WO2004046230A1 - 指紋消去性フィルム - Google Patents

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Masuo Koyama
Keiichi Kitahara
Masato Saito
Junji Ichinokawa
Yoshihisa Kimura
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Kimoto Co., Ltd.
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    • Y10T428/24372—Particulate matter

Definitions

  • the present invention relates to a film adhered to a surface such as a liquid crystal monitor, a television, a showcase, a cover glass of a clock or an instrument, and a film for a touch panel, etc., and relates to a film having excellent fingerprint erasing property.
  • a surface such as a liquid crystal monitor, a television, a showcase, a cover glass of a clock or an instrument, and a film for a touch panel, etc.
  • Transparent films are often affixed to the surface of LCD monitors, televisions, showcases, clocks and instrument covers, etc. to protect the surface.
  • touch panel-type electronic devices such as ATMs and ticket vending machines of banks, are increasing.
  • Transparent films for surface protection such as LCD monitors, and transparent films used for touch panels, etc., are very noticeable when fingerprints are attached because of their high transparency. There was a problem that it was not clean even if it was wiped with a pad.
  • the components of such fingerprints are sebum, sweat, etc. secreted from the body, and are used to erase them and increase the contact angle of the transparent film surface (in other words, the wetting tension of the transparent film surface).
  • the wetting tension of the transparent film surface See, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-98190 (Example)). That is, by reducing the wetting tension on the surface of the transparent film, the fingerprint component adhering to the surface of the transparent film is repelled and can be easily removed.
  • the surface of the above-mentioned transparent film may be matted for the purpose of preventing external light from being reflected.
  • a transparent film having a matte surface and a low surface wetting tension had poor fingerprint erasability. Disclosure of the invention
  • an object of the present invention is to provide a fingerprint erasable film having a matte surface and excellent fingerprint erasability.
  • the fingerprint erasable film of the present invention is characterized in that one surface is matted, and the matted surface has a wet tension of 2 SmNZm or more. .
  • the matte surface has a surface roughness of 0.2 to 2.0 / m in terms of + point average roughness Rz.
  • the film has a ⁇ content of 1.5 to 35.0%.
  • a resin layer is provided on the base material, and the matted surface is provided on the surface of the resin layer.
  • the resin layer is formed of a paint containing an ionizing radiation-curable resin.
  • the resin layer has a pencil hardness of preferably H or more, more preferably 2H or more.
  • the resin layer contains a matting agent, more preferably two matting agents having different average particle diameters as the matting agent.
  • the matting agent is silica.
  • the wetting tension refers to the wetting tension specified in JIS-K6768: 1999, and the + point average roughness Rz is defined by JIS-B0601: 1994 (Rz JIS94 ).
  • ⁇ means a haze defined in JIS-K7105: 1981.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view showing one embodiment of the fingerprint erasable film of the present invention
  • FIG. FIG. 3 is a cross-sectional view showing another embodiment of the fingerprint erasable film.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view showing another embodiment of the fingerprint erasable film of the present invention.
  • the fingerprint erasable film of the present invention is a film that can be used as a film adhered to the surface of a liquid crystal monitor, a television, a showcase, a watch, a cover glass of an instrument, or the like, or a film for a touch panel. It has a matt surface on the top surface (matted surface), and the surface has a wetting tension of 25 mN / m or more.
  • the mat means a surface state having an arithmetic average roughness Ra of 0.05 / im or more specified in JIS-B0601: 1994.
  • the degree of surface roughness of the matted surface is not particularly limited, but is preferably not more than necessary, and the arithmetic average roughness Ra is preferably 0.7 / m or less, more preferably 0. 3 ⁇ or less.
  • the lower limit is 0.05 zm or more, preferably 0.1 ⁇ 1 or more. With such a range, reflection of external light and the like can be prevented.
  • the lower limit of the ten-point average roughness Rz of the surface is preferably 0 or more, more preferably 0.5 ⁇ or more, and the upper limit is preferably 2. ⁇ or less, more preferably 1.5 ⁇ or less.
  • the upper limit is preferably 2. ⁇ or less, more preferably 1.5 ⁇ or less.
  • the ten-point average roughness Rz is the roughness curve of the evaluation length N times the sampling length equal to the cut-off value, divided into N equal parts, and the height from the first to the fifth place is determined for each section.
  • Sanoyama The arithmetic mean value of the N R z 's when the interval R z' between the average height at the top and the average elevation at the bottom of the valley at the first to fifth places is determined. Therefore, the arithmetic mean roughness Ra includes peaks whose altitude is extremely higher than the Ra value, while the ten-point average roughness Rz indicates the peaks whose altitude is extremely higher than the Rz value. Is not included. Therefore, by setting the Rz value in the above-described range, it is possible to prevent the fingerprint component from being hardly wiped off due to the presence of a mountain having an extremely high altitude, and it is possible to improve the fingerprint erasability.
  • the fingerprint erasable film of the present invention has a matted surface having a wetting tension of 2 ⁇ or more, preferably 3OmN / m or more.
  • a wetting tension 2 ⁇ or more, preferably 3OmN / m or more.
  • fingerprint erasability was imparted by lowering the wetting tension, but on the contrary, the fingerprint erasability was improved by increasing the wetting tension and matting. The reason why such an effect is obtained is not necessarily clear, but it is considered that setting the wetting tension to 25 niNZm or more makes it easy to spread a very thin film over a wide area. According to experiments performed by the present inventors, it was confirmed that no color was formed even when a fingerprint component was wiped off until it became invisible and then a fingerprint color test using a ninhydrin reagent was performed.
  • the fingerprint component cannot be sufficiently removed if the surface is matted. This is probably because the repelled fingerprint components entered the gaps between the irregularities, making it difficult to wipe.
  • the optical characteristics of the fingerprint erasable film of the present invention vary depending on the use and are not particularly limited, it is preferable that the film has high transparency as a whole. Specifically, it is preferable that the total light transmittance described in JIS-K7105: 1981 is 82% or more. Also The haze is preferably 35.0% or less, more preferably 10% or less, and even more preferably 5.0%. ⁇ ⁇ The lower limit of the number ⁇ I is preferably 1.5% or more. By setting the haze within the range of 1.5 to 35.0%, it is possible to make the remaining fingerprint components invisible while maintaining transparency.
  • At least the resin component constituting the matte surface has a refractive index in the range of 1.46 to 1.52. With such a range, there is almost no difference between the refractive index of the fingerprint component and the refractive index of the fingerprint component.
  • the structure of the fingerprint erasable film of the present invention is, for example, as shown in FIG. 1 and FIG. 2, even when a luster layer 2 is formed on a substrate 1, as shown in FIG. It may be composed of only 1 and the surface of the resin layer 2 or the surface of the substrate 1 is matted.
  • the base material is not particularly limited as long as it has high transparency.
  • a polyester film an acrylic film, a polyvinyl chloride film, a polystyrene film, a polycarbonate film, a polypropylene film, a triacetyl cenorelose film, various fluorine-based materials
  • Plastic films such as resin films can be used.
  • the thickness of the substrate is not particularly limited, but a substrate having a thickness of 5 to 300 / m is preferably used from the viewpoint of handleability and the like.
  • the material constituting the substrate has a high wetting tension.
  • the substrate having a high wet tension include a polyester film and an acrylic film.
  • Means for matting the base material itself include sand blasting, in which fine sand is blown onto the base material at high speed, embossing, which is performed by passing the base material between a metal engraving roll and an elastic roll. Chemical etching method to treat the material surface with chemicals And so on. As shown in FIGS. 1 and 2, when a resin layer is provided on a base material, the base material may or may not be matted.
  • the resin layer may be made of, for example, a polyester resin, an acrylic resin, an acrylic urethane resin, a polyester ⁇ ⁇ acrylate Epoxy resin, polyurethane acrylate resin, epoxy acrylate resin, urethane resin, epoxy resin, polycarbonate resin, melamine resin, phenolic resin, thermosetting resin such as silicone resin, ionization It can be formed from a paint containing a radiation-curable resin or the like.
  • polyester resins, acrylic resins, and ionizing radiation-curable resins are preferable from the viewpoint of fingerprint erasability, and ionizing radiation-curable resins are particularly preferable.
  • Such a resin layer also imparts abrasion resistance and the like to the film, and ionizing radiation curable resins are preferred from the viewpoint of hard coat properties.
  • the hardness of the resin layer is preferably higher, more preferably H or higher, more preferably 2H or higher.
  • the ionizing radiation-curable resin a resin which is cross-linked and cured by irradiation with ionizing radiation (ultraviolet light or electron beam) can be used.
  • ionizing radiation-curable resin one or two or more of a photo-thione polymerization resin capable of photo-thione polymerization, a photo-polymerizable prepolymer or a photo-polymerizable monomer capable of photo-radical polymerization can be used. Can be used.
  • optical thione polymerizable resin examples include an epoxy resin such as a bisphenol-based epoxy resin, a nopolak-type epoxy resin, an alicyclic epoxy resin, and an aliphatic epoxy resin, and a vinyl ether-based resin.
  • an epoxy resin such as a bisphenol-based epoxy resin, a nopolak-type epoxy resin, an alicyclic epoxy resin, and an aliphatic epoxy resin, and a vinyl ether-based resin.
  • Examples of the photopolymerizable prepolymer include, for example, polyester (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, polyol (meth) acrylate, and melamine (meth) acrylate.
  • Various (meta) acrylates such as acrylates can be used. You.
  • photopolymerizable monomer examples include styrene-based monomers such as styrene and ⁇ -methylstyrene; (meth) acrylates such as methyl (meth) acrylate and butyl (meth) acrylate; and (meth) acrylamide.
  • unsaturated acids such as unsaturated carboxylic acid amides such as methacrylic acid, (meth) acrylic acid 12_ ( ⁇ , ⁇ —ethylpyramino) ethyl, Substituted Amino alcohol esters, ethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene propylene glycol (meth) acrylate, pentaerythritol mono (tri) acrylate, tris (2-hydroxyxetyl) monoisocyanurate (Meth) atarylate, 3-phenoxy-1-propanoylacryle Polyfunctional compounds such as 1,6-bis (3-ataryloxy-2-hydroxypropyl) monohexyl ether, and trimethylolpropane trithioglycolate and pentaerythritol tetrathiodallycolate A polythiol compound having two or more thiol groups in the molecule can be used.
  • photopolymerization initiators include photoradical polymerization initiators such as acetophenones, benzophenones, Michler's ketone, benzoin, benzylmethinolethanol, benzoinolebenzoate, ⁇ -asiloxime esters, thioxanthones, etc., sulfonic acid salts, and sulfonic acid esters.
  • a photoinitiated thione polymerization initiator such as an organometallic complex.
  • the ultraviolet sensitizer include ⁇ -butylamine, triethylamine, and tri- ⁇ -butylphosphine.
  • the resin layer is formed from a thermosetting resin or an ionizing radiation-curable resin, it is preferable that the resin layer is sufficiently cured in order to improve fingerprint erasure. As a result, it is possible to prevent the functional group and the fingerprint component from remaining on the surface.
  • the average particle size of the matting agent is not particularly limited, but it is preferable to use particles having an average particle size of 1 to 15 m; It is preferable to use particles of 5 to 5 ° nm in combination. By using such fine particles in combination, it is possible to easily control the surface shape and improve the fingerprint erasability. This is thought to be due to the fact that the large-sized particles form a surface roughness that makes it difficult for fingerprints to adhere, and that the small-sized particles increase the wetting tension, making it easier to spread the attached fingerprints.
  • Examples of the matting agent include known inorganic fine powder and organic fine powder.
  • Examples of inorganic fine powders include calcium carbonate, calcium silicate, magnesium silicate, silica, barium sulfate, zinc oxide, titanium oxide, clay, and alumina.
  • Examples of organic fine powders include acrylic resins, epoxy resins, and silicone-based powders. Resins, nylon resins, polyethylene resins, benzoguanamine resins, and the like. These matting agents can be used alone or in combination of two or more.
  • inorganic fine powders are preferably used from the viewpoint of abrasion resistance and fingerprint erasability, and silica is particularly preferably used.
  • the total amount of the matting agent is preferably 0.1 to 30.0 parts by weight based on 100 parts by weight of the resin constituting the resin layer.
  • the total amount of the matting agent is preferably 0.1 to 30.0 parts by weight based on 100 parts by weight of the resin constituting the resin layer.
  • the surface condition of the resin layer can be easily adjusted.
  • Rz can be easily adjusted in the range of 0.2 to 2.0 / zm.
  • any of the particles is resin.
  • the amount is preferably from 0.05 to 15.0 parts by weight based on 100 parts by weight of the resin constituting the layer.
  • the thickness of the resin layer is not particularly limited, but is about 2 to 15 // m.
  • the opposite surface has any structure.
  • the opposite surface may be smooth or matted.
  • the surface opposite to the matt surface may have an adhesive layer for attaching to a liquid crystal monitor or the like, and a separator.
  • the adhesive layer is made of a known adhesive such as an acrylic, urethane, or rubber adhesive.
  • the thickness of the adhesive layer is usually used in the range of 1 to 50 / xm.
  • a plastic film such as a polyester film, a polyethylene film, or a polypropylene film, or a material obtained by appropriately releasing the surface of paper or the like with silicone or the like can be used.
  • the thickness of the separator is in the range of 4 to 200 ⁇ , preferably 20 to 100 ⁇ m in consideration of workability.
  • a coating liquid prepared by coating the materials constituting each layer with a known coating method such as a bar coater method, a roll coater method, or a curtain flow method, and dry. Can be formed.
  • a coating solution of the following composition is applied to one surface of a polyester film (Cosmoshine A430: Toyobo Co., Ltd.) with a thickness of 100/1 m, and dried by heating at 60 ° C for 5 minutes. Then, about 5 seconds of resin layer was formed by irradiating ultraviolet rays for 1 to 2 seconds with a high pressure mercury lamp to obtain a fingerprint erasable film.
  • a polyester film Cosmoshine A430: Toyobo Co., Ltd.
  • a fingerprint erasable film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the coating solution for the resin layer in Example 1 was changed to the following formulation.
  • a fingerprint erasable film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the coating solution for the resin layer in Example 1 was changed to the following formulation.
  • a fingerprint erasable film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the coating solution for the resin layer in Example 1 was changed to the following formulation.
  • Example 5 A fingerprint erasable film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the coating solution for the resin layer in Example 1 was changed to the following formulation.
  • a fingerprint erasable film was obtained in the same manner as in Example 1, except that the coating solution for the resin layer in Example 1 was changed to the following formulation.
  • a fingerprint erasable film was obtained in the same manner as in Example 1, except that the coating solution for the resin layer in Example 1 was changed to the following formulation.
  • a fingerprint erasable film was obtained in the same manner as in Example 1, except that the coating solution for the resin layer in Example 1 was changed to the following formulation.
  • a fingerprint erasable film was obtained in the same manner as in Example 1, except that the coating solution for the resin layer in Example 1 was changed to the following formulation.
  • a fingerprint erasable film was obtained in the same manner as in Example 1, except that the coating solution for the resin layer in Example 1 was changed to the following formulation.
  • the finger pad was pressed against the surface of the resin layer to apply a fingerprint.
  • the fingerprint was placed on a black background and the degree of adhesion of the fingerprint was visually observed. As a result, if the fingerprint is conspicuous “X”,
  • a finger was pressed against the surface of the resin layer to make a fingerprint.
  • wiping was performed with a tissue paper. Each time wiping was performed, the sample was placed on a black background and visually observed, and the number of times until the fingerprint became invisible was evaluated. Those that showed fingerprints even after wiping 10 times or more were marked "X".
  • Stylus type surface roughness measuring instrument SAS-20 1 0 SAU- II : Akinobu E Machine Co., Ltd.
  • JIS - B0601 based on 1994, the arithmetic mean roughness R a and the ten-point average roughness R Z was measured (unit is “ ⁇ ”).
  • the pencil hardness of the resin layer was measured based on JIS 15600-5-4: 1999.
  • Comparative Examples 1 and 2 have matte surfaces and good anti-glare properties, but have a surface wetting tension of less than 25 mN / m, and have both anti-fingerprint and anti-fingerprint properties. Was inferior.
  • the fingerprints of the films of Comparative Examples 1 to 3 were also wiped off by fingerprint erasability evaluation, and then a fingerprint coloring test was performed using a ninhydrin reagent.

Abstract

　基材上に樹脂層を設けた指紋消去性フィルムであって、樹脂層の表面がマット化され、且つ樹脂層の表面のぬれ張力（JIS-K6768:1999）が２５ｍＮ/ｍ以上となるように構成されている。好ましくは、樹脂層の表面粗さは十点平均粗さＲｚ（JIS-B0601:1994）で０．２～２．０μｍである。樹脂層は、好ましくは電離放射線硬化型樹脂とマット剤とを含み、より好ましくは平均粒子径が異なる２種のマット剤を含む。このような構成の指紋消去性フィルムは、指紋成分が付着しにくく、指紋成分が付着した場合にも布等で拭き取ることにより、ほぼ完全に或いは視認することができない程度に指紋成分を除去することができる。

Description

指紋消去性フィルム 技術分野
本発明は、 液晶モニタ、 テレビ、 ショーケース、 時計や計器のカバーガラスな どの表面に貼着されるフィルム、 その他タツチパネル用のフィルムなどに関し、 指紋消去性に優れるものに関する。 背景技術
液晶モニタ、 テレビ、 ショーケース、 時計や計器のカバーガラスなどの表面に は、 表面を保護するために透明フィルムが貼着されることが多い。 また、 近年、 銀行の A TM、 切符の券売機に代表されるように、 タツチパネル方式の電子機器 が増えている。
このような液晶モニタなどの表面保護用の透明フィルム、 およびタツチパネル に使用される透明フィルムなどは、 高透明性を有することから指紋が付着すると 非常に目立ち、 また、 指紋が付着した部分を布などで拭いてもきれいにならない という問題があった。
このような指紋の成分は体内から分泌される皮脂、 汗などであり、 これを消去 しゃすくするものとして、 透明フィルム表面の接触角を大きくしたもの （言い换 えると、 透明フィルム表面のぬれ張力を小さくしたもの、 あるいは透明フィルム 表面のエネルギーを小さく したもの） が提案されている （例えば、 特開 2 0 0 1 - 9 8 1 9 0号公報 （実施例） 参照） 。 即ち、 透明フィルム表面のぬれ張力を小 さくすることにより、 透明フィルム表面に付着した指紋成分ははじかれた状態と なり、 除去しやすくなるというものである。
ところで上述した透明フィルムは、 外光の映り込みを防止するなどの目的で、 表面がマット化されることがある。 しかし、 表面をマット化し、 かつ表面のぬれ 張力を小さくした透明フィルムは、 指紋消去性が良好でないことが判明した。 発明の開示
そこで、 本発明は、 表面がマット化されたフィルムであって且つ指紋消去性に 優れる指紋消去性フィルムを提供することを目的とする。 上記目的を達成するために、 本発明の指紋消去性フィルムは、 一方の面がマツ ト化されてなり、 当該マット化面のぬれ張力が、 2 SmNZm以上であることを 特徴とするものである。
好ましくは、 前記マット化面の表面粗さが、 +点平均粗さ R zで 0. 2〜2. 0 / mであることを特徴とするものである。
好ましくは、 フィルム全体の^ ^一ズが 1. 5〜3 5. 0%であることを特徴と するものである。
好ましくは、 基材上に樹脂層を有し、 前記マット化面を前記樹脂層表面に有す ることを特徴とするものである。
好ましくは、 前記樹脂層は、 電離放射線硬化型樹脂を含む塗料から形成されて なるものであることを特徴とするものである。 樹脂層は、 鉛筆硬度が好ましくは H以上、 より好ましくは 2 H以上である。
好ましくは、 前記樹脂層は、 マット剤を含み、 より好ましくはマット剤として 平均粒子径の異なる 2種類のマツト剤を含む。 最も好ましくはマツト剤はシリカ である。
なお、 本発明でいう、 ぬれ張力とは、 JIS - K6768:1999で規定されているぬれ 張力のことをいい、 +点平均粗さ R zとは、 JIS - B0601:1994 (R zJIS94) で規定 されている十点平均粗さ R zのことをいう。 また^ ^一ズとは、 JIS-K7105 :1981 で規定されているヘーズのことをいう。 図面の簡単な説明
図 1は本発明の指紋消去性フィルムの一実施例を示す断面図、 図 2は本発明の 指紋消去性フィルムの他の実施例を示す断面図、 図 3は本発明の指紋消去性フィ ルムの他の実施例を示す断面図である。 発明を実施する最良の形態
以下、 本発明の指紋消去性フィルムの実施の形態を詳述する。
本発明の指紋消去性フィルムは、 液晶モニタ、 テレビ、 ショーケース、 時計や 計器のカバーガラスなどの表面に貼着されるフィルム、 その他タツチパネノレ用の フィルムとして使用することが可能なフィルムであり、 最上面にマツト化された 面 （マット化面） を有し、 その表面のぬれ張力が 25 mN/m以上であることを 特徴としている。 本発明において、 マットとは JIS-B0601:1994で規定する算術 平均粗さ R aで 0. 05 /im以上の表面状態をいう。
マツト化面の表面粗さの程度は特に制限されることはないが、 必要以上に粗さ ないことが好ましく、 算術平均粗さ R aで好ましくは 0. 7 / m以下、 より好ま しくは 0. 3 μΐη以下である。 また下限は 0. 05 zm以上、 好ましくは 0. 1 Ζ Π1以上の範囲である。 このような範囲とすることにより、 外光の映り込みなど を防止することができる。
さらに本発明の指紋消去性フィルムは、 表面の十点平均粗さ R zの下限が、 好 ましくは 0. 以上、 より好ましくは 0. 5 μπι以上であって、 上限が好ま しくは 2. Ο μιη以下、 より好ましくは 1. 5 μιη以下である。 一般に指紋成分 はフィルム表面に凹凸があると付着しにくい反面、 付着すると拭き取ったときに 凹凸内に指紋成分が入り込み、 拭き取りにくくなる。 本発明では R zを 0. 2〜 2. O xmの範囲とすることにより、 指紋成分の拭き残りを殆どなくすことがで き、 また、 若千拭き残った場合でも、 拭き残った指紋成分を見えなくすることが できる。
なお、 十点平均粗さ R zとは、 カツトオフ値と等しいサンプリング長さの N倍 の評価長さの粗さ曲線を N等分し、 各区間毎に第 1位から第 5位までの高さの山 頂の平均標高と第 1位から第 5位までの深さの谷底の平均標高の間隔 R z 'を求 めたときの N個の R z 'の算術平均値をいう。 したがって、 算術平均粗さ R aで は、 R a値よりも極端に標高が高い山が含まれてしまう一方で、 十点平均粗さ R zでは、 R z値よりも極端に標高が高い山が含まれることがない。 したがって、 R z値を上述した範囲とすることにより、 極端に標高が高い山の存在によって指 紋成分が拭き取りづらくなることがなくなり、 指紋消去性をより良好なものとす ることができる。
また本発明の指紋消去性フィルムは、 マツト化面のぬれ張力を 2 δ ηιΝΖιη以 上、 好ましくは 3 O mN/m以上とする。 従来ぬれ張力を低くして指紋消去性を 付与していたものを、 逆にぬれ張力を高くし、 かつマット化することにより指紋 消去性を良好にしたものである。 かかる効果が得られる原因は必ずしも明らかで はないが、 ぬれ張力を 2 5 niNZm以上にすることで非常に薄い膜として広面積 に塗り広げやすくなるためと考えられる。 本発明者らの実験によれば、 指紋成分 を見えなくなるまで拭き取った後、 ニンヒドリン試薬を用いた指紋発色試験を行 つても発色しないことが確認されており、 指紋成分は、 試薬で反応しないレべノレ まで薄く塗り広げられている、 あるいは完全に拭き取られていると考えられる。 この指紋消去性の効果は、 特にマット化面の R zを 0 . 2〜2 . O /z rnの範囲と したときにさらに良好であり、 これはマット効果により塗り広げられた指紋成分 が見えなくなるものとと考えられる。
これに対し、 従来のようにぬれ張力を低くして指紋消去性を良好にしたものは、 表面がマツト化されていると指紋成分を十分に除去することができない。 この原 因は、 はじかれた指紋成分が凹凸の隙間に入り込むなどして拭き取りづらくなつ ているためと考えられる。
本発明の指紋消去性フィルムの光学特性は、 その用途によって異なり特に限定 されないが、 全体として透明性が高いものであることが好ましレ、。 具体的には、 JIS-K7105: 1981でいう全光線透過率が 8 2 %以上であることが好ましい。 また ヘーズは好ましくは 3 5 . 0 %以下、 より好ましくは 1 0 %以下、 さらに好まし く 5 . 0 %とする。 ^ ^一ズの下限^ Iは 1 . 5 %以上であることが好ましい。 へ一 ズを 1 . 5〜3 5 . 0 %の範囲とすることにより、 透明性を維持しつつ、 拭き残 つた指紋成分を見えなくすることができる。
また少なくともマット化面を構成する樹脂成分は、 屈折率が 1 . 4 6〜1 . 5 2の範囲であることが好ましい。 このような範囲とすることにより、 指紋成分の 屈折率との差がほぼなくなるため、 拭き残った指紋成分を見えにくくする効果が ある。
次に本発明の指紋消去性フィルムの各要素について詳述する。 本発明の指紋消 去性フィルムの構造は、 例えば、 図 1及び図 2に示すように、 基材 1の上に樹月旨 層 2を形成したものでも、 図 3に示すように、 基材 1のみからなるものでもよく、 樹脂層 2表面或いは基材 1表面がマット化されている。
基材としては、 透明性の高いものであれば特に材質を問わないが、 例えばポリ エステルフィルム、 アクリルフィルム、 ポリ塩化ビュルフィルム、 ポリスチレン フィルム、 ポリカーボネートフィルム、 ポリプロピレンフィルム、 トリァセチル セノレロースフィルム、 各種フッ素系樹脂フィルムなどのプラスチックフィルムが 使用できる。
基材の厚みは特に限定されるものではないが、 取り扱い性などの観点から 5〜 3 0 0 / mのものが好適に使用される。
本発明の指紋消去性フィルムが図 1に示すように基材のみからなる場合、 即ち マツト化面を基材表面にて形成する場合には、 基材を構成する材料はぬれ張力が 高いものが好ましい。 ぬれ張力が高い基材としては、 ポリエステルフィルム、 ァ クリルフィルムなどがあげられる。
基材自体をマツト化する手段としては、 基材に細かい砂を高速で吹き付けるサ ンドブラス ト加工、 基材を金属彫刻ロールと弾性ロールとの間を通すことによつ てなされるエンボス加工、 基材表面を化学薬品で処理するケミカルエッチング法 などがあげられる。 図 1、 図 2に示すように、 基材上に樹脂層を設ける場合には、 基材はマツト化されていてもよいし、 マツト化されていなくてもよい。
基材上に樹脂層を形成し、 この樹脂層表面にマット化面を形成する場合、 樹月旨 層は、 例えば、 ポリエステル系樹脂、 アクリル系樹脂、 アクリルウレタン系樹脂、 ポリエステ Λ ^アタリレート系樹月旨、 ポリウレタンアタリ レート系樹月旨、 エポキシ アタリレート系樹脂、 ウレタン系樹脂、 エポキシ系樹脂、 ポリカーボネート系樹 脂、 メラミン系樹脂、 フエノール系樹脂、 シリコーン系樹脂などの熱硬化型樹脂、 電離放射線硬化型樹脂などを含む塗料から形成することができる。 これらの樹月旨 の中でも、 指紋消去性の観点からポリエステル系樹脂、 アクリル系樹脂、 電離放 射線硬化型樹脂が好ましく、 特に電離放射線硬化型樹脂が好ましい。 このような 樹脂層は、 フィルムに対し耐擦傷性などを付与するものでもあり、 ハードコート 性の観点からも電離放射線硬化型樹脂が好ましレ、。 また指紋消去性およびノヽード コート性の両方の観点から、 樹脂層の硬度は高い方がよく、 好ましくは鉛筆硬度 H以上、 より好ましくは 2 H以上とする。
電離放射線硬化型樹脂としては、 電離放射線 （紫外線若しくは電子線） の照射 により架橋硬化するものを使用することができる。 このような電離放射線硬化型 樹脂としては、 光力チオン重合可能な光力チオン重合' ι·生樹脂、 光ラジカル重合可 能な光重合性プレボリマー若しくは光重合性モノマーなどの 1種又は 2種以上を 混合したものを使用することができる。
光力チオン重合性樹脂としては、 ビスフエノール系エポキシ樹脂、 ノポラック 型エポキシ樹脂、 脂環式エポキシ樹脂、 脂肪族エポキシ樹脂等のエポキシ系樹脂 やビニルエーテル系樹脂などをあげることができる。
また光重合性プレボリマーとしては、 例えば、 ポリエステル （メタ） アタリレ ート、 エポキシ （メタ） アタリレート、 ウレタン （メタ） アタリレート、 ポリエ 一テル （メタ） アタリレート、 ポリオール （メタ） ァクリレート、 メラミン （メ タ） ァクリレートなどの各種 （メタ） アタリレート類などを使用することができ る。
また光重合性モノマーとしては、 例えば、 スチレン、 α—メチルスチレンなど のスチレン系モノマ一類、 メチル（メタ）ァクリ レート、 ブチル（メタ）ァクリレー トなどの （メタ） アタリレート類、 （メタ） アクリルアミ ドなどの不飽和カルボ ン酸アミ ド、 （メタ） アクリル酸一 2 _ (Ν , Ν—ジェチルァミノ）ェチル、 （メ タ） アタリノレ酸一 2 _ (Ν , Ν—ジベンジルァミノ）ェチルなどの不飽和酸の置換 ァミノアルコールエステル類、 エチレングリコールジ （メタ） ァクリレート、 ポ リプロピレンダリコールジ （メタ） ァクリレート、 ペンタエリスリ ト一ノレトリ (メタ）アタリ レート、 トリス一（2—ヒ ドロキシェチル）一イソシァヌル酸エステ ノレ（メタ）アタリレート、 3—フエノキシ一 2—プロパノィルァクリレート、 1， 6—ビス （3—アタリ口キシ一 2—ヒ ドロキシプロピル） 一へキシルエーテルな どの多官能 ½Ξ化合物、 およびトリメチロールプロパントリチォグリコレート、 ぺ ンタエリスリ トールテトラチォダリコレートなどの分子中に 2個以上のチオール 基を有するポリチオール化合物などを使用することができる。
樹脂層として電離放射線硬化型樹脂を用いる場合には、 電離放射線硬化型樹月旨 を含む塗料中に、 光重合開始剤、 紫外線増感剤などを添加することが好ましい。 光重合開始剤としては、 ァセトフエノン類、 ベンゾフエノン類、 ミヒラーケトン、 ベンゾイン、 ベンジルメチノレケターノレ、 ベンゾィノレべンゾエート、 α—ァシロキ シムエステル、 チォキサンソン類などの光ラジカノレ重合開始剤や、 ォニゥム塩類、 スルホン酸エステル、 有機金属錯体などの光力チオン重合開始剤があげられ、 紫 外線増感剤としては、 η—ブチルァミン、 トリェチルァミン、 トリ一 η—ブチル ホスフィンなどがあげられる。
また熱硬化性樹脂或いは電離放射線硬化性樹脂から樹脂層を形成する場合、 指 紋消去性を向上するために十分に硬化することが好ましい。 これにより指紋成分 と結合しゃすレ、官能基が表面に残らないようにすることができる。
樹脂層中にはマツト剤を含有させることが好ましい。 マツト剤を含有せしめる ことにより、 樹脂層表面に容易に所定の表面粗さのマット化面を形成することが できる。 マット剤の平均粒径は特に制限されることはないが、 平均粒径 1〜1 5 ； mの粒子を用いることが好ましく、 さらに平均粒径 1〜1 5 / mの粒子と平均 粒径が 5〜5◦ n mの粒子を組み合わせて使用することが好ましい。 このような 微粒子を組み合わせて使用することにより、 表面形状の制御が容易となるととも に、 指紋消去性を向上することができる。 これは、 粒径の大きい粒子によって指 紋が付着しにくい表面粗さが形成されるとともに、 粒径の小さい粒子がぬれ張力 を高くし、 付着した指紋を広がりやすくするためと考えられる。
マット剤としては、 公知の無機微粉末および有機微粉末があげられる。 無機微 粉末としては、 炭酸カルシウム、 珪酸カルシウム、 珪酸マグネシウム、 シリカ、 硫酸バリウム、 酸化亜鉛、 酸化チタン、 クレー、 アルミナなどが、 有機微粉末と しては、 アクリル系樹脂、 エポキシ系樹脂、 シリコーン系樹脂、 ナイロン系樹脂、 ポリエチレン系樹脂、 ベンゾグアナミン系樹脂などがあげられる。 これらマツ'ト 剤は、 単独であるいは 2種以上混合して使用することができる。 これらマット剤 の中でも、 耐擦傷性、 指紋消去性の観点から無機微粉末が好適に使用され、 その 中でもシリカが特に好適に使用される。
マツト剤の総添加量は、 樹脂層を構成する樹脂 1 0 0重量部に対して 0 . 1〜 3 0 . 0重量部であることが好ましい。 マット剤の総添加量をかかる範囲とする ことにより、 樹脂層の表面状態を調整しやすくすることができる。 具体的には R zを 0 . 2〜2 . 0 /z mの範囲に容易に調整できる。 また、 上述したように、 平 均粒径が 1〜； I 5 // mの粒子と、 平均粒径が 5〜 5 0 n mの粒子を組み合わせて 使用する場合には、 何れの粒子ともに、 樹脂層を構成する樹脂 1 0 0重量部に対 して 0 . 0 5〜1 5 . 0重量部であることが好ましい。
樹脂層の厚みは特に制限されることはないが、 2〜1 5 // m程度である。
本発明の指紋消去性フィルムでは、 一方の面がマツト化され且つマツト化面の ぬれ張力が 2 5 mNZm以上であれば、 反対側の面はいかなる構成からなってい てもよい。 例えば、 反対側の面は平滑であってもよいし、 マット化されていても よい。 マット化面とは反対側の面には、 液晶モニタなどに貼着するための接着剤 層、 セパレータを有していてもよい。 この場合、 接着剤層は、 アクリル系、 ウレ タン系、 ゴム系などの公知の接着剤などから構成される。 接着剤層の厚みは、 通 常 1〜5 0 /x mの範囲で使用される。
セパレ一タは、 ポリエステルフィルム、 ポリエチレンフィルム、 ポリプロピレ ンフィルムなどのプラスチックフィルムや、 紙等の表面をシリコーンなどで適宜 離型処理を施したものが使用できる。 セパレータの厚みとしては、 作業性を考慮 して 4〜2 0 0 μ πι、 好ましくは 2 0〜1 0 0 μ mの範囲である。
以上のような樹脂層、 接着剤層は、 各層を構成する材料を塗料化した塗布液を、 バーコ一ター法、 ロールコーター法、 カーテンフロー法などの公知の塗布方法に より塗布、 乾燥することにより形成することができる。 実施例
以下、 実施例により本発明を更に説明する。 なお、 「部」 、 「％」 は特に示さ ない限り、 重量基準とする。
[実施例 1 ]
厚み 1 0 0 /1 mのポリエステルフィルム （コスモシャイン A 4 3 0 0 ：東洋紡 績社） の一方の表面に、 下記組成の樹脂層塗布液を塗布、 6 0 °C - 5分で加熱乾 燥し、 高圧水銀灯で紫外線を 1〜 2秒照射することにより約 5 の樹脂層を形 成して、 指紋消去性フィルムを得た。
<樹脂層塗布液 >
-電離放射線硬化型樹脂 （アクリル系） 3 0 . 0部
( B S— 5 7 5 ：荒川化学社、 固形分 100%)
■光ラジカル重合開始剤 1 . 5部
(ダロキュア 1173：チバ 'スぺシヤノレティ · ケミカノレズ 社）
•シリカ （平均粒径 : 5. 7 μηι) 3. 0部
(サイリシァ 250：富士シリシァ化学社）
• シリカ （平均粒径： 30 nm) 3. 0部
(ァエロジル 50： 日本ァェ口ジル社）
•酢酸ェチル 20. 0部
'プロピレングリコールモノメチルエーテル 1 0. 0部
[実施例 2]
実施例 1の樹脂層塗布液を下記の処方に変更した以外は、 実施例 1と同様にし て指紋消去性フィルムを得た。
<樹脂層塗布液〉
-電離放射線硬化型樹月旨 （アタリル系） 3 0. 0部
(B S- 5 7 5 ：荒川化学社、 固形分 100%)
'光ラジカル重合開始剤 1. 5部
(ダロキュア 1173：チバ ·スぺシヤノレティ ·ケミカルズ
社）
' シリカ （平均粒径 : 5. 7 μτη) 4. 5部
(サイリシァ 250：富士シリシァ化学社）
■酢酸ェチル 20. 0部
'プロピレングリコールモノメチルエーテル 1 0. 0部
[実施例 3]
実施例 1の樹脂層塗布液を下記の処方に変更した以外は、 実施例 1と同様にし て指紋消去性フィルムを得た。
<樹脂層塗布液 > •電離放射線硬化型樹脂 （アタリル系） 30. 0部
(BS-575 ：荒川化学社、 固形分 100%)
'光ラジカノレ重合開始剤 1. 5部
(ダロキュア 1173：チバ ·スペシャルティ ·ケミカノレズ
社）
-シリカ （平均粒径： 30 nm) 7. 0部
(ァエロジル 50： 日本ァエロジル社）
.酢酸ェチル 20. 0部
'プロピレングリコールモノメチルエーテノレ 10. 0部
[実施例 4]
実施例 1の樹脂層塗布液を下記の処方に変更した以外は、 実施例 1と同様にし て指紋消去性フィルムを得た。
く樹脂層塗布液 >
•電離放射線硬化型樹月旨 （アタリル系） 30. 0部
(BS- 575 ：荒川化学社、 固形分 100%)
•シリカ （平均粒径 : 2. 7 Aim) 7. 5部
(サイリシァ 530：富士シリシァ化学社）
'光ラジカル重合開始剤 1. 5部
(ダロキュア 1173：チバ ·スペシャルティ ·ケミカノレズ
社）
.酢酸ェチル 20. 0部
• プロピレングリコールモノメチノレエーテ Λ^Ι 0. 0部
[実施例 5] 実施例 1の樹脂層塗布液を下記の処方に変更した以外は、 実施例 1と同様にし て指紋消去性フィルムを得た。
<樹脂層塗布液〉
'電離放射線硬化型樹脂 （エポキシ系） 3 0. 0部
(アデカオプトマ一 KRM- 2410：旭電ィ匕工業社、
固形分 100%)
'光力チオン重合開始剤 2. 0部
(アデカオプトマー SP- 170：旭電化工業社）
'シリカ （平均粒径 : 1 4. 1 μπι) 0. 1 5部
(サイリシァ 470：富士シリシァ化学社）
-酢酸ェチル 2 0. 0部
'プロピレングリコールモノメチルエーテル 1 0. 0部
[実施例 6]
実施例 1の樹脂層塗布液を下記の処方に変更した以外は、 実施例 1と同様にし て指紋消去性フィルムを得た。
<樹脂層塗布液 >
'電離放射線硬化型樹脂 （エポキシ系） 3 0. 0部
(アデカオプトマー KRM-2410：旭電化工業社、
固形分 100%)
-光力チオン重合開始剤 2. 0部
(アデカオブトマー SP- 170：旭電化工業社）
'アタリル樹脂ビーズ （平均粒径 5 μτη) 2. 0部
(GB-0 5 S ：ガンツ化成社）
·酢酸ブチル 2 5. 0部
-シク口へキサノン 1 0. 0部 [実施例 7]
実施例 1の樹脂層塗布液を下記の処方に変更した以外は、 実施例 1と同様にし て指紋消去性フィルムを得た。
<樹脂層塗布液〉
'電離放射線硬化型樹脂 （エポキシ系） 30. 0部
(アデカオプトマー KRM- 2410：旭電化工業社、
固形分 100%)
•光力チオン重合開始剤 2. 0部
(アデカオブトマー SP-170：旭電化工業社）
'シリカ （平均粒径： 6. 4 /xm) 4. 5部
(サイリシァ 3 70 ：富士シリシァ化学社）
•シリカ （平均粒径： 3 0 nm) 2. 5部
(ァエロジル 50： 日本ァェ口ジル社）
•酢酸ェチル 20. 0部
'プロピレングリコールモノメチルエーテル 1 0. 0部
[比較例 1 ]
実施例 1の樹脂層塗布液を下記の処方に変更した以外は、 実施例 1と同様にし て指紋消去性フィルムを得た。
<樹脂層塗布液〉
•電離放射線硬化型樹脂 （アクリル系）. 30. 0部
(KRM60 3 4 ：ダイセル UCB社、 固形分 100%)
'シリカ （平均粒径 : 5. 7 / m) 8. 0部
(サイリシァ 250：富士シリシァ化学社）
'酢酸ェチル 20. 0部
■プロピレングリコールモノメチルエーテル 1 0. 0部 [比較例 2]
実施例 1の樹脂層塗布液を下記の処方に変更した以外は、 実施例 1と同様にし て指紋消去性フィルムを得た。
<樹脂層塗布液 >
'電離放射線硬化型樹脂 （エポキシ系） 30. 0部
(アデカオブトマー KRM- 2410：旭電化工業社、
固形分 100%)
-光力チオン重合開始剤 2. 0部
(アデカオブトマー SP- 170：旭電化工業社）
' シリカ （平均粒径： 4. 7 μπι) 10. 5部
(サイリシァ 436：富士シリシァ化学社）
.酢酸ェチル 20. 0部
'プロピレングリコールモノメチルエーテル 1 0. 0部 [比較例 3]
実施例 1の樹脂層塗布液を下記の処方に変更した以外は、 実施例 1と同様にし て指紋消去性フィルムを得た。
<樹脂層塗布液〉
'電離放射線硬化型樹脂 （エポキシ系） 30. 0部
(アデカオブトマー KRM- 2410：旭電化工業社、
固形分 100%)
'光力チオン重合開始剤 2. 0部
(アデカオブトマー SP-170：旭電化工業社）
■ シリカ （平均粒径 : 2. 7 μ ΐη) 0. 0 1 5部
(サイリシァ 530：富士シリシァ化学社）
•酢酸ェチル 20. 0部 'プロピレングリコールモノメチルエーテル 1 0. 0部 実施例および比較例で得られた指紋消去性フィルムにつき、 以下の項目の評価 を行った。 結果を表 1に示す。
(1) 耐指紋付着性
樹脂層表面に指の腹を押しあて指紋をつけ、 黒地にのせて目視で指紋の付着度 合いを観察した。 その結果、 指紋が目立つものを 「X」 、 若干目立つものを
「△」 、 比較的目立たないものを 「〇」 とした。
(2) 指紋消去性
樹脂層表面に指の腹を押しあて指紋をつけた。 次いで、 ティッシュペーパーで 拭き取りを行い、 1回拭き取るごとに黒地にのせて目視で観察を行い、 指紋が見 えなくなるまでの回数を評価した。 なお、 10回以上拭き取っても指紋が見える ものは 「X」 とした。
(3) 防眩性
画像を表示させた液晶モニタ上に指紋消去性フィルムを積層した際に、 外部光 の映り込みによつて表示画像が見づらくなるかどうかにつレ、て目視にて評価を行 つた。 その結果、 表示画像が良好に観察されたものを 「〇」 、 表示画像が見づら かったものを 「 X」 とした。
(4) ぬれ張力
JIS-K6768:1999に基き、 ぬれ張力を測定した （単位は 「mNノ m」 ） 。
(5) +点平均粗さ R z
触針式表面粗さ測定器 (SAS-20 1 0 SAU- I I ：明伸ェ機社） を用 レ、、 JIS - B0601:1994に基き、 算術平均粗さ R a及び十点平均粗さ R Zを測定し た （単位は 「μπι」 ） 。
(6) ヘーズ
SMカラーコンピューター UGV-5K (スガ試験機社） を用い、 JIS- Κ7105:1981 に基き、 ヘーズを測定した （単位は 「％」 ） 。 なお、 光は樹脂層側から入射させ て測定を行った。
( 7 ) 鉛筆硬度
JIS 1 5600-5-4: 1999に基づき、 樹脂層の鉛筆硬度を測定した。
【表 1】
Figure imgf000017_0001
表 1の結果を見て明らかなように、 実施例 1から 7のものは、 ί可れも表面のぬ れ張力が 2 5 mNノ m以上であり、 指紋が付着しにくく、 付着した場合にも見え にくく、 容易に消去できることがわかった。 ただし比較的 R zが小さい実施例 3、 4のフィルム及び比較的ぬれ張力の小さい実施例 5、 7のフィルムでは、 その他 の実施例に比べ耐指紋付着性が劣っていた。 さらに実施例 1から 7のものについ て、 指紋消去性の評価で指紋が見えなくなった後、 ニンヒ ドリン試薬を用いて指 紋発色試験を行ったところ、 何れのものも発色することはなかった。
一方、 比較例 1、 2のものは、 表面がマット化されており防眩性は良好である が、 表面のぬれ張力が 2 5 mN/m未満であり、 耐指紋付着性、 指紋消去性とも に劣るものであった。
また、 比較例 3のものは、 表面のぬれ張力が 2 5 mNZni以上であるものの、 2が0 . 0 8 mと低く表面がマット化されておらず、 良好な耐指紋付着性、 指紋消去性および防眩性が得られなかった。
また比較例 1から 3のフィルムについても指紋消去性の評価で指紋を拭き取つ た後、 ニンヒ ドリン試薬を用いて指紋発色試験を行ったところ、 薄い赤紫色の発 色が見られた。

Claims

請求の範囲
1. 一方の面がマット化されてなり、 当該マット化面のぬれ張力が、 25mNZ m以上であることを特徴とする指紋消去性フィルム。
2. 前記マット化面の表面粗さが、 十点平均粗さ R zで 0. 2〜2. Ο μπιであ ることを特徴とする請求項 1記載の指紋消去性フィルム。
3. フィルム全体の^—ズが 1. 5〜3 5. 0%であることを特徴とする請求項 1又は 2記載の指紋消去性フィルム。
4. 基材上に樹脂層を有し、 前記マット化面を前記樹脂層表面に有することを特 徴とする請求項 1ないし 3レ、ずれか 1項記載の指紋消去性フィルム。
5. 前記樹脂層は、 電離放射線硬化型樹脂を含む塗料から形成されてなるもので あることを特徴とする請求項 4記載の指紋消去性フィルム。
6. 前記樹脂層は、 平均粒子径の異なる 2種類のマット化剤を含むことを特徴と する請求項 4又は 5に記載の指紋消去性フィルム。
7. 前記樹脂層は、 マット化剤としてシリカ粒子を含むことを特徴とする請求項 4ないし 6記載の指紋消去性フィルム。
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