WO2004057350A1 - 回路パターン検査装置及びパターン検査方法 - Google Patents

回路パターン検査装置及びパターン検査方法 Download PDF

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WO2004057350A1
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comb
signal
inspection
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Shuji Yamaoka
Hiroshi Hamori
Shogo Ishioka
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Oht Inc.
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    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/2801Testing of printed circuits, backplanes, motherboards, hybrid circuits or carriers for multichip packages [MCP]
    • G01R31/2806Apparatus therefor, e.g. test stations, drivers, analysers, conveyors
    • G01R31/2808Holding, conveying or contacting devices, e.g. test adapters, edge connectors, extender boards
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Definitions

  • the present invention relates to a circuit pattern inspection apparatus and a circuit pattern inspection method capable of inspecting the quality of a conductive pattern formed on a substrate, for example, a glass substrate for a liquid crystal display panel.
  • a pin is brought into contact with both ends of the conductive pattern, an electric signal is supplied from the pin on one end to the conductive pattern, and the pin on the other end is used.
  • a contact-type inspection method (a pin-contact method) that performs a continuity test of a conductive pattern by receiving the electric signal is known. Electrical signals are supplied by setting up metal probes on all terminals and passing current through the conductive patterns.
  • This pin contact method has the advantage that the S / N ratio is high because the pin probe is brought into direct contact.
  • a circuit wiring pattern formed on a glass substrate used for a liquid crystal display panel has a problem that the pattern thickness is small, the bonding force with the substrate is small, and the pattern is damaged when the pins are brought into contact. It was hot.
  • the wiring pitch of liquid crystal panels and the like for mobile phones is becoming finer, and a great deal of labor and cost were required to manufacture probes with a large number of narrow pitches.
  • the wiring pattern used for the liquid crystal panel is composed of two sets of comb-shaped conductive patterns having ends arranged in rows and bases connected to each other. And conductive patterns are also arranged around it, and all circuits are short-circuited. For this reason, there has been no appropriate inspection device until now.
  • the present invention has been made to solve the above-mentioned problems of the prior art, and it is an object of the present invention to inspect a circuit pattern for a liquid crystal display panel having a weak adhesion of the circuit pattern to a substrate without damaging the circuit pattern. It is an object of the present invention to provide a circuit pattern inspection apparatus and a pattern inspection method that can perform the above. As one means for achieving the above object, for example, an embodiment of the present invention has the following configuration.
  • a circuit pattern inspection apparatus for inspecting a state of a conductive pattern of a circuit board, comprising: a detection electrode for detecting a signal from the comb-shaped conductive pattern; and a comb-shaped conductive pattern.
  • Test signal supply means for supplying an AC test signal to one of the patterns; and low voltage control means for controlling the other of the comb-shaped conductive patterns to at least a lower voltage level than the AC test signal level supplied by the test signal supply means.
  • Moving means for moving the two detecting means apart from each other by a predetermined distance and moving across the distal end while being positioned so as to be in a capacitively coupled state with the same distal end; Moves one detecting means across the base of the terminal supplying the test signal and the front of the terminal at the low voltage level, and the other detecting means.
  • the means is moved so as to cross the base side of the terminal end controlling the low voltage level and the front end side of the terminal end supplying the inspection signal, and based on the detection signal from each of the detection means, It is characterized in that the quality of the end can be identified.
  • the low-voltage control means controls the other of the comb-shaped conductive patterns to a ground level.
  • At least a terminal portion of the pattern is a conductive pattern having a predetermined resistance value
  • the moving unit moves the two detecting units to positions near the front end and the base, respectively, of the terminal unit. It is characterized in that it is positioned and moved across the distal end.
  • a pattern inspection method in a circuit pattern inspection apparatus for inspecting a state of a conductive pattern of a circuit board including two detection means having detection electrodes for detecting a signal from a pattern comprising: An AC test signal is supplied to one of the patterns, and the comb-shaped conductive The other of the turns is supplied to at least one of the comb-shaped conductive patterns. The voltage is controlled to a voltage level lower than the AC detection signal level, and one of the two detection means is supplied with the inspection signal.
  • the other of the two detection means is controlled to the low voltage level while being moved across the base side of the part and the distal end of the terminal part controlled to the low voltage level.
  • the detector is moved so as to traverse the side and the distal end side of the distal end supplying the inspection signal, and the quality of the distal end is identified based on the detection signal from each of the detecting means.
  • the end of the pattern is a conductive pattern having a predetermined resistance value
  • the movement control of the detecting means is performed by moving the two detecting means to the positions near the tip and base of the end, respectively.
  • the method is characterized in that it is a pattern inspection method of positioning and moving across the end.
  • a pattern inspection method for controlling the other of the comb-shaped conductive patterns to a low voltage level is provided.
  • a pattern inspection method is used to identify a normal pattern when a low-level detection signal is generated when the terminal crosses the terminal part which is controlled to a high level and a low voltage level.
  • the detection result of the detection means of the comb-shaped conductive pattern is the row pattern in which the detection results of the one detection means and the other detection means are both controlled to a low voltage level.
  • a high-level detection signal when crossing it is identified as a short circuit near the base of the comb-like pattern on the detection signal supply side, and the detection results from the one detecting means and the other detecting means are both test signals.
  • Low level detection signal when traversing the end supplying In this case, the pattern inspection method is characterized in that a short circuit near the base of the comb-like pattern on the low voltage level side is identified as a short circuit.
  • the detection result of one of the detection means when crossing the terminal portion which is both controlled to the low voltage level is higher than the detection result when crossing the other test signal supply terminal terminal, and If the detection result of the detection means is lower than the detection result when crossing another terminal controlled to a low voltage level, it is identified as a disconnection at the terminal of the low voltage level, and an inspection signal is supplied together.
  • the detection result of one of the detection means when crossing the end portion is higher than the detection result of crossing the end portion supplying another test signal, and the detection result of the other detection means is low.
  • a pattern inspection method is characterized in that when the level is lower than the detection result at the time of traversing the terminal part controlled to the voltage level, the pattern signal is identified as a disconnection of the inspection signal supply side row pattern.
  • FIG. 1 is a diagram for explaining a pattern inspection principle of an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a diagram for explaining the principle of pattern quality discrimination according to the present embodiment.
  • FIG. 3 is a flowchart for explaining inspection control of the inspection apparatus of the present embodiment.
  • the present invention is not limited to the examples described below, and at least is not limited as long as at least the vicinity of both ends of the inspection target region is formed in a row. .
  • FIG. 1 is a view for explaining the principle of pattern inspection according to an embodiment of the present invention.
  • reference numeral 10 denotes a substrate on which a conductive pattern to be inspected according to the present embodiment is provided.
  • a glass substrate used for a liquid crystal display panel is used.
  • a conductive pattern for forming a dot matrix display panel to be inspected by the circuit pattern inspection apparatus of the present embodiment is provided.
  • the substrate to be inspected includes, for example, two sets of comb-shaped conductive patterns 15a and 15b each having an end arranged in a row and a base connected to each other. (Ends) are arranged alternately, and a shield pattern 15c is arranged so as to surround the periphery of the path.
  • the width of each of the comb-like patterns 15a and 15b is almost the same, and the row of each of the comb-like patterns 15a and 15b is formed.
  • the pattern portion (end portion) has a predetermined resistance value.
  • the intervals between the respective row-like pattern of the comb-like pattern are substantially equal. However, the inspection can be performed in the same manner even if the pattern intervals are not equal.
  • the 20 is the first sensor and 30 is the second sensor.
  • Sensor electrodes 25 and 35 are provided on the tip surface, respectively.
  • the sensor electrodes 25 and 35 are formed of metal, for example, copper (Cu).
  • Each electrode may be covered with an insulating material for protection. Note that, for example, a semiconductor may be used as the electrode, but the reason that the electrode is formed of metal is that the capacitance between the electrode and the conductive pattern can be increased.
  • a control unit that controls the entire inspection system of the robot, 70 is a scalar—a robot controller that controls the robot 80, 80 is a device that positions and holds the liquid crystal panel 10 at the inspection position, and controls the robot controller 70.
  • the sensor electrodes 25 and 35 of the first sensor 20 and the second sensor 30 connect all the connection terminals near the end of each row pattern of the conductive pattern to be inspected on the liquid crystal panel 10. This is a scalar robot that scans sequentially.
  • the scalar port 80 is configured to be three-dimensionally positionable in order to position the inspection target substrate (liquid crystal panel) 10 at a predetermined inspection position. Similarly, three-dimensional positioning is performed such that the sensor electrodes 25 and 35 of the first sensor 20 and the second sensor 30 are moved on the pattern to be inspected while maintaining the predetermined distance from the surface of the substrate 10 to be inspected. It is configured to be controllable.
  • the sensor electrodes 25, 35 are moved, their movement distances are synchronized, and at least both electrodes are transported at the same time almost simultaneously to the top of the same row pattern, and almost simultaneously It is necessary to control so as to deviate from the line pattern. Only by controlling in this way, even if the pattern pitch at the two ends is different, it can be dealt with simply by controlling the moving speed of both electrodes of the scalar port.
  • the first sensor 20 and the second sensor 30 are moved by the scalar robot 80 so as to traverse the vicinity of the end of each line pattern of the wiring pattern to be inspected, and maintain a capacitive coupling state with each wiring pattern. Then, positioning control is performed so that signals from each wiring pattern can be detected.
  • the width of the sensor electrodes 25 and 35 at the tip end is, for example, equal to or less than the pattern pitch of the pattern to be inspected (the size is equal to or less than the pattern width and the pattern gap of the inspection pattern). This makes it possible to mainly detect the inspection signal from one inspection target pattern.
  • the pattern pitch is not always necessary to set the pattern pitch to be equal to or less than the pattern pitch of the pattern to be inspected. Inspection can be performed as long as a plurality of patterns to be inspected and patterns adjacent to this pattern can be grasped.
  • the detection signals from the first sensor 20 and the second sensor 30 are sent to an analog signal processing circuit 50 for analog signal processing.
  • the analog signal processed by the analog signal processing circuit 50 is sent to the control unit 60, and the quality of the wiring pattern of the inspection board 10 is determined.
  • the control unit 60 also performs control for supplying an inspection signal to one of the comb-like patterns.
  • the analog signal processing circuit 50 amplifies the detection signals from the first sensor 20 and the second sensor 30 separately, and removes the noise component of the detection signal amplified by the amplifier 51 to check the inspection signal.
  • 52 a rectifier circuit 53 that full-wave rectifies the signal from the band-pass filter 52, and a smoothing circuit 54 that smoothes the detection signal that has been full-wave rectified by the rectifier circuit 53.
  • a rectifier circuit 53 that full-wave rectifies the signal from the band-pass filter 52
  • a smoothing circuit 54 that smoothes the detection signal that has been full-wave rectified by the rectifier circuit 53. Have. It is not always necessary to provide the rectifier circuit 53 for performing full-wave rectification.
  • the control unit 60 controls the entire inspection apparatus of the present embodiment, and stores the control procedures of the computer (CPU) 61 and the CPU 61, and the like.
  • RAM 6 3 for temporarily storing the processing progress information of An AZD converter 64 that converts the analog signal from the analog signal processing circuit 50 into a corresponding digital signal, a signal supply unit 65 that supplies a test signal to one base of the comb-like pattern, and a test result And a display section for displaying operation instruction guidance and the like.
  • the signal supply unit 65 is, for example, an AC 200 kHz as an inspection signal.
  • a 200 V sinusoidal signal is generated and supplied to one base of the comb-like pattern.
  • the band-pass filter 52 is a band-pass filter that passes the test signal 200 kHz.
  • the base of the other comb-like pattern to which no test signal is supplied is maintained at the ground level. Meanwhile, the base of the other comb-shaped pattern does not necessarily have to be at the ground level. On the other hand, it is sufficient to supply a signal of a lower level than the inspection signal supplied to the base of the comb-shaped pattern. In this way, if a signal at a lower level than the inspection signal supplied to the one comb-shaped pattern base is supplied,
  • the detection result of the first sensor 20 there is a difference between the detection result of the first sensor 20 and the detection result of the second sensor 30. Therefore, if the detection result of the difference is identified, the quality of the pattern can be identified in exactly the same manner.
  • FIG. 2 shows an example of a sensor detection signal of the inspection apparatus when there is a short circuit pattern
  • (B) in FIG. 2 shows a disconnection pattern.
  • the detection is performed because the pattern to be inspected has a certain degree of resistance component, and both the first sensor 20 and the second sensor 30 are in a capacitively coupled state with the pattern to be inspected.
  • the result is not digital, and some detection result can be obtained even between patterns.
  • the first sensor is provided near each end of the row pattern portion of the comb-like pattern. Position 20 and the second sensor 30 and control the movement so as to traverse each row pattern in a state where the pattern and the capacity are coupled as indicated by arrows. At this time, the first sensor 20 and the second sensor 30 move synchronously at a speed corresponding to the pattern pitch, move to the upper part of the row pattern at almost the same timing, and make the row pattern at almost the same evening. It is driven to deviate more.
  • the short-circuit position 1 is closer to the base side (high voltage side) of the comb-like pattern on the inspection signal supply side, the potential of 23 becomes higher, and the short-circuit position 2 is closer to the base side (low-voltage side) of the other comb-like pattern. The closer the potential is, the lower the potential of 1 and 3.
  • the short-circuit point can be roughly specified from the detection level, and the short-circuit point can be easily specified even when inspecting a fine pattern.
  • Inspection signal supply side when the row pattern is normal
  • the AC current of the test signal flowing through the capacitor always passes to the ground (low voltage level) pattern through the capacitance component of the adjacent pattern.
  • the current flowing to the ground side decreases, and the potential detected by the first sensor 20 increases. Therefore, the detection output from the first sensor 20 also increases.
  • the current stops flowing in the pattern indicated by the bold line from the disconnection point so that the output of the second sensor on the low voltage side decreases.
  • the output of the first sensor 20 in the row pattern on the inspection signal supply side is a detection result of a higher level than the detection signal from another pattern, and the second sensor output is the detection signal from the other pattern. If the level is lower, it is identified as a disconnection in the column pattern on the inspection signal supply side.
  • the current always flows to the comb-like pattern side on the ground side through the capacitance component with the adjacent pattern.
  • the potential of the pattern shown by the thick line becomes a flow state instead of the ground state, and the influence from the adjacent pattern increases, so that the detection potential increases. Therefore, the output of the first sensor unit 20 increases.
  • the influence of the pattern indicated by the bold line from the other side disconnection does not reach the pattern of the second sensor 30 position, so the influence of the adjacent pattern is reduced and the output of the second sensor is reduced.
  • the standard pattern, various disconnections, or the reference detection results obtained by replacing the short-circuited parts are held in advance, and the held reference detection results are compared with the inspection results to identify the defective points. May be.
  • FIG. 3 is a flowchart for explaining the inspection control of the inspection apparatus of this embodiment.
  • the glass substrate on which the conductive pattern to be inspected is formed is moved to a position (work position) of the circuit pattern inspection apparatus according to the present embodiment on a transport path (not shown). It is transported. Therefore, first, in step S1, the liquid crystal panel 10 to be inspected is set in the inspection device.
  • the substrate to be inspected that has been automatically transported may be set in the inspection apparatus by a transport rod (not shown), or may be directly set by an operator.
  • the control unit 60 activates the robot controller 70 to control the scalar robot 80 and positions the inspection object at the inspection position.
  • step S3 the first sensor is placed at the initial position (the end of the wiring pattern separated by a predetermined distance) on the end side of the inspection target (liquid crystal panel) 10 of the inspection target row-shaped wiring pattern 15a.
  • the second sensor 30 is located at the initial position on the end side of the inspection target row-shaped wiring pattern 15b (the position of the outermost wiring pattern separated from the predetermined distance). Electrode 35 is transported and positioned.
  • the gap with the substrate surface is, for example, 100 ⁇ n! ⁇ 200 ⁇ m is kept.
  • the gap is not limited to the above example.
  • the distance (gap) between the electrode and the electrode is determined according to the size of the wiring pattern to be inspected. The larger the pattern size, the wider the gap, and the smaller the pattern size, the narrower the gap.
  • the pattern is firmly adhered to the substrate surface, for example, a coating is formed on the electrode surface with an insulating material so that the pattern and the electrode do not come into direct contact with each other.
  • the second sensor 30 is brought into close contact with the substrate directly to control the gap so that the thickness is almost the same as that of the insulating material.
  • the substrate may be separated from the sensor by a certain distance, and the substrate and the sensor may be brought into close contact with each other when a signal is detected. Thereby, an easy and accurate inspection result can be obtained.
  • step S5 the signal supply section 65 is instructed to start supplying the test signal to the base side of the test signal supply side comb tooth pattern.
  • step S7 proceed to step S7, keeping the distance between the pattern and the electrodes constant, and synchronize the electrodes 25 and 35 of the first sensor 20 and the second sensor 30 to cross the pattern to be inspected.
  • control is started to move while controlling the distance from the surface of the pattern to-be-inspected to be constant.
  • the sensor electrodes 25 and 35 subsequently detect the signal potential from the columnar wiring pattern by capacitive coupling with the columnar pattern.
  • the sensor electrode 2 when the sensor electrode 2 is located at the position of the 5-row pattern, the sensor electrode
  • 35 is also at the position of the same row pattern, and both are controlled such that while one sensor electrode moves one pitch of the row pattern, the other sensor electrode also moves by one pitch of the row pattern. .
  • step S10 the signal processing circuit 50 is activated, and the control is performed so that the detection signals from the sensor electrodes 25 and 35 are separately processed and output to the control unit 60.
  • the signal processing circuit 50 as described above, The detection signal from the sensor electrode 25 of the first sensor 20 and the sensor electrode 35 of the second sensor 30 are amplified to a required level by the amplifier 51, and the detection signal amplified by the amplifier 51 is converted to the test signal frequency.
  • the signal is sent to a bandpass filter 52 that passes the signal to remove noise components, and then the signal from the bandpass filter 52 is full-wave rectified by a rectifier circuit 53, and the full-wave rectified detection signal is smoothed by a smoothing circuit 5 4 And sends it to the A / D converter 64 of the controller 60.
  • the CPU 61 activates the AZD conversion unit 64 to convert the input analog signal into a corresponding digital signal, and reads the inspection signal detected by the sensor electrodes 25 and 35 as a digital value.
  • step S12 the CPU 61 checks whether or not the read detection signal is within a preset threshold range. Here, if the detection result is within the predetermined threshold, the reading pattern is determined to be normal and the process proceeds to step S16.
  • step S12 if the read detection signal is not within the preset threshold range and is out of value, the wiring pattern supplying the inspection signal is short-circuited with an adjacent pattern or is in the middle. Then, it is determined that the wiring is broken, and the state of the wiring pattern is stored as defective. Then, the process proceeds to step S16.
  • step S16 it is determined whether or not the inspection of the wiring pattern has been completed, for example, whether or not the sensor electrode 25 has moved to a position beyond the last pattern of the wiring pattern to be inspected. Yes (check whether the inspection of the wiring pattern has been completed).
  • step S18 the scanning of the electrodes is continued and the inspection signal for the next pattern is output. Supply. Then, the process returns to step S10 to continue the reading process.
  • step S16 when the inspection for all the wiring patterns is completed, the process proceeds to step S20, instructs the signal supply unit 65 to stop the supply of the inspection signal, and sets the signal processing circuit 50 The operation of the AZD converter 64 is stopped.
  • step S22 the inspection target is removed from the inspection position.
  • the liquid crystal display pattern can be inspected without any contact with the wiring pattern to be inspected. Therefore, even a liquid crystal display panel substrate having a low wiring pattern strength can be inspected without any problem.
  • the present invention is not limited to the above examples.
  • the first sensor 20 and the second sensor 30 A brush formed of a conductive material may be attached to the lower pattern side, and the brush may be moved to trace the surface of the inspection target pattern to detect a signal from the pattern. In this case, it is possible to more clearly detect whether a short circuit or a disconnection has occurred.
  • the scalar robot 80 can be controlled two-dimensionally by the first sensor 20 and the second sensor 30 by two-dimensional control. It is configured so that positioning control can be performed in the direction (vertical direction).
  • a laser displacement meter is attached to the first sensor 20 and the second sensor 30, and a detection result from the displacement meter attached to each sensor is taken in by the control unit 60, and the first sensor 20, Measure the distance between the second sensor 30 and the surface of the substrate to be inspected, and control the scalar robot 80 to control the distance between each electrode and the surface of the substrate to be inspected by the laser displacement meters 23 and 33. I do.
  • control unit 60 When performing the control in the Z-axis direction, the control unit 60 averages the measurement results of the measurement distances while the electrodes move a fixed distance, and adjusts the distance between the electrodes and the pattern so that the averaged distances are constant. Control.
  • the distance between the electrode and the substrate surface is controlled according to the average of the distances of three inspection target patterns.
  • the reason for averaging the distances in this way is to reduce the effects of noise, measurement errors, and the like, as well as to make the rapid Z-direction control gradual by hand.
  • Controlling in the Z-direction as well as in the X-Y direction in this way is particularly large Effective for board inspection.
  • the curvature of the substrate surface cannot be avoided, and in such a case, the contact between the electrode and the pattern can be effectively prevented.
  • the range of the measurement distance to be averaged should be narrowed to enable more sensitive detection.
  • the pattern inspection can be performed with high reliability without damaging the inspection target pattern.

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Description

明細書 回路パターン検査装置及びパターン検査方法 技術分野
本発明は、 基板上、 例えば液晶表示パネル用ガラス基板に形成された 導電パターンの良否を検査可能な回路パターン検査装置並びに回路バタ ーン検査方法に関するものである。 背景技術
基板上に導電パターンを形成してなる回路基板を製造する際には、 基 板上に形成した導電パターンに断線や、 短絡がないかを検査する必要が あった。
従来から、 導電パターンの検査手法としては、 例えば特許文献 1のよ うに、 導電パターンの両端にピンを接触させて一端側のピンから導電パ ターンに電気信号を給電し、 他端側のピンからその電気信号を受電する ことにより、 導電パターンの導通テスト等を行う接触式の検査手法 (ピ ンコンタク ト方式) が知られている。 電気信号の給電は、 金属プローブ を全端子に立ててここから導電パターンに電流を流すことにより行われ る。
このピンコンタク ト方式は、 直接ピンプローブを接触させるために、 S/N比が高いという長所を有する。
しかしながら、 例えば液晶表示パネルに用いるガラス基板に形成され た回路配線パターン等では、 パターン厚が薄く、 また、 基板との固着力 も少なく、 ピンを接触させてはパターンが損傷してしまう問題点があつ た。 更に、 携帯電話用の液晶パネル等においては、 配線ピッチも細密化し ており、 狭ピッチ多本数のプローブを製作するには多大の労力とコス ト が必要であった。
また同時に、 配線パターンが異なるごとに (検査対象ごとに) 使用に 応じた新たなプローブを製作しなければならなかった。 このため、 検査 コス トが更に高くなり電子部品の低コス ト化に対して大きな障害となつ ていた。
また、 液晶パネルに用いる配線パターンは、 後述する様に、 端部が列 状に配設され基部が互いに接続された 2組の櫛歯状導電パターンを、 互 いの列状導電パターン部が互い違いになるように配設されており、 更に 周囲にも導電パターンが配設されており、 回路的にはすべてがショート 状態である。 このため、 今まで適切な検査装置が無かった。
特開昭 6 2— 2 6 9 0 7 5号公報
しかしながら、 回路パターンの基板への固着力の弱い液晶表示パネル 用の回路パターンの検査要求は強く、 パターンを傷つけない検査装置の 実現が求められていた。 発明の開示
本発明は上記従来技術の課題を解決することを目的としてなされたも ので、 回路パターンの基板への固着力の弱い液晶表示パネル用の回路パ ターンを回路パターンに損傷を与えることなく検査することができる回 路パターン検査装置及びパターン検査方法を提供することにある。 係る 目的を達成する一手段として、 例えば本発明に係る一発明の実施の形態 例は以下の構成を備える。
即ち、 複数の末端部が列状に配設され基端部が互いに接続された 2組 の櫛歯状導電パターンを、 互いの末端部が互い違いになるように配設し てなる回路基板の導電性パターンの状態を検査する回路パターン検査装 置であって、 前記櫛歯状導電パターンよりの信号を検出する検出電極を 有する 2つの検出手段と、 前記櫛歯状導電性パターンの一方に交流検査 信号を供給する検査信号供給手段と、 前記櫛歯状導電パターンの他方を 少なく とも前記検査信号供給手段が供給する交流検査信号レベルより低 電圧レベルに制御する低電圧制御手段と、 前記 2つの検出手段を、 所定 距離離反させ互いに同一の前記末端部と容量結合状態となるように位置 決めした状態で前記末端部を横切るように移動させる移動手段とを備え 、 前記移動手段は、 一方の検出手段を前記検査信号を供給している末端 部の基部側と低電圧レベルの末端部の先端側を横切る様に移動させると 共に、 他方の検出手段を前記低電圧レベルに制御している末端部の基部 側と検査信号を供給している末端部の先端側を横切る様に移動させ、 前 記各検出手段よりの検出信号をもとに前記末端部の良否を識別可能とす ることを特徴とする。
そして例えば、 前記低電圧制御手段は、 前記櫛歯状導電性パターンの 他方を接地レベルに制御することを特徴とする。
また例えば、 前記パターンの少なく とも末端部は所定の抵抗値を有す る導電パターンであり、 前記移動手段は、 2つの前記検出手段をそれぞ れ前記末端部のそれぞれの先端と基部近傍位置に位置決めして前記末端 部を横切るように移動させることを特徴とする。
また、 複数の末端部が列状に配設され基端部が互いに接続された 2組 の櫛歯状導電パターンを、 互いの末端部が互い違いになるように配設し 、 前記櫛歯状導電パターンよりの信号を検出する検出電極を有する 2つ の検出手段を備える回路基板の導電性パターンの状態を検査する回路パ 夕一ン検査装置におけるパターン検査方法であって、 前記櫛歯状導電性 パターンの一方に交流検査信号を供給すると共に、 前記櫛歯状導電性パ ターンの他方を少なくとも前記櫛歯状導電性パターンの一方に供給する 交流検查信号レベルより低電圧レベルに制御し、 前記 2つの検出手段の 一方の検出手段を前記検査信号を供給している末端部の基部側と低電圧 レベルに制御された末端部の先端側を横切る様に移動させると共に、 前 記 2つの検出手段の他方の検出手段を前記低電圧レベルに制御している 末端部の基部側と検査信号を供給している末端部の先端側を横切る様に 移動させ前記各検出手段よりの検出信号をもとに前記末端部の良否を識 別することを特徴とする。
そして例えば、 前記パターンの末端部は所定の抵抗値を有する導電パ ターンであり、 前記検出手段の移動制御は、 2つの前記検出手段をそれ ぞれ前記末端部のそれぞれの先端と基部近傍位置に位置決めして前記末 端部を横切るように移動させるパターン検査方法とすることを特徴とす る。
また例えば、 前記櫛歯状導電性パターンの他方を低電圧レベルに制御 するパターン検査方法とすることを特徴とする。 あるいは、 前記櫛歯状 導電性パターンの前記検出手段検出結果が、 前記一方の検出手段と、 前 記他方の検出手段とよりの検出結果が共に検査信号を供給している末端 部を横切る際に高レベル、 低電圧レベルに制御している前記末端部を横 切る際に低レベルの検出信号の時に正常パターンと識別するパターン検 査方法とすることを特徴とする。
更に例えば、 前記櫛歯状導電性パターンの前記検出手段検出結果が、 前記一方の検出手段と前記他方の検出手段とよりの検出結果が共に低電 圧レベルに制御している前記列状パターンを横切る際に高レベルの検出 信号の時には検出信号供給側の櫛歯状パターンの基部に近い箇所の短絡 と識別し、 前記一方の検出手段と前記他方の検出手段とよりの検出結果 が共に検査信号を供給している末端部を横切る際に低レベルの検出信号 の時に低電圧レベル側の櫛歯状パターンの基部に近い箇所の短絡と識別 するパターン検査方法とすることを特徴とする。
また例えば、 共に低電圧レベルに制御している末端部を横切る際の前 記一方の検出手段の検出結果が他の検査信号供給側末端部を横切る際の 検出結果より高レベルで、 前記他方の検出手段の検出結果が他の低電圧 レベルに制御している末端部を横切る際の検出結果より低レベルの場合 に当該低電圧レベルの末端部の断線と識別し、 共に検査信号を供給して いる末端部を横切る際の前記一方の検出手段の検出結果が他の検査信号 を供給している末端部を横切る際の検出結果より高レベルで、 前記他方 の検出手段の検出結果が他の低電圧レベルに制御している前記末端部を 横切る際の検出結果より低レベルの場合に当該検査信号供給側列状バタ —ンの断線と識別するパターン検査方法とすることを特徴とする。 図面の簡単な説明
第 1図は、 本発明に係る一発明の実施の形態例のパターン検査原理を 説明するための図である。
第 2図は、 本実施の形態例のパターン良否の識別原理を説明するため の図である。
第 3図は、 本実施の形態例検査装置の検査制御を説明するためのフロ —チャートである。 発明を実施するための最良の形態
以下、 図面を参照して本発明に係る一発明の実施の形態例を詳細に説 明する。 以下の説明は、 検査するべきパターンとして液晶表示パネルを 形成する ドッ トマトリクス表示用パネルにおける張り合わせ前のドッ ト マトリクスパターンの良否を検査する回路パ夕一ン検査装置を例として 行う。
しかし、 本発明は以下に説明する例に限定されるものではなく、 少な く とも検査対象領域の両端近傍が列状に形成されている検査対象バタ一 ンであればなんら限定されるものではない。
〔第 1の発明の実施の形態例〕
図 1は本発明に係る一発明の実施の形態例のパターン検査原理を説明 するための図である。
図 1において、 1 0が本実施の形態例の検査するべき導電性パターン の配設されている基板であり、 本実施の形態例では液晶表示パネルに用 いるガラス製の基板を用いている。
ガラス製基板 1 0の表面には本実施の形態例の回路パターン検査装置 で検査する ドッ トマトリクス表示パネルを形成するための導電パターン が配設されている。
検査対象基板には、 例えば端部が列状に配設され基部が互いに接続さ れた 2組の櫛歯状導電パターン 1 5 a、 1 5 bを、 互いの列状導電パ夕 —ン部 (末端部) が互い違いになるように配設されており、 更にパ夕一 ン周囲を囲むように配設されているシールドパターン 1 5 c とが配設さ れている。
図 1に示す液晶表示パネル用の導電パターン例では各櫛歯状パターン 1 5 a , 1 5 bのパターンの幅はほぼ同一であり、 各櫛歯状パターン 1 5 a、 1 5 bの列状パターン部 (末端部) は所定の抵抗値を有している 本実施の形態例では、 櫛歯状パターンの各列状パターン間隔はほぼ等 間隔となっている。 しかし、 各パターン間隔が等間隔でなく とも同様に 検査を行うことができる。
2 0は第 1センサ、 3 0は第 2センサであり、 各センサの少なく とも 先端部表面には、 それぞれセンサ電極 2 5及び 3 5が配設されている。 センサ電極 2 5、 3 5は、 金属、 例えば銅 (C u ) で形成されている。 なお各電極を保護のため絶縁材で被覆してもよい。 なお、 例えば半導体 を電極として使用してもよいが、 金属により電極を形成しているのは、 導電パターンとの間の静電容量が大きくできるからである。
5 0は第 1センサ 2 0、 第 2センサ 3 0のセンサ電極 2 5, 3 5より の検出信号を処理して制御部 6 0に出力するアナログ信号処理回路、 6 0は本実施の形態例の検査装置全体の制御を司る制御部、 7 0はスカラ —ロボッ ト 8 0を制御するロポッ トコントローラ、 8 0は液晶パネル 1 0を検査位置に位置決めしてホールドすると共にロポッ トコントローラ 7 0の制御に従って第 1センサ 2 0、 第 2センサ 3 0の各センサ電極 2 5, 3 5が液晶パネル 1 0の検査対象の導電パターンの各列状パターン の端部近傍をすベての接続端子を順次横断するように走査するスカラ一 ロボッ 卜である。
本実施の形態例ではスカラー口ポッ ト 8 0は、 検査対象基板 (液晶パ ネル) 1 0を所定に検査位置に位置決めするために、 三次元位置決め可 能に構成されている。 同様に、 第 1センサ 2 0、 第 2センサ 3 0のセン サ電極 2 5, 3 5を検査対象基板 1 0の表面と所定の距離に保ちつつ検 査対象パターン上を移動させるよう三次元位置決め制御が可能に構成さ れている。
なお、 実際の検査制御においては、 センサ電極 2 5、 3 5を移動させ る場合に、 互いの移動距離を同期させ、 少なくとも両電極がほぼ同時に 同じ列状パターンの上部に搬送され、 ほぼ同時に同じ列状パターンより 外れるように制御する必要がある。 この様に制御するのみで、 双端部の パターンピッチが例え異なっていても、 単にスカラー口ポッ トの両電極 移動速度の制御で対応することができる。 第 1センサ 2 0及び第 2センサ 3 0は、 スカラーロボッ ト 8 0により 検査対象配線パターンの各列状パターンの端部近傍を横断するように移 動し、 各配線パターンと容量結合状態に維持されて各配線パターンより の信号を検出可能に位置決め制御される。 先端部のセンサ電極 2 5 , 3 5の幅は、 例えば検査対象パターンのパターンピッチ以下 (検査パター ンのパターン幅及びパターン間隙以下の大きさ) とすることが望ましい 。 これにより一本の検査対象パターンよりの検査信号を主に検出する状 態とできる。
但し、 必ず検査対象パターンのパターンピッチ以下としなければなら ないわけではなく、 複数の検査対象パターンとこのパターンに隣接する パターンさえ把握できれば、 検査を行うことができる。
第 1センサ 2 0、 第 2センサ 3 0よりの検出信号はアナログ信号処理 回路 5 0に送られアナログ信号処理される。 アナログ信号処理処理回路 5 0でアナログ信号処理されたアナログ信号は、 制御部 6 0に送られ検 査基板 1 0の配線パターンの良否が判断される。 また制御部 6 0は検査 信号を櫛歯状パターンの一方に供給する制御も行う。
アナログ信号処理回路 5 0は、 第 1センサ 2 0、 第 2センサ 3 0より の検出信号をそれぞれ別個に増幅する増幅器 5 1、 増幅器 5 1で増幅し た検出信号の雑音成分を除去し検査信号を通過させるためのバンドパス フィル夕 5 2、 バンドパスフィルタ 5 2よりの信号を全波整流する整流 回路 5 3、 整流回路 5 3により全波整流された検出信号を平滑する平滑 回路 5 4を有している。 なお、 全波整流を行う整流回路 5 3は必ずしも 備える必要はない。
制御部 6 0は、 本実施の形態例検査装置全体の制御を司っており、 コ ンピュー夕 (C P U ) 6 1 、 C P U 6 1の制御手順などを記憶する R〇 M 6 2 、 C P U 6 1の処理経過情報などを一時的に記憶する R A M 6 3 、 アナログ信号処理回路 5 0よりのアナログ信号を対応するデジタル信 号に変換する A Z Dコンバ一タ 6 4、 櫛歯状パターンの一方の基部に検 查信号を供給する信号供給部 6 5、 検査結果や操作指示ガイダンスなど を表示する表示部 6 6を備えている。
信号供給部 6 5は、 例えば、 検査信号として例えば交流 2 0 0 K H z
、 2 0 0 Vの正弦波信号を.生成し、 櫛歯状パターンの一方の基部に供給 する。 この場合には、 バンドパスフィル夕 5 2はこの検査信号である 2 0 0 K H z を通過させるバンドパスフィルタとする。
一方、 検査信号を供給していない他方の櫛歯状パターンの基部は接地 レベルに維持する。 なお、 この他方櫛歯状パターンの基部は必ずしも接 地レベルにする必要はなく、 一方櫛歯状パターン基部に供給される検査 信号よりの低レベルの信号を供給すれば足りる。 このように一方櫛歯状 パターン基部に供給される検査信号よりの低レベルの信号を供給すれば
、 第 1センサ 2 0の検出結果と第 2センサ 3 0の検出結果に差異が生じ るため、 この差異の検出結果を識別すれば全く同様にパターンの良否を 識別できる。
以上の構成を備える本実施の形態例のパターン良否の識別原理を図 2 を参照して以下に説明する。 図 2に示す (A ) は短絡パターンがある場 合、 図 2の (B ) は断線パターンがある場合の検査装置のセンサ検出信 号の例を示している。
本実施の形態例は、 検査対象パターンがある程度の抵抗成分を有して いること、 及び、 第 1センサ 2 0、 第 2 'センサ 3 0共に検査対象パター ンと容量結合状態であるため、 検出結果がデジタル的になることはなく 、 パターンとパターンの間であってもある程度の検出結果が得られる。
この結果、 第 2図の矢印に示すように、 スカラー口ポッ ト 8 0により
、 櫛歯状パターンの列状パターン部のそれぞれの端部近傍に第 1センサ 2 0 と第 2センサ 3 0 とを位置決めし、 矢印のようにパターンと容量結 合した状態で各列状パターンを横切るように移動制御する。 この時、 第 1センサ 2 0 と第 2センサ 3 0 とは、 パターンピッチに応じた速度で同 期して移動し、 ほぼ同じタイミングで列状パターン上部に移動し、 ほぼ 同じ夕イミングで列状パターンより外れるように駆動される。
この結果、 正常パターンの部分では、 信号供給部 6 5から供給された 検査信号の大部分の電流はショートパターン (ショートリング状部) 1 5 cを通って接地側に流れ込む。
この状態で (A ) に示す様に接地側の列状パターン端部側と検査信号 供給側列状パターンの基部側の一部に短絡箇所がある場合には、 新たに 図 2 ( A ) に太いパターンで示す部分を通る電流経路が発生するこの結 果下段に示す検査信号出力となり、 太く示すパターンの電位は接地側へ 近づくにつれて比例的に減少する。
このため、 図 2の (A ) に示す (①の電位 ②の電位 = ®の電位) と なり、 ②および③の電位は短絡位置①の位置によって、 ほぼ所定の値と なる。 短絡位置①が検査信号供給側櫛歯状パターンの基部側 (高電圧側 ) に近いほど②③の電位は高くなり、 短絡位置①が他方の櫛歯状パター ンの基部側 (低電圧側) に近いほど②③の電位は低くなる。
このため、 ②③の電位が高い場合には検査信号供給側櫛歯状パターン の基部に近い列状パターン箇所の短絡と識別でき、 ②③の電位が共に低 い場合には接地側 (低電圧レベル側) 櫛歯状パターンの基部側に近い列 状パターンの短絡と識別できる。
実際には、 この検出レベルと短絡箇所とは対応関係にあるため、 検出 レベルから概略の短絡箇所を特定することができ、 微細パターンの検査 を行う場合にも、 容易に短絡箇所を特定できる。
列状パターンが正常な場合には検査信号供給側 (高電圧パターン側) に流れている検査信号の交流電流は、 隣接パターンとの容量成分を通し て、 常に接地側 (低電圧レベル側) のパターン
へ流れ込んでいる。 しかしながら、 列状パターンの一部が断線している 場合には図 2の (B) に示す検出結果となる。
例えば、 検査信号供給側の列状パターンが断線 (オープン) 状態とな ると、 接地側 (低電圧レベル側) へ流れ込む電流が減少し、 第 1センサ 2 0の検出する電位が上昇する。 よって、 第 1センサ 2 0よりの検出出 力も増加する。 一方、 断線箇所から先の太線で示すパターンには電流が 流れなくなるために低電圧側の第 2のセンサ出力は低下する。
このため、 検査信号供給側の列状パターンにおける第 1のセンサ 2 0 の出力が、 他のパターンからの検出信号より高レベルの検出結果となり 、 第 2のセンサ出力が他のパターンからの検出信号より低レベルの場合 には検査信号供給側の列状パターンの断線と識別する。
一方、 正常パターンの場合には隣接パターンとの容量成分を通して常 に接地側の櫛歯状パターン側へ電流が流れ込んでいる。 接地側の列状パ ターンが断線状態である場合には太線で示すパターンの電位が接地状態 ではなくフロー状態となり隣接パターンからの影響が大きくなることで 検出電位が上昇する。 よって、 第 1センサ部 2 0の出力が増加する。 他 方断線部から先の太線で示すパターンの影響は第 2センサ 3 0位置のパ ターンまで及ばないため、 隣接パターンからの影響が少なくなり、 第 2 センサ出力が低下する。
このことから、 接地側の列状パターンの第 1センサ 2 0の出力が他の センサ出力結果より上昇し、 第 2センサ 3 0の出力が他のセンサ出力よ り低下している場合には接地側列状センサの断線と識別する。
なお、 列状パターンの断線の場合にも、 列状パターンの断線箇所に応 じて各センサ出力レベルが定まるため、 検出レベルから大まかな断線箇 所を特定することができる。
以上の断線箇所の特定には、 標準パターン、 種々の断線、 あるいは短 絡箇所を代えた基準検出結果を予め保持し、 保持した基準検出結果と検 査結果とを比較して不良箇所を特定しても良い。
以上の構成を備える本実施の形態例の本実施の形態例の導電パターン の検査制御を図 3のフローチヤ一トを参照して以下に説明する。 図 3は 本実施の形態例検査装置の検査制御を説明するためのフローチヤ一トで ある。
本実施の形態例の検査装置により検査を行う際には、 検査対象導電パ ターンの形成されたガラス基板が不図示の搬送路上を本実施の形態例の 回路パターン検査装置位置 (ワーク位置) に搬送されてくる。 このため 、 まず、 ステップ S 1 において、 検査対象である液晶パネル 1 0を検査 装置にセッ トする。 これは、 自動的に搬送されてきた検査対象基板を不 図示の搬送ロポッ トにより検査装置にセッ トしても、 あるいは操作者が 直接セッ トしても良い。 制御部 6 0は、 検査装置に検査対象がセッ トさ れると、 ロボッ トコントローラ 7 0を起動してスカラーロポッ ト 8 0を 制御し、 検査対象を検査位置に位置決めする。
続いてステップ S 3において、 検査対象 (液晶パネル) 1 0の検査対 象列状配線パターン 1 5 aの端部側の初期位置 (所定距離離反する一番 端の配線パターン位置) に第 1センサ 2 0のセンサ電極 2 5を位置決め すると共に、 検査対象列状配線パターン 1 5 bの端部側の初期位置 (所 定距離離反する一番端の配線パターン位置) に第 2センサ 3 0のセンサ 電極 3 5を搬送位置決めする。
なお、 本実施の形態例の例では基板表面とのギャップは例えば 1 0 0 ^ n!〜 2 0 0 ^ mに保たれている。 しかしながら、 ギャップは以上の例 に限定されるものではなく、 本実施の形態例では、 検査対象配線パ夕一 ンと電極間の距離 (ギャップ) は、 検査対象配線パターンのサイズに応 じて決まり、 パターンのサイズが大きければギャップも広く とれ、 パ夕 —ンのサイズが小さい場合にはギヤップも狭くなる。
パターンが強固に基板表面に固着されている場合などでは、 電極表面 に絶縁材で被覆を形成し、 パターンと電極が直接接触することがないよ うに形成し、 絶縁材を介して第 1センサ 2 0あるいは第 2センサ 3 0を 直接基板上に密着させてギヤップをほぼ絶縁材厚さとなるように制御し て検査対象パターンと電極との間の距離を容易かつ正確に一定距離にし て検査を行ってもよく、 あるいは、 移動の場合には一定距離基板とセン サを離間させ、 信号の検出時に基板とセンサを密着させても良い。 これ により、 容易且つ正確な検査結果が得られる。
続くステップ S 5において、 信号供給部 6 5に指示して検査信号供給 側櫛歯パターンの基部側に検査信号の供給を開始する。
次にステップ S 7に進み、 パターンと電極間の距離を一定に保ち、 第 1センサ 2 0 と第 2センサ 3 0の各電極 2 5 , 3 5を同期させて検査対 象列状パターンを横切るように、 かつ検査対象パターン表面との離間距 離を一定に保つように制御しつつ移動させる制御を開始する。 これによ り、 以後センサ電極 2 5 、 3 5は、 列状パターンとの容量結合により列 状配線パターンよりの信号電位を検出していく ことになる。
即ち、 センサ電極 2 5列状パターンの位置にある場合に、 センサ電極
3 5も同じ列状パターンの位置にあり、 共に一方のセンサ電極が列状パ ターンの 1 ピッチ移動する間に他方のセンサ電極も列状パターンの 1 ピ ッチ分移動するように制御される。
このため、 ステップ S 1 0において信号処理回路 5 0を起動し、 セン サ電極 2 5 、 3 5よりの検出信号をそれぞれ別個に処理して制御部 6 0 に出力するように制御する。 信号処理回路 5 0では、 上述したように、 第 1センサ 2 0のセンサ電極 2 5よりの検出信号と第 2センサ 3 0のセ ンサ電極 3 5を増幅器 5 1で必要レベルまで増幅し、 増幅器 5 1で増幅 した検出信号を検査信号周波数の信号を通過させるバンドバスフィルタ 5 2に送って雑音成分を除去し、 その後バンドパスフィルタ 5 2よりの 信号を整流回路 5 3で全波整流し、 全波整流された検出信号を平滑回路 5 4で平滑して制御部 6 0の A / D変換部 6 4に送る。
C P U 6 1は、 A Z D変換部 6 4を起動して入力されたアナログ信号 を対応するデジタル信号に変換させ、 センサ電極 2 5 、 3 5で検出した 検査信号をデジタル値として読み取る。
C P U 6 1は、 続くステップ S 1 2において、 読み取った検出信号が 予め設定した閾値範囲内であるか否かを調べる。 ここで、 検出結果が所 定閾値以内であれば読み取りパターンは正常であるとしてステップ S 1 6に進む。
一方、 ステップ S 1 2で、 読み取った検出信号が予め設定した閾値範 囲内でなく、 外れた値である場合には当該検査信号を供給している配線 パターンは隣接パターンと短絡しているか又は途中で断線していると判 断して当該配線パターンの状態を不良として記憶する。 そしてステップ S 1 6に進む。
列状パターンが断線しているか短絡しているか、 列状パターンの不良 箇所は上述した原理に従って識別する。
ステップ S 1 6では、 当該配線パ夕一ンの検査が終了したか否か、 例 えばセンサ電極 2 5が検査対象配線パターンの一番最後のパターンを超 えた位置まで移動したか否かを判断する (当該配線パターンの検査が終 了したか否かを調べる)。
当該配線パターンの途中までしか検査が終了していない場合にはステ ップ S 1 8に進み、 電極の走査を続行して次のパターンへの検査信号の 供給を行う。 そしてステップ S 1 0に戻り、 読み取り処理を続行する。 一方、 ステップ S 1 6において、 すべての配線パターンに対する検査 が終了した場合にはステップ S 2 0に進み、 信号供給部 6 5に指示して 検査信号の供給を停止させると共に、 信号処理回路 5 0、 A Z D変換部 6 4の動作を停止させる。
そして最後にステップ S 2 2において、 検査対象を検査位置より外し
、 次の搬送位置に位置決め搬送され、 必要な後処理が行われる。
以上の様に制御することにより、 検査対象の配線パターンに全く接触 などすることなく液晶表示パターンの検査が行える。 このため、 配線パ ターンの強度が少ない液晶表示パネル基板であっても、 全く問題なく検 査を行うことができる。
このため、 パターン強度が十分にとれない小型携帯電話用液晶表示パ ネルに用いる液晶表示パネル用ガラス基板であっても、 配線パターンを 損傷することなく確実に検査することができる。
以上に説明したように本実施の形態例によれば、 容易且つ確実なパ夕
—ン状態の検査が実現する。
〔他の発明の実施の形態例〕
以上の説明は、 センサ電極 2 5及び 3 5を非接触で検査対象配線パタ —ンの端部を横断するように移動させて不良パターンを検出する例を説 明した。 しかし、 本発明は以上の例に限定されるものではなく、 例えば 、 検査対象パターンの強度があり、 摩擦強度などが確保されている場合 には、 第 1センサ 2 0及び第 2センサ 3 0の下部のパターン側に導電材 料で形成したブラシを取り付け、 当該ブラシで検査対象パ夕一ンの表面 をなぞるように移動させてパターンよりの信号を検出するように構成し ても良い。 この場合には、 短絡しているか断線しているかをより明確に 検出することができる。 更に、 以上の説明は、 スカラー口ポッ ト 8 0によりセンサ電極 2 5、 3 5の移動制御を主に X— Y方向に 2次元制御する例を説明した。 これ は、 検査対象基板が液晶パネルであり、 ガラス基板で平滑度は高かった からである。 パターン厚さが厚かったり、 検査基板が大型で表面の凹凸 の影響が無視できないような基板を検査する場合には、 以上の 2次元制 御のみならず、 上下方向 (Z方向) にも制御するように構成して、 検査 対象基板の凹凸があっても良好か検査結果が得られる様に構成すればよ い。
2次元制御のみならず、 上下方向 (Z方向) にも制御する場合には、 スカラーロボッ ト 8 0を第 1センサ 2 0, 第 2センサ 3 0を 2次元制御 可能であるほか、 図の表裏方向 (上下方向) にも位置決め制御可能に構 成する。
そして、 第 1のセンサ 2 0及び第 2のセンサ 3 0にレーザ変位計を取 り付けて、 各センサに取り付けた変位計よりの検出結果を制御部 6 0で 取り込み、 第 1センサ 2 0、 第 2センサ 3 0と検査対象基板の表面まで の距離を測定し、 スカラーロボッ ト 8 0を制御してレーザ変位計 2 3 , 3 3で各電極と検査対象基板表面との距離を一定に制御する。
この Z軸方向の制御を行う際に制御部 6 0では、 電極が一定距離移動 する間の測定距離の測定結果を平均化し、 平均化した距離が一定となる ように電極とパターン間の距離を制御する。
例えば、 検査対象パターンの 3本分の距離の平均に従って電極、 基板 表面間の距離を制御する。
このように距離を平均化するのは、 急激な Z方向制御を筆委で緩やか な制御とすると共にノイズ、 測定誤差などの影響を軽減するためである 。
このように X— Y方向のみでなく Z方向制御を行うのは、 特に大型基 板の検査に有効である。 例えば大型フラッ トディスプレイパネル表面の 配線パ夕一ンの検査などにおいてはどうしても基板の表面の湾曲がさけ られず、 このような場合にも電極とパターンが接触してしまうのを有効 に防止できる。
また、 パターンの厚さが厚いような場合には、 平均化する測定距離の 範囲を狭く してより高感度の検出を可能とすれば良い。
なお、 以上の説明は液晶表示パネルを検査する例について主に説明し たが、 本発明は以上の基板に限定されるものではなく、 例えば櫛歯状パ ターンであれば任意の基板パターンに適用できる。 産業上の利用可能性
以上説明したように本発明によれば、 確実に検査対象パターンの不良 を検出することができる。
更に、 検査対象パ夕一ンの損傷が問題となるようなパ夕一ンであって も、 検查対象パターンを損傷することなく、 信頼性の高いパターン検査 が可能となる。

Claims

請求の範囲
1 . 複数の末端部が列状に配設され基端部が互いに接続された 2組の 櫛歯状導電パターンを、 互いの末端部が互い違いになるように配設して なる回路基板の導電性パターンの状態を検査する回路パターン検査装置 であって、
前記櫛歯状導電パターンよりの信号を検出する検出電極を有する 2つ の検出手段と、
前記櫛歯状導電性パターンの一方に交流検査信号を供給する検査信号 供給手段と、
前記櫛歯状導電パターンの他方を少なく とも前記検査信号供給手段が 供給する交流検査信号レベルより低電圧レベルに制御する低電圧制御手 段と、
前記 2つの検出手段を、 所定距離離反させ前記末端部と容量結合状態 となるように位置決めした状態で前記末端部を横切るように移動させる 移動手段とを備え、
前記移動手段は、 一方の検出手段を前記検査信号を供給している末端 部の基部側と低電圧レベルの末端部の先端側を横切る様に移動させると 共に、 他方の検出手段を前記低電圧レベルに制御している末端部の基部 側と検査信号を供給している末端部の先端側を横切る様に移動させ、 前 記各検出手段よりの検出信号をもとに前記櫛歯状導電パターンの良否を 識別可能とすることを特徴とする回路パターン検査装置。
2 . 前記低電圧制御手段は、 前記櫛歯状導電性パターンの他方を接地 レベルに制御することを特徴とする請求項 1記載の回路パターン検査装 置。
3 . 前記パターンの少なくとも末端部は所定の抵抗値を有する導電パ ターンであり、 前記移動手段は、 2つの前記検出手段をそれぞれ前記末 端部のそれぞれの先端と基部近傍位置に位置決めして前記末端部を横切 るように移動させることを特徴とする請求項 1又は請求項 2記載の回路 パターン検査装置。
4 . 複数の末端部が列状に配設され基端部が互いに接続された 2組の 櫛歯状導電パターンを、 互いの末端部が互い違いになるように配設し、 前記櫛歯状導電パターンよりの信号を検出する検出電極を有する 2つの 検出手段を備える回路基板の導電性パターンの状態を検査する回路パ夕 ーン検査装置におけるパタ一ン検查方法であって、
前記櫛歯状導電性パターンの一方に交流検査信号を供給すると共に、 前記櫛歯状導電性パターンの他方を少なくとも前記櫛歯状導電性パタ一 ンの一方に供給する交流検査信号レベルより低電圧レベルに制御し、 前記 2つの検出手段の一方の検出手段を前記検査信号を供給している 末端部の基部側と低電圧レベルに制御された末端部の先端側を横切る様 に移動させると共に、 前記 2つの検出手段の他方の検出手段を前記低電 圧レベルに制御している末端部の基部側と検査信号を供給している末端 部の先端側を横切る様に移動させ前記各検出手段よりの検出信号をもと に前記櫛歯状導電パターンの良否を識別することを特徴とするパターン 検査方法。
5 . 前記パターンの末端部は所定の抵抗値を有する導電パターンであ り、 前記検出手段の移動制御は、 2つの前記検出手段をそれぞれ前記末 端部のそれぞれの先端と基部近傍位置に位置決めして前記末端部を横切 るように移動させることを特徴とする請求項 4記載のパターン検査方法
6 . 前記櫛歯状導電性パターンの他方を低電圧レベルに制御すること を特徴とする請求項 4又は請求項 5記載のパターン検査方法。
7 . 前記櫛歯状導電性パターンの前記検出手段検出結果が、 前記一方 の検出手段と、 前記他方の検出手段とよりの検出結果が共に検査信号を 供給している末端部を横切る際に高レベル、 低電圧レベルに制御してい る前記末端部を横切る際に低レベルの検出信号の時に正常パターンと識 別することを特徴とする請求項 4乃至請求項 6のいずれかに記載のパ夕 ーン検査方法。
8 . 前記櫛歯状導電性パターンの前記検出手段検出結果が、 前記一方 の検出手段と前記他方の検出手段とよりの検出結果が共に低電圧レベル に制御している前記列状パターンを横切る際に高レベルの検出信号の時 には検出信号供給側の櫛歯状パターンの基部に近い箇所の短絡と識別し 前記一方の検出手段と前記他方の検出手段とよりの検出結果が共に検 査信号を供給している末端部を横切る際に低レベルの検出信号の時に低 電圧レベル側の櫛歯状パターンの基部に近い箇所の短絡と識別すること を特徴とする請求項 7記載のパターン検査方法。
9 . 共に低電圧レベルに制御している末端部を横切る際の前記一方の 検出手段の検出結果が他の検査信号供給側末端部を横切る際の検出結果 より高レベルで、 前記他方の検出手段の検出結果が他の低電圧レベルに 制御している末端部を横切る際の検出結果より低レベルの場合に当該低 電圧レベルの末端部の断線と識別し、
共に検査信号を供給している末端部を横切る際の前記一方の検出手段 の検出結果が他の検査信号を供給している末端部を横切る際の検出結果 より高レベルで、 前記他方の検出手段の検出結果が他の低電圧レベルに 制御している前記末端部を横切る際の検出結果より低レベルの場合に当 該検査信号供給側列状パターンの断線と識別することを特徴とする請求 項 Ί記載のパターン検査方法。
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Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7518391B2 (en) * 2004-02-17 2009-04-14 Applied Materials, Israel, Ltd. Probe card and a method for detecting defects using a probe card and an additional inspection
TWI513989B (zh) * 2005-09-13 2015-12-21 Ebara Corp 半導體裝置
KR100799161B1 (ko) * 2006-07-20 2008-01-29 마이크로 인스펙션 주식회사 비접촉 싱글사이드 프로브와 이를 이용한 패턴전극의 단선및 단락 검사장치 및 그 방법
JP4634353B2 (ja) * 2006-09-20 2011-02-16 オー・エイチ・ティー株式会社 回路パターン検査装置
TWI410605B (zh) * 2008-11-28 2013-10-01 Univ Nat Taiwan 表面檢測裝置
US20100211055A1 (en) * 2009-02-18 2010-08-19 Shimon Eckhouse Method for body toning and an integrated data management system for the same
JP4723664B2 (ja) * 2009-08-17 2011-07-13 株式会社エフカム 導電パターン検査装置及び検査方法
CN102412232A (zh) * 2010-09-17 2012-04-11 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 一种短路缺陷测试装置和方法
JP2013210247A (ja) * 2012-03-30 2013-10-10 Nidec-Read Corp 絶縁検査装置及び絶縁検査方法
JP6421463B2 (ja) * 2014-06-02 2018-11-14 日本電産リード株式会社 基板検査装置、及び基板検査方法
JP6014950B1 (ja) * 2015-12-22 2016-10-26 オー・エイチ・ティー株式会社 導電体パターン検査装置
CN109683081A (zh) * 2018-12-24 2019-04-26 安徽省大富光电科技有限公司 一种跟踪式柔性电路板导电图形在线监测装置

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08105926A (ja) * 1994-10-05 1996-04-23 Fujitsu Ltd 配線パターン検査装置及び配線パターン検査方法
JP2001077163A (ja) * 1999-08-31 2001-03-23 Toshiba Corp 欠陥検出方法
JP2001296326A (ja) * 2000-04-18 2001-10-26 Odp:Kk 欠陥検査方法及び装置
JP2002090407A (ja) * 2000-09-11 2002-03-27 Oht Inc 検査装置及び検査方法

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5266901A (en) * 1992-05-29 1993-11-30 International Business Machines Corp. Apparatus and method for resistive detection and waveform analysis of interconenction networks
JP4450143B2 (ja) * 2001-05-24 2010-04-14 オー・エイチ・ティー株式会社 回路パターン検査装置並びに回路パターン検査方法及び記録媒体
JP2002365325A (ja) * 2001-06-11 2002-12-18 Oht Inc 回路パターン検査装置並びに回路パターン検査方法及び記録媒体

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08105926A (ja) * 1994-10-05 1996-04-23 Fujitsu Ltd 配線パターン検査装置及び配線パターン検査方法
JP2001077163A (ja) * 1999-08-31 2001-03-23 Toshiba Corp 欠陥検出方法
JP2001296326A (ja) * 2000-04-18 2001-10-26 Odp:Kk 欠陥検査方法及び装置
JP2002090407A (ja) * 2000-09-11 2002-03-27 Oht Inc 検査装置及び検査方法

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