magneto Resistance)効果などの磁気抵抗効果を利用する磁気抵抗効果素子をメモリセルとして備える。磁気抵抗効果素子は例えば、非磁性層を介して2層の強磁性層が積層された積層構造を有する。2層の強磁性層は、磁化の向きが固定された磁化固定層(ピン層)と、磁化の向きが反転可能な磁化自由層(フリー層)である。磁気抵抗効果素子の電気抵抗の値は、磁化固定層と磁化自由層の磁化の向きが反平行であるときの方が、それらの向きが平行であるときよりも大きい。MRAMのメモリセルである磁気抵抗効果素子では、上記電気抵抗の値の差を利用して磁化が平行の状態をデータ“0”に、反平行の状態をデータ“1”に対応づけることにより、データを不揮発的に記憶される。データの読み出しは、磁気抵抗効果素子を貫通するように(積層構造を貫くように)読み出し電流を流し、磁気抵抗効果素子の抵抗値を測定することにより行なわれる。一方、データの書き込みは、スピン偏極電流を流して磁化自由層の磁化の向きを反転させることによって行われる。
現在主流のデータの書き込み方式として、スピントランスファートルク(Spin Transfer Torque)を利用した「STT方式」が知られている。STT方式では、磁化自由層にスピン偏極電流が注入され、スピン偏極電流を担う伝導電子のスピンと磁化自由層の磁気モーメントとの間の相互作用によって、磁化自由層にトルクが発生し、トルクが十分大きい場合に磁化が反転する。磁化の反転は電流密度が大きいほど起こりやすくなるため、メモリセルサイズが縮小されるにつれ、書き込み電流を低減させることが可能となる。
また、STT方式として、磁気抵抗効果素子を貫通するように書き込み電流を流す方式(例えば、特許文献1)と、磁気抵抗効果素子を貫通させず、磁化自由層の面内方向に書き込み電流を流す方式(例えば、特許文献4)とが知られている。
前者の方式では、磁化固定層と同じスピン状態を有するスピン偏極電子が磁化固定層から磁化自由層へ供給される、あるいは、磁化自由層から磁化固定層に引き抜かれる。その結果、スピントランスファー効果により、磁化自由層の磁化が反転する。上記のように、磁気抵抗効果素子を貫通する書き込み電流の方向により、磁化自由層の磁化方向を規定することができる。なお、前者の方式の磁気抵抗効果素子を複数備える磁壁駆動型磁気メモリは、磁壁駆動型MRAMと呼ばれる。
前者の方式では、磁化固定層と同じスピン状態を有するスピン偏極電子が磁化固定層から磁化自由層へ供給される、あるいは、磁化自由層から磁化固定層に引き抜かれる。その結果、スピントランスファー効果により、磁化自由層の磁化が反転する。上記のように、磁気抵抗効果素子を貫通する書き込み電流の方向により、磁化自由層の磁化方向を規定することができる。なお、前者の方式の磁気抵抗効果素子を複数備える磁壁駆動型磁気メモリは、磁壁駆動型MRAMと呼ばれる。
一方、後者の方式について図3を参照して説明する。図3は、従来の磁壁駆動型の磁気抵抗効果素子の一例を示す断面模式図であり、図1に示した磁壁利用型アナログメモリ素子の構成と比較すると、下部電極層4及び高抵抗層7を有しない点が異なる。
図3に示す従来の磁壁駆動型の磁気抵抗効果素子において、データの書き込みは磁化自由層11内に形成される磁壁DWを移動させることによって行われる。磁化自由層11は磁化が互いに略反平行に固定された第1領域11aと第2領域11bと、第1領域11aと第2領域11bとの間に位置する第3領域11cを有し、第3領域11cの磁化は第1領域11aか第2領域11bのいずれかと略平行方向となる。このような磁化状態の制約によって、磁化自由層11内には磁壁が導入される。磁壁は、磁化自由層11内に電流を流すことによって位置を移動させることができる。
例えば、図4Aの点線で示す向きに、第2磁化供給層3から磁化自由層11へさらに第1磁化供給層2へと電流を流すと、伝導電子は電流の向きとは逆に実線で示す向きに流れる。第1磁化供給層2から電子が磁化自由層11へ入ると、電子は第1磁化供給層2及び磁化自由層11の第1磁化供給層2と磁気結合したドメインの磁化の向きに対応したスピン偏極電子となる。スピン偏極電子が磁壁に到達すると、磁壁においてスピン偏極電子が持つスピンが磁壁に対してスピントランスファーを起こし、磁壁は伝導電子の流れる向きと同じ向きに移動する。同様に、図4Bの点線で示す向きに、第1磁化供給層2から磁化自由層11へさらに第2磁化供給層3へと電流を流すと、伝導電子は電流の向きとは逆に実線で示す向きに流れる。第2磁化供給層3から、電子が磁化自由層11へ入ると、電子は第2磁化供給層3及び磁化自由層11の第2磁化供給層3と磁気結合したドメインの磁化の向きに対応したスピン偏極電流となる。スピン偏極電子が磁壁に到達すると、磁壁においてスピン偏極電子が持つスピンが磁壁に対してスピントランスファーを起こし、磁壁は伝導電子の流れる向きと同じ向きに移動する。
このような磁壁の移動により、磁化自由層11のうち、磁化固定層5の直下の部分の磁化を磁化固定層5の磁化の向きと平行の状態にしたり、あるいは、反平行の状態にすることができる。従って、“0”状態と“1”状態との間での情報の書き換えが可能である。
データの読み出しは、非磁性層6を介した磁化固定層5と磁化自由層11との間で電流を流し、磁化固定層5の磁化と磁化自由層11の磁化との相対角に応じた抵抗の変化を検出することで行う。磁化自由層11のうち、磁化固定層5の直下の部分の磁化を磁化固定層5の磁化の向きと平行の状態のときは低抵抗であり、一方、反平行の状態のときは高抵抗である。このような抵抗の変化を検知することにより、データが判別される。
例えば、図4Aの点線で示す向きに、第2磁化供給層3から磁化自由層11へさらに第1磁化供給層2へと電流を流すと、伝導電子は電流の向きとは逆に実線で示す向きに流れる。第1磁化供給層2から電子が磁化自由層11へ入ると、電子は第1磁化供給層2及び磁化自由層11の第1磁化供給層2と磁気結合したドメインの磁化の向きに対応したスピン偏極電子となる。スピン偏極電子が磁壁に到達すると、磁壁においてスピン偏極電子が持つスピンが磁壁に対してスピントランスファーを起こし、磁壁は伝導電子の流れる向きと同じ向きに移動する。同様に、図4Bの点線で示す向きに、第1磁化供給層2から磁化自由層11へさらに第2磁化供給層3へと電流を流すと、伝導電子は電流の向きとは逆に実線で示す向きに流れる。第2磁化供給層3から、電子が磁化自由層11へ入ると、電子は第2磁化供給層3及び磁化自由層11の第2磁化供給層3と磁気結合したドメインの磁化の向きに対応したスピン偏極電流となる。スピン偏極電子が磁壁に到達すると、磁壁においてスピン偏極電子が持つスピンが磁壁に対してスピントランスファーを起こし、磁壁は伝導電子の流れる向きと同じ向きに移動する。
このような磁壁の移動により、磁化自由層11のうち、磁化固定層5の直下の部分の磁化を磁化固定層5の磁化の向きと平行の状態にしたり、あるいは、反平行の状態にすることができる。従って、“0”状態と“1”状態との間での情報の書き換えが可能である。
データの読み出しは、非磁性層6を介した磁化固定層5と磁化自由層11との間で電流を流し、磁化固定層5の磁化と磁化自由層11の磁化との相対角に応じた抵抗の変化を検出することで行う。磁化自由層11のうち、磁化固定層5の直下の部分の磁化を磁化固定層5の磁化の向きと平行の状態のときは低抵抗であり、一方、反平行の状態のときは高抵抗である。このような抵抗の変化を検知することにより、データが判別される。
従来の磁壁駆動型の磁気抵抗効果素子を用いたMRAMにおいては、データの書き込み電流は磁気抵抗効果素子(図3における、非磁性層6を介した磁化固定層5及び磁化自由層11からなる積層構造)を貫通せず、磁化自由層の面内方向(積層方向に平行な方向)に流す(図4A及び図4B参照)。一方、データの読み出し電流は、図5の1点鎖線で示すように、磁気抵抗効果素子(非磁性層6を介した磁化固定層5及び磁化自由層11からなる積層構造)を積層方向に貫通し、その後、書き込み電流が流れる経路の一部を流れる(例えば、特許文献5参照)。すなわち、読み出し電流の経路は、書き込み電流の経路と一部が重なる。
上記のように、従来の磁壁駆動型MRAMの構成においては、読み出し時に、磁壁駆動層(磁化自由層)の磁壁駆動の方向(面内方向)に電流を流す必要がある。そのため、得られる出力信号は最終的には0か1のデジタルの信号になる。また、平面視して、磁壁駆動層(磁化自由層)と磁気抵抗効果素子部とが重なる部分よりも外側に磁壁移動が完了していないと、読み込み時に磁壁が移動して誤書き込みや読み出し初期時の信号が変化する。
上記のように、従来の磁壁駆動型MRAMの構成においては、読み出し時に、磁壁駆動層(磁化自由層)の磁壁駆動の方向(面内方向)に電流を流す必要がある。そのため、得られる出力信号は最終的には0か1のデジタルの信号になる。また、平面視して、磁壁駆動層(磁化自由層)と磁気抵抗効果素子部とが重なる部分よりも外側に磁壁移動が完了していないと、読み込み時に磁壁が移動して誤書き込みや読み出し初期時の信号が変化する。
これに対して、本実施形態の磁壁利用型アナログメモリ素子は、平面視して磁気抵抗効果素子を構成する磁化固定層に重なる位置に下部電極層を備える。そのため、読み出し電流は、図6において2点鎖線で示すように、磁壁駆動層(磁化自由層)を面直方向に流れる。従って、読み出し電流は磁壁駆動層の磁壁駆動の方向(面内方向)に流れることがないため、読み込み時の磁壁の移動が抑制できる。また、読み出し電流が流れる磁壁駆動層の距離が短いため、磁気ノイズを低減できる。
図7は、磁壁DWが平面視して、磁化固定層5及び非磁性層6と下部電極層4との間の部分1cAに位置した場合を示す断面模式図である。図7においては、トンネルバリア層7と下部電極層4を省略している。
磁壁DWは、磁壁駆動層1の面内方向に書き込み電流(スピン偏極電流)を流すことによって移動させることができる。
磁壁DWの移動方向は、書き込み電流(スピン偏極電流)の流す方向によって設定することができる。すなわち、磁壁DWを-X方向に移動させたいときには、スピン偏極した電子の流れが磁壁DWの右方向から当たるように、X方向に書き込み電流(スピン偏極電流)を流す(図4B参照)。逆に、磁壁DWをX方向に移動させたいときには、スピン偏極した電子の流れが磁壁DWの左方向から当たるように、-X方向に書き込み電流(スピン偏極電流)を流す(図4A参照)。
また、磁壁DWの移動量(移動距離)は、書き込み電流の大きさ、時間を調整することによって可変に制御することができる。書き込み電流の大きさ、時間は例えば、パルス数あるいはパルス幅によって設定してもよい。
上記のように、書き込み電流(スピン偏極電流)の流す方向、大きさ、時間、パルス数あるいはパルス幅を調整することによって、磁壁駆動層1中の磁壁DWの位置を所望の位置に移動できる。
磁壁DWは、磁壁駆動層1の面内方向に書き込み電流(スピン偏極電流)を流すことによって移動させることができる。
磁壁DWの移動方向は、書き込み電流(スピン偏極電流)の流す方向によって設定することができる。すなわち、磁壁DWを-X方向に移動させたいときには、スピン偏極した電子の流れが磁壁DWの右方向から当たるように、X方向に書き込み電流(スピン偏極電流)を流す(図4B参照)。逆に、磁壁DWをX方向に移動させたいときには、スピン偏極した電子の流れが磁壁DWの左方向から当たるように、-X方向に書き込み電流(スピン偏極電流)を流す(図4A参照)。
また、磁壁DWの移動量(移動距離)は、書き込み電流の大きさ、時間を調整することによって可変に制御することができる。書き込み電流の大きさ、時間は例えば、パルス数あるいはパルス幅によって設定してもよい。
上記のように、書き込み電流(スピン偏極電流)の流す方向、大きさ、時間、パルス数あるいはパルス幅を調整することによって、磁壁駆動層1中の磁壁DWの位置を所望の位置に移動できる。
磁化固定層5及び非磁性層6が平面視して同じサイズであって、かつ、そのX方向の幅Wが下部電極層のX方向の幅と同じ場合には、磁化固定層5と、非磁性層6と、磁壁駆動層1のうち実質的には平面視して磁化固定層5及び非磁性層6と重なる部分1cAとによって磁気抵抗効果素子10(以下、「磁気抵抗効果素子部」ということがある)が形成される。磁気抵抗効果素子部10において、磁壁DWの位置によって抵抗値は変わる。
磁壁DWが図7で示す位置にあるときは、磁気抵抗効果素子部10は、磁化固定層5と、非磁性層6と、磁壁駆動層1のうちの磁壁DWから第2磁化供給層3側の部分(磁化の向きが磁化固定層5の磁化の向きと平行な部分)1cbとによって形成される低抵抗部と、磁化固定層5と、非磁性層6と、磁壁駆動層1のうちの磁壁DWから第1磁化供給層2側の部分(磁化の向きが磁化固定層5の磁化の向きと反平行な部分)1caとによって形成される高抵抗部との並列回路を備える。
上記構成によって、磁気抵抗効果素子部10の抵抗値としてアナログ的な抵抗値を出力できる。また、磁壁DWの位置を複数の位置に設定することにより、その数に応じた多値的な抵抗値を出力できる。
磁壁DWが図7で示す位置にあるときは、磁気抵抗効果素子部10は、磁化固定層5と、非磁性層6と、磁壁駆動層1のうちの磁壁DWから第2磁化供給層3側の部分(磁化の向きが磁化固定層5の磁化の向きと平行な部分)1cbとによって形成される低抵抗部と、磁化固定層5と、非磁性層6と、磁壁駆動層1のうちの磁壁DWから第1磁化供給層2側の部分(磁化の向きが磁化固定層5の磁化の向きと反平行な部分)1caとによって形成される高抵抗部との並列回路を備える。
上記構成によって、磁気抵抗効果素子部10の抵抗値としてアナログ的な抵抗値を出力できる。また、磁壁DWの位置を複数の位置に設定することにより、その数に応じた多値的な抵抗値を出力できる。
図8は、磁化固定層5の磁化の向きと平行な部分1cbの面積(磁壁DWの位置に対応)の割合と磁気抵抗効果素子部10の抵抗値との関係を概念的に示すグラフである。
従来、磁壁駆動層中の磁壁の位置を所望の位置に移動することによって、多値的な抵抗値あるいはアナログ的な抵抗値を設定する方法はあったが、それを安定的に読み出す方法がなかった。
本実施形態の磁壁利用型アナログメモリ素子では、磁化固定層5の直下に読み出し電流が通る下部電極層を設けることにより、読み出し電流を、磁壁駆動層を垂直方向に流すことを可能にした。すなわち、読み出し電流(スピン偏極した電子の流れ)を磁壁と平行する方向を流すことにより、読み出し時の磁壁への影響を従来技術に比べて劇的に低減することができる。その結果、従来技術に比べて安定な読み出しが可能である。
本実施形態の磁壁利用型アナログメモリ素子では、磁化固定層5の直下に読み出し電流が通る下部電極層を設けることにより、読み出し電流を、磁壁駆動層を垂直方向に流すことを可能にした。すなわち、読み出し電流(スピン偏極した電子の流れ)を磁壁と平行する方向を流すことにより、読み出し時の磁壁への影響を従来技術に比べて劇的に低減することができる。その結果、従来技術に比べて安定な読み出しが可能である。
磁壁駆動層1の材料には、磁化自由層に用いることができる公知の材料を用いることができる。特に軟磁性材料を適用できる。例えば、Cr、Mn、Co、Fe及びNiからなる群から選択される金属、これらの金属を1種以上含む合金、これらの金属とB、C、及びNの少なくとも1種以上の元素とが含まれる合金等を用いることができる。具体的には、Co-Fe、Co-Fe-B、Ni-Feが挙げられる。
磁壁駆動層1の長さ、すなわち、第1領域および第2領域とそれらの領域の間に位置する第3領域を合わせた長さは60nm以上であることが好ましい。60nm未満では単磁区になりやすく、磁壁を有しない場合があるからである。
磁壁駆動層1の厚さは磁壁駆動層として機能する限り、特に制限はないが、例えば、2~60nmとすることができる。磁壁駆動層1の厚さが60nm以上になると、積層方向に磁壁が出来る可能性がある。しかしながら、積層方向に磁壁が出来るか否かは磁壁駆動層の形状異方性とのバランスによって生じるため、磁壁駆動層1の厚さが60nm未満である限りでは磁壁ができることはない。
磁壁駆動層1は、層の側面に磁壁の移動を止める磁壁ピン止め部を有してもよい。磁壁ピン止め部の具体的な構成としては公知の構成、例えば、凹凸、溝、膨らみ、くびれ、切り欠きなどを用いることができる。このような磁壁ピン止め部を備えることにより、磁壁を止める(ピンする)ことができ、閾値以上の電流を流さないとそれ以上磁壁が移動されない構成とすることができる。上記構成によって、出力信号をアナログ的ではなく、多値化することができる。
例えば、磁壁ピン止め部を所定の距離ごとに形成することにより、磁壁をより安定的に保持することができ、安定的な多値記録を可能にし、より安定的に多値化された出力信号を読み出すことを可能にする。
例えば、磁壁ピン止め部を所定の距離ごとに形成することにより、磁壁をより安定的に保持することができ、安定的な多値記録を可能にし、より安定的に多値化された出力信号を読み出すことを可能にする。
磁化固定層5の材料には、磁化固定層に用いることができる公知の材料を用いることができる。例えば、Cr、Mn、Co、Fe及びNiからなる群から選択される金属及びこれらの金属を1種以上含み強磁性を示す合金を用いることができる。またこれらの金属と、B、C、及びNの少なくとも1種以上の元素とを含む合金を用いることもできる。具体的には、Co-FeやCo-Fe-Bが挙げられる。
また、より高い出力を得るためにはCo2FeSiなどのホイスラー合金を用いることが好ましい。ホイスラー合金は、X2YZの化学組成をもつ金属間化合物を含み、Xは、周期表上でCo、Fe、Ni、あるいはCu族の遷移金属元素または貴金属元素であり、Yは、Mn、V、CrあるいはTi族の遷移金属でありXの元素種をとることもでき、Zは、III族からV族の典型元素である。例えば、Co2FeSi、Co2MnSiやCo2Mn1-aFeaAlbSi1-bなどが挙げられる。
さらに、磁化固定層5は反強磁性層、強磁性層、非磁性層から成るシンセティック構造であってもよい。シンセティック構造において磁化方向は反強磁性層によって磁化方向が強く保持されているため、外部からの影響を受けにくい磁化固定層として機能させることができる。
さらに磁化固定層5の磁化の向きを積層面に対して垂直にする場合には、CoとPtの積層膜を用いることが好ましい。具体的には、磁化固定層5は[Co(0.24nm)/Pt(0.16nm)]6/Ru(0.9nm)/[Pt(0.16nm)/Co(0.16nm)]4/Ta(0.2nm)/FeB(1.0nm)とすることができる。
磁化固定層5の磁化が一方向に固定され、磁壁駆動層1(より正確には、磁化固定層5及び非磁性層6と下部電極層4とに挟まれた部分1cA)の磁化の向きが相対的に変化することで、磁気抵抗効果素子部10として機能する。磁化固定層5の磁化の方法は公知の方法を用いることができる。保磁力差型(擬似スピンバルブ型;Pseudo spin valve 型)のMRAMのように用いる場合には、磁化固定層の保持力は磁壁駆動層1の保磁力よりも大きい。また、交換バイアス型(スピンバルブ;spin valve型)のMRAMのように用いる場合には、磁化固定層5では反強磁性層との交換結合によって磁化方向が固定される。
また、磁気抵抗効果素子部10は、非磁性層6が絶縁体からなる場合はトンネル磁気抵抗(TMR)素子の役割を果たし、非磁性層6が金属からなる場合は巨大磁気抵抗(GMR)素子の役割を果たす。
また、磁気抵抗効果素子部10は、非磁性層6が絶縁体からなる場合はトンネル磁気抵抗(TMR)素子の役割を果たし、非磁性層6が金属からなる場合は巨大磁気抵抗(GMR)素子の役割を果たす。
非磁性層6の材料としては、非磁性層に用いることができる公知の材料を用いることができる。
例えば、非磁性層6が絶縁体からなる場合(トンネルバリア層である場合)、その材料としては、Al2O3、SiO2、MgO、MgAl2O4、ZnAl2O4、MgGa2O4、ZnGa2O4、MgIn2O4、ZnIn2O4、及び、これらの材料の多層膜や混合組成膜等を用いることができる。またこれらの他にも、Al,Si,Mgの一部が、Zn、Be等に置換された材料等も用いることができる。これらの中でも、MgOやMgAl2O4はコヒーレントトンネルが実現できる材料であるため、スピンを効率よく注入できる。
また、非磁性層6が金属からなる場合、その材料としては、Cu、Au、Ag等を用いることができる。
例えば、非磁性層6が絶縁体からなる場合(トンネルバリア層である場合)、その材料としては、Al2O3、SiO2、MgO、MgAl2O4、ZnAl2O4、MgGa2O4、ZnGa2O4、MgIn2O4、ZnIn2O4、及び、これらの材料の多層膜や混合組成膜等を用いることができる。またこれらの他にも、Al,Si,Mgの一部が、Zn、Be等に置換された材料等も用いることができる。これらの中でも、MgOやMgAl2O4はコヒーレントトンネルが実現できる材料であるため、スピンを効率よく注入できる。
また、非磁性層6が金属からなる場合、その材料としては、Cu、Au、Ag等を用いることができる。
図11に示したように、磁壁駆動層1と非磁性層6の間に磁気結合層8が設置されていても良い。磁壁駆動層1の主たる機能は磁壁を駆動させる層であり、磁化固定層5と非磁性層6を介して生じる磁気抵抗効果に適した材料を選択できるとは限らない。一般的に、非磁性層6を用いたコヒーレントトンネル効果を生じさせるためには、磁化固定層5や磁気結合層8はBCC構造の強磁性材料が良いことが知られている。特に、磁化固定層5や磁気結合層8の材料として、Co-Fe-Bの組成の材料がスパッタによって作成した際に大きな出力が得られることが知られている。
図12に示したように、磁壁駆動層1のうち、平面視して磁化固定層5に重なる部分の厚さが他の部分よりも厚くても良い。磁壁が非磁性層6の下部を移動する際、磁壁の断面積が増大するため電流密度が減少し、磁壁の駆動速度が遅くなる。これによって、出力のアナログ値を制御しやすくすることができる。また、このような構造を作成する場合、磁壁駆動層1、非磁性層6及び磁化固定層5を連続成膜で作成し、余計な部分を削り取ることによって形成することができる。連続成膜を実施した場合には接合する層の間の結合が強くなり、より効率の高い磁気結合や出力を得ることができる。
本実施形態が備える磁気抵抗効果素子部10としては、公知の磁気抵抗効果素子の構成を用いることができる。例えば、各層は複数の層を備えていてもよいし、磁化固定層5の磁化方向を固定する反強磁性層等の他の層を備えてもよい。
下部電極層4の形状は、磁壁を動かすことにつながる読み込み電流(スピン偏極電流)の水平成分が出ないように、平面視して、磁化固定層5と同じサイズであることが好ましいが、同じサイズでなくても従来の磁壁駆動型磁気抵抗効果素子に比べて効果を発揮する。例えば、平面視して、下部電極層4と磁化固定層5との重なり程度が50%以上であることが好ましく、90%以上であることがより好ましく、100%であることがさらに好ましい。
例えば、下部電極層4と磁化固定層5との重なり程度が100%以外である場合、読み出し時に磁壁が移動する可能性がある。読み出し時に磁壁が移動するか否かは、下部電極層4と磁化固定層5との重なりの位置と読出し電流の向きに依存する。
例えば、下部電極層4と磁化固定層5との重なり程度が100%以外である場合、読み出し時に磁壁が移動する可能性がある。読み出し時に磁壁が移動するか否かは、下部電極層4と磁化固定層5との重なりの位置と読出し電流の向きに依存する。
下部電極層4の材料としては、電極材料として用いられる公知の材料を用いることができる。例えば、アルミニウム、銀、銅、金等を用いることができる。
高抵抗層7が絶縁材料の場合、高抵抗層7の厚さは、書き込み電流が下部電極層4に流れ込まないように0.8nm以上にすることが好ましい。一方、読み込み動作における影響を無視できる程度にするには、書き込み電流を下部電極層4に流れ込ませない観点から、2nm以下にすることが好ましい。
高抵抗層7の材料としては、磁壁駆動層1の磁壁を駆動する際に、磁壁駆動のための電流が下部電極層4に流れることを抑制する(実質的に防止する)ことができる層であれば、特に制限はない。高抵抗層7はトンネルバリア層であってもよく、トンネルバリア層に用いることができる公知の絶縁材料を用いることができる。例えば、Al2O3、SiO2、MgO、及び、MgAl2O4等を用いることができる。また上記の他にも、Al,Si,Mgの一部が、Zn、Be等に置換された材料等も用いることができる。高抵抗層7の材料は、磁壁駆動層1よりも少なくとも抵抗率が高ければ機能する。例えば、Si、SiGeやGeなどの半導体や、ビスマス、ニクロムなどの金属でも良い。
磁化固定層5のX方向の端部と、第1磁化供給層2及び第2磁化供給層3のX方向の端部との間の距離は任意に設計することができる。磁壁駆動層1における磁壁は、第1磁化供給層2及び第2磁化供給層3と接する磁化固定層5に近い端部が最大の可動範囲を有する。これは第1磁化供給層2及び第2磁化供給層3と磁壁駆動層1が磁気的に結合しており、磁壁を駆動動作させても、磁壁駆動層1における通電を止めると端部で磁壁が安定するからである。また、端部から磁壁が移動し、磁化固定層5の端部まで移動するまでの間は読出し出力に影響しない。
(磁壁利用型アナログメモリ)
本実施形態の磁壁利用型アナログメモリは、本実施形態の磁壁利用型アナログメモリ素子を複数備える。
本実施形態の磁壁利用型アナログメモリは、本実施形態の磁壁利用型アナログメモリ素子を複数備える。
図9に、磁壁利用型アナログメモリ中のセルの要部の断面模式図を示す。
図1等で示した磁壁利用型アナログメモリ素子100は、第1磁化供給層2及び第2磁化供給層3のそれぞれには第1配線11、第2配線12が接続されている。また、磁化固定層5には第3配線13に接続され、さらに、下部電極層4には第4配線14が接続されている。符号15は、層間絶縁層である。
図1等で示した磁壁利用型アナログメモリ素子100は、第1磁化供給層2及び第2磁化供給層3のそれぞれには第1配線11、第2配線12が接続されている。また、磁化固定層5には第3配線13に接続され、さらに、下部電極層4には第4配線14が接続されている。符号15は、層間絶縁層である。
図10に、本実施形態に係る磁壁利用型アナログメモリ1000の回路構造の一例を模式的に示した図である。
第1制御素子15は、複数の磁壁利用型アナログメモリ素子100のそれぞれの第2配線12を介して磁壁駆動層1に接続されている。第1制御素子15は、図示略の外部電源に接続され、磁壁駆動層1に流す電流を制御する。
第1セル選択素子16は、複数の磁壁利用型アナログメモリ素子100のそれぞれの第1配線11を介して磁壁駆動層1に接続されている。第1セル選択素子16は、一つの磁壁利用型アナログメモリ素子100に対して一つ設けられている。第1セル選択素子16は、いずれの磁壁利用型アナログメモリ素子100に書き込み電流を流すかを制御する。第1セル選択素子16は、接地されている。
第2制御素子17は、第3配線13に接続されている。
第2制御素子17は、図示略の外部電源に接続され、第3配線13に流す電流を制御する。
第2セル選択素子18は、複数の磁壁利用型アナログメモリ素子100のそれぞれの第4配線14を介して下部電極層4に接続されている。第2セル選択素子18は、一つの磁壁利用型アナログメモリ素子100に対して一つ設けられている。第2セル選択素子18は、いずれの磁壁利用型アナログメモリ素子100に読み出し電流を流すかを制御する。第2セル選択素子18は、接地されている。
第1制御素子15は、複数の磁壁利用型アナログメモリ素子100のそれぞれの第2配線12を介して磁壁駆動層1に接続されている。第1制御素子15は、図示略の外部電源に接続され、磁壁駆動層1に流す電流を制御する。
第1セル選択素子16は、複数の磁壁利用型アナログメモリ素子100のそれぞれの第1配線11を介して磁壁駆動層1に接続されている。第1セル選択素子16は、一つの磁壁利用型アナログメモリ素子100に対して一つ設けられている。第1セル選択素子16は、いずれの磁壁利用型アナログメモリ素子100に書き込み電流を流すかを制御する。第1セル選択素子16は、接地されている。
第2制御素子17は、第3配線13に接続されている。
第2制御素子17は、図示略の外部電源に接続され、第3配線13に流す電流を制御する。
第2セル選択素子18は、複数の磁壁利用型アナログメモリ素子100のそれぞれの第4配線14を介して下部電極層4に接続されている。第2セル選択素子18は、一つの磁壁利用型アナログメモリ素子100に対して一つ設けられている。第2セル選択素子18は、いずれの磁壁利用型アナログメモリ素子100に読み出し電流を流すかを制御する。第2セル選択素子18は、接地されている。
第1制御素子15、第2制御素子17、第1セル選択素子16及び第2セル選択素子18は、公知のスイッチング素子を用いることができる。例えば、電界効果トランジスタ等に代表されるトランジスタ素子等を用いることができる。
第1配線11、第2配線12、第3配線13および第4配線14は、通常の配線の材料として用いられる材料を用いることができる。例えば、アルミニウム、銀、銅、金等を用いることができる。
以下、図10を用いて、磁壁利用型アナログメモリ1000による書込み動作及び読出し動作について説明する。
書き込み動作は、第1制御素子15と第1セル選択素子16とによって書き込みを制御する。
まず、第1制御素子15を開放(接続)し、開放する第1セル選択素子16を選択する。第1制御素子15は外部電源に接続され、第1セル選択素子16は接地されている。そのため、第1制御素子15、第2配線12、第2磁化供給層3、磁壁駆動層1、第1配線11、選択された第1セル選択素子16の順に書き込み電流が流れる。電流を逆に流す場合の説明は省略する。
読み込み動作は、第2制御素子17と第2セル選択素子18とによって読み込みを制御する。
まず、第2制御素子17を開放(接続)し、開放する第2セル選択素子18を選択する。第2制御素子17は外部電源に接続され、第2セル選択素子18は接地されている。そのため、第2制御素子17、第3配線13、磁化固定層、非磁性層6、磁壁駆動層1、下部電極層4、選択された第2セル選択素子18の順に読み込み電流が流れる。電流を逆に流す場合の説明は省略する。
第2制御素子17及び第2セル選択素子18は読み出し機構として機能する。
第2制御素子17及び第2セル選択素子18は読み出し機構として機能する。
本実施形態の磁壁利用型アナログメモリは、第1磁化供給層2又は第2磁化供給層3のいずれか一方にバイポーラ素子が接続された構成としてもよい。このような構成により、電流の向きを変えることで任意の方向に磁壁を移動することができる。
本実施形態の磁壁利用型アナログメモリ素子及び磁壁利用型アナログメモリは、従来の磁壁駆動型の磁気抵抗効果素子およびそのような磁気抵抗効果素子を各セルに備えた磁壁駆動型磁気メモリと比較すると、主な構造の違いは、下部電極層(及びトンネルバリア層)を備えることだけであり、公知の製造方法を用いて製造することができる。
(不揮発性ロジック回路)
本実施形態の不揮発性ロジック回路は、本実施形態の磁壁利用型アナログメモリ素子がアレイ状に配置された磁壁利用型アナログメモリと、STT-MRAMとを備え、記憶機能と論理機能を有し、記憶機能として上記磁壁利用型アナログメモリ及びSTT-MRAMを備える。
磁壁利用型アナログメモリとSTT-MRAMは同一の工程で作製することが可能であるため、コストの削減が可能である。また、デジタル的であるSTT-MRAMがアレイ上に配置された磁壁利用型アナログメモリと同一回路に設置されることで、入出力をデジタル化し、内部ではアナログで処理することが可能なロジックを形成することができる。
本実施形態の不揮発性ロジック回路は、本実施形態の磁壁利用型アナログメモリ素子がアレイ状に配置された磁壁利用型アナログメモリと、STT-MRAMとを備え、記憶機能と論理機能を有し、記憶機能として上記磁壁利用型アナログメモリ及びSTT-MRAMを備える。
磁壁利用型アナログメモリとSTT-MRAMは同一の工程で作製することが可能であるため、コストの削減が可能である。また、デジタル的であるSTT-MRAMがアレイ上に配置された磁壁利用型アナログメモリと同一回路に設置されることで、入出力をデジタル化し、内部ではアナログで処理することが可能なロジックを形成することができる。
(磁気ニューロン素子)
図13は、本実施形態の一実施形態に係る磁気ニューロン素子の一例の断面模式図である。
本実施形態の磁気ニューロン素子は、本実施形態の磁壁利用型アナログメモリ素子を備え、磁壁駆動層1の第3領域1cが長手方向に並ぶ、第1記憶部21bと第1記憶部21bを挟む第2記憶部21aおよび第3記憶部21cとを有する。また、磁気ニューロン素子は、第1記憶部21b、第2記憶部21aおよび第3記憶部21cのすべての記憶部に少なくとも一回は留まるように順に磁壁を移動させ得る書き込み電流を流すように制御可能な制御回路を有する、電流源(図示略)を備えている。
第1記憶部21bは、磁壁駆動層1の第3領域1cのうち、平面視して磁化固定層5と重なる部分であり、第2記憶部21aは、平面視して磁化固定層5と第1磁化供給層2との間の部分(磁化固定層5及び第1磁化供給層2に重ならない部分)であり、第3記憶部21cは、平面視して磁化固定層5と第2磁化供給層3との間の部分(磁化固定層5及び第2磁化供給層3に重ならない部分)である。
図13は、本実施形態の一実施形態に係る磁気ニューロン素子の一例の断面模式図である。
本実施形態の磁気ニューロン素子は、本実施形態の磁壁利用型アナログメモリ素子を備え、磁壁駆動層1の第3領域1cが長手方向に並ぶ、第1記憶部21bと第1記憶部21bを挟む第2記憶部21aおよび第3記憶部21cとを有する。また、磁気ニューロン素子は、第1記憶部21b、第2記憶部21aおよび第3記憶部21cのすべての記憶部に少なくとも一回は留まるように順に磁壁を移動させ得る書き込み電流を流すように制御可能な制御回路を有する、電流源(図示略)を備えている。
第1記憶部21bは、磁壁駆動層1の第3領域1cのうち、平面視して磁化固定層5と重なる部分であり、第2記憶部21aは、平面視して磁化固定層5と第1磁化供給層2との間の部分(磁化固定層5及び第1磁化供給層2に重ならない部分)であり、第3記憶部21cは、平面視して磁化固定層5と第2磁化供給層3との間の部分(磁化固定層5及び第2磁化供給層3に重ならない部分)である。
本実施形態の磁壁利用型アナログメモリは、シナプスの動作を模擬する素子である磁気ニューロン素子として利用することができる。シナプスでは外部からの刺激に対して線形な出力を持つことが好ましい。また、逆向きの負荷が与えられた際にはヒステリシスがなく、可逆することが好ましい。図8に示したように、磁壁の駆動(移動)によって、磁化固定層5と磁壁駆動層1のそれぞれの磁化方向が平行な部分の面積が、連続的に変化する。すなわち、磁化固定層5と磁壁駆動層1のそれぞれの磁化方向が平行な部分の面積と反平行な部分の面積とによる並列回路が形成される。図8の横軸は磁壁の駆動距離と見なすことができ、比較的線形な抵抗変化を示すことができる。また、磁壁の駆動は電流の大きさと印可される電流パルスの時間に依存して駆動することができるため、電流の大きさと向き、さらに、印可される電流パルスの時間を外部からの負荷として見なすことができる。
(記憶の初期段階)
例えば、磁壁駆動層1の磁壁が-X方向に最大に移動した場合、磁壁は第1磁化供給層2の磁化固定層5側の端部21aAで安定化する。電流を第2磁化供給層3から第1磁化供給層2に流すと、電子が第1磁化供給層2から第2磁化供給層3に流れ、第1磁化供給層2及び磁壁駆動層11の内部でスピン偏極した電子が磁壁にスピントランスファーを起こし、磁壁が+X方向に移動する。磁壁が磁化固定層5の第1磁化供給層2側の端部21aBに達するまでは磁壁が移動しても、読出しの抵抗が変化しない。この状態を記憶の初期段階と呼ぶことができる。すなわち、第2記憶部21a内に磁壁が配置する場合を記憶の初期段階と呼ぶことができる。記憶の初期段階ではデータとしての記録がされていないが、データを記録する準備が整えられている状態である。
例えば、磁壁駆動層1の磁壁が-X方向に最大に移動した場合、磁壁は第1磁化供給層2の磁化固定層5側の端部21aAで安定化する。電流を第2磁化供給層3から第1磁化供給層2に流すと、電子が第1磁化供給層2から第2磁化供給層3に流れ、第1磁化供給層2及び磁壁駆動層11の内部でスピン偏極した電子が磁壁にスピントランスファーを起こし、磁壁が+X方向に移動する。磁壁が磁化固定層5の第1磁化供給層2側の端部21aBに達するまでは磁壁が移動しても、読出しの抵抗が変化しない。この状態を記憶の初期段階と呼ぶことができる。すなわち、第2記憶部21a内に磁壁が配置する場合を記憶の初期段階と呼ぶことができる。記憶の初期段階ではデータとしての記録がされていないが、データを記録する準備が整えられている状態である。
(主記憶段階)
磁壁が磁化固定層5の下部(平面視して重なる部分)を通過している間は図8のように読出し時の抵抗が変化する。電流を第2磁化供給層3から第1磁化供給層2に流すことで外部からの負荷とし、読出し時には負荷に略比例したような抵抗変化となる。これが主記憶段階である。すなわち、第1記憶部21b内に磁壁が配置する場合を記憶の主記憶段階と呼ぶことができる。磁壁が磁化固定層5の端部より外側にいる状態を記憶、あるいは、無記憶と定義し、磁壁が逆側の磁化固定層5の端部より外側にいる状態を無記憶、あるいは、記憶と定義することができる。当然、第2磁化供給層3と第1磁化供給層2の間に流れる電流を逆向きにすると、逆の作用となる。
磁壁が磁化固定層5の下部(平面視して重なる部分)を通過している間は図8のように読出し時の抵抗が変化する。電流を第2磁化供給層3から第1磁化供給層2に流すことで外部からの負荷とし、読出し時には負荷に略比例したような抵抗変化となる。これが主記憶段階である。すなわち、第1記憶部21b内に磁壁が配置する場合を記憶の主記憶段階と呼ぶことができる。磁壁が磁化固定層5の端部より外側にいる状態を記憶、あるいは、無記憶と定義し、磁壁が逆側の磁化固定層5の端部より外側にいる状態を無記憶、あるいは、記憶と定義することができる。当然、第2磁化供給層3と第1磁化供給層2の間に流れる電流を逆向きにすると、逆の作用となる。
(記憶の深層化段階)
磁壁が磁化固定層5の第2磁化供給層3側の端部21cBに達して、磁化固定層5から離れる方向に移動しても読み込み時の出力は変化しない。しかし、磁壁は磁化固定層5から離れてしまった後は、逆向きの負荷が印可されても、磁壁が磁化固定層5の端部21cBに達するまでは読み込み時の出力は変化しない。すなわち、外部からの負荷が与えられても記憶を失わないことを意味し、これを記憶の深層化段階と呼ぶことができる。すなわち、第3記憶部21c内に磁壁が配置する場合を記憶の深層化段階と呼ぶことができる。
第2磁化供給層3と第1磁化供給層2の間に流れる電流を逆向きにすると、記憶の初期段階、主記憶段階および記憶の深層化段階と各記憶部との対応は逆となる。
磁壁が磁化固定層5の第2磁化供給層3側の端部21cBに達して、磁化固定層5から離れる方向に移動しても読み込み時の出力は変化しない。しかし、磁壁は磁化固定層5から離れてしまった後は、逆向きの負荷が印可されても、磁壁が磁化固定層5の端部21cBに達するまでは読み込み時の出力は変化しない。すなわち、外部からの負荷が与えられても記憶を失わないことを意味し、これを記憶の深層化段階と呼ぶことができる。すなわち、第3記憶部21c内に磁壁が配置する場合を記憶の深層化段階と呼ぶことができる。
第2磁化供給層3と第1磁化供給層2の間に流れる電流を逆向きにすると、記憶の初期段階、主記憶段階および記憶の深層化段階と各記憶部との対応は逆となる。
本実施形態の磁壁利用型アナログメモリをシナプスの動作を模擬する素子として用いて本実施形態の磁気ニューロン素子とするためには、磁壁の移動を記憶の初期段階、主記憶段階および記憶の深層化段階を順に経るように書き込み電流を流すことができる電流源を備えることを要する。すなわち、少なくとも第1記憶部、第2記憶部および第3記憶部のすべての記憶部に少なくとも一回は留まるように順に磁壁を移動させ得る書き込み電流を流すように制御可能な制御回路を有する電流源(図示略)を備えることを要する。
書き込み電流の条件によって、第1記憶部、第2記憶部および第3記憶部のそれぞれを何回の移動で磁壁が通過し切るかを決めることができる。
書き込み電流の条件によって、第1記憶部、第2記憶部および第3記憶部のそれぞれを何回の移動で磁壁が通過し切るかを決めることができる。
(記憶の忘却段階)
無記憶状態に磁壁駆動層1の磁壁を移動させることによって、記憶を忘却することができる。また、外部磁場、熱、及び物理的な歪みを与えることによっても、磁壁の駆動や消失を生じさせることができる。本実施形態の磁壁利用型アナログメモリでは出力が一定の低抵抗と高抵抗の値を示すため、記憶と無記憶は定義によって決定される。また、磁壁駆動層1に電流を流す以外の方法で磁壁を移動や消失させる場合にはランダムとなるため、複数の磁壁利用型アナログメモリ間での情報の相関が失われる。これらを記憶の忘却段階と呼ぶことができる。
無記憶状態に磁壁駆動層1の磁壁を移動させることによって、記憶を忘却することができる。また、外部磁場、熱、及び物理的な歪みを与えることによっても、磁壁の駆動や消失を生じさせることができる。本実施形態の磁壁利用型アナログメモリでは出力が一定の低抵抗と高抵抗の値を示すため、記憶と無記憶は定義によって決定される。また、磁壁駆動層1に電流を流す以外の方法で磁壁を移動や消失させる場合にはランダムとなるため、複数の磁壁利用型アナログメモリ間での情報の相関が失われる。これらを記憶の忘却段階と呼ぶことができる。
(磁気ニューロン素子を用いた人工的な脳)
本実施形態の磁気ニューロン素子はシナプスの動きを模擬し、記憶の初期段階、主記憶段階、そして、記憶の深層化段階を経ることができるメモリである。本実施形態の磁壁利用型アナログメモリを複数回路上に設置し、脳の模擬をすることが可能である。一般的なメモリのように縦横に均等にアレイさせた配置では集積度が高い脳を形成することが可能である。
また、図14に示したように特定の回路を持った複数の磁気ニューロン素子を一つの塊として、アレイさせた配置では、外部負荷からの認識度が異なる脳を形成することが可能である。例えば、色について感度の良い脳や言語の理解度が高い脳などの個性を生むことができる。つまり、外部のセンサから入手された情報を、視覚、味覚、触覚、嗅覚及び聴覚認識に最適化された五感領域で認識の処理を行い、さらに、論理的思考領域で判断することによって、次の行動を決定するというプロセスを形成させることが可能である。さらに、磁壁駆動層1の材料を変化させると、負荷に対する磁壁の駆動速度や磁壁の形成方法が変化するため、その変化を個性とした人工的な脳を形成することが可能となる。
本実施形態の磁気ニューロン素子はシナプスの動きを模擬し、記憶の初期段階、主記憶段階、そして、記憶の深層化段階を経ることができるメモリである。本実施形態の磁壁利用型アナログメモリを複数回路上に設置し、脳の模擬をすることが可能である。一般的なメモリのように縦横に均等にアレイさせた配置では集積度が高い脳を形成することが可能である。
また、図14に示したように特定の回路を持った複数の磁気ニューロン素子を一つの塊として、アレイさせた配置では、外部負荷からの認識度が異なる脳を形成することが可能である。例えば、色について感度の良い脳や言語の理解度が高い脳などの個性を生むことができる。つまり、外部のセンサから入手された情報を、視覚、味覚、触覚、嗅覚及び聴覚認識に最適化された五感領域で認識の処理を行い、さらに、論理的思考領域で判断することによって、次の行動を決定するというプロセスを形成させることが可能である。さらに、磁壁駆動層1の材料を変化させると、負荷に対する磁壁の駆動速度や磁壁の形成方法が変化するため、その変化を個性とした人工的な脳を形成することが可能となる。
1 磁壁駆動層
1a 第1領域
1b 第2領域
1c 第3領域
2 第1磁化供給層
3 第2磁化供給層
4 下部電極層
5 磁化固定層
6 非磁性層
7 トンネルバリア層
8 磁気結合層
21a 第2記憶部
21b 第1記憶部
21c 第3記憶部
100 磁壁利用型アナログメモリ素子
1000 磁壁利用型アナログメモリ
1a 第1領域
1b 第2領域
1c 第3領域
2 第1磁化供給層
3 第2磁化供給層
4 下部電極層
5 磁化固定層
6 非磁性層
7 トンネルバリア層
8 磁気結合層
21a 第2記憶部
21b 第1記憶部
21c 第3記憶部
100 磁壁利用型アナログメモリ素子
1000 磁壁利用型アナログメモリ
Claims (12)
- 磁壁と、第1領域と、第2領域と、前記第1領域および前記第2領域の間に位置する第3領域と、を有する磁壁駆動層と、
前記第3領域に非磁性層を介して設置された磁化固定層と、
前記第3領域の、前記磁化固定層が設置された第1面の反対の第2面に、平面視して前記磁化固定層と重なる位置に設置された下部電極層と、
を備える、磁壁利用型アナログメモリ素子。 - 前記磁壁駆動層と前記下部電極層との間に高抵抗層をさらに備える、請求項1に記載の磁壁利用型アナログメモリ素子。
- 前記磁壁駆動層の長さが60nm以上である、請求項1又は2のいずれかに記載の磁壁利用型アナログメモリ素子。
- 前記第1領域に接し、第1の磁化の向きを有する第1磁化供給層と、
前記第2領域に接し、前記第1の磁化の向きと反対向きの第2の磁化の向きを有する第2磁化供給層と、
をさらに備える、請求項1~3のいずれか一項に記載の磁壁利用型アナログメモリ素子。 - 前記磁壁駆動層、前記第1磁化供給層、前記第2磁化供給層、および前記磁化固定層のそれぞれの磁化の向きが、それぞれの層に平行である、請求項4に記載の磁壁利用型アナログメモリ素子。
- 前記磁壁駆動層、前記第1磁化供給層、前記第2磁化供給層、および前記磁化固定層のそれぞれの磁化の向きが、それぞれの層に垂直である、請求項4に記載の磁壁利用型アナログメモリ素子。
- 前記磁壁駆動層が磁壁ピン止め部を有する、請求項1~6のいずれか一項に記載の磁壁利用型アナログメモリ素子。
- 前記第1磁化供給層又は前記第2磁化供給層のいずれか一方にバイポーラ素子が接続されている、請求項4~7のいずれか一項に記載の磁壁利用型アナログメモリ素子。
- 請求項1~8のいずれか一項に記載の磁壁利用型アナログメモリ素子を複数備える、磁壁利用型アナログメモリ。
- 読み出し時に前記下部電極層と前記磁化固定層との間の抵抗変化を読み出す機構を備える、請求項9に記載の磁壁利用型アナログメモリ。
- 請求項1~8のいずれか一項に記載の磁壁利用型アナログメモリ素子がアレイ状に配置された磁壁利用型アナログメモリと、STT-MRAMとを備え、
記憶機能と論理機能を有し、記憶機能として前記磁壁利用型アナログメモリ及び前記STT-MRAMを備える、不揮発性ロジック回路。 - 請求項1~8のいずれか一項に記載の磁壁利用型アナログメモリ素子を備え、
前記磁壁駆動層の前記第3領域が、長手方向に並び、かつ第1記憶部と該第1記憶部を挟んで配置される第2記憶部および第3記憶部とを有し、
前記第1記憶部、前記第2記憶部、および前記第3記憶部のすべての記憶部に少なくとも一回は留まるように順に磁壁を移動させる書き込み電流を流すように制御可能な制御回路を有する電流源を備える、
磁気ニューロン素子。
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