TWM623015U - 雙開式遮蔽構件及具有雙開式遮蔽構件的薄膜沉積機台 - Google Patents

Abstract

本新型提供一種雙開式遮蔽構件及具有雙開式遮蔽構件的薄膜沉積機台，主要包括一第一及一第二遮蔽板、至少一驅動馬達及一軸封裝置，其中驅動馬達透過軸封裝置的外管體及軸體分別連接第一及第二遮蔽板，驅動第一及第二遮蔽板朝相反方向擺動，並在一開啟狀態及一遮蔽狀態之間切換。第一及第二遮蔽板皆包括至少一凹槽，以減少第一及第二遮蔽板的重量，並減輕驅動馬達承載及驅動第一及第二遮蔽板的負擔。

Description

雙開式遮蔽構件及具有雙開式遮蔽構件的薄膜沉積機台

本新型有關於一種雙開式遮蔽構件，主要於遮板板上設置至少一凹槽，以減少第一及第二遮蔽板的重量，並減輕驅動馬達承載及驅動第一及第二遮蔽板的負擔。

化學氣相沉積(CVD)、物理氣相沉積(PVD)及原子層沉積(ALD)皆是常用的薄膜沉積設備，並普遍被使用在積體電路、發光二極體及顯示器等製程中。

沉積設備主要包括一腔體及一晶圓承載盤，其中晶圓承載盤位於腔體內，並用以承載至少一晶圓。以物理氣相沉積為例，腔體內需要設置一靶材，其中靶材面對晶圓承載盤上的晶圓。在進行物理氣相沉積時，可將惰性氣體及/或反應氣體輸送至腔體內，分別對靶材及晶圓承載盤施加偏壓，並透過晶圓承載盤加熱承載的晶圓。

腔體內的惰性氣體因為高壓電場的作用，形成離子化的惰性氣體，離子化的惰性氣體會受到靶材上的偏壓吸引而轟擊靶材。從靶材濺出的靶材原子或分子受到晶圓承載盤上的偏壓吸引，並沉積在加熱的晶圓的表面，以在晶圓的表面形成薄膜。

在經過一段時間的使用後，腔體的內表面會形成沉積薄膜，因此需要週期性的清潔腔體，以避免沉積薄膜在製程中掉落，進而汙染晶圓。此外靶材的表面亦可能形成氧化物或其他汙染物，因此同樣需要週期性的清潔靶材。一般而言，通常會透過預燒(burn-in)製程，以電漿離子撞擊腔體內的靶材，以去除靶材表面的氧化物或其他汙染物。

在進行上述清潔腔體及靶材時，需要將腔體內的晶圓承載盤及晶圓取出，或者隔離晶圓承載盤，以避免清潔過程中汙染晶圓承載盤及晶圓。

薄膜沉積機台在經過一段時間的使用後，通常需要進行清潔，以去除腔室內沉積的薄膜及靶材上的氧化物或氮化物。在清潔的過程中產生的微粒會汙染承載盤，因此需要隔離承載盤及汙染物。本新型提出一種雙開式遮蔽構件及具有雙開式遮蔽構件的薄膜沉積機台，主要透過驅動裝置帶動兩個遮蔽板朝相反方向擺動，使得兩個遮蔽板在開啟狀態及遮蔽狀態之間切換。

在清潔反應腔體時，驅動裝置帶動兩個遮蔽板以擺動的方式相互靠近，使得兩個遮蔽板相靠近並遮擋容置空間內的承載盤，以避免清潔過程中使用的電漿或產生的污染接觸承載盤及/或其承載的基板。在進行沉積製程時，驅動裝置帶動兩個遮蔽板以擺動的方式相互遠離，以對反應腔體內的基板進行薄膜沉積。

本新型的一目的，在於提供一種具有雙開式遮蔽構件的薄膜沉積機台，主要包括一反應腔體、一承載盤及一雙開式遮蔽構件。雙開式遮蔽構件包括一驅動裝置及兩個遮蔽板，其中驅動裝置連接並驅動兩個遮蔽板分別朝相反方向擺動，使得兩個遮蔽板操作在一開啟狀態及一遮蔽狀態。

兩個遮蔽板面對承載盤的表面上設置至少一凹槽，可在不影響遮蔽板的遮蔽效果的前提下，減少遮蔽板的重量。透過減少遮蔽板的重量，將有利於減輕驅動裝置驅動遮蔽板轉動的負擔。

具體而言，驅動裝置透過兩個連接臂分別連接並承載兩個遮蔽板，透過在遮蔽板上設置至少一凹槽，可減少連接臂承載遮蔽板的負擔。此外可進一步在連接臂上設置至少一穿孔部，可在不影響連接臂的結構強度的前提下減少連接臂的重量，並有利於驅動裝置透過兩個連接臂分別驅動兩個遮蔽板朝相反方向擺動。

本新型的一目的，在於提供一種具有雙開式遮蔽構件的薄膜沉積機台，包括一驅動裝置、兩個遮蔽板、兩個連接臂及兩個距離感測單元，其中驅動裝置透過兩個連接臂分別連接兩個遮蔽板。遮蔽板的表面上設置少一凹槽，而連接臂上則設置至少一穿孔部，以減少遮蔽板及連接臂的重量。

此外兩個連接臂上分別設置一反射面，當兩個連接臂操作在遮蔽狀態時，兩個距離感測單元發出的感測光束會投射在兩個連接臂的反射面上，並量測兩個連接臂與兩個距離感測單元之間的距離，以確定兩個連接臂操作在遮蔽狀態。

本新型的一目的，在於提供一種具有雙開式遮蔽構件的薄膜沉積機台，主要包括一反應腔體、一承載盤及一雙開式遮蔽構件。雙開式遮蔽構件包括一驅動裝置及兩個遮蔽板，其中驅動裝置包括一軸封裝置及一驅動馬達。

驅動馬達分別透過軸封裝置的外管體及軸體連接兩個驅動板，其中外管體及/或軸體的側邊設置兩個感測單元，用以確認外管體及/或軸體轉動的角度，並由外管體及/或軸體的角度判斷兩個遮蔽板操作在遮蔽狀態或開啟狀態。

為了達到上述的目的，本新型提出一種薄膜沉積機台，包括：一反應腔體，包括一容置空間；一承載盤，位於容置空間內，並用以承載至少一基板；及一雙開式遮蔽構件，包括：一第一遮蔽板，位於容置空間內；一第二遮蔽板，位於容置空間內，其中第一遮蔽板及第二遮蔽板皆包括至少一凹槽，朝向承載盤的方向；及一驅動裝置，包括：一軸封裝置，連接第一遮蔽板及第二遮蔽板；至少一驅動馬達，連接軸封裝置，並經由軸封裝置分別驅動第一遮蔽板及第二遮蔽板朝相反的方向擺動，使得第一遮蔽板及第二遮蔽板在一開啟狀態及一遮蔽狀態之間切換，其中操作在開啟狀態的第一遮蔽板及第二遮蔽板之間會形成一間隔空間，而操作在遮蔽狀態的第一遮蔽板及第二遮蔽板會相互靠近，並用以遮擋承載盤。

本新型提出一種雙開式遮蔽構件，適用於一薄膜沉積機台，包括：一第一遮蔽板；一第二遮蔽板，其中第一遮蔽板及第二遮蔽板皆包括至少一凹槽，設置在第一遮蔽板及第二遮蔽板的一下表面；及一驅動裝置，包括：一軸封裝置，連接第一遮蔽板及第二遮蔽板；至少一驅動馬達，連接軸封裝置，並經由軸封裝置分別驅動第一遮蔽板及第二遮蔽板朝相反的方向擺動，使得第一遮蔽板及第二遮蔽板在一開啟狀態及一遮蔽狀態之間切換，其中操作在開啟狀態的第一遮蔽板及部分第二遮蔽板之間會形成一間隔空間，而操作在遮蔽狀態的第一遮蔽板及第二遮蔽板會相互靠近，並形成一遮蔽件。

所述的薄膜沉積機台及雙開式遮蔽構件，其中軸封裝置包括一外管體及一軸體，外管體包括一空間用以容置軸體，驅動馬達透過軸體連接第一遮蔽板，透過外管體連接第二遮蔽板，並同步驅動軸體及外管體朝相反的方向轉動。

所述的薄膜沉積機台及雙開式遮蔽構件，包括兩個感測單元與外管體相鄰，兩個感測單元之間具有一間距，並分別用以感測外管體轉動至一第一位置及一第二位置，其中外管體轉動至第一位置時，第二遮蔽板操作在開啟狀態，而外管體轉動至第二位置時，第二遮蔽板操作在遮蔽狀態。

所述的薄膜沉積機台及雙開式遮蔽構件，包括一第一連接臂及一第二連接臂，軸體透過第一連接臂連接第一遮蔽板，而外管體則透過第二連接臂連接第二遮蔽板，第一連接臂及第二連接臂上設置至少一穿孔部。

所述的薄膜沉積機台及雙開式遮蔽構件，包括一第一距離感測單元及一第二距離感測單元，而第一連接臂具有一第一反射面，第二連接臂則具有一第二反射面，其中第一距離感測單元及第二距離感測單元設置在反應腔體上，並分別用以將一第一感測光束及一第二感測光束投射至第一連接臂的第一反射面及第二連接臂的第二反射面，以確認第一遮蔽板及第二遮蔽板操作在遮蔽狀態。

請參閱圖1，為本新型具有雙開式遮蔽構件的薄膜沉積機台操作在遮蔽狀態一實施例的側面剖面示意圖。如圖所示，薄膜沉積機台10主要包括一反應腔體11、一承載盤165及一雙開式遮蔽構件100，其中反應腔體11包括一容置空間12用以容置承載盤165及部分的雙開式遮蔽構件100。

承載盤165位於反應腔體11的容置空間12內，並用以承載至少一基板163。以薄膜沉積機台10為物理氣相沉積腔體為例，反應腔體11內設置一靶材161，其中靶材161面對基板163及承載盤165。例如靶材161可設置在反應腔體11的上表面，並朝向位於容置空間12內的承載盤165及/或基板163。

請配合參閱圖2，雙開式遮蔽構件100包括一第一遮蔽板151、一第二遮蔽板153及一驅動裝置17，其中第一遮蔽板151及第二遮蔽板153位於容置空間12內。驅動裝置17連接第一遮蔽板151及第二遮蔽板153，並分別驅動第一遮蔽板151及第二遮蔽板153朝相反方向擺動，使得第一遮蔽板151及第二遮蔽板153在遮蔽狀態及開啟狀態之間切換，例如第一遮蔽板151及第二遮蔽板153以驅動裝置17為軸心同步擺動。

本新型實施例所述的第一遮蔽板151及第二遮蔽板153操作在遮蔽狀態，可被定義為第一遮蔽板151及第二遮蔽板153相互靠近，並形成一遮蔽件15，以遮擋承載盤165。具體而言，操作在遮蔽狀態的第一遮蔽板151及第二遮蔽板153不會直接接觸，兩者之間的間距小於一門檻值，例如小於1mm，以防止第一遮蔽板151及第二遮蔽板153在接觸過程中產生微粒。

請配合參閱圖3，第一遮蔽板151及第二遮蔽板153的表面可設置至少一凹槽154，透過凹槽154的設置可減少第一遮蔽板151及第二遮蔽板153的重量，同時亦不會影響第一遮蔽板151及第二遮蔽板153的遮蔽效果。例如第一遮蔽板151及第二遮蔽板153可為鈦，凹槽154的深度約為第一遮蔽板151及第二遮蔽板153厚度的30%至70%之間，凹槽154的截面積約為第一遮蔽板151及第二遮蔽板153面積的30%至70%之間。此外凹槽154的底部及側邊之間可設置一圓角或倒角。

具體而言，第一遮蔽板151及第二遮蔽板153可為半圓形的板體，而凹槽154可以是部份環狀凹槽，例如二分之一環狀凹槽或四分之一環狀凹槽，並靠近第一遮蔽板151及第二遮蔽板153的外側或徑向外側。此外凹槽154可以對稱的方式設置在第一遮蔽板151及第二遮蔽板153上，以避免因為設置凹槽154而改變第一遮蔽板151及第二遮蔽板153的質量重心。

在本新型一實施例中，操作在遮蔽狀態的第一遮蔽板151及第二遮蔽板153用以遮蔽承載盤165，其中第一遮蔽板151及第二遮蔽板153的下表面朝向承載盤165，並將凹槽154設置在第一遮蔽板151及第二遮蔽板153的下表面，使得凹槽154面對承載盤165。

在本新型一實施例中，驅動裝置17透過第一連接臂141及一第二連接臂143分別連接並驅動第一遮蔽板151及第二遮蔽板153朝相反方向擺動或轉動，例如第一連接臂141及第二連接臂143類似剪刀，其中第一連接臂141及第二連接臂143分別用以承載第一遮蔽板151及第二遮蔽板153。透過減少第一遮蔽板151及第二遮蔽板153的重量，可降低第一連接臂141及第二連接臂143的負擔，以避免第一連接臂141及第二連接臂143變形或斷裂。

請配合參閱圖4，第一連接臂141及第二連接臂143分別設置至少一穿孔部142，以減少第一連接臂141及第二連接臂143的重量。此外在第一連接臂141及第二連接臂143上設置穿孔部142，亦不會降低第一連接臂141及第二連接臂143的結構強度。

在本新型一實施例中，第一遮蔽板151及第二遮蔽板153的表面亦可設置複數個定位凸部156，其中定位凸部156與凹槽154設置在第一遮蔽板151及第二遮蔽板153的同一表面上，例如下表面。第一連接臂141及第二連接臂143用以承載第一遮蔽板151及第二遮蔽板153的表面則設置複數個定位凹部144，透過定位凸部156及定位凹部144的設置，可將第一遮蔽板151及第二遮蔽板153分別放置在第一連接臂141及第二連接臂143的固定位置，並可避免第一遮蔽板151及第二遮蔽板153相對於第一連接臂141及第二連接臂143位移。

上述在第一遮蔽板151及第二遮蔽板153的下表面設置定位凸部156，並於第一連接臂141及第二連接臂143的上表面設置定位凹部144僅為本新型一實施例，而非本新型權利範圍的限制。

在不同實施例中，亦可於第一遮蔽板151及第二遮蔽板153的下表面設置定位凹部，並於第一連接臂141及第二連接臂143的上表面設置定位凸部。例如可於第一連接臂141及第二連接臂143上設置複數個螺孔，並將螺絲鎖固在螺孔上，以在第一連接臂141及第二連接臂143的上表面形成定位凸部，並透過凸出第一連接臂141及第二連接臂143上表面的螺絲與第一遮蔽板151及第二遮蔽板153下表面的定位凹部對位。

在本新型一實施例中，請配合參閱圖5，驅動裝置17包括一驅動馬達171及一軸封裝置173，其中驅動馬達171透過軸封裝置173連接第一遮蔽板151及第二遮蔽板153，並透過軸封裝置173分別驅動第一遮蔽板151及第二遮蔽板153朝相反方向擺動，使得第一遮蔽板151及第二遮蔽板153在一開啟狀態及一遮蔽狀態之間切換。

具體而言，軸封裝置173包括一外管體1733及一軸體1731，其中外管體1733包括一空間用以容置軸體1731，而驅動馬達171則同步驅動外管體1733及軸體1731朝相反方向轉動。

外管體1733及軸體1731同軸設置，且外管體1733及軸體1731可相對轉動。驅動馬達171透過軸體1731連接第一連接臂141，並經由第一連接臂141連接並帶動第一遮蔽板151擺動。驅動馬達171透過外管體1733連接第二連接臂143，並經由第二連接臂143連接並帶動第二遮蔽板153擺動。

軸封裝置173可以是一般常見的軸封，主要用以隔離反應腔體11的容置空間12與外部的空間，以維持容置空間12的真空。例如外管體1733位於一固定管體1737內，並透過複數個軸承連接一固定管體1737，而軸體1731則透過複數個軸承連接外管體1733。在本新型另一實施例中，軸封裝置173可以是磁流體軸封，並包括複數個軸承、至少一永久磁鐵、至少一磁極片及至少一磁性流體。

驅動馬達171的數量可為一個，如圖2所示，其中驅動馬達171透過一連動機構同時帶動軸體1731及外管體1733朝相反方向轉動。在本新型另一實施例中，如圖5所示，驅動馬達171的數量可為兩個，分別為第一驅動馬達1711及第二驅動馬達1713。第一驅動馬達1711連接並帶動軸體1731轉動，並經由軸體1731及第一連接臂141帶動第一遮蔽板151擺動。第二驅動馬達1713透過一傳動單元1735帶動外管體1733轉動，例如傳動單元1735可為傳動帶，並經由外管體1733及第二連接臂143帶動第二遮蔽板153擺動。

一般而言，可透過第一驅動馬達1711轉動的角度得知軸體1731轉動的角度或位置，並透過第二驅動馬達1713轉動的角度得知外管體1733轉動的角度或位置。然而第二驅動馬達1713在驅動外管體1733轉動的過程中，傳動單元1735有可能會相對於第二驅動馬達1713及外管體1733滑動。如此一來便無法以第二驅動馬達1713轉動的角度，正確的判斷外管體1733是否轉動到預設的角度或位置，當然亦無法判斷外管體1733連接及驅動的第二遮蔽板153是否正確的操作在遮蔽狀態或開啟狀態。

為此，可於軸封裝置173的外管體1733側邊分別設置兩個感測單元131，其中兩個感測單元131之間具有一間距。例如兩個感測單元131與外管體1733的軸心形成一夾角，並分別用以感測外管體1733轉動到一第一位置(或第一角度)及一第二位置(或第二角度)。

具體而言，當外管體1733轉動第一位置時，會帶動第二遮蔽板153轉動至開啟狀態，而當外管體1733轉動到第二位置時，則會帶動第二遮蔽板153轉動至遮蔽狀態。外管體1733與第二遮蔽板153之間基本上不會相對轉動，因此可透過兩個感測單元131感測到外管體1733轉動到第一位置或第二位置，確認第二遮蔽板153是否確實操作在開啟狀態或遮蔽狀態。

在本新型另一實施例中，軸封裝置173的軸體1731的側邊亦可設兩個感測單元131，其中兩個感測單元131之間具有一間距，並分別用以感測軸體1731轉動到一第三位置(或第三角度)及一第四位置(或第四角度)。

當軸體1731轉動第三位置時，會帶動第一遮蔽板151轉動至開啟狀態，而當軸體1731轉動到第四位置時，則會帶動第一遮蔽板151轉動至遮蔽狀態。因此可透過兩個感測單元131感測到軸體1731轉動到第三位置或第四位置，確認第一遮蔽板151是否確實轉動到開啟狀態或遮蔽狀態。

此外為了進一步確認第一遮蔽板151及第二遮蔽板153是否操作在遮蔽狀態，如圖2、圖4及圖6所示，本新型進一步在第一連接臂141及第二連接臂143上分別設置一第一反射面1411及一第二反射面1431，並於反應腔體11上設置一第一距離感測單元191及一第二距離感測單元193，例如第一距離感測單元191及第二距離感測單元193可以是光學測距儀。

具體而言，第一連接臂141及第二連接臂143分別包括一第一凸出部1413及一第二凸出部1433，並將第一反射面1411及第二反射面1431分別設置在第一凸出部1413及第二凸出部1433上。例如第一凸出部1413及第二凸出部1433分別沿著第一遮蔽板151及第二遮蔽板153的徑向凸出第一連接臂141及第二連接臂143。

第一距離感測單元191與第一連接臂141及第一遮蔽板151設置在反應腔體11的同一側，其中第一距離感測單元191用以將一第一感測光束L1投射至第一連接臂141。在實際應用時可調整第一距離感測單元191的設置位置，使得第一遮蔽板151操作在遮蔽狀態時，第一距離感測單元191產生的第一感測光束L1投射在第一連接臂141的第一反射面1411。此時第一感測光束L1會與第一反射面1411垂直，使得第一距離感測單元191接收到第一反射面1411反射的第一感測光束L1。第一距離感測單元191可由反射的第一感測光束L1量測出第一連接臂141與第一距離感測單元191之間的距離，並由量測的距離判斷第一遮蔽板151是否確實操作在遮蔽狀態。

第二距離感測單元193與第二連接臂143及第二遮蔽板153設置在反應腔體11的同一側，其中第二距離感測單元193用以將一第二感測光束L2投射至第二連接臂143。當第二遮蔽板153操作在遮蔽狀態時，第二距離感測單元193產生的第二感測光束L2會投射在第二連接臂143的第二反射面1431，其中第二感測光束L2與第二反射面1431垂直，使得第二距離感測單元193可接收到反射的第二感測光束L2，以量測出第二連接臂143與第二距離感測單元193之間的距離，並由量測的距離判斷第二遮蔽板153是否確實操作在遮蔽狀態。

在本新型一實施例中，如圖6及圖7所示，反應腔體11上分別設置兩個感測區113，其中兩個感測區113凸出反應腔體11，而第一距離感測單元191及第二距離感測單元193分別設置在兩個感測區113。

此外，可進一步在兩個感測區113上分別設置一遮蔽板感測單元195，其中兩個遮蔽板感測單元195分別用以感測進入兩個感測區113的第一遮蔽板151及第二遮蔽板153。當兩個遮蔽板感測單元195感測到第一遮蔽板151及第二遮蔽板153時，可判斷第一遮蔽板151及第二遮蔽板153操作在開啟狀態，如圖7所示。操作在開啟狀態時第一遮蔽板151及第二遮蔽板153會相互遠離，其中第一遮蔽板151及第二遮蔽板153之間會形成一間隔空間152，使得第一遮蔽板151及第二遮蔽板153不會遮蔽承載盤165。

在本新型一實施例中，如圖1所示，反應腔體11的容置空間12可設置一擋件111，其中擋件111的一端連接反應腔體11，而擋件111的另一端則形成一開口112。承載盤165朝靶材161靠近時，會進入或接觸擋件111形成的開口112。反應腔體11、承載盤165及擋件111會在容置空間12內區隔出一反應空間，並在反應空間內的基板163表面沉積薄膜，可防止在反應空間外的反應腔體11及承載盤165的表面形成沉積薄膜。

以上所述者，僅為本新型之一較佳實施例而已，並非用來限定本新型實施之範圍，即凡依本新型申請專利範圍所述之形狀、構造、特徵及精神所為之均等變化與修飾，均應包括於本新型之申請專利範圍內。

10:薄膜沉積機台 100:雙開式遮蔽構件 11:反應腔體 111:擋件 112:開口 113:感測區 12:容置空間 131:感測單元 141:第一連接臂 1411:第一反射面 1413:第一凸出部 142:穿孔部 143:第二連接臂 1431:第二反射面 1433:第二凸出部 144:定位凹部 15:遮蔽件 151:第一遮蔽板 153:第二遮蔽板 154:凹槽 156:定位凸部 161:靶材 163:基板 165:承載盤 17:驅動裝置 171:驅動馬達 1711:第一驅動馬達 1713:第二驅動馬達 173:軸封裝置 1731:軸體 1733:外管體 1735:傳動單元 1737:固定管體 191:第一距離感測單元 193:第二距離感測單元 195:遮蔽板感測單元 L1:第一感測光束 L2:第二感測光束

[圖1]為本新型具有雙開式遮蔽構件的薄膜沉積機台操作在遮蔽狀態一實施例的側面剖面示意圖。

[圖2]為本新型雙開式遮蔽構件的立體分解示意圖。

[圖3]為本新型雙開式遮蔽構件的遮蔽板一實施例的立體示意圖及部分剖面示意圖。

[圖4]為本新型雙開式遮蔽構件的連接臂一實施例的俯視圖。

[圖5]為本新型雙開式遮蔽構件的驅動裝置一實施例的立體剖面示意圖。

[圖6]為本新型具有雙開式遮蔽構件的薄膜沉積機台操作在遮蔽狀態一實施例的構造示意圖。

[圖7]為本新型具有雙開式遮蔽構件的薄膜沉積機台操作在開啟狀態一實施例的構造示意圖。

141:第一連接臂

1411:第一反射面

1413:第一凸出部

142:穿孔部

143:第二連接臂

1431:第二反射面

1433:第二凸出部

144:定位凹部

15:遮蔽件

151:第一遮蔽板

153:第二遮蔽板

154:凹槽

156:定位凸部

17:驅動裝置

171:驅動馬達

173:軸封裝置

1731:軸體

1733:外管體

Claims (10)

1. 一種薄膜沉積機台，包括： 一反應腔體，包括一容置空間； 一承載盤，位於該容置空間內，並用以承載至少一基板； 一靶材，位於該反應腔體的該容置空間內，並面對該承載盤；及 一雙開式遮蔽構件，包括： 一第一遮蔽板，位於該容置空間內； 一第二遮蔽板，位於該容置空間內，其中該第一遮蔽板及該第二遮蔽板皆包括至少一凹槽，朝向該承載盤的方向；及 一驅動裝置，包括： 一軸封裝置，連接該第一遮蔽板及該第二遮蔽板； 至少一驅動馬達，連接該軸封裝置，並經由該軸封裝置分別驅動該第一遮蔽板及該第二遮蔽板朝相反的方向擺動，使得該第一遮蔽板及該第二遮蔽板在一開啟狀態及一遮蔽狀態之間切換，其中操作在該開啟狀態的該第一遮蔽板及該第二遮蔽板之間會形成一間隔空間，而操作在該遮蔽狀態的該第一遮蔽板及該第二遮蔽板會相互靠近，並用以遮擋該承載盤。
2. 如請求項1所述的薄膜沉積機台，其中該軸封裝置包括一外管體及一軸體，該外管體包括一空間用以容置該軸體，該驅動馬達透過該軸體連接該第一遮蔽板，透過該外管體連接該第二遮蔽板，並同步驅動該軸體及該外管體朝相反的方向轉動。
3. 如請求項2所述的薄膜沉積機台，包括兩個感測單元與該外管體相鄰，該兩個感測單元之間具有一間距，並分別用以感測該外管體轉動至一第一位置及一第二位置，其中該外管體轉動至該第一位置時，該第二遮蔽板操作在該開啟狀態，而該外管體轉動至該第二位置時，該第二遮蔽板操作在該遮蔽狀態。
4. 如請求項2所述的薄膜沉積機台，包括一第一連接臂及一第二連接臂，該軸體透過該第一連接臂連接該第一遮蔽板，而該外管體則透過該第二連接臂連接該第二遮蔽板，該第一連接臂及該第二連接臂上設置至少一穿孔部。
5. 如請求項4所述的薄膜沉積機台，包括一第一距離感測單元及一第二距離感測單元，而該第一連接臂具有一第一反射面，該第二連接臂則具有一第二反射面，其中該第一距離感測單元及該第二距離感測單元設置在該反應腔體上，並分別用以將一第一感測光束及一第二感測光束投射至該第一連接臂的該第一反射面及該第二連接臂的該第二反射面，以確認該第一遮蔽板及該第二遮蔽板操作在該遮蔽狀態。
6. 一種雙開式遮蔽構件，適用於一薄膜沉積機台，包括： 一第一遮蔽板； 一第二遮蔽板，其中該第一遮蔽板及該第二遮蔽板皆包括至少一凹槽，設置在該第一遮蔽板及該第二遮蔽板的一下表面，其中該第一遮蔽板上的該凹槽的截面積為該第一遮蔽板面積的30%至70%之間，而該第二遮蔽板上的該凹槽的截面積為該第二遮蔽板面積的30%至70%之間；及 一驅動裝置，包括： 一軸封裝置，連接該第一遮蔽板及該第二遮蔽板； 至少一驅動馬達，連接該軸封裝置，並經由該軸封裝置分別驅動該第一遮蔽板及該第二遮蔽板朝相反的方向擺動，使得該第一遮蔽板及該第二遮蔽板在一開啟狀態及一遮蔽狀態之間切換，其中操作在該開啟狀態的該第一遮蔽板及該第二遮蔽板之間會形成一間隔空間，而操作在該遮蔽狀態的該第一遮蔽板及該第二遮蔽板會相互靠近，並形成一遮蔽件。
7. 如請求項6所述的雙開式遮蔽構件，其中該軸封裝置包括一外管體及一軸體，該外管體包括一空間用以容置該軸體，該驅動馬達透過該軸體連接該第一遮蔽板，透過該外管體連接該第二遮蔽板，並同步驅動該軸體及該外管體朝相反的方向轉動。
8. 如請求項7所述的雙開式遮蔽構件，包括兩個感測單元與該外管體相鄰，該兩個感測單元之間具有一間距，並分別用以感測該外管體轉動至一第一位置及一第二位置，其中該外管體轉動至該第一位置時，該第二遮蔽板操作在該開啟狀態，而該外管體轉動至該第二位置時，該第二遮蔽板操作在該遮蔽狀態。
9. 如請求項7所述的雙開式遮蔽構件，包括一第一連接臂及一第二連接臂，該軸體透過該第一連接臂連接該第一遮蔽板，而該外管體則透過該第二連接臂連接該第二遮蔽板，該第一連接臂及該第二連接臂上設置至少一穿孔部。
10. 如請求項9所述的雙開式遮蔽構件，其中該第一連接臂具有一第一凸出部，該第一凸出部包括一第一反射面，該第二連接臂則具有一第二凸出部，該第二凸出部包括一第二反射面。

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