WO2007015393A1

WO2007015393A1 - カラーフィルタの製造方法及びカラーフィルタ並びに液晶表示装置

Info

Publication number: WO2007015393A1
Application number: PCT/JP2006/314664
Authority: WO
Inventors: Tomohiro Kodama
Original assignee: Fujifilm Corporation
Priority date: 2005-08-02
Filing date: 2006-07-25
Publication date: 2007-02-08
Also published as: JP2007041239A; CN101238398A; TW200710449A; KR20080044846A

Abstract

　本発明は、フォトマスクを用いず、好適な感光性組成物を用い、ブラック画像の線幅ばらつきを極めて少なく、高精細に形成でき、低コスト、かつ表示特性に優れたカラーフィルタの製造方法、及び該製造方法により製造される表示特性に優れたカラーフィルタ、並びに該カラーフィルタを用いた液晶表示装置を提供する。　このため、感光性組成物からなり、基材の表面に位置する感光層に対し、前記感光層を露光する露光工程を含み、前記感光性組成物が、バインダー、重合性化合物、着色剤、及び光重合開始剤を含んでなり、前記着色剤に含まれる顔料の平均粒径が、大きくとも１００ｎｍであり、かつ該顔料の前記感光性組成物の固形分中の含有量が、少なくとも３０質量％であるカラーフィルタの製造方法を提供する。

Description

明細書

カラーフィルタの製造方法及びカラーフィルタ並びに液晶表示装置技術分野

[0001] 本発明は、携帯端末、携帯ゲーム機、ノートパソコン、テレビモニター等の液晶表示装置 (LCD)用、 PALC (プラズマアドレス液晶）、プラズマディスプレイなどに好適なカラーフィルタの製造方法、及び該製造方法により製造されたカラーフィルタ並びに該カラーフィルタを用いた液晶表示装置に関する。

背景技術

[0002] カラーフィルタは、液晶ディスプレイ（以下、「LCD」、「液晶表示装置」と称することもある）に不可欠な構成部品である。この液晶ディスプレイは非常にコンパクトであり、性能面でもこれまでの CRTディスプレイと同等以上であり、 CRTディスプレイ力置き換わりつつある。

液晶ディスプレイのカラー画像の形成は、カラーフィルタを通過した光がそのまま力ラーフィルタを構成する各画素の色に着色されて、それらの色の光が合成されてカラ一画像を形成する。そして、現在は RGBの三色の画素でカラー画像を形成している

[0003] 近年では、液晶ディスプレイ (LCD)の大画面化及び高精細化の技術開発が進み、その用途はノートパソコン用ディスプレイ力デスクトップパソコン用モニター、更にはテレビモニター（以下、「TV」と称することもある）まで拡大されてきている。このような背景の下で、 LCDにはコストダウンと表示特性向上が強く要求されるようになってきている。

このコストダウンの方向としては、単に材料のコストダウンにとどまらず、工程の簡素化が進行中であり、特に、露光のためのフォトマスクをなくすことが検討されている。一方、表示特性向上の方向としては、 1インチあたりの画素数を増やしていく高精細化などが検討されている。

特に、 RGBの三色の各画素間を規定するように形成されるブラックマトリクスは、みかけの画素幅を規定しているため、該ブラックマトリクスの線幅のばらつきは、その周期性によって、モアレや、周期ムラなどの表示ムラとなりやすい。このため、ブラックマトリタスを形成するブラック画像の微細パターンを高精細に形成可能な方法が求められている。

[0004] このようなカラーフィルタの形成方法としては、一般に、感光性組成物を露光、現像することにより微細パターンを形成する、フォトリソグラフィ一法が知られてヽる。

前記フォトリソグラフィ一法を行う露光装置として、フォトマスクを用いることなぐ半導体レーザ、ガスレーザ等のレーザ光を、画素パターン等のデジタルデータに基づいて、感光性組成物上に直接スキャンして、パターユングを行うレーザダイレクトイメージングシステム（以下、「LDI」と称することがある）による露光装置が研究されて、る ( 例えば、非特許文献 1参照)。

[0005] し力しながら、前記 LDIによる露光装置を用いた露光においては、露光ヘッドから照射される光ビーム力レンズ系の要因で光軸の中心部に比べて周辺部の光強度が低下してしまう問題や、レンズの像面湾曲、非点隔差、歪曲等により結像させた像が歪んでしまうという問題がある。また、前記露光ヘッドの取付位置や取付角度のずれゃ、前記感光性組成物の感度や解像度などの光学特性等によって、パターン歪みによる露光量のばらつきや、解像度のばらつきや濃度のむら等が生じ、これを多重露光により軽減すると、露光回数を増やすことにより露光スピードの低下をもたらすとともに、画質の低下等の問題が発生し、露光性能低下の原因となるという問題もある

[0006] このため、フォトマスクを用いることなぐ特にブラック画像の線幅ばらつきを極めて少なぐ好適な感光性組成物を用い、高精細に形成可能なカラーフィルタの製造方法、及び該カラーフィルタの製造方法により製造される表示特性に優れたカラーフィルタ、並びに該カラーフィルタを用いた液晶表示装置カラーフィルタの形成方法は未だ提供されておらず、更なる改良開発が望まれているのが現状である。

[0007] 非特許文献 1 :石川明人"マスクレス露光による開発短縮と量産適用化"、「エレクロト -クス実装技術」、株式会社技術調査会、 Vol.18, No.6、 2002年、 p.74-79 発明の開示

発明が解決しょうとする課題 [0008] 本発明は、力かる現状に鑑みてなされたものであり、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、フォトマスクを用いることなく、好適な感光性組成物を用い、画像の線幅ばらつき（エッジラフネス）を極めて少なぐ高精細に形成可能であり、低コスト、かつ表示特性に優れ、携帯端末、携帯ゲーム機、ノートパソコン、テレビモニター等の液晶表示装置 (LCD)用、 PALC (プラズマアドレス液晶）、プラズマディスプレイなどに好適に用いられるカラーフィルタの製造方法、及び該カラーフィルタの製造方法により製造される表示特性に優れたカラーフィルタ、並びに該カラーフィルタを用いた液晶表示装置を提供することを目的とする。

課題を解決するための手段

[0009] 前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、

< 1 > 感光性組成物力なり基材の表面に位置する感光層に対して、光照射手段及び光変調手段を少なくとも備えた露光ヘッドと、前記感光層の少なくともいずれかを移動させつつ、前記光照射手段から出射された光を前記光変調手段によりバターン情報に応じて変調しながら前記露光ヘッドから照射して、前記感光層を露光する露光工程を含み、前記感光性組成物が、バインダー、重合性化合物、着色剤、及び光重合開始剤を含んでなり、前記着色剤に含まれる顔料の数平均粒径が、大きくとも lOOnmであり、かつ該顔料の前記感光性組成物の固形分中の含有量力少なくとも 30質量％であることを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。

該< 1 >に記載のカラーフィルタの製造方法においては、前記着色剤に含まれる顔料の平均粒径力大きくとも lOOnmであり、かつ該顔料の前記感光性組成物の固形分中の含有量が、少なくとも 30質量％である前記感光性組成物を用いて感光層を形成し、露光工程が、前記光照射手段及び前記光変調手段を少なくとも備えた露光ヘッドと、前記感光層との少なくともいずれかを移動させつつ、前記感光層に対して、前記光照射手段から出射した光を前記光変調手段によりパターン情報に応じて変調しながら前記露光ヘッドから照射して、前記感光層を露光することにより行われるため、フォトマスクを用いることなぐ前記感光層の被露光面上に前記パターン情報に基づく像が形成される。例えば、その後、前記感光層を現像することにより、高精細なパターンが形成される。

< 2> 光変調手段が、光照射手段からの光を受光し出射する n個（ただし、 nは 2 以上の自然数)の 2次元状に配列された描素部を有し、前記描素部をパターン情報に基づ!/、て制御可能である前記く 1 >に記載のカラーフィルタの製造方法である。

< 3 >光変調手段が、空間光変調素子である前記 < 1 >から < 2 >に記載のカラ一フィルタの製造方法である。

<4> 空間光変調素子が、デジタル 'マイクロミラー'デバイス (DMD)である前記 < 3 >に記載のカラーフィルタの製造方法である。

< 5 > 空間光変調素子が、ミラー階調型空間変調素子である前記 < 3 >に記載のカラーフィルタの製造方法である。

< 6 > 光変調手段が、光多面鏡 (ポリゴンミラー）である前記 < 1 >から < 2>に記載に記載のカラーフィルタの製造方法である。

[0010] < 7> 光照射手段が、半導体レーザ素子から生ずるレーザ光を出射するレーザ光源である前記 < 1 >から < 6 >のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。

< 8 > 光照射手段が、光を一端から入射し、入射した前記光を他端から出射する光ファイバを複数本束ねてなるバンドル状のファイバ光源である前記 < 1 >からく 7 >の、ずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。

< 9 > 光ファイバが、 2以上の光を入射し、合波して出射する前記く 8 >に記載のカラーフィルタの製造方法である。

< 10> 光照射手段が、複数のレーザと、マルチモード光ファイバと、該複数のレ一ザ力それぞれ照射されたレーザビームを集光して前記マルチモード光ファイバに結合させるレンズ系とを有する前記 < 1 >から < 9 >のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。

[0011] < 11 > 露光ヘッドが、光照射手段からの光を集光して光変調手段に照射する集光レンズ系と、前記光変調手段により変調された光による像を感光層の被露光面上に結像する結像レンズ系とを備える前記 < 1 >からく 10>のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。 < 12> 結像レンズ系力マイクロレンズがアレイ状に配されてなるマイクロレンズアレイを含む前記く 11 >に記載のカラーフィルタの製造方法である。

< 13 > 結像レンズ系力マイクロレンズの集光位置近傍に、該マイクロレンズを経た光のみが入射するように配列されたアパーチャが配置されてなるアパーチャアレイを含む前記く 11 >からく 12 >のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。

[0012] < 14> 集光レンズ系により光照射手段から光変調手段に照射される光の照射領域内における光量に分布を持たせ、前記光変調手段により変調された光の感光層の被露光面における光量分布が均一になるように補正する前記 < 1 >から < 13 >のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。

< 15 > 集光レンズ系が、光照射手段から出射された光を、主光線の角度に分布を有する光ビームとして光変調手段に照射する前記 < 14 >に記載のカラーフィルタの製造方法である。

< 16 > 光照射手段から出射された光を、集光レンズ系によりテレセントリック光として、光変調手段に照射する前記く 14 >に記載のカラーフィルタの製造方法である

< 17> 集光レンズ系力光軸中心力も離れるに従いレンズパワーが小さくなるような非球面形状を持つ第 1の光学レンズと、光軸中心から離れるに従いレンズパワーが大きくなるような非球面形状を持つ第 2の光学レンズとを有する前記く 16 >に記載のカラーフィルタの製造方法である。

< 18 > 集光レンズ系により、光照射手段から光変調手段に照射される光の照射領域の中心部の光量よりも周辺部の光量を増加させる前記 < 14>力ら< 17>のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。

[0013] < 19 > 露光が、光変調手段により変調された光の光路長を変更し、感光層の被露光面に結像する露光光の焦点を調節する焦点調節手段を用いて行われる前記 < 1 >から < 18 >の!、ずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。

< 20> 結像レンズ系の中央部を含む略矩形状の領域のみにおいて、光変調手段により変調された光を結像する前記 < 19 >に記載のカラーフィルタの製造方法である。

<21> 略矩形状の長辺の長さが、短辺の長さの 2倍以上である前記く 21 >に記載のカラーフィルタの製造方法である。

<22> 焦点調節手段が、光変調手段により変調された光の光軸方向の厚さが変化するように形成されたくさび型プリズムペアを有し、該くさび型プリズムペアを構成する各くさび型プリズムを移動することによって、前記変調された光を感光層の被露光面上に結像する際の焦点を調節する前記 <19>から <21>の、ずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。

<23> 焦点調節手段が、光学系とピエゾ素子とを有し、前記光学系の間隔を、前記ピエゾ素子により調節することによって、光変調手段により変調された光を感光層の被露光面上に結像する際の焦点を調節する前記く 19>からく 22>のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。

<24> 結像レンズ系力レンズの光軸を中心に回転可能であり、前記光軸に対して垂直方向に移動可能なレンズ力なる前記く 19 >力 < 23 >の!、ずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。

<25> 略矩形形状の短辺方向を、感光層のうねり方向に向けて露光する前記 < 19>力らく 24>の!、ずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。

<26> マイクロレンズアレイの各マイクロレンズ力描素部の面の歪みによる収差を補正する非球面を有する前記く 12 >に記載のカラーフィルタの製造方法である。

<27> 非球面がトーリック面である前記く 26 >に記載のカラーフィルタの製造方法である。

<28> マイクロレンズアレイの各マイクロレンズ力前記画素部の面の歪みによる収差を補正する屈折率分布を有する前記 < 12 >に記載のカラーフィルタの製造方法である。

<29> マイクロレンズアレイの各マイクロレンズ力前記画素部の周辺部からの光を入射させないレンズ開口形状を有する前記く 12 >に記載のカラーフィルタの製造方法である。

<30> マイクロレンズアレイの各マイクロレンズ力描素部の面の歪みによる収差を補正する非球面を有する前記く 29 >に記載のカラーフィルタの製造方法である。く 31 > 非球面がトーリック面である前記く 30 >に記載のカラーフィルタの製造方法である。

< 32> マイクロレンズアレイの各マイクロレンズ力前記画素部の面の歪みによる収差を補正する屈折率分布を有する前記 < 29 >に記載のカラーフィルタの製造方法である。

< 33 > マイクロレンズが円形のレンズ開口形状を有する前記く 29 >力ら< 32 > のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。

< 34> マイクロレンズの開口形状力そのレンズ面の一部に遮光部を設けることによって規定されて、る前記く 29 >からく 33 >の!、ずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。

< 35 > 走査方向に対し描素部の列方向が所定の設定傾斜角度 Θをなすように配置されてなる露光ヘッドを用い、

前記露光ヘッドについて、使用描素部指定手段により、使用可能な前記描素部のうち、 N重露光 (ただし、 Nは 2以上の自然数）に使用する前記描素部を指定し、前記露光ヘッドについて、使用描素部制御手段により、前記使用描素部指定手段により指定された前記描素部のみが露光に関与するように、前記描素部の制御し、前記感光層に対し、前記露光ヘッドを走査方向に相対的に移動させて露光を行う前記く 1 >からく 34 >のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。

< 36 > 露光が複数の露光ヘッドにより行われ、使用描素部指定手段が、複数の前記露光ヘッドにより形成される被露光面上の重複露光領域であるヘッド間つなぎ領域の露光に関与する描素部のうち、前記ヘッド間つなぎ領域における N重露光を実現するために使用する前記描素部を指定する前記 < 35 >に記載のカラーフィルタの製造方法である。

< 37> 露光が複数の露光ヘッドにより行われ、使用描素部指定手段が、複数の前記露光ヘッドにより形成される被露光面上の重複露光領域であるヘッド間つなぎ領域以外の露光に関与する描素部のうち、前記ヘッド間つなぎ領域以外の領域における N重露光を実現するために使用する前記描素部を指定する前記 < 35 >から < 36 >の、ずれか記載のカラーフィルタの製造方法である。

< 38 > 設定傾斜角度 Θ力 N重露光数の N、描素部の列方向の個数 s、前記描素部の列方向の間隔 P、及び露光ヘッドを傾斜させた状態にぉ、て該露光ヘッドの走査方向と直交する方向に沿った描素部の列方向のピッチ δに対し、次式、 spsin Θ ≥Ν δを満たす Θ に対し、 θ≥ Θ の関係を満たすように設定される前記 < 3 ideal ideal ideal

5 >から < 37>のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。

< 39 > N重露光の N力 3以上の自然数である前記 < 35 >からく 38 >のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。

<40> 使用描素部指定手段が、

描素部により生成され、被露光面上の露光領域を構成する描素単位としての光点位置を、被露光面上において検出する光点位置検出手段と、

前記光点位置検出手段による検出結果に基づき、 N重露光を実現するために使用する描素部を選択する描素部選択手段と

を備える前記 < 35 >からく 39 >のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。

<41 > 使用描素部指定手段が、 N重露光を実現するために使用する使用描素部を、行単位で指定する前記く 35 >からく 40>のいずれかに記載のパターン形成方法である。

<42> 光点位置検出手段が、検出した少なくとも 2つの光点位置に基づき、露光ヘッドを傾斜させた状態における被露光面上の光点の列方向と前記露光ヘッドの走查方向とがなす実傾斜角度 Θ 'を特定し、

描素部選択手段が、前記実傾斜角度 Θ 'と設定傾斜角度 Θとの誤差を吸収するように使用描素部を選択する前記く 40>からく 41 >のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。

<43 > 実傾斜角度 Θ 'が、露光ヘッドを傾斜させた状態における被露光面上の光点の列方向と前記露光ヘッドの走査方向とがなす複数の実傾斜角度の平均値、中央値、最大値、及び最小値のいずれかである前記 < 42 >に記載のカラーフィルタの製造方法である。 <44> 描素部選択手段が、実傾斜角度 θ Ίこ基づき、 ttan 0 ' =Ν (ただし、 Νは Ν重露光数の Νを表す)の関係を満たす tに近、自然数 Tを導出し、 m行 (ただし、 m は 2以上の自然数を表す)配列された描素部における 1行目から前記 T行目の前記描素部を、使用描素部として選択する前記 < 40 >力ら< 43 >の、ずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。

<45 > 描素部選択手段が、実傾斜角度 θ Ίこ基づき、 ttan 0 ' =Ν (ただし、 Νは Ν重露光数の Νを表す)の関係を満たす tに近、自然数 Tを導出し、 m行 (ただし、 m は 2以上の自然数を表す)配列された描素部における、 (T+ 1)行目力 m行目の前記描素部を、不使用描素部として特定し、該不使用描素部を除いた前記描素部を、使用描素部として選択する前記く 40 >からく 43 >の、ずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。

<46 > 描素部選択手段が、複数の描素部列により形成される被露光面上の重複露光領域を少なくとも含む領域において、

(1)理想的な N重露光に対し、露光過多となる領域、及び露光不足となる領域の合計面積が最小となるように、使用描素部を選択する手段、

(2)理想的な N重露光に対し、露光過多となる領域の描素単位数と、露光不足となる領域の描素単位数とが等しくなるように、使用描素部を選択する手段、

(3)理想的な N重露光に対し、露光過多となる領域の面積が最小となり、かつ、露光不足となる領域が生じないように、使用描素部を選択する手段、及び

(4)理想的な N重露光に対し、露光不足となる領域の面積が最小となり、かつ、露光過多となる領域が生じな、ように、使用描素部を選択する手段

の！、ずれかである前記 < 40 >力らく 45 >の!、ずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。

<47> 描素部選択手段が、複数の露光ヘッドにより形成される被露光面上の重複露光領域であるヘッド間つなぎ領域において、

(1)理想的な N重露光に対し、露光過多となる領域、及び露光不足となる領域の合計面積が最小となるように、前記ヘッド間つなぎ領域の露光に関与する描素部から、不使用描素部を特定し、該不使用描素部を除いた前記描素部を、使用描素部として選択する手段、

(2)理想的な N重露光に対し、露光過多となる領域の描素単位数と、露光不足となる領域の描素単位数とが等しくなるように、前記ヘッド間つなぎ領域の露光に関与する描素部から、不使用描素部を特定し、該不使用描素部を除いた前記描素部を、使用描素部として選択する手段、

(3)理想的な N重露光に対し、露光過多となる領域の面積が最小となり、かつ、露光不足となる領域が生じないように、前記ヘッド間つなぎ領域の露光に関与する描素部から、不使用描素部を特定し、該不使用描素部を除いた前記描素部を、使用描素部として選択する手段、及び、

(4)理想的な N重露光に対し、露光不足となる領域の面積が最小となり、かつ、露光過多となる領域が生じないように、前記ヘッド間つなぎ領域の露光に関与する描素部から、不使用描素部を特定し、該不使用描素部を除いた前記描素部を、使用描素部として選択する手段、

<48 > 使用描素部指定手段において使用描素部を指定するために、使用可能な前記描素部のうち、 N重露光の Nに対し、（N— 1)列毎の描素部列を構成する前記描素部、及び 1ZN行毎の描素部行を構成する前記描素部のヽずれかのみを使用して参照露光を行う前記 < 35 >からく 47>のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。

<49 > 使用描素部指定手段が、光点位置検出手段としてスリット及び光検出器、並びに描素部選択手段として前記光検出器と接続された演算装置を有する前記 < 35 >力らく 48 >の!、ずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。

[0016] < 50> 光変調手段が、形成するパターン情報に基づいて制御信号を生成するパターン信号生成手段を更に有してなり、光照射手段から照射される光を該パターン信号生成手段が生成した制御信号に応じて変調させる前記 < 1 >力く 49 >の V、ずれかに記載のパターン形成方法である。

[0017] < 51 > 感光層の被露光面に対する描画画素の配置と、パターン情報に係る描画パターンとの関係で生じるジャギーのジャギーピッチ又はジャギー振幅が所定値以下となるよう、

隣接する前記描素部により描画される前記描画画素間の配列ピッチ (A)、複数の前記描画画素力なる二次元状の描画画素群の走査方向に対する傾斜角度 (B)、

前記走査方向に対する前記描画画素の描画ピッチ (C)、及び

前記走査方向と略直交する方向に隣接して描画される前記描画画素の前記走査方向に対する描画位置の位相差 (D)の少なくともヽずれかを設定し、

前記パターン情報に従!、、前記各描素部を所定のタイミングで変調制御することを特徴とする前記 < 1 >からく 50 >のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。

< 52> 傾斜角度 (B)を、露光ヘッドの全体又は一部を回転させて変更することを特徴とする前記く 51 >に記載のカラーフィルタの製造方法である。

く 53 > 配列ピッチ (A)及び描画ピッチ (C)の少なくとも、ずれかを、前記描画面に描画される前記描画画素群の描画倍率を調整することで変更する前記 < 51 >に記載のカラーフィルタの製造方法である。

く 54 > 描画ピッチ (C)を、描素部による感光層の被露光面への描画タイミングを調整することにより変更する前記 < 51 >に記載のカラーフィルタの製造方法である。

< 55 > 描画ピッチ (C)を、感光層の被露光面に対する露光ヘッドの相対移動速度を調整することにより変更する前記 < 51 >に記載のカラーフィルタの製造方法である。

< 56 > 位相差 (D)を、隣接する前記描素部の変調制御のタイミングを調整することにより変更する前記く 51 >に記載のカラーフィルタの製造方法である。

< 57> ジャギーピッチの前記所定値が、感光層の被露光面での前記描画画素のドット径以下に設定される前記 < 51 >に記載のカラーフィルタの製造方法である。

< 58 > 複数の描素部群を有し、前記各描素部群にお!、て、配列ピッチ (A)、傾斜角度 (B)、描画ピッチ (C)、及び位相差 (D)を、個別に設定する前記く 51 >に記載のカラーフィルタの製造方法である。 < 59 > 複数の描素部群を有し、前記各描素部群で生じるジャギーピッチ又はジャギー振幅の平均値が所定値以下となるよう、配列ピッチ (A)、傾斜角度 (B)、描画ピッチ（C)、及び位相差 (D)の少なくともヽずれかを設定する前記く 51 >に記載のカラーフィルタの製造方法である。

< 60> 描画パターンに応じて、配列ピッチ (A)、傾斜角度 (B)、描画ピッチ（C)、及び位相差 (D)の少なくともいずれかを設定する前記く 51 >に記載のカラーフィルタの製造方法である。

< 61 > 描画パターンの走査方向に対する傾斜角度に応じて、配列ピッチ (A)、傾斜角度 (B)、描画ピッチ (C)、及び位相差 (D)の少なくともいずれかを設定する前記く 51 >に記載のカラーフィルタの製造方法である。

< 62> 走査方向と直交し、又は、略直交する方向の描画パターンにより生じる前記ジャギーピッチ又は前記ジャギー振幅が所定値以下となるよう、配列ピッチ (A)、傾斜角度 (B)、描画ピッチ (C)、及び位相差 (D)の少なくともいずれかを設定する前記く 51 >に記載のカラーフィルタの製造方法である。

< 63 > 少なくともオンオフ制御可能な二次元配列の制御点を感光層の被露光面上に設定し、

前記制御点と、前記感光層の被露光面上とを相対走査するとともに、前記制御点を制御して描画を行う描画方法であって、

前記制御点の略走査方向に沿った点列のピッチ (E)、

前記点列の並び方向（F)、

前記制御点の前記走査方向に対するピッチ (G)、及び

前記走査方向と略直交する方向に隣接する前記制御点の前記走査方向に対する位相差 (H)の少なくともいずれかと、描画する描画パターンにより生じるジャギーの形状との相関関係を求め、

前記相関関係に基づいて、前記点列のピッチ (E)、前記点列の並び方向（F)、前記制御点の前記走査方向に対するピッチ (G)、及び前記位相差 (H)の少なくとも、ずれかを設定又は変更する前記 < 1 >からく 50 >のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。 < 64> ジャギーの形状が許容範囲内となる点列のピッチ (E)、点列の並び方向（ F)、制御点の走査方向に対するピッチ（G)、及び位相差 (H)の少なくとも、ずれかの条件を選択条件として規定する前記 < 63 >に記載のカラーフィルタの製造方法である。

< 65 > ジャギーの形状が許容範囲外となる点列のピッチ (E)、点列の並び方向（ F)、制御点の走査方向に対するピッチ（G)、及び位相差 (H)の少なくとも、ずれかの条件を禁止条件として規定する前記 < 63 >に記載のカラーフィルタの製造方法である。

< 66 > ジャギーの形状は、ジャギーピッチ及びジャギー振幅の少なくともいずれかにより規定する前記く 63 >に記載のカラーフィルタの製造方法である。

< 67> 描画パターンの方向に対応して相関関係を求めることを特徴とする前記く 63 >に記載のカラーフィルタの製造方法である。

く 68 > 所定の領域内に含まれる描画パターンの代表的な方向に対応して前記相関関係を求める前記く 63 >に記載のカラーフィルタの製造方法である。

< 69 > 所定の領域内に含まれ、露光ヘッドの走査方向と直交し、又は、略直交する方向の描画パターンの方向を代表的な方向とし、前記代表的な方向に対応して前記相関関係を求める前記く 63 >に記載のカラーフィルタの製造方法である。

< 70> 所定の領域内の描画パターン毎に相関関係を求める前記く 63 >に記載のカラーフィルタの製造方法である。

< 71 > 所定の領域内の描画パターン毎に、点列のピッチ (E)、点列の並び方向 (F)、制御点の走査方向に対するピッチ（G)、及び位相差 (H)の少なくとも、ずれかを設定又は変更する前記く 63 >に記載のカラーフィルタの製造方法である。

< 72> 相関関係を、点列のピッチ (E)、点列の並び方向（F)、制御点の走査方向に対するピッチ (G)、及び位相差 (H)の少なくとも、ずれ力から求めた計算値に基づ、て求める前記く 63 >に記載のカラーフィルタの製造方法である。

< 73 > 描画データに基づいて描画を行い、描画されたパターン力相関関係を計測して求める前記く 63 >に記載のカラーフィルタの製造方法である。

< 74> 少なくともオンオフ制御可能な二次元配列の制御点を感光層の被露光面上に設定し、

前記制御点と前記感光層の被露光面上とを相対走査するとともに前記制御点を制御して描画を行う描画方法であって、

前記制御点の配列状態と、描画する描画パターンにより生じるジャギーの形状との相関

関係を求め、前記相関関係に基づいて前記配列状態を設定又は変更する前記 < 1 >から < 50 >のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。

< 75 > 少なくともオンオフ制御可能な二次元配列の制御点を感光層の被露光面上に設定し、

描画する描画パターンにより生じるジャギーが低減されるよう、前記制御点の配列状態

を設定又は変更することを特徴とする前記 < 1 >からく 50 >のいずれかに記載の力ラーフィルタの製造方法である。

[0018] < 76 > 光変調手段により空間的可変強度を有する露光光を形成し、該露光光によりグレースケール化されたパターンを形成する前記 < 1 >から < 75 >の!、ずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。

< 77> 露光時間、及び露光光強度のいずれかを変調し、グレースケール化されたパターンを形成する前記く 1 >からく 75 >の!、ずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。

< 78 > パターン信号生成手段が生成した制御信号の速度が、光照射手段から照射されるパルス光のパルス繰り返し速度よりも大きい前記 < 1 >からく 77 >のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。

[0019] < 79 > 感光層が、感光性組成物を基材の表面に塗布し、乾燥することにより形成される前記 < 1 >から < 78 >の!、ずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。

< 80> 支持体上に少なくとも一層の感光性組成物層を設けた感光性フィルムを、感光層の表面と基材とが当接するように該基材上に積層し、次いで、支持体を剥離することにより形成される前記 < 1 >からく 78 >のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。

[0020] < 81 > 感光性組成物が、少なくとも、黒色 (K)に着色されている前記 < 1 >からく 80 >の、ずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。

< 82> 少なくとも、赤色 (R)、緑色 (G)、及び青色 (B)の 3原色に着色された感光性組成物を用いて、基材の表面に所定の配置で、 R、 G及び Bの各色毎に、順次、感光層形成工程、露光工程、及び現像工程を繰り返してカラーフィルタを形成する前記く 1 >からく 81 >のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。

< 83 > 赤色 (R)着色に少なくとも顔料 C. I.ビグメントレッド 254を、緑色 (G)着色に顔料 C. I.ビグメントグリーン 36及び顔料 C. I.ビグメントイエロー 139の少なくともいずれかの顔料を、並びに青色 (B)着色に少なくとも顔料 C. I.ビグメントブルー 1 5： 6を用いる前記く 82 >に記載のカラーフィルタの製造方法である。

< 84> 赤色 (R)着色に顔料 C. I.ビグメントレッド 254及び顔料 C. I.ビグメントレッド 177の少なくともいずれかの顔料を、緑色 (G)着色に顔料 C. I.ピグメントグリーン 36及び顔料 C. I.ビグメントイエロー 150の少なくともいずれかの顔料を、並びに、青色 (B)着色に顔料 C. I.ビグメントブルー 15 : 6及び顔料 C. I.ビグメントバイオレツト 23の少なくともいずれかの顔料を用いる前記く 82>に記載のカラーフィルタの製造方法である。

[0021] < 85 > 前記 < 1 >から < 84>のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法により製造されたことを特徴とするカラーフィルタである。

く 86 > 前記く 85 >に記載のカラーフィルタを用いたことを特徴とする液晶表示装置である。

発明の効果

[0022] 本発明によると、従来における問題を解決することができ、フォトマスクを用いることなぐ好適な感光性組成物を用い、画像の線幅ばらつき（エッジラフネス）を極めて少なぐ高精細に形成可能であり、低コスト、かつ表示特性に優れ、携帯端末、携帯ゲーム機、ノートパソコン、テレビモニター等の液晶表示装置 (LCD)用、 PALC (ブラズマアドレス液晶）、プラズマディスプレイなどに好適に用いられるカラーフィルタの製造方法、及び該カラーフィルタの製造方法により製造される表示特性に優れたカラーフィルタ、並びに該カラーフィルタを用いた液晶表示装置を提供することができる。また、本発明によると、現像後に観察されるムラ (塗布ムラ及び表示ムラ）が軽減できる図面の簡単な説明

[図 1]図 1は、露光装置の一例の外観を示す斜視図である。

[図 2]図 2は、露光装置のスキャナの構成の一例を示す斜視図である。

[図 3A]図 3Aは、感光層の被露光面上に形成される露光済み領域を示す平面図である。

[図 3B]図 3Bは各露光ヘッドによる露光エリアの配列を示す平面図である。

[図 4]図 4は、露光ヘッドの概略構成の一例を示す斜視図である。

[図 5A]図 5Aは、露光ヘッドの詳細な構成の一例を示す上面図である。

[図 5B]図 5Bは、露光ヘッドの詳細な構成の一例を示す側面図である。

[図 6]図 6は、図 1の露光装置の DMDの一例を示す部分拡大図である。

[図 7A]図 7Aは、 DMDの動作を説明するための斜視図である。

[図 7B]図 7Bは、 DMDの動作を説明するための斜視図である。

[図 8]図 8は、パターン情報に基づいて、 DMDの制御をするコントローラの一例である。

[図 9A]図 9Aは、 DMDを傾斜配置しない場合と傾斜配置する場合とで、露光ビームの配置及び走査線を比較して示した平面図の一例である。

[図 9B]図 9Bは、 DMDを傾斜配置しない場合と傾斜配置する場合とで、露光ビームの配置及び走査線を比較して示した平面図の一例である。

[図 10]図 10は、スキャナによる 1回の走査で感光層を露光する露光方式を説明するための平面図の一例である。

[図 11A]図 11Aは、スキャナによる複数回の走査で感光層を露光する露光方式を説明するための平面図の一例である。

[図 11B]図 11Bは、スキャナによる複数回の走査で感光層を露光する露光方式を説明するための平面図の一例である。

圆 12A]図 12Aは、従来の露光装置における焦点深度と本発明のパターン形成方法 (露光装置）による焦点深度との相違を示す光軸に沿った断面図の一例である。圆 12B]図 12Bは、従来の露光装置における焦点深度と本発明のパターン形成方法 (露光装置）による焦点深度との相違を示す光軸に沿った断面図の一例である。

[図 13]図 13は、光量補正方法に好適な露光ヘッドの概略構成図の一例である。

[図 14A]図 14Aは、 DMD上に照射されるレーザ光の主光線の傾きを模式的に示す模式図である。

[図 14B]図 14Bは、 DMD上に照射されるレーザ光の主光線角度の分布を示すダラフ図である。

[図 15]図 15は、図 14Bに示した DMD上に照射されるレーザ光の主光線角度の分布 (1)に対応する、主光線角度の分布を有するレーザ光を DMD上に照射したときの光量分布を示すグラフ図（2)、 DMD—マイクロレンズアレイ間の光透過特性を示すグラフ図（3)、前記グラフ図（3)のように調整したレーザ光で画像露光を行うことにより露光エリアでの光量分布が均一化されて補正された状態を示すグラフ図 (4)である。

[図 16A]図 16Aは、光量補正方法の第 2の実施形態に係る非球面レンズを有するテレセントリック光学系を示す構成図である。

[図 16B]図 16Bは、図 15Aのテレセントリック光学系のベースとなる球面レンズを有するテレセントリック光学系を示す構成図である。

圆 17]図 17は、焦点位置精度補正方法に好適な露光ヘッドを構成概略図である。

[図 18A]図 18Aは、投影レンズを示した平面図である。

[図 18B]図 18Bは、投影レンズを示した平面図である。

圆 19]図 19は、結像光学系を備える鏡筒の概略側面断面図と鏡筒の概略平面図である。

[図 20A]図 20Aは、 DMDを構成するマイクロミラーの使用領域を説明するための図である。

[図 20B]図 20Bは、 DMDを構成するマイクロミラーの使用領域を説明するための図である。 [図 21]図 21は、くさび型プリズムペアの構成を示す側面図である。

[図 22]図 22は、くさび型プリズムペアの概略斜視図である。

[図 23]図 23は、露光ヘッドを構成する光学要素を説明するための図である。

[図 24A]図 24Aは、ピエゾ素子を備えたマイクロレンズアレイの構成を示す図である。

[図 24B]図 24Bは、ピエゾ素子を備えたマイクロレンズアレイの構成を示す図である。

[図 25A]図 25Aは、ピエゾ素子を備えたマイクロレンズアレイの構成を示す図である。

[図 25B]図 25Bは、ピエゾ素子を備えたマイクロレンズアレイの構成を示す図である。

[図 26A]図 26Aは、感光材料と DMDの位置関係を概略的に示した斜視図と側面図である。

[図 26B]図 26Bは、感光材料と DMDの位置関係を概略的に示した斜視図と側面図である。

[図 27A]図 27Aは、結合光学系の異なる他の露光ヘッドの構成を示す光軸に沿った断面図の一例である。

[図 27B]図 27Bは、マイクロレンズアレイ等を使用しない場合に被露光面に投影される光像を示す平面図の一例である。

[図 27C]図 27Cは、マイクロレンズアレイ等を使用した場合に被露光面に投影される光像を示す平面図の一例である。

[図 28A]図 28Aは、マイクロレンズアレイを構成するマイクロレンズの正面図の一例である。

[図 28B]図 28Bは、マイクロレンズアレイを構成するマイクロレンズの側面図の一例である。

[図 29A]図 29Aは、マイクロレンズによる集光状態を 1つの断面内について示す概略図の一例である。

[図 29B]図 29Bは、マイクロレンズによる集光状態を別の断面内について示す概略図の一例である。

[図 30A]図 30Aは、 DMDの使用領域の例を示す図の一例である。

[図 30B]図 30Bは、 DMDの使用領域の例を示す図の一例である。

[図 31]図 31は、露光ヘッドの取付角度誤差及びパターン歪みがある際に、露光面上のパターンに生じるむらの例を示した説明図である。

[図 32]図 32は、 1つの DMDによる露光エリアと、対応するスリットとの位置関係を示した上面図である。

[図 33]図 33は、被露光面上の光点の位置を、スリットを用いて測定する手法を説明するための上面図である。

[図 34]図 34は、選択されたマイクロミラーのみが露光に使用された結果、露光面上のパターンに生じるむらが改善された状態を示す説明図である。

[図 35]図 35は、隣接する露光ヘッド間に相対位置のずれがある際に、露光面上のパターンに生じるむらの例を示した説明図である。

[図 36]図 36は、隣接する 2つの露光ヘッドによる露光エリアと、対応するスリットとの位置関係を示した上面図である。

[図 37]図 37は、露光面上の光点の位置を、スリットを用いて測定する手法を説明するための上面図である。

[図 38]図 38は、図 35の例において選択された使用画素のみが実動され、露光面上のパターンに生じるむらが改善された状態を示す説明図である。

[図 39]図 39は、隣接する露光ヘッド間に相対位置のずれ及び取付角度誤差がある際に、露光面上のパターンに生じるむらの例を示した説明図である。

[図 40]図 40は、図 39の例において選択された使用描素部のみを用いた露光を示す説明図である。

[図 41A]図 41Aは、倍率歪みの例を示した説明図である。

[図 41B]図 41Bは、ビーム径歪みの例を示した説明図である。

[図 42A]図 42Aは、単一露光ヘッドを用いた参照露光の第一の例を示した説明図である。

[図 42B]図 42Bは、単一露光ヘッドを用いた参照露光の第一の例を示した説明図である。

[図 43]図 43は、複数露光ヘッドを用いた参照露光の第一の例を示した説明図である [図 44A]図 44Aは、単一露光ヘッドを用いた参照露光の第二の例を示した説明図である。

[図 44B]図 44Bは、単一露光ヘッドを用いた参照露光の第二の例を示した説明図である。

[図 45]図 45は、複数露光ヘッドを用いた参照露光の第二の例を示した説明図である

[図 46]図 46は、ジャギー低減方法に好適な露光装置における露光ヘッドの概略構成図である。

[図 47]図 47は、露光装置における露光ヘッドと、露光ステージに位置決めされたシ一トフイルム (感光材料)との関係説明図である。

[図 48]図 48は、露光装置における露光ヘッドと、シートフィルム上の露光エリアとの関係説明図である。

[図 49]図 49は、ジャギー低減方法に好適な露光装置の制御回路ブロック図である。

[図 50]図 50は、露光装置における露光ヘッドに使用される DMDを構成するマイクロミラーの配列状態の説明図である。

[図 51]図 51は、露光装置における露光ヘッドにより形成される画像のパラメータの説明図である。

[図 52]図 52は、露光装置における露光ヘッドにより形成される画像のパラメータの説明図である。

[図 53]図 53は、露光装置における露光ヘッドにより形成される画像のパラメータの説明図である。

[図 54]図 54は、露光装置における露光ヘッドにより形成される画像のジャギーピッチ及びジャギー振幅の計算結果説明図である。

[図 55]図 55は、露光装置における露光ヘッドにより形成される画像のジャギーピッチ及びジャギー振幅の計算結果説明図である。

[図 56]図 56は、露光装置における露光ヘッドにより形成される画像のジャギーピッチ及びジャギー振幅の計算結果説明図である。

[図 57]図 57は、露光装置における露光ヘッドにより形成される画像のジャギーピッチ及びジャギー振幅の計算結果説明図である。 [図 58]図 58は、露光装置における露光ヘッドにより形成される画像のジャギーピッチ及びジャギー振幅の計算結果説明図である。

[図 59]図 59は、露光装置における露光ヘッドにより形成される画像のジャギーピッチ及びジャギー振幅の計算結果説明図である。

[図 60]図 60は、露光装置における露光ヘッドにより形成される画像のエッジラフネスの説明図である。

[図 61]図 61は、露光装置における露光ヘッドにより形成される被露光部のエッジラフネスの説明図である。

発明を実施するための最良の形態

[0024] (カラーフィルタの製造方法）

本発明のカラーフィルタの製造方法は、露光工程を少なくとも含んでなり、感光層形成工程と、現像工程と、更に必要に応じて適宜選択されたその他の工程を含んでなる。

本発明のカラーフィルタは、本発明の前記カラーフィルタの製造方法により製造される。

本発明の液晶表示装置は、本発明の前記カラーフィルタを用いてなり、更に必要に応じてその他の手段を有してなる。

以下、本発明のカラーフィルタの製造方法の説明を通じて、本発明のカラーフィルタ及び液晶表示装置の詳細につヽても明らかにする。

[0025] [感光層形成工程]

前記感光層形成工程は、バインダー、重合性化合物、着色剤、及び光重合開始剤を含む感光性組成物であって、前記着色剤に含まれる顔料の平均粒径が大きくとも lOOnmであり、かつ該顔料の前記感光性組成物の固形分中の含有量が少なくとも 3 0質量％である感光性組成物を用いて基材の表面に、少なくとも、感光層を形成する工程であり、更に適宜選択されたその他の層を形成する工程である。

[0026] 前記感光層、及びその他の層を形成する方法としては、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ、例えば、塗布により形成する方法、シート状の各層を加圧及び加熱の少なくともいずれかを行うことにより、ラミネートすることにより形成する方法、それらの併用などが挙げられる。

前記感光層形成工程としては、以下に示す第 1の態様の感光層形成工程及び第 2 の態様の感光層形成工程が好適に挙げられる。

[0027] 第 1の態様の感光層形成工程としては、前記感光性組成物を基材の表面に塗布し

、乾燥することにより、基材の表面に、少なくとも、感光層を形成し、更に、適宜選択されたその他の層を形成する工程が挙げられる。

[0028] 第 2の態様の感光層形成工程としては、前記感光性組成物をフィルム状に成形した感光性フィルム（以下、「感光性転写材料」と称することがある）を基材の表面にカロ熱及び加圧の少なくともいずれかの下において積層することにより、基材の表面に、少なくとも、感光層を形成し、更に、適宜選択されたその他の層を形成する工程が挙げられる。

[0029] 第 1の態様の感光層形成工程において、前記塗布及び乾燥の方法としては、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記基材の表面に、前記感光性組成物を、水又は溶剤に溶解、乳化又は分散させて感光性組成物溶液を調製し、該溶液を直接塗布し、乾燥させることにより積層する方法が挙げられる。

[0030] 前記感光性組成物溶液の溶剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。

[0031] 前記塗布の方法としては、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ、例えば、スピンコーター、スリットスピンコーター、ロールコーター、ダイ =1一ター、力一テンコーターなどを用いて、前記基材に直接塗布する方法が挙げられる。本発明においては、液が吐出する部分にスリット状の穴を有するスリット状ノズルを用いた塗布装置 (スリットコータ）によって行うことが好ましい。具体的には、特開 2004-8985 1号公報、特開 2004— 17043号公報、特開 2003— 170098号公報、特開 2003— 164787号公報、特開 2003— 10767号公報、特開 2002— 79163号公報、特開 2 001— 310147号公報等に記載のスリット状ノズル、及びスリットコータが好適に用いられる。

前記乾燥の条件としては、各成分、溶媒の種類、使用割合等によっても異なるが、通常 60〜 110°Cの温度で 30秒間〜 15分間程度である。 [0032] 前記感光層の光学特性としては、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ、例えば、吸光度、厚みなどにより表すことができる。

前記吸光度は、透過率の常用対数、即ち、吸光度 =— log (TZ 100)で表される。ただし、 Tは、試料に当てる光の強さを Xとし、試料を通過した後の光の強さを Yとしたとき、 T=XZYで表される。例えば、透過率 = 85. 3%とすると、吸光度 (abs) =—lo g (85. 3/100) =0. 069となる。

該吸光度は、黒画像用感光材料の場合には、記録するに際して、使用するレーザ光のピーク波長における前記感光層の吸光度を言い、黒以外の画像用感光材料の場合には、 350〜750nmにおいて透過率が最大となるピーク波長における前記感光層の吸光度を言い、例えば、公知の分光光度計を用いて測定を行うことができ、 ( 株）島津製作所製 UV—分光光度計 UV— 240などを用いることができる。また、前記吸光度は支持体込みのものから支持体単独の値を差し引いた値で表される。

前記感光層の厚みは、塗布された材料をエポキシ榭脂により包埋、その後クライオミクロトーム切削して断面を SEM観察などにより、読み取ることができる。

前記感光層は記録に用いるレーザ光の吸収波長、又は透過率が最大になるピーク波長における該感光層の吸光度を Aとし、該感光層の厚みを X( m)とすると、前記感光層の光学特性は、 AZXとして表すことができる。前記 AZXの値は、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ、例えば、黒画像用感光材料の場合に ίま、 2. 0〜5. 0力好ましく、 2. 4〜4. 6力より好ましく、 3. 0〜4. 4力特に好まし!/ヽ。また、黒以外の画像用感光材料の場合には、 1. 0〜2. 8力 S好ましく、 1. 3〜2. 5がより好ましぐ 1. 6〜2. 2が特に好ましい。前記 ΑΖΧが、 1. 0未満であると、画像表示に充分な濃度が得られないことがあり、 5. 0を超えると露光による膜硬化が不充分で現像性が得られないことがある。もちろん画像表示に光学濃度が必要ない場合は、 1. 0より/ J、さい値でもよい。

[0033] 第 1の態様の感光層形成工程において形成されるその他の層としては、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ、例えば、酸素遮断層、剥離層、接着層、光吸収層、表面保護層などが挙げられる。

前記その他の層の形成方法としては、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記感光層上に塗布する方法、シート状に形成されたその他の層を積層する方法などが挙げられる。

[0034] 前記第 2の態様の感光層形成工程において、基材の表面に感光層、及び必要に応じて適宜選択されるその他の層を形成する方法としては、前記基材の表面に支持体と該支持体上に感光性組成物が積層されてなる感光層と、必要に応じて適宜選択されるその他の層とを有する感光性フィルム (感光性転写材料)を加熱及び加圧の少なくともいずれかを行いながら積層する方法が挙げられ、支持体上に感光性組成物が積層されてなる感光性フィルムを、該感光性組成物が基材の表面側となるように積層し、次いで、支持体を感光性組成物上から剥離する方法が好適に挙げられる。前記支持体を剥離することにより、支持体による光の散乱や屈折の等影響により、感光性組成物層上に結像させる像にボケ像が生じることが防止され、所定のパターンが高解像度で得られる。

なお、前記感光性フィルムが、後述する保護フィルムを有する場合には、該保護フイルムを剥離し、前記基材に前記感光層が重なるようにして積層するのが好ましい。

[0035] 前記加熱温度は、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ、例えば、 70〜160°Cが好ましぐ 80〜110°Cがより好ましい。

前記加圧の圧力は、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ、例えば、、 0. 01〜： L OMPa力好ましく、 0. 05〜： L OMPa力 ^より好まし!/ヽ。

[0036] 前記加熱及び加圧の少なくともいずれかを行う装置としては、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ヒートプレス、ヒートロールラミネーター（例えば、（株）日立インダストリィズ製、 LamicII型）、真空ラミネーター（例えば、名機製作所製、 MVLP500)などが好適に挙げられる。

[0037] 前記支持体としては、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ、前記感光層を剥離可能であり、かつ光の透過性が良好であるのが好ましぐ更に表面の平滑性が良好であるのがより好ましい。

[0038] 前記支持体の厚みは、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ、例免ば、、 4〜300 μ m力 S好ましく、 5〜175 μ m力 Sより好ましく、 10〜： LOO μ m力 S特に好ましい。 [0039] 前記支持体の形状は、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ、長尺状が好ましい。前記長尺状の支持体の長さは、特に制限はなぐ例えば、 10〜20 , OOOmの長さのものが挙げられる。

[0040] 前記支持体は、合成樹脂製であり、かつ透明であるものが好ましぐ例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレン、ポリエチレン、三酢酸セルロース、二酢酸セルロース、ポリ（メタ）アクリル酸アルキルエステル、ポリ（メタ）アクリル酸エステル共重合体、ポリ塩化ビュル、ポリビュルアルコール、ポリカーボネート、ポリスチレン、セロファン、ポリ塩ィ匕ビユリデン共重合体、ポリアミド、ポリイミド、塩化ビュル'酢酸ビュル共重合体、ポリテトラフルォロエチレン、ポリトリフルォロェチレン、セルロース系フィルム、ナイロンフィルム等の各種のプラスチックフィルムが挙げられ、これらの中でも、ポリエチレンテレフタレートが特に好ましい。これらは、 1種単独で使用してもよぐ 2種以上を併用してもよい。

なお、前記支持体としては、例えば、特開平 4- 208940号公報、特開平 5— 8050 3号公報、特開平 5— 173320号公報、特開平 5— 72724号公報などに記載の支持体を用いることちできる。

[0041] 前記感光性フィルムにおける感光層の形成は、前記基材への前記感光性組成物溶液の塗布及び乾燥 (前記第 1の態様の感光層形成方法)と同様な方法で行うことができる。

[0042] 前記保護フィルムは、前記感光層の汚れや損傷を防止し、保護する機能を有するフィルムである。

前記保護フィルムの厚みは、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ、 ί列免ば、、 5〜： LOO μ m力 S好ましく、 8〜50 μ m力 Sより好ましく、 10〜40 μ m力 S特に好ましい。

[0043] 前記保護フィルムの前記感光性フィルムにおいて設けられる箇所は、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ、通常、前記感光層上に設けられる。

[0044] 前記保護フィルムを用いる場合、前記感光層及び前記支持体の接着力 Aと、前記感光層及び保護フィルムの接着力 Bとの関係は、接着力 A>接着力 Bであることが好適である。 [0045] 前記支持体と前記保護フィルムとの静摩擦係数は、 0. 3〜1. 4が好ましぐ 0. 5〜 1. 2がより好ましい。

前記静摩擦係数が、 0. 3未満であると、滑り過ぎるため、ロール状にした場合に卷ズレが発生することがあり、 1. 4を超えると、良好なロール状に巻くことが困難となることがある。

[0046] 前記保護フィルムとしては、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記支持体に使用されるもの、シリコーン紙、ポリエチレン、ポリプロピレン力 Sラミネートされた紙、ポリオレフイン又はポリテトラフルォロエチレンシート、などが挙げられ、これらの中でも、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルムなどが特に好ましいものとして挙げられる。

前記支持体と保護フィルムとの組合せ (支持体 Z保護フィルム）としては、例えば、特開 2005— 70767号公報の段落番号 0151に記載の組合せや、ポリエチレンテレフタレート Zポリエチレンテレフタレートなどが挙げられる。

[0047] 前記保護フィルムとしては、上述の接着力の関係を満たすために、前記保護フィルムと前記感光層との接着性を調製するために表面処理することが好ましぐ例えば、特開 2005— 70767号公報の段落番号 0151に記載の方法などが挙げられる。

[0048] 前記その他の層としては、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ、例えば、熱可塑性榭脂層、中間層、などが挙げられる。

[0049] 熱可塑性榭脂層

前記熱可塑性榭脂層（以下、「クッション層」と称することもある）は、アルカリ現像を可能とし、また、転写時にはみ出した該熱可塑性榭脂層により被転写体が汚染されるのを防止可能とする観点力アルカリ可溶性であることが好ましぐ前記感光性転写材料を被転写体上に転写させる際、該被転写体上に存在する凹凸に起因して発生する転写不良を効果的に防止するクッション材としての機能を有していることが好ましぐ該感光性転写材料を前記被転写体上に加熱密着させた際に該被転写体上に存在する凹凸に応じて変形可能であるのがより好ましい。

[0050] 前記熱可塑性榭脂層に用いる材料としては、例えば、特開平 5— 72724号公報に記載されている有機高分子物質が好ましぐヴィカー Vicat法 (具体的には、アメリカ材料試験法エーエステ一エムデ一 ASTMD1235によるポリマー軟ィ匕点測定法）による軟化点が約 80°C以下の有機高分子物質より選択されることが特に好ましい。具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフイン、エチレンと酢酸ビニノレ又はそのケン化物の様なエチレン共重合体、エチレンとアクリル酸エステル又はそのケン化物、ポリ塩化ビュル、塩ィ匕ビュルと酢酸ビニル又はそのケンィ匕物の様な塩ィ匕ビ -ル共重合体、ポリ塩ィ匕ビユリデン、塩化ビ-リデン共重合体、ポリスチレン、スチレンと (メタ)アクリル酸エステル又はそのケン化物の様なスチレン共重合体、ポリビニルトルエン、ビュルトルエンと（メタ）アクリル酸エステル又はそのケン化物の様なビュルトルェン共重合体、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビ- ル等の (メタ)アクリル酸エステル共重合体、酢酸ビュル共重合体ナイロン、共重合ナィロン、 N アルコキシメチル化ナイロン、 N ジメチルァミノ化ナイロンの様なポリアミド榭脂等の有機高分子などが挙げられる。

前記熱可塑性榭脂層の乾燥厚みは、 2〜30 mが好ましぐ 5〜20 mがより好ましく、 7〜16 /z m力特に好まし!/ヽ。

[0051] 中間層

前記中間層は、前記感光層上に設けられ、前記感光性転写材料が熱可塑性榭脂層を有する場合には該感光層と該熱可塑性榭脂層との間に設けられる。該感光層と該熱可塑性榭脂層との形成においては、有機溶剤を用いるため、該中間層がその間に位置すると、両層が互いに混ざり合うのを防止することができる。

[0052] 前記中間層としては、水又はアルカリ水溶液に分散乃至溶解するものが好ましい。

前記中間層の材料としては、公知のものを使用することができ、例えば、特開昭 46 - 2121号公報及び特公昭 56— 40824号公報に記載のポリビュルエーテル Z無水マレイン酸重合体、カルボキシアルキルセルロースの水溶性塩、水溶性セルロースェ一テル類、カルボキシアルキル澱粉の水溶性塩、ポリビュルアルコール、ポリビュルピロリドン、ポリアクリルアミド類、水溶性ポリアミド、ポリアクリル酸の水溶性塩、ゼラチン、エチレンオキサイド重合体、各種澱粉及びその類似物カゝらなる群の水溶性塩、スチレン Zマレイン酸の共重合体、マレイネート榭脂、などが挙げられる。

これらは、 1種単独で使用してもよぐ 2種以上を併用してもよい。これらの中でも親水性高分子を使用するのが好ましぐ該親水性高分子の中でも、少なくともポリビニルアルコールを使用するのが好ましぐポリビュルアルコールとポリビュルピロリドンとの併用が特に好ましい。

[0053] 前記ポリビニルアルコールとしては、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ、その酸ィ匕率は 80%以上が好ましい。

前記ポリビニルピロリドンを使用する場合、その含有量は、該中間層の固形分に対し、 1〜75質量％が好ましぐ 1〜60質量％がより好ましぐ 10〜50質量％が特に好ましい。

前記含有量が、 1〜75質量％であると、前記感光層との十分な密着性が得られやすぐかつ酸素遮断能も低下しにくい。

[0054] 前記中間層は、酸素透過率が小さいことが好ましい。前記中間層の酸素透過率が小さく酸素遮断能が高い場合には、前記感光層に対する露光時における光量をアツプする必要を生じず、露光時間が短ぐ高い解像度が得られやすい。

[0055] 前記中間層の厚みは、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ、 0.

1〜5 μ m程度であるのが好ましぐ 0. 5〜2 μ mがより好ましい。

前記厚みが、 0. 1〜5 /ζ πιであると、酸素透過性が高過ぎてしまうことがなぐかつ現像時や中間層除去時に長時間を要することもない。

[0056] 前記感光性フィルムの構造としては、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記支持体上に、熱可塑性榭脂層と、中間層と、感光層とを、この順に有してなる形態などが挙げられる。なお、前記感光層は、単層であってもよいし、複数層であってもよい。

[0057] 前記感光性フィルムは、例えば、円筒状の卷芯に巻き取って、長尺状でロール状に卷かれて保管されるのが好ま、。前記長尺状の感光性フィルムの長さとしては、特に制限はなぐ例えば、 10-20, OOOmの範囲力も適宜選択することができる。また、ユーザーが使いやすいようにスリット加工し、 100〜1, OOOmの範囲の長尺体をロール状にしてもよい。なお、この場合には、前記支持体が一番外側になるように卷き取られるのが好ましい。また、前記ロール状の感光性フィルムをシート状にスリットしてもよい。保管の際、端面の保護、エッジフュージョンを防止する観点から、端面にはセパレーターを設置するのが好ましぐまた梱包も透湿性の低い素材を用いるのが好ましい。前記セパレーターは、防湿性のもの、乾燥剤入りのものが特に好ましい。

[0058] 前記感光性フィルムは、プリント配線板、カラーフィルタや液晶配向制御用突起、スぺーサ一、隔壁などのディスプレイ用部材、ホログラム、マイクロマシン、プルーフなどのパターン形成用として広く用いることができ、これらの中でも、本発明のカラーフィルタの製造方法に好適に用いることができる。

[0059] なお、前記第 2の態様の感光層形成方法により形成された感光層を有する積層体への露光方法としては、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ、例えば、支持体上にクッション層を介して存在する感光層からなるフィルムの場合は、前記支持体、必要に応じてクッション層も剥離した後、前記酸素遮断層を介して前記感光層を露光することが好まし、。

[0060] <感光層>

前記感光層形成工程で形成される感光層（カラーレジスト層）としては、少なくともバインダー、着色剤、重合性化合物、及び光重合開始剤を含み、前記着色剤に含まれる顔料の数平均粒径が大きくとも lOOnmであり、かつ該顔料の前記感光性組成物の固形分中の含有量が少なくとも 30質量％であり、更に必要に応じて適宜選択されるその他の成分を含む感光性組成物を用いてなる。

[0061] < <バインダー > >

前記ノインダ一としては、例えば、アルカリ性水溶液に対して膨潤性であるのが好ましぐアルカリ性水溶液に対して可溶性であるのがより好ましい。

アルカリ性水溶液に対して膨潤性又は溶解性を示すバインダーとしては、例えば、酸性基を有するものが好適に挙げられる。

[0062] 前記酸性基としては、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ、例えば、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基などが挙げられ、これらの中でもカルボキシノレ基が好ましい。

カルボキシル基を有するバインダーとしては、例えば、カルボキシル基を有するビ- ル共重合体、ポリウレタン榭脂、ポリアミド酸榭脂、変性エポキシ榭脂などが挙げられ、これらの中でも、塗布溶媒への溶解性、アルカリ現像液への溶解性、合成適性、膜物性の調製の容易さ等の観点力カルボキシル基を有するビニル共重合体が好ましい。

[0063] 前記カルボキシル基を有するビニル共重合体は、少なくとも（ 1)カルボキシル基を有するビニルモノマー、及び（2)これらと共重合可能なモノマーとの共重合により得ることができる。これらのモノマーとしては、具体的には、例えば、特開 2005— 25843 1号公報の段落番号 0164〜0205に記載されている化合物などが挙げられる。

[0064] 前記感光層における前記バインダーの含有量は、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ、例えば、感光層の全固形分に対し、 5〜80質量％が好ましく、 10〜70質量％がより好ましぐ 15〜50質量％が特に好ましい。

前記含有量が、 5〜80質量％であると、アルカリ現像性や基板との密着性が低下することがなぐ現像時間に対する安定性や、硬化膜 (テント膜)の強度が低下することもない。なお、前記含有量は、前記バインダーと必要に応じて併用される高分子結合剤との合計の含有量であってもよ、。

[0065] 前記ノインダ一の酸価は、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ、 ί列; tは、、 70〜250mgKOH/g力 S好ましく、 90〜200mgKOH/g力り好ましく、 100〜180mgKOHZgが特に好ましい。

前記酸価が、 70mgKOHZg未満であると、現像性が不足したり、解像性が劣り、パターンを高精細に得ることができないことがあり、 250mgKOHZgを超えると、パタ一ンの耐現像液性及び密着性の少なくとも、ずれかが悪化し、ノターンを高精細に得ることができな!/、ことがある。

[0066] < <重合性化合物 > >

前記重合性化合物としては、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ、分子中に少なくとも 1個の付加重合可能な基を有し、沸点が常圧で 100°C以上である化合物が好ましぐ例えば、（メタ)アクリル基を有するモノマーから選択される少なくとも 1種が好適に挙げられる。

[0067] 前記 (メタ）アクリル基を有するモノマーとしては、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリエチレングリコールモノ (メタ)アタリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アタリレート、フエノキシェチル (メタ）アタリレート等の単官能アタリレートや単官能メタタリレート；ポリエチレングリコールジ (メタ)アタリレート、ポリプロピレングリコールジ (メタ）アタリレート、トリメチロールェタントリアタリレート、トリメチロールプロパントリアタリレート、トリメチロールプロパンジアタリレート、ネオペンチルグリコールジ (メタ）アタリレート、ペンタエリトリトールテトラ (メタ）アタリレート、ペンタエリトリトールトリ（メタ）アタリレート、ジペンタエリトリトールへキサ（メタ）アタリレート、ジペンタエリトリトールペンタ（メタ）アタリレート、へキサンジオールジ (メタ）アタリレート、トリメチロールプロパントリ（アタリロイルォキシプロピル）エーテル、トリ（アタリロイルォキシェチル)イソシァヌレート、トリ（アタリロイルォキシェチル）シァヌレート、グリセリントリ（メタ）アタリレート、トリメチロールプロパンやグリセリン、ビスフエノール等の多官能アルコールに、エチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加反応した後で (メタ）アタリレートイ匕したもの、特公昭 48— 41708号、特公昭 50— 6034号、特開昭 51— 37193号等の各公報に記載されているウレタンアタリレート類;特開昭 48— 64183 号、特公昭 49 43191号、特公昭 52— 30490号等の各公報に記載されているポリエステルアタリレート類；エポキシ榭脂と (メタ)アクリル酸の反応生成物であるェポキシアタリレート類等の多官能アタリレートやメタタリレートなどが挙げられる。これらの中でも、トリメチロールプロパントリ (メタ)アタリレート、ペンタエリトリトールテトラ (メタ)ァクリレート、ジペンタエリトリトールへキサ（メタ）アタリレート、ジペンタエリトリトールペンタ (メタ)アタリレートが特に好ましい。これらは、 1種単独で使用してもよいし、 2種以上を併用してもよい。

[0068] 前記重合性化合物の前記感光性組成物固形分中の固形分含有量は、 10〜60質量％が好ましぐ 15〜50質量％がより好ましぐ 20〜40質量％が特に好ましい。該固形分含有量が、 10〜60質量％であると、現像性の悪化、露光感度の低下などの問題を生じることがない。また、感光層の粘着性が強くなりすぎることもない。

前記重合性化合物と前記バインダーの比率は、質量比で、重合性化合物 Zバインダー =0. 5〜1. 5力 S好ましく、 0. 6〜1. 2力 Sより好ましく、 0. 65〜： L 1力 S特に好ましい。この範囲内であると、現像時に残渣が生じることがなぐ完成したカラーフィルタの耐性が低下することもない。

[0069] < <光重合開始剤 > > 前記光重合開始剤としては、前記重合性化合物の重合を開始する能力を有する限り、特に制限はなぐ公知の光重合開始剤の中から適宜選択することができ、例えば、紫外線領域から可視の光線に対して感光性を有するものが好ましぐ光励起された増感剤と何らかの作用を生じ、活性ラジカルを生成する活性剤であってもよぐモノマ一の種類に応じてカチオン重合を開始させるような開始剤であってもよい。

また、前記光重合開始剤は、波長約 300〜800nmの範囲内に少なくとも約 50の分子吸光係数を有する成分を少なくとも 1種含有して、ることが好ま、。前記波長 ίま 330〜500mn力より好まし!/ヽ。

[0070] 前記光重合開始剤としては、例えば、ハロゲンィ匕炭化水素誘導体 (例えば、トリアジン骨格を有するもの、ォキサジァゾール骨格を有するもの等）、ホスフィンオキサイド、へキサァリールビイミダゾール、ォキシム誘導体、有機過酸化物、チォ化合物、ケトン化合物、芳香族ォ -ゥム塩、ケトォキシムエーテルなどが挙げられる。前記ォキシム誘導体以外の光重合開始剤としては、具体的には、例えば、特開 2005— 258431 号公報の段落番号 0288〜0299及び段落番号 0305〜0308に記載されている化合物などが挙げられる。

[0071] 本発明で好適に用いられるォキシム誘導体としては、例えば、 3 べンゾイロキシィミノブタン 2 オン、 3 ァセトキシィミノブタン 2 オン、 3 プロピオニルォキシイミノブタン 2 オン、 2 ァセトキシィミノペンタン 3 オン、 2 ァセトキシィミノ —1—フエ-ルプロパン一 1—オン、 2—ベンゾイロキシィミノ一 1—フエ-ルプロパン — 1—オン、 3— (4—トルエンスルホ -ルォキシ）イミノブタン一 2—オン、及び 2 エトキシカルボ-ルォキシィミノ一 1—フエ-ルプロパン一 1—オンなどが挙げられる。

[0072] 前記光重合開始剤の含有量は、前記感光性組成物中の全固形成分に対し、 0. 1 〜50質量％が好ましぐ 0. 5〜30質量％がより好ましぐ 1〜20質量％が特に好ましい。

前記光重合開始剤の含有量は、前記重合性化合物との質量比で表すと、光重合開始剤 Z重合性ィ匕合物 =0. 01〜0. 2が好ましぐ 0. 02〜0. 1がより好ましぐ 0. 0 3〜0. 08が特に好ましい。この範囲内であると、現像残渣が生じたり、析出故障が生じるという問題がない。また、十分な感度が得られやすい。 [0073] また、後述する感光層への露光における露光感度や感光波長を調製する目的で、前記光重合開始剤に加えて、増感剤を添加することが可能である。

前記増感剤は、後述する光照射手段としての可視光線や紫外光'可視光レーザなどにより適宜選択することができる。

前記増感剤は、活性エネルギー線により励起状態となり、他の物質 (例えば、ラジカル発生剤、酸発生剤等）と相互作用（例えば、エネルギー移動、電子移動等)することにより、ラジカルや酸等の有用基を発生することが可能である。

[0074] 前記増感剤としては、特に制限はなぐ公知の増感剤の中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、特開 2005— 254831号公報の段落番号 0313〜031 4に記載されている化合物などが挙げられる。

[0075] 前記増感剤の含有量は、前記感光性組成物中の全成分に対し、 0. 05〜30質量 %が好ましぐ 0. 1〜20質量％がより好ましぐ 0. 2〜10質量％が特に好ましい。該含有量が、 0. 05〜30質量％であると、活性エネルギー線への感度が低下することがなぐ露光プロセスが短時間で、高い生産性を実現できる。また、保存時に前記感光層から前記増感剤が析出することもな、。

[0076] 前記光重合開始剤は、 1種単独で使用してもよぐ 2種以上を併用してもよい。

前記光重合開始剤の特に好ましい例としては、後述する露光において、波長が 40 5nmのレーザ光に対応可能である、前記ホスフィンオキサイド類、前記 α—アミノアルキルケトン類、前記トリァジン骨格を有するハロゲンィ匕炭化水素化合物と後述する増感剤としてのアミンィ匕合物とを組合せた複合光開始剤、へキサァリールビイミダゾール化合物、あるいは、チタノセンなどが挙げられる。

[0077] < <着色剤 > >

前記着色剤としては、該着色剤に含まれる顔料の平均粒径が大きくとも lOOnmであり、かつ該顔料の前記感光性組成物の固形分中の含有量が少なくとも 30質量％であれば、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ、例えば、有機顔料、無機顔料、染料などが挙げられる。

これら着色剤と別に又は併用して、着色剤として金属イオンを配位した榭状分岐分子、並びに金属粒子及び合金粒子の少なくとも、ずれかの金属系粒子を含有する榭状分岐分子から選ばれるいずれかの榭状分岐分子を含有することも可能である。

[0078] 前記着色剤としては、黄色顔料、オレンジ顔料、赤色顔料、バイオレット顔料、青色顔料、緑色顔料、ブラウン顔料、黒色顔料などが挙げられるが、カラーフィルタを形成する場合には、 3原色 (B、 G、 R)及び黒色 (K)にそれぞれ着色された複数の感光性組成物を用いることから、青色顔料、緑色顔料、赤色顔料、及び黒色顔料が好適に用いられる。

[0079] 前記顔料としては、例えば、特開 2005— 17716号公報の段落番号 0038から 004 0に記載の色材、特開 2005— 361447号公報の段落番号 0068から 0072に記載の顔料、及び特開 2005— 17521号公報の段落番号 0080から 0088に記載の着色剤などが好適に挙げられる。

[0080] なお、上記有機顔料、無機顔料、又は染料等の着色剤は 1種を単独で用いてもよく、又は 2種以上を組み合わせて用いることもできる。

[0081] 本発明におヽては、携帯端末や携帯ゲーム機等の機器で透過モード、及び反射モードの、ずれにぉ、ても良好な表示特性 (より色が濃、）を効果的に実現するための前記着色剤の組合せとしては、（i)Rの感光性組成物においては顔料 C. I.ピグメントレッド 254を用い、（ii) Gの感光性組成物においては顔料 C. I.ビグメントグリーン 36及び顔料 C. I.ビグメントイエロー 139を併用して用い、（iii) Bの感光性組成物においては顔料 C. I.ビグメントブルー 15 : 6を用いることが好ましい。

[0082] また、本発明においては、ノートパソコン用ディスプレイやテレビモニター等の大画面の液晶表示装置等に用いた場合に高い表示特性 (色再現域が広ぐ色温度が高 V、）を実現するための前記着色剤の組合せとしては、 (I)赤色 (R)の感光性組成物においては顔料 C. I.ビグメントレッド 254及び C. I.ビグメントレッド 177の少なくともいずれかを用い、（Π)緑色 (G)の感光性組成物においては顔料 C. I.ピグメントグリーン 36及び顔料 C. I.ビグメントイエロー 150を併用し、（III)青色 (B)の感光性組成物においては顔料 C. I.ビグメントブルー 15 : 6及び C. I.ビグメントバイオレット 23を併用することが好ましい。

[0083] 上記のような着色剤を用いる場合、前記顔料の数平均粒径は、大きくとも lOOnmであれば、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ、例えば、 10〜80n mが好ましぐ 20〜60nm力より好ましく、 30〜40nm力特に好ましい。前記顔料の数平均粒径が、 lOnm未満であると、カラーフィルタの作製時、及び作製後の安定性が不十分なことがあり、 lOOnmを超えると、エッジラフネス低減の効果が充分に得られないことがある。

前記顔料の数平均粒径を 10〜： LOOnmにするためには、公知の方法により顔料微細化処理をすることにより達成することができる。

前記顔料微細化処理の具体例として、特開 2001— 214077号公報の段落 0021 力も 0030に記載の磨砕法、析出法、合成析出法などが挙げられる。

更に、顔料分散物の分散時間を調節することでも、顔料微細化をすることができる。分散には、公知の分散機を用いることができる。分散時間は、 10〜30時間が好ましぐ 18〜30時間がより好ましぐ 24〜30時間が特に好ましい。前記分散時間の範囲にすることで、顔料の数平均粒子径を上記の好ま U、範囲にすることができる。前記顔料を分散させる際に使用する分散機としては、特に制限はなぐ例えば、朝倉邦造著、「顔料の事典」、第一版、朝倉書店、 2000年、 438ページに記載されているニーダー、ローノレミノレ、アトライダー、スーパーミル、ディゾルノ、ホモミキサー、サンドミル等の公知の分散機などが挙げられる。更に、該文献 310頁記載の機械的摩砕により、摩擦力を利用し微粉砕してもよい。

なお、ここで言う「粒径」とは、粒子の電子顕微鏡写真画像を同面積の円とした時の直径を言い、また「数平均粒径」とは多数の粒子について上記の粒径を求め、この 1 00個平均値を言う。

ここで、前記エッジラフネスとは、露光装置から出射されたレーザ光により、感光性材料の感光層面に描画される被露光部の線幅のばらつき及び被露光部の濃度のばらっきをいう。前記エッジラフネスは、前記露光装置の光照射手段などの精度や感光性材料の光学特性のばらつきにより発生する。本発明の感光性組成物は、前記顔料の粒径を限定し、該顔料の前記感光性組成物の固形分中の含有量を限定することにより、前記感光性材料の光学特性のばらつきを抑制でき、前記エッジラフネスを減少、することができる。

前記エッジラフネスは、具体的には、図 50に示すように、前記感光性材料の走査方向を y、走査方向 yと直交する方向を χとし、略走査方向 yに沿って配列されるマイクロミラー 40の列力スヮス 77と定義され、このスヮス 77の列によって描画される被露光部の線幅や濃度がばらつくことをいう。

前記スヮス 77は、描画される画像の X方向に対する解像度を高めるため、 X方向に対して所定の角度 Θ s (以下、スヮス傾斜角度 Θ s (≠90° )という）に設定され、該スヮス 77上には、 DMD画素 A、 Bを含む画素が等間隔に配列されている。

しかし、前記スヮス 77の精度や感光性材料の光学特性などを原因として、図 61〖こ示すように、被露光部 210の中心線 212に対して線幅 214が大小にばらつき、線幅が太くなつたり、細くなつたりする部分 (エッジラフネス）ができてしまう。

[0085] 前記エッジラフネスの評価方法としては、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ライン幅 30 mのラインの任意の 5箇所について、レーザ顕微鏡 (VK— 9500、キーエンス (株)製;対物レンズ 50倍)を用いて観察し、視野内のエッジ位置のうち、最も膨らんだ箇所（山頂部)と、最もくびれた箇所 (谷底部)との差を絶対値として求め、観察した 5箇所の平均値を算出し、この平均値を評価基準とする方法などが挙げられる。この場合のエッジラフネスとしては、値が小さい程、良好な性能を示すため好ましい。具体的には、 1 m以下が好ましぐ 0. 5 m以下がより好ましい。前記平均値が 1 mを超えると、解像度が低下し、カラーフィルタのコントラストが低下することがある。

[0086] また、図 60に示すように、図中の中央部に示される適正露光の場合に比べて、図に向力つて左側の太線のように、前記各画素の列方向の重なりや、前記感光性材料の感度などにより、露光過多となってしまうことがある。他方右側の点線のように、前記各画素の列方向の隙間や、前記感光性材料の感度などにより、露光不足となってしまうことがある。該露光過多や露光不足によって被露光部に濃淡が生じエッジラフネスとなる。

[0087] 前記顔料の前記感光性組成物の固形分中の含有量は、少なくとも 30質量％であれば、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ、例えば、 30〜60質量％が好ましぐ 35〜60質量％がより好ましぐ 45〜60質量％が特に好ましい。前記顔料の含有量が、 30〜60質量％であると、単位厚みあたりの光学濃度が不十分とならず所望の光学濃度を達成するために膜を厚くする必要がない。また、露光部と未露光部との現像液に対する溶解性の差を出しやすい。

[0088] < <その他の成分 > >

前記感光性組成物には、その他の成分として、例えば、熱架橋剤、可塑剤、界面活性剤、紫外線吸収剤、熱重合禁止剤等の成分を含有してもよい。

[0089] 前記熱架橋剤としては、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ、前記感光性組成物を用いて形成される感光層の硬化後の膜強度を改良するために、現像性等などに悪影響を与えない範囲で、例えば、 1分子内に少なくとも 2つのォキシラン基を有するエポキシ榭脂化合物、 1分子内に少なくとも 2つのォキセタ-ル基を有するォキセタンィ匕合物、メラミン榭脂化合物などを用いることができる。

[0090] 前記エポキシ榭脂化合物としては、例えば、ビキシレノール型もしくはビフエノール型エポキシ榭脂 ( ΓΥΧ4000；ジャパンエポキシレジン社製」等）又はこれらの混合物、イソシァヌレート骨格等を有する複素環式エポキシ榭脂（「TEPIC ;日産化学工業（株)製」、「ァラルダイト PT810 ;チバ'スペシャルティ'ケミカルズ社製」等）、ビスフエノール A型エポキシ榭脂、ノボラック型エポキシ榭脂、ビスフエノール F型エポキシ榭脂、水添ビスフエノール A型エポキシ榭脂、グリシジノレアミン型エポキシ榭脂、ヒダントイン型エポキシ榭脂、脂環式エポキシ榭脂、トリヒドロキシフエニルメタン型エポキシ榭脂、ビスフエノール S型エポキシ榭脂、ビスフエノール Aノボラック型エポキシ榭脂、テトラフエ-ロールエタン型エポキシ榭脂、グリシジルフタレート榭脂、テトラグリシジルキシレノィルエタン榭脂、ナフタレン基含有エポキシ榭脂（「ESN— 190、 ESN— 36 0 ;新曰鉄ィ匕学 (株）製」、「HP— 4032、 EXA— 4750、 EXA— 4700 ;大日本インキ化学工業 (株)製」等)、ジシクロペンタジェン骨格を有するエポキシ榭脂（「HP— 72 00、 HP— 7200H ;大日本インキ化学工業社製」等）、グリシジルメタアタリレート共重合系エポキシ榭脂（「CP— 50S、 CP- 50M ;日本油脂 (株)製」等）、シクロへキシルマレイミドとグリシジルメタアタリレートとの共重合エポキシ榭脂などが挙げられる力これらに限られるものではない。これらのエポキシ榭脂は、 1種単独で使用してもよいし、 2種以上を併用してもよい。

[0091] 前記ォキセタンィ匕合物としては、例えば、ビス [ (3—メチルー 3—ォキセタニルメトキシ）メチル]エーテル、ビス [ ( 3—ェチル— 3—ォキセタ -ルメトキシ)メチル]エーテル、 1、 4 ビス [ (3—メチル 3—ォキセタ -ルメトキシ)メチル]ベンゼン、 1、4 ビス [ ( 3 -ェチル 3—ォキセタ -ルメトキシ)メチル]ベンゼン、（ 3 -メチル 3—ォキセタ -ル)メチルアタリレート、（₃ーェチルー ₃ーォキセタ -ル)メチルアタリレート、 (3- メチル 3—ォキセタ -ル)メチルメタタリレート、 ( 3 ェチル 3—ォキセタ -ル)メチルメタタリレート又はこれらのオリゴマーあるいは共重合体等の多官能ォキセタン類の他、ォキセタン基と、ノボラック榭脂、ポリ（p ヒドロキシスチレン）、カルド型ビスフエノ一ノレ類、カリックスァレーン類、カリックスレゾノレシンアレーン類、シノレセスキォキサン等の水酸基を有する榭脂など、とのエーテルィ匕合物が挙げられ、この他、ォキセタン環を有する不飽和モノマーとアルキル (メタ）アタリレートとの共重合体なども挙げられる。

前記メラミン榭脂化合物としては、例えば、アルキル化メチロールメラミン、へキサメチル化メチロールメラミンなどが挙げられる。

[0092] 前記エポキシ榭脂化合物又はォキセタンィ匕合物の前記感光性組成物固形分中の固形分含有量は、 1〜50質量％が好ましぐ 3〜30質量％がより好ましい。該固形分含有量が 1質量％未満であると、硬化膜の吸湿性が高くなり、絶縁性の劣化が生じることがあり、 50質量％を超えると、現像性の悪化や露光感度の低下が生ずることがあり、好ましくない。

[0093] また、前記エポキシ榭脂化合物や前記ォキセタンィ匕合物の熱硬化を促進するため、例えば、ジシアンジアミド、ベンジルジメチルァミン、 4— (ジメチルァミノ） N, N— ジメチルベンジルァミン、 4ーメトキシ N, N ジメチルベンジルァミン、 4ーメチルー N, N ジメチルベンジルァミン等のアミン化合物；トリェチルベンジルアンモ-ゥムクロリド等の 4級アンモ-ゥム塩化合物；ジメチルァミン等のブロックイソシァネートイ匕合物；イミダゾール、 2—メチルイミダゾール、 2 ェチルイミダゾール、 2 ェチルー 4 メチルイミダゾール、 2 フエ-ルイミダゾール、 4 フエ-ルイミダゾール、 1—シァノェチルー 2 フエ-ルイミダゾール、 1一（2 シァノエチル） 2 ェチルー 4ーメチルイミダゾール等のイミダゾール誘導体二環式アミジンィ匕合物及びその塩；トリフエ- ルホスフィン等のリン化合物；メラミン、グアナミン、ァセトグアナミン、ベンゾグアナミン等のグアナミン化合物； 2, 4 ジァミノ 6 メタクリロイルォキシェチル S トリアジン、 2 ビュル一 2, 4 ジァミノ一 S トリアジン、 2 ビュル一 4, 6 ジァミノ一 S トリアジン'イソシァヌル酸付カ卩物、 2, 4 ジアミノー 6—メタクリロイルォキシェチルー S -トリァジン'イソシァヌル酸付加物等の S -トリァジン誘導体；などを用いることができる。これらは 1種単独で使用してもよぐ 2種以上を併用してもよい。なお、前記ェポキシ榭脂化合物や前記ォキセタン化合物の硬化触媒、あるいは、これらとカルボキシル基の反応を促進することができるものであれば、特に制限はなぐ上記以外の熱硬化を促進可能な化合物を用いてもょ、。

前記エポキシ榭脂、前記ォキセタンィ匕合物、及びこれらとカルボン酸との熱硬化を促進可能な化合物の前記感光性組成物固形分中の固形分含有量は、通常 0. 01〜 15質量％でぁる。

[0094] また、前記熱架橋剤としては、特開平 5— 9407号公報記載のポリイソシァネートイ匕合物を用いることができ、該ポリイソシァネートイ匕合物は、少なくとも 2つのイソシァネ一ト基を含む脂肪族、環式脂肪族又は芳香族基置換脂肪族化合物から誘導されていてもよい。具体的には、 1, 3 フエ-レンジイソシァネートと 1, 4 フエ-レンジイソシァネートとの混合物、 2, 4 及び 2, 6 トルエンジイソシァネート、 1, 3 及び 1, 4 キシリレンジイソシァネート、ビス（4 イソシァネートフエ-ル)メタン、ビス（4 イソシァネートシクロへキシル)メタン、イソフォロンジイソシァネート、へキサメチレンジイソシァネート、トリメチルへキサメチレンジイソシァネート等の 2官能イソシァネート；該 2官能イソシァネートと、トリメチロールプロパン、ペンタリスルトール、グリセリン等との多官能アルコール;該多官能アルコールのアルキレンオキサイド付加体と、前記 2 官能イソシァネートとの付加体;へキサメチレンジイソシァネート、へキサメチレン 1 , 6 ジイソシァネート及びその誘導体等の環式三量体；などが挙げられる。

[0095] 更に、本発明の感光性組成物、あるいは、本発明の感光性フィルムの保存性を向上させることを目的として、前記ポリイソシァネート及びその誘導体のイソシァネート基にブロック剤を反応させて得られる化合物を用いてもょ、。

前記イソシァネート基ブロック剤としては、イソプロパノール、 tert. —ブタノール等のアルコール類； _ε —力プロラタタム等のラタタム類、フエノール、クレゾール、 p—ter t. ーブチノレフエノーノレ、 p— sec. —ブチノレフエノーノレ、 p— sec. —アミノレフエノーノレ、 p -ォクチルフエノール、 p -ノ-ルフエノール等のフエノール類； 3 -ヒドロキシピリジン、 8—ヒドロキシキノリン等の複素環式ヒドロキシル化合物；ジアルキルマロネート、メチルェチルケトキシム、ァセチルアセトン、アルキルァセトアセテートォキシム、ァセトォキシム、シクロへキサノンォキシム等の活性メチレンィ匕合物；などが挙げられる。これらの他、特開平 6 - 295060号公報記載の分子内に少なくとも 1つの重合可能な二重結合及び少なくとも 1つのブロックイソシァネート基のいずれかを有する化合物などを用いることができる。

[0096] また、アルデヒド縮合生成物、榭脂前駆体などを用いることができる。具体的には、 N, N，—ジメチロール尿素、 N, N，—ジメチロールマロンアミド、 N, N，—ジメチロールスクシンイミド、トリメチロールメラミン、テトラメチロールメラミン、へキサメチロールメラミン、 1, 3— N, N，一ジメチロールテレフタルアミド、 2, 4, 6—トリメチロールフエノール、 2, 6—ジメチロール— 4—メチロア-ノール、 1, 3—ジメチロール— 4, 6—ジィソプロピルベンゼンなどが挙げられる。なお、これらのメチロール化合物の代わりに、対応するェチルもしくはブチルエーテル、又は酢酸あるいはプロピオン酸のエステルを使用してもよい。また、メラミンと尿素とのホルムアルデヒド縮合生成物とからなるへキサメトキシメチルメラミンや、メラミンとホルムアルデヒド縮合生成物のブチルエーテルなどを使用してもよい。

[0097] 前記熱架橋剤の添加量は、本発明の効果を損なわない範囲で加えることができ、前記熱架橋剤の含有量は、感光性組成物の全固形分の 0. 01〜10質量％が好ましぐ 0. 02〜5質量％がより好ましぐ 0. 05〜3質量％が特に好ましい。

[0098] 前記可塑剤は、前記感光層の膜物性 (可撓性)をコントロールするために添加してちょい。

前記可塑剤としては、例えば、特開 2005— 258431号公報の段落番号 0318に記載されて!ヽる化合物などが挙げられる。

[0099] 前記可塑剤の含有量は、前記感光層の全成分に対して 0. 1〜50質量％が好ましぐ 0. 5〜40質量％がより好ましぐ 1〜30質量％が特に好ましい。

[0100] 前記界面活性剤としては、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ァニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、両性界面活性剤などカゝら適宜選択できる。

更に、前記界面活性剤としては、次式、 C F ^ CH CH O (CH CH O

8 17 so N O

2 2 2 2 2 n

R²)で表されるフッ素系界面活性剤が好適に挙げられる。

ただし、式中、 R¹及び R²は、各々水素原子又は炭素数 1〜4のアルキル基を表し、 nは 2〜30の整数を表す。

前記 R¹としては、メチル基、ェチル基、イソプロピル基が好適に挙げられ、前記としては、水素原子が好適に挙げられる。

前記 nとしては、 10〜25力 S好ましく、 10〜20がより好ましい。

前記式で表される界面活性剤の具体例としては、メガファック F— 141 (n= 5)、 F— 142 (n= 10)、 F= 143 (n= 15)、 F— 144 (n= 20) (V、ずれも商品名：大日本インキ化学工業 (株)製)が挙げられる。

[0101] 更に、前記界面活性剤としては、次式（1)〜（5)で表される界面活性剤が好適に挙げられる。

Rfl— X—（CH CH O) R¹ - - - (1)

2 2 η

Rfl— X— (CH CH O) R²- · · (2)

2 2 n

Rfl -X- (CH CH O) (CH CH CH O) R¹ ' · · (3)

2 2 n 2 2 2 m

Rfl -X- (CH CH O) (CH CH CH O) Rf2' · · (4)

2 2 n 2 2 2 m

[0102] [化 1] (5)

[0103] 前記式（1)〜(4)において、 R¹及び R²は、炭素素 1〜18、好ましくは、炭素数 1〜1

0、より好ましくは、炭素数 1〜4のアルキル基を表す。

前記アルキル基としては、飽和アルキル基、不飽和アルキル基が挙げられる。前記アルキル基の構造としては、直鎖構造、分岐構造を有するものが挙げられ、これらの中でも分岐構造を有するものが好適に挙げられる。前記アルキル基の具体例としては、メチル基、ェチル基、プロピル基、ブチル基、ヘプチル基、へキシル基、ォクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、へキサデシル基、ォタタデシル基、エイコサニル基、ドコサニル基、 2—クロ口ェチル基、 2—プロモェチル基、 2—シァノエチル基、 2—メトキシカルボ-ルェチル基、 2—メトキシェチル基、 3—プロモプロピル基などが挙げられる。また、これらのアルキル基は、ハロゲン原子、ァシル基、アミノ基、シァノ基、アルキル基、アルコキシ基、アルキル若しくはハロアルキルで置換されていてもよいァリール基、アミド基等で置換されて、てもよ、。

前記式（1)〜(4)において、 Rfl及び Rf 2は、それぞれ独立して、炭素数 1〜18、好ましく 2〜 12、より好ましくは 4〜 10のパーフルォロ基を表す。

前記パーフルォロ基としては、飽和パーフルォロ基、不飽和パーフルォロ基が挙げられる。

前記パーフルォロ基の構造としては、直鎖構造、分岐構造を有するものが挙げられ、これらの中でも分岐構造を有するものが好適に挙げられ、前記 Rfl及び Rf 2の少なくともいずれかが、分岐構造を有するものがより好適に挙げられる。

前記パーフルォロ基としては、例えば、パーフルォロノネ-ル、パーフルォロメチル、パーフルォロプロピレン、パーフルォロノ-ネル、パーフルォロ安息香酸、パーフルォロプロピレン、パーフノレオ口プロピル、パーフノレオ口（9ーメチノレオクチル）、パーフルォロメチルォクチル、パーフルォロブチル、パーフルォロ 3—メチルブチル、パーフノレォ口へキシノレ、ノーフノレオ口クチノレ、ノーフノレオ口 7—オタチノレエチノレ、フノレオ口へプチル、パーフルォロデシル、パーフルォロブチルなどが挙げられる。また、これらのパーフルォロ基は、ハロゲン原子、ァシル基、アミノ基、シァノ基、アルキル基、アルコキシ基、アルキル若しくはハロアルキルで置換されていてもよぐァリール基、アミド基等で置換されていてもよい。

前記 Rfl及び Rf 2は互い同じであってもよく、異なって、てもよ、。

前記式（1)〜（4)において、 nは、 1〜40の整数、好ましくは 4〜25の整数を表す。前記式（1)〜（4)において、 mは、 0〜40の整数、好ましくは 0〜25の整数を表す。前記式（1)〜（4)において、— X—は、— (CH )— (1は 1〜10、好ましくは、 1〜5 の整数を表す）、— CO— O—、― O—、— NHCO—、— NHCOO—のいずれかを表す。

前記式（5)において、 R³, R⁴, R⁵は水素原子、又はメチル基を表し、 a, b, c, p, q は任意の正数を表し、必要に応じて適宜選ばれる力例として、 a = 50、 b = c = 25、 p = q= 10などが挙げられる。 r, sは任意の正の整数を表し、必要に応じて適宜選ばれるが、例として、 r= 2、 s = 6などが挙げられる。 CrH2r、 CsF2s+ lとしては、 r、 s 力^以上のとき、直鎖構造、分岐構造のいずれもが含まれる。前記式 (5)で表される界面活性剤の具体例としては、メガファック F— 780F (a=40、 b = 5、 c = 55、 r= 2、 s = 6、p = q = 7 ;大日本インキ化学工業 (株)製)などが挙げられる。

前記式（1)〜（5)で表される界面活性剤は、 1種単独又は 2種以上の組合せで用いることがでさる。

[0104] 前記界面活性剤の含有量は、感光性組成物の固形分に対し、 0. 001〜10質量 %が好ましい。

前記含有量が、 0. 001質量％未満になると、面状改良の効果が得られなくことがあり、 10質量％を超えると、密着性が低下することがある。

[0105] 前記感光性組成物が前記界面活性剤を含有することにより、塗布液としての流動性が良好となり、塗布工程で使用されるスピンコーターやスリットコーターのノズルや配管、容器中での液の付着性が改善され、前記ノズル内に汚れとして残る残渣を効果的に減少させることができるので、塗布液の切り替え時に洗浄に要する洗浄液の量や作業時間を軽減でき、カラーフィルタの生産性を向上させることができる。また、前記カラーレジスト層を形成する際に発生する面状ムラ等を改善することができる。

[0106] 前記熱重合禁止剤としては、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ、例えば、特開 2005— 258431号公報の段落番号 0316に記載されている化合物などが挙げられる。

前記熱重合禁止剤の含有量は、感光性組成物の全成分に対し、 0. 0001〜10質量％が好ましぐ 0. 0005〜5質量％がより好ましぐ 0. 001〜1質量％が特に好ましい。

[0107] 前記紫外線吸収剤としては、特開平 5— 72724号公報記載の化合物のほか、サリシレート系、ベンゾフエノン系、ベンゾトリアゾール系、シァノアクリレート系、ニッケルキレート系、ヒンダードアミン系などが挙げられる。

具体的には、フエ-ルサリシレート、 4 t—ブチルフエ-ルサリシレート、 2, 4ージ t ブチルフエ-ルー 3 ' , 5 '—ジ—t—4'ーヒドロキシベンゾエート、 4—tーブチルフエ-ルサリシレート、 2, 4 ジ一ヒドロキシベンゾフエノン、 2 ヒドロキシ一 4—メトキシベンゾフエノン、 2 ヒドロキシ一 4— n—オタトキシベンゾフエノン、 2— (2'—ヒド口キシ一 5 '—メチルフエ-ル）ベンゾトリァゾール、 2— (2'—ヒドロキシ一 3 '— t—ブチル一 5，一メチルフエ-ル） 5 クロ口べンゾトリァゾール、ェチル 2 シァノ 3 , 3 ジ一フエ-ルアタリレート、 2, 2'—ヒドロキシ一 4—メトキシベンゾフエノン、 -ッケルジブチルジチォカーバメート、ビス（2, 2, 6, 6—テトラメトルー 4 ピリジン）ーセバケート、 4 t—ブチルフエ-ルサリシレート、サルチル酸フエ-ル、 4ーヒドロキシー 2, 2, 6, 6—テトラメチルピペリジン縮合物、コハク酸ビス（2, 2, 6, 6—テトラメチルー 4 ピペリデュル）—エステル、 2— [2 ヒドロキシ— 3, 5 ビス（ α , a—ジメチルベンジル）フエ-ル]— 2H ベンゾトリァゾール、 7— { [4 クロ口 6— (ジェチルァミノ） 5 トリァジン一 2 ィル]アミノ} 3 フエ-ルクマリンなどが挙げられる。なお、感光性組成物の全固形分に対する紫外線吸収剤の含有量は、 0. 5〜15質量％が好ましぐ 1〜12質量％がより好ましぐ 1. 2〜10質量％が特に好ましい。前記感光層を形成する感光性組成物は、溶剤を用いて調製することができる。前記溶剤としては、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ、例えば、メタノール、エタノール、 n—プロパノール、イソプロパノール、 n—ブタノール、 sec ーブタノール、 n—へキサノール等のアルコール類；アセトン、メチルェチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロへキサノン、ジイソプチルケトンなどのケトン類；酢酸ェチル、酢酸ブチル、酢酸 n—ァミル、硫酸メチル、プロピオン酸ェチル、フタル酸ジメチル、安息香酸ェチル、及びメトキシプロピルアセテートなどのエステル類；トルエン、キシレン、ベンゼン、ェチルベンゼンなどの芳香族炭化水素類；四塩ィ匕炭素、トリクロ口エチレン、クロ口ホルム、 1, 1, 1—トリクロロェタン、塩化メチレン、モノクロ口べンゼンなどのハロゲンィ匕炭化水素類;テトラヒドロフラン、ジェチルエーテル、エチレンダリコーノレモノメチノレエーテノレ、エチレングリコーノレモノェチノレエーテノレ、 1ーメトキシー 2 プロパノールなどのエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルァセトアミド、ジメチルスルホオキサイド、スルホランなどが挙げられる。これらは、 1種単独で使用してもよく、 2種以上を併用してもよい。これらの中でも、 3 エトキシプロピオン酸メチル、 3— エトキシプロピオン酸ェチル、ェチルセ口ソルブアセテート、乳酸ェチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、 3—メトキシプロピオン酸メチル、 2 ヘプタノン、シクロへキサン、ェチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールァセテ一ト、プロピレングリコールメチルエーテルアセテートなどが好適に挙げられる。これらの溶剤は、単独又 2種以上の組合せで用いることができる。

前記感光性組成物の調製時における前記溶剤の添加量は、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ、前記感光性組成物の全固形分濃度が 5〜80 質量％となるように添加されることが好ましぐ 10〜60質量％となるように添加されることがより好ましぐ 15〜50質量％となるように添加されることが特に好ましい。

[0109] 前記感光層の厚みは、 0. 3〜10 μ mが好ましぐ 0. 75〜6 μ mがより好まぐ 1. 0 〜3 mが特に好ましい。

前記感光層の厚みが、 0. 3〜： LO /z mであると、感光層用塗布液の塗布時にピンホールが発生しにくぐ製造適性が低下することがない。また、現像時に未露光部を除去するのに長時間を要することもない。

[0110] <基材>

前記感光層形成工程で用いられる前記基材としては、特に制限はなぐ公知の材料の中力表面平滑性の高いものから凸凹のある表面を有するものまで、目的に応じて適宜選択することができ、板状の基材 (基板)が好ましぐ具体的には、ガラス板（例えば、ソーダガラス板、酸ィ匕ケィ素をスパッタしたガラス板、無アルカリガラス板、石英ガラス板等）、合成樹脂性のフィルム、紙、金属板などが挙げられる。

[0111] 前記基材は、該基材上に前記感光層における感光層が重なるようにして積層してなる積層体を形成して用いることができる。即ち、前記積層体における感光層の前記感光層に対して露光することにより、露光した領域を硬化させ、後述する現像工程によりパターンを形成することができる。

[0112] [露光工程] 前記露光工程としては、光照射手段及び光変調手段を少なくとも備えた露光ヘッドと、前記感光層の少なくともいずれかを移動させつつ、前記感光層に対して、前記光照射手段から出射した光を前記光変調手段によりパターン情報に応じて変調しながら前記露光ヘッドから照射して、前記感光層を露光する工程であり、該露光はマスクレス露光である。

[0113] 前記マスクレス露光（「マスクレスパターン露光」とも、う）とは、パターン情報（「画像データ」ともいう）に基づいて、光照射手段力もの光を変調しながら、露光ヘッドと前記感光層の被露光面とを相対走査することにより、前記感光層の被露光面上に二次元パターン（「画像」ともいう）を形成する露光方法である。これに対し、マスクを用いた従来の露光方法は、露光光を透過させない材質、又は露光光を弱めて透過させる材質でパターンを形成してなるマスクを、前記感光層の被露光面上の光路に配置して露光を行う方法である。

[0114] 前記光照射手段から照射される光の光源としては、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ、例えば、超高圧水銀灯、キセノン灯、カーボンアーク灯、ハロゲンランプ、複写機用などの蛍光管、 LED,及びレーザ光（半導体レーザ、固体レ一ザ、液体レーザ、気体レーザ)等が挙げられ、これらの中でも、超高圧水銀灯及びレーザ光が好ましぐ光のオンオフ制御が短時間で行え、光の干渉制御が容易ある観点から、レーザ光がより好ましい。

[0115] 前記光源の波長は、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記超高圧水銀灯としては、 i線（365nm)が好ましぐ固体レーザとしては、 YA G— SHG固体レーザ（532nm)、半導体励起固体レーザ（532nm、 355nm、 266η m)が好ましぐ気体レーザとしては、 KrFレーザ（249nm)、 ArFレーザ（193nm)が好ましい。半導体レーザとしては、感光性組成物の露光時間の短縮を図る目的、及び入手のしゃすさの観点から、 300〜500nm力 S好ましく、 340〜450nm力 Sより好ましぐ 405nm又は 410nmであることが特に好ましい。

[0116] 前記レーザ光のビーム径としては、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ、前記感光層における解像度の観点から、ガウシアンビームの lZe²値で 5 〜30 μ η力女子ましく、 7〜20 μ m力 Jり女子まし!/ヽ。また、前記レーザ光の光エネルギー量としては、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ、露光時間の短縮と解像度の観点から、 l〜100mj/cm²が好ましぐ 5〜20mj/cm²がより好ましい。

[0117] 前記光源としては、光を一端から入射し、入射した前記光を他端から出射する光フアイバを複数本束ねてなるバンドル状のファイバ光源が好ましぐ前記光ファイバが、光源からの光を 2以上合成した合波レーザ光を出射可能であることがより好ましい。前記合波レーザ光の照射方法としては、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ、複数のレーザ光源と、マルチモード光ファイバと、該複数のレーザ光源から照射されるレーザ光を集光して前記マルチモード光ファイバに結合させるレンズ系とにより合波レーザ光を合成し、照射する方法が挙げられる。

[0118] 前記露光工程において、前記光照射手段からの光を変調する光変調手段としては、前記光照射手段からの光を受光し出射する n個（ただし、 nは 2以上の自然数)の 2 次元状に配列された描素部を有し、前記描素部をパターン情報に基づ!、て制御可能であるものであれば、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ、例えば、空間変調素子、及び光多面鏡 (ポリゴンミラー)などが挙げられる。

[0119] 前記空間光変調素子としては、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ、デジタル ·マイクロミラ^ ~ ·デバイス (DMD)、 MEMS (Micro Electro Mech anical Systems)タイプの空間光変調素子（SLM ; Special Light Modulator) 、ミラー階調型空間変調素子、電気光学効果により透過光を変調する光学素子 (PL ZT素子）、液晶光シャツタ (FLC)などが好適に挙げられる。

なお、 MEMSとは、 IC製造プロセスを基板としたマイクロマシユング技術によるマイクロサイズのセンサ、ァクチユエータ、及び制御回路を集積ィ匕した微細システムの総称であり、 MEMSタイプの空間光変調素子とは、静電気力を利用した電気機械動作により駆動される空間光変調素子を意味している。さらに、 Grating Light Valve ( GLV)を複数並べて二次元状に構成したものを用いることもできる。これらの反射型空間光変調素子 (GLV)や、透過型空間光変調素子 (LCD)を使用する構成にお!ヽては、前記光源として、レーザのほかにランプ等を使用することができる。

これらの空間光変調素子の中でも _DMD、及びミラー階調型空間変調素子がより好適に挙げられ、 DMDが特に好適に挙げられる。

[0120] 前記光多面鏡 (ポリゴンミラー）としては、複数面 (例えば 6面）の平面反射面を有する回転部材であって、回転によって光を走査させることが可能な限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。なお、前記光多面体 (ポリゴンミラー）を用いる露光においては、前記感光層の被露光面を、前記光多面体 (ポリゴンミラー）の走査方向に対して直角に移動させることにより、前記被露光面前面を露光することができる。

[0121] 前記露光工程において、感光層を、露光する方法としては、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ、例えば、デジタル露光、アナログ露光などが挙げられる力デジタル露光が好適である。

前記デジタル露光の方法としては、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ、例えば、所定のパターン情報に基づいて生成される制御信号に応じて変調されたレーザ光を用いて行われることが好適である。

更に、前記露光工程において、感光層を、露光する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、短時間、かつ高速露光を可能とする観点から、露光光と感光層とを相対的に移動させながら行うことが好ましぐ前記デジタル · マイクロミラー ·デバイス (DMD)と併用されることが特に好まし!/、。

[0122] 前記露光工程にお!、て、不活性ガス雰囲気下行うことが好ま、。前記感光層形成工程により形成された感光層を、露光する方法としては、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ、例えば、不活性ガスを前記感光層表面に直接吹き力ける方法、枠状フレームの一辺が開放され、不活性ガスの導入孔が少なくとも残りの 1辺に形成された試料台中の露光空間に、露光対象である感光層が形成された試料を載置し、前記不活性ガスの導入孔カゝら不活性ガスを導入して、感光層表面を不活性ガスで覆!、つつ、露光を行う方法などが挙げられる。

また、前記露光空間を密封空間として、減圧下で該密封空間内に不活性ガスを導入することも可能である。

前記不活性ガスとしては、酸素の影響により前記感光層の重合反応が阻害されることを防止できれば、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ、例えば、窒素、ヘリウム、ァノレゴンなどが挙げられる。

[0123] 以下、本発明のカラーフィルタの製造方法の態様、及び該カラーフィルタの製造方法に好適に用いられる露光装置を、図面を参照しながら説明する。

前記露光装置としては、いわゆるフラットベッドタイプの露光装置の他、感光材料がドラムの外周面に巻きつけられるアウタードラムタイプの露光装置、及び感光材料がシリンダの内周面に装着されるインナードラムタイプの露光装置であってもよい。以下、一例として、フラットベットタイプの露光装置について説明する。

[0124] <露光装置 >

前記露光装置は、図 1に示すように、前記感光層を前記基体上に積層してなる積層体 12 (以下、「感光層 12」、又は「感光材料 12」と表す)を表面に吸着して保持する平板状の移動ステージ 14を備えている。 4本の脚部 16に支持された厚い板状の設置台 18の上面には、ステージ移動方向に沿って延びた 2本のガイド 20が設置されている。ステージ 14は、その長手方向がステージ移動方向を向くように配置されると共に、ガイド 20によって往復移動可能に支持されている。なお、この露光装置 10には、ステージ 14をガイド 20に沿って駆動するステージ駆動装置（図示せず）が設けられている。

[0125] 設置台 18の中央部には、ステージ 14の移動経路を跨ぐようにコの字状のゲート 22 が設けられている。コの字状のゲート 22の端部の各々は、設置台 18の両側面に固定されている。このゲート 22を挟んで一方の側にはスキャナ 24が設けられ、他方の側には感光層 12の先端及び後端を検知する複数 (たとえば 2個）のセンサ 26 (又はカメラ 26)が設けられている。スキャナ 24及びセンサ 26 (又はカメラ 26)は、ゲート 22 に各々取り付けられて、ステージ 14の移動経路の上方に固定配置されている。なお、スキャナ 24及びセンサ 26 (又はカメラ 26)は、これらを制御する図示しないコント口ーラに接続されている。

[0126] スキャナ 24には、図 2及び図 3Bに示すように、 m行 n列（例えば、 2行 5列）の略マトリックス状に配列された 10個の露光ヘッドが備えられている。

図 2に示すように、各露光ヘッド 30が、後述する内部のデジタル ·マイクロミラー -デバイス (DMD) 36の各描素部（マイクロミラー）列方向が、走査方向と所定の設定傾斜角度 Θをなすように、スキャナ 24に取り付けられている場合には、各露光ヘッド 30 による露光エリア 32は、走査方向に対して傾斜した矩形状のエリアとなる。

ステージ 14の移動に伴い、感光層 12には露光ヘッド 30ごとに帯状の露光済み領域 34が形成される。

なお、以下において、 m行目の n列目に配列された個々の露光ヘッドを示す場合は、露光ヘッド 30 と表記し、 m行目の n列目に配列された個々の露光ヘッドによる露 mn

光エリアを示す場合は、露光エリア 32 と表記する。

mn

[0127] また、図 3A及び図 3Bに示すように、帯状の露光済み領域 34のそれぞれが、隣接する露光済み領域 34と部分的に重なるように、ライン状に配列された各行の露光へッド 30の各々は、その配列方向に所定間隔 (露光エリアの長辺の自然数倍、本実施形態では 2倍)ずらして配置されている。このため、 1行目の露光エリア 32 と露光ェ

11 リア 32 との間の露光できない部分は、 2行目の露光エリア 32 により露光することが

12 21

できる。

[0128] スキャナ 24による感光層 12の副走査が終了し、センサ 26 (又はカメラ 26)で感光層

12の後端が検出されると、ステージ 14は、ステージ駆動装置 304により、ガイド 20に沿ってゲート 22の最上流側にある原点に復帰し、再度、ガイド 20に沿ってゲート 22 の上流側から下流側に一定速度で移動される。

[0129] ここで、説明のため、ステージ 14の表面と平行な平面内に、図 1に示すように、互いに直交する X軸及び Y軸を規定する。

[0130] ステージ 14の走査方向に沿って上流側（以下、単に「上流側」ということがある。）の端縁部には、 X軸の方向に向カゝつて開く「く」の字型に形成されたスリット 28が、等間隔で 10本形成されて、てもよ、。

各スリット 28は、上流側に位置するスリット 28aと下流側に位置するスリット 28bとからなっている。スリット 28aとスリット 28bとは互い〖こ直交するととも〖こ、 X軸に対してスリット 28aは— 45度、スリット 28bは +45度の角度を有している。

[0131] スリット 28の位置は、前記露光ヘッド 30の中心と略一致させられている。また、各スリット 28の大きさは、対応する露光ヘッド 30による露光エリア 32の幅を十分覆う大きさとされている。また、スリット 28の位置としては、隣接する露光済み領域 34間の重複部分の中心位置と略一致させてもよい。この場合、各スリット 28の大きさは、露光済み領域 34間の重複部分の幅を十分覆う大きさとする。

[0132] ステージ 14内部の各スリット 28の下方の位置には、 N重露光を行う場合、理想の N 重露光を実現するために描素部を選択する後述の使用描素部指定処理にお!、て、描素単位としての光点を検出する光点位置検出手段としての単一セル型の光検出器（図示せず)が組み込まれていてもよい。また、前記光検出器は、後述する使用描素部指定処理にお!、て、前記描素部の選択を行う描素部選択手段としての演算装置（図示せず）に接続されて！ヽる。

[0133] 露光時における前記露光装置の動作形態はとしては、露光ヘッドを常に移動させながら連続的に露光を行う形態であってもよいし、露光ヘッドを段階的に移動させながら、各移動先の位置で露光ヘッドを静止させて露光動作を行う形態であってもよ、

[0134] また、前記露光の方法として、露光光と前記感光層とを相対的に移動しながら行うことが好ましぐこの場合、前記高速変調と併用することが好ましい。これにより、短時間で高速の露光を行うことができる。

[0135] < <露光ヘッド > >

露光ヘッド 30の概略構成の一例を、図 4、図 5A、及び図 5Bに示す。図 4、図 5A、及び図 5Bでは、前記露光ヘッド 30中を伝播する光の光路に沿って、各構成要素を示している。

本例では、入射された光を画像データに応じて描素部ごとに変調する光変調手段 ( 描素部ごとに変調する空間光変調素子）として、 DMD36 (米国テキサスインスツルメンッ社製)を備え、光照射手段として、ファイバアレイ光源 38を備えている。

[0136] 図 4に示すように、 DMD36の光入射側には、光ファイバの出射端部 (発光点）が露光エリア 32の長辺方向と一致する方向に沿って一列に配列されたレーザ出射部を備えたファイバアレイ光源 38、ファイバアレイ光源 38から出射されたレーザ光を補正して DMD上に集光させる集光レンズ系 40、この集光レンズ系 40を透過したレーザ光を DMD36に向けて反射するミラー 42がこの順に配置されている。なお図 4では、集光レンズ系 40を概略的に示してある。また、 DMD36の光反射側には、 DMD36で反射されたレーザ光を感光層 12の露光面上に結像する結像レンズ系 50が配置されている。なお図 4では、結像レンズ系 5 0を概略的に示してある。

[0137] 前記集光レンズ系 40は、例えば、図 5A及び図 5Bに示すように、ファイバアレイ光源 38から出射されたレーザ光を平行光化する 1対の組合せレンズ 44、平行光化されたレーザ光の光量分布が均一になるように補正する 1対の組合せレンズ 46、及び光量分布が補正されたレーザ光を DMD36上に集光する集光レンズ 48で構成され、さらに後述する他の部材等力なる。

前記結像レンズ系 50は、例えば、 DMD36と感光層 12の露光面とが共役な関係となるように配置された 2枚のレンズ 52及び 54で構成され、さらに、マイクロレンズァレィ、及びアパーチャアレイ等の後述する他のレンズ群力もなる。

[0138] 一光変調手段

前記光変調手段としての DMD36は、図 6に示すように、 SRAMセル (メモリセル） 5 6上に、各々描素（ピクセル)を構成する描素部として、多数のマイクロミラー 58が格子状に配列されてなるミラーデバイスである。各マイクロミラー 58は支柱に支えられており、その表面にはアルミニウム等の反射率の高い材料が蒸着されている。なお、本実施形態では、各マイクロミラー 58の反射率は 90%以上であり、その配列ピッチは縦方向、横方向ともに 13. 7 mである。 SRAMセル 56は、ヒンジ及びヨークを含む支柱を介して通常の半導体メモリの製造ラインで製造されるシリコンゲートの CMOS のものであり、全体はモノリシック（一体型）に構成されている。

[0139] DMD36の SRAMセル (メモリセル） 56〖こ、所望の 2次元パターンを構成する各点の濃度を 2値で表した画像信号が書き込まれると、支柱に支えられた各マイクロミラー 58が、対角線を中心として DMD36が配置された基板側に対して ± α度 (たとえば ± 10度）のいずれかに傾く。図 7Αは、マイクロミラー 58がオン状態である + α度に傾いた状態を示し、図 7Βは、マイクロミラー 58がオフ状態である α度に傾いた状態を示す。このように、画像信号に応じて、 DMD36の各ピクセルにおけるマイクロミラー 58の傾きを制御することによって、 DMD36に入射したレーザ光 Βはそれぞれのマイクロミラー 58の傾き方向へ反射される。それぞれのマイクロミラー 58のオンオフ制御は、 DMD36に接続された図 8のコントローラ 302によって行われる。また、オフ状態のマイクロミラー 58で反射したレーザ光 Bが進行する方向には、光吸収体（図示せず）が配置されている。

[0140] また、 DMD36は、その短辺が副走査方向と所定角度 Θ (例えば、 0. 1° 〜5° ) を成すように僅かに傾斜させて配置するのが好まし、。図 9Aは DMD36を傾斜させない場合の各マイクロミラーによる反射光像 (露光ビーム） 53の走査軌跡を示し、図 9 Bは DMD36を傾斜させた場合の露光ビーム 53の走査軌跡を示している。

[0141] DMD36には、長手方向にマイクロミラーが多数個（例えば、 1024個）配列されたマイクロミラー列力短手方向に多数^ 1_ (例えば、 756糸且)配列されている力図 9Bに示すように、 DMD36を傾斜させることにより、各マイクロミラーによる露光ビーム 53の走査軌跡（走査線）のピッチ P 1S DMD36を傾斜させない場合の走査線のピッチ P

2 1 より狭くなり、解像度を大幅に向上させることができる。一方、 DMD36の傾斜角は微小であるので、 DMD36を傾斜させた場合の走査幅 Wと、 DMD36を傾斜させない

2

場合の走査幅 wとは略同一である。

[0142] 異なるマイクロミラー列により同じ走査線上が重ねて露光されることにより、ァラィメントマークに対する露光位置の微少量を制御することができ、高精細な露光を実現することができる、また、主走査方向に配列された複数の露光ヘッドの間のつなぎ目（ヘッド間つなぎ領域)を微少量の制御により段差なくつなぐことができる。

DMDを傾斜させるかわりに、各マイクロミラー列を副走査方向と直交する方向に所定間隔ずらし、図 10に示すように千鳥状に配置しても、同様の効果を得ることができる。

[0143] なお、図 10に示すように、スキャナ 24による X方向への 1回の走査で感光層 12の全面を露光してもよぐ図 11A及び図 11Bに示すように、スキャナ 24により感光層 12 を X方向へ走査した後、スキャナ 24を Y方向に 1ステップ移動し、 X方向へ走査を行うというように、走査と移動を繰り返して、複数回の走査で感光層 12の全面を露光するようにしてもよい。

[0144] 一光照射手段

前記光照射手段の好適な例として、合波レーザを照射可能な手段、例えば、複数のレーザと、マルチモード光ファイバと、該複数のレーザ力それぞれ照射したレーザビームを集光して前記マルチモード光ファイバに結合させるレンズ系とを有する手段 (ファイバアレイ光源）について説明する。

[0145] 以下、前記合波レーザを照射可能な手段 (ファイバアレイ光源）としては、例えば、特開 2005— 258431号公報の段落番号 0109〜0146に記載の手段が挙げられる

[0146] 輝度

各レーザモジュールにおいて、レーザビーム B1〜： B7のマルチモード光ファイバ 30 への結合効率が 0. 85で、 GaN系半導体レーザ LD1〜LD7の各出力が 30mWの場合には、アレイ状に配列された光ファイノく 64の各々について、出力 180mW( = 3 OmWX O. 85 X 7)の合波レーザビーム Bを得ることができる。従って、 6本の光フアイノ 64がアレイ状に配列されたレーザ出射部での出力は約 1W ( = 180mW X 6)である。

[0147] ファイバアレイ光源のレーザ出射部には、この通り高輝度の発光点が主走査方向に沿って一列に配列されている。単一の半導体レーザからのレーザ光を 1本の光ファィバに結合させる従来のファイバ光源は低出力であるため、多数列配列しなければ所望の出力を得ることができなかったが、前記合波レーザ光源は高出力であるため、少数列、例えば 1列でも所望の出力を得ることができる。

[0148] 例えば、半導体レーザと光ファイバを 1対 1で結合させた従来のファイバ光源では、通常、半導体レーザとしては出力 30mW (ミリワット)程度のレーザが使用され、光ファィバとしてはコア径 50 m、クラッド径 125 m、 NA (開口数） 0. 2のマルチモード光ファイバが使用されているので、約 1W (ワット）の出力を得ようとすれば、マルチモード光ファイバを 48本（8 X 6)束ねなければならず、発光領域の面積は 0. 62mm² (0. 675mm X O. 925mm)である力ら、レーザ出射部での輝度は 1. 6 X 10⁶ (W/m²) 、光ファイバ 1本当りの輝度は 3. 2 X 10⁶ (W/m²)である。

[0149] これに対し、前記光照射手段が合波レーザを照射可能な手段である場合には、マルチモード光ファイバ 6本で約 1Wの出力を得ることができ、レーザ出射部での発光領域の面積は 0. 0081mm² (0. 325mmX 0. 025mm)であるから、レーザ出射部 68での輝度は 123 X 10⁶ (WZm²)となり、従来に比べ約 80倍の高輝度化を図ることができる。また、光ファイバ 1本当りの輝度は 90 X 10⁶ (WZm²)であり、従来に比べ約 28倍の高輝度化を図ることができる。

[0150] 焦点深度

ここで、図 12A及び図 12Bを参照して、従来の露光ヘッドと本実施の形態の露光ヘッドとの焦点深度の違いにっ、て説明する。従来の露光ヘッドのバンドル状フアイバ光源の発光領域の副走査方向の径は 0. 675mmであり、露光ヘッドのファイバァレイ光源の発光領域の副走査方向の径は 0. 025mmである。図 12Aに示すように、従来の露光ヘッドでは、光照射手段 (バンドル状ファイバ光源） 38aの発光領域が大きいので、 DMD36へ入射する光束の角度が大きくなり、結果として走査面 (感光層 12)へ入射する光束の角度が大きくなる。このため、集光方向（ピント方向のずれ）に対してビーム径が太りやす!/、。

[0151] 一方、図 12Bに示すように、本発明の露光装置における露光ヘッドでは、ファイバアレイ光源 38bの発光領域の副走査方向の径が小さいので、集光レンズ系 40を通過して DMD36へ入射する光束の角度が小さくなり、結果として走査面 (感光層 12) へ入射する光束の角度が小さくなる。即ち、焦点深度が深くなる。この例では、発光領域の副走査方向の径は従来の約 30倍になっており、略回折限界に相当する焦点深度を得ることができる。従って、微小スポットの露光に好適である。この焦点深度への効果は、露光ヘッドの必要光量が大きいほど顕著であり、有効である。この例では、露光面に投影された 1描素サイズは 10 mX 10 mである。なお、 DMDは反射型の空間光変調素子であるが、図 12A及び図 12Bは、光学的な関係を説明するために展開図とした。

[0152] 〔光量分布の補正方法〕

前記光変調手段を備えるデジタル露光装置では、各描画単位で微細なパターンを高精度に形成するために、露光ヘッド内の各描画単位の光量が均一であることが重要である。ただし実際には、露光ヘッドから照射される光ビームは、レンズ系の要因で光軸の中心部に比べて周辺部の光強度が低下してしまうという問題がある。

そこで、前記光照射手段から前記光変調手段に照射される光の光量分布を補正し、被露光面上での露光光の光量分布を均一に補正する方法を以下に説明する。なお、この方法に好適な露光ヘッドの構成概略図を、図 13に示す。

[0153] 前記光量分布補正方法は、集光レンズ系により光照射手段から光変調手段に照射される光の照射領域内における光量に分布を持たせ、前記光変調手段により変調された光の感光層の被露光面における光量分布が均一になるように補正する方法であり、以下に説明する第 1の形態、及び第 2の形態が好適に挙げられる。

[0154] 第 1の実施形態

図 13に示すように、 DMD36の光反射側には投影光学系が設けられ、この投影光学系は、 DMD36の光反射側の露光面にある感光層 12上に光源像を投影するため、 DMD36側から感光層 12へ向って順に、レンズ系 126、マイクロレンズアレイ 128、対物レンズ系 130の各露光用の光学部材が配置されて構成されて、る。

前記レンズ系 126及び前記対物レンズ系 130は、複数枚のレンズ（凸レンズゃ凹レンズ等）を組み合せた拡大光学系として構成されており、 DMD36により反射されるレ一ザビーム (光線束)の断面積を拡大することで、 DMD36により反射されたレーザビームによる感光層 12上の露光エリアの面積を所定の大きさに拡大している。なお、感光層 12は、対物レンズ系 130の後方焦点位置に配置される。

[0155] マイクロレンズアレイ 128は、図 13に示すように、ファイバアレイ光源 38から照射されたレーザ光を反射する DMD36の各マイクロミラー 58に 1対 1で対応する複数のマイク口レンズ 132が 2次元状に配列され、一体的に成形されて矩形平板状に形成されたものであり、各マイクロレンズ 132は、それぞれレンズ系 126を透過した各レーザビームの光軸上にそれぞれ配置されている。このマイクロレンズアレイ 128は、例えば、榭脂又は光学ガラスをモールド成形することによって形成することができる。

[0156] また、本実施形態の露光ヘッド 30では、前述した集光レンズ系 114は、ロッドインテグレータ 118が備える光量分布補正機能とは別に、 DMD36により変調された露光ビームの露光面での光量分布をより高、精度で均一に補正するため、 DMD36に照射するレーザ光の照射領域内での光量に所定の分布を持たせる機能、詳細には、ファイバアレイ光源 38から入射されるレーザ光に対し、主光線の角度に所定の分布を持たせたレーザ光を出射して DMD36に照射する機能を備えている。 [0157] ここで、この主光線の角度に分布を有するレーザ光を DMD36に照射する例を、図 14A〜図 14Bを用いて説明する。なお、主光線（principal ray/chief ray)とは、光学系で物体空間での入射瞳 (ある、は開口絞り）の中心を通過する光線（開口絞りを最小にしてもケラレなしに存在する光線）、広義には斜光線束の中心の光線であり、ここでは後者の意味で用いる。

[0158] 図 14Aは、 DMD36上に照射されるレーザ光の主光線の傾きを模式的に示した図である。図 14Aに示すように、 DMD36上の特定の位置 Pに照射されるレーザ光 LB において、レーザ光 LBの主光線がマイナス（一）側に傾く場合には、矢印— PRで示すように主光線はレーザ光の光軸 (光軸中心) Xに近づく方向へ傾き、プラス（+ )側に傾く場合には、矢印 + PRで示すようにレーザ光の光軸 Xから遠ざ力る方向へ傾く

[0159] 図 14Bは、本実施形態の集光レンズ系 114から出射されるレーザ光力 DMD36 上の照明領域に、光軸中心からの距離に応じて主光線の角度に分布を持った状態で照射される例を示した図である。図 14Bに示すように、 DMD36上の照明領域 (レ一ザ光照射領域）に照射されるレーザ光の主光線角度の分布は、レーザ光の光軸中心では主光線が傾かずに光軸と平行であり、光軸中心力照明領域の周辺部に行くに従って、主光線が +側に除々に傾くとともにその傾斜角度が除々に大きくなり、所定距離 YAに達すると主光線の +側への傾斜角度が最大となり（最大傾斜角度 A)、所定距離 YAを過ぎると主光線の +側への傾斜角度が除々に小さくなり、照明領域の周辺端部に至ると、光軸中心と同じく主光線の傾きが無くなる分布となっている。レーザ光の主光線の角度にこのような分布を持たせることにより、 DMD36上の照明領域には、光軸中心に比べて周辺部の光密度が高められた、即ち、光軸中心に比べて周辺部の光輝度が高められたレーザ光が照射される。

[0160] なお、レーザ光の主光線角度に上述した分布を持たせる場合には、主光線の最大傾斜角度 Aによって決定される分布量の大きさは、周辺部での光量低下量以上で、且つ、露光面で要求される露光ビームのテレセントリック性 (主光線と光軸との平行度 )を満足する量以下にすることが好ましい。本実施形態の露光ヘッド 30の場合、露光面における露光ビームの周辺部の光量低下は、主に、 DMD36の光反射側に配置された投影光学系のマイクロレンズアレイ 128 (図 13参照）によって引き起こされるため、上記の分布量の大きさを、例えばこのマイクロレンズアレイ 128によって生じる周辺部の光量低下量以上に設定することが望ましい。また、所定距離 YAについては、この周辺部の光量低下量及び光量低下領域 (光量を補正する領域）に応じて適宜設定することができ、図 14Bに示した例では、光軸中心力も照明領域の周辺端部（DM D36の外周端部）までの距離を YSとすると、 YS >YA>YSZ2に設定している。

[0161] ファイバアレイ光源 38から集光レンズ系 114を介して DMD36に照射された照明光

(レーザ光）は、各マイクロミラー 58の反射面の角度に応じて所定方向に反射されて変調され、変調された光ビームがレンズ系 126により拡大されてマイクロレンズアレイ 128に設けられたマイクロレンズ 132の各々に入射され集光される。そして、この集光された光ビームは、対物レンズ系 130によって感光層 12の露光面上に結像され、このようにして、ファイバアレイ光源 38から照射されたレーザ光が画素毎にオンオフ（変調）されて、感光層 12が DMD36の使用画素数と略同数の画素単位 (露光エリア）で露光される。

[0162] 通常は、この光ビームの光量 (光強度)分布は、レンズ系の要因により光軸の中心部に比べて周辺部が低下してしまうが、本実施形態の露光ヘッド 30には、ファイバァレイ光源 38から出射されたレーザ光の光量分布を均一化して DMD36に照射するために、 DMD36の光入射側の光路上に配置した集光レンズ系 114にロッドインテグレータ 118を設けている。ただし、このロッドインテグレータ 118によっても、本実施形態のように各描画単位をマイクロレンズアレイ 128によって集光する系では、光軸中心部に対する周辺部の光強度低下が顕著となり、より高い精度で画像露光を行う場合に光量分布を要求精度まで補正することが難しい。また、この光量分布の補正精度を高めるために、ロッドインテグレータ 118を長尺化することも考えられる力その場合、ロッドインテグレータ 118は非常に高価な光学部品であるため、装置コストが上昇し、また、露光ヘッド 30が大型化してしまうデメリットがある。

[0163] これに対し、本実施形態の露光ヘッド 30では、前述したように、ファイバアレイ光源 38から集光レンズ系 114へ入射されたレーザ光力図 15中の（1)に示すように、主光線の角度に分布を持ち光軸中心に比べて周辺部の光輝度が高められたレーザ光とされて集光レンズ系 114から出射され、 DMD36に照射されるため、 DMD36のレ一ザ光照射領域における光量分布は、図 15中の（2)に示すように、光軸中心に比ベて周辺部の光量が高められる。そのため、 DMD36により画素毎に変調された光ビームが、図 15中の（3)に示すように、光軸中心力周辺部に行くに従って光の透過量を低下させる特性を持つマイクロレンズアレイ 128を透過して感光層 12の露光面に照射されると、図 15中の（4)に示すように、露光面での光ビームの光量分布は均一になるよう補正される。

[0164] 以上説明した通り、本実施の形態の露光装置では、 2次元的に分布した複数の画素部において、各描画単位の光量が均一になるよう補正され、高精度な画像露光を行うことができる。また、光量分布に応じて DMD36の各マイクロミラー 58の駆動タイミングを変化させるよう駆動制御する技術を組み合わせて用いる場合でも、各描画単位の光量が均一になるよう予め補正されているため、 DMD36の駆動制御部に掛かる負荷が軽減されて処理速度への影響が低減され、また、電気的な回路構成ゃ処理ソフトを簡素化することができて、コストを抑えることができる。

[0165] また、本実施の形態では、上述した光量分布を補正する手段として光学系 (集光レンズ系 114)を用いており、このような光学系からなる光量分布補正手段であれば、簡素且つ安価な構成により実現できる。

[0166] 第 2の実施形態

第 2の実施形態は、上述した第 1の実施形態に係る露光装置の露光ヘッド 30において、集光レンズ系 114に、非球面レンズを有するテレセントリック光学系を設けることで、第 1の実施形態と同様に露光面での光ビームの光量分布を均一化する技術である。

[0167] 第 2の実施形態に係る露光ヘッドでは、例えば集光レンズ系 114に、図 16Aに示すような 2枚で一組の平凸レンズ 152、 154により構成されたテレセントリック光学系 150 が設けられており、このテレセントリック光学系 150は、例えばロッドインテグレータ 11 8と集光レンズ 120の間に配置されている。

[0168] 平凸レンズ 152、 154は、凸面側が非球面状に形成された非球面レンズとされている。レーザ光の入射側（ファイバアレイ光源 38側）に配置された平凸レンズ 152は、入射面 S2の面形状が、曲率半径が光軸 (光軸中心) Xから離れるに従い大きくなる非球面、換言すれば、曲率が光軸 Xから離れるに従い小さくなる非球面とされ、出射面 S3が平面状とされている。また、レーザ光の出射側（DMD36側）に配置された平凸レンズ 154は、入射面 S4が平面状とされ、出射面 S5の面形状力曲率半径が光軸 Xから離れるに従い小さくなる非球面、換言すれば、曲率が光軸 Xから離れるに従 V、大きくなる非球面とされて！/、る。

[0169] 以下、表 1に、本実施形態に係るテレセントリック光学系 150のレンズデータの一例を示し、表 2に、本実施形態に係る入射面 S2及び出射面 S5の非球面データの一例を示す。

[0170] [表 1]

[0171] [表 2]

また、上記の非球面データは、非球面形状を表す下記式（1)における係数で表される。

[0172] [数 1] h²/R

+Ah'

1 + T-h²/R² 上記式において各係数を以下の通り定義する。

Z：光軸から高さ hの位置にある非球面上の点から、非球面の頂点の接平面 (光軸に垂直な平面）に下ろした垂線の長さ（mm)

h:光軸からの距離 (mm) (h²=x²+y )

R:曲率半径（曲率： 1ZR)

A:非球面データ

以上の構成により、本実施形態の露光装置では、図 16Aに示すように、平凸レンズ 152から出射されたレーザ光 LB2では、光軸 Xから離れるに従い焦点距離が長くなる。よって、レーザ光 LB2が平凸レンズ 154の入射面 S4に到達した際には、平凸レンズ 152の周辺部を通過した光に比べて中央付近を通過した光の方力光軸 Xから離れる傾向が強くなる。これにより、レンズの中央付近よりも周辺部の方が光の輝度が高くなる。また、平凸レンズ 154は、平凸レンズ 152とは反対に、光軸 Xから離れるに従い焦点距離が短くなるため、これらの 2枚の平凸レンズ 152、 154を組み合わせると、テレセントリックな光学系を組むことができる。

[0173] これにより、この平凸レンズ 152、 154を有するテレセントリック光学系 150から平行化されて出射されたレーザ光 LB3の光量分布は、光軸中心に対して周辺部の分布密度が高くなり、このレーザ光 LB3が照射された DMD36では、レーザ光照射領域の中心部（光軸中心)よりも周辺部の光量が増加される。

[0174] 図 16Bには、非球面レンズ系とした本実施形態のテレセントリック光学系 150のべースとなる、球面レンズ系のテレセントリック光学系 160の光線図を示す。このテレセントリック光学系 160では、レーザ光 (LB1)の入射側に配置された平凸レンズ 162の入射面 S 2'が球面とされ、レーザ光 (LB3 の出射側に配置された平凸レンズ 164 の出射面が球面とされており、したがって、このテレセントリック光学系 160では、出射面から出射されたレーザ光 LB3'の光量分布は、図 16Bに示すように、光軸中心力も周辺部に掛けてほぼ均等な分布となる。

[0175] このように、第 2の実施形態の非球面レンズ系（テレセントリック光学系 150)では、上記の球面レンズ系（テレセントリック光学系 160)を用いた場合の光量分布との比較からも分かるように、出射されたレーザ光の光量分布は光軸中心に対して周辺部の分布密度が高くなり、光軸中心よりも周辺部の光量が増加される。

[0176] したがって、第 1の実施形態と同様に、 DMD36によって変調された光ビームがマイク口レンズアレイ 128を透過することで、光軸中心部に対する周辺部の光量低下を生じても、露光面には光量分布が均一になるよう補正された光ビームが照射され、このテレセントリック光学系 150を備えた露光装置によっても高精度な画像露光を行うことができる。また、上述したように、テレセントリック光学系 150から出射されるレーザ光は、テレセントリック光として出射されて DMD36に照射されるため、 DMD36に照射するレーザ光のテレセントリック性と、 DMD36により変調された光ビームの露光面での光量分布の均一性との両立を図ることができる。

[0177] また、本実施形態も第 1の実施形態と同様に、光量分布を補正する手段として、 2 枚で一組の平凸レンズ 152、 154からなる光学系を用いていることで、このような光学系からなる光量分布補正手段であれば、簡素な構成により実現できる。

[0178] また、本実施形態では、上記のテレセントリック光学系 150を用いてレーザ光の周辺部の光量を増カロさせていることにより、露光における光利用効率の低下が抑えられる。またこれによつて、ファイバアレイ光源 38から出射するレーザ光の出力を低ィ匕させることも可能になるため、ファイバアレイ光源 38の長寿命化や、高輝度光による光学系の汚染 Z劣化の抑制を図ることもできる。さらに、ファイバアレイ光源 38や光学系のメンテナンス回数を減少させることも可能となり、露光装置のメンテナンスコストを低減することちできる。

[0179] 〔焦点位置精度の補正方法〕

前記結像レンズ系を構成する投影レンズの像面湾曲、非点隔差、歪曲等は、テレセントリック性を低下させ、露光光の焦点位置精度を悪化させるという問題がある。この影響を排除するために多重露光を行うと、露光スピードの低下、画質の低下等が生じるという問題がある。

そこで、結像レンズ系において、被露光面上での露光光の焦点位置精度を補正する方法を以下に説明する。

なお、この方法に好適な露光ヘッドの構成概略図を、図 17、及び図 23に示す。

[0180] 前記焦点位置精度の補正方法としては、例えば、光変調手段により変調された光の光路長を変更し、感光層の被露光面に結像する露光光の焦点を調節する焦点調節手段を用いる方法、及び、前記結像レンズ系の中央部を含む略矩形状の領域のみにおいて、光変調手段により変調された光を結像する方法が好適に挙げられる。また、前記感光層（感光材料)の相対移動の方向を、該感光材料のうねり方向に向けて移動させる方法も好適に挙げられる。

[0181] 図 17に示すように、結像レンズ系 50は、第 1投影レンズ 51と、第 2投影レンズ 52と、マイクロレンズアレイ 55と、アパーチャアレイ 59とを備えて構成されている。 DMD3 6を構成する各マイクロミラーによって反射されて形成された 2次元パターンは、第 1 投影レンズ 51を透過し、所定倍 (例えば、 3倍）に拡大されて結像される。ここで、第 1 投影レンズ 51を透過した光束 Laは、第 1投影レンズ 51による結像位置の近傍に配設されたマイクロレンズアレイ 55の各マイクロレンズ 55aによって個別に集光される。この個別に集光された光束がアパーチャ 59aを通過して結像される。マイクロレンズアレイ 55及びアパーチャアレイ 59を通過して結像された 2次元パターンは、第 2投影レンズ 52を透過して更に所定倍 (例えば、 1. 67倍）に拡大され、くさび型プリズムぺァ 54を透過して感光材料 12上に結像される。最終的には、 DMD36によって形成された 2次元パターンが、第 1投影レンズ 51と第 2投影レンズ 52の拡大倍率をそれぞれ乗算した倍率 (例えば、 3倍 X I. 67倍 = 5倍)で拡大されて、感光材料 12上に投影される。尚、結像レンズ系 50は、必ずしも第 2投影レンズ 52を備えた構成としなくてちょい。

[0182] 投影レンズ

第 1投影レンズ 51及び第 2投影レンズ 52について詳しく説明する。図 18A及び図 1 8Bは第 1投影レンズ 51、第 2投影レンズ 52を構成する投影レンズ 300を示した平面図である。露光装置の露光性能を上げるためには、高いレンズ光学性能 (像面湾曲、非点隔差、歪曲等を抑制、高いテレセン性)を持つ投影レンズが必要となる。しかしながら、投影レンズの全面領域においてレンズ光学性能を向上させようとすると、レンズのコストアップに繋がり、大口径レンズの製造が困難になるという問題がある。一方

、投影レンズの任意の領域のレンズ光学性能を高めるために、故意に所定の領域に歪みを持たせて投影レンズを製造することが可能であることが近年の研究で明らかになった。

[0183] そこで、例えば投影レンズの周辺部分に歪みを持たせ、中央部の歪みを少なくして製造することによって、投影レンズの中央部を含む領域のレンズ光学性能を高め、更に中央部を含む領域にて DMD36によって形成された 2次元パターンを透過させて結像する。例えば、図 18Aに示すように、投影レンズ 300の周辺領域である領域 320 に像面湾曲、領域 330に歪曲が大きいという特性を持たせ、その分投影レンズ 300 の中央部を含む領域の歪みを少なくさせて、レンズ光学性能が高くなるようにして製造する。

[0184] し力し、例えば図 18Aに示すように、 DMD36によって形成された 2次元パターンが投影レンズ 300の領域 310に照射されて透過される場合、 2次元パターンの一部が像面湾曲や歪曲が大きい特性を含む領域を透過することになる。つまり、 2次元バターンは、投影レンズ 300におけるレンズ光学性能の良い領域 340に照射される必要がある。そこで、投影レンズ 300のレンズ光学性能の良い領域 340を選択して 2次元パターンを照射するために、例えば 2次元パターンの光の光軸を中心として図 18Bに示す矢印 Aの方向に投影レンズ 300を回転させる。この回転により、レンズ光学性能の良い領域 340と 2次元パターンが照射される領域 310を一致させ、レンズ光学性能の良い領域 340において 2次元パターンを透過させることができる。このように、レンズ光学性能の良、領域にぉ、て 2次元パターンを透過させて結像させることによって、 2次元パターンが感光材料 12上に投影される際の画質を向上させることができる。

[0185] また、投影レンズの全面領域にぉ、て十分なレンズ光学性能を得ようとすると、大口径の投影レンズの製造が困難であった。しかし、大口径の投影レンズの周辺領域等の任意の領域にレンズ歪みを持たせて、中央部を含む領域のレンズ歪みを少なくすること〖こよって、高いレンズ光学性能を持たせることができる。このような大口径の投影レンズを用いることによって、露光面積が拡大し、露光スピードを速くすることができる。

[0186] 尚、 DMD36から反射された光を投影レンズの中央部を含む一部の領域において結像させるために、 DMD36によって形成される 2次元パターンは、図 18A及び図 1 8Bに示す領域 310のように、長辺の長さが短辺の長さより 2倍以上長い略矩形状のパターンであることが望まし、。

[0187] 投影レンズ 300のレンズ光学性能の良い領域 340に 2次元パターンを選択的に照射させるために、結像レンズ系 50は 2次元パターンの光の光軸を中心として回転可能な構成となっている。図 19上部断面図は結像レンズ系 50を備える鏡筒 400の概略側面断面図であり、図 19下部平面図は、図 19上部断面図における矢印 Bの方向力も見た鏡筒 400の概略平面図である。鏡筒 400は側面につば状のフランジ 410を備えている。フランジ 410にはネジ貫通孔 412が α [° ]毎に形成されている。ブラケット 420にはネジ貫通孔 412に対応させて雌ネジ孔 (不図示）が同じく a [° ]毎に形成され、ネジ（不図示）をフランジ 410のネジ貫通孔 412に揷通して、ブラケット 420 の対応する雌ネジ孔に螺合させることにより、フランジ 410とブラケット 420が固定される。この構造により、鏡筒 400は第 1投影レンズ 51及び第 2投影レンズ 52の光軸を中心として a [° ]ずつ回転させて任意の角度位置で固定させることができる。またネジによってフランジ 410とブラケット 420を固定させる際は、ネジ貫通孔 412のうち、全てのネジ貫通孔 412にネジを揷通してブラケット 420の対応する雌ネジ孔に螺合させてもよいし、例えば対角線上に位置する 2箇所のネジ貫通孔 412にネジを揷通してブラケット 420の対応する雌ネジ孔に螺合させてもよい。

[0188] 鏡筒 400が回転されると、第 1投影レンズ 51及び第 2投影レンズ 52も共に回転する。そして感光材料 12上に投影された 2次元パターンの焦点、画質等の露光性能を計測しながら、最も良い露光性能を示す回転位置でフランジ 410とブラケット 420を固定する。

[0189] このように、鏡筒 400を 2次元パターンの光の光軸を中心に回転させることによって第 1投影レンズ 51及び第 2投影レンズ 52を回転させることにより、第 1投影レンズ 51 及び第 2投影レンズ 52を構成する投影レンズのレンズ光学性能の良い領域と 2次元ノターンの照射領域を一致させることができる。

[0190] 尚、第 1投影レンズ 51及び第 2投影レンズ 52を構成する各投影レンズ毎に独立して回転可能なように構成してもよい。また、鏡筒 400は 2次元パターンの光軸に垂直方向に移動可能なように構成してもよい。或いは、 2次元パターンの光軸の垂直方向に第 1投影レンズ 51及び第 2投影レンズ 52を構成する各投影レンズが独立して移動可能なように構成してもよい。

[0191] このように 2次元パターンを投影レンズの中央部を含む一部の領域にぉ、て結像させるために、 DMD36によって形成される 2次元パターンは、図 18Bに示す領域 310 のように、長辺の長さが短辺の長さより 2倍以上長い略矩形状のパターンであることが望ましい。上記のような略矩形状の 2次元パターンを形成するために、本実施の形態の DMD36は、 DMD36の一部のマイクロミラー 58を駆動制御して辺の長さが短辺の長さより 2倍以上長い略矩形状 2次元パターンを形成する。

[0192] 図 20A及び図 20Bを用いて詳しく説明する。 DMD36には、例えば、露光する際の主走査方向、即ち行方向に 1024画素、更に露光する際の副走査方向、即ち列方向に 756画素のマイクロミラー 58が 2次元状に配置されて、る。本実施の形態では、列方向に 756画素並ぶマイクロミラー 58のうち、一部のマイクロミラー 58 (例えば、 24 0画素）を使用して、 1024 X 240画素の 2次元パターンを形成させる。ここで、列方向に並ぶマイクロミラー 58のうち使用するマイクロミラー 58の数は、行方向に並ぶマイク口ミラー 58の数の 1Z2〜1Z5程度の数であることが望ましい。

[0193] また、 DMD36を構成する全てのマイクロミラーに対して、図 20Aに示す領域 80C のように、 DMD36の中央部を占めるマイクロミラーを使用してもいいし、図 20Bに示す領域 80Tのように、 DMD36の端部付近を占めるマイクロミラーを使用してもよい。また、使用しているマイクロミラーに欠陥が生じた場合は、欠陥が発生していないマイクロミラーの領域を使用するなどして、状況に応じて使用するマイクロミラーの領域を適宜変更してもよい。

[0194] このように、 DMD36を構成するマイクロミラー 58において、列方向に並ぶマイクロミラー 58のうち一部のマイクロミラー 58を使用することによって、長辺の長さが短辺の長さより長い略矩形状の 2次元パターンを形成することができ、第 1投影レンズ 51及び第 2投影レンズ 52を構成する投影レンズの高いレンズ光学性能を持つ領域のみに 2次元パターンを照射させやすくすることができる。また、 DMD36のデータ処理速度は制御するマイクロミラー 58の数 (画素数）に比例する。従って、列方向に並ぶマイク口ミラー 58のうち一部のマイクロミラー 58を使用することによって、データ処理速度を速くすることができ、露光スピードを速くすることができる。更に、 DMD36によって形成される 2次元パターンを小さくすることによって、高価なマイクロレンズアレイ 55を小型化できるため、露光装置のコストを削減することができる。

[0195] 尚、長辺の長さが短辺の長さより長!、略矩形状の 2次元パターンを形成するために、 DMD36において列方向に並ぶマイクロミラー 58のうち、一部のマイクロミラー 58を用いることとして説明した力予め長辺方向のマイクロミラーの数が短辺方向のマイク口ミラーの数より 2倍以上多!、DMDであってもよ!/ヽ。

[0196] 焦点調節手段

図 21はくさび型プリズムペア 54の構成を示す側面図であり、図 22はくさび型プリズムペア 54を示す概略斜視図である。くさび型プリズムペア 54は、 2次元パターンの光の光路長を変更して、 2次元パターンを結像させる際の焦点を調節するための焦点調節手段である。くさび型プリズムペア 54は、くさび型プリズム 540A及び 540Bと、くさび型プリズム 540A及び 540Bをそれぞれ固定するベースプリズムホルダ 541A及び 541Bと、ベースプリズムホルダ 541 Aの両端に配設されたスライドベース 542A及びスライドベース 542A上を移動するスライダ 542Bを含むスライド部 545と、スライド部 545を移動させる駆動部 546とを備えて構成されている。くさび型プリズムペア 54 については、図 22に示すように、例えばガラスやアクリル等の透明材料力もなる平行平板を、この平行平板の平行平面 HI 1及び H22に対して斜めに傾く平面 Hkに沿つて切断することによって得られる一対のくさび型プリズム A及び Bを上記くさび型プリズム 540A及び 540Bとして使用することができる。

[0197] 図 21のくさび型プリズム 540A及び 540Bは、幅 t (例えば、 10[um])の空気層 55 0を介してベースプリズムホルダ 541 A及び 541 Bに固定される。

また、スライドベース 542A及びスライダ 542Bとの組み合わせによってリニアスライドが可能であり、駆動部 546がくさび型プリズム 540A及び 540Bの互いの位置を空気層 550の幅 tが変化しないようにスライド部 545を 1方向（図中矢印 uの方向）に相対的に移動させる。このスライド部 545の移動により、くさび型プリズムペア 54の 2次元パターンの光軸方向の厚さ（平行平面板の厚さから空気層 550の幅 tを除いた厚さ）が変更される。つまり、くさび型プリズムペア 54によって 2次元パターンを形成する光の光路長が変更されることになる。 [0198] このように、第 2投影レンズ 52と感光材料 12の間にくさび型プリズムペア 54を配設することによって、 2次元パターンの光の光路長を簡単に調節することができる。従つて、従来に比べ、第 2投影レンズ 52によって結像された 2次元パターンを感光材料 1 2上に結像する際の焦点調整が簡単且つ短時間で行うことができる。

[0199] 尚、図 23に示すように、くさび型プリズムペア 54をマイクロレンズアレイ 55と第 2投影レンズ 52との間に配置して、 2次元パターンの光の光路長を変更することにより、 2 次元パターンの焦点を調節してもよ、。

[0200] また、焦点調節手段としてくさび型プリズムペア 54を用いた場合を説明したが、これに限定されるものではなぐ結像レンズ系 50を構成する投影レンズの位置を変化させずに焦点調節を行う高ビーム位置精度の焦点調節手段であればよい。例えば、図 2 4A、図 24B、図 25A、及び図 25Bに示すように、マイクロレンズアレイ 55をピエゾ素子 600を用いて焦点方向（図中矢印 Xの方向）に移動させることにより焦点調整を行つてもよい。ピエゾ素子 600を用いることによって、マイクロレンズアレイ 55の焦点方向と垂直な方向への変位を抑えつつ、焦点方向への微小移動を行うことができるため、安定したビーム位置精度を保ちながら焦点調整を行うことができる。

[0201] 感光材料の移動方向

次に露光時の相対移動における感光材料の移動方向について説明する。図 26A に示す感光材料 12と DMD36の位置関係を概略的に示した斜視図である。なお、図 2に示すように、露光装置 10は DMD36を有する露光ヘッド 30を 10個備えることとして説明した力図 26A及び図 26Bでは簡略化して 1個の DMD36にのみ着目して図示し、説明する。

[0202] 図 26Aに示す、 DMD36の全てのマイクロミラー 58に対して領域 80Tを占めるマイクロミラー 58を使用する場合、領域 80Tの短辺方向を感光材料 12のうねり方向に向けて感光材料 12をそのうねり方向に移動させながら (領域 80Tの短辺方向を感光材料 12の移動方向に向ける)感光材料 12に対して露光を行う。図 26Aにおいて、露光エリア 81は DMD36の全てのマイクロミラー 58を使用して 2次元パターンを形成したときの露光エリアであり、露光エリア 81Tは DMD81において領域 80Tを占めるマイクロミラー 58を使用して 2次元パターンを形成したときの露光エリアである。 [0203] 図 26Bは、図 26Aにおいて破線の枠 Pで囲んだ部分を拡大して示した側面図である。図 26Bに示すように、 DMD36の全てのマイクロミラー 58を使用して 2次元パターンを形成した場合、露光エリア 81の感光材料 12に対する最大深度差 (露光エリア 81 内における、感光材料 12表面の最大高低差）は d2となる。一方、 DMD36において領域 80Tを占めるマイクロミラー 58を使用した場合、露光エリア 81Tの感光材料 12 に対する最大深度差は dlとなる。図 26Bに示すように、 dl < d2であり、深度差が小さいほうが深度差が大きい場合より 2次元パターン内における感光材料 12のうねりの度合いが小さい。従って、 2次元パターンの焦点位置をより適切な位置に合わせることがでさる。

[0204] また、 1フレームの露光が終了し、ステージ 14が走査方向に移動することによって感光材料 12が移動すると、露光エリア 81Tの位置が変化し、露光エリア 81T内における感光材料 12のうねりの度合いが変化するため、焦点位置も変化するが、くさび型プリズムペア 54によって焦点調節がなされることにより、焦点位置は即座に調節される。従って、感光材料 12のうねりに対応した長焦点深度を有する露光を行うことができる。

[0205] このように、 DMD36を構成するマイクロミラー 58において、列方向に並ぶマイクロミラー 58のうち一部のマイクロミラー 58を使用して、略矩形状の 2次元パターンを形成させたとき、 2次元パターンの短辺方向を感光材料 12のうねり方向に向けて露光を行うことにより、露光エリア 81T内における感光材料 12のうねりの度合いを少なくすることができる。このため、 2次元パターンの焦点位置を適切な位置に合わせることができ、露光装置 10の焦点深度を従来の露光装置より見かけ上大きくすることができる。従って、露光画質を向上させることができる。

[0206] なお、図 2に示すように、実際には露光ヘッド 30は DMD36の画素列方向が走査方向と所定の設定傾斜角度をなすようにスキャナ 24に取り付けられている。従って、各露光ヘッド 30による露光エリア 32 (図 26A及び図 26Bにおける露光エリア 81Tに相当）は走査方向に対して傾斜した矩形状のエリアとなる。露光エリア 81T内の感光材料 12のうねりの度合いを最小限に抑えるためには、露光エリア 81Tの短辺方向と感光材料 12のうねり方向を完全に一致させることが理想である力露光エリア 81Tが上記所定の設定傾斜角度をなして、ても、露光エリア 81Tの短辺方向が長辺方向より感光材料 12のうねり方向に向!、て!/、ればよ!/、。

[0207] 〔露光パターン像歪みの補正方法〕

前記空間光変調素子の各描素部の面の歪みは、集光位置における光ビームに歪みをもたらすという問題があり、特に、前記 DMDを空間光変調素子として用いた場合には顕著であり、高精細な露光パターンが形成されないという問題がある。

そこで、前記 DMDからの光を収束するマイクロレンズアレイにおいて該 DMDの出射面の歪みを補正する。

なお、この方法に好適な露光ヘッドとしては、例えば、特開 2005— 258431号公報の段落番号 0040〜0046に記載されている構成のものが挙げられる。

[0208] 前記露光パターン像歪みの補正方法としては、例えば、前記マイクロレンズアレイの各マイクロレンズを、前記描素部の面の歪みによる収差を補正する特性を有するものとすることが挙げられ、そのようなマイクロレンズとしては、具体的には、非球面を有するマイクロレンズ、屈折率分布を有するマイクロレンズ、及び周辺部からの光を入射させな、レンズ開口形状を有するマイクロレンズなどが挙げられる。

具体的には、例えば、特開 2005— 258431号公報の段落番号0051〜0088に記載されヽて、るものなどが挙げられる。

[0209] 〔その他の光学系による補正方法〕

上述した以外の光学系による露光光の補正方法としては、特に制限はなぐ公知の光学系の中から適宜選択したその他の光学系と併用してもよぐ例えば、 1対の組合せレンズからなる光量分布補正光学系などが挙げられる。

前記光量分布補正光学系は、光軸に近い中心部の光束幅に対する周辺部の光束幅の比が入射側に比べて出射側の方が小さくなるように各出射位置における光束幅を変化させて、光照射手段からの平行光束を DMDに照射するときに、被照射面での光量分布が略均一になるように補正する。前記光量分布補正光学系としては、例えば、特開 2005— 258431号公報の段落番号 0089〜0105に記載されている手段が挙げられる。

[0210] <パターン信号生成手段 > 前記光変調手段は、形成するパターン情報に基づいて制御信号を生成するパターン信号生成手段を更に有してなり、光照射手段から照射される光を該パターン信号生成手段が生成した制御信号に応じて変調させることが好ましい。

前記パターン信号生成手段を有することにより、前記光変調手段の使用描素部の選択や、露パターンの形成においてグレースケーリングが可能となる。

[0211] 一高速変調

前記光変調手段のデータ処理速度には限界があり、使用する描素数に比例して 1 ライン当りの変調速度が決定されるので、連続的に配列された任意の n個未満の描素部だけを使用することで 1ライン当りの変調速度が速くなる。

前記高速変調を行なうことができる手段としては、例えば、特開 2005— 258431号公報の段落番号 0023〜0027に記載されている手段が挙げられる。

前記公報に記載されている手段のように、コントローラにより一部のマイクロミラー列だけが駆動されるように制御することにより、全部のマイクロミラー列を駆動する場合に比べて、 1ライン当りの変調速度が速くなる。

[0212] 〔多重露光による補正〕

上述のとおり、前記露光ヘッドを構成する各種レンズ系に起因する露光光の歪みの影響は、使用するマイクロミラーを選択し、 N重露光による埋め合わせの効果で均すこともできる。さらに、前記露光ヘッドの取付け位置や取付け角度のズレに起因する解像度のばらつきや濃度ムラも、使用するマイクロミラーを選択し、 N重露光による埋め合わせの効果で均すこともできる。

[0213] 具体的には、走査方向に対し描素部の列方向が所定の設定傾斜角度 Θをなすように配置されてなる露光ヘッドを用い、前記露光ヘッドについて、使用描素部指定手段により、使用可能な前記描素部のうち、 N重露光 (ただし、 Nは 2以上の自然数）に使用する前記描素部を指定し、前記露光ヘッドについて、使用描素部制御手段により、前記使用描素部指定手段により指定された前記描素部のみが露光に関与するように、前記描素部の制御し、前記感光層に対し、前記露光ヘッドを走査方向に相対的に移動させて露光を行う方法が好適に挙げられる。

[0214] 前記 N重露光とは、前記感光層上の被露光面の略すベての領域において、前記露光ヘッドの走査方向に平行な直線が、該被露光面上に照射された N本の光線列と交わる露光をいう。

前記 N重露光の Nとしては、 2以上の自然数であれば、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ、 3以上の自然数が好ましぐ 3以上 7以下の自然数がより好ましい。

[0215] < <使用描素部指定手段 > >

前記使用描素部指定手段としては、描素単位としての光点の位置を被露光面上にお!、て検出する光点位置検出手段と、前記光点位置検出手段による検出結果に基づき、 N重露光を実現するために使用する描素部を選択する描素部選択手段とを少なくとも備えることが好まし、。

以下、前記使用描素部指定手段による、 N重露光に使用する描素部の指定方法の例について説明する。

[0216] (1)単一露光ヘッド内における使用描素部の指定方法

本実施形態（1)では、露光装置 10により、感光層 12に対して 2重露光を行う場合であって、各露光ヘッド 30の取付角度誤差に起因する解像度のばらつきと濃度むらとを軽減し、理想的な 2重露光を実現するための使用描素部の指定方法を説明する

[0217] 露光ヘッド 30の走査方向に対する描素部（マイクロミラー 58)の列方向の設定傾斜角度 Θとしては、露光ヘッド 30の取付角度誤差等がない理想的な状態であれば、使用可能な 1024列 X 256行の描素部を使用してちょうど 2重露光となる角度 Θ より

ideal も、若干大きい角度を採用するものとする。

この角度 Θ は、 N重露光の数 N、使用可能なマイクロミラー 58の列方向の個数 s

ideal

、使用可能なマイクロミラー 58の列方向の間隔 p、及び露光ヘッド 30を傾斜させた状態においてマイクロミラーによって形成される走査線のピッチ δに対し、下記式 1、 spsin θ ≥Ν δ (式 1)

iaeal

により与えられる。本実施形態における DMD36は、上記のとおり、縦横の配置間隔が等しい多数のマイクロミラー 58が矩形格子状に配されたものであるので、 pcos θ = δ (式 2) であり、上記式 1は、

stan Q =N (式 3)

ideal

となる。本実施形態（1)では、上記のとおり s = 256、 N = 2であるので、前記式 3より、角度 Θ は約 0. 45度である。したがって、設定傾斜角度 Θとしては、たとえば 0. 5 ideal

0度程度の角度を採用するとよい。露光装置 10は、調整可能な範囲内で、各露光へッド 30即ち各 DMD36の取付角度がこの設定傾斜角度 Θに近い角度となるように、初期調整されてヽるものとする。

[0218] 図 31は、上記のように初期調整された露光装置 10において、 1つの露光ヘッド 30 の取付角度誤差、及びパターン歪みの影響により、露光面上のパターンに生じるむらの例を示した説明図である。以下の図面及び説明においては、各描素部 (マイクロミラー）により生成され、被露光面上の露光領域を構成する描素単位としての光点につ!、て、第 m行目の光点 ¾: (m)、第 n列目の光点を c (n)、第 m行第 n列の光点を P ( m、 n)とそれぞれ表記するものとする。

[0219] 図 31の上段部分は、ステージ 14を静止させた状態で感光層 12の被露光面上に投影される、使用可能なマイクロミラー 58からの光点群のパターンを示し、下段部分は、上段部分に示したような光点群のパターンが現れて、る状態でステージ 14を移動させて連続露光を行った際に、被露光面上に形成される露光パターンの状態を示したものである。

なお、図 31では、説明の便宜のため、使用可能なマイクロミラー 58の奇数列による露光パターンと偶数列による露光パターンを分けて示してあるが、実際の被露光面上における露光パターンは、これら 2つの露光パターンを重ね合わせたものである。

[0220] 図 31の例では、設定傾斜角度 0を上記の角度 0 よりも若干大きい角度を採用し

meal

た結果として、また露光ヘッド 30の取付角度の微調整が困難であるために、実際の取付角度と上記の設定傾斜角度 Θとが誤差を有する結果として、被露光面上のいずれの領域においても濃度むらが生じている。具体的には、奇数列のマイクロミラーによる露光パターン及び偶数列のマイクロミラーによる露光パターンの双方で、複数の描素部列により形成された、被露光面上の重複露光領域において、理想的な 2重露光に対して露光過多となり、描画が冗長となる領域が生じ、濃度むらが生じている。 [0221] さらに、図 31の例では、露光面上に現れるパターン歪みの一例であって、露光面上に投影された各画素列の傾斜角度が均一ではなくなる「角度歪み」が生じている。このような角度歪みが生じる原因としては、 DMD36と露光面間の光学系の各種収差やアラインメントずれ、及び DMD36自体の歪みやマイクロミラーの配置誤差などが挙げられる。

図 31の例に現れている角度歪みは、走査方向に対する傾斜角度が、図の左方の列ほど小さく、図の右方の列ほど大きくなつている形態の歪みである。この角度歪みの結果として、露光過多となっている領域は、図の左方に示した被露光面上ほど小さく、図の右方に示した被露光面上ほど大きくなつている。

[0222] 上記したような、複数の描素部列により形成された、被露光面上の重複露光領域における濃度むらを軽減するために、前記光点位置検出手段としてスリット 28及び光検出器の組を用い、露光ヘッド 30ごとに実傾斜角度 Θ 'を特定し、該実傾斜角度 Θ ' に基づき、前記描素部選択手段として前記光検出器に接続された前記演算装置を用いて、実際の露光に使用するマイクロミラーを選択する処理を行うものとする。実傾斜角度 θ Ίま、光点位置検出手段が検出した少なくとも 2つの光点位置に基づき、露光ヘッドを傾斜させた状態における被露光面上の光点の列方向と前記露光へッドの走査方向とがなす角度により特定される。

以下、図 32及び図 33を用いて、前記実傾斜角度 Θ 'の特定、及び使用画素選択処理について説明する。

[0223] 一実傾斜角度の特定

図 32は、 1つの DMD36による露光エリア 32と、対応するスリット 28との位置関係を示した上面図である。スリット 28の大きさは、露光エリア 32の幅を十分覆う大きさとされている。

本実施形態（1)の例では、露光エリア 32の略中心に位置する第 512列目の光点列と露光ヘッド 30の走査方向とがなす角度を、上記の実傾斜角度 Θ 'として測定する。具体的には、 DMD36上の第 1行目第 512列目のマイクロミラー 58、及び第 256 行目第 512列目のマイクロミラー 58をオン状態とし、それぞれに対応する被露光面上の光点 P (l, 512)及び Ρ (256, 512)の位置を検出し、それらを結ぶ直線と露光ヘッドの走査方向とがなす角度を実傾斜角度 Θ 'として特定する。

[0224] 図 33は、光点 P (256, 512)の位置の検出手法を説明した上面図である。

まず、第 256行目第 512列目のマイクロミラー 58を点灯させた状態で、ステージ 14 をゆっくり移動させてスリット 28を Y軸方向に沿って相対移動させ、光点 P (256, 512 )が上流側のスリット 28aと下流側のスリット 28bの間に来るような任意の位置に、スリツト 28を位置させる。このときのスリット 28aとスリット 28bとの交点の座標を (XO, YO)とする。この座標 (XO, YO)の値は、ステージ 14に与えられた駆動信号が示す上記の位置までのステージ 14の移動距離、及び、既知であるスリット 28の X方向位置力も決定され、記録される。

[0225] 次に、ステージ 14を移動させ、スリット 28を Y軸に沿って図 33における右方に相対移動させる。そして、図 33において二点鎖線で示すように、光点 P (256、 512)の光が左側のスリット 28bを通過して光検出器で検出されたところでステージ 14を停止させる。このときのスリット 28aとスリット 28bとの交点の座標（XO、 Y1)を、光点 P (256, 512)の位置として記録する。

[0226] 次いで、ステージ 14を反対方向に移動させ、スリット 28を Y軸に沿って図 33における左方に相対移動させる。そして、図 33において二点鎖線で示すように、光点 P (25 6, 512)の光が右側のスリット 28aを通過して光検出器で検出されたところでステージ 14を停止させる。このときのスリット 28aとスリット 28bとの交点の座標（XO, Y2)を光点 P (256, 512)の位置として記録する。

[0227] 以上の測定結果から、光点 P (256, 512)の被露光面上における位置を示す座標

(X, Y)を、 Χ=ΧΟ+ (Υ1— Y2)Z2、 Y= (Y1 +Y2)Z2の計算により決定する。同様の測定により、 P (l, 512)の位置を示す座標も決定し、それぞれの座標を結ぶ直線と、露光ヘッド 30の走査方向とがなす傾斜角度を導出し、これを実傾斜角度 Θ として特定する。

[0228] -使用描素部の選択- このようにして特定された実傾斜角度 Θ 'を用い、前記光検出器に接続された前記演算装置は、下記式 4

ttan 0 (式 4) の関係を満たす値 tに最も近!ヽ自然数 Tを導出し、 DMD36上の 1行目から T行目のマイクロミラーを、本露光時に実際に使用するマイクロミラーとして選択する処理を行う。これにより、第 512列目付近の露光領域において、理想的な 2重露光に対して、露光過多となる領域と、露光不足となる領域との面積合計が最小となるようなマイクロミラーを、実際に使用するマイクロミラーとして選択することができる。

[0229] ここで、上記の値 tに最も近い自然数を導出することに代えて、値 t以上の最小の自然数を導出することとしてもよい。その場合、第 512列目付近の露光領域において、理想的な 2重露光に対して、露光過多となる領域の面積が最小になり、かつ露光不足となる領域が生じな、ようなマイクロミラーを、実際に使用するマイクロミラーとして選択することができる。

また、値 t以下の最大の自然数を導出することとしてもよい。その場合、第 512列目付近の露光領域において、理想的な 2重露光に対して、露光不足となる領域の面積が最小になり、かつ露光過多となる領域が生じないようなマイクロミラーを、実際に使用するマイクロミラーとして選択することができる。

[0230] 図 34は、上記のようにして実際に使用するマイクロミラーとして選択されたマイクロミラーが生成した光点のみを用いて行った露光において、図 31に示した露光面上のむらがどのように改善されるかを示した説明図である。

この例では、上記の自然数 Tとして T= 253が導出され、第 1行目力も第 253行目のマイクロミラーが選択されたものとする。選択されな力つた第 254行目力も第 256行目のマイクロミラーに対しては、前記使用描素部制御手段により、常時オフ状態の角度に設定する信号が送られ、それらのマイクロミラーは、実質的に露光に関与しない。図 34に示すとおり、第 512列目付近の露光領域では、露光過多及び露光不足は、ほぼ完全に解消され、理想的な 2重露光に極めて近い均一な露光が実現される。

[0231] 一方、図 34の左方の領域（図中の c (l)付近)では、前記角度歪みにより、被露光面上における光点列の傾斜角度が中央付近（図中の c (512)付近)の領域における光線列の傾斜角度よりも小さくなつている。したがって、 c (512)を基準として測定された実傾斜角度 θ Ίこ基づいて選択されたマイクロミラーのみによる露光では、偶数列による露光パターン及び奇数列による露光パターンのそれぞれにおいて、理想的な 2重露光に対して露光不足となる領域がわずかに生じてしまう。

し力しながら、図示の奇数列による露光パターンと偶数列による露光パターンとを重ね合わせてなる実際の露光パターンにおいては、露光量不足となる領域が互いに補完され、前記角度歪みによる露光むらを、 2重露光による埋め合わせの効果で最小とすることができる。

[0232] また、図 34の右方の領域（図中の c (1024)付近)では、前記角度歪みにより、被露光面上における光線列の傾斜角度が、中央付近（図中の c (512)付近)の領域における光線列の傾斜角度よりも大きくなつている。したがって、 c (512)を基準として測定された実傾斜角度 θ Ίこ基づいて選択されたマイクロミラーによる露光では、図に示すように、理想的な 2重露光に対して露光過多となる領域がわずかに生じてしまう。しかし、図示の奇数列による露光パターンと偶数列による露光パターンとを重ね合わせてなる実際の露光パターンにおいては、露光過多となる領域が互いに補完され、前記角度歪による濃度むらを、 2重露光による埋め合わせの効果で最小とすることができる。

[0233] 本実施形態（1)では、上述のとおり、第 512列目の光線列の実傾斜角度 Θ 'が測定され、該実傾斜角度 Θ を用い、前記式 (4)により導出された Tに基づいて使用するマイクロミラー 58を選択したが、前記実傾斜角度 Θ 'の特定方法としては、複数の描素部の列方向（光点列）と、前記露光ヘッドの走査方向とがなす複数の実傾斜角度をそれぞれ測定し、それらの平均値、中央値、最大値、及び最小値のいずれかを実傾斜角度 Θ 'として特定し、前記式 4等によって実際の露光時に実際に使用するマイクロミラーを選択する形態としてもょ、。

前記平均値又は前記中央値を実傾斜角度 Θ 'とすれば、理想的な N重露光に対して露光過多となる領域と露光不足となる領域とのバランスがよい露光を実現することができる。例えば、露光過多となる領域と、露光量不足となる領域との合計面積が最小に抑えられ、かつ、露光過多となる領域の描素単位数 (光点数)と、露光不足となる領域の描素単位数 (光点数)とが等しくなるような露光を実現することが可能であるまた、前記最大値を実傾斜角度 Θ 'とすれば、理想的な N重露光に対して露光過多となる領域の排除をより重要視した露光を実現することができ、例えば、露光不足となる領域の面積を最小に抑え、かつ、露光過多となる領域が生じないような露光を実現することが可能である。

さらに、前記最小値を実傾斜角度 Θ 'とすれば、理想的な N重露光に対して露光不足となる領域の排除をより重要視した露光を実現することができ、例えば、露光過多となる領域の面積を最小に抑え、かつ、露光不足となる領域が生じないような露光を実現することが可能である。

[0234] 一方、前記実傾斜角度 Θ の特定は、同一の描素部の列（光点列）中の少なくとも 2 つの光点の位置に基づく方法に限定されない。例えば、同一描素部列 c (n)中の 1 つ又は複数の光点の位置と、該 c (n)近傍の列中の 1つ又は複数の光点の位置とから求めた角度を、実傾斜角度 Θ 'として特定してもよい。

具体的には、 c (n)中の 1つの光点位置と、露光ヘッドの走査方向に沿って直線上かつ近傍の光点列に含まれる 1つ又は複数の光点位置とを検出し、これらの位置情報から、実傾斜角度 Θ 'を求めることができる。さらに、 c (n)列近傍の光点列中の少なくとも 2つの光点（たとえば、 c (n)を跨ぐように配置された 2つの光点）の位置に基づいて求めた角度を、実傾斜角度 Θ 'として特定してもよい。

[0235] 以上のように、露光装置 10を用いた本実施形態（1)の使用描素部の指定方法によれば、各露光ヘッドの取付角度誤差やパターン歪みの影響による解像度のばらつきや濃度のむらを軽減し、理想的な N重露光を実現することができる。

[0236] (2)複数露光ヘッド間における使用描素部の指定方法 < 1 >

本実施形態（2)は、露光装置 10により、感光層 12に対して 2重露光を行う場合である。以下、複数の露光ヘッド 30により形成された被露光面上の重複露光領域であるヘッド間つなぎ領域において、 2つの露光ヘッド（一例として露光ヘッド 30 と 30

12 21

)の X軸方向に関する相対位置の、理想的な状態からのずれに起因する解像度のばらつきと濃度むらとを軽減し、理想的な 2重露光を実現するための使用描素部の指定方法を説明する。

[0237] 各露光ヘッド 30即ち各 DMD36の設定傾斜角度 Θとしては、露光ヘッド 30の取付角度誤差等がない理想的な状態であれば、使用可能な 1024列 X 256行の描素部マイクロミラー 58を使用してちょうど 2重露光となる角度 Θ を採用するものとする。

ideal

この角度 Θ は、上記の実施形態（1)と同様にして前記式 1〜3から求められる。

ideal

本実施形態（2)において、露光装置 10は、各露光ヘッド 30即ち各 DMD36の取付角度がこの角度 Θ となるように、初期調整されているものとする。

ideal

[0238] 図 35は、上記のように初期調整された露光装置 10において、 2つの露光ヘッド（一例として露光ヘッド 30 と 30 )の X軸方向に関する相対位置の、理想的な状態から

12 21

のずれの影響により、被露光面上のパターンに生じる濃度むらの例を示した説明図である。各露光ヘッドの X軸方向に関する相対位置のずれは、露光ヘッド間の相対位置の微調整が困難であるために生じ得るものである。

[0239] 図 35の上段部分は、ステージ 14を静止させた状態で感光層 12の被露光面上に投影される、露光ヘッド 30 と 30 が有する DMD36の使用可能なマイクロミラー 58か

12 21

らの光点群のパターンを示した図である。図 35の下段部分は、上段部分に示したような光点群のパターンが現れている状態でステージ 14を移動させて連続露光を行つた際に、被露光面上に形成される露光パターンの状態を、露光エリア 32

12と 32

21について示したものである。

なお、図 35では、説明の便宜のため、使用可能なマイクロミラー 58の 1列おきの露光パターンを、画素列群 Aによる露光パターンと画素列群 Bによる露光パターンとに分けて示してあるが、実際の被露光面上における露光パターンは、これら 2つの露光パターンを重ね合わせたものである。

[0240] 図 35の例では、上記した X軸方向に関する露光ヘッド 30 と 30 との間の相対位

12 21

置の、理想的な状態からのずれの結果として、画素列群 Aによる露光パターンと画素列群 Bによる露光パターンとの双方で、露光エリア 32 と 32 の前記ヘッド間つなぎ

12 21

領域にお、て、理想的な 2重露光の状態よりも露光量過多な部分が生じてしまっている。

[0241] 上記したような、複数の前記露光ヘッドにより被露光面上に形成される前記ヘッド間つなぎ領域に現れる濃度むらを軽減するために、本実施形態（2)では、前記光点位置検出手段としてスリット 28及び光検出器の組を用い、露光ヘッド 30 と 30 力

12 21 の光点群のうち、被露光面上に形成される前記ヘッド間つなぎ領域を構成する光点のいくつかについて、その位置 (座標）を検出する。該位置 (座標）に基づいて、前記描素部選択手段として前記光検出器に接続された演算装置を用いて、実際の露光に使用するマイクロミラーを選択する処理を行うものとする。

[0242] 一位置 (座標）の検出

図 36は、図 35と同様の露光エリア 32 及び 32 と、対応するスリット 28との位置関

12 21

係を示した上面図である。スリット 28の大きさは、露光ヘッド 30 と 30 による露光済

12 21

み領域 34間の重複部分の幅を十分覆う大きさ、即ち、露光ヘッド 30 と 30 により被

12 21 露光面上に形成される前記ヘッド間つなぎ領域を十分覆う大きさとされている。

[0243] 図 37は、一例として露光エリア 32 の光点 P (256, 1024)の位置を検出する際の

21

検出手法を説明した上面図である。

まず、第 256行目第 1024列目のマイクロミラーを点灯させた状態で、ステージ 14をゆっくり移動させてスリット 28を Y軸方向に沿って相対移動させ、光点 P (256, 1024 )が上流側のスリット 28aと下流側のスリット 28bの間に来るような任意の位置に、スリツト 28を位置させる。このときのスリット 28aとスリット 28bとの交点の座標を (XO, Y0)とする。この座標 (XO, Y0)の値は、ステージ 14に与えられた駆動信号が示す上記の位置までのステージ 14の移動距離、及び、既知であるスリット 28の X方向位置力も決定され、記録される。

[0244] 次に、ステージ 14を移動させ、スリット 28を Y軸に沿って図 37における右方に相対移動させる。そして、図 37において二点鎖線で示すように、光点 P (256, 1024)の光が左側のスリット 28bを通過して光検出器で検出されたところでステージ 14を停止させる。このときのスリット 28aとスリット 28bとの交点の座標（XO, Y1)を、光点 P (256 , 1024)の位置として記録する。

[0245] 次いで、ステージ 14を反対方向に移動させ、スリット 28を Y軸に沿って図 37における左方に相対移動させる。そして、図 37において二点鎖線で示すように、光点 P (25 6, 1024)の光が右側のスリット 28aを通過して光検出器で検出されたところでステージ 14を停止させる。このときのスリット 28aとスリット 28bとの交点の座標（XO, Y2)を、光点 P (256, 1024)として記録する。

[0246] 以上の測定結果から、光点 P (256, 1024)の被露光面における位置を示す座標 ( X、 Y)を、 Χ=Χ0+ (Υ1—Υ2)Ζ2、 Υ= (Υ1 +Υ2)Ζ2の計算により決定する。

[0247] 不使用描素部の特定

図 35の例では、まず、露光エリア 32 の光点 Ρ (256, 1)の位置を、上記の光点位

12

置検出手段としてスリット 28と光検出器の組により検出する。続いて、露光エリア 32

21 の第 256行目の光点行 r (256)上の各光点の位置を、 Ρ (256, 1024) , P (256, 10 23) · · ·と順番に検出していき、露光エリア 32 の光点 P (256, 1)よりも大きい X座標

12

を示す露光エリア 32 の光点 P (256, n)が検出されたところで、検出動作を終了す

21

る。そして、露光エリア 32 の光点列 c (n+ l)から c (1024)を構成する光点に対応

21

するマイクロミラーを、本露光時に使用しないマイクロミラー（不使用描素部）として特定する。

例えば、図 35において、露光エリア 32 の光点 P (256, 1020)力露光エリア 32

21 1 の光点 P (256, 1)よりも大きい X座標を示し、その露光エリア 32 の光点 P (256, 1

2 21

020)が検出されたところで検出動作が終了したとすると、図 38において斜線で覆われた部分 70に相当する露光エリア 32 の第 1021行力も第 1024行を構成する光点

21

に対応するマイクロミラー力本露光時に使用しないマイクロミラーとして特定される。

[0248] 次に、 N重露光の数 Nに対して、露光エリア 32 の光点 P (256, N)の位置が検出

12

される。本実施形態（2)では、 N = 2であるので、光点 P (256, 2)の位置が検出される。

続いて、露光エリア 32

21の光点列のうち、上記で本露光時に使用しないマイクロミラ一に対応する光点列として特定されたものを除き、最も右側の第 1020列を構成する光点の位置を、 P (l, 1020)力も順番に P (l, 1020)、 P (2, 1020) · · ·と検出していき、露光エリア 32 の光点 P (256, 2)よりも大きい X座標を示す光点 P (m, 1020)

12

が検出されたところで、検出動作を終了する。

その後、前記光検出器に接続された演算装置において、露光エリア 32

12の光点 P (

256, 2)の X座標と、露光エリア 32 の光点 P (m， 1020)及び P (m— 1， 1020)の X

21

座標とが比較され、露光エリア 32 の光点 P (m, 1020)の X座標の方が露光エリア 3

21

2 の光点 P (256， 2)の X座標に近い場合は、露光エリア 32 の光点 P (l， 1020)

12 21

力も P (m— 1, 1020)に対応するマイクロミラーが本露光時に使用しないマイクロミラ一として特定される。

また、露光エリア 32 の光点 P (m—1, 1020)の X座標の方が露光エリア 32 の光

21 12 点 P (256, 2)の X座標に近い場合は、露光エリア 32 の光点 P (l、 1020)力も P (m

21

- 2, 1020)に対応するマイクロミラー力本露光に使用しないマイクロミラーとして特定される。

さらに、露光エリア 32 の光点 P (256, N— 1)即ち光点 P (256, 1)の位置と、露光

12

エリア 32 の次列である第 1019列を構成する各光点の位置についても、同様の検

21

出処理及び使用しな！ヽマイクロミラーの特定が行われる。

[0249] その結果、たとえば、図 38において網掛けで覆われた領域 72を構成する光点に対応するマイクロミラーが、実際の露光時に使用しないマイクロミラーとして追加される。これらのマイクロミラーには、常時、そのマイクロミラーの角度をオフ状態の角度に設定する信号が送られ、それらのマイクロミラーは、実質的に露光に使用されない。

[0250] このように、実際の露光時に使用しないマイクロミラーを特定し、該使用しないマイク口ミラーを除いたものを、実際の露光時に使用するマイクロミラーとして選択することにより、露光エリア 32 と 32 の前記ヘッド間つなぎ領域において、理想的な 2重露

12 21

光に対して露光過多となる領域、及び露光不足となる領域の合計面積を最小とすることができ、図 38の下段に示すように、理想的な 2重露光に極めて近い均一な露光を実現することができる。

[0251] なお、上記の例においては、図 38において網掛けで覆われた領域 72を構成する光点の特定に際し、露光エリア 32 の光点 P (256, 2)の X座標と、露光エリア 32 の

12 21 光点 P (m， 1020)及び P (m— 1， 1020)の X座標との比較を行わずに、ただちに、露光エリア 32 の光点 P (l， 1020)力ら P (m— 2， 1020)に対応するマイクロミラー

21

を、本露光時に使用しないマイクロミラーとして特定してもよい。その場合、前記ヘッド間つなぎ領域にぉ、て、理想的な 2重露光に対して露光過多となる領域の面積が最小になり、かつ露光不足となる領域が生じないようなマイクロミラーを、実際に使用するマイクロミラーとして選択することができる。

また、露光エリア 32 の光点 P (l, 1020)力ら P (m— 1, 1020)に対応するマイクロ

21

ミラーを、本露光に使用しないマイクロミラーとして特定してもよい。その場合、前記へッド間つなぎ領域において、理想的な 2重露光に対して露光不足となる領域の面積が最小になり、かつ露光過多となる領域が生じないようなマイクロミラーを、実際に使用するマイクロミラーとして選択することができる。

さらに、前記ヘッド間つなぎ領域において、理想的な 2重描画に対して露光過多となる領域の描素単位数 (光点数)と、露光不足となる領域の描素単位数 (光点数)とが等しくなるように、実際に使用するマイクロミラーを選択することとしてもよい。

[0252] 以上のように、露光装置 10を用いた本実施形態（2)の使用描素部の指定方法によれば、複数の露光ヘッドの X軸方向に関する相対位置のずれに起因する解像度のばらつきと濃度むらとを軽減し、理想的な N重露光を実現することができる。

[0253] (3)複数露光ヘッド間における使用描素部の指定方法 < 2 >

本実施形態（3)は、露光装置 10により、感光層 12に対して 2重露光を行う場合である。以下、複数の露光ヘッド 30により形成された被露光面上の重複露光領域であるヘッド間つなぎ領域において、 2つの露光ヘッド（一例として露光ヘッド 30 と 30

12 21

)の X軸方向に関する相対位置の理想的な状態からのずれ、並びに各露光ヘッドの取付角度誤差、及び 2つの露光ヘッド間の相対取付角度誤差に起因する解像度のばらつきと濃度むらとを軽減し、理想的な 2重露光を実現するための使用描素部の指定方法を説明する。

[0254] 各露光ヘッド 30即ち各 DMD36の設定傾斜角度としては、露光ヘッド 30の取付角度誤差等がな!ヽ理想的な状態であれば、使用可能な 1024列 X 256行の描素部 (マイク口ミラー 58)を使用してちょうど 2重露光となる角度 Θ よりも若干大きい角度を採

ideal

用するものとする。

この角度 Θ は、前記式 1〜3を用いて上記（1)の実施形態と同様にして求められ

ideal

る値であり、本実施形態では、上記のとおり s = 256、 N= 2であるので、角度 Θ は

ideal 約 0. 45度である。したがって、設定傾斜角度 0としては、たとえば 0. 50度程度の角度を採用するとよい。露光装置 10は、調整可能な範囲内で、各露光ヘッド 30即ち各 DMD36の取付角度がこの設定傾斜角度 Θに近い角度となるように、初期調整されているものとする。

[0255] 図 39は、上記のように各露光ヘッド 30即ち各 DMD36の取付角度が初期調整された露光装置 10において、 2つの露光ヘッド（一例として露光ヘッド 30 と 30 )の取

12 21 付角度誤差、並びに各露光ヘッド 30 と 30 間の相対取付角度誤差及び相対位置

12 21

のずれの影響により、露光面上のパターンに生じるむらの例を示した説明図である。

[0256] 図 39の例では、図 35の例と同様の、 X軸方向に関する露光ヘッド 30 と 30 の相

12 21 対位置のずれの結果として、一列おきの光点群 (画素列群 A及び B)による露光パターンの双方で、露光エリア 32 と 32 の被露光面上の前記露光ヘッドの走査方向と

12 21

直交する座標軸上で重複する露光領域にお!、て、理想的な 2重露光の状態よりも露光量過多な領域 74が生じ、これが濃度むらを引き起こしている。

さらに、図 39の例では、各露光ヘッドの設定傾斜角度 Θを前記式（1)を満たす角度 Θ よりも若干大きくしたことによる結果、及び各露光ヘッドの取付角度の微調整 ideal

が困難であるために、実際の取付角度が上記の設定傾斜角度 0からずれてしまったことの結果として、被露光面上の前記露光ヘッドの走査方向と直交する座標軸上で重複する露光領域以外の領域でも、一列おきの光点群 (画素列群 A及び B)による露光パターンの双方で、複数の描素部列により形成された、被露光面上の重複露光領域である描素部列間つなぎ領域において、理想的な 2重露光の状態よりも露光過多となる領域 76が生じ、これがさらなる濃度むらを引き起こしている。

[0257] 本実施形態（3)では、まず、各露光ヘッド 30 と 30 の取付角度誤差及び相対取

12 21

付角度のずれの影響による濃度むらを軽減するための使用画素選択処理を行う。具体的には、前記光点位置検出手段としてスリット 28及び光検出器の組を用い、露光ヘッド 30 と 30 のそれぞれについて、実傾斜角度 Θ 'を特定し、該実傾斜角

12 21

度 θ Ίこ基づき、前記描素部選択手段として光検出器に接続された演算装置を用いて、実際の露光に使用するマイクロミラーを選択する処理を行うものとする。

[0258] 一実傾斜角度の特定

実傾斜角度 Θ 'の特定は、露光ヘッド 30 ついては露光エリア 32 内の光点 P (l,

12 12

1)と Ρ (256， 1)の位置を、露光ヘッド 30 については露光エリア 32 内の光点 P (l

21 21

, 1024)と Ρ (256, 1024)の位置を、それぞれ上述した実施形態（2)で用いたスリツト 28と光検出器の組により検出し、それらを結ぶ直線の傾斜角度と、露光ヘッドの走查方向とがなす角度を測定することにより行われる。 [0259] 不使用描素部の特定

そのようにして特定された実傾斜角度 Θ 'を用いて、光検出器に接続された演算装置は、上述した実施形態（1)における演算装置と同様、下記式 4

ttan 0 (式 4)

の関係を満たす値 tに最も近い自然数 Tを、露光ヘッド 30 と 30 のそれぞれについ

12 21

て導出し、 DMD36上の第 (T+ 1)行目力も第 256行目のマイクロミラーを、本露光に使用しないマイクロミラーとして特定する処理を行う。

例えば、露光ヘッド 30 については T= 254、露光ヘッド 30 については Τ= 255

12 21

が導出されたとすると、図 40において斜線で覆われた部分 78及び 80を構成する光点に対応するマイクロミラー力本露光に使用しないマイクロミラーとして特定される。これにより、露光エリア 32 と 32 のうちヘッド間つなぎ領域以外の各領域において

12 21

、理想的な 2重露光に対して露光過多となる領域、及び露光不足となる領域の合計面積を最小とすることができる。

[0260] ここで、上記の値 tに最も近い自然数を導出することに代えて、値 t以上の最小の自然数を導出することとしてもよい。その場合、露光エリア 32 と 32 の、複数の露光へ

12 21

ッドにより形成された被露光面上の重複露光領域であるヘッド間つなぎ領域以外の各領域において、理想的な 2重露光に対して露光量過多となる面積が最小になり、かつ露光量不足となる面積が生じな、ようになすことができる。

あるいは、値 t以下の最大の自然数を導出することとしてもよい。その場合、露光ェリア 32 と 32 の、複数の露光ヘッドにより形成された被露光面上の重複露光領域

12 21

であるヘッド間つなぎ領域以外の各領域にぉ、て、理想的な 2重露光に対して露光不足となる領域の面積が最小になり、かつ露光過多となる領域が生じないようになすことができる。

複数の露光ヘッドにより形成された被露光面上の重複露光領域であるヘッド間つなぎ領域以外の各領域において、理想的な 2重露光に対して、露光過多となる領域の描素単位数 (光点数)と、露光不足となる領域の描素単位数 (光点数)とが等しくなるように、本露光時に使用しな、マイクロミラーを特定することとしてもよ!/、。

[0261] その後、図 40において斜線で覆われた領域 78及び 80を構成する光点以外の光点に対応するマイクロミラーに関して、図 35から図 39を用いて説明した本実施形態（ 3)と同様の処理がなされ、図 40において斜線で覆われた領域 82及び網掛けで覆われた領域 84を構成する光点に対応するマイクロミラーが特定され、本露光時に使用しな、マイクロミラーとして追加される。

これらの露光時に使用しないものとして特定されたマイクロミラーに対して、前記描素部素制御手段により、常時オフ状態の角度に設定する信号が送られ、それらのマイク口ミラーは、実質的に露光に関与しない。

[0262] 以上のように、露光装置 10を用いた本実施形態（3)の使用描素部の指定方法によれば、複数の露光ヘッドの X軸方向に関する相対位置のずれ、並びに各露光ヘッドの取付角度誤差、及び露光ヘッド間の相対取付角度誤差に起因する解像度のばらつきと濃度むらとを軽減し、理想的な N重露光を実現することができる。

[0263] 以上、露光装置 10による使用描素部指定方法ついて詳細に説明したが、上記実施形態（1)〜（3)は一例に過ぎず、本発明の範囲を逸脱することなく種々の変更が可能である。

[0264] また、上記の実施形態（1)〜（3)では、被露光面上の光点の位置を検出するための手段として、スリット 28と単一セル型の光検出器の組を用いた力これに限られず V、かなる形態のものを用いてもよぐたとえば 2次元検出器等を用いてもょ、。

[0265] さらに、上記の実施形態（1)〜（3)では、スリット 28と光検出器の組による被露光面上の光点の位置検出結果から実傾斜角度 Θ 'を求め、その実傾斜角度 θ Ίこ基づいて使用するマイクロミラーを選択したが、実傾斜角度 Θ 'の導出を介さずに使用可能なマイクロミラーを選択する形態としてもよい。さらには、たとえばすべての使用可能なマイクロミラーを用いた参照露光を行い、参照露光結果の目視による解像度や濃度のむらの確認等により、操作者が使用するマイクロミラーを手動で指定する形態も、本発明の範囲に含まれるものである。

[0266] なお、被露光面上に生じ得るパターン歪みには、上記の例で説明した角度歪みの他にも、種々の形態が存在する。

一例としては、図 41 Aに示すように、 DMD36上の各マイクロミラー 58からの光線力異なる倍率で露光面上の露光エリア 32に到達してしまう倍率歪みの形態があるまた、別の例として、図 41Bに示すように、 DMD36上の各マイクロミラー 58からの光線力、異なるビーム径で露光面上の露光エリア 32に到達してしまうビーム径歪みの形態もある。これらの倍率歪み及びビーム径歪みは、主として、 DMD36と露光面間の光学系の各種収差やアラインメントずれに起因して生じる。

更に別の例として、 DMD36上の各マイクロミラー 58からの光線力異なる光量で露光面上の露光エリア 32に到達してしまう光量歪みの形態もある。この光量歪みは、各種収差やアラインメントずれのほ力、 DMD36と露光面間の光学要素（たとえば 1 枚レンズである図 5A及び図 5Bのレンズ 52及び 54)の透過率の位置依存性や、 DM D36自体による光量むらに起因して生じる。これらの形態のパターン歪みも、露光面上に形成されるパターンに解像度や濃度のむらを生じさせる。

[0267] 上記の実施形態（1)〜（3)によれば、本露光に実際に使用するマイクロミラーを選択した後の、これらの形態のパターン歪みの残留要素も、上記の角度歪みの残留要素と同様、 2重露光による埋め合わせの効果で均すことができる。

[0268] < <参照露光 > >

上記の実施形態（1)〜（3)の変更例として、使用可能なマイクロミラーのうち、（N—

1)列おきのマイクロミラー列、又は全光点行のうち 1ZN行に相当する隣接する行を構成するマイクロミラー群のみを使用して参照露光を行、、均一な露光を実現できるように、前記参照露光に使用されたマイクロミラー中、実際の露光時に使用しないマイク口ミラーを特定することとしてもよ、。

前記参照露光手段による参照露光の結果をサンプル出力し、該出力された参照露光結果に対し、解像度のばらつきや濃度のむらを確認し、実傾斜角度を推定するなどの分析を行う。前記参照露光の結果の分析は、操作者の目視による分析であってちょい。

[0269] 図 42A及び図 42Bは、単一露光ヘッドを用い、（N—1)列おきのマイクロミラーのみを使用して参照露光を行う形態の一例を示した説明図である。

この例では、本露光時は 2重露光とするものとし、したがって、 N = 2である。まず、図 42Aに実線で示した奇数列の光点列に対応するマイクロミラーのみを使用して参照露光を行い、参照露光結果をサンプル出力する。前記サンプル出力された参照露光結果に基づき、解像度のばらつきや濃度のむらを確認したり、実傾斜角度を推定したりすることで、本露光時において使用するマイクロミラーを指定することができる。例えば、図 42Bに斜線で覆って示す光点列に対応するマイクロミラー以外のマイク口ミラーが、奇数列の光点列を構成するマイクロミラー中、本露光において実際に使用されるものとして指定される。偶数列の光点列については、別途同様に参照露光を行って、本露光時に使用するマイクロミラーを指定してもよいし、奇数列の光点列に対するパターンと同一のパターンを適用してもよい。

このようにして本露光時に使用するマイクロミラーを指定することにより、奇数列及び偶数列双方のマイクロミラーを使用した本露光においては、理想的な 2重露光に近い状態が実現できる。

図 43は、複数の露光ヘッドを用い、（N—1)列おきのマイクロミラーのみを使用して参照露光を行う形態の一例を示した説明図である。

この例では、本露光時は 2重露光とするものとし、したがって、 N = 2である。まず、図 43に実線で示した、 X軸方向に関して隣接する 2つの露光ヘッド（一例として露光ヘッド 30 と 30 )の奇数列の光点列に対応するマイクロミラーのみを使用して、参

12 21

照露光を行い、参照露光結果をサンプル出力する。前記出力された参照露光結果に基づき、 2つの露光ヘッドにより被露光面上に形成されるヘッド間つなぎ領域以外の領域における解像度のばらつきや濃度のむらを確認したり、実傾斜角度を推定したりすることで、本露光時において使用するマイクロミラーを指定することができる。例えば、図 43に斜線で覆って示す領域 86及び網掛けで示す領域 88内の光点列に対応するマイクロミラー以外のマイクロミラー力奇数列の光点を構成するマイクロミラー中、本露光時において実際に使用されるものとして指定される。偶数列の光点列については、別途同様に参照露光を行って、本露光時に使用するマイクロミラーを指定してもよいし、奇数列目の画素列に対するパターンと同一のパターンを適用してちょい。

このようにして本露光時に実際に使用するマイクロミラーを指定することにより、奇数列及び偶数列双方のマイクロミラーを使用した本露光においては、 2つの露光ヘッドにより被露光面上に形成される前記ヘッド間つなぎ領域以外の領域にぉ、て、理想的な 2重露光に近い状態が実現できる。

[0271] 図 44A及び図 44Bは、単一露光ヘッドを用い、全光点行数の IZN行に相当する隣接する行を構成するマイクロミラー群のみを使用して参照露光を行う形態の一例を示した説明図である。

この例では、本露光時は 2重露光とするものとし、したがって N = 2である。まず、図 44Aに実線で示した 1行目から 128 ( = 256Z2)行目の光点に対応するマイクロミラ一のみを使用して参照露光を行い、参照露光結果をサンプル出力する。前記サンプル出力された参照露光結果に基づき、本露光時において使用するマイクロミラーを旨定することができる。

例えば、図 44Bに斜線で覆って示す光点群に対応するマイクロミラー以外のマイク口ミラーが、第 1行目から第 128行目のマイクロミラー中、本露光時にお、て実際に使用されるものとして指定され得る。第 129行目から第 256行目のマイクロミラーについては、別途同様に参照露光を行って、本露光時に使用するマイクロミラーを指定してもよいし、第 1行目から第 128行目のマイクロミラーに対するパターンと同一のパターンを適用してもよ、。

このようにして本露光時に使用するマイクロミラーを指定することにより、全体のマイクロミラーを使用した本露光においては、理想的な 2重露光に近い状態が実現できる

[0272] 図 45は、複数の露光ヘッドを用い、 X軸方向に関して隣接する 2つの露光ヘッド（一例として露光ヘッド 30 と 30 )について、それぞれ全光点行数の 1ZN行に相当

12 21

する隣接する行を構成するマイクロミラー群のみを使用して参照露光を行う形態の一例を示した説明図である。

この例では、本露光時は 2重露光とするものとし、したがって N = 2である。まず、図 45に実線で示した第 1行目力も第 128 ( = 256/2)行目の光点に対応するマイクロミラーのみを使用して、参照露光を行い、参照露光結果をサンプル出力する。前記サンプル出力された参照露光結果に基づき、 2つの露光ヘッドにより被露光面上に形成されるヘッド間つなぎ領域以外の領域における解像度のばらつきや濃度のむらを最小限に抑えた本露光が実現できるように、本露光時において使用するマイクロミラーを指定することができる。

例えば、図 45に斜線で覆って示す領域 90及び網掛けで示す領域 92内の光点列に対応するマイクロミラー以外のマイクロミラー力第 1行目から第 128行目のマイクロミラー中、本露光時において実際に使用されるものとして指定される。第 129行目から第 256行目のマイクロミラーについては、別途同様に参照露光を行って、本露光に使用するマイクロミラーを指定してもよ、し、第 1行目から第 128行目のマイクロミラーに対するパターンと同一のパターンを適用してもよい。

このようにして本露光時に使用するマイクロミラーを指定することにより、 2つの露光ヘッドにより被露光面上に形成される前記ヘッド間つなぎ領域以外の領域において理想的な 2重露光に近い状態が実現できる。

[0273] 以上の実施形態（1)〜（3)及び変更例においては、いずれも本露光を 2重露光とする場合について説明した力これに限定されず、 2重露光以上のいかなる多重露光としてもよい。特に 3重露光力 7重露光程度とすることにより、高解像度を確保し、解像度のばらつき及び濃度むらが軽減された露光を実現することができる。

[0274] また、上記の実施形態及び変更例に係る露光装置には、さらに、画像データが表す 2次元パターンの所定部分の寸法が、選択された使用画素により実現できる対応部分の寸法と一致するように、画像データを変換する機構が設けられてヽることが好ましい。そのように画像データを変換することによって、所望の 2次元パターンどおりの高精細なパターンを露光面上に形成することができる。

[0275] 〔ジャギー低減方法〕

解像度を高めるために、前記露光ヘッドを傾斜させて露光を行うと、形成する露光パターンによっては、無視できないジャギーが発生してしまうという問題がある。例えば、走査方向又はそれと直交する方向に延在する直線状のパターンを形成する場合、前記光変調手段によって形成される各描素部の位置と、パターンの所望の描画位置との間のずれがジャギーとして視認されてしまうことがある。

この問題に対し、単位面積当たりの描画画素数を増加させる等の手段を講じることなぐ最適な描画条件を設定することにより、ジャギーの発生を抑制する方法を説明する。

[0276] 図 46は、図 47に示す各露光ヘッド 24a〜24jの構成を示す。前記露光ヘッド 24a 〜24jは、図 47に示すように、シートフィルム F (感光材料 12)の走査方向（移動ステージ 14の移動方向）と直交する方向に 2列で千鳥状に配列される。各露光ヘッド 24a 〜24jに組み込まれる DMD36は、図 48に示すように、高い解像度を実現すベぐ走查方向に対して所定角度傾斜した状態に設定される。即ち、 DMD36をシートフィルム F (感光材料 12)の走査方向に対して傾斜させることにより、 DMD36を構成するマイク口ミラーの走査方向と直交する方向に対する間隔が狭くなり、これによつて、走査方向と直交する方向に対する解像度を高くすることができる。なお、露光ヘッド 24a〜 24j間の継ぎ目が生じることのないよう、各露光ヘッド 24a〜24jによる露光エリア 58a 〜58jが走査方向と直交する方向に重畳するように設定される。

[0277] 図 49は、図 1に示す露光装置 10の制御回路の要部構成ブロック図である。露光装置 10を制御する制御ユニット 42 (制御手段）は、エンコーダ 62により検出した移動ステージ 14の位置データに基づいて同期信号を生成する同期信号生成部 64と、生成された同期信号に基づいて移動ステージ 14を走査方向に移動させる露光ステージ駆動部 66と、シートフィルム F (感光材料 12)に描画される画像の描画データを記憶する描画データ記憶部 68と、同期信号及び描画データに基づ!/、て DMDの SRAM セルを変調制御し、マイクロミラーを駆動する DMD変調部 70とを備える。

[0278] また、制御ユニット 42は、同期信号生成部 64により生成される同期信号を調整する周波数変更部 72 (描画タイミング変更手段)、位相差変更部 74 (位相差変更手段）及び移動速度変更部 75 (移動速度変更手段)を備える。

[0279] 周波数変更部 72は、 DMDを構成するマイクロミラーの走査方向に対するオンオフ制御のタイミングを決定する周波数を変更して同期信号生成部 64に供給し、シートフィルム F (感光材料 12)に描画される画素の走査方向の間隔を調整する。位相差変更部 74は、走査方向と略直交する方向に隣接して配列されたマイクロミラー 40のオンオフ制御のタイミングの位相差を変更して同期信号生成部 64に供給し、シートフイルム F (感光材料 12)に描画される画素の走査方向に対する位相差を調整する。移動速度変更部 75は、移動ステージ 14の移動速度を変更して同期信号生成部 64 に供給することで移動ステージ 14の移動速度を調整する。

[0280] さらに、制御ユニット 42には、必要に応じて、露光ヘッド回転駆動部 76 (描画画素群回転手段)及び光学倍率変更部 78 (描画倍率変更手段)を配設することができる。露光ヘッド回転駆動部 76は、露光ヘッド 24a〜24jをレーザビーム Lの光軸の回りに所定角度回転させ、シートフィルム F (感光材料 12)上に形成される画素配列の走查方向に対する傾斜角度を調整する。なお、露光ヘッド 24a〜24jの一部の光学部材を回転させることによって、画素配列の傾斜角度を調整するようにしてもよい。光学倍率変更部 78は、露光ヘッド 24a〜24jの第 2結像光学レンズ 50、 52により構成されるズーム光学系 79を制御して光学倍率を変更し、隣接するマイクロミラーによりシ一トフイルム F (感光材料 12)上に形成される画素の配列ピッチ又は同一のマイクロミラーによる描画ピッチを調整する。

[0281] 本実施形態の露光装置 10は、基本的には以上のように構成されるものであり、次に、

その動作について説明する。

[0282] 移動ステージ 14に感光材料 12を吸着保持させた後、制御ユニット 42は、露光ステージ駆動部 66を駆動し、移動ステージ 14を定盤 14のガイドレール 20に沿って一方の方向に移動させる。移動ステージ 14がコラム 22間を通過する際、カメラ 26が感光材料 12)の所定位置に記録されているァライメントマークを読み取る。制御ユニット 4 2は、読み取ったァライメントマークの位置データに基づき、シートフィルム Fの位置補正データを算出する。

[0283] 位置補正データが算出された後、制御ユニット 42は、移動ステージ 14を他方の方向に移動させ、スキャナ 26によりシートフィルム F (感光材料 12)に対する画像の露光記録を開始する。

[0284] 即ち、光源ユニット 28から出力されたレーザビーム Lは、光ファイバ 30を介して各露光ヘッド 24a〜24jに導入される。導入されたレーザビーム Lは、ロッドレンズ 32から反射ミラー 34を介して DMD36に入射する。

[0285] 一方、描画データ記憶部 68から読み出され、位置補正データにより補正された描画データは、 DMD変調部 70において、同期信号生成部 64から供給される同期信号に従ったタイミングで変調されて DMD36に供給される。この結果、 DMD36を構成する各マイクロミラーが描画データに従い同期信号に応じたタイミングでオンオフ制御される。

[0286] 図 50に示すように、 DMD36を構成する各マイクロミラー 40により所望の方向に選択的に反射されたレーザビーム Lは、第 1結像光学レンズ 44、 46によって拡大された後、マイクロアパーチャアレー 54、マイクロレンズアレー 48及びマイクロアパーチャァレー 56を介して所定の径に調整され、次いで、光学倍率変更部 78を構成する第 2 結像光学レンズ 50、 52により所定の倍率に調整されて感光材料 12に導かれる。

[0287] この場合、移動ステージ 14は移動し、シートフィルム F (感光材料 12)には、露光ステージ 18の移動方向と直交する方向に配列される複数の露光ヘッド 24a〜24jにより所望の二次元画像が描画される。

[0288] ところで、前記のようにしてシートフィルム F (感光材料 12)上に描画される二次元画像は、 DMD36を構成するマイクロミラーに基づく離散的な多数の画素の集合によつて構成されている。この場合、描画前のオリジナル画像は、シートフィルム F (感光材料 12)上の離散的な描画点にマッピングされて再現されるため、オリジナル画像と描画点の配置との関係で、再現画像にジャギーが発生し、あるいは、オリジナル画像の線幅の精度が低下する、 t 、つた不具合の発生するおそれがある。

[0289] 本発明は、シートフィルム F (感光材料 12)上に形成される描画点の配置を調整することにより、ジャギーの発生を抑制し、適切な画像の描画を可能とするものであり、次にその調整方法について説明する。

[0290] 図 50は、 1つの DMD36を構成する多数のマイクロミラー 40の配列を模式的に示した図である。図 50において、感光材料 12の走査方向を y、走査方向 yと直交する方向を Xとし、略走査方向 yに沿って配列されるマイクロミラー 40の列をスヮス 77と定義する。この場合、スヮス 77は、描画される画像の X方向に対する解像度を高めるため、 X方向に対して所定の角度 0 s (以下、スヮス傾斜角度 0 s (≠90° )という。 )に設定される。なお、スヮス 77上で隣接する 2つのマイクロミラー 40を DMD画素 A、 Bとする

[0291] 図 51は、図 50に示すように設定された DMD36を用いた感光材料 12上での描画可能な描画点であるアドレス格子点 (制御点）（実線丸及び点線丸で示す。）と、描画したい直線状のオリジナル画像 80との関係を模式的に示した図である。この場合、ォリジナル画像 80は、実線丸で示される複数のアドレス格子点によって再現される。なお、レーザビーム Lは、各アドレス格子点を中心とする所定のビーム径（ドット径)で画素を形成する。従って、シートフィルム F (感光材料 12)上に実際に形成される画像は、外郭線 82で示すように、実線で示すアドレス格子点の輪郭よりも広がった画像となる。

[0292] アドレス格子点の配列は、図 51に示すように、格子点列 1、格子点列 2、及び格子点列 3の 3種類の見方がある。各格子点列を特定するパラメータとしては、格子点列 1 〜3の X方向に対する傾斜角度 Θ gi(i=l〜3)、格子点列 1〜3を構成するアドレス格子点の格子点ピッチ 8^=1〜3)、及び、格子点列 1〜3の列ピッチ dgi(i=l〜 3)がある。

[0293] これらのパラメータは、スヮス 77上での隣接する DMD画素 A、 B (図 50参照）により感光材料 12上に形成されるアドレス格子点（以下、アドレス格子点 A、 Bとも言う。）の配列ピッチ ps、スヮス傾斜角度 0 s(x方向を基準として反時計回りを +とする。）、各アドレス格子点の y方向に対する描画ピッチ pyにより決定される。以下、これらのパラメータ間の関係を説明する。

[0294] (a) 傾斜角度 0gi(i=l〜3)

図 52に示す 3つの隣接するアドレス格子点 A、 B' 、 "を考える。格子点列 3の傾斜角度 0g3は、

0g3 = 9O° (1)

である。また、格子点列 1、 2の傾斜角度 Θ gl、 Θ g2については、

N 1 = integer (ps · sm Θ s/ py)

(integerは、切り捨て演算を表す。 )

N2=N1+1

とすると、アドレス格子点 Aに対するアドレス格子点、B" の y方向の距離 Ayl、 Ay2(位相差）は、

Δνί= I ps-sin Θ s— pyNi | U=l、 2) となる。また、アドレス格子点 A、 B' 、 "の X方向の描画ピッチ pxは、 pX = pS'COS Θ S

であるから、

(i=l、 2) (2)

となる。従って、格子点列 1〜3の傾斜角度 Θ gl、 Θ g2は、

Θ gi=tan { I ps · sin Θ s— pyNi | / (ps'cos Θ s) }

(i=l、 2) (3)

として求められる。

[0295] (b) 格子点ピッチ pgi(i=l〜3)

格子点列 3は、 y方向に配列されたアドレス格子点で構成されるから、

pg3=py (4)

である。また、

pgi=px, cos Θ gi (ι=1、 2) (5)

である。

[0296] (c) 列ピッチ dgi(i=l〜3)

格子点列 3の列ピッチ dg3は、

dg3=px (6)

である。また、

dgi=pycos0gi (i=l、 2) (7)

である。

[0297] 一方、オリジナル画像 80をアドレス格子点によって再現した際に発生するジャギーは、格子点列 1〜3によって発生するため、上記で求めた格子点列 1〜3のパラメータ及びオリジナル画像 80の X方向に対する傾斜角度 Θ Lを用いて定義することができる。この場合、ジャギーをジャギーピッチ pjl〜pj3、ジャギー振幅 ajl〜aj3で表す。

[0298] (d) ジャギーピッチ pji(i=l〜3)

ジャギーピッチ pjiは、格子点列 1〜3の列ピッチ dgiと、格子点列 1〜3の傾斜角度 Θ gi及びオリジナル画像 80の傾斜角度 Θ Lの差（ Θ gi— Θ L)とで決まる。この場合、各格子点列 1〜3上にアドレス格子点が連続的に形成されるものと仮定して、平均値としてのジャギーピッチ pjiは、

0 L) (i= l〜3) (8)

となる。

[0299] (e) ジャギー振幅 aji(i= l〜3)

図 53は、格子点列 1とオリジナル画像 80との間で発生するジャギーの説明図である。この場合、オリジナル画像 80の境界と格子点列 1との交点間の距離がジャギーピツチ pj lとなる。また、ジャギー振幅 aj lは、格子点列 1及び格子点列 2と、格子点列 1 及び格子点列 3との間でそれぞれ定義できる。これらのジャギー振幅 aj lのうち、小さい方を代表値としてのジャギー振幅 ajlに選択すると、図 53に示す関係から、

aj l =pjl -tan Θ ' l -tan 0 ' 2/ (tan θ ' 2-tan θ ' 1)

( θ ' 1 = 0 gl - 0 L)

となる。従って、ジャギー振幅 ajiは、

aji=pji'tan Θ ' i · tan θ ' k/ an θ ' k— tan Θ i)

(i= l〜3、 Θ ' i= 0 gi— 0 L、 k= l〜3、 i≠k)

(9)

である。なお、 θ ' kは、選択されたジャギー振幅 ajiの小さい格子点列とオリジナル画像 80とのなす角度である。

[0300] 感光材料 12上に再現される画像におけるジャギーは、ジャギーピッチ pji及びジャギー振幅 ajiがともにある程度大きい場合に視認される。画像を構成する各画素は、図 51に示すアドレス格子点を中心として、レーザビーム Lのビーム径に基づく所定の径で描画されるため、ジャギーピッチ pjiが小さい場合には、ジャギー振幅 ajiが大きくてもジャギーが視認されることはない。従って、ジャギーの視認を低下させるためには、ジャギーピッチ pji又はジャギー振幅 ajiのいずれかが所定値以下となるように、パラメータを設定すればよいことになる。なお、所定値としては、レーザビーム Lのビーム径を所定値として設定することができる。

[0301] ジャギーピッチ pji及びジャギー振幅 ajiは、（1)〜（9)式から、オリジナル画像 80の X方向に対する傾斜角度 Θ L、スヮス傾斜角度 Θ s、スヮス 77上での隣接する DMD 画素 A、 Bの配列ピッチ ps、アドレス格子点の y方向に対する描画ピッチ pyの各パラメータによって決定される。従って、これらのパラメータを個別に調整し、あるいは、 2つ以上のパラメータを同時に調整することにより、ジャギーの視認を低下させた画像を再現することができる。

[0302] この場合、傾斜角度 Θ Lは、感光材料 12に描画するオリジナル画像 80によって予め決まっている。スヮス傾斜角度 Θ sは、露光ヘッド 24a〜24jに組み込まれた DMD 36の傾斜角度によって決定される力この傾斜角度は、露光ヘッド回転駆動部 76により露光ヘッド 24a〜24jを光軸の回りに所定角度回転させて調整することができる。なお、露光ヘッド 24a〜24jの一部の光学部材、例えば、マイクロレンズアレー 48、マイク口アパーチャアレー 54、 56を回転させることで前記傾斜角度を調整することもできる。また、光学像を回転させるダブプリズム等の像回転素子を配設し、この像回転素子を回転させて前記傾斜角度を調整することもできる。像回転素子は、第 2結像光学レンズ 50、 52の後に配置することができる。また、第 2結像光学レンズ 50、 52を配設することなぐマイクロレンズアレー 48により直接シートフィルム F (感光材料 12)上にレーザビーム Lを結像させるような装置構成の場合、像回転素子をマイクロレンズアレー 48の後に配置することができる。

[0303] 配列ピッチ psは、 DMDを構成するマイクロミラーの間隔に依存している力光学倍率変更部 78によりズーム光学系 79を構成する第 2結像光学レンズ 50、 52の位置を変更させることで、感光材料 12上での配列ピッチ psを調整することができる。描画ピツチ pyは、同期信号生成部 64により生成される同期信号の出力タイミングを周波数変更部 72からの周波数変更信号によって調整し、あるいは、移動速度変更部 75からの移動速度変更信号を同期信号生成部 64に供給して同期信号の出力タイミングを変更し、露光ステージ駆動部 66により移動ステージの y方向への移動速度を変更することで調整することができる。

[0304] なお、傾斜角度 Θ Lが y方向の位置によって変化するオリジナル画像 80に対してはスヮス傾斜角度 Θ sをオリジナル画像 80の傾斜角度 Θ Lに応じて迅速に変更することは困難であるため、例えば、周波数変更部 72によって描画ピッチ pyを変更するのが適当である。 [0305] さらに、ジャギーピッチ pji及びジャギー振幅 ajiは、例えば、図 51において、 DMD 画素 A及び Bを同時に描画するのではなぐ位相差変更部 74によって y方向に対する DMD画素 A及び Bの描画タイミングを所定時間ずらすことにより、 DMD画素 Aの X 方向に隣接して形成される DMD画素、B"の位相差 A yiを変更し、この結果として傾斜角度 Θ giを変更して調整することもできる。

[0306] 図 54〜図 56及び図 57〜図 59は、各パラメータを所定の値に設定し、（8)及び（9) 式に従って、各格子点列 1〜3のジャギーピッチ pji及びジャギー振幅 ajiを計算した結果を示す。なお、格子点列間で生じるジャギー振幅については、小さい方の値の絶対値を選択するものとする。また、ジャギーピッチ pjiの許容範囲を— 5 m〜+ 5 μ m、ジャギー振幅 ajiの許容範囲を一 1 μ m〜+ 1 μ mとする。

[0307] 図 54に示す格子点列 1では、オリジナル画像 80の傾斜角度 Θ L = 0°〜55°の範囲で許容されないジャギーが発生し、図 55に示す格子点列 2では、オリジナル画像 8 0の傾斜角度 Θ L = 1 10°〜135°の範囲で許容されないジャギーが発生し、図 56に示す格子点列 3では、ジャギーが発生しないことが予測される。この場合、例えば、ォリジナル画像 80に傾斜角度 15°前後の直線が含まれていると、この直線に格子点列 1に起因する許容できなヽジャギーが発生するおそれがある。

[0308] これに対して、パラメータを変更した図 57〜図 59に示す格子点列 1〜3では、オリジナル画像 80の傾斜角度 15°の前後でいずれもジャギーが発生することがなぐ従つて、良好な画像の得られることが期待される。

[0309] ここで、上述した実施形態では、 1つの DMDによって生じるジャギーを抑制する場合について説明した力、複数の露光ヘッド 24a〜24jを構成する各 DMD36に対し、同様の調整処理を施すことができることは勿論である。この場合、露光ヘッド 24a〜2 4j毎に個別に各パラメータの調整を行ってもよいが、描画される画像全体としてジャギーを低減させるため、各露光ヘッド 24a〜24jによって生じるジャギーのジャギーピツチ又はジャギー振幅の平均値が所定値以下となるように、例えば、移動ステージの移動速度を調整するようにしてもょヽ。

[0310] また、各パラメータは、オリジナル画像 80のパターン、例えば、各オリジナル画像 8 0の y方向に対する傾斜角度 Θ Lに応じて設定又は変更するようにしてもよい。特に、オリジナル画像 80のパターンがジャギーの目立ち易い X方向又は X方向に近い方向に延在するライン状のパターンである場合、このパターンに対するジャギーが最も低減されるようにパラメータを調整すると好適である。

[0311] また、ジャギーピッチ又はジャギー振幅によって規定されるオリジナル画像 80のジャギ一の形状と、ジャギーを調整するための各パラメータとの相関関係を求めておき、この相関関係に基づいて最適なパラメータを設定し、あるいは、パラメータが既に設定されている場合には、そのパラメータを変更することにより、適切な画像を容易に得ることが可能となる。

[0312] また、前記ジャギーの形状を許容範囲内とすることのできる各パラメータの条件を選択条件として求めておき、オリジナル画像 80に応じた所望のパラメータを選択して設定し、あるいは、前記ジャギーの形状を許容範囲外とする各パラメータの条件を禁止条件として求めておき、オリジナル画像 80に応じて当該パラメータの選択を禁止するようにすることちでさる。

[0313] オリジナル画像 80とパラメータとの相関関係は、オリジナル画像 80を構成するパターンの方向、例えば、オリジナル画像 80の所定の領域内における支配的なパターンの方向、平均値、方向のヒストグラムが最大となる方向等を選択して求めることができる。なお、オリジナル画像 80を複数の領域に分割し、各領域毎に前記相関関係を求め、各領域毎にジャギーを低減することのできるパラメータを設定するようにしてもよい。

[0314] さらに、ジャギーを低減させるためのパラメータは、初期パラメータを設定した状態で画像を描画し、その画像から、各パラメータとジャギー形状等との相関関係を計測し、最適なパラメータを探索して設定することも可能である。

[0315] 上述した実施形態では、マイクロミラーを直交する格子上に配列した DMDを使用したが、傾斜角度 Θ sで交差する格子上にマイクロミラー 40を配列した DMDを使用すれば、 DMDを傾斜させることなく露光ヘッド 24a〜24jに組み込んでジャギーの抑制された画像を形成することができる。

[0316] [現像工程]

前記現像工程としては、前記露光工程により前記感光層を露光し、未露光部分を除去することにより現像する工程を有する。

前記未硬化領域の除去方法としては、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ、例えば、現像液を用いて除去する方法などが挙げられる。

[0317] 前記現像液としては、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アルカリ性水溶液、水系現像液、有機溶剤などが挙げられ、これらの中でも、弱アルカリ性の水溶液が好ましい。該弱アルカリ水溶液の塩基成分としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸ィ匕カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、リン酸ナトリウム、リン酸カリウム、ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム、硼砂などが挙げられる。

[0318] 前記弱アルカリ性の水溶液の pHは、例えば、約 8〜12が好ましぐ約 9〜： L 1がより好ましい。前記弱アルカリ性の水溶液としては、例えば、 0. 1〜5質量％の炭酸ナトリゥム水溶液又は炭酸カリウム水溶液、 0. 01-0. 1質量％の水酸化カリウム水溶液などが挙げられる。

前記現像液の温度は、前記感光層の現像性に合わせて適宜選択することができ、例えば、約 25〜40°Cが好ましい。

[0319] 前記現像液は、界面活性剤、消泡剤、有機塩基 (例えば、エチレンジァミン、ェタノールァミン、テトラメチルアンモ -ゥムハイドロキサイド、ジエチレントリァミン、トリェチレンペンタミン、モルホリン、トリエタノールアミン等)や、現像を促進させるため有機溶剤（例えば、アルコール類、ケトン類、エステル類、エーテル類、アミド類、ラタトン類等)などと併用してもよい。また、前記現像液は、水又はアルカリ水溶液と有機溶剤を混合した水系現像液であってもよぐ有機溶剤単独であってもよ、。

[0320] なお、現像の方式としては、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ、例えば、パドル現像、シャワー現像、シャワー &スピン現像、デイブ現像などが挙げられる。

ここで、上記シャワー現像について説明すると、露光後の感光性榭脂層に現像液をシャワーにより吹き付けることにより、未硬化部分を除去することができる。尚、現像の前に感光性榭脂層の溶解性が低いアルカリ性の液をシャワーなどにより吹き付け、熱可塑性榭脂層、中間層などを除去しておくことが好ましい。また、現像の後に、洗浄剤などをシャワーにより吹き付け、ブラシなどで擦りながら、現像残渣を除去することが好ましい。

[0321] [その他の工程]

前記その他の工程としては、特に制限はなぐ公知のカラーフィルタ製造方法における工程の中から適宜選択することが挙げられるが、例えば、硬化処理工程、などが挙げられる。これらは、 1種単独で使用してもよぐ 2種以上を併用してもよい。

[0322] 硬化処理工程

前記現像工程後に、感光層に対して硬化処理を行う硬化処理工程を備えることが好ましい。

前記硬化処理工程としては、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ、例えば、全面露光処理、全面加熱処理などが好適に挙げられる。

[0323] 前記全面露光処理の方法としては、例えば、前記現像工程の後に、前記パターンが形成された前記積層体上の全面を露光する方法が挙げられる。該全面露光により、前記感光層を形成する感光性組成物中の樹脂の硬化が促進され、形成されたパターンの表面が硬化される。

前記全面露光を行う装置としては、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ、例えば、超高圧水銀灯などの UV露光機が好適に挙げられる。

[0324] 前記全面加熱処理の方法としては、前記現像工程の後に、前記パターンが形成された前記積層体上の全面を加熱する方法が挙げられる。該全面加熱により、前記パターンの表面の膜強度が高められる。

前記全面加熱における加熱温度は、 120〜250°Cが好ましぐ 120〜200°Cがより好ましい。該加熱温度が 120°C未満であると、加熱処理による膜強度の向上が得られないことがあり、 250°Cを超えると、前記感光性組成物中の樹脂の分解が生じ、膜質が弱く脆くなることがある。

前記全面加熱における加熱時間は、 10〜120分が好ましぐ 15〜60分がより好ましい。

前記全面加熱を行う装置としては、特に制限はなぐ公知の装置の中から、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ドライオーブン、ホットプレート、 IRヒーターなどが挙げられる。

[0325] 本発明のカラーフィルタ製造方法は、感光層の被露光面上に結像させる像の歪みを抑制することにより、ノターンを高精細に、かつ、効率よく形成可能であるため、高精細な露光が必要とされる各種パターンの形成などに好適に使用することができ、特に高精細なカラーフィルタパターンの形成に好適に使用することができる。

[0326] 本発明のカラーフィルタの製造方法においては、上述したように、ガラス基板等の透明基板上に、本発明のノターン形成方法により、少なくとも 3原色力も構成される（例えば、 RGB)画素をモザイク状又はストライプ状に配置することができる。

各画素の寸法は、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ、例えば、 40〜200 μ mとすることが好適に挙げられる。ストライプ状であれば 40〜200 μ m 巾が通常用いられる。

前記カラーフィルタの製造方法としては、例えば、透明基板上に黒色に着色された感光層を用いて、露光及び現像を行いブラックマトリックスを形成し、次いで、 RGBの 3原色のいずれかに着色された感光層を用いて、前記ブラックマトリックスに対して所定の配置で、各色毎に、順次、露光及び現像を繰り返して、前記透明基板上に RGB の 3原色がモザイク状又はストライプ状に配置されたカラーフィルタを形成する方法が挙げられる。

[0327] (カラーフィルタ）

前記カラーフィルタは、赤色 (R)着色に顔料 C. I.ビグメントレッド 254、緑色 (G)着色に顔料 C. I.ビグメントグリーン 36及び顔料 C. I.ビグメントイエロー 150、並びに青色 (B)着色に顔料 C. I.ビグメントブルー 15 : 6及び顔料 C. I.ビグメントバイオレツド 23を用いて製造した場合には、色再現域が広ぐ色温度が高い TV用のカラーフィルタが作製できる。

[0328] (液晶表示装置）

本発明の液晶表示装置は、互いに対向して配される一対の基板間に液晶が封入されてなり、本発明の前記カラーフィルタを有してなり、更に必要に応じてその他の部材を有してなる。

本発明のカラーフィルタは、液晶表示装置の対向基板 (TFTなどの能動素子が無い側の基板）に形成するものを対象としている他、 TFT基板側に形成する COA方式、 TFT基板側に黒だけを形成する BOA方式、又は TFT基板にハイアパーチヤー構造を有する HA方式も対象とすることができる。

[0329] 前記カラーフィルタ上には、更に必要に応じて、オーバーコート膜や透明導電膜を形成することができる。その後、カラーフィルタと対向基板との間に液晶が封入され、液晶表示装置が作製される。適用される液晶の表示方式としては、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選定され、例えば、 ECB (Electrically Controlled Birefringence) 、TN (Twisted Nematic)、 uCB (Optically compensatory Bend)、 VA (Vertically Aligned)、 HAN (Hybrid Aligned Nematic)、 STN (Supper Twisted Nematic)、 IP S (In-Plane Switching)、 GH (Guest Host)、 FLC (強誘電性液晶）、 AFLC (反強誘電性液晶）、及び PDLC (高分子分散型液晶)などが挙げられる。

[0330] 前記液晶表示装置の基本的な構成態様としては、（1)薄膜トランジスタ (以下、「TF T」という。）等の駆動素子と画素電極 (導電層）とが配列形成された駆動側基板と、力ラーフィルタ及び対向電極 (導電層）を備えるカラーフィルタ側基板とをスぺーサーを介在させて対向配置し、その間隙部に液晶材料を封入して構成されるもの、（2)カラ一フィルタが前記駆動側基板に直接形成されたカラーフィルター体型駆動基板と、対向電極 (導電層）を備える対向基板とをスぺーサーを介在させて対向配置し、その間隙部に液晶材料を封入して構成されるものなどが挙げられる。

[0331] 本発明の液晶表示装置は、 D65光源視野 2度において良好な色度を有する本発明のカラーフィルタを用いることにより、透過モード及び反射モードの、ずれにぉ、ても鮮明な色を表示することができ、透過モードと反射モードを兼用する携帯端末ゃ携帯ゲーム機等の機器に好適に用いることができる。

また、本発明の液晶表示装置は、 F10光源視野 2度において良好な色度を有する本発明のカラーフィルタを用いることにより、高い色純度と色温度を実現でき、例えば、ノートパソコン、テレビモニター等の液晶表示装置などに好適に用いることができる実施例

[0332] 以下、実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

[0333] (実施例 1)

くカラーフィルタパターンの形成 (塗布法） >

(1)ブラック (K)画像の形成

無アルカリガラス基板を、 UV洗浄装置で洗浄後、洗浄剤を用いてブラシ洗浄し、更に超純水で超音波洗浄した。該基板を 120°C3分熱処理して表面状態を安定化させた。

該基板を冷却し 23°Cに温調後、スリット状ノズルを有すガラス基板用コーター (エフ 'エー.エス.ジャパン社製、商品名： MH— 1600)にて、下記表 3に記載の組成よりなる下記着色感光性組成物 K1を塗布した。引き続き、 VCD (真空乾燥装置;東京応化工業 (株)製)で 30秒間、溶媒の一部を乾燥して塗布層の流動性を無くした後、 12 0°C3分間プリベータして厚み 1. 5 mの感光層 K1を得た。

[0334] 感光性組成物 K1の調製

感光性組成物 K1は、まず表 3に記載の量の K顔料分散物 1、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをは力り取り、温度 24°C (± 2°C)で混合して 150rpm で 10分間攪拌し、次いで、メチルェチルケトン、バインダー 4、フエノチアジン、 DPH A液、 2, 4 ビス（トリクロロメチル） 6— [4，—（N, N ビスエトキシカルボ-ルメチル)ァミノ 3，—ブロモフエ-ル]— s トリァジン、界面活性剤 1をは力り取り、温度 2 5°C (士 2°C)でこの順に添カ卩して、温度 40°C (士 2°C)で 150rpmで 30分間攪拌すること〖こよって得られる。

[0335] [表 3] 感光性組成物 K1 K2 K3 K4 K5 K6

K顏料分散物 1 (カーボンブラック） 39 30 26 0 22 9

K顔料分散物 2 (カーボンブラック） 0 0 0 52 0 0 プロピレングリコールモノメチル I—

20 23 25 1 0 27 32 テルアセテート

メチルェチルケトン 36 36 36 36 36 36 バインダ一 4 2.61 7.1 9 9.48 0.87 1 1 .8 1 8.7 フエノチアジン 0.003 0.003 0.003 0.002 0.004 0.004

DPHA液 3.21 3.85 4.1 7 2.25 4.49 5.45

2，4 _ビス（トリクロロメチル） _6_

[4' _ ( N,N—ビスエトキシカルボ二

0.1 66 0.1 99 0.21 5 0.1 1 6 0.232 0.282 ルメチル）ァミノ一 3'—ブロモフエ二

ル]— s—卜リアジン

界面活性剤 1 0.043 0.043 0.043 0.043 0.043 0.043 単位：質量部顔料/固形分（％) 45% 35% 30% 60% 25% 10% なお、表 3に記載の組成物のうち、

•K顔料分散物 1の組成は、カーボンブラック（デグッサ社製） 13. 1質量％、分散剤 (下記化学式 1) 0. 65質量⁰ /₀、ポリマー（ベンジルメタタリレート Zメタクリル酸 =72Z 28モル比のランダム共重合物、分子量 3. 7万） 6. 72質量⁰ /₀、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 79. 53質量⁰ /₀力もなる。

•K顔料分散物 2の組成は、カーボンブラック（デグッサ社製） 13. 1質量％、分散剤 (下記化学式 1) 0. 65質量⁰ /₀、ポリマー（ベンジルメタタリレート Zメタクリル酸 =72Z 28モル比のランダム共重合物、分子量 3. 7万） 4. 0質量⁰ /₀、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 82. 25質量⁰ /₀力もなる。

'バインダー 4の組成は、ポリマー（ベンジルメタタリレート/メタクリル酸 = 72/28 モル比のランダム共重合物、分子量 3. 8万） 27質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 73質量部力もなる。

•DPHA液の組成は、ジペンタエリトリトールへキサアタリレート（重合禁止剤 MEH Q 500ppm含有、日本化薬 (株）製、商品名： KAYARAD DPHA) 76質量％、及びプロピレングリコールモノメチルアセテート 24質量％カもなる。

•界面活性剤 1の組成は、下記構造物 1 30質量％、及びメチルェチルケトン (ME K) 70質量％カなる。

[0336] [化 2]

[0337] [化 3] 構造物 1

—？ H)厂

0(E0)₇H

( n = o x = 5 5 * y = 5

M w = 3 3 9 4 0 v M w/ n = 2 . 5 5

P O：プロピレンオキサイド、 E O：エチレンオキサイド）ただし、前記構造物 1の式中、 X及び yの数値はモル比を表す。

[0338] 上記 K顔料分散物を、モーターミル M— 50 (アイガージャパン社製）と、直径 0. 6

5mmのジルコユアビーズを用い、周速 9mZsで 27時間分散し、顔料分散組成物を調製した。この時の顔料の数平均粒径を表 8に示す。

[0339] 露光工程

基材上の前記感光層 K1に対し、図 1に示す露光装置を用い、前記感光層 K1と露光ヘッドとを相対移動させながら、 200mjZcm²相当のカラーフィルタパターンの露光を行った。露光は、波長 405nmのレーザ光で行った。光源として、波長が 405nmのレーザ光を、長辺、短辺の長さがそれぞれ異なる長方形パターンが得られるように照射して露光し、前記感光層の一部の領域を硬化させた。

[0340] —現像工程—

露光が終了した前記感光層を室温にて 10分間静置した後、感光層の全面に、富士フィルムエレクト口-クスマテリアルズ (株)製の KOH現像液（商品名； CDK— 1)を 100倍 (質量比）に希釈したものを用い、 23°Cで 80秒間、フラットノズル圧力 0, 04M Paでシャワー現像し、次いで超純水を、超高圧洗浄ノズルを用いて 9. 8MPaの圧力で噴射して残渣の除去を行い、ブラックマトリクスパターンを得た。その後、 220°Cで 3 0分間熱処理を行った。

[0341] (2)レッド (R)画素の形成

前記 Kの画像を形成した基板に、下記表 4に記載の組成よりなる下記感光性組成物 Rl— 1を用い、前記ブラック (K)画像の形成と同様の工程により、熱処理済み R画素を形成した。該 R1感光層の厚みは 1. 6 m、及び顔料 (C. I.ビグメントレッド 254 )の塗布量は、 0. 88gZm²、顔料（C. I.ビグメントレッド 177の塗布量は、 0. 22g/ m (？めった。

[0342] 感光性組成物 R1の調製

表 4に記載の量の R顔料分散物 1、 R顔料分散物 2、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度 24°C (± 2°C)で混合して 150RPMで 10分間攪拌した。次いで、表 4に記載の量のメチルェチルケトン、ノインダー 1、 DPHA液、 2 トリクロロメチル— 5— (p—スチリルスチリル）— 1, 3, 4—ォキサジァゾール、 2, 4 —ビス（トリクロロメチル） 6— [4， - (N, N ビスエトキシカルボ-ルメチル）ァミノ一 3，一ブロモフエ-ル]— s トリァジン、フエノチアジンをは力り取り、温度 24°C (± 2°C )でこの順に添カ卩して 150RPMで 30分間攪拌した。更に、表 6に記載の量の界面活性剤 1を計り取り、温度 24°C (± 2°C)で添加して 30RPMで 5分間攪拌し、ナイロンメッシュ # 200で濾過した。以上により、感光性組成物 R1を調製した。

[0343] [表 4] 感光性組成物 R1 R2

R顔料分散物 1 ( C. I. P. R. 254) 44 44

R顔料分散物 2 ( I. P. R. 1 77) 4.9 4.9

プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 7.9 7.9

メチルェチルケトン 37 37

バインダ一 1 1.1 1 .1

DPHA;¾ 4.4 4.4

2—トリクロロメチル一 5— (p—スチリルスチリル）

0.1 4 0.14

- 1 , 3, 4—ォキサジァゾ一ル

2，4—ビス（トリクロロメチル） -6- [4'— (N，N—ビ

スエトキシカルボニルメチル）ァミノ一 3 '—ブロモ 0.058 0.058

フ;! ^ル]—S—トリアジン

フエノチアジン 0.01 0.01

添加剤 1 0 0.52

界面活性剤 1 0.032 0.032

単位：質量部

顔料/固形分（％) 35% 35% なお、表 4に記載の組成物のうち、

•R顔料分散物 1の組成は、 C. I.ビグメントレッド 254 (チバスべシャリティケミカルズ社製) 8質量⁰ /₀、上記分散剤 0. 8質量⁰ /₀、ポリマー（ベンジルメタタリレート Zメタタリル酸 =72Z28モル比のランダム共重合物、分子量 3. 7万） 8質量⁰ /₀、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 83. 2質量％カもなる。

•R顔料分散物 2の組成は、 C. I.ビグメントレッド 177 (チバスべシャリティケミカルズ社製） 18質量部、ポリマー（ベンジルメタタリレート Zメタクリル酸 =72Z28モル比のランダム共重合物、分子量 3. 7万） 12質量部、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 70質量部からなる。

'バインダー 1の組成は、ポリマー（ベンジルメタタリレート Zメタクリル酸 Zメチルメタタリレート = 38Z25Z37のランダム共重合物、分子量 3. 8万） 27質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 73質量部からなる。

•添加剤 1は、燐酸エステル系特殊活性剤 (楠本化成 (株)製、商品名： HIPLAAD

ED152)を用いた。

-露光工程及び現像工程 - 基板上の前記感光層 Rlに対し、 K1と同様に露光した。露光量は 50mjZcm²であつた。また、評価のため、 Kを形成しない基板にも、これと同様に感光層 R1を形成し、カラーフィルタパターンを用いて同様の処理をした。その後、 Kと同様に現像した。

[0345] (3)グリーン (G)画素の形成

前記 Kの画像と Rの画素を形成した基板に、下記表 5に記載の組成よりなる下記感光性組成物 G1を用い、前記ブラック (K)画像の形成と同様の工程により、熱処理済み G画素を形成した。該 G1感光層の厚みは 1. 4 /ζ πι、及び顔料 (C. I.ピグメントグリーン 36)の塗布量は 1. 12g/m²、顔料（C. I.ビグメントイエロー 150)の塗布量は 0. 48gZm²であった。 Kと同様に露光し、現像した。露光量は 40mjZcm²相当であつた o

[0346] 感光性組成物 G1の調製

表 5に記載の量の G顔料分散物 1、 Y顔料分散物 1、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをは力り取り、温度 24°C (± 2°C)で混合して 150RPMで 10分間攪拌した。次いで、表 5に記載の量のメチルェチルケトン、シクロへキサン、ノインダー 1、 DPHA液、 2 トリクロロメチル一 5— (ρ—スチリルスチリル）一 1, 3, 4—ォキサジァゾール、 2,4 ビス（トリクロロメチル）ー6— [4，一（Ν,Ν—ビスエトキシカルボ- ルメチル） 3，一ブロモフエ-ル]— s トリァジン、フエノチアジンをは力り取り、温度 24°C (± 2°C)でこの順に添カ卩して 150RPMで 30分間攪拌した。更に、表 7に記載の量の界面活性剤 1をは力り取り、温度 24°C (± 2°C)で添カ卩して 30RPMで 5分間攪拌し、ナイロンメッシュ # 200で濾過した。以上により、感光性組成物 G1を調製した。

[0347] [表 5]

感光性組成物 G 1

G顔料分散物 1 (C. I. P. G. 36) 25

Y顔料分散物 1 (C. I. P. Y. 1 50) 1 3

プロピレングリコ一ルモノメチルエーテルアセテート 29

メチルェチルケトン 26

シクロへキサノン 1 .0

バインダ一 2 2.2

DPHA;¾ 4.2

2—トリクロロメチル一 5— ( p—スチリルスチリ

0.1 5

ル）一 1 , 3, 4—ォキサジァゾ一ル

2,4—ビス（トリクロロメチル）一6— [4'— ( Ν,Ν—ビスェ

トキシカルボニルメチル）一3'—ブロモフエニル]—s—トリ 0.057

ァジン

フエノチアジン 0.004

界面活性剤 1 0.066

単位:質量部

顔料/固形分（<½) 45%

なお、表 5に記載の組成物のうち、

•G顔料分散物 1の組成は、 C. I.ビグメントグリーン 36 (商品名： Lionol Green 6 YK、東洋インキ製造 (株)製） 18質量⁰ /₀、ポリマー（ベンジルメタタリレート Ζメタクリル酸 =72Ζ28モル比のランダム共重合物、分子量 3. 7万） 12質量⁰ /₀、シクロへキサノン 35質量⁰ /₀、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 35質量⁰ /₀力もなる

•Υ顔料分散物 1の組成は、 C. I.ビグメントイエロー 150 (商品名： Yellow Pigme nt E4GN— GT、バイエル株式会社製、 ) 15質量部、ポリマー（ベンジルメタクリレート Zメタクリル酸 =72Z28モル比のランダム共重合物、分子量 3. 7万） 9質量部、分散剤（上記化学式 1) 1. 5質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルァセテ一ト 74. 5質量部からなる。

'バインダー 2の組成は、ポリマー（ベンジルメタタリレート Zメタクリル酸 =78Z22、モル比のランダム共重合物、重量平均分子量 3. 7万） 27質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 73質量部からなる。

[0348] (4)ブルー（B)画素の形成

前記 Kの画像、 R及び Gの画素を形成した基板に、下記表 6に記載の組成よりなる下記感光性組成物 B1— 1を用い、前記ブラック (K)画像の形成と同様の工程により、熱処理済み B画素を形成し、目的のカラーフィルタを作製した。

該 B1感光層の厚みは 1. 4 /ζ πι、及び顔料 (C. I.ビグメントブルー 15 : 6)の塗布量は 0. 67gZm²、顔料（C. I.ビグメントバイオレッド 23)の塗布量は 0. 03gZm²であつた。 Kと同様に露光し、現像した。露光量は 50miZcm²であった。

[0349] 感光性組成物 B1の調製

表 6に記載の量の B顔料分散物 1、プロピレングリコールモノメチルエーテルァセテートを計り取り、温度 24°C (± 2°C)で混合して 150RPMで 10分間攪拌した。次いで、表 6に記載の量のメチルェチルケトン、バインダー 2、バインダー 3、バインダー 4、 D PHA液、 2 トリクロロメチル— 5— (p—スチリルスチリル）— 1, 3, 4—ォキサジァゾール、フエノチアジンをはかり取り、温度 25°C (± 2°C)でこの順に添カ卩して、温度 40 °C (± 2°C)で150RPM、 30分間攪拌した。更に、表 6に記載の量の界面活性剤 1をはかり取り、温度 24°C (± 2°C)で添カ卩して 30RPMで 5分間攪拌し、ナイロンメッシュ # 200で濾過した。以上により、感光性組成物 B1を調製した。

[0350] [表 6]

感光性組成物 B1 B2

B顔料分散物 1 (C. I. P. B. 15:6) 10 12

B顔料分散物 2 (C. I. P. B. 15:6+C. I. P. V. 23) 19 22

プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 24 22

メチルェチルケトン 26 26

バインダ一 2 8.8 7.7

バインダ一 3 2.9 2.6

バインダー 4 4.6 4.0

DPHA液 3.6 3.1

2—トリクロロメチル一 5— (p—スチリルスチリル）一 1, 3, 4

0.14 0.12

—ォキサジァゾール

フエノチアジン 0.017 0.015 界面活性剤 1 0.058 0.058

単位：質量部

顔料/固形分（<½) 30% 35%

なお、表 6に記載の組成物のうち、

•B顔料分散物 1の組成は、 C. I.ビグメントブルー 15:6 (東洋インキ製造 (株)製） 1 5質量％、分散剤 1(EFKA— 6745、 EFKA ADDITIVES B. V社製） 0.5質量 %、分散剤 2 (ディスパロン DA— 725、楠本化成 (株)製) 0.63質量％、ポリマー（ベンジルメタタリレート Zメタクリル酸 =72Z28モル比のランダム共重合物、分子量 3. 7万） 12.5質量⁰ /₀、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 71.37質量 %からなる。

•B顔料分散物 2の組成は、 C. I. P. B.15 :6 (東洋インキ製造 (株)製） 11.28質量部、 C. I. P. V.23

0.72質量部、分散剤: L (EFKA— 6745、 EFKA ADDITIVES B. V社製） 0. 6質量部、分散剤 2 (ディスパロン DA— 725、楠本化成 (株)製) 0.75質量部、プロピレングリコーノレモノメチノレエーテノレアセテート

86.65質量部からなる。 'バインダー 3の組成は、ポリマー（ベンジルメタタリレート Zメタクリル酸 Zメチルメタタリレート = 36Z22Z42モル比のランダム共重合物、分子量 3. 8万） 27質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 73質量部からなる。

[0351] <感光層の光学特性吸光度と厚みの関係 >

前記感光層の光学特性として、該感光層の記録に用いるレーザ光の吸収波長における該感光層の吸光度を Aとし、該感光層の厚みを X( m)とすると、前記感光層の光学特性は、 AZXとして表すことができる。該 AZXの値は表 8及び表 9に示す。該吸光度 Aの測定は、（株)島津製作所製 UV—分光光度計 UV— 240を用いた。また、上記吸光度 Aは支持体込みのものから支持体単独の値を差し引いた値とする前記感光層の厚み Xは、触針式段差膜厚計 (Tencor Instruments製 P— 10)を用いて測定した。

[0352] (実施例 2〜20及び比較例 1〜3)

実施例 1において、用いた Kl、 Rl、 Gl、 B1の処方を表 8及び表 9に記載の処方に変更した以外は、実施例 1と同様の方法でカラーフィルタを作製した。

なお、表 8及び表 9に特に示していない感光性組成物の処方は、実施例 1と同様の処方 (表 3〜表 6に記載)である。

なお、粒径の異なる顔料分散物は分散時間を下記表 7のように変更して得た。

[0353] [表 7]

[0354] (実施例 21)

<カラーフィルタパターンの形成（フィルム法） >

感光性転写材料の作製

厚み 75 μ mのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、下記処方 HIからなる熱可塑性榭脂層用塗布液を塗布、乾燥させた。次に、下記処方 P1から成る中間層用塗布液を塗布、乾燥させた。更に、前記着色感光性組成物 Klを塗布、乾燥させ、該仮支持体の上に乾燥厚みが 14. 6 mの熱可塑性榭脂層と、乾燥厚みが 1. の中間層と、乾燥厚みが 1. の感光層を設け、保護フィルム（厚み 12 μ mのポリプロピレンフィルム）を圧着した。

こうして仮支持体と熱可塑性榭脂層と中間層 (酸素遮断膜)とブラック (K)の感光層とが一体となった感光性転写材料を作製し、サンプル名を感光性転写材料 K1とした

[0355] 熱可塑性榭脂層用塗布液:処方 HI

•メタノーノレ 11. 1質量部

'プロピレングリコーノレモノメチノレエーテノレアセテート

6. 36質量部

•メチルェチルケトン 52. 4質量部

'メチルメタタリレート /2—ェチルへキシルアタリレート/ベンジルメタタリレート

Zメタクリル酸共重合体 (共重合組成比（モル比） =55Zll. 7/4. 5/28. 8、分子量 = 9万、 Tg 70°C) 5. 83質量部

'スチレン Zアクリル酸共重合体 (共重合組成比（モル比） =63Z37、分子量 =

1万、 Tg^ lOO°C) 13. 6質量部

•ビスフエノール Aにペンタエチレングリコールモノメタタリートを 2当量脱水縮合した化合物 (新中村ィ匕学工業 (株)製)商品名： 2, 2 ビス [4 （メタクリロキシポリエトキシ）フエ-ル]プロパン） 9.1質量部

•前記界面活性剤 1 0. 54質量部

[0356] 中間層用塗布液:処方 P1

•PVA205 (ポリビニルアルコール、（株）クラレ製、鹼化度 = 88%、重合度 550) 32. 2質量部

•ポリビュルピロリドン（アイエスピ一'ジャパン (株）製、 K— 30)

14. 9質量部

，蒸留水 524質量部

'メタノーノレ 429質量咅

[0357] 次に、前記感光性転写材料 K1の作製にぉヽて用いた前記着色感光性組成物 K1 を、上記表 3〜表 6に記載の組成よりなる下記着色感光性組成物 R2、 G1及び B1〖こ変更し、それ以外は上記と同様の方法により、感光性転写材料 R2、 G1及び B1を作製した。

なお、着色感光性組成物 R2、 G1及び B1の調製方法は、それぞれ前記着色感光性組成物 R2、 G1及び B1の調製方法に準ずる。

[0358] -ブラック (K)画像の形成 - 無アルカリガラス基板を、 25°Cに調整したガラス洗浄剤液をシャワーにより 20秒間吹き付けながらナイロン毛を有する回転ブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液 (N— β (アミノエチル） _Ύ—ァミノプロピルトリメトキシシラン 0. 3質量 %水溶液、商品名： KBM603、信越ィ匕学工業 (株)製)をシャワーにより 20秒間吹き付け、純水シャワー洗浄した。この基板を基板予備加熱装置で 100°C2分加熱して次のラミネーターに送った。

前記感光性転写材料 K1の保護フィルムを剥離後、ラミネーター（(株）日立インダストリィズ製 (LamicII型)）を用い、前記 100°Cに加熱した基板に、ゴムローラー温度 1 30°C、線圧 100NZcm、搬送速度 2. 2mZ分でラミネートした。

[0359] 露光工程

仮支持体を剥離後、実施例 1の露光装置を用いて、波長が 405nmのレーザ光を、長辺、短辺の長さがそれぞれ異なる長方形パターンが得られるように照射して露光し、前記感光層の一部の領域を硬化させた。実施例 1と同様にカラーフィルタパターンを作製した。また、露光量は 50mjZcm²で、大気雰囲気下で行った。 [0360] —現像工程—

次に、トリエタノールアミン系現像液（トリエタノールァミン 30質量％含有、商品名： T — PD2、富士写真フィルム株式会社製を、純水で 12倍 (T—PD2を 1質量部に純水を 11質量部の割合で混合）に希釈した液)を用いて、 30°Cにて 50秒、フラットノズル圧力 0. 04MPaでシャワー現像し熱可塑性榭脂層を除去した。

引き続き、炭酸 Na系現像液 (0. 38モル Zリットルの炭酸水素ナトリウム、 0. 47モル Zリットルの炭酸ナトリウム、 5質量⁰ /₀のジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、ァユオン界面活性剤、消泡剤、安定剤含有、商品名： T CD1、富士写真フィルム (株 )製を純水で 5倍に希釈した液）を用い、 35°Cにて 35秒、コーン型ノズル圧力 0. 15 MPaでシャワー現像し感光層を現像しパターユング画像を得た。

引き続き、洗浄剤 (燐酸塩、珪酸塩、ノ-オン界面活性剤、消泡剤、安定剤含有、商品名： T— SD1、富士写真フィルム (株)製)を純水で 10倍に希釈して用い、 33°C にて 20秒、コーン型ノズル圧力 0. 02MPaでシャワーとナイロン毛を有す回転ブラシにより残渣除去を行い、ブラック (K)の画像を得た。その後 220°C、 15分熱処理 (ベーク）した。

この Kの画像を形成した基板を再び、前記のようにブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液は使用せずに、基板予備加熱装置に送った。

[0361] (1)レッド (R)画素の形成

前記感光性転写材料 R2を用い、前記感光性転写材料 K1と同様の工程で、熱処理済みのレッド (R)画素を得た。ただし露光量は 40mj/cm²、炭酸 Na系現像液による現像は 35°C35秒とした。

該 R2感光層の厚みは 2. O ^ m,顔料（C. I.ビグメントレッド 254)の塗布量は 0. 8 8g/m²、顔料（C. I.ビグメントレッド 177)の塗布量は、 0. 22g/m²であった。この Kの画像と Rの画素を形成した基板を再び、前記のようにブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液は使用せずに、基板予備加熱装置に送った。

[0362] (2)グリーン (G)画素の形成

前記感光性転写材料 G1を用い、前記感光性転写材料 R1と同様の工程で、熱処理済みのグリーン (G)の画素を作製した。露光量は 40mjZcm²とした。該 Glの感光層の厚みは 2. O ^ m,及び顔料 (C. I.ビグメントグリーン 36)の塗布量 1. 12gZm²、顔料（C. I.ビグメントイエロー 150)の塗布量は 0. 48gZm²であつた。

この K画像と Rと Gの画素を形成した基板を再び、前記のようにブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液は使用せずに、基板予備加熱装置に送った

[0363] (3)ブルー（B)画素の形成

前記感光性転写材料 B1を用い、前記感光性転写材料 R1と同様の工程で、熱処理済みのブルー (B)の画素を作製した。露光量は 50mj/cm²とした。

該 B1感光層の厚みは 2. O ^ m,及び顔料 (C. I.ビグメントブルー 15 : 6)の塗布量は 0. 67gZm²、顔料（C. I.ビグメントバイオレット 23)の塗布量は 0. 03gZm²であつた o

この K画像と Rと Gと Bの画素を形成した基板を 240°Cで 50分ベータして、目的の力ラーフィルタを得た。

[0364] <感光層の光学特性吸光度と厚みの関係 >

[0365] 〔評価〕

<パターン線幅のばらつき >

前記パターン線幅のばらつきは、図 61で示すように、被露光部 210の中心線 212 に対して線幅 214が大小にばらつき、線幅が太くなつたり、細くなつたりする部分 (ェッジラフネス： μ m)を測定し評価した。前記エッジラフネスの評価方法としては、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ライン幅 30 mのラインの任意の 5箇所について、レーザ顕微鏡 (VK— 9500、キーエンス (株)製;対物レンズ 50倍)を用いて観察し、視野内のエッジ位置のうち、最も膨らんだ箇所（山頂部)と、最もくびれた箇所 (谷底部)との差を絶対値として求め、観察した 5箇所の平均値を算出した。この場合のエッジラフネスとしては、値が小さい程、良好な性能を示すため好ましい。結果を表 8及び表 9に示す。

[0366] (実施例 22〜40及び比較例 4〜6)

実施例 21において、用いた Kl、 R2、 Gl、 B1の処方を表 8及び表 9に記載の処方に変更した以外は、実施例 21と同様の方法でカラーフィルタを作製した。

なお、表 8及び表 9に特に示していない感光性組成物の処方は、実施例 21と同様の処方 (表 3〜表 6に記載)である。

なお、粒径の異なる顔料分散物は分散時間を前記表 7のように変更して得た。

[0367] (実施例 41)

実施例 1において、以下に説明する露光装置を使用した以外は、実施例 1と同様にして、目的とするカラーフィルタを作製し、ブラック (K)画像の線幅ばらつきを以下の方法により評価した。結果を表 8に示す。

[0368] <画像の線幅ばらつきの評価 >

ストライプ状に形成されたブラックマトリクスにおいて、画面中央付近の 1本について 10cmの長さに亘つて線幅測定を行い、そのばらつきを求めた。

[0369] 図 13に概略構成図を示す露光ヘッドであって、ファイバアレイ光源 38から入射されるレーザ光に対し、主光線の角度に所定の分布を持たせたレーザ光を出射して DM D36に照射する機能を備えた集光レンズを備えた露光装置を用いて露光を行った。

[0370] (実施例 42)

実施例 1において、以下に説明する露光装置を使用した以外は、実施例 1と同様にして、目的とするカラーフィルタを作製し、ブラック (K)画像の線幅ばらつきを評価した。結果を表 8に示す。

[0371] 図 18Aに示すように、投影レンズ 300の周辺領域である領域 320に像面湾曲、領域 330に歪曲が大きいという特性を持たせた投影レンズが組み込まれ、図 17に概略図を示す露光ヘッドを備えた露光装置を用いて露光を行った。

[0372] (実施例 43)

[0373] 前記光照射手段として合波レーザ光源と、前記光変調手段として図 30A及び図 30 Bに示す主走査方向にマイクロミラーが 1024個配列されたマイクロミラー列力副走查方向に 768組配列された前記光変調手段の内、 1024個 X 256列のみを駆動するように制御された DMD50と、図 27A〜図 27Cに示した一方の面がトーリック面であるマイクロレンズをアレイ状に配列したマイクロレンズアレイ 472及び該マイクロレンズアレイを通した光を前記感光層に結像する光学系 480、 482とを有するパターン形成装置を用いた。

[0374] 前記マイクロレンズとしては、図 28A、図 28B、及び図 29に示すように、トーリックレンズ 55aが用いられており、前記 X方向に光学的に対応する方向の曲率半径 Rx=— 0. 125mm,前記 y方向に対応する方向の曲率半径 Ry=—0. 1mmである。

[0375] また、マイクロレンズアレイの集光位置近傍に配置されるアパーチャアレイは、その各アパーチャに、それと対応するマイクロレンズ 55aを経た光のみが入射するように配置されている。

[0376] (実施例 44)

実施例 1において、以下に説明する露光方法により露光を行った以外は、実施例 1 と同様にして、目的とするカラーフィルタを作製し、ブラック (K)画像の線幅ばらつきを評価した。結果を表 8に示す。

[0377] 前記光照射手段として合波レーザ光源と、前記光変調手段として主走査方向にマイク口ミラー 58が 1024個配列されたマイクロミラー列力副走査方向に 768組配列された内、 1024個 X 256列のみを駆動するように制御した DMDと、図 5A及び図 5B に概略図を示した集光レンズ系及び結像レンズ系とを有する露光ヘッドを備えた露光装置を用いた。 [0378] 前記 DMDの設定傾斜角度としては、使用可能な 1024列 X 256行のマイクロミラ一を使用してちょうど 2重露光となる角度 Θ よりも若干大きい角度を採用した。

ideal

この角度 Θ を、 N重露光の数 N、使用可能なマイクロミラーの列方向の個数 s、使

ideal

用可能なマイクロミラーの列方向の間隔 P、及び露光ヘッドを傾斜させた状態にぉヽてマイクロミラーによって形成される走査線のピッチ δに対し、下記式 1〜式 3を用いて求めた。

spsin θ ≥Ν δ (式 1)

iaeal

pcos θ = δ (式 2)

ideal

stan Q =N (式 3)

ideal

s = 256、 N = 2であるので、角度 0 は約 0. 45度である。したがって、設定傾斜

ideal

角度 0として、 0. 50度を採用した。

[0379] まず、 2重露光における解像度のばらつきと露光むらを補正するため、被露光面の露光パターンの状態を調べた。結果を図 39に示した。ただし、図 39では、説明の便宜のため、使用可能なマイクロミラー 58の 1列おきの露光パターンを、画素列群 Aによる露光パターンと画素列群 Bによる露光パターンとに分けて示したが、実際の被露光面上における露光パターンは、これら 2つの露光パターンを重ね合わせたものである。

[0380] 図 39に示したとおり、露光ヘッド 30 と 30 の間の相対位置の、理想的な状態から

12 21

のずれの結果として、画素列群 Aによる露光パターンと画素列群 Bによる露光パターンとの双方で、露光エリア 32 と 32 の前記露光ヘッドの走査方向と直交する座標

12 21

軸上で重複する露光領域にお!、て、理想的な 2重露光の状態よりも露光過多な領域が生じていることが判る。

[0381] 前記光点位置検出手段として図 1に示すスリット 28及び光検出器の組を用い、露光ヘッド 30 ついては露光エリア 32 内の光点 P (l, 1)と P (256, 1)の位置を、露

12 12

光ヘッド 30 については露光エリア 32 内の光点 P (l, 1024)と P (256, 1024)の

21 21

位置を検出し、それらを結ぶ直線の傾斜角度と、露光ヘッドの走査方向とがなす角度を測定した。

[0382] 実傾斜角度 Θ 'を用いて、下記式 4 ttan 0 (式 4)

12 21

て導出した。露光ヘッド 30 については T= 254、露光ヘッド 30 については Τ= 25

12 21

5がそれぞれ導出された。その結果、図 40において斜線で覆われた部分 78及び 80 を構成するマイクロミラーが、本露光時に使用しないマイクロミラーとして特定された。

[0383] その後、図 40において斜線で覆われた領域 78及び 80を構成する光点以外の光点に対応するマイクロミラーに関して、同様にして図 40において斜線で覆われた領域 82及び網掛けで覆われた領域 84を構成する光点に対応するマイクロミラーが特定され、本露光時に使用しないマイクロミラーとして追加された。

これらの露光時に使用しないものとして特定されたマイクロミラーに対して、前記描素部素制御手段により、常時オフ状態の角度に設定する信号が送られ、それらのマイク口ミラーは、実質的に露光に関与しな、ように制御した。

[0384] (実施例 45)

実施例 1において、以下に説明する露光方法により露光を行った以外は、実施例 1 と同様にして、目的とするカラーフィルタを作製し、ブラック (Κ)画像の線幅ばらつきを評価した。結果を表 8に示す。

[0385] 露光装置として、図 49の制御ユニットを備えた露光ヘッドを用いて露光を行った。

ジャギーピッチ又はジャギー振幅の、ずれかが、露光光のビーム径以下となるように

、露光ヘッド回転駆動部 76により露光ヘッド 24a〜24jを光軸の回りに所定角度回転させて傾斜角を設定し、露光を行った。

[0386] (実施例 46)

実施例 1において、デジタルダイレクト露光機 (DE— S、日立ビアメカトロニクス社製

)を使用した以外は、実施例 1と同様にして、目的とするカラーフィルタを作製し、ブラック (K)画像の線幅ばらつきを評価した。結果を表 8に示す。

[0387] (実施例 47)

実施例 1にお、て、デジタルダイレクト露光機 (DI - 2080、ペンタックス社製）を使用した以外は、実施例 1と同様にして、目的とするカラーフィルタを作製し、ブラック（

K)画像の線幅ばらつきを評価した。結果を表 8に示す。 8]

[表 9]

表 8及び表 9中の総合評価欄は、 ODZ厚みとエッジラフネス力判断した。具体的には、黒画像用感光性組成物の場合には、 ODZ厚みが 2. 0以上でエッジラフネスが 1. 0以下のものを〇、 ODZ厚みが 1. 0から 2. 0でエッジラフネスが 1. 0以下のものを△、エッジラフネスが 1. 0を超えるものを Xとした。また、黒画像以外の赤緑青画素用感光性組成物の場合には、 ODZ厚みが 1. 0以上でエッジラフネスが 1. 0以下のものを〇、 ODZ厚みが 1. 0未満でエッジラフネスが 1. 0以下のものを△、エッジラフネスが 1. 0を超えるものを Xとした。

表 8及び表 9の、比較例 1〜6と比べ実施例 1〜48のカラーフィルタパターンはエツジラフネスが小さぐ露光感度及び解像度が高ぐ良好なカラーフィルタが製造できることが認められた。

[0389] [液晶表示装置の作製及び評価]

実施例 1〜47、比較例 1〜6のカラーフィルタを用いて LEDバックライトを有する反射、透過兼用の液晶表示装置を作製した。実施例 1〜48のカラーフィルタは、比較例 1〜6と比べ液晶表示装置が、良好な表示特性を示すことを確認した。

産業上の利用可能性

[0390] 本発明のカラーフィルタの製造方法により製造されるカラーフィルタは、透過モード及び反射モードのいずれにおいても良好な表示特性を備え、携帯端末、携帯ゲーム機等の液晶表示装置 (LCD)用に好適であり、また、ノートパソコン、テレビモニター等の液晶表示装置 (LCD)用、 PALC (プラズマアドレス液晶）、プラズマディスプレイ用としても好適に用いられる。また、ここに実例として挙げたカラーフィルタの他に、特開平 11— 248921号公報、特許第 3255107号公報などに記載の、少なくとも RGB のいずれかの色を重ねてスぺーサーを形成することもできる。

Claims

請求の範囲

[1] 感光性組成物力なり基材の表面に位置する感光層に対して、

光照射手段及び光変調手段を少なくとも備えた露光ヘッドと、前記感光層の少なくともいずれかを移動させつつ、前記光照射手段から出射された光を前記光変調手段によりパターン情報に応じて変調しながら前記露光ヘッドから照射して、前記感光層を露光する露光工程を含み、

前記感光性組成物が、バインダー、重合性化合物、着色剤、及び光重合開始剤を含んでなり、前記着色剤に含まれる顔料の数平均粒径力大きくとも lOOnmであり、かつ該顔料の前記感光性組成物の固形分中の含有量が、少なくとも 30質量％であることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。

[2] 光変調手段が、光照射手段からの光を受光し出射する n個（ただし、 nは 2以上の自然数)の 2次元状に配列された描素部を有し、前記描素部をパターン情報に基づいて制御可能である請求項 1に記載のカラーフィルタの製造方法。

[3] 光照射手段が、半導体レーザ素子から生ずるレーザ光を出射するレーザ光源である請求項 1から 2のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。

[4] 露光ヘッドが、光照射手段からの光を集光して光変調手段に照射する集光レンズ系と、前記光変調手段により変調された光による像を感光層の被露光面上に結像する結像レンズ系とを備える請求項 1から 3のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。

[5] 結像レンズ系力マイクロレンズがアレイ状に配されてなるマイクロレンズアレイを含む請求項 4に記載のカラーフィルタの製造方法。

[6] 結像レンズ系力マイクロレンズの集光位置近傍に、該マイクロレンズを経た光のみが入射するように配列されたアパーチャが配置されてなるアパーチャアレイを含む請求項 4から 5のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。

[7] 集光レンズ系により光照射手段から光変調手段に照射される光の照射領域内における光量に分布を持たせ、前記光変調手段により変調された光の感光層の被露光面における光量分布が均一になるように補正する請求項 1から 6のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。

[8] 露光が、光変調手段により変調された光の光路長を変更し、感光層の被露光面に結像する露光光の焦点を調節する焦点調節手段を用いて行われる請求項 1から 7の V、ずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。

[9] 結像レンズ系の中央部を含む略矩形状の領域のみにおいて、光変調手段により変調された光を結像する請求項 8に記載のカラーフィルタの製造方法。

[10] 焦点調節手段が、光変調手段により変調された光の光軸方向の厚さが変化するように形成されたくさび型プリズムペアを有し、該くさび型プリズムペアを構成する各くさび型プリズムを移動することによって、前記変調された光を感光層の被露光面上に結像する際の焦点を調節する請求項 8から 9のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。

[11] マイクロレンズアレイの各マイクロレンズ力描素部の面の歪みによる収差を補正する非球面を有する請求項 5から 10のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。

[12] 非球面がトーリック面である請求項 11に記載のカラーフィルタの製造方法。

[13] マイクロレンズアレイの各マイクロレンズ力前記画素部の面の歪みによる収差を補正する屈折率分布を有する請求項 5から 10のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。

[14] マイクロレンズアレイの各マイクロレンズ力前記画素部の周辺部からの光を入射させな、レンズ開口形状を有する請求項 5から 10の、ずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。

[15] 走査方向に対し描素部の列方向が所定の設定傾斜角度 Θをなすように配置されてなる露光ヘッドを用い、

前記露光ヘッドについて、使用描素部指定手段により、使用可能な前記描素部のうち、 N重露光 (ただし、 Nは 2以上の自然数）に使用する前記描素部を指定し、前記露光ヘッドについて、使用描素部制御手段により、前記使用描素部指定手段により指定された前記描素部のみが露光に関与するように、前記描素部の制御し、前記感光層に対し、前記露光ヘッドを走査方向に相対的に移動させて露光を行う請求項 1から 14のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。

[16] 光変調手段が、形成するパターン情報に基づいて制御信号を生成するパターン信号生成手段を更に有してなり、光照射手段から照射される光を該パターン信号生成手段が生成した制御信号に応じて変調させる請求項 1から 15のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。

[17] 感光層の被露光面に対する描画画素の配置と、パターン情報に係る描画パターンとの関係で生じるジャギーのジャギーピッチ又はジャギー振幅が所定値以下となるよ

5、

前記走査方向に対する前記描画画素の描画ピッチ (C)、及び

前記パターン情報に従!、、前記各描素部を所定のタイミングで変調制御することを特徴とする請求項 1から 16のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。

[18] 少なくともオンオフ制御可能な二次元配列の制御点を感光層の被露光面上に設定し、

前記制御点の略走査方向に沿った点列のピッチ (E)、

前記点列の並び方向（F)、

前記制御点の前記走査方向に対するピッチ (G)、及び

前記相関関係に基づいて、前記点列のピッチ (E)、前記点列の並び方向（F)、前記制御点の前記走査方向に対するピッチ (G)、及び前記位相差 (H)の少なくとも、ずれかを設定又は変更する請求項 1から 16のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。

[19] 少なくともオンオフ制御可能な二次元配列の制御点を感光層の被露光面上に設定し、

関係を求め、前記相関関係に基づいて前記配列状態を設定又は変更する請求項 1 力も 16のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。

[20] 少なくともオンオフ制御可能な二次元配列の制御点を感光層の被露光面上に設定し、

を設定又は変更する請求項 1から 16のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法

[21] 感光層が、感光性組成物を基材の表面に塗布し、乾燥することにより形成される請求項 1から 20のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。

[22] 支持体上に少なくとも一層の感光性組成物層を設けた感光性フィルムを、感光層の表面と基材とが当接するように該基材上に積層し、次いで、支持体を剥離することにより形成される請求項 1から 20のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。

[23] 感光性組成物が、少なくとも、黒色 (K)に着色されている請求項 1から 22のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。

[24] 少なくとも、赤色 (R)、緑色 (G)、及び青色 (B)の 3原色に着色された感光性組成物を用いて、基材の表面に所定の配置で、 R、 G及び Bの各色毎に、順次、感光層形成工程、露光工程、及び現像工程を繰り返してカラーフィルタを形成する請求項 1から 23の、ずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。

[25] 請求項 1から 24の、ずれかに記載のカラーフィルタの製造方法により製造されたことを特徴とするカラーフィルタ。

請求項 25に記載のカラーフィルタを用いたことを特徴とする液