JP2003121618A - 光散乱フイルム、光散乱フイルムの製造方法、偏光板および液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光散乱フイルムを用いて、液晶表示装置
の広視野角化、特にパネルの下方向の階調反転および外
光の写り込み防止を高度に実現する。 【解決手段】 透明基材上に光散乱層を有する光散乱フ
イルムにおいて、透光性樹脂と透光性微粒子とから光散
乱層を構成し、光散乱層の厚さを２．０乃至６．０μｍ
に調節し、そして、透光性樹脂が透明基材の表面から
０．０１乃至１μｍの深さまでしみ込ませる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、透明基材上に、透
光性微粒子を含む光散乱層を有する光散乱フイルムおよ
びその製造方法に関する。また本発明は、液晶表示装置
の表示品位を向上させる光散乱フイルム、およびそれを
用いた偏光板に関する。さらに本発明は、表示品位が改
善された液晶表示装置にも関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に液晶表示装置は、偏光板と液晶セ
ルから構成されている。液晶表示装置の表示品位上の欠
点は、視野角の狭さと外光の写り込みである。視野角に
関しては、現在主流であるＴＮモードＴＦＴ液晶表示装
置において、特開平８−５０２０６号公報、特開平７−
１９１２１７号公報、およびに欧州特許０９１１６５６
Ａ２号明細書に記載のように光学補償フイルムを偏光板
と液晶セルの間に挿入し、極めて広視野角の液晶表示装
置が実現されている。ところが、上記液晶表示装置はパ
ナルの下方向の階調反転が生じるという問題が残ってい
た。この問題に対して、特許第２８２２９８３号公報に
は光拡散手段を、特開２００１−３３７８３号公報には
光軸変換板を、および特開２００１−５６４６１号公報
には出射光を拡散する光学手段を、視認側表面に設ける
ことで著しく表示品位が改善されることが提案されてい
る。しかしながら、これらに記載の具体的手段は高度に
制御されたレンズ構造、あるいは回折構造を有する光拡
散手段であり、高価、かつ大量生産が非常に困難であっ
た。

【０００３】安価、かつ大量生産可能な光散乱フイルム
としては、例えば特開平６−１８７０６号公報、特開平
１０−２０１０３号公報等に開示されるように、透明基
材フイルムの表面に、二酸化ケイ素（シリカ）等のフィ
ラーを含む樹脂を塗工して形成したもの、特開平１１−
１６０５０５号公報、特開平１１−３０５０１０号公
報、特開平１１−３２６６０８号公報、特開２０００−
１２１８０９号公報、特開２０００−１８０６１１号公
報、および特開２０００−３３８３１０号公報が挙げら
れる。しかしながら、これら明細書に記載の光散乱フイ
ルムを用いても、表示品位の向上は微々たるものであっ
た。

【０００４】さらに、光散乱手段でとして用いる微粒子
（二酸化ケイ素等のフィラー）と透明基材フイルムとの
接着にも問題があった。例えば、ユーザーが液晶表示面
の汚れを拭き取る際に、微粒子を含む光拡散層と透明基
材フイルムとが剥離する場合もあった。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、耐久
性が改善された光散乱フイルムを提供することにある。
また、本発明の目的は、液晶パネルの厚みを厚くするこ
となく、視野角（特に下方向視野角）が拡大し、そして
視角変化による、コントラスト低下、階調または黒白反
転、および色相変化等がほとんど発生することのなく、
さらに耐久性が向上した偏光板、およびそれを用いた液
晶表示装置を提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、下記
（１）〜（４）の光散乱フイルム、下記（５）、（６）
の光散乱フイルムの製造方法、下記（７）〜（９）の偏
光版、および下記（１０）の液晶表示装置により達成さ
れた。 （１）透明基材上に光散乱層を有する光散乱フイルムで
あって、光散乱層が透光性樹脂と透光性微粒子とからな
り、光散乱層が２．０乃至６．０μｍの厚さを有し、そ
して、透光性樹脂が透明基材の表面から０．０１乃至１
μｍの深さまでしみ込んでいることを特徴とする光散乱
フイルム。 （２）光散乱層が０．０５μｍ乃至０．１８μｍの表面
粗さを有する（１）に記載の光散乱フイルム。 （３）光散乱層が４０％以上のヘイズ値を有する（１）
又は（２）に記載の光散乱フイルム。 （４）光散乱層の上に低屈折率層が設けられている
（１）乃至（３）のいずれか一つに記載の光散乱フイル
ム。

【０００７】（５）透光性樹脂と透光性微粒子とを、透
明基材が溶解する溶剤と透明基材が溶解しない溶剤とを
含む混合溶媒中に、溶解または分散して塗布液を調製す
る工程、塗布液を透明基材上に塗布する工程、そして、
乾燥することにより光散乱層を形成する工程からなる光
散乱フイルムの製造方法であって、光散乱層が２．０乃
至６．０μｍの厚さを有し、透光性樹脂が透明基材の表
面から０．０１乃至１μｍの深さまでしみ込んでいるこ
とを特徴とする光散乱フイルムの製造方法。 （６）透明基材がセルロースアセテートフィルムであ
り、透明基材が溶解する溶剤がケトンである（５）に記
載の光散乱フィルムの製造方法。

【０００８】（７）偏光膜の両面を二枚の保護フイルム
で挟持した偏光板であって、一方の保護フイルムが、
（１）乃至（４）のいずれか一つに記載の光散乱フイル
ムである偏光板。 （８）上記（１）乃至（４）のいずれか一つに記載のに
記載の光散乱フイルム、偏光膜、透明支持体、そして液
晶性化合物から成る光学異方性層をこの順に有する偏光
板。 （９）液晶性化合物がディスコティック化合物である
（８）に記載の偏光板。 （１０）液晶セルの両面を二枚の偏光板で挟持した液晶
表示装置であって、表示面側の偏光板が、（７）乃至
（９）のいずれか一つに記載の偏光板である液晶表示装
置。

【０００９】

【発明の実施の形態】本発明者は、透光性樹脂を透明基
材の表面から０．０１乃至１μｍの深さまでしみ込ませ
ることにより、非常に耐久性の高い光散乱フイルムを得
ることに成功した。

【００１０】バックライトから出射された光は、視認側
の偏光板表面に設置された光散乱フイルムで拡散されれ
ばされるほど視野角特性が良くなる。しかし、あまり拡
散されすぎると、後方散乱が大きくなり、正面輝度が減
少する、あるいは、散乱が大きすぎて画像鮮明性が劣化
する等の問題が生じる。従って、内部散乱ヘイズとし
て、３０％乃至８０％が好ましく、３５％乃至７０％が
最も好ましい。内部散乱ヘイズを上昇させる方法として
は、粒径が０．５μｍ乃至２．０μｍである粒子濃度を
上げる、もしくは膜厚を厚くする、さらには該粒子の屈
折率を上げるなどの方法がある。これとは別に、視認性
の観点から表面凹凸により表面ヘイズを設けることも必
要であり、該内部散乱ヘイズと表面ヘイズが存在する状
態で、ヘイズ値として４０％以上であることで視野角改
良効果が発揮され、４０％乃至９０％が好ましく、４５
％乃至８０％が更に好ましく、４８％乃至７０％が最も
好ましい。

【００１１】防眩性、すなわち外光の写り込みは、表面
粗さと相関があり、該粗さの上昇とともに写り込みは小
さくなるとの見識が一般であったが、本発明者の鋭意研
究により、表面凹凸の表面からの角度分布の平均値、あ
るいはピーク角度との間に相関のある事がわかった。す
なわち、表面粗さが小さくても、外光の写り込みが防止
出来るのである。従来、表面を粗すと、外光の写り込み
は良くなるが、その代わりに画像の呆けが生じる、ある
いは像全体が白っぽくなる等の弊害があった。本発明の
光散乱フイルム、あるいは偏光板を用いる事で、このト
レードオフの問題が解決できるのである。

【００１２】高い表示品位（画像の呆け、白っぽさが生
じない）を保ったまま、外光の写り込みを防止するに
は、光散乱層の凹凸の表面からの角度分布の平均値が
１．５°乃至５°である事が好ましく、２°乃至４．５
°である事が更に好ましい。また、該光散乱層の凹凸の
表面からの角度分布のピーク値が０．４°乃至１．４°
以下である事が好ましく、０．５°乃至１．２°である
事がさらに好ましい。さらに、 該光散乱層の表面粗さ
は、０．０５μｍ乃至０．１８μｍである事が好まし
く、更に好ましくは、０．１６μｍ以下であり、０．１
４μｍ以下が最も好ましい。表面凹凸の表面からの角度
分布は、作製した光散乱フイルムについて、Ｓｕｒｆａ
ｃｅ Ｅｘｐｌｏｒｅ ＳＸ−５２０ システム（菱化
システム（株）製、干渉顕微鏡（ニコン製 ＭＭ−４０
／６０シリーズ 対物レンズ：二光束干渉対物レンズ、
ハロゲンランプ使用、ＣＣＤカメラ：６４０×４８
０））のマイクロマップソフトを用いて測定した値であ
る。

【００１３】光散乱層の表面粗さは、同光散乱層の粒子
の大きさ、量、および透光性樹脂（バインダー）比率
（同光散乱層の厚み）により制御することが出来る。粒
径に二つ以上のピークがある場合は、粒径の大きな方の
ピークの大きさに対応する。粒子の大きさ（ｄｐ）と層
厚（ｄｂ）の関係は、ｄｐ−１．０μｍ≦ｄｂ≦ｄｐ＋
１．５μｍが好ましく、ｄｐ−０．５μｍ≦ｄｂ≦ｄｐ
＋１．０μｍが更に好ましい。粒子の濃度は、バインダ
ーに対し、１質量％乃至１５質量％であることが好まし
く、３質量％乃至１２質量％である事が更に好ましい。
粒径の製造上、実用的な範囲としては、２．０μｍ乃至
５．５μｍが好ましく、２．５μｍ乃至５．０μｍが好
ましい。バインダー比率を大きくすることで光散乱層上
に粒子が突出しにくくなり、表面粗さを小さくする事が
出来る。バインダー比率を大きくする方法としては、塗
布液中のバインダー比率を大きくする方法、およびを塗
布する際の塗布液の溶剤組成、および乾燥条件により、
透明基材へのバインダ−のしみ込み量を制御する事で実
現出来る。表面粗さを小さくするという観点からは、塗
布層が十分にレベリング（平滑化）出来るように乾燥を
遅くし、さらに溶剤組成は透明基材にしみ込みにくく
（溶解しない）するのが好ましい。但し、透明基材と光
散乱層との密着の観点からは、ある程度透明基材にしみ
込む（溶解する）溶剤と混合して用いる事が必要であ
る。

【００１４】具体的には、溶剤乾燥までの温度を２０℃
乃至４０℃とし、溶剤組成として最も好ましい組み合わ
せは、透明基材フイルムを溶解する溶剤（Ａ）として、
乾燥の比較的早いメチルエチルケトンを選択し、透明基
材フイルムを溶解しない溶剤（Ｂ）として、同じケトン
系溶剤であるメチルイソブチルケトンを選択する事が好
ましい。さらに、各々の総量の質量割合（Ａ／Ｂ）は、
５／９５乃至３０／７０が好ましく、８／８２乃至２５
乃至７５がさらに好ましい。

【００１５】本発明の光散乱フイルムの好ましい態様
は、トリアセチルセルロース透明支持体上に、少なくと
も一層の光散乱層が設けられ、さらにその上に少なくと
も１層の低屈折率層が設けられる。

【００１６】以下、このような本発明の光散乱フイルム
の基本的な構成を図面を引用しながら説明する。図１に
示す態様は本発明の光散乱フイルムの一例であり、光散
乱フイルム１は、トリアセチルセルロースからなる透明
支持体２、光散乱層３、そして低屈折率層４の順序の層
構成を有する。光散乱層３には、マット粒子５が分散し
ている。光散乱層３は複数の層から成ってもよい。

【００１７】光散乱層の透光性樹脂の屈折率は、好まし
くは１．５１〜２．００であり、低屈折率層の屈折率
は、好ましくは１．３５〜１．４５である。透明支持体
として好ましく用いられるトリアセチルセルロースの屈
折率は１．４８である。このように光散乱層の屈折率を
高くすることで、低屈折率層の屈折率を１．３５〜１．
４５の範囲でも反射防止効果に優れる。従って光り散乱
層の屈折率が小さすぎると反射防止性が低下し、大きす
ぎると、反射光の色味が強くなり、好ましくない。

【００１８】＜光散乱層＞光散乱層は、上記マット粒子
と透光性樹脂から成る。これにより上述のようにヘイズ
値が４０％以上にする。上記透光性樹脂は、屈折率が高
いほど、後述の反射防止層との組み合わせで低反射率が
実現出来るため、たとえばジルコニア分散ＤＰＨＡモノ
マーからなる樹脂（平均屈折率１．６２）を用いること
が好ましい。上記マット粒子は、透光性微粒子であるこ
とが好ましく、本発明に適した効果を得るためには、２
種類以上の粒径の透光性微粒子を用いることが好まし
い。この場合、第１の透光性微粒子１は、透光性樹脂、
例えばポリメチルメタクリレート微粒子（平均粒子径
１．５μｍ、屈折率１．４９）から構成され、第２の透
光性微粒子２は、透光性樹脂、同じくポリメチルメタク
リレート微粒子（平均粒子径３．０μｍ、屈折率１．４
９）から構成されている。

【００１９】透光性微粒子１及び２と光散乱層全体を構
成する透光性樹脂との屈折率の差がいずれも０．０２以
上、０．１５以下である事が好ましい。屈折率差が０．
０２未満の場合は、両者の屈折率の差が小さすぎて、光
拡散効果を得られず、又、屈折率差が０．１５よりも大
きい場合は、光拡散性が高すぎて、フイルム全体が白化
してしまうからである。なお、前記屈折率差は、０．０
３以上、０．１３以下がより好ましく、０．０４以上、
０．１０以下が最も良い。また、前記透光性微粒子１の
粒子径が０．５μｍ乃至２．０μｍであることが好まし
い。そうしたのは、本発明に適した光散乱の角度分布を
得るためである。

【００２０】本発明では、表示品位を上げる（下方向視
野角改善）ために、ある程度入射した光を拡散させる事
が必要であり、この拡散効果が大きければ大きい程、視
角特性は向上する。しかし、表示品位という点で正面の
明るさを維持するためには、出来る限り透過率を高める
ことが必要である。前記粒子径を０．５μｍ以下とした
場合、散乱の効果が大きく、視角特性は飛躍的に向上す
るが、後方散乱が大きくなり明るさの減少が激しい。一
方、２．０μｍ以上とした場合は、散乱効果が小さいく
なり、視角特性の向上は小さくなる。従って、前記粒子
径は、０．６μｍ乃至１．８μｍが好ましく、０．７μ
ｍ乃至１．７μｍが最も好ましい。

【００２１】また、前記透光性微粒子２の粒子径は前述
のように、２．５μｍ乃至５．０μｍであることが最も
好ましい。そうしたのは、本発明に適した表面散乱を得
るためである。

【００２２】前記透光性微粒子において、２種類以上の
粒子径の異なる透光性微粒子を用い、それら透光性微粒
子の混合を行なうことにより、表示品位に関わる視角特
性と外光の写り込みを各々独自に最適化することがで
き、透光性微粒子の混合比により細かい設定が可能とな
り、１種類の場合よりも制御が可能となり、様々な設計
が容易となる。

【００２３】前記透光性微粒子１および２は、単分散の
有機微粒子であっても、無機微粒子であってもよい。粒
径にばらつきがないほど、散乱特性にばらつきが少なく
なり、曇価の設計が容易となる。前記透光性微粒子とし
ては、プラスチックビーズが好適であり、特に透明度が
高く、透光性樹脂との屈折率差が前述のような数値にな
るものが好ましい。プラスチックビーズとしては、ポリ
メチルメタクリレートビーズ（屈折率１．４９）、アク
リル−スチレン共重合体ビーズ（屈折率１．５５）、メ
ラミンビーズ（屈折率１．５７）、ポリカーボネートビ
ーズ（屈折率１．５７）、スチレンビーズ（屈折率１．
６０）、架橋ポリスチレンビーズ（屈折率１．６１）、
ポリ塩化ビニルビーズ（屈折率１．６０）、ベンゾグア
ナミン−メラミンホルムアルデヒドビーズ（屈折率１．
６８）等が用いられる。

【００２４】プラスチックビーズの粒径は、前述のよう
に０．５〜５μｍのものを適宜選択して用いるとよく、
透光性樹脂１００質量部に対して５〜８０質量部含有さ
せることが好ましく、１５〜７０質量部含有させること
がさらに好ましく、３０〜６０質量部含有させることが
最も好ましい。

【００２５】上記のような透光性微粒子の場合には、樹
脂組成物（透光性樹脂）中で透光性微粒子が沈降し易い
ので、沈降防止のためにシリカ等の無機フィラーを添加
してもよい。なお、無機フィラーは添加量が増す程、透
光性微粒子の沈降防止に有効であるが、塗膜の透明性に
悪影響を与える。従って、好ましくは、粒径０．５μｍ
以下の無機フィラーを、透光性樹脂に対して塗膜の透明
性を損なわない程度に、０．１質量％未満程度含有させ
るとよい。

【００２６】透光性樹脂としては、主として紫外線・電
子線によって硬化する樹脂、即ち、電離放射線硬化型樹
脂、電離放射線硬化型樹脂に熱可塑性樹脂と溶剤を混合
したもの、熱硬化型樹脂の３種類が使用される。又、光
散乱層の厚さは通常０．５μｍ〜５０μｍ程度とし、好
ましくは１μｍ〜２０μｍ、さらに好ましくは２μｍ〜
１０μｍ、最も好ましくは３μｍ乃至７μｍとすると良
い。該透光性樹脂の屈折率は、好ましくは１．５１〜
２．００であり、より好ましくは１．５３〜１．９５で
あり、更に好ましくは１．５７〜１．９０であり、特に
好ましくは１．６４〜１．８０である。なお、透光性樹
脂の屈折率は、透光性微粒子を含まずに測定した値であ
る。屈折率が小さすぎると反射防止性が低下する。さら
に、これが大きすぎると、反射光の色味が強くなり、好
ましくない。

【００２７】該透光性樹脂に用いるバインダーは、飽和
炭化水素またはポリエーテルを主鎖として有するポリマ
ーであることが好ましく、飽和炭化水素を主鎖として有
するポリマーであることがさらに好ましい。また、バイ
ンダーは架橋していることが好ましい。飽和炭化水素を
主鎖として有するポリマーは、エチレン性不飽和モノマ
ーの重合反応により得ることが好ましい。架橋している
バインダーを得るためには、二個以上のエチレン性不飽
和基を有するモノマーを用いることが好ましい。

【００２８】二個以上のエチレン性不飽和基を有するモ
ノマーの例には、多価アルコールと（メタ）アクリル酸
とのエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アク
リレート、１，４−ジクロヘキサンジアクリレート、ペ
ンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペ
ンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメ
チロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチ
ロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリ
スリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリ
スリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリ
スリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，３，５−
シクロヘキサントリオールトリメタクリレート、ポリウ
レタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレー
ト）、ビニルベンゼンの誘導体（例、１，４−ジビニル
ベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチ
ルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビ
ニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミ
ド（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリ
ルアミドが含まれる。これらのなかでも、少なくとも３
つの官能基を有するアクリレートもしくはメタアクリレ
ートモノマー、さらには少なくとも５つの官能基を有す
るアクリレートモノマーが、膜硬度、即ち耐傷性の観点
で好ましい。ジペンタエリスリトールペンタアクリレー
トとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合
物が市販されており、特に好ましく用いられる。

【００２９】これらのエチレン性不飽和基を有するモノ
マーは、各種の重合開始剤その他添加剤と共に溶剤に溶
解、塗布、乾燥後、電離放射線または熱による重合反応
により硬化することができる。

【００３０】二個以上のエチレン性不飽和基を有するモ
ノマーの代わりまたはそれに加えて、架橋性基の反応に
より、架橋構造をバインダーに導入してもよい。架橋性
官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジ
リジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル
基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基およ
び活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無
水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル
化メチロール、エステルおよびウレタン、テトラメトキ
シシランのような金属アルコキシドも、架橋構造を導入
するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシ
アナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示
す官能基を用いてもよい。すなわち、本発明において架
橋性官能基は、すぐには反応を示すものではなくとも、
分解した結果反応性を示すものであってもよい。これら
架橋性官能基を有するバインダーは塗布後、加熱するこ
とによって架橋構造を形成することができる。

【００３１】透光性樹脂は、上記バインダポリマーに加
えて、これに高屈折率を有するモノマーおよび／または
高屈折率を有する金属酸化物超微粒子等から形成される
ことが好ましい。高屈折率モノマーの例には、ビス（４
−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニルナ
フタレン、ビニルフェニルスルフィド、４−メタクリロ
キシフェニル−４‘−メトキシフェニルチオエーテル等
が含まれる。高屈折率を有する金属酸化物超微粒子の例
には、ジルコニウム、チタン、アルミニウム、インジウ
ム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくと
も一つの酸化物からなる粒径１００ｎｍ以下、好ましく
は５０ｎｍ以下の微粒子を含有することが好ましい。高
屈折率を有する金属酸化物超微粒子としてはＡｌ、Ｚ
ｒ、Ｚｎ、Ｔｉ、ＩｎおよびＳｎから選ばれる少なくと
も１種の金属の酸化物超微粒子が好ましく、具体例とし
ては、ＺｒＯ₂、ＴｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｉｎ₂Ｏ₃、Ｚｎ
Ｏ、ＳｎＯ₂、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＩＴＯ等が挙げられる。これ
らの中でも、特にＺｒＯ₂が好ましく用いられる。高屈
折率のモノマーや金属酸化物超微粒子の添加量は、透光
性樹脂の全質量の１０〜９０質量％であることが好まし
く、２０〜８０質量％であると更に好ましい。

【００３２】透光性樹脂と透明基材フイルムが接する場
合、透光性樹脂を形成するための塗布液の溶剤は、防眩
性の発現および支持体と防眩層間との密着性の両立を図
るために、透明基材フイルム（例えばトリアセチルセル
ロース支持体）を溶解する少なくとも一種類以上の溶剤
と、透明基材フイルムを溶解しない少なくとも一種類以
上の溶剤から構成する。より好ましくは、透明基材フイ
ルムを溶解しない溶剤のうちのすくなくとも一種類が、
透明基材フイルムを溶解する溶剤うちの少なくとも一種
類よりも高沸点であることが好ましい。さらに好ましく
は、透明基材フイルムを溶解しない溶剤のうち最も沸点
の高い溶剤と、透明基材フイルムを溶解する溶剤のう
ち、最も沸点の高い溶剤との沸点温度差が３０℃以上で
あることであり、最も好ましくは５０℃以上であること
である。

【００３３】透明基材フイルム（好ましくはトリアセチ
ルセルロース）を溶解する溶剤として、炭素子数が３〜
１２のエーテル類：具体的には、ジブチルエーテル、ジ
メトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタ
ン、プロピレンオキシド、１,４−ジオキサン、１，３
−ジオキソラン、１,３,５−トリオキサン、テトラヒド
ロフラン、アニソールおよびフェネトール等、炭素数が
３〜１２のケトン類：具体的には、アセトン、メチルエ
チルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイ
ソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノ
ン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキ
サノン等、炭素数が３〜１２のエステル類：具体的に
は、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢
酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオ
ン醸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラク
トン等、

【００３４】２種類以上の官能基を有する有機溶媒：具
体的には、２−メトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸
メチル、２−エトキシ酢酸エチル、２−エトキシプロピ
オン酸エチル、２−メトキシエタノール、２−プロポキ
シエタノール、２−ブトキシエタノール、１，２−ジア
セトキシアセトン、アセチルアセトン、ジアセトンアル
コール、アセト酢酸メチル、およびアセト酢酸エチル等
が挙げられる。これらは１種単独であるいは２種以上を
組み合わせて用いることができる。透明基材を溶解する
溶剤としてはケトン系溶剤が好ましい。

【００３５】透明基材フイルム（好ましくはトリアセチ
ルセルロース）を溶解しない溶剤として、メタノール、
エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１
−ブタノール、２−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノー
ル、１−ペンタノール、２−メチル−２−ブタノール、
シクロヘキサノール、酢酸イソブチル、メチルイソブチ
ルケトン、２−オクタノン、２−ペンタノン、２−ヘキ
サノン、２−ヘプタノン、３−ペンタノン、３−ヘプタ
ノン、４−ヘプタノンが挙げられる。これらは１種単独
であるいは２種以上を組み合わせて用いることができ
る。

【００３６】透明基材フイルムを溶解する溶剤の総量
（Ａ）と透明基材フイルムを溶解しない溶剤の総量
（Ｂ）の質量割合（Ａ／Ｂ）は、１／９９〜５０／５０
が好ましく、より好ましくは２／９８〜４０／６０であ
り、さらに好ましく１５／８５〜３０／７０である。

【００３７】上記のような電離放射線硬化型樹脂組成物
の硬化方法としては、前記電離放射線硬化型樹脂組成物
の通常の硬化方法、即ち、電子線又は紫外線の照射によ
って硬化することができる。

【００３８】例えば、電子線硬化の場合には、コックロ
フワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア
変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各
種電子線加速器から放出される５０〜１０００ＫｅＶ、
好ましくは１００〜３００ＫｅＶのエネルギーを有する
電子線等が使用され、紫外線硬化の場合には超高圧水銀
灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノ
ンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫
外線等が利用できる。

【００３９】[低屈折率層]低屈折率層は、反射防止能付
与する目的で、支持体上に光散乱層を設けた側の最外層
に反射防止層として設けられる。低屈折率層の屈折率
は、上述のとおり好ましくは１．３５〜１．４５であ
る。低屈折率層の屈折率は、下記数式（Ｉ）を満すこと
が好ましい。 （ｍλ／４）×０．７＜ｎ₁ｄ₁＜（ｍλ／４）×１．３ ……数式（Ｉ） 式中、ｍは正の奇数（一般に１）であり、ｎ₁は低屈折
率層の屈折率であり、そして、ｄ₁は低屈折率層の膜厚
（ｎｍ）である。また、λは可視光線の波長であり、４
５０〜６５０（ｎｍ）の範囲の値である。なお、上記数
式（Ｉ）を満たすとは、上記波長の範囲において数式
（Ｉ）を満たすｍ（正の奇数、通常１である）が存在す
ることを意味している。

【００４０】本発明の低屈折率層には、熱硬化性または
電離放射線硬化型の架橋性含フッ素化合物が硬化した含
フッ素樹脂が用いられる。これにより、フッ化マグネシ
ウムやフッ化カルシウムを用いた低屈折率層に比べ、最
外層として用いても耐傷性に優れている。熱硬化性また
は電離放射線硬化型の架橋性含フッ素化合物の屈折率と
しては１．３５以上１．４５以下が好ましい。硬化した
含フッ素樹脂の動摩擦係数は、好ましくは０．０３〜
０．１５、水に対する接触角は好ましくは９０〜１２０
度である。このような架橋性含フッ素化合物としては、
パーフルオロアルキル基含有シラン化合物（例えば（ヘ
プタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラデシル）ト
リエトキシシラン）等の他、含フッ素モノマーと架橋性
基付与のためのモノマーを構成単位とする含フッ素共重
合体が挙げられる。

【００４１】含フッ素モノマー単位の具体例としては、
例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレ
ン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレ
ン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレ
ン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキ
ソール等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ
素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６Ｆ
Ｍ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）
等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等であ
る。

【００４２】架橋性基付与のためのモノマーとしてはグ
リシジルメタクリレートのように分子内にあらかじめ架
橋性官能基を有する（メタ）アクリレートモノマーの
他、カルボキシル基やヒドロキシル基、アミノ基、スル
ホン酸基等を有する（メタ）アクリレートモノマー（例
えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレ
ート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリ
ルアクリレート等）が挙げられる。後者は共重合の後、
架橋構造を導入できることが特開平１０−２５３８８号
公報および特開平１０−１４７７３９号公報により開示
されている。

【００４３】また、低屈折率層には、上記含フッ素モノ
マーと架橋性基付与のためのモノマーとの共重合体だけ
でなく、これにその他のモノマーが共重合したポリマー
を用いてもよい。共重合してもよいその他のモノマーに
は特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレン、プ
ロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン
等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、アク
リル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチ
ルヘキシル）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸
メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エ
チレングリコールジメタクリレート等）、スチレン誘導
体（スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α
−メチルスチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビニ
ルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロ
ピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、アクリルアミド類
（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘ
キシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド類、アク
リロ二トリル誘導体等を挙げることができる。

【００４４】低屈折率層に用いる含フッ素樹脂には、耐
傷性を付与するために、平均粒径が好ましくは０．１μ
ｍ以下、より好ましくは０．００１〜０．０５μｍのＳ
ｉの酸化物超微粒子を添加して用いるのが好ましい。反
射防止性の観点からは屈折率が低いほど好ましいが、含
フッ素樹脂の屈折率を下げていくと耐傷性が悪化する。
そこで、含フッ素樹脂の屈折率とＳｉの酸化物超微粒子
の添加量を最適化することにより、耐傷性と低屈折率の
バランスの最も良い点を見出すことができる。Ｓｉの酸
化物超微粒子としては、市販の有機溶剤に分散されたシ
リカゾルをそのまま塗布液に添加しても、市販の各種シ
リカ紛体を有機溶剤に分散して使用してもよい。

【００４５】本発明の光散乱フイルムは、トリアセチル
セルロース（ＴＡＣ）あるいはポリエチレンテレフタレ
ート（ＰＥＴ）のいずれかに対して常温常湿で測定した
垂直剥離帯電が−２００ｐｃ（ピコクーロン）／ｃｍ²
〜＋２００ｐｃ（ピコクーロン）／ｃｍ²であることが
好ましい。より好ましくは−１００ｐｃ／ｃｍ〜＋１０
０ｐｃ／ｃｍ²であり、さらに好ましくは−５０ｐｃ／
ｃｍ²〜＋５０ｐｃ／ｃｍ²であり、最も好ましくは０ｐ
ｃ／ｃｍ²である。ここで、単位のｐｃ（ピコクーロ
ン）は、１０^-12クーロンである。さらに好ましくは、
常温１０％ＲＨで測定した垂直剥離帯電が−１００ｐｃ
／ｃｍ²〜＋１００ｐｃ／ｃｍ²であり、さらに好ましく
は−５０ｐｃ／ｃｍ²〜＋５０ｐｃ／ｃｍ²であり、最も
好ましくは０ｐｃ／ｃｍ²である。

【００４６】垂直剥離帯電の測定方法は以下の通りであ
る。測定サンプルはあらかじめ測定温度湿度の環境下で
２時間以上放置しておく。測定装置は測定サンプルを置
く台と相手のフイルムを保持して測定サンプルに上から
圧着と剥離を繰り返せるヘッドからなり、このヘッドに
帯電量を測定するエレクトロメーターがつながってい
る。測定する防眩性光散乱フイルムを台に乗せ、ヘッド
にＴＡＣあるいはＰＥＴを装着する。測定部分を除電し
たのち、ヘッドを測定サンプルに圧着させ剥離させるこ
とを繰り返し、１回目の剥離時と５回目の剥離時の帯電
の値を読み、これを平均する。サンプルを変えて３サン
プルでこれを繰り返し、全てを平均したものを垂直剥離
帯電とする。

【００４７】相手フイルムや測定サンプルの種類によっ
てプラスに帯電する場合とマイナスに帯電する場合があ
るが、問題となるのは絶対値の大きさである。また、一
般的に低湿度の環境下の方が帯電の絶対値は大きくな
る。本発明の防眩性光散乱フイルムはこの絶対値も小さ
い。

【００４８】本発明の光散乱フイルムは、常温常湿及び
常温１０％ＲＨでの垂直剥離帯電の絶対値が小さいので
防塵性に優れる。垂直剥離帯電の値を上記の範囲とする
には、光散乱フイルム表面の各種元素の割合を調節する
ことによって行われる。

【００４９】本発明の光散乱フイルムの表面抵抗値は、
１×１０¹¹Ω／□以上、好ましくは１×１０¹²Ω／□以
上である。表面抵抗値の測定方法はＪＩＳに記載されて
いる円電極法である。即ち、電圧印加後、１分後の電流
値を読み、表面抵抗値（ＳＲ）を求める。本発明では、
表面抵抗値を小さくすること、例えば１×１０¹⁰Ω／□
以下にすることで防塵性（ゴミ付着防止性）を良くする
方法とは考え方が根本的に異なる。この方法は画像表示
品位が落ちるため採用せず、本発明では上記した方法で
垂直剥離帯電の絶対値を小さくしているので、表面抵抗
値を小さくする必要がなく、表面抵抗値を１×１０¹¹Ω
／□以上とすることができ画像表示品位が落ちない。

【００５０】本発明の光散乱フイルムは、５度入射にお
ける鏡面反射率の４５０ｎｍから６５０ｎｍまでの波長
領域での平均値が２．５％以下であり、１．２％以下が
好ましく、より好ましくは１．１％以下である。また、
５度入射における積分反射率の４５０ｎｍから６５０ｎ
ｍまでの波長領域での平均値が２．５％以下であること
が好ましく、より好ましくは２．３％以下である。

【００５１】上記５度入射における鏡面反射率、および
５度入射におけるについて説明する。５度入射における
鏡面反射率は、サンプルの法線方向＋５度から入射した
光に対する法線方向−５度で反射した光の強度の割合で
あり、背景の鏡面反射による映り込みの尺度になる。防
眩性光散乱フイルムに適用する場合には、防眩性付与の
ために設けた表面凹凸に起因する散乱光の分だけ、法線
方向−５度で反射した光の強度は弱くなる。従って、鏡
面反射率は防眩性と反射防止性の両方の寄与を反映する
測定法といえる。

【００５２】一方、５度入射における積分反射率とは、
サンプルの法線方向＋５度から入射した光に対する全て
の方向に反射した光の強度の積分値の割合である。光散
乱フイルムに適用する場合には、防眩性による反射光の
減少が起こらないため、反射防止性だけを反映する測定
が可能である。従って、上記の両方の反射率の４５０ｎ
ｍから６５０ｎｍまでの波長領域での平均値をそれぞれ
２．５％以下（鏡面反射率）、２．５％以下（積分反射
率）とすることにより、防眩性と反射防止性を同時に満
足させることが可能になる。

【００５３】光散乱フイルムの５度入射における鏡面反
射率の４５０ｎｍから６５０ｎｍまでの波長領域での平
均値が２．５％を越えると、背景の映り込みが気にな
り、表示装置の表面フイルムに適用したときの視認性が
低下する。一方、光散乱フイルムの５度入射における積
分反射率の４５０ｎｍから６５０ｎｍまでの波長領域で
の平均値が２．５％を越えると、表示装置のコントラス
ト改善効果が少なくなり、防眩性付与のための表面凹凸
起因の散乱光により表示画面が白化し、表示装置の表示
品位が低下する。

【００５４】本発明の光散乱フイルムは、ＣＩＥ標準光
源Ｄ６５の５度入射光に対する正反射光の色味が、ＣＩ
Ｅ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間のＬ＊、ａ＊、ｂ＊値で
定量化したときに、それぞれＬ＊≦１０、０≦ａ＊≦
２、−５≦ｂ＊≦２の範囲内に入るように設計されてい
ることが好ましい。これを満たす正反射光の色味はニュ
ートラルな色味である。ＣＩＥ標準光源Ｄ６５の５度入
射光に対する正反射光の色味は、５度入射における波長
３８０ｎｍから７８０ｎｍの領域における鏡面反射率の
実測値と光源Ｄ６５の各波長における分光分布の積を算
出して得られた分光反射スペクトルから、ＣＩＥ１９７
６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間のＬ＊値、ａ＊値、ｂ＊値をそれ
ぞれ算出することで定量化することができる。Ｌ＊値が
１０より大きいと、反射防止性が十分でない。ａ＊値が
２より大きいと反射光の赤むらさき色が強く、０未満で
は逆に緑色が強くなり好ましくない。また、ｂ＊値が−
５未満では青味が強く、２より大きいと黄色が強くなり
好ましくない。

【００５５】このようなニュートラルな色味の反射光を
有し、且つ低反射率を有する光散乱フイルムは、低屈折
率層の屈折率と防眩層のバインダ素材の屈折率のバラン
スを最適化することで得られる。一般に３層以上の蒸
着、スパッタ等による光学薄膜による反射防止膜は、鏡
面反射率の平均値を０．３％以下まで低減でき、従って
Ｌ＊値も３以下にまで低減できるが、ａ＊値が１０以
上、ｂ＊値が−１０未満の値となり、反射光の色味が非
常に強いものとなっていたが、本発明の防眩性光散乱フ
イルムではこの反射光の色味の点で大幅に改善されてい
る。

【００５６】＜透明基材＞透明基材の素材としては、透
明樹脂フイルム、透明樹脂板、透明樹脂シートや透明ガ
ラスがある。透明樹脂フイルムとしては、トリアセチル
セルロース（ＴＡＣ）フイルム（屈折率１．４８）、ポ
リエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フイルム、ジアセ
チレンセルロースフイルム、アセテートブチレートセル
ロースフイルム、ポリエーテルサルホンフイルム、ポリ
アクリル系樹脂フイルム、ポリウレタン系樹脂フイル
ム、ポリエステルフイルム、ポリカーボネートフイル
ム、ポリスルホンフイルム、ポリエーテルフイルム、ポ
リメチルペンテンフイルム、ポリエーテルケトンフイル
ム、（メタ）アクリルニトリルフイルム等が使用でき
る。又、厚さは通常２５μｍ〜１０００μｍ程度とす
る。本発明の透明基材としては、偏光板の最表面に用い
るため、偏光板の保護フイルムとして一般に用いられて
いるセルロースアセテートフイルムを使用する事が好ま
しい。以降、透明性が高く、表面が平滑で本発明の光散
乱フイルムの透明基材フイルムに特に好ましく使用出来
るセルロースアセテートフイルムに関し、説明する。

【００５７】＜高透明度、高平滑セルロースアセテート
フイルム＞本発明では、酢化度が５９．０乃至６１．５
％であるセルロースアセテートを使用することが好まし
い。酢化度とは、セルロース単位質量当たりの結合酢酸
量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１
（セルロースアセテート等の試験法）におけるアセチル
化度の測定および計算に従う。セルロースエステルの粘
度平均重合度（ＤＰ）は、２５０以上であることが好ま
しく、２９０以上であることがさらに好ましい。また、
本発明に使用するセルロースエステルは、ゲルパーミエ
ーションクロマトグラフィーによるＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは
質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の分子量分布が
狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値として
は、１．０乃至１．７であることが好ましく、１．３乃
至１．６５であることがさらに好ましく、１．４乃至
１．６であることが最も好ましい。

【００５８】一般に、セルロースアシレートの２，３，
６の水酸基は全体の置換度の１／３づつに均等に分配さ
れるわけではなく、６位水酸基の置換度が小さくなる傾
向がある。本発明ではセルロースアシレートの６位水酸
基の置換度が、２，３位に比べて多いほうが好ましい。
全体の置換度に対して６位の水酸基が３２％以上アシル
基で置換されていることが好ましく、更には３３％以
上、特に３４％以上であることが好ましい。さらにセル
ロースアシレートの６位アシル基の置換度が０．８８以
上であることが好ましい。６位水酸基は、アセチル基以
外に炭素数３以上のアシル基であるプロピオニル基、ブ
チロイル基、バレロイル基、ベンゾイル基、アクリロイ
ル基などで置換されていてもよい。各位置の置換度の測
定は、ＮＭＲによって求める事ができる。本発明のセル
ロースアシレートとして、特開平１１−５８５１記載の
「００４３」〜「００４４」「実施例」［合成例１］、
「００４８」〜「００４９」［合成例２］、「００５
１」〜「００５２」［合成例３］の方法で得られたセル
ロースアセテートを用いることができる。

【００５９】［セルロースアセテートフイルムの製造］
ソルベントキャスト法によりセルロースアセテートフイ
ルムを製造することが好ましい。ソルベントキャスト法
では、セルロースアセテートを有機溶媒に溶解した溶液
（ドープ）を用いてフイルムを製造する。有機溶媒は、
炭素原子数が３乃至１２のエーテル、炭素原子数が３乃
至１２のケトン、炭素原子数が３乃至１２のエステルお
よび炭素原子数が１乃至６のハロゲン化炭化水素から選
ばれる溶媒を含むことが好ましい。エーテル、ケトンお
よびエステルは、環状構造を有していてもよい。エーテ
ル、ケトンおよびエステルの官能基（すなわち、−Ｏ
−、−ＣＯ−および−ＣＯＯ−）のいずれかを二つ以上
有する化合物も、有機溶媒として用いることができる。
有機溶媒は、アルコール性水酸基のような他の官能基を
有していてもよい。二種類以上の官能基を有する有機溶
媒の場合、その炭素原子数は、いずれかの官能基を有す
る化合物の規定範囲内であればよい。

【００６０】炭素原子数が３乃至１２のエーテル類の例
には、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジ
メトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキ
ソラン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネ
トールが含まれる。炭素原子数が３乃至１２のケトン類
の例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケ
トン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノンおよびメ
チルシクロヘキサノンが含まれる。炭素原子数が３乃至
１２のエステル類の例には、エチルホルメート、プロピ
ルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテー
ト、エチルアセテートおよびペンチルアセテートが含ま
れる。

【００６１】二種類以上の官能基を有する有機溶媒の例
には、２−エトキシエチルアセテート、２−メトキシエ
タノールおよび２−ブトキシエタノールが含まれる。ハ
ロゲン化炭化水素の炭素原子数は、１または２であるこ
とが好ましく、１であることが最も好ましい。ハロゲン
化炭化水素のハロゲンは、塩素であることが好ましい。
ハロゲン化炭化水素の水素原子が、ハロゲンに置換され
ている割合は、２５乃至７５モル％であることが好まし
く、３０乃至７０モル％であることがより好ましく、３
５乃至６５モル％であることがさらに好ましく、４０乃
至６０モル％であることが最も好ましい。メチレンクロ
リドが、代表的なハロゲン化炭化水素である。二種類以
上の有機溶媒を混合して用いてもよい。

【００６２】一般的な方法でセルロースアセテート溶液
を調製できる。一般的な方法とは、０℃以上の温度（常
温または高温）で、処理することを意味する。溶液の調
製は、通常のソルベントキャスト法におけるドープの調
製方法および装置を用いて実施することができる。な
お、一般的な方法の場合は、有機溶媒としてハロゲン化
炭化水素（特にメチレンクロリド）を用いることが好ま
しい。非塩素系溶媒を用いることもでき、それについて
は公開技報２００１−１７４５に記載されているものが
あげられる。セルロースアセテートの量は、得られる溶
液中に１０乃至４０質量％含まれるように調整する。セ
ルロースアセテートの量は、１０乃至３０質量％である
ことがさらに好ましい。有機溶媒（主溶媒）中には、後
述する任意の添加剤を添加しておいてもよい。溶液は、
常温（０乃至４０℃）でセルロースアセテートと有機溶
媒とを攪拌することにより調製することができる。高濃
度の溶液は、加圧および加熱条件下で攪拌してもよい。
具体的には、セルロースアセテートと有機溶媒とを加圧
容器に入れて密閉し、加圧下で溶媒の常温における沸点
以上、かつ溶媒が沸騰しない範囲の温度に加熱しながら
攪拌する。加熱温度は、通常は４０℃以上であり、好ま
しくは６０乃至２００℃であり、さらに好ましくは８０
乃至１１０℃である。

【００６３】各成分は予め粗混合してから容器に入れて
もよい。また、順次容器に投入してもよい。容器は攪拌
できるように構成されている必要がある。窒素ガス等の
不活性気体を注入して容器を加圧することができる。ま
た、加熱による溶媒の蒸気圧の上昇を利用してもよい。
あるいは、容器を密閉後、各成分を圧力下で添加しても
よい。加熱する場合、容器の外部より加熱することが好
ましい。例えば、ジャケットタイプの加熱装置を用いる
ことができる。また、容器の外部にプレートヒーターを
設け、配管して液体を循環させることにより容器全体を
加熱することもできる。容器内部に攪拌翼を設けて、こ
れを用いて攪拌することが好ましい。攪拌翼は、容器の
壁付近に達する長さのものが好ましい。攪拌翼の末端に
は、容器の壁の液膜を更新するため、掻取翼を設けるこ
とが好ましい。容器には、圧力計、温度計等の計器類を
設置してもよい。容器内で各成分を溶剤中に溶解する。
調製したドープは冷却後容器から取り出すか、あるい
は、取り出した後、熱交換器等を用いて冷却する。

【００６４】冷却溶解法により、溶液を調製することも
できる。冷却溶解法では、通常の溶解方法では溶解させ
ることが困難な有機溶媒中にもセルロースアセテートを
溶解させることができる。なお、通常の溶解方法でセル
ロースアセテートを溶解できる溶媒であっても、冷却溶
解法によると迅速に均一な溶液が得られるとの効果があ
る。冷却溶解法では最初に、室温で有機溶媒中にセルロ
ースアセテートを撹拌しながら徐々に添加する。セルロ
ースアセテートの量は、この混合物中に１０乃至４０質
量％含まれるように調整することが好ましい。セルロー
スアセテートの量は、１０乃至３０質量％であることが
さらに好ましい。さらに、混合物中には後述する任意の
添加剤を添加しておいてもよい。

【００６５】次に、混合物を−１００乃至−１０℃（好
ましくは−８０乃至−１０℃、さらに好ましくは−５０
乃至−２０℃、最も好ましくは−５０乃至−３０℃）に
冷却する。冷却は、例えば、ドライアイス・メタノール
浴（−７５℃）や冷却したジエチレングリコール溶液
（−３０乃至−２０℃）中で実施できる。このように冷
却すると、セルロースアセテートと有機溶媒の混合物は
固化する。冷却速度は、４℃／分以上であることが好ま
しく、８℃／分以上であることがさらに好ましく、１２
℃／分以上であることが最も好ましい。冷却速度は、速
いほど好ましいが、１００００℃／秒が理論的な上限で
あり、１０００℃／秒が技術的な上限であり、そして１
００℃／秒が実用的な上限である。なお、冷却速度は、
冷却を開始する時の温度と最終的な冷却温度との差を、
冷却を開始してから最終的な冷却温度に達するまでの時
間で割った値である。

【００６６】さらに、これを０乃至２００℃（好ましく
は０乃至１５０℃、さらに好ましくは０乃至１２０℃、
最も好ましくは０乃至５０℃）に加温すると、有機溶媒
中にセルロースアセテートが溶解する。昇温は、室温中
に放置するだけでもよし、温浴中で加温してもよい。加
温速度は、４℃／分以上であることが好ましく、８℃／
分以上であることがさらに好ましく、１２℃／分以上で
あることが最も好ましい。加温速度は、速いほど好まし
いが、１００００℃／秒が理論的な上限であり、１００
０℃／秒が技術的な上限であり、そして１００℃／秒が
実用的な上限である。なお、加温速度は、加温を開始す
る時の温度と最終的な加温温度との差を加温を開始して
から最終的な加温温度に達するまでの時間で割った値で
ある。以上のようにして、均一な溶液が得られる。な
お、溶解が不充分である場合は冷却、加温の操作を繰り
返してもよい。溶解が充分であるかどうかは、目視によ
り溶液の外観を観察するだけで判断することができる。

【００６７】冷却溶解法においては、冷却時の結露によ
る水分混入を避けるため、密閉容器を用いることが望ま
しい。また、冷却加温操作において、冷却時に加圧し、
加温時の減圧すると、溶解時間を短縮することができ
る。加圧および減圧を実施するためには、耐圧性容器を
用いることが望ましい。なお、セルロースアセテート
（酢化度：６０．９％、粘度平均重合度：２９９）を冷
却溶解法によりメチルアセテート中に溶解した２０質量
％の溶液は、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）によると、３
３℃近傍にゾル状態とゲル状態との疑似相転移点が存在
し、この温度以下では均一なゲル状態となる。従って、
この溶液は疑似相転移温度以上、好ましくはゲル相転移
温度プラス１０℃程度の温度で保する必要がある。ただ
し、この疑似相転移温度は、セルロースアセテートの酢
化度、粘度平均重合度、溶液濃度や使用する有機溶媒に
より異なる。

【００６８】調製したセルロースアセテート溶液（ドー
プ）から、ソルベントキャスト法によりセルロースアセ
テートフイルムを製造する。ドープは、ドラムまたはバ
ンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフイルムを形成す
る。流延前のドープは、固形分量が１８乃至３５％とな
るように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたは
バンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好まし
い。ソルベントキャスト法における流延および乾燥方法
については、米国特許２３３６３１０号、同２３６７６
０３号、同２４９２０７８号、同２４９２９７７号、同
２４９２９７８号、同２６０７７０４号、同２７３９０
６９号、同２７３９０７０号、英国特許６４０７３１
号、同７３６８９２号の各明細書、特公昭４５−４５５
４号、同４９−５６１４号、特開昭６０−１７６８３４
号、同６０−２０３４３０号、同６２−１１５０３５号
の各公報に記載がある。ドープは、表面温度が１０℃以
下のドラムまたはバンド上に流延することが好ましい。
流延してから２秒以上風に当てて乾燥することが好まし
い。得られたフイルムをドラムまたはバンドから剥ぎ取
り、さらに１００から１６０℃まで逐次温度を変えた高
温風で乾燥して残留溶剤を蒸発させることもできる。以
上の方法は、特公平５−１７８４４号公報に記載があ
る。この方法によると、流延から剥ぎ取りまでの時間を
短縮することが可能である。この方法を実施するために
は、流延時のドラムまたはバンドの表面温度においてド
ープがゲル化することが必要である。

【００６９】調製したセルロースアシレート溶液（ドー
プ）を用いて２層以上の流延でフイルム化することも出
来る。この場合、ソルベントキャスト法によりセルロー
スアシレートフイルムを作製することが好ましい。ドー
プは、ドラムまたはバンド上に流延し、溶媒を蒸発させ
てフイルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が
１０〜４０％となるように濃度を調整することが好まし
い。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に仕上げて
おくことが好ましい。

【００７０】２層以上の複数のセルロースアシレート液
を流延する場合、複数のセルロースアシレート溶液を流
延することが可能で、支持体の進行方向に間隔を置いて
設けた複数の流延口からセルロースアシレートを含む溶
液をそれぞれ流延させて積層させながらフイルムを作製
してもよく、例えば特開昭６１−１５８４１４号、特開
平１−１２２４１９号、特開平１１−１９８２８５号、
などに記載の方法が適応できる。また、２つの流延口か
らセルロースアシレート溶液を流延することによっても
フイルム化することでもよく、例えば特公昭６０−２７
５６２号、特開昭６１−９４７２４号、特開昭６１−９
４７２４５号、特開昭６１−１０４８１３号、特開昭６
１−１５８４１３号、特開平６−１３４９３３号、に記
載の方法で実施できる。また、特開昭５６−１６２６１
７号に記載の高粘度セルロースアシレート溶液の流れを
低粘度のセルロースアシレート溶液で包み込み、その
高，低粘度のセルロースアシレート溶液を同時に押出す
セルロースアシレートフイルム流延方法でもよい。

【００７１】或いはまた２個の流延口を用いて、第一の
流延口により支持体に成型したフイルムを剥ぎ取り、支
持体面に接していた側に第二の流延を行なうことでよ
り、フイルムを作製することでもよく、例えば特公昭４
４−２０２３５号に記載されている方法である。流延す
るセルロースアシレート溶液は同一の溶液でもよいし、
異なるセルロースアシレート溶液でもよく特に限定され
ない。複数のセルロースアシレート層に機能を持たせる
ために、その機能に応じたセルロースアシレート溶液
を、それぞれの流延口から押出せばよい。さらにセルロ
ースアシレート溶液は、他の機能層（例えば、接着層、
染料層、帯電防止層、アンチハレーション層、ＵＶ吸収
層、偏光膜など）を同時に流延することも実施しうる。

【００７２】単層液では、必要なフイルム厚さにするた
めには高濃度で高粘度のセルロースアシレート溶液を押
出すことが必要であり、その場合セルロースアシレート
溶液の安定性が悪くて固形物が発生し、ブツ故障となっ
たり、平面性が不良であったりして問題となることが多
い。この解決として、複数のセルロースアシレート溶液
を流延口から流延することにより、高粘度の溶液を同時
に支持体上に押出すことができ、平面性も良化し優れた
面状のフイルムが作製できるばかりでなく、濃厚なセル
ロースアシレート溶液を用いることで乾燥負荷の低減化
が達成でき、フイルムの生産スピードを高めることがで
きる。

【００７３】セルロースアセテートフイルムには、機械
的物性を改良するため、または乾燥速度を向上するため
に、可塑剤を添加することができる。可塑剤としては、
リン酸エステルまたはカルボン酸エステルが用いられ
る。リン酸エステルの例には、トリフェニルフォスフェ
ート（ＴＰＰ）およびトリクレジルホスフェート（ＴＣ
Ｐ）が含まれる。カルボン酸エステルとしては、フタル
酸エステルおよびクエン酸エステルが代表的である。フ
タル酸エステルの例には、ジメチルフタレート（ＤＭ
Ｐ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレ
ート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）、ジ
フェニルフタレート（ＤＰＰ）およびジエチルヘキシル
フタレート（ＤＥＨＰ）が含まれる。クエン酸エステル
の例には、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル（ＯＡＣＴ
Ｅ）およびＯ−アセチルクエン酸トリブチル（ＯＡＣＴ
Ｂ）が含まれる。その他のカルボン酸エステルの例に
は、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、
セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが
含まれる。フタル酸エステル系可塑剤（ＤＭＰ、ＤＥ
Ｐ、ＤＢＰ、ＤＯＰ、ＤＰＰ、ＤＥＨＰ）が好ましく用
いられる。ＤＥＰおよびＤＰＰが特に好ましい。可塑剤
の添加量は、セルロースエステルの量の０．１乃至２５
質量％であることが好ましく、１乃至２０質量％である
ことがさらに好ましく、３乃至１５質量％であることが
最も好ましい。

【００７４】セルロースアセテートフイルムには、劣化
防止剤（例、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁
止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン）を添加して
もよい。劣化防止剤については、特開平３−１９９２０
１号、同５−１９０７０７３号、同５−１９４７８９
号、同５−２７１４７１号、同６−１０７８５４号の各
公報に記載がある。劣化防止剤の添加量は、調製する溶
液（ドープ）の０．０１乃至１質量％であることが好ま
しく、０．０１乃至０．２質量％であることがさらに好
ましい。添加量が０．０１質量％未満であると、劣化防
止剤の効果がほとんど認められない。添加量が１質量％
を越えると、フイルム表面への劣化防止剤のブリードア
ウト（滲み出し）が認められる場合がある。特に好まし
い劣化防止剤の例としては、ブチル化ヒドロキシトルエ
ン（ＢＨＴ）、トリベンジルアミン（ＴＢＡ）を挙げる
ことができる。

【００７５】［セルロースアセテートフイルムの表面処
理］セルロースアセテートフイルムは、表面処理を施す
ことが好ましい。具体的方法としては、コロナ放電処
理、グロー放電処理、火炎処理、酸処理、アルカリ処理
または紫外線照射処理が挙げられる。また、特開平７−
３３３４３３号明細書に記載のように、下塗り層を設け
ることも好ましく利用される。フイルムの平面性を保持
する観点から、これら処理においてセルロースアセテー
トフイルムの温度をＴｇ以下、具体的には１５０℃以下
とすることが好ましい。偏光板の透明保護膜として使用
する場合、偏光膜との接着性の観点から、酸処理または
アルカリ処理、すなわちセルロースアセテートに対する
ケン化処理を実施することが特に好ましい。表面エネル
ギーは５５ｍＮ／ｍ以上であることが好ましく、６０ｍ
Ｎ／ｍ以上７５ｍＮ／ｍ以下であることが更に好まし
い。

【００７６】以下、アルカリ鹸化処理を例に、具体的に
説明する。フイルム表面をアルカリ溶液に浸漬した後、
酸性溶液で中和し、水洗して乾燥するサイクルで行われ
ることが好ましい。アルカリ溶液としては、水酸化カリ
ウム溶液、水酸化ナトリウム溶液が挙げられ、水酸化イ
オンの規定濃度は０．１Ｎ乃至３．０Ｎであることが好
ましく、０．５Ｎ乃至２．０Ｎであることがさらに好ま
しい。アルカリ溶液温度は、室温乃至９０℃の範囲が好
ましく、４０℃乃至７０℃がさらに好ましい。生産性の
観点から、アルカリ液を塗布し、鹸化処理後に水洗によ
りフイルム表面よりアルカリ除去する事が好ましい。濡
れ性の観点から、塗布溶媒としてはＩＰＡ、ｎ−ブタノ
ール、メタノール、エタノール等のアルコール類が好ま
しく、アルカリ溶解の助剤として水、プロピレングリコ
ール、エチレングリコール、等を加える事が好ましく用
いられる。固体の表面エネルギーは、「ぬれの基礎と応
用」（リアライズ社 １９８９．１２．１０発行）に記
載のように接触角法、湿潤熱法、および吸着法により求
めることができる。本発明のセルロースアセテートフイ
ルムの場合、接触角法を用いることが好ましい。具体的
には、表面エネルギーが既知である２種の溶液をセルロ
ースアセテートフイルムに滴下し、液滴の表面とフイル
ム表面との交点において、液滴に引いた接線とフイルム
表面のなす角で、液滴を含む方の角を接触角と定義し、
計算によりフイルムの表面エネルギーを算出出来る。

【００７７】＜液晶化合物からなる光学異方性層＞ [液晶性化合物]本発明に用いられる液晶化合物は、棒状
液晶でも、ディスコティック液晶でも良く、またそれら
が高分子液晶、もしくは低分子液晶、さらには、低分子
液晶が架橋され液晶性を示さなくなったものも含む。本
発明の液晶性化合物として最も好ましいのは、ディスコ
ティック液晶である。

【００７８】棒状液晶の好ましい例としては、特開２０
００−３０４９３２号公報に記載のものがあげられる。
本発明のディスコティック液晶の例としては、Ｃ．Ｄｅ
ｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１
巻、１１１頁（１９８１年）に記載されているベンゼン
誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．
Ｃｒｙｓｔ．１２２巻、１４１頁（１９８５年）、Ｐｈ
ｙｓｉｃｓ ｌｅｔｔ，Ａ，７８巻、８２頁（１９９
０）に記載されているトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎ
ｅらの研究報告、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０
頁（１９８４年）に記載されたシクロヘキサン誘導体及
びＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏ
ｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎ
ｇらの研究報告、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６
巻、２６５５頁（１９９４年）に記載されているアザク
ラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルなどを
挙げることができる。上記ディスコティック液晶は、一
般的にこれらを分子中心の母核とし、直鎖のアルキル基
やアルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基等がその直鎖
として放射線状に置換された構造であり、液晶性を示
す。ただし、分子自身が負の一軸性を有し、一定の配向
を付与できるものであれば上記記載に限定されるもので
はない。また、本発明において、円盤状化合物から形成
したとは、最終的にできた物が前記化合物である必要は
なく、例えば、前記低分子ディスコティツク液晶が熱、
光等で反応する基を有しており、結果的に熱、光等で反
応により重合または架橋し、高分子量化し液晶性を失っ
たものも含まれる。上記ディスコティック液晶の好まし
い例は特開平８−５０２０６号公報に記載されている。

【００７９】本発明の光学異方層は、ディスコティック
構造単位を有する化合物からなる負の複屈折を有する層
であって、そしてディスコティック構造単位の面が、透
明支持体面に対して傾き、且つ該ディスコティック構造
単位の面と透明支持体面とのなす角度が、光学異方層の
深さ方向に変化していることが好ましい。

【００８０】上記ディスコティック構造単位の面の角度
（傾斜角）は、一般に、光学異方層の深さ方向でかつ光
学異方層の底面からの距離の増加と共に増加または減少
している。上記傾斜角は、距離の増加と共に増加するこ
とが好ましい。更に、傾斜角の変化としては、連続的増
加、連続的減少、間欠的増加、間欠的減少、連続的増加
と連続的減少を含む変化、及び増加及び減少を含む間欠
的変化等を挙げることができる。間欠的変化は、厚さ方
向の途中で傾斜角が変化しない領域を含んでいる。傾斜
角は、変化しない領域を含んでいても、全体として増加
または減少していることが好ましい。更に、傾斜角は全
体として増加していることが好ましく、特に連続的に変
化することが好ましい。

【００８１】上記光学異方層は、一般にディスコティッ
ク化合物及び他の化合物を溶剤に溶解した溶液を配向膜
上に塗布し、乾燥し、次いでディスコティックネマチッ
ク相形成温度まで加熱し、その後配向状態（ディスコテ
ィックネマチック相）を維持して冷却することにより得
られる。あるいは、上記光学異方層は、ディスコティッ
ク化合物及び他の化合物（更に、例えば重合性モノマ
ー、光重合開始剤）を溶剤に溶解した溶液を配向膜上に
塗布し、乾燥し、次いでディスコティックネマチック相
形成温度まで加熱したのち重合させ（ＵＶ光の照射等に
より）、さらに冷却することにより得られる。本発明に
用いるディスコティック液晶性化合物のディスコティッ
クネマティック液晶相−固相転移温度としては、７０〜
３００℃が好ましく、特に７０〜１７０℃が好ましい。

【００８２】例えば、支持体側のディスコティック単位
の傾斜角は、一般にディスコティック化合物あるいは配
向膜の材料を選択することにより、またはラビング処理
方法の選択することにより、調整することができる。ま
た、表面側（空気側）のディスコティック単位の傾斜角
は、一般にディスコティック化合物あるいはディスコテ
ィック化合物とともに使用する他の化合物（例、可塑
剤、界面活性剤、重合性モノマー及びポリマー）を選択
することにより調整することができる。更に、傾斜角の
変化の程度も上記選択により調整することができる。

【００８３】上記可塑剤、界面活性剤及び重合性モノマ
ーとしては、ディスコティック化合物と相溶性を有し、
液晶性ディスコティック化合物の傾斜角の変化を与えら
れるか、あるいは配向を阻害しない限り、どのような化
合物も使用することができる。これらの中で、重合性モ
ノマー（例、ビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル
基及びメタクリロイル基を有する化合物）が好ましい。
上記化合物は、ディスコティック化合物に対して一般に
１〜５０質量％（好ましくは５〜３０質量％）の量にて
使用される。更に、好ましい重合性モノマーの例として
は、多官能アクリレートが挙げられる。官能基の数は３
官能以上が好ましく、４官能以上が更に好ましい。最も
好ましいのは６官能モノマーである。６官能モノマーの
好ましい例としては、ジペンタエリストリトールヘキサ
アクリレートが挙げられる。また、これら官能基数の異
なる多官能モノマーを混合して使用することも可能であ
る。

【００８４】上記ポリマーとしては、ディスコティック
化合物と相溶性を有し、液晶性ディスコティック化合物
に傾斜角の変化を与えられる限り、どのようなポリマー
でも使用することができる。ポリマー例としては、セル
ロースエステルを挙げることができる。セルロースエス
テルの好ましい例としては、セルロースアセテート、セ
ルロースアセテートプロピオネート、ヒドロキシプロピ
ルセルロース及びセルロースアセテートブチレートを挙
げることができる。上記ポリマーは、液晶性ディスコテ
ィック化合物の配向を阻害しないように、ディスコティ
ック化合物に対して一般に０．１〜１０質量％（好まし
くは０．１〜８質量％、特に０．１〜５質量％）の量に
て使用される。本発明では、セルロースアセテートフイ
ルム、その上に設けられた配向膜及び配向膜上に形成さ
れたディスコティック液晶からなり、配向膜が架橋され
たポリマーからなるラビング処理された膜であることが
好ましい。

【００８５】[配向膜]本発明の配向膜は、架橋された２
種のポリマーからなる層である。少なくとも１種のポリ
マーが、それ自体架橋可能なポリマーであっても、架橋
剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することが
できる。上記配向膜は、官能基を有するポリマーあるい
はポリマーに官能基を導入したものを、光、熱、ＰＨ変
化等により、ポリマー間で反応させて形成するか；ある
いは、反応活性の高い化合物である架橋剤を用いてポリ
マー間に架橋剤に由来する結合基を導入して、ポリマー
間を架橋することにより形成することができる。

【００８６】このような架橋は、通常上記ポリマーまた
はポリマーと架橋剤の混合物を含む塗布液を、透明支持
体上に塗布したのち、加熱等を行なうことにより実施さ
れるが、最終商品の段階で耐久性が確保できれば良いの
で、配向膜を透明支持体上に塗設した後から、最終の光
学補償シートを得るまでのいずれの段階で架橋させる処
理を行なっても良い。配向膜上に形成される円盤状構造
を有する化合物（光学異方層）の配向性を考えると、円
盤状構造を有する化合物の配向させたのちに、充分架橋
を行なうことも好ましい。すなわち、透明支持体上に、
ポリマー及び該ポリマーを架橋することができる架橋剤
を含む塗布液を塗布した場合、加熱乾燥した後（一般に
架橋が行なわれるが、加熱温度が低い場合にはディスコ
ティックネマチック相形成温度に加熱された時に更に架
橋が進む）、ラビング処理を行なって配向膜を形成し、
次いでこの配向膜上に円盤状構造単位を有する化合物を
含む塗布液を塗布し、ディスコティックネマチック相形
成温度以上に加熱した後、冷却して光学異方層を形成す
る。

【００８７】本発明の配向膜に使用されるポリマーは、
それ自体架橋可能なポリマーあるいは架橋剤により架橋
されるポリマーのいずれも使用することができる。勿論
両方可能なポリマーもある。上記ポリマーの例として
は、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸／メタクリ
ル酸共重合体、スチレン／マレインイミド共重合体、ポ
リビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコール、ポ
リ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、スチレン／ビニ
ルトルエン共重合体、クロロスルホン化ポリエチレン、
ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフ
ィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル／塩化ビ
ニル共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体、カルボ
キシメチルセルロース、ポリエチレン、ポリプロピレン
及びポリカーボネート等のポリマー及びシランカップリ
ング剤等の化合物を挙げることができる。好ましいポリ
マーの例としては、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミ
ド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビ
ルアルコール及び変性ポリビニルアルコール等の水溶性
ポリマーであり、さらにゼラチン、ポリビルアルコール
及び変性ポリビニルアルコールが好ましく、特にポリビ
ルアルコール及び変性ポリビニルアルコールを挙げるこ
とができる。

【００８８】上記ポリマーの中で、ポリビニルアルコー
ル又は変性ポリビニルアルコールが好ましく、重合度の
異なるポリビニルアルコール又は変性ポリビニルアルコ
ールを２種類併用することが最も好ましい。ポリビニル
アルコールとしては、例えば鹸化度７０〜１００％のも
のであり、一般に鹸化度８０〜１００％のものであり、
より好ましくは鹸化度８５乃至９５％のものである。重
合度としては、１００〜３０００のも範囲が好ましい。
変性ポリビニルアルコールとしては、共重合変性したも
の（変性基として、例えば、ＣＯＯＮａ、Ｓｉ（ＯＸ）
₃ 、Ｎ（ＣＨ₃ ）₃ ・Ｃｌ、Ｃ₉ Ｈ₁₉ＣＯＯ、ＳＯ₃Ｎ
ａ、Ｃ₁₂Ｈ₂₅等が導入される）、連鎖移動により変性し
たもの（変性基として、例えば、ＣＯＯＮａ、ＳＨ、Ｃ
₁₂Ｈ₂₅等が導入されている）、ブロック重合による変性
をしたもの（変性基として、例えば、ＣＯＯＨ、ＣＯＮ
Ｈ₂ 、ＣＯＯＲ、Ｃ₆ Ｈ₅ 等が導入される）等のポリビ
ニルアルコールの変性物を挙げることができる。これら
の中で、鹸化度８０〜１００％の未変性乃至変性ポリビ
ニルアルコールであり、より好ましくは鹸化度８５乃至
９５％の未変性ないしアルキルチオ変性ポリビニルアル
コールである。これら変性ポリマーの合成方法、可視吸
収スペクトル測定、および導入率ｙの決定方法等は、特
開平８−３３８９１３号公報に詳しく記載がある。

【００８９】上記ポリビニルアルコール等のポリマーと
共に使用される架橋剤の具体例として、下記のものを挙
げることができるが、これらは上記水溶性ポリマー、特
にポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコール
（上記特定の変性物も含む）、と併用する場合に好まし
い。例えば、アルデヒド類（例、ホルムアルデヒド、グ
リオキザール及びグルタルアルデヒド）、Ｎ−メチロー
ル化合物（例、ジメチロール尿素及びメチロールジメチ
ルヒダントイン）、ジオキサン誘導体（例、２，３−ジ
ヒドロキシジオキサン）、カルボキシル基を活性化する
ことにより作用する化合物（例、カルベニウム、２−ナ
フタレンスルホナート、１，１−ビスピロリジノ−１−
クロロピリジニウム及び１−モルホリノカルボニル−３
−（スルホナトアミノメチル））、活性ビニル化合物
（例、１、３、５−トリアクロイル−ヘキサヒドロ−ｓ
−トリアジン、ビス（ビニルスルホン）メタン及びＮ，
Ｎ'−メチレンビス−［βー（ビニルスルホニル）プロ
ピオンアミド］）、活性ハロゲン化合物（例、２，４−
ジクロロ−６−ヒドロキシ−Ｓ−トリアジン）、イソオ
キサゾール類、及びジアルデヒド澱粉、などを上げるこ
とができる。これらは、単独または組合せて用いること
ができる。生産性を考慮した場合、反応活性の高いアル
デヒド類、とりわけグルタルアルデヒドの使用が好まし
い。

【００９０】架橋剤としては、特に限定はなく、添加量
は、耐湿性に関しては、多く添加した方が良化傾向にあ
る。しかし、配向膜としての配向能が、ポリマーに対し
て５０質量％以上添加した場合に低下することから、
０．１〜２０質量％が好ましく、特に０．５〜１５質量
％が好ましい。本発明の配向膜は、架橋反応が終了した
後でも、反応しなかった架橋剤をある程度含んでいる
が、その架橋剤の量は、配向膜中に１．０質量％以下で
あることが好ましく、特に０．５質量％以下であること
が好ましい。配向膜中に１．０質量を超える量で架橋剤
が含まれていると、充分な耐久性が得られない。即ち、
液晶表示装置に使用した場合、長期使用、あるいは高温
高湿の雰囲気下に長期間放置した場合に、レチキュレー
ションが発生することがある。

【００９１】本発明の配向膜は、基本的に、配向膜形成
材料である、上記ポリマー、架橋剤を含む透明支持体上
に塗布した後、加熱乾燥（架橋させ）し、ラビング処理
することにより形成することができ、架橋反応は、前記
のように、透明支持体上に塗布した後、任意の時期に行
なっても良い。そして、前記のポリビニルアルコール等
の水溶性ポリマーを配向膜形成材料として用いる場合に
は、塗布液は消泡作用のあるメタノール等の有機溶媒と
水の混合溶媒とすることが好ましく、その比率は質量比
で水：メタノールが０：１００〜９９：１が一般的であ
り、０：１００〜９１：９であることが好ましい。これ
により、泡の発生が抑えられ、配向膜、更には光学異方
層の層表面の欠陥が著しく減少する。塗布方法として
は、スピンコーティング法、ディップコーティング法、
カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティ
ング法、バーコーティング法及びＥ型塗布法を挙げるこ
とができる。特にＥ型塗布法が好ましい。また、膜厚は
０．１〜１０μｍが好ましい。加熱乾燥は２０℃ないし
１１０℃で行なうことができる。充分な架橋を形成させ
るためには６０℃〜１００℃が好ましく、特に８０℃〜
１００℃が好ましい。乾燥時間は１分〜３６時間で行な
うことができる。好ましくは５分間乃至３０分間であ
る。ｐＨも、使用する架橋剤に最適な値に設定すること
が好ましく、グルタルアルデヒドを使用した場合は、ｐ
Ｈ４．５〜５．５で、特に５が好ましい。

【００９２】配向膜は、透明支持体上又は上記下塗層上
に設けられる。配向膜は、上記のようにポリマー層を架
橋したのち、表面をラビング処理することにより得るこ
とができる。配向膜は、その上に設けられる液晶性ディ
スコティック化合物の配向方向を規定するように機能す
る。

【００９３】前記ラビング処理は、ＬＣＤの液晶配向処
理工程として広く採用されている処理方法を利用するこ
とができる。即ち、配向膜の表面を、紙やガーゼ、フェ
ルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維などを
用いて一定方向に擦ることにより配向を得る方法を用い
ることができる。一般的には、長さ及び太さが均一な繊
維を平均的に植毛した布などを用いて数回程度ラビング
を行うことにより実施される。

【００９４】＜液晶化合物からなる光学異方性層を塗設
する透明支持体＞該透明支持体は、高透過率なプラステ
ィックフイルムであれば特に制限はないが、偏光板の保
護フイルムであるセルロースアセテートを用いることが
好ましい。光学的に１軸性でも二軸性であってもよい。
光学異方性層を塗設する透明支持体は、それ自身が光学
的に重要な役割を果たすため、本発明の透明支持体のＲ
ｅレターデーション値を０乃至２００ｎｍであり、そし
て、Ｒthレターデーション値が７０乃至４００ｎｍに調
節される事が好ましい。液晶表示装置に二枚の光学的異
方性セルロースアセテートフイルムを使用する場合、フ
イルムのＲthレターデーション値は７０乃至２５０ｎｍ
であることが好ましい。液晶表示装置に一枚の光学的異
方性セルロースアセテートフイルムを使用する場合、フ
イルムのＲthレターデーション値は１５０乃至４００ｎ
ｍであることが好ましい。

【００９５】なお、セルロースアセテートフイルムの複
屈折率（Δｎ：ｎｘ−ｎｙ）は、０．００乃至０．００
２であることが好ましい。また、セルロースアセテート
フイルムの厚み方向の複屈折率｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−
ｎｚ｝は、０．００１乃至０．０４であることが好まし
い。レターデーション値（Ｒｅ）は、下記式に従って算
出する。 レターデーション値（Ｒｅ）＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ 式中、ｎｘは、位相差板の面内の遅相軸方向の屈折率
（面内の最大屈折率）であり；ｎｙは、位相差板の面内
の遅相軸に垂直な方向の屈折率である。 （II） Ｒth＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ 式（II）には、フイルム面内の遅相軸方向（屈折率が最
大となる方向）の屈折率である。ｎｙは、フイルム面内
の進相軸方向（屈折率が最小となる方向）の屈折率であ
る。ｎｚは、フイルムの厚み方向の屈折率である。ｄ
は、単位をｎｍとするフイルムの厚さである。

【００９６】［偏光板］偏光板は、偏光膜およびその両
側に配置された二枚の保護フイルムからなる。一方の保
護フイルムとして、本発明の光散乱フイルムを用いるこ
とができる。他方の保護フイルムは、通常のセルロース
アセテートフイルムを用いてもよい。偏光膜には、ヨウ
素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエ
ン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜および染料系偏光膜
は、一般にポリビニルアルコール系フイルムを用いて製
造する。光散乱フイルムの透明基材やセルロースアセテ
ートフイルムの遅相軸と偏光膜の透過軸とは、実質的に
平行になるように配置する。偏光板の生産性には保護フ
イルムの透湿性が重要であることがわかった。 偏光膜
と保護フイルムは水系接着剤で貼り合わせられており、
この接着剤溶剤は保護フイルム中を拡散することで、乾
燥される。保護フイルムの透湿性が高ければ、高いほど
乾燥は早くなり、生産性は向上するが、高くなりすぎる
と、液晶表示装置の使用環境（高湿下）により、水分が
偏光膜中に入ることで偏光能が低下する。

【００９７】偏光板の透湿性は、透明基材、ポリマーフ
イルム（および重合性液晶化合物）の厚み、自由体積、
親疎水性等により決定される。本発明の光散乱フイルム
を偏光板の保護フイルムとして用いる場合、透湿性は１
００乃至１０００g/m2・24hrsである事が好ましく、３
００乃至７００g/m2・24hrsである事が更に好ましい。
透明基材の厚みは、製膜の場合、リップ流量とラインス
ピード、あるいは、延伸、圧縮により調整する事が出来
る。使用する主素材により透湿性が異なるので、厚み調
整により好ましい範囲にすることが可能である。透明基
材の自由体積は、製膜の場合、乾燥温度と時間により調
整することが出来る。この場合もまた、使用する主素材
により透湿性が異なるので、自由体積調整により好まし
い範囲にすることが可能である。透明基材の親疎水性
は、添加剤により調整することが出来る。上記自由体積
中に親水的添加剤を添加することで透湿性は高くなり、
逆に疎水性添加剤を添加することで透湿性を低くするこ
とが出来る。上記透湿性を独立に制御することにより、
光学補償能を有する偏光板を安価に高い生産性で製造す
ることが可能となる。

【００９８】本発明においては本発明の光散乱フイルム
あるいは光散乱フイルム、偏光膜、液晶性化合物からな
る光学異方性層をこの順に積層した偏光板が好ましい。
光学異方性層は、ポリマーフイルム上に円盤状化合物
（ディスコティック化合物）、もしくは棒状液晶化合物
を含む層として形成されていても良い。本発明において
は液晶性化合物がディスコティック化合物であることが
好ましい。光学異方性層は、円盤状化合物（もしくは棒
状液晶化合物）を配向させ、その配向状態を固定するこ
とにより形成することが好ましい。円盤状化合物は、一
般に大きな複屈折率を有する。また、円盤状化合物に
は、多様な配向形態がある。従って、円盤状化合物を用
いることで、従来の延伸複屈折フイルムでは得ることが
できない光学的性質を有する光学異方層とすることがで
きる。円盤状化合物を用いた光学異方層については、特
開平６−２１４１１６号公報、米国特許５５８３６７９
号、同５６４６７０３号、***特許公報３９１１６２０
Ａ１号の各明細書に記載がある。

【００９９】［液晶表示装置］本発明の光散乱フイル
ム、または偏光板は、液晶表示装置に有利に用いられ、
ディスプレイの最表層に用いることが好ましい。ＴＮ、
ＥＣＢ、ＭＶＡ、ＩＰＳおよびＯＣＢモードの液晶表示
装置は、液晶セルおよびその両側に配置された二枚の偏
光板からなる。液晶セルは、二枚の電極基板の間に液晶
を担持している。液晶表示装置においては光学異方性層
が、液晶セルと一方の偏光板との間に、一枚配置される
か、あるいは液晶セルと双方の偏光板との間に二枚配置
される。液晶セルは、ＶＡモード、ＯＣＢモード、ＥＣ
ＢモードまたはＴＮモードであることが好ましい。

【０１００】ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時
に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。ＶＡ
モードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無
印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的
に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開
平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野
角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（Ｍ
ＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Digest of tec
h. Papers（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、
（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配
向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させる
モード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論
会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）、（４）ＳＵ
ＲＶＡＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナシ
ョナル９８で発表）および（５）ＣＰＡモードの液晶セ
ル（ＳＩＤ’０１で発表）が含まれる。

【０１０１】ＯＣＢモードの液晶セルは、棒状液晶性分
子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対
称的に）配向させるベンド配向モードの液晶セルを用い
た液晶表示装置であり、米国特許４５８３８２５号、同
５４１０４２２号の各明細書に開示されている。棒状液
晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向して
いるため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補
償機能を有する。そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ
(Optically Compensatory Bend) 液晶モードとも呼ばれ
る。ベンド配向モードの液晶表示装置は、応答速度が速
いとの利点がある。

【０１０２】ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時
に棒状液晶性分子が実質的に水平配向し、さらに６０乃
至１２０゜にねじれ配向している。ＴＮモードの液晶セ
ルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用さ
れており、多数の文献に記載がある。ＥＣＢモードの液
晶セルは、電圧無印加時に棒状液晶分子が実質的に水平
配向している。ＥＣＢモードは、最も単純な構造を有す
る液晶表示モードの一つであって、多数の文献に記載が
ある。

【０１０３】

【実施例】［実施例１］光散乱層を構成する透光性樹脂
は、紫外線硬化型樹脂（デソライトＺ７５２６ＪＳＲ
（株）製、屈折率１．５１）を１００質量部に透光性微
粒子として、架橋スチレンビーズ（総研化学製 ＳＸ１
３０Ｈ、粒径１．３μｍ、屈折率１．６１）を３３質量
部、架橋スチレンビーズ（総研化学製 ＳＸ３５０Ｈ、
粒径３．５μｍ、屈折率１．６１）を１１質量部、これ
らを混合してメチルエチルケトン／メチルイソブチルケ
トン（２０／８０質量比）により固形分５０％になるよ
うに調整したものを、トリアセチルセルロースフイルム
（富士写真フイルム（株）製、ＴＤ−８０Ｕ）上に、乾
燥膜厚４．０μｍになるように塗工、溶剤乾燥後、１６
０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィ
ックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、
照射量３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を
硬化させ光散乱フイルム（ＨＫＦ−０１）を作製した。

【０１０４】ＪＩＳ−Ｋ−７１０５に準じヘイズメータ
ーＭＯＤＥＬ １００１ＤＰ（日本電色工業（株）製）
を用いて、ＨＫＦ−０１のヘイズ（曇価）を測定したと
ころ、５５％であり適度なヘイズとなった。表面粗さ
は、０．１６μｍであり、表面凹凸の表面からの角度分
布をＳｕｒｆａｃｅ Ｅｘｐｌｏｒｅ ＳＸ―５２０を
用いて測定したところ、同分布の平均角度は４．０°で
あり、同分布の最大ピーク角度は１．０°であった。フ
イルム断面をミクロトーム（ＣＭ１５１０、ライカ
（株）製）で切削し、電子顕微鏡（Ｓ３５００Ｎ／Ｈ）
で観察し、溶剤の透明基材へのしみ込み深さを測定した
ところ、０．０３μｍであった。

【０１０５】［実施例２］光散乱層を構成する透光性樹
脂は、酸化ジルコニウム分散物含有ハードコート塗布液
（デソライトＫＺ−７１１４Ａ、ＪＳＲ（株）製）を１
００部、透光性樹脂（日本化薬製 ＤＰＨＡ ）を４３
質量部、および硬化開始剤（チバガイギー社製、イルガ
キュアー１８４）を５質量部、これらをエアディスパで
攪拌しながら混合してメチルエチルケトン／メチルイソ
ブチルケトン（２０／８０質量比）溶液に溶解した後、
塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．６４
であった。この溶液に透光性微粒子として、ポリメチル
メタクリレート系ビーズ（綜研化学製 ＭＸ１５０、粒
径１．５μｍ、屈折率１．４９）を２１質量部、および
ポリメチルメタクリレート系ビーズ（総研化学製、ＭＸ
３００ 粒径３．０μｍ、屈折率１．４９）を８．５質
量部、これらを混合してメチルエチルケトン／メチルイ
ソブチルケトン（２０／８０質量比）により固形分５３
％になるように調整したものを、トリアセチルセルロー
スフイルム（富士写真フイルム（株）製、ＴＤ−８０
Ｕ）上に、乾燥膜厚２．７μｍになるように塗工、溶剤
乾燥後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ
（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００
ｍＷ／ｃｍ²、照射量３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射
して塗布層を硬化させ光散乱フイルム（ＨＫＦ−０２）
を作製した。

【０１０６】ＪＩＳ−Ｋ−７１０５に準じヘイズメータ
ーＭＯＤＥＬ １００１ＤＰ（日本電色工業（株）製）
を用いて、ＨＫＦ−０２のヘイズ（曇価）を測定したと
ころ、６３％であり適度なヘイズとなった。表面粗さ
は、０．１５μｍであり、表面凹凸の表面からの角度分
布をＳｕｒｆａｃｅ Ｅｘｐｌｏｒｅ ＳＸ―５２０を
用いて測定したところ、同分布の平均角度は３．５°で
あり、同分布の最大ピーク角度は１．０°であった。フ
イルム断面をミクロトーム（ＣＭ１５１０、ライカ
（株）製）で切削し、電子顕微鏡（Ｓ３５００Ｎ／Ｈ）
で観察し、溶剤の透明基材へのしみ込み深さを測定した
ところ、０．０２μｍであった。

【０１０７】［実施例Ａ］光散乱層を構成する透光性樹
脂は、酸化ジルコニウム分散物含有ハードコート塗布液
（デソライトＫＺ−７１１４Ａ、ＪＳＲ（株）製）を１
００部、透光性樹脂（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）を
４３質量部、および硬化開始剤（チバガイギー社製、イ
ルガキュアー１８４）を５質量部、これらをエアディス
パで攪拌しながら混合してメチルエチルケトン／メチル
イソブチルケトン（２０／８０質量比）溶液に溶解した
後、塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．
６４であった。この溶液に透光性微粒子として、ポリメ
チルメタクリレート系ビーズ（綜研化学製 ＭＸ１５
０、粒径１．５μｍ、屈折率１．５３）を２１質量部、
およびポリメチルメタクリレート系ビーズ（総研化学
製、ＭＸ３００ 粒径３．０μｍ、屈折率１．５３）を
８．５質量部、これらを混合してメチルエチルケトン／
メチルイソブチルケトン（１０／９０質量比）により固
形分５３％になるように調整したものを、トリアセチル
セルロースフイルム（富士写真フイルム（株）製、ＴＤ
−８０Ｕ）上に、乾燥膜厚２．７μｍになるように塗
工、溶剤乾燥後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライド
ランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度
４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線
を照射して塗布層を硬化させ光散乱フイルム（ＨＫＦ−
０３）を作製した。

【０１０８】ＪＩＳ−Ｋ−７１０５に準じヘイズメータ
ーＭＯＤＥＬ １００１ＤＰ（日本電色工業（株）製）
を用いて、ＨＫＦ−０２のヘイズ（曇価）を測定したと
ころ、６３％であり適度なヘイズとなった。表面粗さ
は、０．１５μｍであり、表面凹凸の表面からの角度分
布をＳｕｒｆａｃｅ Ｅｘｐｌｏｒｅ ＳＸ―５２０を
用いて測定したところ、同分布の平均角度は３．５°で
あり、同分布の最大ピーク角度は１．０°であった。フ
イルム断面をミクロトーム（ＣＭ１５１０、ライカ
（株）製）で切削し、電子顕微鏡（Ｓ３５００Ｎ／Ｈ）
で観察し、溶剤の透明基材へのしみ込み深さを測定した
ところ、０．０１μｍであった。

【０１０９】（低屈折率層用塗布液の調製）屈折率１．
４２の熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＮ−７２２８、Ｊ
ＳＲ（株）製）９３ｇにＭＥＫ−ＳＴ（平均粒径１０〜
２０ｎｍ、固形分濃度３０質量％のＳｉＯ２ゾルのメチ
ルエチルケトン（ＭＥＫ）分散物、日産化学（株）製）
８ｇ、およびメチルエチルケトン１００ｇを添加、攪拌
の後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過
して、低屈折率層用塗布液を調製した。

【０１１０】［実施例３］ＨＫＦ−０１の光散乱層上
に、上記低屈折率層用塗布液をバーコーターを用いて塗
布し、８０℃で乾燥の後、さらに１２０℃で１０分間熱
架橋し、厚さ０．０９６μｍの低屈折率層を形成し、光
散乱フイルム（ＨＫＨＢ−０１）を作製した。

【０１１１】［実施例４］ＨＫＦ−０２の光散乱層上
に、上記低屈折率層用塗布液をバーコーターを用いて塗
布し、８０℃で乾燥の後、さらに１２０℃で１０分間熱
架橋し、厚さ０．０９６μｍの低屈折率層を形成し、光
散乱フイルム（ＨＫＨＢ−０２）を作製した。

【０１１２】［実施例Ｂ］ＨＫＦ−０３の光散乱層上
に、上記低屈折率層用塗布液をバーコーターを用いて塗
布し、８０℃で乾燥の後、さらに１２０℃で１０分間熱
架橋し、厚さ０．０９６μｍの低屈折率層を形成し、光
散乱フイルム（ＨＫＨＢ−０３）を作製した。

【０１１３】［比較例１］光散乱層を構成する透光性樹
脂は、紫外線硬化型樹脂（デソライトＺ７５２６ＪＳＲ
製、屈折率１．５１）を１００質量部に透光性微粒子と
して、ベンゾグアナミン・メラミンホルムアルデヒド系
ビーズ（日本触媒製、粒径０．５μｍ、屈折率１．６
８）を１２質量部、架橋スチレンビーズ（総研化学製
ＳＸ３５０Ｈ、粒径３．５μｍ、屈折率１．６１）を１
１質量部、これらを混合してメチルエチルケトン／アセ
トン（４０／６０質量比）により固形分５０％になるよ
うに調整したものを、トリアセチルセルロースフイルム
（富士写真フイルム（株）製、ＴＤ−８０Ｕ）上に、乾
燥膜厚３．０μｍになるように塗工、溶剤乾燥後、１６
０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィ
ックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、
照射量３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を
硬化させ光散乱フイルム（ＨＫＦ−Ｈ１）を作製した。

【０１１４】ＪＩＳ−Ｋ−７１０５に準じヘイズメータ
ーＭＯＤＥＬ １００１ＤＰ（日本電色工業（株）製）
を用いて、ＨＫＦ−０１のヘイズ（曇価）を測定したと
ころ、５０％であり適度なヘイズとなったが、表面粗さ
は、０．３５μｍであり、表面凹凸の表面からの角度分
布をＳｕｒｆａｃｅ Ｅｘｐｌｏｒｅ ＳＸ―５２０を
用いて測定したところ、同分布の平均角度は６．５°で
あり、同分布の最大ピーク角度は１．６°であった。フ
イルム断面をミクロトーム（ＣＭ１５１０、ライカ
（株）製）で切削し、電子顕微鏡（Ｓ３５００Ｎ／Ｈ）
で観察し、溶剤の透明基材へのしみ込み深さを測定した
ところ、１．２０μｍであった。

【０１１５】［比較例Ａ］光散乱層を構成する透光性樹
脂は、紫外線硬化型樹脂（デソライトＺ７４０１、ＪＳ
Ｒ製、屈折率：１．６１）を１００質量部に透光性微粒
子として、架橋スチレンビーズ（総研化学製 ＳＸ１３
０Ｈ、粒径１．３μｍ、屈折率１．６１）を１２質量
部、架橋スチレンビーズ（総研化学製 ＳＸ３５０Ｈ、
粒径３．５μｍ、屈折率１．６１）を１１質量部、これ
らを混合してメチルエチルケトン／シクロヘキサノン
（４０／６０質量比）により固形分５０％になるように
調整したものを、トリアセチルセルロースフイルム（富
士写真フイルム（株）製、ＴＤ−８０Ｕ）上に、乾燥膜
厚２．０μｍになるように塗工、溶剤乾燥後、１６０Ｗ
／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィック
ス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射
量３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬化
させ光散乱フイルム（ＨＫＦ−Ｈ２）を作製した。

【０１１６】ＪＩＳ−Ｋ−７１０５に準じヘイズメータ
ーＭＯＤＥＬ １００１ＤＰ（日本電色工業（株）製）
を用いて、ＨＫＦ−Ｈ２のヘイズ（曇価）を測定したと
ころ、２５％であり適度なヘイズとなった。表面粗さ
は、０．３５μｍであり、表面凹凸の表面からの角度分
布をＳｕｒｆａｃｅ Ｅｘｐｌｏｒｅ ＳＸ―５２０を
用いて測定したところ、同分布の平均角度は６．５°で
あり、同分布の最大ピーク角度は１．６°であった。フ
イルム断面をミクロトーム（ＣＭ１５１０、ライカ
（株）製）で切削し、電子顕微鏡（Ｓ３５００Ｎ／Ｈ）
で観察し、溶剤の透明基材へのしみ込み深さを測定した
ところ、１．５０μｍであった。

【０１１７】（反射防止膜の評価）得られた光散乱フイ
ルムについて、以下の項目の評価を行った。 （１）鏡面反射率および色味 分光光度計Ｖ−５５０（日本分光（株）製）にアダプタ
ーＡＲＶ−４７４を装着して、３８０〜７８０ｎｍの波
長領域において、入射角５°における出射角−５度の鏡
面反射率を測定し、４５０〜６５０ｎｍの平均反射率を
算出し、反射防止性を評価した。

【０１１８】（２）ヘイズ 得られたフイルムのヘイズをヘイズメーターＭＯＤＥＬ
１００１ＤＰ（日本電色工業（株）製）を用いて測定
した。

【０１１９】（３）鉛筆硬度評価 耐傷性の指標としてＪＩＳ Ｋ ５４００に記載の鉛筆
硬度評価を行った。反射防止膜を温度２５℃、湿度６０
％ＲＨで２時間調湿した後、ＪＩＳ Ｓ ６００６に規
定する３Ｈの試験用鉛筆を用いて、１ｋｇの荷重にて ｎ＝５の評価において傷が全く認められない：Ａ ｎ＝５の評価において傷が１または２つ： Ｂ ｎ＝５の評価において傷が３つ以上： Ｃ

【０１２０】（４）接触角測定 表面の耐汚染性（指紋付着性）の指標として、光学材料
を温度２５℃、湿度６０％ＲＨで２時間調湿した後、水
に対する接触角を測定した。

【０１２１】（５）動摩擦係数測定 表面滑り性の指標として動摩擦係数にて評価した。動摩
擦係数は試料を２５℃、相対湿度６０％で２時間調湿し
た後、ＨＥＩＤＯＮ−１４動摩擦測定機により５ｍｍφ
ステンレス鋼球、荷重１００ｇ、速度６０ｃｍ／ｍｉｎ
にて測定した値を用いた。

【０１２２】（６）防眩性評価 作成した光拡散フイルムにルーバーなしのむき出し蛍光
灯（８０００ｃｄ／ｍ ² ）を映し、その反射像のボケの
程度を以下の基準で評価した。 蛍光灯の輪郭が全くわからない： Ａ 蛍光灯の輪郭がわずかにわかる： Ｂ 蛍光灯はぼけているが、輪郭は識別できる：Ｃ 蛍光灯がほとんどぼけない： Ｄ

【０１２３】（７）密着性評価 実施例で得られたフイルムを光拡散層がガラス面側とな
るように、粘着剤を介して貼り合わせ、５０℃、５気圧
で６時間エイジングを行った。この偏光板を２５℃、６
０％ＲＨの条件下で、ガラス面より剥離してガラス面へ
の剥げ残り枚数（試験数１００枚）で評価した。比較対
照として実施例Ａの溶剤を、メチルイソブチルケトン１
００質量％に変更して、しみ込み量を０．０００５μｍ
以下としたところ、密着評価は９５／１００（試験数１
００枚のうち９５枚が、支持体と光散乱層との間で剥離
し、光散乱層がガラスに剥げ残った）であった。

【０１２４】第１表に実施例および比較例の結果を示
す。第１表に示された結果から以下のことが明らかであ
る。実施例３、４、Ｂのいずれの光散乱フイルムも、密
着性および防眩性がすぐれている。比較例１、Ａは、密
着性は良いが、防眩性が悪い。

【０１２５】

【表１】

【０１２６】次に、上記実施例のフイルムを用いて偏光
板を作成し、液晶表示装置での評価を実施した。

【０１２７】＜視認側偏光板 ＳＨＢ−０１の作製＞延
伸したポリビニルアルコールフイルムにヨウ素を吸着さ
せて偏光膜を作製した。ＨＫＨＢ−０１に鹸化処理を行
い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、ＨＫＨＢ
−０１の透明基材フイルム（トリアセチルセルロースフ
イルム）が偏光膜側となるように偏光膜の片側に貼り付
けた。また、液晶性化合物からなる光学異方性層を有す
る光学補償フイルムＷＶＳＡ１２Ｂ（富士写真フイルム
（株）製）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール
系接着剤を用いて、フイルム支持体が偏光膜側となるよ
うに反対側に貼り付けた。このようにして視認側偏光板
（ＳＨＢ−０１）を作製した。

【０１２８】＜視認側偏光板 ＳＨＢ−０２の作製＞延
伸したポリビニルアルコールフイルムにヨウ素を吸着さ
せて偏光膜を作製した。ＨＫＨＢ−０２に鹸化処理を行
い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、ＨＫＨＢ
−０２の透明基材フイルム（トリアセチルセルロースフ
イルム）が偏光膜側となるように偏光膜の片側に貼り付
けた。また、液晶性化合物からなる光学異方性層を有す
る光学補償フイルムＷＶＳＡ１２Ｂ（富士写真フイルム
（株）製）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール
系接着剤を用いて、フイルム支持体が偏光膜側となるよ
うに反対側に貼り付けた。このようにして視認側偏光板
（ＳＨＢ−０２）を作製した。

【０１２９】＜視認側偏光板 ＳＨＢ−０３の作製＞延
伸したポリビニルアルコールフイルムにヨウ素を吸着さ
せて偏光膜を作製した。ＨＫＨＢ−０３に鹸化処理を行
い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、ＨＫＨＢ
−０３の透明基材フイルム（トリアセチルセルロースフ
イルム）が偏光膜側となるように偏光膜の片側に貼り付
けた。また、液晶性化合物からなる光学異方性層を有す
る光学補償フイルムＷＶＳＡ１２Ｂ（富士写真フイルム
（株）製）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール
系接着剤を用いて、フイルム支持体が偏光膜側となるよ
うに反対側に貼り付けた。このようにして視認側偏光板
（ＳＨＢ−０３）を作製した。

【０１３０】＜バックライト側偏光板 ＢＨＢ−０１の
作製＞延伸したポリビニルアルコールフイルムにヨウ素
を吸着させて偏光膜を作製した。市販のトリアセチルセ
ルロースフイルム（富士写真フイルム（株）製 フジタ
ックＴＤ８０）に鹸化処理を行い、ポリビニルアルコー
ル系接着剤を用いて、偏光膜の片側に貼り付けた。ま
た、液晶性化合物からなる光学異方性層を有する光学補
償フイルムＷＶＳＡ１２Ｂ（富士写真フイルム（株）
製）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着
剤を用いて、セルロースアセテートフイルムが偏光膜側
となるように反対側に貼り付けた。このようにしてバッ
クライト側偏光板（ＢＨＢ−０１）を作製した。

【０１３１】[実施例５]ＴＮ型液晶セルを使用した液晶
表示装置（６Ｅ−Ａ３、シャープ（株）製）に設けられ
ている一対の偏光板を剥がし、代わりに偏光板（ＳＨＢ
−０１）を、光学補償フイルムが液晶セル側となるよう
に粘着剤を介して、観察者側に貼り付けた。またバック
ライト側には、光学補償フイルムが液晶セル側となるよ
うに粘着剤を介してバックライト側偏光板（ＢＨＢ−０
１）を貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸と、バッ
クライト側の偏光板の透過軸とは、Ｏモードとなるよう
に配置した。作製した液晶表示装置について、測定機
（ＥＺ−Contrast１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用い
て、黒表示（Ｌ１）から白表示（Ｌ８）までの８段階で
視野角、および中間調（Ｌ３）での色味変化を測定し
た。結果を第２表に示す。

【０１３２】[実施例６]ＴＮ型液晶セルを使用した液晶
表示装置（６Ｅ−Ａ３、シャープ（株）製）に設けられ
ている一対の偏光板を剥がし、代わりに偏光板（ＳＨＢ
−０２）を、光学補償フイルムが液晶セル側となるよう
に粘着剤を介して、観察者側に貼り付けた。またバック
ライト側には、光学補償フイルムが液晶セル側となるよ
うに粘着剤を介してバックライト側偏光板（ＢＨＢ−０
１）を貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸と、バッ
クライト側の偏光板の透過軸とは、Ｏモードとなるよう
に配置した。作製した液晶表示装置について、測定機
（ＥＺ−Contrast１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用い
て、黒表示（Ｌ１）から白表示（Ｌ８）までの８段階で
視野角、および中間調（Ｌ３）での色味変化を測定し
た。結果を第２表に示す。

【０１３３】[実施例Ｃ]ＴＮ型液晶セルを使用した液晶
表示装置（６Ｅ−Ａ３、シャープ（株）製）に設けられ
ている一対の偏光板を剥がし、代わりに偏光板（ＳＨＢ
−０３）を、光学補償フイルムが液晶セル側となるよう
に粘着剤を介して、観察者側に貼り付けた。またバック
ライト側には、光学補償フイルムが液晶セル側となるよ
うに粘着剤を介してバックライト側偏光板（ＢＨＢ−０
１）を貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸と、バッ
クライト側の偏光板の透過軸とは、Ｏモードとなるよう
に配置した。作製した液晶表示装置について、測定機
（ＥＺ−Contrast１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用い
て、黒表示（Ｌ１）から白表示（Ｌ８）までの８段階で
視野角、および中間調（Ｌ３）での色味変化を測定し
た。結果を第２表に示す。

【０１３４】[比較例２]ＴＮ型液晶セルを使用した液晶
表示装置（６Ｅ−Ａ３、シャープ（株）製）に設けられ
ている一対の偏光板を剥がし、代わりに市販の偏光板
（サンリッツ製ＬＬ−８２−１２ＷＮＡ）を貼り付け
た。観察者側の偏光板の透過軸と、バックライト側の偏
光板の透過軸とは、Ｏモードとなるように配置した。作
製した液晶表示装置について、測定機（ＥＺ−Contrast
１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、黒表示（Ｌ１）
から白表示（Ｌ８）までの８段階で視野角、および中間
調（Ｌ３）での色味変化を測定した。結果を第２表に示
す。

【０１３５】

【表２】

【０１３６】このように本発明の光散乱フイルム、偏光
板、液晶表示装置においては優れた視野角特性を示して
いる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光散乱フイルムの構成を示す断面図で
ある。

【符号の説明】

１０ 光散乱フイルム ２０ 透明支持体 ３０ 光散乱層 ４１ マット粒子１ ４２ マット粒子２ ５０ 低屈折率層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５１０ Ｃ０８Ｌ 1:12 // Ｃ０８Ｌ 1:12 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ａ Ｆターム(参考） 2H042 BA02 BA12 BA14 BA15 BA20 2H049 BA02 BA27 BA42 BB03 BB33 BB43 BB51 BB63 BB65 BC02 BC09 BC12 BC22 2H091 FA08X FA08Z FA32X FB02 FB13 GA16 LA18 LA19 2K009 AA04 BB28 CC09 CC26 DD02 DD06 EE03 4F006 AA02 AB16 AB24 AB56 BA00 CA05 DA04

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透明基材上に光散乱層を有する光散乱フ
   イルムであって、光散乱層が透光性樹脂と透光性微粒子
   とからなり、光散乱層が２．０乃至６．０μｍの厚さを
   有し、そして、透光性樹脂が透明基材の表面から０．０
   １乃至１μｍの深さまでしみ込んでいることを特徴とす
   る光散乱フイルム。
2. 【請求項２】 光散乱層が０．０５μｍ乃至０．１８μ
   ｍの表面粗さを有する請求項１に記載の光散乱フイル
   ム。
3. 【請求項３】 光散乱層が４０％以上のヘイズ値を有す
   る請求項１又は２に記載の光散乱フイルム。
4. 【請求項４】 光散乱層の上に低屈折率層が設けられて
   いる請求項１乃至３のいずれか一項に記載の光散乱フイ
   ルム。
5. 【請求項５】 透光性樹脂と透光性微粒子とを、透明基
   材が溶解する溶剤と透明基材が溶解しない溶剤とを含む
   混合溶媒中に、溶解または分散して塗布液を調製する工
   程、塗布液を透明基材上に塗布する工程、そして、乾燥
   することにより光散乱層を形成する工程からなる光散乱
   フイルムの製造方法であって、光散乱層が２．０乃至
   ６．０μｍの厚さを有し、透光性樹脂が透明基材の表面
   から０．０１乃至１μｍの深さまでしみ込んでいること
   を特徴とする光散乱フイルムの製造方法。
6. 【請求項６】 透明基材がセルロースアセテートフィル
   ムであり、透明基材が溶解する溶剤がケトンである請求
   項５に記載の光散乱フィルムの製造方法。
7. 【請求項７】 偏光膜の両面を二枚の保護フイルムで挟
   持した偏光板であって、一方の保護フイルムが、請求項
   １乃至４のいずれか一項に記載の光散乱フイルムである
   偏光板。
8. 【請求項８】 請求項１乃至４のいずれか一項に記載の
   光散乱フイルム、偏光膜、透明支持体、そして液晶性化
   合物から成る光学異方性層をこの順に有する偏光板。
9. 【請求項９】 液晶性化合物がディスコティック化合物
   である請求項８に記載の偏光板。
10. 【請求項１０】 液晶セルの両面を二枚の偏光板で挟持
    した液晶表示装置であって、表示面側の偏光板が、請求
    項７乃至９のいずれか一項に記載の偏光板である液晶表
    示装置。