WO2016067926A1 - ガラス及びガラスの製造方法 - Google Patents

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WO2016067926A1
WO2016067926A1 PCT/JP2015/079180 JP2015079180W WO2016067926A1 WO 2016067926 A1 WO2016067926 A1 WO 2016067926A1 JP 2015079180 W JP2015079180 W JP 2015079180W WO 2016067926 A1 WO2016067926 A1 WO 2016067926A1
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light
glass
less
chamfered
guide plate
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PCT/JP2015/079180
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正文 伊藤
尚明 宮本
和也 石川
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旭硝子株式会社
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    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C27/00—Joining pieces of glass to pieces of other inorganic material; Joining glass to glass other than by fusing
    • C03C27/06—Joining glass to glass by processes other than fusing
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B9/00—Machines or devices designed for grinding edges or bevels on work or for removing burrs; Accessories therefor
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    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
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    • F21K—NON-ELECTRIC LIGHT SOURCES USING LUMINESCENCE; LIGHT SOURCES USING ELECTROCHEMILUMINESCENCE; LIGHT SOURCES USING CHARGES OF COMBUSTIBLE MATERIAL; LIGHT SOURCES USING SEMICONDUCTOR DEVICES AS LIGHT-GENERATING ELEMENTS; LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • F21K2/00—Non-electric light sources using luminescence; Light sources using electrochemiluminescence
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    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P40/00—Technologies relating to the processing of minerals
    • Y02P40/50—Glass production, e.g. reusing waste heat during processing or shaping
    • Y02P40/57—Improving the yield, e-g- reduction of reject rates

Definitions

  • the present invention relates to glass and a method for producing glass.
  • liquid crystal display devices are provided in portable information terminals such as liquid crystal televisions, tablet terminals, and smartphones.
  • the liquid crystal display device includes a planar light emitting device that functions as a backlight, and a liquid crystal panel that is disposed on the light emitting surface side of the planar light emitting device.
  • planar light emitting devices There are two types of planar light emitting devices: a direct type and an edge light type, but an edge light type that can reduce the size of the light source is often used.
  • the edge light type planar light emitting device includes a light source, a light guide plate, a reflection sheet, a diffusion sheet, and the like.
  • the light from the light source enters the light guide plate from the light incident surface formed on the side surface of the light guide plate.
  • the light guide plate has a plurality of reflective dots formed on a light reflecting surface opposite to the light emitting surface facing the liquid crystal panel.
  • the reflection sheet is arranged to face the light reflection surface, and the diffusion sheet is arranged to face the light emission surface.
  • the light incident on the light guide plate from the light source travels while being reflected by the reflective dots and the reflective sheet, and is emitted from the light exit surface.
  • the light emitted from the light exit surface is diffused by the diffusion sheet and then enters the liquid crystal panel.
  • glass having high transmittance and excellent heat resistance can be used (for example, see Patent Documents 1 and 2).
  • a thin liquid crystal display device mounted on a portable information terminal or the like is desired.
  • the glass used as the light guide plate is also required to be thinner.
  • edge portions a configuration in which the corners of the light exit surface and the entrance surface and the corners of the light reflection surface and the entrance surface (hereinafter, these corners are collectively referred to as “edge portions”) intersect at right angles.
  • chamfered portions are formed at the edge portions.
  • the chamfered portion is formed by grinding an edge portion of glass. During this grinding process, cullet (glass waste) is generated from the glass. When this cullet adheres to the glass used as the light guide plate, the incident light is reflected in the same manner as the reflective dots.
  • the incident light is reflected by the cullet, so that the light reflected by the cullet is emitted from the light emitting surface together with the reflected light reflected by the predetermined reflecting dots. Therefore, luminance unevenness occurs on the light exit surface, and the display quality of the liquid crystal display device using this light guide plate is degraded.
  • One of the exemplary purposes of an embodiment of the present invention is to provide a glass and a glass manufacturing method capable of suppressing the amount of cullet generated.
  • a glass having first and second surfaces facing each other and at least one first end surface provided between the first surface and the second surface; Having at least one first chamfered surface connecting the first surface or the second surface and the first end surface; Glass with a surface roughness Ra of the first chamfered surface of 0.4 ⁇ m or less is provided.
  • the amount of cullet generated can be suppressed, and the occurrence of uneven brightness can be prevented when glass is used as a light guide plate.
  • FIG. 1 is a schematic configuration diagram illustrating a liquid crystal display device using glass as a light guide plate according to an embodiment.
  • FIG. 2 is a diagram illustrating a light reflecting surface of the light guide plate.
  • FIG. 3 is a perspective view of the light guide plate.
  • FIG. 4 is a view for explaining a chamfered surface formed on the light guide plate.
  • FIG. 5 is a process diagram of a glass manufacturing method according to an embodiment.
  • Drawing 6 is a figure for explaining the cutting composition of the manufacturing method of glass which is a certain embodiment.
  • FIG. 7 is a diagram for explaining the mirror surface processing step.
  • FIG. 8 is a diagram showing the relationship between the surface roughness of the light incident side chamfered portion and the amount of cullet generated.
  • FIG. 9 is a diagram for explaining a method of measuring the amount of cullet generated.
  • FIG. 1 shows a liquid crystal display device 1 using glass as a light guide plate according to an embodiment of the present invention.
  • the liquid crystal display device 1 is mounted on an electronic device that is reduced in size and thickness, such as a portable information terminal.
  • the liquid crystal display device 1 has a liquid crystal panel 2 and a planar light emitting device 3.
  • the liquid crystal panel 2 has a configuration in which an alignment layer, a transparent electrode, a glass substrate, and a polarizing filter are laminated so as to sandwich a liquid crystal layer disposed in the center.
  • a color filter is disposed on one side of the liquid crystal layer.
  • the molecules in the liquid crystal layer rotate around the light distribution axis by applying a driving voltage to the transparent electrode, and perform predetermined display by rotation around the light distribution axis.
  • the planar light emitting device 3 adopts an edge light type in order to reduce the size and thickness.
  • the planar light emitting device 3 includes a light source 4, a light guide plate 5, a reflection sheet 6, a diffusion sheet 7, and reflection dots 10A to 10C.
  • the light incident on the light guide plate 5 from the light source 4 travels while being reflected by the reflection dots 10A to 10C and the reflection sheet 6, and is emitted from the light emission surface 51 of the light guide plate 5 facing the liquid crystal panel 2.
  • the light emitted from the light emitting surface 51 is diffused by the diffusion sheet 7 and then enters the liquid crystal panel 2.
  • the light source 4 is not particularly limited, and a hot cathode tube, a cold cathode tube, or an LED (Light Emitting Diode) can be used.
  • the light source 4 is disposed so as to face the light incident surface 53 of the light guide plate 5.
  • a reflector 8 is provided on the back side of the light source 4 in order to increase the incident efficiency of the light emitted radially from the light source 4 to the light guide plate 5.
  • the reflection sheet 6 has a configuration in which a light reflection member is coated on the surface of a resin sheet such as an acrylic resin.
  • the reflection sheet 6 is disposed on the light reflection surface 52 and the non-light incident surfaces 54 to 56 of the light guide plate 5.
  • the light reflecting surface 52 is the surface opposite to the light emitting surface 51 of the light guide plate 5.
  • the non-light-incident surfaces 54 to 56 are end surfaces excluding the light incident surface 53 among the end surfaces of the light reflecting surface 52. If it is not necessary to particularly increase the incident efficiency, the reflection sheet 6 may be configured not to be disposed on the non-light-incident surfaces 54 to 56.
  • the diffusion sheet 7 can be a milky white acrylic resin film or the like. Since the diffusion sheet 7 diffuses the light emitted from the light emitting surface 51 of the light guide plate 5, the back side of the liquid crystal panel 2 can be irradiated with uniform light without uneven brightness.
  • the reflection sheet 6 and the diffusion sheet 7 are fixed to a predetermined position of the light guide plate 5 by, for example, adhesion.
  • the light guide plate 5 is made of highly transparent glass.
  • multi-component oxide glass is used as the glass material used for the light guide plate 5.
  • the light guide plate 5 has an effective optical path length of 5 cm to 200 cm, an average internal transmittance in the visible light region (wavelength 380 nm to 780 nm) at the effective optical path length of 80% or more, and JIS Z8701.
  • a glass member having a tristimulus value Y value of 90% or more in the XYZ color system in (Appendix) is used.
  • S ( ⁇ ) is a transmittance at each wavelength
  • y ( ⁇ ) is a weighting coefficient for each wavelength.
  • ⁇ (S ( ⁇ ) ⁇ y ( ⁇ )) is the total sum of the weighting coefficient of each wavelength multiplied by the transmittance.
  • y ( ⁇ ) corresponds to the M cone (G cone / green) among the retinal cells of the eye, and is most responsive to light having a wavelength of 535 nm.
  • the average internal transmittance in the visible light region is preferably 82% or more, more preferably 85% or more, and still more preferably 90% or more in terms of effective optical path length.
  • the Y value is preferably 91% or more, more preferably 92% or more, and still more preferably 93% or more in terms of effective optical path length.
  • the glass preferably has an average internal transmittance of 90% or more at a wavelength of 400 nm to 700 nm under the condition of an effective optical path length of 50 mm.
  • the average internal transmittance at a wavelength of 400 nm to 700 nm under an effective optical path length of 50 mm is preferably 92% or more, more preferably 95% or more, still more preferably 98% or more, and particularly preferably 99% or more.
  • the average internal transmittance of glass at a wavelength of 400 nm to 700 nm under the condition of an effective optical path length of 50 mm can be measured by the following method. First, by cleaving the glass in a direction perpendicular to the main surface, the first and second fractured faces (end faces) taken from the central portion of the glass with a size of 50 mm in length and 50 mm in width and facing each other, A sample SA having an arithmetic average roughness Ra ⁇ 0.03 ⁇ m is obtained.
  • the total amount A of iron in the glass used as the light guide plate 5 is preferably 100 ppm by mass or less in order to satisfy the above-described internal transmittance at a wavelength of 400 nm to 700 nm, and 40 ppm by mass or less. More preferably, it is more preferably 20 ppm by mass or less.
  • the total amount A of the iron content of the glass used as the glass plate is preferably 5 ppm by mass or more in order to improve the solubility of the glass during the production of the multicomponent oxide glass. More preferably, it is at least 10 ppm by mass.
  • the total amount A of the iron content of the glass used as the light guide plate 5 can be adjusted by the amount of iron added at the time of glass production.
  • the total iron content A of the glass is expressed as the content of Fe 2 O 3 , but all the iron present in the glass exists as Fe 3+ (trivalent iron). I don't mean.
  • Fe 3+ and Fe 2+ are simultaneously present in the glass.
  • Fe 2+ and Fe 3+ have an absorption coefficient in the wavelength range of 400 nm to 700 nm, but the absorption coefficient of Fe 2+ (11 cm ⁇ 1 Mol ⁇ 1 ) is from the absorption coefficient of Fe 3+ (0.96 cm ⁇ 1 Mol ⁇ 1 ). Therefore , Fe 2+ further reduces the internal transmittance at wavelengths of 400 nm to 700 nm. Therefore, a low content of Fe 2+ is preferable for increasing the internal transmittance at a wavelength of 400 nm to 700 nm.
  • the Fe 2+ content B of the glass used as the light guide plate 5 is preferably 20 ppm by mass or less in order to satisfy the above-described internal transmittance at a wavelength of 400 nm to 700 nm, and more preferably 10 ppm by mass or less. Preferably, it is 5 mass ppm or less.
  • the Fe 2+ content B of the glass used as the light guide plate 5 is preferably 0.01 ppm by mass or more in order to improve the solubility of the glass during the production of multi-component oxide glass. 0.05 mass ppm or more is more preferable, and 0.1 mass ppm or more is further preferable.
  • content B of Fe ⁇ 2+> of the glass used as the light-guide plate 5 can be adjusted with the quantity of the oxidizing agent added at the time of glass manufacture, or a melting temperature. Specific types and addition amounts of oxidizing agents added during glass production will be described later.
  • the content A of Fe 2 O 3 was determined by fluorescent X-ray measurement, a content of total iron as calculated as Fe 2 O 3 (mass ppm).
  • the content B of Fe 2+ was measured according to ASTM C169-92 (2011). The measured Fe 2+ content B was expressed in terms of Fe 2 O 3 .
  • composition of the glass used as the light guide plate 5 is shown below.
  • the composition of the glass used as the light guide plate 5 is not limited to these.
  • One configuration example of glass used as the light guide plate 5 is a mass percentage display based on oxides, and SiO 2 is 60% to 80%, Al 2 O 3 is 0% to 7%, and MgO is used. 0% -10%, CaO 0% -20%, SrO 0% -15%, BaO 0% -15%, Na 2 O 3% -20%, K 2 O 0% -10%, Fe 2 O 3 is contained at 5 ppm by mass to 100 ppm by mass.
  • Another configuration example (configuration example E B ) of the glass used as the light guide plate 5 is an oxide-based mass percentage display, and SiO 2 is 45% to 80%, Al 2 O 3 is more than 7% and 30% or less.
  • Still another structural example (structural example E C ) of the glass used as the light guide plate 5 is an oxide-based mass percentage display, and SiO 2 is 45% to 70% and Al 2 O 3 is 10% to 30%.
  • B 2 O 3 from 0% to 15%, MgO, CaO, SrO and BaO in total 5% to 30%, Li 2 O, Na 2 O and K 2 O in total from 0% to less than 3%, Fe 2 O 3 is contained in an amount of 5 ppm to 100 ppm by mass.
  • composition range of each component of the glass composition used as the light guide plate 5 of the present embodiment having the above-described components will be described below.
  • the unit of the content of each composition is expressed in terms of oxide percentage by mass or ppm by mass, and is simply expressed as “%” or “ppm”, respectively.
  • SiO 2 is a main component of glass.
  • the content of SiO 2 is to maintain the weather resistance and devitrification property of the glass, as represented by mass percentage based on oxides, in the configuration example E A, is preferably 60% or more, more preferably 63% or more, in the configuration example E B, preferably 45% or more, more preferably 50% or more, in the configuration example E C, preferably 45% or more, more preferably 50% or more.
  • the content of SiO 2 is easy to dissolve and the foam quality is good, and the content of divalent iron (Fe 2+ ) in the glass is kept low, and the optical properties are good.
  • the configuration example E A preferably 80% or less, more preferably 75% or less
  • the configuration example E B preferably 80% or less, more preferably 70% or less
  • structural example E In C it is preferably 70% or less, more preferably 65% or less.
  • Al 2 O 3, in the configuration example E B and E C is an essential component for improving the weather resistance of the glass.
  • the content of Al 2 O 3, in the configuration example E A preferably 1% or more, more preferably 2% or more, in the configuration example E B, preferably 7 percent, more preferably 10% or more, in the configuration example E C, preferably 10% or more, more preferably 13% or more.
  • the content of Al 2 O 3, in the configuration example E A is preferably 7% or less, more preferably 5% or less, in the configuration example E B, preferably 30% or less, more preferably 23% or less, in the configuration example E C, preferably 30% or less, More preferably, it is 20% or less.
  • B 2 O 3 is a component that promotes melting of the glass raw material and improves mechanical properties and weather resistance, but it does not cause inconveniences such as generation of striae due to volatilization and furnace wall erosion.
  • the content of B 2 O 3, in the glass E a preferably 5% or less, more preferably 3% or less, in the configuration example E B and E C, preferably 15% or less, more preferably 12% or less.
  • Alkali metal oxides such as Li 2 O, Na 2 O, and K 2 O are useful components for accelerating melting of glass raw materials and adjusting thermal expansion, viscosity, and the like.
  • the content of Na 2 O, in the configuration example E A preferably 3% or more, more preferably 8% or more.
  • the content of Na 2 O is, in the configuration example E B, is preferably 7% or more, more preferably 10% or more.
  • the content of Na 2 O, in the configuration example E A and E B it is preferable to be 20% or less, It is more preferably 15% or less, and in the structural example E C, it is preferably 3% or less, and more preferably 1% or less.
  • the content of K 2 O is, in the configuration example E A and E B, preferably 10% or less, more preferably 7% or less, in the configuration example E C, preferably 2% or less, more preferably Is 1% or less.
  • Li 2 O is an optional component, but in order to facilitate vitrification, to suppress the iron content contained as impurities derived from the raw material, and to reduce the batch cost, the structural examples E A , E B and In E C , 2% or less of Li 2 O can be contained.
  • structural example E A and E B Is preferably 5% to 20%, more preferably 8% to 15%.
  • structural example E C it is preferably 0% to 2%, more preferably 0% to 1%.
  • Alkaline earth metal oxides such as MgO, CaO, SrO, and BaO are useful components for accelerating melting of glass raw materials and adjusting thermal expansion, viscosity, and the like.
  • MgO has the effect of lowering the viscosity during glass melting and promoting the melting. Further, MgO may reduce the specific gravity, due to the effect of hardly per flaws in glass plate, structural example E A, the E B and E C, can be contained. Further, the thermal expansion coefficient of the glass low, to the devitrification property and favorable, the content of MgO is in the configuration example E A, preferably 10% or less, more preferably 8% or less, in the configuration example E B, preferably 15% or less, more preferably 12% or less, in the configuration example E C, preferably 10% or less, more preferably 5% or less.
  • CaO is a component that promotes melting of the glass raw material and adjusts viscosity, thermal expansion, and the like, and can therefore be contained in the structural examples E A , E B, and E C.
  • the content of CaO is preferably 3% or more, more preferably 5% or more.
  • the in order to improve the devitrification in the configuration example E A, preferably 20% or less, more preferably 10% or less, in the configuration example E B, preferably not more than 6%, more Preferably it is 4% or less.
  • SrO has the effect of increasing the thermal expansion coefficient and lowering the high temperature viscosity of the glass.
  • SrO can be contained in the structural examples E A , E B and E C.
  • the content of SrO is in the configuration example E A and E C, preferably to 15% or less, more preferably 10% or less, structural example E In B, it is preferably 5% or less, and more preferably 3% or less.
  • BaO like SrO, has the effect of increasing the coefficient of thermal expansion and lowering the high temperature viscosity of the glass.
  • BaO can be contained in E A , E B and E C.
  • the content is preferably set to 3% or less, more preferably 3% or less.
  • the total content of these alkaline earth metal oxides is a thermal expansion coefficient kept low, and the devitrification characteristics favorable, in order to maintain the strength, in the configuration example E A, preferably 10% to 30%, more preferably from 13% to 27% in the configuration example E B, preferably from 1% to 15%, more preferably from 3% to 10%, in the configuration example E C, Preferably, it is 5% to 30%, more preferably 10% to 20%.
  • ZrO 2 is used as an optional component in order to improve the heat resistance and surface hardness of the glass.
  • E A , E B and E C 10 % Or less, preferably 5% or less.
  • Fe 2 O 3 may be contained in the structural examples E A , E B and E C in an amount of 5 ppm to 100 ppm in order to improve the solubility of the glass. Good.
  • the preferable range of the amount of Fe 2 O 3 is as described above.
  • the glass used as the light guide plate 5 of the present embodiment may contain SO 3 as a fining agent.
  • the SO 3 content is preferably more than 0% and 0.5% or less in terms of mass percentage.
  • the SO 3 content is more preferably 0.4% or less, further preferably 0.3% or less, and further preferably 0.25% or less.
  • the glass used as the light guide plate 5 of the present embodiment may contain one or more of Sb 2 O 3, SnO 2 and As 2 O 3 as an oxidizing agent and a clarifying agent.
  • the content of one or more of Sb 2 O 3 , SnO 2 or As 2 O 3 is preferably 0% to 0.5% in terms of mass percentage.
  • the content of one or more of Sb 2 O 3 , SnO 2 and As 2 O 3 is more preferably 0.2% or less, further preferably 0.1% or less, and still more preferably substantially not contained.
  • Sb 2 O 3 , SnO 2 and As 2 O 3 act as an oxidizing agent for glass, they may be added within the above range for the purpose of adjusting the amount of Fe 2+ in the glass. However, from the environmental aspect, it is preferable that As 2 O 3 is not substantially contained.
  • the glass used as the light guide plate 5 of the present embodiment may contain NiO.
  • NiO functions also as a coloring component
  • the content of NiO is preferably 10 ppm or less with respect to the total amount of the glass composition described above.
  • NiO is preferably 1.0 ppm or less, more preferably 0.5 ppm or less, from the viewpoint of not reducing the internal transmittance of the glass plate at a wavelength of 400 nm to 700 nm.
  • the glass used as the light guide plate 5 of the present embodiment may contain Cr 2 O 3 .
  • Cr 2 O 3 also functions as a coloring component. Therefore, the content of Cr 2 O 3 is preferably 10 ppm or less with respect to the total amount of the glass composition described above.
  • Cr 2 O 3 is preferably 1.0 ppm or less, more preferably 0.5 ppm or less, from the viewpoint of not reducing the internal transmittance of the glass plate at a wavelength of 400 nm to 700 nm.
  • the glass used as the light guide plate 5 of the present embodiment may contain MnO 2 .
  • MnO 2 when MnO 2 is contained, since MnO 2 functions also as a component that absorbs visible light, the content of MnO 2 is preferably 50 ppm or less with respect to the total amount of the glass composition described above. In particular, MnO 2 is preferably 10 ppm or less from the viewpoint of not reducing the internal transmittance of the glass plate at a wavelength of 400 nm to 700 nm.
  • the glass used as the light guide plate 5 of the present embodiment may contain TiO 2 .
  • TiO 2 When TiO 2 is contained, TiO 2 also functions as a component that absorbs visible light. Therefore, the content of TiO 2 is preferably 1000 ppm or less with respect to the total amount of the glass composition described above.
  • the content of TiO 2 is more preferably 500 ppm or less, and particularly preferably 100 ppm or less, from the viewpoint of not reducing the internal transmittance of the glass plate at a wavelength of 400 nm to 700 nm.
  • the glass used as the light guide plate 5 of this embodiment may contain CeO 2 .
  • CeO 2 has the effect of reducing the redox of iron, and the ratio of the Fe 2+ amount to the total iron amount can be reduced.
  • the CeO 2 content is preferably 1000 ppm or less with respect to the total amount of the glass composition described above.
  • the CeO 2 content is more preferably 500 ppm or less, further preferably 400 ppm or less, particularly preferably 300 ppm or less, and most preferably 250 ppm or less.
  • the glass used as the light guide plate 5 of this embodiment may contain at least one component selected from the group consisting of CoO, V 2 O 5 and CuO.
  • these components When these components are contained, they also function as components that absorb visible light, and therefore the content of the components is preferably 10 ppm or less with respect to the total amount of the glass composition described above. In particular, it is preferable that these components are not substantially contained so as not to lower the internal transmittance of the glass plate at a wavelength of 400 nm to 700 nm.
  • the glass used as the light guide plate 5 is not limited to these.
  • the light guide plate 5 includes a light emitting surface 51 (first surface), a light reflecting surface 52 (second surface), and a light incident surface 53 (first end surface). , Non-light-incident surfaces 54 to 56 (second end surfaces), light-incident side chamfered surfaces 57 (first chamfered surfaces), and non-light-incident side chamfered surfaces 58 (second chamfered surfaces).
  • the light emitting surface 51 is a surface facing the liquid crystal panel 2.
  • the light emission surface 51 has a rectangular shape in a plan view (a state where the light emission surface 51 is viewed from above).
  • the shape of the light emitting surface 51 is not limited to a rectangular shape.
  • the size of the light emitting surface 51 is determined in accordance with the liquid crystal panel 2 and is not particularly limited. For example, a size of 300 mm ⁇ 300 mm or more is preferable, and a size of 500 mm ⁇ 500 mm or more. Is more preferred. Since the light guide plate 5 has high rigidity, the larger the size, the more effective.
  • the light reflecting surface 52 is a surface facing the light emitting surface 51.
  • the light reflecting surface 52 is formed to be parallel to the light emitting surface 51.
  • the shape and size of the light reflecting surface 52 are the same as those of the light emitting surface 51.
  • the light reflecting surface 52 is not necessarily parallel to the light emitting surface 51, and may have a configuration in which a step or an inclination is provided.
  • the size of the light reflecting surface 52 may be different from that of the light emitting surface 51.
  • reflective dots 10A to 10C are formed on the light reflecting surface 52.
  • the reflective dots 10A to 10C are obtained by printing white ink in a dot shape, for example.
  • the luminance of the light incident from the light incident surface 53 is strong, and the luminance is lowered by reflecting and proceeding in the light guide plate 5.
  • the size of the reflective dots 10A to 10C is varied from the light incident surface 53 toward the light traveling direction (toward the right direction in FIGS. 1 and 2). Specifically, the diameter (L A ) of the reflective dot 10A in the region close to the light incident surface 53 is set to be small, and the diameter of the reflective dot 10B increases from the region close to the light incident surface 53 toward the light traveling direction. (L B ) and the radius (L C ) of the diameter of the reflective dot 10C are set to be large (L A ⁇ L B ⁇ L C ).
  • each reflective dot 10A by changing the size of each reflective dot 10A toward the traveling direction of the light in the light guide plate 5, the brightness of the emitted light emitted from the light emitting surface 51 can be made uniform, and uneven brightness is generated. Can be suppressed.
  • the same effect can also be obtained by changing the number density of each reflective dot 10A in the light traveling direction in the light guide plate 5 instead of the size of each reflective dot 10A. Further, the same effect can be obtained by forming a groove on the light reflecting surface 52 to reflect the incident light instead of the reflecting dot 10A.
  • the light incident surface 53 that is the first end surface is a surface on which light is incident from the light source 4 described above.
  • the non-light incident surfaces 54 to 56 that are the second to fourth end surfaces are surfaces on which light from the light source 4 is not incident.
  • the light incident surface 53 is preferably mirror-finished when the glass forming the light guide plate 5 is manufactured.
  • the arithmetic average roughness (centerline average roughness) Ra of the surface of the light incident surface 53 is preferably less than 0.10 ⁇ m, more preferably less than 0.03 ⁇ m, still more preferably 0.8. It is 01 ⁇ m or less, particularly preferably 0.005 ⁇ m or less. Therefore, the light incident efficiency of light entering the light guide plate 5 from the light source 4 is enhanced.
  • the thickness of the light incident surface 53 (indicated by an arrow W in FIG. 4) is set to a thickness required from the liquid crystal display device 1 on which the planar light emitting device 3 is mounted.
  • surface roughness Ra when described as surface roughness Ra, it means the arithmetic average roughness (centerline average roughness) according to JIS B 0601 to JIS B 0031.
  • a light incident side surface 57 is formed between the light emitting surface 51 and the light incident surface 53 and between the light reflecting surface 52 and the light incident surface 53.
  • a light incident side chamfer 57 is formed between the light emitting surface 51 and the light incident surface 53 and between the light reflecting surface 52 and the light incident surface 53 is shown. It is good also as a structure which forms the light-incidence side chamfering surface 57 only in any one.
  • the thickness of the light guide plate 5 according to the present embodiment is 10 mm or less.
  • the corner portion is in contact with other components and damaged when the light guide plate 5 is assembled with the planar light emitting device 3.
  • the strength of the light guide plate 5 may be reduced.
  • the light guide plate 5 according to this embodiment has a thickness of 0.5 mm or more, and further has a light incident side chamfer 57 formed on the upper edge and the lower edge of the light incident surface 53.
  • the thickness of the light guide plate 5 is more preferably 0.7 mm or more, further preferably 1.0 mm or more, and further preferably 1.5 mm or more. Sufficient rigidity can be acquired because the thickness of the light-guide plate 5 is 0.7 mm or more. Further, the thickness of the light guide plate 5 is more preferably 3.0 mm or less, which can contribute to a reduction in the thickness of the surface emitting illumination device.
  • the light incident side chamfered surface 57 is chamfered.
  • an average value X ave of the width dimension X in the longitudinal direction of the chamfered surface (hereinafter simply referred to as the longitudinal direction). Is 0.1 mm.
  • X ave is preferably 0.1 mm to 0.5 mm. If X ave is 0.5 mm or less, the width dimension of the light incident surface 53 can be increased. If X ave is 0.1 mm or more, the error of X described later can be reduced.
  • the error of the width dimension X of the light incident side chamfered surface 57 is 0.05 mm or less.
  • the error in the longitudinal direction of X is preferably within 50% of X ave . That is, X preferably satisfies 0.5X ave ⁇ X ⁇ 1.5X ave .
  • Error in the longitudinal direction of the X is more preferably within 40% of the X ave, more preferably within 30% of the X ave, particularly preferably within 20% of the X ave.
  • the surface roughness Ra of the light incident side chamfering surface 57 is 0.4 ⁇ m or less.
  • the reason why the surface roughness Ra of the light incident side chamfered surface 57 is set to 0.4 ⁇ m or less will be described later for convenience of explanation.
  • the surface roughness Ra of the light incident side chamfered surface 57 is preferably 0.1 ⁇ m or less, more preferably 0.05 ⁇ m or less, and even more preferably less than 0.03 ⁇ m.
  • the error in the longitudinal direction of Y is preferably within 50% of Y ave . That is, Y preferably satisfies 0.5Y ave ⁇ Y ⁇ 1.5Y ave . Error in the longitudinal direction of the Y is more preferably within 40% of the Y ave, more preferably within 30% of the Y ave, particularly preferably within 20% of the Y ave.
  • the surface roughness Ra of the non-light-incident side chamfering surface 58 can be made larger than the surface roughness Ra of the light-incident side chamfering surface 57.
  • the surface roughness Ra of the light incident side chamfered surface 57 is preferably 0.4 ⁇ m or more.
  • the surface roughness Ra of the non-light-incident side chamfered surface 58 is preferably 1.0 ⁇ m or less.
  • the surface roughness Ra of the non-light-incident side chamfered surface 58 is set to be larger than that of the light-incident side chamfered surface 57 so that the non-light-incident side chamfered surface 58 is processed. Compared to the above, productivity is improved.
  • the surface roughness Ra of the non-light-incident side chamfering surface 58 is 0.4 ⁇ m or more and 1.0 ⁇ m or less, the adhesiveness between the two when the reflection sheet 6 is adhered to the non-light-incident side chamfering surface 58 Becomes better. If productivity is not taken into consideration, the surface roughness Ra of the non-light-incident side chamfered surface 58 is preferably less than 0.4 ⁇ m from the viewpoint of preventing cracks.
  • the surface roughness Ra of the non-light-incident surfaces 54 to 56 is 1.5 ⁇ m or less.
  • the surface roughness Ra of the non-light-incident surfaces 54 to 56 is preferably 1.0 ⁇ m or less, and more preferably 0.8 ⁇ m or less.
  • the non-light incident surfaces 54 to 56 are not polished.
  • the surface roughness Ra of the non-light-incident surfaces 54 to 56 is set to be larger than the surface roughness Ra of the light-incident surface 53, and the surface roughness Ra of the non-light-incident surfaces 54 to 56 is preferable. Is 0.03 ⁇ m or more, more preferably 0.1 ⁇ m or more.
  • the processing of the non-light-incident surfaces 54 to 56 is easier or unnecessary than the light-incident surface 53, and productivity is improved.
  • the non-light-incident surfaces 54 to 56 may be polished.
  • FIG. 5 to 7 are diagrams for explaining a method of manufacturing the light guide plate 5.
  • FIG. 5 is a process diagram showing a method for manufacturing the light guide plate 5.
  • a glass material 12 is prepared.
  • the glass material 12 has an effective optical path length of 5 cm to 200 cm, a thickness of 0.5 mm to 10 mm, and an average internal transmittance in the visible light region at the effective optical path length of 80% or more.
  • the Y value of the tristimulus values in the XYZ color system in JIS Z8701 (Appendix) is 90% or more.
  • the glass material 12 has a shape larger than the predetermined shape of the light guide plate 5.
  • a cutting process is performed at each position (one incident light surface side position and three non-light incident surface side positions) indicated by a broken line in FIG. 6 using a cutting device.
  • the cutting process does not necessarily have to be performed on the three non-light-incident surface positions, and only one non-light-incident surface position facing the one light-incident surface position is cut. May be.
  • the glass substrate 14 is cut from the glass material 12 by performing a cutting process.
  • the cutting process is performed on one light incident surface side position and three non-light incident surface side positions.
  • the cutting position is appropriately selected according to the shape of the light guide plate 5.
  • the first chamfering step (step S12) is performed.
  • a non-light-incident side chamfer 58 is provided between the light-emitting surface 51 and the non-light-incident surface 56 and between the light-reflecting surface 52 and the non-light-incident surface 56 using a grinding device.
  • chamfering may be performed between the light emitting surface 51 and the light incident surface 53 or between the light reflecting surface 52 and the light incident surface 53. In that case, it is preferable from the viewpoint of productivity that the surface roughness Ra of the chamfered surface obtained is larger than the surface roughness Ra of the light incident side chamfered surface 57 obtained in the second chamfering step described later.
  • the non-light-incident surfaces 54 to 56 are ground or polished in the first chamfering process.
  • the grinding process or the polishing process for the non-light-incident surfaces 54 to 56 may be performed before or after the above-described non-light-incident side chamfering surface 58 is formed, or may be performed simultaneously.
  • the first chamfering step (step S12) can be performed simultaneously with or after the mirror chamfering step (step S14) and the second chamfering step (step S16), which will be described later, but is preferably performed before them.
  • processing according to the shape of the light guide plate 5 can be performed at a relatively fast rate in step S12, productivity is improved, and a relatively large cullet generated in step S12 is reflected on the light incident surface 53 or It becomes difficult to damage the incident light side chamfering surface 57.
  • the mirror finishing process is then performed in (step S14).
  • the light incident surface 53 is formed by performing mirror surface processing on the light incident surface side of the glass substrate 14.
  • the light incident surface 53 is a surface on which light is incident from the light source 4. Therefore, the light incident surface 53 is mirror-finished so that the surface roughness Ra is less than 0.03 ⁇ m.
  • step S16 When the light incident surface 53 is formed on the glass base material 14 in the mirror surface processing step (step S14), the second chamfering step (step S16) is subsequently performed, so that the light emission surface 51 and the light incident surface 53 are separated.
  • a light incident side chamfered surface 57 (chamfered surface) is formed by grinding or polishing between the light reflecting surface 52 and the light incident surface 53. Note that step S16 can be performed before step S14 and can be performed simultaneously with step S14.
  • the second chamfering step when the average value in the longitudinal direction of the width X of the light incident side chamfer surface 57 and X ave, so that the error in the longitudinal direction of X is within 50% of the X ave, and the surface roughness Processing is performed so that Ra is 0.4 ⁇ m or less.
  • a grindstone When forming the light incident side chamfered surface 57, a grindstone may be used as a tool for performing grinding treatment or polishing treatment.
  • a buff or brush made of cloth, leather, rubber or the like is used.
  • an abrasive such as cerium oxide, alumina, carborundum, colloidal silica may be used.
  • the light guide plate 5 is manufactured by performing the steps shown in the above steps S10 to S16.
  • the reflective dots 10A to 10C are printed on the light reflecting surface 52 after the light guide plate 5 is manufactured.
  • glass scraps are generated from the glass material 12 and the glass substrate 14 in each process such as the cutting process, the chamfering process, and the mirror finishing process performed when the light guide plate 5 is manufactured. Since the cutting process and the first chamfering process are processes that are less accurate than the mirror surface processing process and the second chamfering process, the generated cullet is relatively large and is therefore difficult to adhere to the light guide plate 5.
  • the generated cullet is smaller than the cullet generated in the cutting step and the first chamfering step. For this reason, the cullet generated in the mirror finishing process and the second chamfering process is likely to adhere to the light guide plate 5.
  • the cullet generated in the mirror surface processing step and the second chamfering step is the light incident surface 53 and the light incident side surface chamfer. It tends to adhere to the vicinity of the surface 57.
  • the reflective dots 10A diameter L A is formed in the vicinity of the light incident surface 53 and light incident side chamfer surface 57. That is, the area where the reflective dots 10A are formed is an area where the area of the light guide plate 5 where the glass is exposed is wide.
  • the cullet is glass waste as described above, it has the property of reflecting light.
  • the amount of reflection of light incident from the light source 4 is greater when the cullet is attached to the region where the reflective dots 10A are formed than when the cullet is attached to the region where the reflective dots 10B and 10C are formed. It changes greatly (the amount of reflection increases). For this reason, especially when cullet adheres to the region where the reflective dots 10A are formed, the luminance unevenness generated in the light guide plate 5 becomes large.
  • the processing of the light incident side chamfered surface 57 which is a chamfering process, generates a larger amount of cullet than the processing of the light incident surface 53 that is mirror-finished.
  • the present inventors conducted an experiment to measure the amount of cullet generated in the processing of the light incident side chamfered surface 57. Further, in this experiment, when the processing accuracy of the light incident side chamfered surface 57 is changed, the surface roughness Ra of the diffusion sheet 7 changes, and therefore the surface roughness Ra of the light incident side chamfered surface 57 and the generated cullet amount. The correlation with was investigated.
  • FIG. 9 is a process diagram showing a method for quantifying the generated cullet.
  • a beaker containing pure water is prepared, and the light incident side chamfered surface 57 of the light guide plate 5 that has been chamfered in the pure water and The vicinity is immersed (step S30).
  • cullet is adhered to the light incident side chamfered surface 57 and its vicinity. Accordingly, the cullet attached to the light incident side chamfer 57 or the like is also immersed in pure water.
  • step S32 ultrasonic cleaning is performed on the light incident side surface 57 of the light guide plate 5 by ultrasonically vibrating the beaker.
  • the cullet attached to the incident side chamfered surface 57 and its vicinity falls and accumulates on the bottom of the beaker (the pure water from which the cullet has dropped is also referred to as “cullet water”).
  • step S34 the cullet water created in step S32 is filtered through a filter that has previously been weighed. Thereby, the cullet is collected in the filter.
  • the filter from which the cullet has been collected is dried using a dryer (step S36).
  • step S38 the weight of the filter is measured. Then, by subtracting the weight of the filter that has been measured in advance from the weight measured in step S38, the amount of cullet generated during the chamfering process of the light incident side chamfer 57 can be obtained (step S40). .
  • FIG. 8 shows the relationship between the surface roughness Ra of the light incident side chamfered surface 57 and the amount of cullet generated (the mass of cullet generated per 1 mm 2 ). From the figure, it can be seen that the amount of cullet generated correlates with the surface roughness Ra in the range where the surface roughness Ra of the light incident side chamfered surface 57 is larger than 0.3 ⁇ m.
  • the present inventors performed a calculation for obtaining the amount of cullet that causes luminance unevenness when cullet adheres to the light incident side chamfered surface 57.
  • the diameter of the cullet is 100 ⁇ m or more, the light emission characteristics (such as luminance unevenness) of the light guide plate 5 are affected.
  • the attachment position of the cullet that affects the optical characteristics of the light guide plate 5 is an area where the small-diameter (L A ) reflective dots 10A are formed.
  • the area of the region where the reflective dots 10 ⁇ / b> A are formed is approximately 10% of the total area of the light guide plate 5.
  • the luminance unevenness generated in the region where the small-diameter reflective dots 10A are formed be 3% or less.
  • the cullet attached to the region where the reflective dots 10A are formed indicates that the luminance unevenness is 3% or less.
  • the area ratio needs to be 3% or less. That is, it is necessary to satisfy the following expression (3).
  • the width of the light incident side chamfer surface 57 is proportional to S a from equation (1), in order to sufficiently increase the area of the light incident surface 53, it is preferable to satisfy the S b / S a ⁇ 100. Therefore, in order to always satisfy the above formula (3) and S b / S a ⁇ 100, the cullet generation amount c preferably satisfies the following formula (4).
  • the cullet generation amount c satisfying the above formula (4) is 0.5 [ ⁇ g / mm 2 ] or less.
  • the amount of cullet generated is 0.5 [ ⁇ g / mm 2 ] or less when the surface roughness Ra of the light incident side chamfered surface 57 is 0.4 ⁇ m or less. Therefore, it was proved that the light guide plate 5 free from luminance unevenness can be realized by setting the surface roughness Ra of the light incident side chamfering surface 57 to 0.4 ⁇ m or less.
  • the amount of cullet generated increases as the width dimension X of the light incident side chamfer 57 increases.
  • the surface roughness Ra of the light incident side chamfered surface 57 is preferably 0.3 ⁇ m or less in order to reduce the amount of cullet generated to 0.5 [ ⁇ g / mm 2 ] or less, more preferably It is 0.1 ⁇ m or less, more preferably 0.03 ⁇ m or less.

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Abstract

　互いに対向する第１面および第２面、ならびに前記第１面と前記第２面の間に設けられる少なくとも一つの第１端面とを有するガラスであって、前記第１面又は前記第２面と前記第１端面とを接続する少なくとも一つの第１面取り面を有し、前記第１面取り面の表面粗さＲａが０．４μｍ以下である。

Description

ガラス及びガラスの製造方法
　本発明は、ガラス及びガラスの製造方法に関する。
　近年、液晶テレビ、タブレット端末やスマートフォンに代表される携帯情報端末等に液晶表示装置が設けられている。液晶表示装置は、バックライトとして機能する面状発光装置と、この面状発光装置の光出射面側に配置される液晶パネルを有している。
　面状発光装置には直下型とエッジライト型があるが、光源の小型化を図ることができるエッジライト型が多用されている。エッジライト型の面状発光装置は、光源、導光板、反射シート、及び拡散シート等を有している。
　光源からの光は、導光板の側面に形成された入光面から導光板内に入射する。導光板は、液晶パネルと対向する光出射面と反対側の光反射面に複数の反射ドットが形成されている。反射シートは光反射面と対向するよう配置され、拡散シートは光出射面と対向するよう配置される。
　光源から導光板に入射した光は、反射ドット及び反射シートに反射されつつ進行し、光出射面から出射される。この光出射面から出射された光は、拡散シートで拡散された上で液晶パネルに入射される。
　この導光板の材質としては、透過率が高く耐熱性に優れたガラスを用いることができる（例えば、特許文献１，２参照）。
特開２０１３－０９３１９５号公報 特開２０１３－０３０２７９号公報
　携帯情報端末等に搭載される液晶表示装置は、薄型化が望まれている。この液晶表示装置の薄型化の要望に伴い、導光板として用いられるガラスも薄型化が要求されている。
　しかしながら、ガラスを薄型化するとガラスの強度が低下してしまう。また、光出射面と入光面との角部及び光反射面と入光面との角部等（以下、これらの角部を総称して「エッジ部」とも言う）が直角に交わった構成であると、導光板（ガラス）を面状発光装置又は液晶表示装置に搭載する際にエッジ部が他の構成物と接触してエッジ部が損傷する場合がある。
　このため、エッジ部に面取り部を形成することが行われている。面取り部は、ガラスのエッジ部を研削加工することにより形成される。この研削加工の際、ガラスからはカレット（ガラス屑）が発生する。このカレットが導光板として使用されるガラスに付着した場合、反射ドットと同様に入射光を反射してしまう。
　このように入射光がカレットで反射することにより、既定の反射ドットで反射される反射光と共に、カレットで反射される光が光出射面から出射される。よって光出射面に輝度ムラが発生し、この導光板を用いた液晶表示装置の表示品質が低下してしまう。
　本発明のある態様の例示的な目的の一つは、カレット発生量を抑制できるガラス及びガラスの製造方法を提供することにある。
　本発明のある態様によると、
　互いに対向する第１面および第２面ならびに前記第１面と前記第２面の間に設けられる少なくとも一つの第１端面とを有するガラスであって、
　前記第１面又は前記第２面と前記第１端面とを接続する少なくとも一つの第１面取り面を有し、
　前記第１面取り面の表面粗さＲａが０．４μｍ以下であるガラスが提供される。
　また、本発明の他の態様によると、
　互いに対向する第１面および第２面、ならびに前記第１面と前記第２面の間に設けられる少なくとも一つの第１端面及び少なくとも一つの第２端面とを有するガラス基材を準備する工程と、
　前記ガラス基材の前記第２端面を面取り加工する第１面取り工程と、
　前記ガラス基材の前記第１端面を鏡面加工する鏡面加工工程と、
　前記鏡面加工工程に供された前記ガラス基材の前記第１端面を面取り加工することにより、前記第１面又は前記第２面と前記第１端面とを接続する少なくとも一つの第１面取り面を形成し、前記第１面取り面の表面粗さＲａを０．４μｍ以下とせしめる第２面取り工程と、
　を備えるガラスの製造方法が提供される。
　本発明のある態様によると、カレット発生量を抑制し、ガラスを導光板として使用した際に輝度ムラが発生することを防止することができる。
図１は、ある実施形態であるガラスを導光板として用いた液晶表示装置を示す概略構成図である。 図２は、導光板の光反射面を示す図である。 図３は、導光板の斜視図である。 図４は、導光板に形成される面取り面を説明するための図である。 図５は、ある実施形態であるガラスの製造方法の工程図である。 図６は、ある実施形態であるガラスの製造方法の切断構成を説明するための図である。 図７は、鏡面加工工程を説明するための図である。 図８は、入光側面取り部の表面粗さとカレット発生量との関係を示す図である。 図９は、カレット発生量の測定方法を説明するための図である。
　次に、添付の図面を参照しながら、本発明の限定的でない例示の実施形態について説明する。
　なお、添付の全図面の中の記載で、同一又は対応する部材又は部品には、同一又は対応する参照符号を付し、重複する説明を省略する。また、図面は、特に指定しない限り、部材もしくは部品間の相対比を示すことを目的としない。従って、具体的な寸法は、以下の限定的でない実施形態に照らし、当業者により決定することができる。
　また、以下説明する実施形態は、発明を限定するものではなく例示であって、実施形態に記述される全ての特徴やその組み合わせは、必ずしも発明の本質的なものであるとは限らない。
　図１は、本発明のある実施形態であるガラスを導光板として用いた液晶表示装置１を示している。液晶表示装置１は、例えば携帯情報端末等の小型及び薄型化が図られた電子機器に搭載される。
　液晶表示装置１は、液晶パネル２と面状発光装置３とを有している。
　液晶パネル２は、中心に配設される液晶層を挟むよう配向層、透明電極、ガラス基板及び偏光フィルターが積層された構成を有する。また、液晶層の片面には、カラーフィルターが配設されている。液晶層の分子は、透明電極に駆動電圧を印加することにより配光軸周りに回転し、この配光軸周りの回転により所定の表示を行う。
　面状発光装置３は、小型化及び薄型化を図るためエッジライト型を採用している。面状発光装置３は、光源４、導光板５、反射シート６、拡散シート７、及び反射ドット１０Ａ～１０Ｃを有している。
　光源４から導光板５に入射した光は、反射ドット１０Ａ～１０Ｃ及び反射シート６に反射されつつ進行し、導光板５の液晶パネル２と対向した光出射面５１から出射される。この光出射面５１から出射された光は、拡散シート７で拡散された上で液晶パネル２に入射される。
　光源４は、特に限定されるものではないが、熱陰極管、冷陰極管、或いはＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ　Ｅｍｉｔｔｉｎｇ　Ｄｉｏｄｅ）を用いることができる。この光源４は、導光板５の入光面５３と対向するように配置される。
　また、光源４から放射状に発射される光の導光板５への入射効率を高めるため、光源４の背面側にはリフレクタ８が設けられている。
　反射シート６は、アクリル樹脂等の樹脂シートの表面に光反射部材を被膜した構成を有する。この反射シート６は、導光板５の光反射面５２及び非入光面５４～５６に配設される。光反射面５２は、導光板５の光出射面５１とは反対側の面である。非入光面５４～５６は、光反射面５２の端面のうち入光面５３を除く端面である。なお、入射効率を特に高める必要がなければ、反射シート６を非入光面５４～５６に配設しない構成とすることもできる。
　拡散シート７は、乳白色のアクリル樹脂製フイルム等を用いることができる。拡散シート７は、導光板５の光出射面５１から出射した光を拡散するため、液晶パネル２の背面側には輝度ムラのない均一な光を照射することができる。なお、反射シート６及び拡散シート７は、導光板５の所定位置に例えば接着により固定される。
　次に、導光板５について説明する。
　導光板５は、透明度の高いガラスにより形成されている。本実施形態では、導光板５として用いられるガラスの材料として、多成分系の酸化物ガラスを用いている。
　具体的には、導光板５として、有効光路長が５ｃｍ～２００ｃｍであり、有効光路長での可視光域（波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍ）の平均内部透過率が８０％以上であり、かつ、ＪＩＳ　Ｚ８７０１（附属書）でのＸＹＺ表色系における三刺激値のＹ値が９０％以上であるガラス部材を用いている。Ｙ値は、Ｙ＝Σ（Ｓ（λ）×ｙ（λ））により求められる。ここで、Ｓ（λ）は、各波長における透過率であり、ｙ（λ）は各波長の重みづけ係数である。従って、Σ（Ｓ（λ）×ｙ（λ））は、各波長の重みづけ係数と、その透過率とを掛け合わせたものの総和である。なお、ｙ（λ）は、眼の網膜細胞のうち、Ｍ錐体（Ｇ錐体／緑）に対応し、波長５３５ｎｍの光に最も反応する。可視光域の平均内部透過率は、有効光路長で８２％以上が好ましく、８５％以上がより好ましく、９０％以上が更に好ましい。Ｙ値は、有効光路長で９１％以上が好ましく、９２％以上がより好ましく、９３％以上が更に好ましい。
　また、ガラスは別の表現では、有効光路長５０ｍｍの条件下での、波長４００ｎｍ～７００ｎｍにおける平均内部透過率が９０％以上であることが好ましい。これにより、ガラスに入射した光の減衰を極力抑えることができる。有効光路長５０ｍｍの条件下での、波長４００ｎｍ～７００ｎｍにおける平均内部透過率は、９２％以上が好ましく、９５％以上がより好ましく、９８％以上が更に好ましく、９９％以上が特に好ましい。
　ガラスの、有効光路長５０ｍｍの条件下での、波長４００ｎｍ～７００ｎｍにおける平均内部透過率は、次の方法で測定できる。まず、ガラスを主面に垂直な方向で割断することにより、ガラスの中心部分から、縦５０ｍｍ×横５０ｍｍの寸法で採取され、相互に対向する第１および第２の割断面（端面）が、算術平均粗さＲａ≦０．０３μｍとなるようにされたサンプルＳＡを得る。このサンプルＳＡにおいて、前記第１の割断面から法線方向における５０ｍｍ長において、紫外可視赤外分光光度計（ＵＨ４１５０、日立ハイテクサイエンス社製）によって、スリット等で入射光のビーム幅を板厚よりも狭くしたうえで、測定する。このようにして得られた有効光路長５０ｍｍの条件下での透過率から、表面での反射による損失を除去することにより、有効光路長５０ｍｍの条件下での内部透過率が得られる。
　導光板５として用いられるガラスの鉄の含有量の総量Ａは、１００質量ｐｐｍ以下であることが、上述した波長４００ｎｍ～７００ｎｍにおける内部透過率を満たすうえで好ましく、４０質量ｐｐｍ以下であることがより好ましく、２０質量ｐｐｍ以下であることがさらに好ましい。一方、ガラス板として用いられるガラスの鉄の含有量の総量Ａは、５質量ｐｐｍ以上であることが、多成分系の酸化物ガラス製造時において、ガラスの溶解性を向上させるうえで好ましく、８質量ｐｐｍ以上であることがより好ましく、１０質量ｐｐｍ以上であることがさらに好ましい。なお、導光板５として用いられるガラスの鉄の含有量の総量Ａは、ガラス製造時に添加する鉄の量により調節できる。
　本明細書においては、ガラスの鉄の含有量の総量Ａを、Ｆｅ２Ｏ３の含有量として表しているが、ガラス中に存在する鉄がすべてＦｅ３＋（３価の鉄）として存在しているわけではない。通常、ガラス中にはＦｅ３＋とＦｅ２＋（２価の鉄）が同時に存在している。Ｆｅ２＋およびＦｅ３＋は、波長４００ｎｍ～７００ｎｍの範囲に吸収係数を有するが、Ｆｅ２＋の吸収係数（１１ｃｍ－１　Ｍｏｌ－１）はＦｅ３＋の吸収係数（０．９６ｃｍ－１　Ｍｏｌ－１）よりも１桁大きいため、Ｆｅ２＋は波長４００ｎｍ～７００ｎｍにおける内部透過率をより低下させる。そのため、Ｆｅ２＋の含有量が少ないことが、波長４００ｎｍ～７００ｎｍにおける内部透過率を高めるうえで好ましい。
　導光板５として用いられるガラスのＦｅ２＋の含有量Ｂは、２０質量ｐｐｍ以下であることが、上述した波長４００ｎｍ～７００ｎｍにおける内部透過率を満たすうえで好ましく、１０質量ｐｐｍ以下であることがより好ましく、５質量ｐｐｍ以下であることがさらに好ましい。一方、導光板５として用いられるガラスのＦｅ２＋の含有量Ｂは、０．０１質量ｐｐｍ以上であることが、多成分系の酸化物ガラス製造時において、ガラスの溶解性を向上させるうえで好ましく、０．０５質量ｐｐｍ以上であることがより好ましく、０．１質量ｐｐｍ以上であることがさらに好ましい。
　なお、導光板５として用いられるガラスのＦｅ２＋の含有量Ｂは、ガラス製造時に添加する酸化剤の量、または溶解温度等により調節できる。ガラス製造時に添加する酸化剤の具体的な種類と添加量については後述する。Ｆｅ２Ｏ３の含有量Ａは、蛍光Ｘ線測定によって求めた、Ｆｅ２Ｏ３に換算した全鉄の含有量（質量ｐｐｍ）である。Ｆｅ２＋の含有量Ｂは、ＡＳＴＭ　Ｃ１６９－９２（２０１１）に準じて測定した。なお、測定したＦｅ２＋の含有量ＢはＦｅ２Ｏ３に換算して表記した。
　導光板５として用いられるガラスの組成の好適な具体例を以下に示す。ただし、導光板５として用いられるガラスの組成はこれらに限定されない。
　導光板５として用いられるガラスの一構成例（構成例ＥＡ）は、酸化物基準の質量百分率表示で、ＳｉＯ２を６０％～８０％、Ａｌ２Ｏ３を０％～７％、ＭｇＯを０％～１０％、ＣａＯを０％～２０％、ＳｒＯを０％～１５％、ＢａＯを０％～１５％、Ｎａ２Ｏを３％～２０％、Ｋ２Ｏを０％～１０％、Ｆｅ２Ｏ３を５質量ｐｐｍ～１００質量ｐｐｍ含む。
　導光板５として用いられるガラスの別の一構成例（構成例ＥＢ）は、酸化物基準の質量百分率表示で、ＳｉＯ２を４５％～８０％、Ａｌ２Ｏ３を７％超３０％以下、Ｂ２Ｏ３を０％～１５％、ＭｇＯを０％～１５％、ＣａＯを０％～６％、ＳｒＯを０％～５％、ＢａＯを０％～５％、Ｎａ２Ｏを７％～２０％、Ｋ２Ｏを０％～１０％、ＺｒＯ２を０％～１０％、Ｆｅ２Ｏ３を５質量ｐｐｍ～１００質量ｐｐｍ含む。
　導光板５として用いられるガラスのさらに別の一構成例（構成例ＥＣ）は、酸化物基準の質量百分率表示で、ＳｉＯ２を４５％～７０％、Ａｌ２Ｏ３を１０％～３０％、Ｂ２Ｏ３を０％～１５％、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯを合計で５％～３０％、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏを合計で０％以上３％未満、Ｆｅ２Ｏ３を５質量ｐｐｍ～１００質量ｐｐｍ含む。
　上記した成分を有する本実施形態の導光板５として用いられるガラスの組成の各成分の組成範囲について、以下に説明する。なお、各組成の含有量の単位はいずれも酸化物基準の質量百分率表示または質量ｐｐｍ表示であり、それぞれ単に「％」または「ｐｐｍ」と表す。
　ＳｉＯ２は、ガラスの主成分である。ＳｉＯ２の含有量は、ガラスの耐候性及び失透特性を保つため、酸化物基準の質量百分率表示で、構成例ＥＡにおいては、好ましくは６０％以上、より好ましくは６３％以上であり、構成例ＥＢにおいては、好ましくは４５％以上、より好ましくは５０％以上であり、構成例ＥＣにおいては、好ましくは４５％以上、より好ましくは５０％以上である。
　一方、ＳｉＯ２の含有量は、溶解を容易にし、泡品質を良好なものとするために、またガラス中の二価鉄（Ｆｅ２＋）の含有量を低く抑え、光学特性を良好なものとするため、構成例ＥＡにおいては、好ましくは８０％以下、より好ましくは７５％以下であり、構成例ＥＢにおいては、好ましくは８０％以下、より好ましくは７０％以下であり、構成例ＥＣにおいては、好ましくは７０％以下、より好ましくは６５％以下である。
　Ａｌ２Ｏ３は、構成例ＥＢ及びＥＣにおいてはガラスの耐候性を向上させる必須成分である。本実施形態のガラスにおいて実用上必要な耐候性を維持するためには、Ａｌ２Ｏ３の含有量は、構成例ＥＡにおいては、好ましくは１％以上、より好ましくは２％以上であり、構成例ＥＢにおいては、好ましくは７％超、より好ましくは１０％以上であり、構成例ＥＣにおいては、好ましくは１０％以上、より好ましくは１３％以上である。
　ただし、二価鉄（Ｆｅ２＋）の含有量を低く抑え、光学特性を良好なものとし、泡品質を良好なものとするため、Ａｌ２Ｏ３の含有量は、構成例ＥＡにおいては、好ましくは７％以下、より好ましくは５％以下であり、構成例ＥＢにおいては、好ましくは３０％以下、より好ましくは２３％以下であり、構成例ＥＣにおいては、好ましくは３０％以下、より好ましくは２０％以下である。
　Ｂ２Ｏ３は、ガラス原料の溶融を促進し、機械的特性や耐候性を向上させる成分であるが、揮発による脈理（ｒｅａｍ）の生成、炉壁の侵食等の不都合が生じないために、Ｂ２Ｏ３の含有量は、ガラスＥＡにおいては、好ましくは５％以下、より好ましくは３％以下であり、構成例ＥＢ及びＥＣにおいては、好ましくは１５％以下、より好ましくは１２％以下である。
　Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ、及び、Ｋ２Ｏといったアルカリ金属酸化物は、ガラス原料の溶融を促進し、熱膨張、粘性等を調整するのに有用な成分である。
　そのため、Ｎａ２Ｏの含有量は、構成例ＥＡにおいては、好ましくは３％以上、より好ましくは８％以上である。Ｎａ２Ｏの含有量は、構成例ＥＢにおいては、好ましくは７％以上、より好ましくは１０％以上である。ただし、溶解時の清澄性を保持し、製造されるガラスの泡品質を保つために、Ｎａ２Ｏの含有量は、構成例ＥＡ及びＥＢにおいては、２０％以下とするのが好ましく、１５％以下とするのがさらに好ましく、構成例ＥＣにおいては、３％以下とするのが好ましく、１％以下とするのがより好ましい。
　また、Ｋ２Ｏの含有量は、構成例ＥＡ及びＥＢにおいては、好ましくは１０％以下、より好ましくは７％以下であり、構成例ＥＣにおいては、好ましくは２％以下、より好ましくは１％以下である。
　また、Ｌｉ２Ｏは、任意成分であるが、ガラス化を容易にし、原料に由来する不純物として含まれる鉄含有量を低く抑え、バッチコストを低く抑えるために、構成例ＥＡ、ＥＢ及びＥＣにおいて、Ｌｉ２Ｏを２％以下含有させることができる。
　また、これらアルカリ金属酸化物の合計含有量（Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）は、溶解時の清澄性を保持し、製造されるガラスの泡品質を保つために、構成例ＥＡ及びＥＢにおいては、好ましくは５％～２０％、より好ましくは８％～１５％であり、構成例ＥＣにおいては、好ましくは０％～２％、より好ましくは０％～１％である。
　ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、及びＢａＯといったアルカリ土類金属酸化物は、ガラス原料の溶融を促進し、熱膨張、粘性等を調整するのに有用な成分である。
　ＭｇＯは、ガラス溶解時の粘性を下げ、溶解を促進する作用がある。また、ＭｇＯは、比重を低減させ、ガラス板に疵をつきにくくする作用があるために、構成例ＥＡ、ＥＢ及びＥＣにおいて、含有させることができる。また、ガラスの熱膨張係数を低く、失透特性を良好なものとするために、ＭｇＯの含有量は、構成例ＥＡにおいては、好ましくは１０％以下、より好ましくは８％以下であり、構成例ＥＢにおいては、好ましくは１５％以下、より好ましくは１２％以下であり、構成例ＥＣにおいては、好ましくは１０％以下、より好ましくは５％以下である。
　ＣａＯは、ガラス原料の溶融を促進し、また粘性、熱膨張等を調整する成分であるので、構成例ＥＡ、ＥＢ及びＥＣにおいて含有させることができる。上記の作用を得るためには、構成例ＥＡにおいては、ＣａＯの含有量は、好ましくは３％以上、より好ましくは５％以上である。また、失透を良好にするためには、構成例ＥＡにおいては、好ましくは２０％以下、より好ましくは１０％以下であり、構成例ＥＢにおいては、好ましくは６％以下であり、より好ましくは４％以下である。
　ＳｒＯは、熱膨張係数の増大及びガラスの高温粘度を下げる効果があり、この効果を得るために、構成例ＥＡ、ＥＢ及びＥＣにおいてＳｒＯを含有させることができる。ただし、ガラスの熱膨張係数を低く抑えるため、ＳｒＯの含有量は、構成例ＥＡ及びＥＣにおいては、１５％以下とするのが好ましく、１０％以下とするのがより好ましく、構成例ＥＢにおいては、５％以下とするのが好ましく、３％以下とするのがより好ましい。
　ＢａＯは、ＳｒＯ同様に熱膨張係数の増大及びガラスの高温粘度を下げる効果があり、この効果を得るために、ＥＡ、ＥＢ及びＥＣにおいてＢａＯを含有させることができる。ただし、ガラスの熱膨張係数を低く抑えるため、構成例ＥＡ及びＥＣにおいては、１５％以下とするのが好ましく、１０％以下とするのがより好ましく、構成例ＥＢにおいては、５％以下とするのが好ましく、３％以下とするのがより好ましい。
　また、これらアルカリ土類金属酸化物の合計含有量（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）は、熱膨張係数を低く抑え、失透特性を良好なものとし、強度を維持するために、構成例ＥＡにおいては、好ましくは１０％～３０％、より好ましくは１３％～２７％であり、構成例ＥＢにおいては、好ましくは１％～１５％、より好ましくは３％～１０％であり、構成例ＥＣにおいては、好ましくは５％～３０％、より好ましくは１０％～２０％である。
　本実施形態の導光板５として用いられるガラスのガラス組成においては、ガラスの耐熱性及び表面硬度の向上のために、任意成分としてＺｒＯ２を、構成例ＥＡ、ＥＢ及びＥＣにおいて、１０％以下、好ましくは５％以下含有させてもよい。ＺｒＯ２の含有量を１０％以下とすることで、ガラスが失透しにくくなる。
　本実施形態の導光板５として用いられるガラスのガラス組成においては、ガラスの溶解性向上のため、Ｆｅ２Ｏ３を、構成例ＥＡ、ＥＢ及びＥＣにおいて、５ｐｐｍ～１００ｐｐｍ含有させてもよい。なお、Ｆｅ２Ｏ３量の好ましい範囲は上述のとおりである。
　また、本実施形態の導光板５として用いられるガラスは、清澄剤としてＳＯ３を含有してもよい。この場合、ＳＯ３含有量は、質量百分率表示で０％超、０．５％以下が好ましい。ＳＯ３含有量は、０．４％以下がより好ましく、０．３％以下がさらに好ましく、０．２５％以下であることがさらに好ましい。
　また、本実施形態の導光板５として用いられるガラスは、酸化剤及び清澄剤としてＳｂ２Ｏ３、ＳｎＯ２及びＡｓ２Ｏ３のうちの一つ以上を含有してもよい。この場合、Ｓｂ２Ｏ３、ＳｎＯ２またはＡｓ２Ｏ３のうち一つ以上の含有量は、質量百分率表示で０％～０．５％が好ましい。Ｓｂ２Ｏ３、ＳｎＯ２またはＡｓ２Ｏ３のうち一つ以上の含有量は、０．２％以下がより好ましく、０．１％以下がさらに好ましく、実質的に含有しないことがさらに好ましい。
　ただし、Ｓｂ２Ｏ３、ＳｎＯ２及びＡｓ２Ｏ３は、ガラスの酸化剤として作用するため、ガラスのＦｅ２＋の量を調節する目的により上記範囲内で添加してもよい。ただし、環境面からはＡｓ２Ｏ３を実質的に含有しないことが好ましい。
　また、本実施形態の導光板５として用いられるガラスは、ＮｉＯを含有してもよい。ＮｉＯを含有する場合、ＮｉＯは、着色成分としても機能するので、ＮｉＯの含有量は、上記したガラス組成の合量に対し、１０ｐｐｍ以下とするのが好ましい。特に、ＮｉＯは、波長４００ｎｍ～７００ｎｍにおけるガラス板の内部透過率を低下させないという観点から、１．０ｐｐｍ以下とするのが好ましく、０．５ｐｐｍ以下とすることがより好ましい。
　本実施形態の導光板５として用いられるガラスは、Ｃｒ２Ｏ３を含有してもよい。Ｃｒ２Ｏ３を含有する場合、Ｃｒ２Ｏ３は、着色成分としても機能するので、Ｃｒ２Ｏ３の含有量は、上記したガラス組成の合量に対し、１０ｐｐｍ以下とするのが好ましい。特に、Ｃｒ２Ｏ３は、波長４００ｎｍ～７００ｎｍにおけるガラス板の内部透過率を低下させないという観点から、１．０ｐｐｍ以下とするのが好ましく、０．５ｐｐｍ以下とすることがより好ましい。
　本実施形態の導光板５として用いられるガラスは、ＭｎＯ２を含有してもよい。ＭｎＯ２を含有する場合、ＭｎＯ２は、可視光を吸収する成分としても機能するので、ＭｎＯ２の含有量は、上記したガラス組成の合量に対し、５０ｐｐｍ以下とするのが好ましい。特に、ＭｎＯ２は、波長４００ｎｍ～７００ｎｍにおけるガラス板の内部透過率を低下させないという観点から、１０ｐｐｍ以下とするのが好ましい。
　本実施形態の導光板５として用いられるガラスは、ＴｉＯ２を含んでいてもよい。ＴｉＯ２を含有する場合、ＴｉＯ２は、可視光を吸収する成分としても機能するので、ＴｉＯ２の含有量は、上記したガラス組成の合量に対し、１０００ｐｐｍ以下とするのが好ましい。ＴｉＯ２は、波長４００ｎｍ～７００ｎｍにおけるガラス板の内部透過率を低下させないという観点から、含有量を５００ｐｐｍ以下とすることがより好ましく、１００ｐｐｍ以下とすることが特に好ましい。
　本実施形態の導光板５として用いられるガラスは、ＣｅＯ２を含んでいてもよい。ＣｅＯ２には鉄のレドックスを下げる効果があり、全鉄量に対するＦｅ２＋量の比率を小さくすることができる。一方で、鉄のレドックスを３％未満に下がることを抑制するためにも、ＣｅＯ２の含有量は、上記したガラス組成の合量に対し、１０００ｐｐｍ以下とするのが好ましい。また、ＣｅＯ２の含有量は、５００ｐｐｍ以下とするのがより好ましく、４００ｐｐｍ以下とするのがさらに好ましく、３００ｐｐｍ以下とするのが特に好ましく、２５０ｐｐｍ以下とするのが最も好ましい。
　本実施形態の導光板５として用いられるガラスは、ＣｏＯ、Ｖ２Ｏ５及びＣｕＯからなる群より選ばれる少なくとも１種の成分を含んでいてもよい。これらの成分を含有する場合、可視光を吸収する成分としても機能するので、前記成分の含有量は、上記したガラス組成の合量に対し、１０ｐｐｍ以下とするのが好ましい。特に、これら成分は、波長４００ｎｍ～７００ｎｍにおけるガラス板の内部透過率を低下させないように、実質的に含有しないことが好ましい。
　しかしながら、導光板５として用いるガラスはこれらに限定されるものではない。
　この導光板５は、図１に加えて図２～図４に示すように、光出射面５１（第１面）、光反射面５２（第２面）、入光面５３（第１端面）、非入光面５４～５６（第２端面）、入光側面取り面５７（第１面取り面）、及び非入光側面取り面５８（第２面取り面）を有している。
　光出射面５１は、液晶パネル２と対向する面である。本実施形態では、光出射面５１は平面視した状態（光出射面５１を上から見た状態）で矩形状を有する。しかしながら、光出射面５１の形状は矩形状に限定されるものではない。
　この光出射面５１の大きさは、液晶パネル２に対応して決定されるため、特に限定されるものではないが、例えば、３００ｍｍ×３００ｍｍ以上のサイズが好適であり、５００ｍｍ×５００ｍｍ以上のサイズがより好適である。導光板５は高い剛性を有するため、サイズが大きいほどその効果を発揮する。
　光反射面５２は、光出射面５１と対向する面である。光反射面５２は、光出射面５１に対して平行となるよう形成されている。また光反射面５２の形状及びサイズは、光出射面５１と同一となるよう形成されている。
　しかしながら、光反射面５２は光出射面５１に対して必ずしも平行である必要はなく、段差や傾斜を設けた構成を有してもよい。また光反射面５２のサイズも、光出射面５１と異なるサイズとしてもよい。
　光反射面５２には、図２に示すように、反射ドット１０Ａ～１０Ｃが形成されている。この反射ドット１０Ａ～１０Ｃは、例えば白色インクをドット状に印刷したものである。入光面５３から入射した光の輝度は強く、導光板５内で反射して進むことにより輝度が低下する。
　このため、本実施形態では、入光面５３から光の進行方向に向けて（図１及び図２における右方向に向けて）、反射ドット１０Ａ～１０Ｃの大きさを異ならせている。具体的には、入光面５３に近い領域における反射ドット１０Ａの直径（ＬＡ）は小さく設定されており、この入光面５３に近い領域より光の進行方向に向かうに従い反射ドット１０Ｂの直径（ＬＢ）及び反射ドット１０Ｃの直径の半径（ＬＣ）が大きくなるよう設定されている（ＬＡ＜ＬＢ＜ＬＣ）。
　このように、各反射ドット１０Ａの大きさを導光板５内の光の進行方向に向けて変化させることにより、光出射面５１から出射する出射光の輝度を均一化でき、輝度ムラの発生を抑制することができる。なお、各反射ドット１０Ａの大きさの代わりに、各反射ドット１０Ａの数密度を導光板５内の光の進行方向に向けて変化させることによっても、同等の効果を得ることができる。また、反射ドット１０Ａの代わりに入射した光を反射するような溝を光反射面５２に形成することによっても、同等の効果を得ることができる。
　本実施形態では、光出射面５１と光反射面５２との間に４つの端面が形成される。４つの端面の内、第１端面である入光面５３は、前記した光源４から光が入光される面である。第２～第４端面である非入光面５４～５６は、光源４から光が入光されない面である。
　入光面５３は、導光板５を形成するガラスの製造時に鏡面加工されていることが好ましい。具体的には、入光面５３の表面の算術平均粗さ（中心線平均粗さ）Ｒａが０．１０μｍ未満であることが好ましく、より好ましくは０．０３μｍ未満であり、さらに好ましくは０．０１μｍ以下であり、特に好ましくは０．００５μｍ以下である。よって、光源４から導光板５内に入光される光の入光効率が高められている。入光面５３の厚さ（図４に矢印Ｗで示す）は、面状発光装置３が搭載される液晶表示装置１から要求される厚さに設定されている。
　なお、以下の説明において、表面粗さＲａと記載した場合、ＪＩＳ　Ｂ　０６０１～ＪＩＳ　Ｂ　００３１による算術平均粗さ（中心線平均粗さ）を指すものとする。
　光出射面５１と入光面５３との間、及び光反射面５２と入光面５３との間には、入光側面取り面５７が形成されている。
　本実施形態では、光出射面５１と入光面５３との間と、光反射面５２と入光面５３との間の双方に入光側面取り面５７を形成した例を示しているが、いずれか一方にのみ入光側面取り面５７を形成する構成としてもよい。
　本実施形態のように小型化及び薄型化が要求されている面状発光装置３では、導光板５の厚さも薄くすることが望ましい。このため、本実施形態に係る導光板５の厚さは１０ｍｍ以下である。しかしながら、導光板５に入光側面取り面５７を設けず角部を有する構成とした場合、導光板５を面状発光装置３の組み立てる際等において角部が他の構成物と接触して損傷する場合があり、このような場合には導光板５の強度が低下しうる。このため、本実施形態に係る導光板５は、厚さが０．５ｍｍ以上であり、更に入光面５３の上縁及び下縁に入光側面取り面５７を形成している。
　導光板５の厚さは、０．７ｍｍ以上がより好ましく、１．０ｍｍ以上がさらに好ましく、１．５ｍｍ以上が一層好ましい。導光板５の厚さが０．７ｍｍ以上であることで、十分な剛性を得ることができる。また、導光板５の厚さはより好ましくは３．０ｍｍ以下であり、これにより面発光照明装置の薄型化に寄与することができる。
　光源４から導光板５内への光の入光効率を高めるためには、入光面５３の面積を広くする必要がある。このため、入光側面取り面５７は小さい方が望ましく、このため本実施形態では入光側面取り面５７として面取り加工がなされている。
　入光側面取り面５７（面取り面）の幅寸法をＸ（ｍｍ）とすると、図４に示すように、この幅寸法Ｘの面取り面長手方向（以下、単に長手方向という）における平均値Ｘａｖｅは０．１ｍｍである。Ｘａｖｅは０．１ｍｍ～０．５ｍｍであることが好ましい。Ｘａｖｅが０．５ｍｍ以下であれば入光面５３の幅寸法を大きくすることができる。Ｘａｖｅが０．１ｍｍ以上であれば、後述するＸの誤差を小さくすることができる。
　入光側面取り面５７の幅寸法Ｘには、実際には長手方向において面取り加工時の加工ムラに起因する誤差が生じる。図４では、入光側面取り面５７の幅寸法Ｘの誤差は、０．０５ｍｍ以下である。このように、入光側面取り面５７の幅寸法Ｘの長手方向における平均値がＸａｖｅ（ｍｍ）である場合に、Ｘの長手方向における誤差はＸａｖｅの５０％以内であることが好ましい。すなわち、Ｘは、０．５Ｘａｖｅ≦Ｘ≦１．５Ｘａｖｅを満たすことが好ましい。Ｘの長手方向における誤差は、より好ましくはＸａｖｅの４０％以内であり、更に好ましくはＸａｖｅの３０％以内であり、特に好ましくはＸａｖｅの２０％以内である。これにより、長手方向における、入光側面取り面５７の幅寸法及び入光面５３の幅寸法の誤差が小さくなるため、導光板５で発生する輝度ムラを小さくすることができる。
　また、入光側面取り面５７の表面粗さＲａは、０．４μｍ以下である。なお、入光側面取り面５７の表面粗さＲａを０．４μｍ以下とした理由については、説明の便宜上、後述するものとする。入光側面取り面５７の表面粗さＲａは０．１μｍ以下であることが好ましく、０．０５μｍ以下であることがより好ましく、０．０３μｍ未満であることがさらに好ましい。
　また、本実施形態では、図３に示されるように、光出射面５１と非入光面５４との間、光反射面５２と非入光面５４との間、光出射面５１と非入光面５５との間、光反射面５２と非入光面５５との間、光出射面５１と非入光面５６との間、光反射面５２と非入光面５６との間の全てに非入光側面取り面５８を形成している。しかしながら、必ずしも上記の全てに非入光側面取り面５８を形成する必要はなく、選択的に非入光側面取り面５８を形成する構成としてもよい。
　非入光側面取り面５８の幅寸法をＹ（ｍｍ）とすると、図４に示すように、この幅寸法Ｙの長手方向における平均値ＹａｖｅはＹａｖｅ=０．１（ｍｍ）～０．６（ｍｍ）である。Ｙａｖｅが０．６ｍｍ以下であれば非入光面５４～５６の幅寸法を大きくすることができる。Ｙａｖｅが０．１ｍｍ以上であれば、後述するＹの誤差を小さくすることができる。
　非入光側面取り面５８の幅寸法Ｙには、長手方向において面取り加工時の加工ムラに起因する誤差が生じる。Ｙの長手方向における平均値がＹａｖｅ（ｍｍ）である場合に、Ｙの長手方向における誤差はＹａｖｅの５０％以内であることが好ましい。すなわち、Ｙは、０．５Ｙａｖｅ≦Ｙ≦１．５Ｙａｖｅを満たすことが好ましい。Ｙの長手方向における誤差は、より好ましくはＹａｖｅの４０％以内であり、更に好ましくはＹａｖｅの３０％以内であり、特に好ましくはＹａｖｅの２０％以内である。これにより、入射光の反射する非入光面５４～５６の、長手方向における幅寸法の誤差が小さくなるため、導光板５で発生する輝度ムラを小さくすることができる。
　また非入光側面取り面５８の表面粗さＲａは、入光側面取り面５７の表面粗さＲａよりも大きくすることができる。その場合、入光側面取り面５７の表面粗さＲａ好ましくは０．４μｍ以上である。また、非入光側面取り面５８の表面粗さＲａは、好ましくは１．０μｍ以下である。
　非入光側面取り面５８が形成される非入光面５４～５６は、光源４からの光は入光されないため、非入光面５４～５６の表面を高精度に加工する必要はない。このため、非入光側面取り面５８の表面粗さＲａは、入光側面取り面５７の場合よりも大きく設定されることにより、非入光側面取り面５８の加工は入光側面取り面５７に比べて容易となり、生産性が向上する。更に、非入光側面取り面５８の表面粗さＲａが０．４μｍ以上１．０μｍ以下であることで、反射シート６が非入光側面取り面５８に接着される場合に両者間の接着性が良好となる。なお、生産性を考慮しなければ、非入光側面取り面５８の表面粗さＲａは０．４μｍ未満であることが、クラック防止の観点から好ましい。
　また、非入光面５４～５６の表面粗さＲａは、１．５μｍ以下である。非入光面５４～５６の表面粗さＲａは好ましくは１．０μｍ以下であり、より好ましくは０．８μｍ以下である。
　また、本実施形態では、非入光面５４～５６に対して研磨処理は行われていない。このため、非入光面５４～５６の表面粗さＲａは、いずれも入光面５３の表面粗さＲａよりも大きく設定されており、非入光面５４～５６の表面粗さＲａは好ましくは０．０３μｍ以上であり、より好ましくは０．１μｍ以上である。これにより、非入光面５４～５６の加工は入光面５３に比べて容易もしくは加工が不要となり、生産性が向上する。しかしながら、非入光面５４～５６に対して研磨処理が行われてもよい。
　次に、導光板５となるガラスの製造方法について説明する。
　図５～図７は、導光板５の製造方法を説明するための図である。図５は、導光板５の製造方法を示す工程図である。
　導光板５を製造するには、まずガラス素材１２を用意する。このガラス素材１２は、前記したように有効光路長が５ｃｍ～２００ｃｍであり、厚さが０．５ｍｍ～１０ｍｍであり、有効光路長での可視光域の平均内部透過率が８０％以上であり、かつ、ＪＩＳ　Ｚ８７０１（附属書）でのＸＹＺ表色系における三刺激値のＹ値が９０％以上である。このガラス素材１２は、導光板５の既定形状よりも大きい形状を有する。
　ガラス素材１２には、まず図５にステップＳ１０で示す切断工程が実施される。切断工程では、切削装置を用いて図６に破線で示す各位置（１箇所の入光面側位置と３箇所の非入光面側位置）で切断加工処理が行われる。なお、切断加工処理は必ずしも３箇所の非入光面側位置に対して行われなくてもよく、１箇所の入光面側位置と対向する１箇所の非入光面側位置のみを切断加工してもよい。
　切断加工処理を行うことにより、ガラス素材１２からガラス基材１４が切断される。なお、本実施形態では導光板５が平面視で矩形状を有するため、１箇所の入光面側位置と３箇所の非入光面側位置に対して切断加工処理を行った。しかしながら切断位置は、導光板５の形状に応じて適宜選定されるものである。
　切断加工処理が終了すると、第１面取り工程（ステップＳ１２）が実施される。第１面取り工程では、研削装置を用いて光出射面５１と非入光面５６との間、及び光反射面５２と非入光面５６との間の双方に非入光側面取り面５８を形成する。
　なお、光出射面５１と非入光面５４との間、光反射面５２と非入光面５４との間、光出射面５１と非入光面５５との間、及び光反射面５２と非入光面５５との間の全て、或いはいずれか一箇所に非入光側面取り面５８を形成する場合には、この第１面取り工程において面取り加工処理を行う。
　また、この第１面取り工程において、光出射面５１と入光面５３との間、又は光反射面５２と入光面５３との間を面取り加工してもよい。その場合、得られる面取り面の表面粗さＲａは、後述する第２面取り工程において得られる入光側面取り面５７の表面粗さＲａよりも大きいことが、生産性の観点から好ましい。
　また、本実施形態では、第１面取り工程において、非入光面５４～５６に対して研削処理又は研磨処理を行う。非入光面５４～５６に対する研削処理又は研磨処理を行うのは、前述の非入光側面取り面５８を形成する前でも後でもよく、同時に行うこととしてもよい。なお、非入光面５４，５５については、切断加工処理を行った面をそのまま非入光面５４，５５として使用してもよい。
　第１面取り工程（ステップＳ１２）は後述する鏡面加工工程（ステップＳ１４）及び第２面取り工程（ステップＳ１６）と同時、もしくはそれらの後に行うこともできるが、それらより前に行うことが好ましい。これにより、導光板５の形状に応じた加工をステップＳ１２で比較的速いレートで行うことができるため、生産性が向上するとともに、ステップＳ１２で発生する比較的大きなカレットが、入光面５３や入光側面取り面５７を傷つけにくくなる。
　第１面取り工程（ステップＳ１２）が終了すると、次に鏡面加工工程が（ステップＳ１４）で実施される。この鏡面加工工程では、図７に示すようにガラス基材１４の入光面側に対して鏡面加工され入光面５３が形成される。前記のように、入光面５３は光源４から光が入光される面である。よって、入光面５３は、表面粗さＲａが０．０３μｍ未満となるよう鏡面加工される。
　鏡面加工工程（ステップＳ１４）でガラス基材１４に入光面５３が形成されると、続いて第２面取り工程（ステップＳ１６）を実施することにより、光出射面５１と入光面５３との間、及び光反射面５２と入光面５３との間を研削処理又は研磨処理することにより、入光側面取り面５７（面取り面）を形成する。なお、ステップＳ１６はステップＳ１４よりも前に行うこともでき、ステップＳ１４と同時に行うこともできる。
　第２面取り工程では、入光側面取り面５７の幅寸法Ｘの長手方向における平均値をＸａｖｅとすると、Ｘの長手方向における誤差がＸａｖｅの５０％以内となるように、また表面粗さＲａが０．４μｍ以下となるように加工される。
　この入光側面取り面５７を形成する際、研削処理又は研磨処理を行う工具としては砥石を用いてもよく、また砥石の他に、布、皮、ゴム等からなるバフやブラシ等を用いてもよく、その際、酸化セリウム、アルミナ、カーボランダム、コロイダルシリカ等の研磨剤を用いてもよい。
　以上のステップＳ１０～Ｓ１６に示す各工程を実施することにより、導光板５は製造される。なお、前記した反射ドット１０Ａ～１０Ｃは、導光板５が製造された後に光反射面５２に対して印刷される。
　ところで、上記した導光板５の製造時に実施される切断加工、面取り加工、鏡面加工等の各工程では、ガラス素材１２及びガラス基材１４からガラス屑（カレット）が発生する。切断工程及び第１面取り工程は、鏡面加工工程及び第２面取り工程に比べて精度が低い加工であるため、発生するカレットは比較的大きく、よって導光板５に付着しにくい。
　これに対して鏡面加工工程及び第２面取り工程は精度の高い加工であるため、発生するカレットは切断工程及び第１面取り工程で発生するカレットに比べて小さい。このため、鏡面加工工程及び第２面取り工程で発生するカレットは、導光板５に付着しやすい。
　更に、鏡面加工工程及び第２面取り工程は入光面５３及び入光側面取り面５７に対する加工であるため、鏡面加工工程及び第２面取り工程で発生するカレットは入光面５３及び入光側面取り面５７の近傍に付着しやすい。
　入光面５３及び入光側面取り面５７の近傍位置には、図２に示すように直径ＬＡが小さい反射ドット１０Ａが形成される。即ち、反射ドット１０Ａが形成される領域は、導光板５のガラスが露出した面積が広い領域である。
　更に、カレットは前記のようにガラス屑であるため、光を反射する性質を有している。
　よって、光源４から入光される光の反射量は、反射ドット１０Ｂ，１０Ｃが形成される領域にカレットが付着した場合に比べ、この反射ドット１０Ａが形成される領域にカレットが付着した場合は大きく変化する（反射量が多くなる）。このため、特に反射ドット１０Ａが形成される領域にカレットが付着した場合、導光板５で発生する輝度ムラは大きくなる。
　この反射ドット１０Ａが形成される領域における輝度ムラの発生を抑制するには、入光面５３及び入光側面取り面５７の加工時に発生するカレットの発生量を抑制する必要がある。面取り加工である入光側面取り面５７の加工は、鏡面加工される入光面５３の加工に比べて発生するカレットの量は多い。
　そこで、本発明者らは、入光側面取り面５７の加工において発生するカレット量を測定する実験を行った。また、この実験では、入光側面取り面５７の加工精度を変化させた場合、拡散シート７の表面粗さＲａが変化するため、入光側面取り面５７の表面粗さＲａと発生するカレット量との相関関係を調べた。
　入光側面取り面５７の面取り加工時に発生するカレットは、次のような方法で定量した。図９は、発生するカレットの定量方法を示す工程図である。
　入光側面取り面５７の面取り加工時に発生するカレットを定量するには、純水を入れたビーカを用意し、この純水内に面取り加工を実施した導光板５の入光側面取り面５７及びその近傍を浸漬させる（ステップＳ３０）。
　面取り加工を実施することにより、入光側面取り面５７及びその近傍にはカレットが付着している。よって、入光側面取り面５７等に付着したカレットも、純水内に浸漬された状態となる。
　次に、ビーカを超音波振動させることにより、導光板５の入光側面取り面５７に対して超音波洗浄を行う（ステップＳ３２）。この超音波洗浄を行うことにより、入光側面取り面５７及びその近傍に付着していたカレットは、ビーカの底に落下して溜まる（このカレットが落下した純水を「カレット水」とも言う）。
　次に、ステップＳ３２で作成したカレット水を、予め重量測定を行っているフィルターでろ過する（ステップＳ３４）。これにより、カレットはフィルターに採取される。カレットが採取されたフィルターは、乾燥機を用いて乾燥処理が行われる（ステップＳ３６）。
　次に、フィルターが十分に乾燥した後、このフィルターの重量測定を行う（ステップＳ３８）。そして、ステップＳ３８で測定された重量から、予め測定されていたフィルターの重量を減算することにより、入光側面取り面５７の面取り加工時に発生したカレットの発生量を得ることができる（ステップＳ４０）。
　図８は、入光側面取り面５７の表面粗さＲａと、カレット発生量（１ｍｍ２当たりに発生するカレットの質量）の関係を示している。同図より、入光側面取り面５７の表面粗さＲａが０．３μｍより大きい範囲では、カレット発生量が表面粗さＲａと相関していることが分かる。
　なお、本実験では入光側面取り面５７のみならず入光面５３も純水内に浸漬されるが、これによるカレット発生量と表面粗さＲａの相関関係への影響は無視できる。これは、本実施形態における入光面５３の表面粗さＲａは０．０３μｍ未満であり、図８より入光面５３において発生するカレット量は微小であるためである。
　一方、本発明者らは、入光側面取り面５７にカレットが付着した場合、輝度ムラが発生するカレット発生量を求める演算を行った。
　カレットの直径が１００μｍ以上であると、導光板５の発光特性（輝度ムラ等）に影響を及ぼす。また、前記のように、導光板５の光学特性に影響を及ぼすカレットの付着位置は、小径（ＬＡ）の反射ドット１０Ａが形成される領域である。この反射ドット１０Ａが形成される領域の面積は、導光板５の全面積の略１０％の広さである。
　更に、面状発光装置３では、導光板５に３％を超える輝度ムラが発生した場合、液晶表示装置１の表示品質が大きく劣化する。よって、小径の反射ドット１０Ａが形成される領域に発生する輝度ムラは、３％以下にすることが好ましい。
　以上の条件に基づき、輝度ムラの影響が生じないカレットの発生量を演算する。
　ガラス素材１２の比重を２．５［ｇ／ｃｍ３］とすると、直径１００μｍのカレットの質量Ｗは、Ｗ＝１．３１×１０－３［μｇ］となる。
　また、導光板５のサイズを、入光面Ｌ（ｍｍ）×非入光面Ｈ（ｍｍ）、入光側面取り面５７の幅の長手方向における平均値をＸａｖｅ（ｍｍ）とすると、入光側面取り面５７の面積Ｓａは下式（１）により求められる。
　　Ｓａ=√２×２×Ｌ×Ｘａｖｅ［ｍｍ２］・・・（１）
　更に、反射ドット１０Ａが形成された領域（カレットが付着した場合に輝度ムラに影響を及ぼす領域）の面積は、導光板５の全面積の略１０％の広さである。この反射ドット１０Ａが形成された領域の面積Ｓｂ［ｍｍ２］は下式（２）により求められる。
　　Ｓｂ=０．１×Ｌ×Ｈ［ｍｍ２］・・・（２）
　ここで、カレット発生量をｃ［μｇ／ｍｍ２］とすると、入光側面取り面５７から生じる直径１００μｍのカレットの発生個数は、ｃ×Ｓａ／Ｗ［個］である。
　反射ドット１０Ａが形成される領域に、上記のように発生したカレットが全て付着すると仮定すると、輝度ムラが３％以下になるためには、反射ドット１０Ａが形成される領域に付着するカレットが示す面積の割合を３％以下にする必要がある。即ち、下式（３）を満足させる必要がある。
　　｛（ｃ×Ｓａ／Ｗ×５０２×π）／Ｓｂ｝≦０．０３・・・（３）
　入光側面取り面５７の幅は式（１）よりＳａに比例するため、入光面５３の面積を十分に大きくするためにも、Ｓｂ／Ｓａ≧１００を満たすことが好ましい。従って、上記の式（３）及びＳｂ／Ｓａ≧１００を常に満たすためには、カレット発生量ｃは下式（４）を満足させることが好ましい。
　ｃ≦１００×０．０３×Ｗ／（５０２×π）・・・（４）
　上記の式（４）を満たすカレット発生量ｃは０．５［μｇ／ｍｍ２］以下となる。
　ここで、図８を参照すると、カレット発生量が０．５［μｇ／ｍｍ２］以下となるのは、入光側面取り面５７の表面粗さＲａが０．４μｍ以下となる場合である。よって、入光側面取り面５７の表面粗さＲａを０．４μｍ以下とすることにより、輝度ムラの発生がない導光板５を実現できることが立証された。
　なお、入光側面取り面５７の幅寸法Ｘが大きいほど、カレット発生量も増加する。そのような場合にもカレット発生量を０．５［μｇ／ｍｍ２］以下とするためにも、入光側面取り面５７の表面粗さＲａは好ましくは０．３μｍ以下であり、より好ましくは０．１μｍ以下であり、更に好ましくは０．０３μｍ以下である。
　以上、本発明の好ましい実施形態について詳述したが、本発明は上記した特定の実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形及び変更が可能なものである。
　本出願は、２０１４年１０月２８日に日本国特許庁に出願された特願２０１４－２１９６７１及び２０１４年１１月１４日に日本国特許庁に出願された特願２０１４－２３１１４１に基づくものであり、その出願を優先権主張するものであり、その出願の全ての内容を参照することにより包含するものである。
１　液晶表示装置
２　液晶パネル
３　面状発光装置
４　光源
５　導光板（ガラス）
６　反射シート
７　拡散シート
８　リフレクタ
１０Ａ～１０Ｃ　反射ドット
１２　ガラス素材
１４　ガラス基材
５１　光出射面（第１面）
５２　光反射面（第２面）
５３　入光面（第１端面）
５４，５５，５６　非入光面（第２端面）
５７　入光側面取り面（第１面取り面）
５８　非入光側面取り面（第２面取り面）

Claims (10)

  1. 　互いに対向する第１面および第２面、ならびに前記第１面と前記第２面の間に設けられる少なくとも一つの第１端面とを有するガラスであって、
    　前記第１面又は前記第２面と前記第１端面とを接続する少なくとも一つの第１面取り面を有し、
    　前記第１面取り面の表面粗さＲａが０．４μｍ以下であるガラス。
  2. 　前記第１面取り面の幅の長手方向における平均値をＸａｖｅ（ｍｍ）とするとき、
    　前記第１面取り面の幅Ｘの長手方向における誤差がＸａｖｅ（ｍｍ）の５０％以下である請求項１に記載のガラス。
  3. 　前記第１面と前記第２面の間に、前記第１端面とは異なる少なくとも一つの第２端面を有し、
    　前記第１面又は前記第２面と前記第２端面とを接続する少なくとも一つの第２面取り面を有し、
    　前記第２面取り面の表面粗さＲａが前記第１面取り面の表面粗さＲａよりも大きく、１．５μｍ以下である請求項１又は２に記載のガラス。
  4. 　前記第２面取り面の幅の長手方向における平均値をＹａｖｅ（ｍｍ）とするとき、
    　前記第２面取り面の幅Ｙの長手方向における誤差がＹａｖｅ（ｍｍ）の５０％以下である請求項３に記載のガラス。
  5. 　前記第２端面の表面粗さＲａが１．５μｍ以下である請求項３又は４に記載のガラス。
  6. 　前記第１面は矩形状であり、
    　前記第１面と前記第２面の間に設けられ、前記第１端面とは異なる少なくとも３つの前記第２端面とを有し、
    　前記第１面又は前記第２面と前記第２端面とを接続する少なくとも３つの前記第２面取り面を有し、
    　前記第２面取り面の表面粗さＲａがいずれも前記第１面取り面の表面粗さＲａよりも大きく、１．５μｍ以下である請求項３～５のいずか一項に記載のガラス。
  7. 　前記第１面取り面におけるカレット発生量が０．５［μｇ／ｍｍ２］以下である請求項１～６のいずれか一項に記載のガラス。
  8. 　有効光路長が５ｃｍ～２００ｃｍであり、有効光路長での可視光域の平均内部透過率が８０％以上である請求項１～７のいずれか一項に記載のガラス。
  9. 　光路長５０ｍｍの条件下での、波長４００ｎｍ～７００ｎｍにおける平均内部透過率が９０％以上である請求項１～８のいずれか一項に記載のガラス。
  10. 　互いに対向する第１面および第２面、ならびに前記第１面と前記第２面の間に設けられる少なくとも一つの第１端面及び少なくとも一つの第２端面とを有するガラス基材を準備する工程と、
    　前記ガラス基材の前記第２端面を面取り加工する第１面取り工程と、
    　前記ガラス基材の前記第１端面を鏡面加工する鏡面加工工程と、
    　前記鏡面加工工程に供された前記ガラス基材の前記第１端面を面取り加工することにより、前記第１面又は前記第２面と前記第１端面とを接続する少なくとも一つの第１面取り面を形成し、前記第１面取り面の表面粗さＲａを０．４μｍ以下とせしめる第２面取り工程と、
    　を備えるガラスの製造方法。
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