WO2004100364A1 - 音叉型圧電デバイスの製造方法および音叉型圧電デバイス - Google Patents

音叉型圧電デバイスの製造方法および音叉型圧電デバイス Download PDF

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fork type
tuning
piezoelectric device
tuning fork
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Osamu Kawauchi
Masayuki Kikushima
Yoshio Morita
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Seiko Epson Corporation
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    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
    • H03H9/02Details
    • H03H9/05Holders; Supports
    • H03H9/10Mounting in enclosures
    • H03H9/1007Mounting in enclosures for bulk acoustic wave [BAW] devices
    • H03H9/1014Mounting in enclosures for bulk acoustic wave [BAW] devices the enclosure being defined by a frame built on a substrate and a cap, the frame having no mechanical contact with the BAW device
    • H03H9/1021Mounting in enclosures for bulk acoustic wave [BAW] devices the enclosure being defined by a frame built on a substrate and a cap, the frame having no mechanical contact with the BAW device the BAW device being of the cantilever type
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    • Y10T29/435Solid dielectric type

Definitions

  • the present invention relates to a method for manufacturing a tuning fork type piezoelectric device and a tuning fork type piezoelectric device, and more particularly to a tuning fork type piezoelectric device suitable for vacuum-sealing a package without deteriorating the frequency characteristics of the tuning fork type piezoelectric vibrating reed.
  • the present invention relates to a manufacturing method and a tuning fork type piezoelectric device.
  • a tuning fork type piezoelectric device is known as a device that can easily obtain an accurate clock frequency.
  • tuning-fork type piezoelectric devices have been used as detection elements of gyro sensors used for position detection and attitude control of an object.
  • Such tuning-fork type piezoelectric devices have been reduced in size and thickness in response to the reduction in size and thickness of electronic devices, and so-called surface mount devices have been developed.
  • the surface mount type tuning fork type piezoelectric device is mounted by supporting the tuning fork type piezoelectric vibrating reed in parallel with the bottom surface of the package base and in a cantilever manner on the bottom surface of the package base.
  • a lid is joined via a low-melting glass to an upper portion of a package base in which a tuning-fork type piezoelectric vibrating piece is mounted. Since the joining of the lid is performed by heating to a temperature of 320 ° C. to 370 ° C., the inside of the package also becomes as high as the joining temperature. For this reason, the conductive adhesive for mounting the tuning-fork type piezoelectric vibrating piece on the package base cannot use a material having a heat-resistant temperature lower than the above-mentioned bonding temperature, and uses only a polyimide-based conductive adhesive having a high heat-resistant temperature. could not.
  • the polyimide conductive adhesive has high hardness, and the base of the tuning-fork type piezoelectric vibrating piece is firmly adhered and fixed to the package base. Therefore, when the tuning fork-type piezoelectric vibrating piece bends and vibrates, it vibrates in the package via the base. Transmitted, degrading the frequency characteristics and increasing the crystal impedance value.
  • the tuning fork type piezoelectric vibrating reed When quartz is used as the material of the piezoelectric vibrating reed, the tuning fork type piezoelectric vibrating reed is mainly used. It vibrates in the bending mode (32.768 kHz).
  • This tuning-fork type piezoelectric vibrating reed uses a solder-based or epoxy-based conductive adhesive that is supported in a cantilever shape, and the Young's modulus of these conductive adhesives and the X-axis direction of the piezoelectric crystal axis The asymmetric mode (X-mode) is approaching. For this reason, the bending vibration of the tuning-fork type piezoelectric vibrating piece loses energy under the influence of the X-mode, and the frequency characteristics deteriorate.
  • the bending vibration, the Young's modulus is used 1 X 1 0 one 2 GP a less conductive adhesive, not adversely affected by the other vibration such as X- mode.
  • the Young's modulus of 1 X 1 0- 2 GP a less conductive adhesive include conductive silicone adhesive and butadiene.
  • the lid When joining the lid to the package base, the lid is sufficiently separated from the package base, and the lid is heated to a temperature higher than the melting point of the low-melting glass in a nitrogen atmosphere. Are joined. According to the technology, the lid can be bonded to the package base using low-melting glass without deteriorating the silicone conductive adhesive.
  • H10-2506409 discloses that even when the operation of heating the lid and the operation of sealing are performed in a vacuum instead of a nitrogen atmosphere, it is possible to use a low melting point glass or the like. Gas is generated. In this technique, when the lid and the package base are joined, gas generated from low-melting glass or the like remains in the package, and the package cannot be vacuum-sealed. Also, as a method of vacuum sealing the package, a gold-tin tin brazing material serving as a sealing material is preformed on a peripheral portion of the lid, and the melting point of the gold-tin sealing material or more (about 280 ° C.) ) There is a single sealing method in which the lid is heated and joined to the package base.
  • the present invention has been made in order to solve the above problems, and even when a conductive adhesive suitable for mounting a tuning-fork type piezoelectric vibrating reed on a package base is used, a package base using a low melting point glass is used. It is intended to provide a method of manufacturing a tuning fork type piezoelectric device and a tuning fork type piezoelectric device which can join a package and a lid and vacuum seal a package. Disclosure of the invention
  • a manufacturing method of the tuning fork type piezoelectric device has a Young's modulus in a package base having a seal hole by using the 1 X 1 0- 2 GP a less conductive adhesive fork Mounting a type piezoelectric vibrating reed, bonding a lid to the upper surface of the package base using low-melting glass, evacuating the inside of the package using the sealing holes, and sealing the package with a sealing material.
  • the Young's modulus of 1 X 1 0- 2 GP a less conductive adhesive, butadiene based conductive adhesive was or can be a silicone-based conductive adhesive.
  • the tuning fork type piezoelectric vibrating piece can absorb the vibration by a conductive adhesive also bending vibration. Also according to the present invention, since the frequency of the tuning fork type piezoelectric vibrating piece is adjusted after the package is vacuum-sealed, a tuning fork type piezoelectric device with high frequency accuracy can be realized.
  • the material of the lid is glass. Since the lid made of glass transmits laser light for adjusting the frequency of the tuning fork type piezoelectric vibrating reed, the frequency of the tuning fork type piezoelectric vibrating reed can be adjusted after the lid is joined to the package base.
  • the present invention is characterized in that the tuning-fork type piezoelectric vibrating reed has grooves along the longitudinal direction on both surfaces of a vibrating arm portion. According to the present invention, the efficiency of the bending vibration of the vibrating arm portion is improved, the crystal impedance (C I) value is reduced, and the size of the tuning-fork type piezoelectric vibrating piece can be reduced.
  • the sealing hole includes a first hole and a second hole having an opening smaller than the first hole, and is characterized by being coated with a metal.
  • the sealing material is placed in the first hole and melted, the sealing material is welded to the metal coating and the sealing hole can be sealed.
  • the sealing material is a metal pole using any material of gold-tin, gold-germanium or silver brazing.
  • a tuning fork type piezoelectric device is characterized by being manufactured by using the above-described method for manufacturing a tuning fork type piezoelectric device.
  • the present invention is characterized in that in the above-described tuning fork type piezoelectric device, a semiconductor integrated circuit is mounted. Thus, a more stable tuning fork type piezoelectric device can be realized.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view of the acoustic piezoelectric device according to the present embodiment.
  • FIG. 2 is a flow chart for explaining a manufacturing process of the acoustic piezoelectric device according to the present embodiment.
  • FIG. 3 is a graph comparing the impedance values of the tuning fork type piezoelectric device according to the present embodiment and the tuning fork type piezoelectric device according to the prior art.
  • FIG. 4 is a diagram showing a result of measuring vibration leakage of the tuning fork type piezoelectric device according to the present embodiment.
  • FIG. 5 is a diagram showing the results of measuring the vibration leakage of the tuning fork type piezoelectric device due to the difference in the conductive adhesive.
  • FIG. 6 is a diagram showing a metal film provided in the sealing hole of the present embodiment.
  • FIG. 7 is a diagram showing another example of the metal film provided in the sealing hole.
  • FIG. 8 is a plan view of a tuning-fork type piezoelectric vibrating reed according to another embodiment.
  • FIG. 9 is a sectional view taken along line AA of FIG.
  • FIG. 10 is a diagram illustrating a method of sealing a sealing hole.
  • FIG. 1 is a sectional view of a tuning fork type piezoelectric device according to an embodiment.
  • the tuning fork type piezoelectric device 10 has a tuning fork type piezoelectric vibrating reed 16 mounted mainly on a package base 12 via a conductive adhesive 14, and a lid 18 on top of the package base 12. Are joined.
  • the package base 12 has a configuration in which a frame-shaped ceramic insulating substrate is laminated on a plurality of planar ceramic insulating substrates.
  • This package base 12 is provided with a two-stage sealing hole 20 on the bottom surface.
  • the sealing hole 20 is formed by press working or the like on a planar ceramic insulating substrate constituting the bottom surface of the package base 12.
  • the sealing hole 20 includes a first hole 22 and a second hole 24. That is, the sealing hole 20 is formed on the ceramic insulating substrate of the third layer 12 c where the first hole 22 is the bottom surface of the package base 12, and the second hole 24 is formed on the package base 12. It is provided on the ceramic insulating substrate of the second layer 12 b serving as the inner surface.
  • the opening of the second hole 24 is formed smaller than the opening of the first hole 22. The centers of the openings of the first hole 22 and the second hole 24 are approximately It is adjusted to be in the same position.
  • the sealing hole 20 is provided with a metal coating 36 provided with nickel plating and gold plating on tungsten metallized.
  • the metal coating 36 is formed on the bottom surface of the second layer 12 b serving as the bottom surface of the large-diameter first hole portion 22 and the side surface of the third layer 12 c serving as the peripheral surface of the first hole portion 22. It is formed in. However, the metal film 36 is not formed on the peripheral surface of the second hole 24. This is to prevent a sealing material made of metal, which will be described later, from dripping into the package 28.
  • the sealing material made of a metal pole described later is melted. In some cases, the sealing material spreads along the metal film 36 and is welded, so that the sealing hole 20 can be sealed well. Note that the metal film 36 may be only on the bottom surface of the second layer 12b as shown in FIG.
  • a package-side mount electrode (not shown) for mounting the tuning-fork type piezoelectric vibrating piece 16 is formed on the inner surface of the package base 12.
  • the mount electrode is electrically connected to an external electrode (not shown) formed on the bottom surface of the package base 12.
  • the tuning-fork type piezoelectric vibrating reed 16 includes a base 26 and a pair of vibrating arms 32, and connects a connection electrode (not shown) formed on the base 26 to the mount electrode with a conductive adhesive.
  • a connection electrode (not shown) formed on the base 26 to the mount electrode with a conductive adhesive.
  • the package 2 8 t the conductive adhesive 1 4 internal implemented in the following materials Young's modulus 1 X 1 0- 2 GP a, eg if butadiene based conductive adhesive Ya Silicone 3 ⁇ 4 A conductive adhesive can be used. Young's modulus of the butadiene based conductive adhesive is 1 X 1 0- 2 GP a extent, the Young's modulus of the silicone-based conductive adhesive is approximately 1 X 1 0- 3 GP a.
  • a lid 18 is bonded to the upper surface of the package base 12, that is, on the frame-shaped first layer 12 a ceramic insulating substrate via a low-melting glass 30 serving as a sealing material.
  • the cover 18 is made of a material that transmits laser light for adjusting the frequency of the sound-type piezoelectric vibrating reed 16, for example, a glass sapphire or the like.
  • the package base 12 of the tuning fork type piezoelectric device 10 is formed by laminating a plurality of ceramic insulating substrates as described above, and forms the second layer 12 b and the third layer 1 forming the bottom surface of the package base 12.
  • holes 22 and 24 having different openings are formed by press working or the like.
  • the holes 22 and 24 constitute a sealing hole 20 for vacuum-sealing the package.
  • the metal film 3 is formed on the bottom surface and the peripheral surface of the first hole 22 by thick-film printing or plating. 6 are provided (see Fig. 6).
  • the package-side mount electrode is provided on the top surface of the second layer 12b, and the external electrode is provided on the bottom surface of the third layer 12c (both are not shown).
  • These electrodes are formed by, for example, forming a tungsten layer by thick film printing or the like, and applying nickel plating and gold plating on the tungsten layer.
  • the package base 12 is formed by laminating a frame-shaped ceramic insulating substrate serving as the first layer 12a on the ceramic insulating substrate of the second layer 12b, and by firing these, they are integrated. Yes (step 1 1 0).
  • the tuning fork type piezoelectric vibrating piece 16 has an excitation electrode (not shown) provided on the vibrating arm portion 32 and is connected to this excitation electrode to form a base 26 of the tuning fork type piezoelectric vibrating piece 16.
  • the connection electrodes thus formed are formed by film formation such as sputtering or vapor deposition (step 120). These electrodes are formed, for example, by laminating gold on chromium.
  • Such package base 1 2 thus formed has a Young's modulus Ru is a tuning fork type piezoelectric resonator element 1 6 implemented by 1 X 1 0 one 2 GP a less conductive adhesive 1 4 (Step 1 3 0) .
  • the tuning-fork type piezoelectric vibrating reed 16 has the connection electrode adhered and fixed to the mount electrode of the package base 12 and is supported in a cantilever shape.
  • the Young's modulus as 1 X 1 0 _ 2 GP a less conductive adhesive 1 4 can Rukoto using butadiene based conductive adhesive or silicone-based conductive adhesive.
  • the conductive adhesive 14 is heated and cured at 200 ° C. for about 1 hour.
  • the lid 18 is joined to the upper part of the package base 12 on which the tuning fork type piezoelectric vibrating reed 16 is mounted using low melting point glass 30 (step 140). This and Then, the low-melting glass 30 is melted by heating at about 320 ° C. to 350 ° C., and the lid 18 is joined to the upper portion of the package base 1 to form the package 28.
  • the package 28 is placed in a vacuum container, and the pressure in the container is reduced.
  • the package 28 is arranged upside down as shown in FIG. Thereby, the pressure in the container is reduced, and the inside of the package 28 is also reduced in pressure through the sealing hole 20.
  • a sealing material 50 made of a metal ball is arranged in the first hole portion 22 of the sealing hole 20, and the sealing material 50 is locally heated and melted by a laser or an electron beam. The melted sealing material 50 spreads and welds on the metal coating 36, and seals the sealing hole 20 by vacuum (step 150).
  • the sealing material 50 a metal pole made of gold-tin, gold-germanium, silver brazing or the like is used, but a plate-like pellet may be used as the shape of the sealing material.
  • the sealing material 50 is made of a gold-tin alloy, for example, gold (Au) 80 wt% and tin (Sn) 20 wt% can be used.
  • the melting point of the sealing material made of gold-tin tin having such a composition is 278 ° C.
  • the encapsulant 50 is gold-germanium (G e), Au 87.5 wt% and Ge 12.5 wt% can be used. Has a melting point of 361 ° C.
  • the inside of the package 28 vacuum-sealed in the step 150 has a degree of vacuum of 0.13 Pa or less.
  • the frequency of the tuning-fork type piezoelectric vibrating reed 16 mounted inside the package 12 is adjusted. That is, the weight (not shown) formed at the tip of the vibrating arm portion 32 of the tuning-fork type piezoelectric vibrating piece 16 is irradiated with laser light via the lid 18 to process the weight. The frequency is adjusted to the desired frequency (step 160), and a tuning fork type piezoelectric device 10 is formed.
  • FIG. 3 shows the distribution of CI values.
  • the horizontal axis in Fig. 3 is the CI value, and the vertical axis is the probability density. This figure shows that the lower the CI value, the better the characteristics.
  • the solid line in the figure shows the measurement results of the tuning fork type piezoelectric device 10 manufactured by the above method, and the dotted line shows the measurement results of the tuning fork type piezoelectric device manufactured by the conventional single sealing method. . Note that these tuning fork types The same tuning fork type piezoelectric vibrating reed and the silicone conductive adhesive of the piezoelectric device are used.
  • the tuning fork type piezoelectric device manufactured by the single encapsulation method has a large variation in CI value exceeding 80 k ⁇ . This is because the gas generated when the lid is joined to the package base remains in the package, and when the degree of vacuum deteriorates and the tuning fork-type piezoelectric vibrating piece bends and vibrates, this gas becomes a resistance. It depends. For this reason, tuning fork type piezoelectric devices manufactured by the single sealing method cannot be used as commercial products.
  • the tuning-fork type piezoelectric device 10 manufactured by the method of the present embodiment has an average CI value of 50 k ⁇ and is stable with little variation. This is because even if gas is generated when the lid 18 is joined to the package base 12, the gas is exhausted from the sealing hole 20, so that the generated gas does not remain inside the package 28. After that, when the inside of the package 28 is vacuum-sealed by melting the sealing material 50 and sealing the sealing hole 20, only heat is applied around the sealing hole 20. The sealing can be performed with almost no generation of gas, and the tuning-fork type piezoelectric vibrating piece 16 can stably bend and vibrate without gas resistance. This indicates that the method of manufacturing the tuning fork type piezoelectric device 10 of the present embodiment is superior to the conventional single sealing method.
  • the tuning fork type piezoelectric device 10 manufactured by the method of the present embodiment, vibration leakage due to the difference in the conductive adhesive 14 was measured.
  • the tuning fork type piezoelectric device 10 is repeatedly set and reset in the measuring circuit a plurality of times, and the frequency and CI value are measured for each of the times, and the vibration leakage is measured.
  • the variation in each subsequent measurement is evaluated.
  • Fig. 4 shows the results of measuring the vibration leakage of the tuning fork type piezoelectric device 10 in which the tuning fork type piezoelectric vibrating reed 16 was mounted on the package base 12 with a silicone conductive adhesive
  • Fig. 5 shows the polyimide conductive adhesive.
  • Figures 4 (a) and 5 (a) show the variation in frequency for each number of measurements
  • Figures 4 (b) and 5 (b) show the variation in CI values for each number of measurements.
  • the Young's modulus of the polyimide conductive adhesive is about 3 GPa. Comparing the case where the silicone-based conductive adhesive is used and the case where the polyimide-based conductive adhesive is used, when the silicone-based conductive adhesive is used, the dispersion for each measurement is small in both frequency and CI value. While stable
  • the polyimide conductive adhesive has a Young's modulus of about 3 GPa, it cannot absorb the bending vibration of the tuning-fork type piezoelectric vibrating reed, and the vibration leaks to the outside, causing variations at every measurement. I do. That is, since the vibration leaks to the outside, the energy of the vibration is lost, and the tuning fork type piezoelectric vibrating piece cannot perform stable bending vibration.
  • the tuning fork type piezoelectric device 10 using the silicone-based conductive adhesive is , there is no loss of vibration compared to the tuning fork type piezoelectric device using a large listening conductive adhesive Young's modulus than 1 X 1 0 _ 2 GP a such polyimide-based conductive adhesive, to stably vibrate I understand.
  • the conductive adhesive 14 for mounting the tuning-fork type piezoelectric vibrating reed 16 on the package base 12 may be a butadiene-based conductive adhesive or a silicon-based conductive adhesive.
  • the conductive adhesive 14 has a Young's modulus of 1 XI 0 " 2 GPa or less. Therefore, even if the tuning fork type piezoelectric vibrating reed 16 bends and vibrates, the conductive adhesive 14 absorbs the vibration. As a result, a stable tuning-fork type piezoelectric device 10 that does not cause external vibration leakage can be realized.
  • the lid 18 is joined to the upper portion of the package base 12 using the low-melting glass 30, gas is generated, but a sealing hole 20 for vacuum sealing is provided at the bottom of the package base 12. Therefore, gas is exhausted from the sealing hole 20 and no gas remains inside the package 28.
  • the sealing hole 20 is vacuum-sealed, the sealing material 50 is locally heated and melted, so that the package 28 can be vacuum-sealed without affecting the heat.
  • the tuning fork type piezoelectric vibrating piece 16 vibrates, the CI value is reduced without being affected by air resistance. Therefore, high accuracy and low cost A fixed tuning fork type piezoelectric device 10 can be realized.
  • the cover 18 is made of a material that transmits laser light, such as glass or sapphire.
  • the package is sealed after adjusting the frequency of the tuning-fork type piezoelectric vibrating reed. Therefore, the initial frequency was considerably widely distributed due to the effects of stress variation and heating variation.
  • the lid 18 since the lid 18 transmits laser light, the frequency of the tuning-fork type piezoelectric vibrating piece 16 can be adjusted with high accuracy after the package 28 is vacuum-sealed, and a constant initial frequency can be adjusted.
  • the tuning fork type piezoelectric device 10 can be realized.
  • a semiconductor integrated circuit such as an oscillation circuit and a temperature compensation circuit can be mounted on the tuning fork type piezoelectric device 10 of the present embodiment. Thereby, a more stable tuning fork type piezoelectric device can be realized.
  • a groove having an H-shaped cross section may be provided in the vibrating arm 32 extending from the base 26.
  • 8 and 9 are explanatory diagrams of a tuning-fork type piezoelectric vibrating reed in which a groove is provided in a vibrating arm portion.
  • the tuning-fork type piezoelectric vibrating piece 60 includes a base 62 and a pair of vibrating arms 32 extending from one end of the base 62.
  • the tuning-fork type piezoelectric vibrating piece 60 is provided with a rectangular groove 40 on the base end side of the vibrating arm 32. As shown in FIG.
  • the groove 40 is formed at a corresponding position on the front and back surfaces of the vibrating arm 32, and the cross section of the vibrating arm 32 is H-shaped.
  • excitation electrodes (not shown) are formed on the opposing surface and the outer surface of each vibrating arm 32 and the inner surface of the groove 40. For this reason, in the vibrating piece 60, the vibration efficiency of the vibrating arm 32 is improved, and the CI value is smaller than before.
  • the acoustic type piezoelectric vibrating piece 60 has rectangular grooves 42 formed on both sides of the base 26, and when the tuning fork type piezoelectric vibrating piece 60 is mounted, vibration leakage from the base 26 is prevented. It is to be reduced.
  • the tuning fork type piezoelectric vibrating piece 60 since the groove 40 is formed and the vibrating arm 32 has an H-shaped structure, the CI value can be reduced.
  • the CI value decreases as the depth of the groove 40 increases. Even if the vibrating arm 32 is formed thin, the CI value can be reduced by providing the groove 40 in the vibrating arm 32. Therefore, the tuning fork type piezoelectric vibrating reed can be downsized.
  • Type piezoelectric devices can also be miniaturized.
  • the outer dimensions of the tuning fork type piezoelectric device having the groove 40 are 3.2 mm x 1.5 mm x 0.8 mm, which is 60% or less that of the conventional tuning fork type piezoelectric device. it can.
  • the present invention can be applied to the manufacture of a tuning fork type piezoelectric device used for various electronic devices such as communication devices and sensors.

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Abstract

 音叉型圧電デバイス10の製造方法は、封止孔20を有するパッケージベース12にヤング率が1×10-2GPa以下の導電性接着剤14を用いて音叉型圧電振動片16を実装する工程と、前記パッケージベース12の上面に低融点ガラス30を用いて蓋体18を接合する工程と、前記封止孔20を用いてパッケージ28内部を真空にし、封止材により前記封止孔20を真空封止する工程と、前記蓋体18を介してレーザ光を音叉型圧電振動片16に照射して周波数調整する工程と、を有する構成とした。

Description

明細書 音叉型圧電デバイスの製造方法および音叉型圧電デバイス 技術分野
本発明は、 音叉型圧電デバイスの製造方法および音叉型圧電デバイスに係 り、 特に音叉型圧電振動片の周波数特性を劣化することなくパッケージを真 空封止するのに好適な音叉型圧電デバイスの製造方法および音叉型圧電デバ イスに関する。 背景技術
音叉型圧電デバイスは、 正確なクロック周波数を簡易に得ることができる ものとして知られている。 また、 近年、 音叉型圧電デバイスは、 物体の位置 検出や姿勢制御に使用されるジャイロセンサの検出素子として用いられてい る。 このような音叉型圧電デバイスは、 電子機器の小型化および薄型化に対 応して小型化および薄型化が図られており、 いわゆる表面実装型が開発され ている。 この表面実装型の音又型圧電デバイスは、 音叉型圧電振動片がパッ ケージベースの底面と平行となるように、 かつパッケージベースの底面に片 持ち梁状に支持することにより実装されている。
この音叉型圧圧電デバイスは、 音叉型圧電振動片を内部に実装したパッケ ージベースの上部に、 低融点ガラスを介して蓋体が接合されている。 この蓋 体の接合は、 3 2 0 °C〜 3 7 0 °Cに加熱して行なうので、 パッケージ内部も 前記接合温度と同様に高温となる。 このため、 パッケージベースに音叉型圧 電振動片を実装する導電性接着剤は、 耐熱温度が前記接合温度よりも低い物 を使用できず、 耐熱温度の高いポリイミ ド系の導電性接着剤しか使用できな かった。 しかし、 ポリイミド系の導電性接着剤は硬度が高く、 強固に音叉型 圧電振動片の基部をパッケージベースに接着固定しているので、 音叉型圧電 振動片が屈曲振動すると基部を介してパッケージに振動が伝わり周波数特性 を劣化させ、 クリスタルインピーダンス値が高くなつていた。
また、 圧電振動片の材料に水晶を使用した場合に、 音叉型圧電振動片は主 振動である屈曲モード ( 3 2 . 7 6 8 k H z ) で振動する。 この音叉型圧電 振動片は、 片持ち梁状に支持する導電性接着剤に半田系またはエポキシ系を 使用した場合、 これらの導電性接着剤のヤング率と圧電結晶軸である X軸方 向の非対称モード (X— m o d e ) とが接近している。 このため、 音叉型圧 電振動片の屈曲振動は、 前記 X— m o d eの影響を受けてエネルギーを損失 し、 周波数特性が悪化してしまう。 しかし、 屈曲振動は、 ヤング率が 1 X 1 0一2 G P a以下の導電性接着剤を用いると、 X— m o d e等の他の振動に よる悪影響を受けない。 ヤング率が 1 X 1 0— 2 G P a以下の導電性接着剤 としては、 シリコーン系およびブタジエン系の導電性接着剤が挙げられる。 シリコーン系の導電性接着剤を用いて圧電振動片をパッケージベースに実 装する技術としては、 特開平 1 0— 2 5 6 4 0 9号公報に記載の技術が挙げ られる。 この技術は、 圧電振動片をパッケージベースにシリコーン系の導電 性接着剤により実装し、 前記パッケージベース上に低融点ガラスを用いて蓋 体を接合し、 パッケージを気密封止するものである。 そして、 蓋体をパッケ ージベースに接合するときは、 蓋体をパッケージベースから十分に離間させ るとともに、 窒素雰囲気中で蓋体を低融点ガラスの融点よりも高い温度に加 熱し、 パッケージベース上に接合している。 この技術により、 シリコーン系 導電性接着剤を劣化させることなく、 低融点ガラスを用いて蓋体をパッケ一 ジベースに接合できるとしている。
しかしながら、 特開平 1 0— 2 5 6 4 0 9号公報に記載の技術は、 蓋体を 加熱する作業および封止作業を窒素雰囲気中で行っているため、 パッケージ 内を真空しなければならない圧電デバイスに利用できない。 すなわち、 音叉 型圧電振動片は、 屈曲モードの振動を使用しているため、 窒素雰囲気中では 屈曲振動時に空気抵抗でクリスタルインピーダンス値が悪くなる問題が発生 する。 このため、 音叉型圧電デバイスは、 パッケージ内部を真空封止する必 要がある。 また、 特開平 1 0— 2 5 6 4 0 9号公報に記載の技術は、 蓋体を 加熱する作業および封止作業を窒素雰囲気中でなく真空中で行っても、 低融 点ガラス等からガスが発生する。 そして、 この技術は、 蓋体とパッケージべ ースとの接合時に、 低融点ガラス等から発生したガスがパッケージ内に残留 してしまい、 パッケージを真空封止することができない。 また、 パッケージを真空封止する方法として、 蓋体の周縁部に封止材とな る金一錫ロウ材をプレフォーミングし、 金 -錫の封止材の融点以上 ( 2 8 0 °C程度) で蓋体を加熱してパッケージベースに接合するシングル封止方法が ある。 しかしながら、 金一錫の封止材の融点以上で蓋体を加熱するため、 パ ッケージベースに音叉型圧電振動片を実装する接着剤に、 高温でも劣化しな い導電性接着剤を使用しなければならない制約があった。 また、 封止材ゃパ ッケージ等より発生するガスを完全に除去できないため、 クリスタルインピ 一ダンス値を下げることが困難であった。 さらに、 金一錫の封止材は、 金を 含有しているためコストが高くなつてしまう問題点があつた。
本発明は、 上記問題点を解決するためになされたもので、 音叉型圧電振動 片をパッケージベースに実装するのに適した導電性接着剤を用いた場合でも 、 低融点ガラスを用いてパッケージベースと蓋体とを接合し、 パッケージを 真空封止できる音叉型圧電デバイスの製造方法および音叉型圧電デパイスを 提供することを目的とする。 発明の開示
上記目的を達成するために、 本発明に係る音叉型圧電デバイスの製造方法 は、 封止孔を有するパッケージベースにヤング率が 1 X 1 0— 2 G P a以下 の導電性接着剤を用いて音叉型圧電振動片を実装する工程と、 前記パッケ一 ジベースの上面に低融点ガラスを用いて蓋体を接合する工程と、 前記封止孔 を用いてパッケージ内部を真空にし、 封止材により前記封止孔を真空封止す る工程と、 前記蓋体を介してレーザ光を音叉型圧電振動片に照射して周波数 調整する工程と、 を有することを特徴としている。 この場合、 前記ヤング率 が 1 X 1 0— 2 G P a以下の導電性接着剤は、 ブタジエン系導電性接着剤ま たはシリコーン系導電性接着剤を用いることができる。
これにより、 蓋体をパッケージベースへ接合するとガスが発生するが、 蓋 体の接合後にパッケージ内部を真空にして封止するので、 パッケージ内部を 音叉型圧電振動片の屈曲振動に適した真空にすることができる。 まだ、 導電 性接着剤は、 ヤング率が 1 X 1 0— 2 G P a以下の材料を用いるので、 音叉 型圧電振動片が屈曲振動しても導電性接着剤により振動を吸収できる。 また 、 本発明は、 パッケージを真空封止した後に音叉型圧電振動片の周波数を調 整するので、 周波数の精度が高い音叉型圧電デバイスを実現できる。
また、 本発明は、 前記蓋体の材質はガラスであることを特徴としている。 ガラスからなる蓋体は、 音叉型圧電振動片の周波数を調整するレーザ光を透 過するので、 蓋体をパッケージベースへ接合した後に音叉型圧電振動片の周 波数調整を行なうことができる。
また、 本発明は、 前記音叉型圧電振動片は、 振動腕部の両面に長手方向に 沿った溝を有していることを特徴としている。 このようになっている本発明 は、 振動腕部部の屈曲振動の効率が向上してクリスタルインピーダンス (C I ) 値が低下し、 音叉型圧電振動片の小型化を図ることができる。
また、 前記封止孔は第一孔部と、 前記第一孔部よりも小さな開口の第二孔 部とからなるとともに、 金属被膜されてなることを特徴としている。 第一孔 部に封止材を置いて溶融すると金属被膜に溶着して封止孔を封止できる。
また、 前記封止材は、 金—錫、 金一ゲルマニウムまたは銀ロウのいずれか の材料を用いた金属ポールであることを特徴としている。 これらの封止材は
、 溶融すると前記金属被膜上に濡れ広がるので、 パッケージ内部に突出する ことなく封止孔を真空封止できる。
また、 本発明に係る音叉型圧電デバイスは、 上述した音叉型圧電デバイス の製造方法を用いて製造されてなることを特徴としている。 これにより、 音 叉型圧電振動片が屈曲振動しても導電性接着剤により振動を吸収するので、 外部に振動が漏れることがない。 よって、 音叉型圧電デバイスは安定した屈 曲振動ができる。
また、 本発明は、 上述した音叉型圧電デバイスにおいて、 半導体集積回路 を実装してなることを特徴としている。 これにより、 より安定した音叉型圧 電デバイスを実現できる。 図面の簡単な説明
図 1は、 本実施の形態に係る音芡型圧電デバイスの断面図である。
図 2は、 本実施の形態に係る音 型圧電デバイスの製造工程を説明するフ ローである。 図 3は、 本実施の形態に係る音叉型圧電デバイスと、 従来技術に係る音叉 型圧電デバイスとのクリス夕ルインピ一ダンス値を比較する図である。
図 4は、 本実施の形態に係る音叉型圧電デバイスの振動漏れを測定した結 果を示す図である。
図 5は、 導電性接着剤の違いによる音叉型圧電デバイスの振動漏れを測定 した結果を示す図である。
図 6は、 本実施の形態の封止孔に設けた金属被膜を示す図である。
図 7は、 封止孔に設けた金属被膜の他の例を示す図である。
図 8は、 他の実施形態に係る音叉型圧電振動片の平面図である。
図 9は、 図 8の A— A線に沿った断面図である。
図 1 0は、 封止孔の封止方法を説明する図である。 発明を実施するための最良の形態
以下に、 本発明に係る音叉型圧電デバイスの製造方法および音叉型圧電デ バイスについて説明する。 なお、 以下に記載するものは本発明の実施の一形 態にすぎず、 本発明はこれに限定されるものでない。
図 1は、 実施の形態に係る音叉型圧電デバイスの断面図である。 音叉型圧 電デバイス 1 0は、 主にパッケージベース 1 2に導電性接着剤 1 4を介して 音叉型圧電振動片 1 6が実装され、 前記パッケージべ一ス 1 2の上部に蓋体 1 8が接合されてなる構成である。
パッケージベース 1 2は、 複数の平面形状のセラミック絶縁基板に枠型の セラミック絶縁基板を積層してなる構成である。 このパッケージべ一ス 1 2 は、 底面に二段構造の封止孔 2 0が設けられている。 この封止孔 2 0は、 パ ッケージベース 1 2の底面を構成する平面状のセラミック絶縁基板にプレス 加工等をすることで形成される。 封止孔 2 0は、 第一孔部 2 2と第二孔部 2 4からなつている。 すなわち、 封止孔 2 0は、 第一孔部 2 2がパッケージべ —ス 1 2の底面となる第三層 1 2 cのセラミック絶縁基板に、 第二孔部 2 4 がパッケージベース 1 2の内面となる第二層 1 2 bのセラミック絶縁基板に 設けてある。 第二孔部 2 4の開口は、 第一孔部 2 2の開口よりも小さく形成 されている。 そして、 第一孔部 2 2および第二孔部 2 4の開口の中心は、 ほ ぼ同じ位置に来るよう調整されている。
封止孔 2 0は、 実施形態の場合、 図 6に示したように、 タングステンメタ ライズされた上に、 ニッケルメツキおよび金メツキを施した金属被膜 3 6が 設けてある。 この金属被膜 3 6は、 大径の第一孔部 2 2の底面となる前記第 二層 1 2 bの底面、 および第一孔部 2 2の周面である第三層 1 2 cの側面に 形成されてある。 ただし、 金属被膜 3 6は、 第 2孔部 2 4の周面には形成さ れていない。 これは、 後述する金属からなる封止材がパッケージ 2 8内に垂 れ込むのを防止するためである。
このように、 実施形態は、 金属被膜 3 6が第二層 1 2 bの底面と第 Ξ層 1 2 cの側面とに形成されているため、 後述する金属ポールからなる封止材を 溶融したときに、 封止材が金属被膜 3 6に沿って濡れ広がって溶着するため, 封止孔 2 0を良好に封止することができる。 なお、 金属被膜 3 6は、 図 7に 示したように、 第二層 1 2 bの底面だけであってもよい。
また、 パッケージベース 1 2の内面には音叉型圧電振動片 1 6を実装する パッケージ側マウント電極 (図示しない) が形成されている。 前記マウント 電極は、 パッケージベース 1 2の底面に形成された外部電極 (図示しない) と導通している。
そして音叉型圧電振動片 1 6は、 基部 2 6と一対の振動腕部部 3 2とから なり、 基部 2 6に形成された接続電極 (図示しない) と、 前記マウント電極 とを導電性接着剤 1 4により接着固定し、 パッケージ 2 8内部に実装される t この導電性接着剤 1 4には、 ヤング率が 1 X 1 0— 2 G P a以下の材料、 例 えばブタジェン系導電性接着剤ゃシリコーン ¾導電性接着剤を用いることが できる。 このブタジエン系導電性接着剤のヤング率は 1 X 1 0— 2 G P a程 度であり、 シリコーン系導電性接着剤のヤング率は 1 X 1 0— 3 G P a程度 である。
また、 パッケージベース 1 2の上面、 すなわち、 枠型の第一層 1 2 aセラ ミック絶縁基板上には封止材となる低融点ガラス 3 0を介して蓋体 1 8が接 合されている。 この蓋体 1 8は、 音 型圧電振動片 1 6の周波数を調整する ためのレーザ光を透過する材質、 例えばガラスゃサフアイァ等が用いられて いる。 次に、 音叉型圧電デバイス 1 0の製造方法について説明する。 図 2は、 音 叉型圧電デバイス 1 0の製造工程を説明するフローチヤ一トである。 音叉型 圧電デバイス 1 0のパッケージベース 1 2は、 上述したように複数のセラミ ック絶縁基板を積層してなり、 パッケージベース 1 2の底面を構成する第二 層 1 2 bおよび第三層 1 2 cの平面状のセラミック絶縁基板には、 開口の大 きさの異なる孔部 2 2、 2 4がプレス加工等により形成されている。 この孔 部 2 2、 2 4は、 パッケージを真空封止する封止孔 2 0を構成しており、 第 一孔部 2 2の底面と周面とに厚膜印刷およびメツキ等により金属被膜 3 6が 設けてある (図 6参照)。 また、 第二層 1 2 bの上面には前記パッケージ側 マウント電極が、 第三層 1 2 cの底面には前記外部電極が設けてある (何れ も図示しない)。 これらの電極は、 例えば厚膜印刷等によりタングステン層 を形成し、 このタングステン層の上にニッケルメツキおよび金メッキを施し て形成してある。 そして、 パッケージベース 1 2は、 第二層 1 2 bのセラミ ック絶縁基板上に、 第一層 1 2 aとなる枠型のセラミック絶縁基板を積層し, これらを焼成することで一体化している (ステップ 1 1 0 )。
また、 音叉型圧電振動片 1 6には、 振動腕部部 3 2に設けた励振電極 (図 示しない) と、 この励振電極に接続し、 音叉型圧電振動片 1 6の基部 2 6に 形成された前記接続電極とが、 スパッタまたは蒸着等の成膜により形成され る (ステップ 1 2 0 )。 これらの電極は、 例えばクロム上に金を積層して形 成される。
このようにして形成されたパッケージベース 1 2は、 ヤング率が 1 X 1 0 一2 G P a以下の導電性接着剤 1 4により音叉型圧電振動片 1 6が実装され る (ステップ 1 3 0 )。 このとき、 音叉型圧電振動片 1 6は、 前記接続電極 がパッケージべ一ス 1 2の前記マウント電極に接着固定され、 片持ち梁状に 支持される。 また、 ヤング率が 1 X 1 0 _ 2 G P a以下の導電性接着剤 1 4 として、 ブタジェン系導電性接着剤またはシリコーン系導電性接着剤を用い ることができる。 そして、 導電性接着剤 1 4を 2 0 0 °C、 1時間程度加熱し て硬化させる。
次に、 音叉型圧電振動片 1 6が実装されたパッケージべ一ス 1 2の上部に 低融点ガラス 3 0を用いて盖体 1 8を接合する (ステップ 1 4 0 )。 このと き、 低融点ガラス 3 0を 3 2 0 °C〜 3 5 0 °C程度で加熱することにより溶融 し、 蓋体 1 8をパッケージベース 1 の上部に接合してパッケージ 2 8を形 成する。
次に、 パッケージ 2 8を真空容器の中に置いて前記容器を減圧する。 パッ ケージ 2 8は、 図 1 0に示したように、 上下を逆にして配置される。 これに より、 前記容器が減圧されるとともにパッケージ 2 8の内部も封止孔 2 0を 介して減圧される。 そして、 封止孔 2 0の第一孔部 2 2に金属ボールからな る封止材 5 0を配置し、 封止材 5 0をレーザや電子ビームにより局所加熱し て溶融する。 溶融した封止材 5 0は、 前記金属被膜 3 6上に濡れ広がって溶 着し、 封止孔 2 0を真空封止する (ステップ 1 5 0 )。
封止材 5 0には、 金一錫、 金一ゲルマニウムまたは銀ロウ等からなる金属 ポールが用いられるが、 前記封止材の形状として板状のペレツ トを用いるこ ともできる。 封止材 5 0は、 金—錫合金からなる場合、 例えば金 (Au) 8 0w t %、 錫 (S n) 2 0 w t %のものを用いることができる。 このような 組成の金一錫からなる封止材は、 融点が 2 7 8 °Cである。 また、 封止材 5 0 が金一ゲルマニウム (G e ) である場合、 Au 8 7. 5w t %、 G e 1 2. 5w t %のものを用いることができる. この金一ゲルマニウム封止材の融点 は、 3 6 1°Cである。 なお、 ステップ 1 5 0の工程により真空封止されたパ ッケージ 28の内部は 0. .1 3 P a以下の真空度になっている。
次に、 パッケージ 1 2内部に実装された音叉型圧電振動片 1 6の周波数を 調整する。 すなわち、 音叉型圧電振動片 1 6の振動腕部部 3 2の先端部に形 成された錘部 (図示しない) に蓋体 1 8を介してレーザ光を照射し、 前記錘 部を加工して所望の周波数に調整し (ステップ 1 6 0)、 音叉型圧電デバイ ス 1 0が形成される。
このようにして形成された音叉型圧電デバイス 1 0のクリスタルインピー ダンス (C I ) 値の分布を測定した。 図 3に C I値の分布を示す。 図 3の横 軸は C I値であり、 縦軸は確率密度である。 この図は、 C I値が低いほど特 性が良いことを示す。 そして、 同図中の実線は上記の方法により製造した音 叉型圧電デバイス 1 0の測定結果を示し、 点線は従来技術のシングル封止方 法で製造した音又型圧電デバイスの測定結果を示す。 なお、 これらの音叉型 圧電デバイスの音叉型圧電振動片およびシリコーン系導電性接着剤は同一の ものを使用している。
シングル封止方法で製造した音叉型圧電デバイスは、 C I値が 8 0 k Ωを 超えバラツキも大きい。 これはパッケージベースに蓋体を接合するときに発 生したガスがパッケージ内に残ってしまうため、 真空度が悪くなり音叉型圧 電振動片が屈曲振動する際に、 このガスが抵抗になってしまうことによる。 このため、 シングル封止方法で製造した音叉型圧電デバイスは、 商品として 使用できない。
これに対して、 本実施形態の方法で製造した音叉型圧電デバイス 1 0は C I値が平均 5 0 k Ωで安定しバラツキも少ない。 これはパッケージベース 1 2に蓋体 1 8を接合するときにガスが発生しても、 封止孔 2 0よりガスが排 気されるため、 パッケージ 2 8内部には発生したガスが残留しない。 その後 、 封止材 5 0を溶融して封止孔 2 0を封止することによって、 パッケージ 2 8内部を真空封止するときは、 封止孔 2 0の周囲にのみ熱がかかるだけなの で、 ガスがほとんど発生せずに封止でき、 音叉型圧電振動片 1 6はガスの抵 抗がなく安定して屈曲振動する。 これにより、 本実施形態の音叉型圧電デバ イス 1 0の製造方法は、 従来のシングル封止方法に比べて優れていることが わかる。
次に、 本実施形態の方法により製造した音叉型圧電デバイス 1 0において 、 導電性接着剤 1 4の違いによる振動漏れを測定した。 これは音叉型圧電デ バイス 1 0を測定回路に複数回セットおよびリセットを繰り返し、 その回数 毎に周波数および C I値を測定して振動漏れを測定したものである。 そして 、 測定方法は 1回目を基準としたときに、 これ以降の測定回数毎のバラツキ を評価している。 図 4は音叉型圧電振動片 1 6をシリコーン系導電性接着剤 によりパッケージベース 1 2へ実装した音叉型圧電デバイス 1 0の振動漏れ を測定した結果を示し、 図 5はポリイミド系導電性接着剤を用いた音叉型圧 電デバイスの振動漏れを測定した結果を示す。 図 4 ( a ) および図 5 ( a ) は測定回数毎の周波数のバラツキを示し、 図 4 ( b ) および図 5 ( b ) は測 定回数毎の C I値のバラツキを示している。 なお、 ポリイミド系導電性接着 剤のヤング率は 3 G P a程度である。 シリコーン系導電性接着剤を用いた場合と、 ポリイミド系導電性接着剤を 用いた場合とを比較すると、 シリコーン系導電性接着剤を用いた場合は測定 回数毎のバラツキが周波数および C I値とも小さく安定しているのに対して
、 ポリイミド系導電性接着剤を用いた場合は測定回数毎のバラツキが周波数 および C I値とも大きく安定していない。 これは、 シリコーン系導電性接着 剤はヤング率が 1 X 1 0 - 3 G P a程度なので音叉型圧電振動片 1 6の屈曲 振動を吸収することができ、 振動が外部に漏れることがない。 このため、 振 動のエネルギーが損失せず、 安定して音叉型圧電振動片 1 6が屈曲振動し、 測定回数毎のバラツキが発生しない。
これに対して、 ポリイミド系導電性接着剤はヤング率が 3 G P a程度なの で音叉型圧電振動片の屈曲振動を吸収することができず、 振動が外部に漏れ て測定回数毎にバラツキを発生する。 すなわち、 外部に振動が漏れるために 振動のエネルギーを損失し、 音叉型圧電振動片が安定した屈曲振動をできな レ^ これにより、 シリコーン系導電性接着剤を用いた音叉型圧電デバイス 1 0は、 ポリイミ ド系導電性接着剤等のヤング率が 1 X 1 0 _ 2 G P aより大 きい導電性接着剤を用いた音叉型圧電デバイスに比べて振動の損失がなく、 安定して振動することがわかる。
このような実施の形態によれば、 音叉型圧電振動片 1 6をパッケージベー ス 1 2に実装する導電性接着剤 1 4は、 ブタジエン系導電性接着剤またはシ リコーン系導電性接着剤等のヤング率が 1 X I 0 " 2 G P a以下の導電性接 着剤 1 4である。 このため、 音叉型圧電振動片 1 6が屈曲振動しても前記導 電性接着剤 1 4で振動を吸収するので、 外部に振動漏れを生じることのない 安定した音叉型圧電デバイス 1 0を実現できる。
また、 低融点ガラス 3 0を用いて蓋体 1 8をパッケージベース 1 2の上部 へ接合するのでガスが発生するが、 パッケージベース 1 2の底部に真空封止 用の封止孔 2 0を設けているので、 封止孔 2 0からガスが排気されパッケ一 ジ 2 8内部にガスは残留しない。 また、 封止孔 2 0を真空封止するときは封 止材 5 0を局所加熱して溶融させるので、 パッケージ 2 8に熱の影響を与え ずに真空封止することができる。 これにより、 音叉型圧電振動片 1 6が振動 するときに空気抵抗の影響を受けず C I値も低くなる。 よって、 高精度で安 定した音叉型圧電デバイス 1 0を実現できる。
また、 蓋体 1 8をガラスまたはサファイア等のレーザ光を透過する材質で 構成されている。 従来のシングル封止方法では、 音叉型圧電振動片の周波数 調整をした後にパッケージを封止しているので、 応力バラツキおよび加熱バ ラツキの影響により初期周波数はかなり広く分布していた。 これに対し、 蓋 体 1 8はレーザ光を透過するので、 パッケージ 2 8を真空封止した後に音叉 型圧電振動片 1 6の周波数を高精度に調整することができ、 一定の初期周波 数を有する音叉型圧電デバイス 1 0を実現できる。
また、 本実施の形態の音叉型圧電デバイス 1 0に、 発振回路、 温度補償回 路等の半導体集積回路を実装することもできる。 これにより、 より安定した 音叉型圧電デバイスを実現できる。
また、 本実施の形態の音 ¾型圧電振動片 1 6において、 基部 2 6から延び る振動腕部部 3 2に断面 H構造となる溝を設けることもできる。 図 8、 図 9 は、 振動腕部部に溝を設けた音叉型圧電振動片の説明図である。 これらの図 において、 音叉型圧電振動片 6 0は、 基部 6 2と、 この基部 6 2の一端から 延設している一対の振動腕部部 3 2とからなっている。 そして、 音叉型圧電 振動片 6 0は、 振動腕部部 3 2の基端部側に矩形状の溝部 4 0が設けてある 。 溝部 4 0は、 図 9に示したように、 振動腕部部 3 2の表裏面の対応位置に 形成してあり、 振動腕部 3 2の断面が H形をしている。 さらに、 音叉型圧電 振動片 6 0は、 各振動腕部 3 2の対向面と外側面、 および溝部 4 0の内側面 とに励振電極 (図示しない) が形成してある。 このため、 音又型圧電振動片 6 0は、 振動腕部 3 2の振動効率が向上し、 従来より C I値が小さくなる。 また、 音芡型圧電振動片 6 0は、 基部 2 6の両側部に矩形溝 4 2が形成して あり、 音叉型圧電振動片 6 0を実装したときに、 基部 2 6からの振動漏れを 低減するようにしてある。
このようになっている音叉型圧電振動片 6 0は、 溝部 4 0を形成して振動 腕部 3 2を H形構造としたため、 C I値を低下させることができる。 C I値 は、 溝部 4 0が深くなるほど低下していく。 そして、 振動腕部 3 2を細く形 成しても、 この振動腕部 3 2に溝部 4 0を設けることにより C I値を低下さ せることができる。 このため、 音叉型圧電振動片を小型化できるので、 .音叉 型圧電デバイスも小型化できる。 この溝部 4 0を有する音叉型圧電デバイス の外形寸法は 3 . 2 mm X 1 . 5 mm X 0 . 8 mmであり、 従来の音叉型圧 電デバイスに比べて 6 0 %以下の大きさを実現できる。
産業上の利用可能性
本発明は、 通信機器などの各種電子機器やセンサなどに使用する音叉型圧 電デバイスの製造に適用することができる。

Claims

請求の範囲
1 . 封止孔を有するパッケージベースにヤング率が 1 X 1 0 - 2 G P a以下 の導電性接着剤を用いて音叉型圧電振動片を実装する工程と、
前記パッケージベースの上面に低融点ガラスを用いて蓋体を接合する工程 と、
前記封止孔を用いてパッケージ内部を真空にし、 封止材により前記封止孔 を真空封止する工程と、
前記蓋体を介してレーザ光を音叉型圧電振動片に照射して周波数調整する 工程と、
を有することを特徴とする音叉型圧電デバイスの製造方法。
2 . 請求の範囲 1に記載の音叉型圧電デバイスの製造方法において、 前記ヤング率が 1 X I 0— 2 G P a以下の導電性接着剤は、 ブタジエン系 導電性接着剤またはシリコーン系導電性接着剤であることを特徴とする音叉 型圧電デバイスの製造方法。
3 . 請求の範囲 1または 2に記載の音叉型圧電デバイスの製造方法において 前記蓋体の材質はガラスであることを特徴とする音 ¾型圧電デバイスの製 造方法。
4 . 請求の範囲 1ないし 3のいずれかに記載の音叉型圧電デバイスの製造方 法において、
前記封止孔は第一孔部と、 前記第一孔部よりも小さな開口の第二孔部とか らなるとともに、 金属被膜されてなることを特徴とする音叉型圧電デバイス の製造方法。
5 . 請求の範囲 1ないし 4のいずれかに記載の音叉型圧電デバイスの製造方 法において、
前記封止材は金一錫、 金—ゲルマニウムまたは銀ロウのいずれかの材料を 用いた金属ポールであることを特徴とする音叉型圧電デバイスの製造方法。
6 . 請求の範囲 1ないし 5のいずれかに記載の音叉型圧電デバイスの製造方 法において、 前記音叉型圧電振動片は、 振動腕部の両面に長手方向に沿った溝を有して いることを特徴とする音叉型圧電デバイスの製造方法。
7 . 請求の範囲 1ないし 6のいずれかに記載の音叉型圧電デバイスの製造方 法を用いて製造されてなることを特徴とする音叉型圧電デバイス。
8 . 請求の範囲 7に記載の音叉型圧電デバイスにおいて、
半導体集積回路を実装してなることを特徴とする音叉型圧電デバイス。
PCT/JP2004/006273 2003-05-07 2004-04-30 音叉型圧電デバイスの製造方法および音叉型圧電デバイス WO2004100364A1 (ja)

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