TWI788035B - 用以感測遮蔽機構開合的薄膜沉積機台 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種用以感測遮蔽機構開合的薄膜沉積機台，主要包括一反應腔體、一承載盤、一遮蔽機構及兩個距離感測單元，其中承載盤及部分的遮蔽機構位於反應腔體的容置空間內。遮蔽機構包括兩個遮蔽單元及至少一驅動裝置，其中驅動裝置連接並驅動兩個遮蔽單元朝相反方向擺動，使得兩個遮蔽單元操作在開啟狀態及遮蔽狀態。兩個遮蔽單元上皆設置一反射面，當遮蔽單元操作在遮蔽狀態時，兩個距離感測單元產生的感測光束分別投射在兩個遮蔽單元的反射面，並量測兩個遮蔽單元與距離感測單元的距離，以確定遮蔽機構操作在遮蔽狀態。

Description

用以感測遮蔽機構開合的薄膜沉積機台
本發明有關於一種用以感測遮蔽機構開合的薄膜沉積機台，主要透過兩個距離感測單元分別將感測光束投射至兩個遮蔽單元，以確定兩個遮蔽單元操作在遮蔽狀態。
化學氣相沉積(CVD)、物理氣相沉積(PVD)及原子層沉積(ALD)皆是常用的薄膜沉積設備，並普遍被使用在積體電路、發光二極體及顯示器等製程中。
沉積設備主要包括一腔體及一晶圓承載盤，其中晶圓承載盤位於腔體內，並用以承載至少一晶圓。以物理氣相沉積為例，腔體內需要設置一靶材，其中靶材面對晶圓承載盤上的晶圓。在進行物理氣相沉積時，可將惰性氣體及/或反應氣體輸送至腔體內，分別對靶材及晶圓承載盤施加偏壓，並透過晶圓承載盤加熱承載的晶圓。
腔體內的惰性氣體因為高壓電場的作用，形成離子化的惰性氣體，離子化的惰性氣體會受到靶材上的偏壓吸引而轟擊靶材。從靶材濺出的靶材原子或分子受到晶圓承載盤上的偏壓吸引，並沉積在加熱的晶圓的表面，以在晶圓的表面形成薄膜。
在經過一段時間的使用後，腔體的內表面會形成沉積薄膜，因此需要週期性的清潔腔體，以避免沉積薄膜在製程中掉落，進而汙染晶圓。此外靶材的表面亦可能形成氧化物或其他汙染物，因此同樣需要週期性的清潔靶材。一般而言，通常會透過預燒(burn-in)製程，以電漿離子撞擊腔體內的靶材，以去除靶材表面的氧化物或其他汙染物。
在進行上述清潔腔體及靶材時，需要將腔體內的晶圓承載盤及晶圓取出，或者隔離晶圓承載盤，以避免清潔過程中汙染晶圓承載盤及晶圓。
一般而言，薄膜沉積機台在經過一段時間的使用後，通常需要進行清潔，以去除腔室內沉積的薄膜及靶材上的氧化物或氮化物。在清潔的過程中產生的微粒會汙染承載盤，因此需要隔離承載盤及汙染物。本發明提出一種用以感測遮蔽機構開合的薄膜沉積機台，主要透過驅動裝置帶動兩個遮蔽板朝相反方向擺動，使得兩個遮蔽板操作在一開啟狀態及一遮蔽狀態。
在清潔反應腔體時，驅動裝置帶動兩個遮蔽單元以擺動的方式相互靠近，使得兩個遮蔽單元相靠近並遮擋容置空間內的承載盤，以避免清潔過程中使用的電漿或產生的污染接觸承載盤及/或其承載的基板。在進行沉積製程時，驅動裝置帶動兩個遮蔽單元以擺動的方式相互遠離，並對反應腔體內的基板進行薄膜沉積。
本發明的一目的，在於提供一種用以感測遮蔽機構開合的薄膜沉積機台，主要包括一反應腔體、一承載盤及一遮蔽機構。遮蔽機構包括至少一驅動裝置、兩個遮蔽單元及兩個距離感測單元，其中驅動裝置連接並驅動兩個遮蔽單元分別朝相反方向擺動，使得兩個遮蔽單元操作在一開啟狀態或一遮蔽狀態。
兩個遮蔽單元上皆設置一反射面，當兩個遮蔽單元操作在遮蔽狀態時，兩個距離感測單元產生的感測光束會分別投射在兩個遮蔽單元的反射面上，並量測兩個距離感測單元與兩個遮蔽單元之間的距離，以判斷兩個遮蔽單元是否操作在遮蔽狀態。
兩個距離感測單元判斷兩個遮蔽單元操作在遮蔽狀態後，才會開始進行預燒及清潔，可有效避免預燒或清潔過程中產生的汙染物接觸承載盤及/或承載盤下方的反應腔體。
本發明的一目的，在於提供一種用以感測遮蔽機構開合的薄膜沉積機台，主要在反應腔體上設置兩個遮蔽板感測單元，其中兩個遮蔽板感測單元分別用以感測開啟狀態的兩個遮蔽單元，以確認兩個遮蔽單元確實操作在開啟狀態。
當兩個遮蔽板感測單元判斷兩個遮蔽單元操作在開啟狀態後，承載盤才會帶動承載的基板往上位移，並對基板進行薄膜沉積製程。因此，可有效避免兩個遮蔽單元未確實操作在開啟狀態下，承載盤便帶動基板向上位移而碰撞到遮蔽單元，並造成遮蔽單元、承載盤及基板的損壞。
為了達到上述的目的，本發明提出一種用以感測遮蔽機構開合的薄膜沉積機台，包括：一反應腔體，包括一容置空間；一承載盤，位於容置空間內，並用以承載至少一基板；及一遮蔽機構，包括：一第一遮蔽單元，位於容置空間內，並包括一第一反射面；一第二遮蔽單元，位於容置空間內，並包括一第二反射面；至少一驅動裝置，連接第一遮蔽單元及第二遮蔽單元，並分別驅動第一遮蔽單元及第二遮蔽單元朝相反的方向擺動，使得第一遮蔽單元及第二遮蔽單元在一開啟狀態及一遮蔽狀態之間切換，其中遮蔽狀態的第一遮蔽單元靠近第二遮蔽單元，而開啟狀態的第一遮蔽單元及第二遮蔽單元之間則形成一間隔空間；一第一距離感測單元，設置在反應腔體上，並用以將一第一感測光束投射至第一遮蔽單元的第一反射面，以確認第一遮蔽單元操作在遮蔽狀態；及一第二距離感測單元，設置在反應腔體上，並用以將一第二感測光束投射至第二遮蔽單元的第二反射面，以確定第二遮蔽單元操作在遮蔽狀態。
所述的用以感測遮蔽機構開合的薄膜沉積機台，包括兩個感測區連接反應腔體，感測區凸出反應腔體，且兩個感測區的高度小於反應腔體。
所述的用以感測遮蔽機構開合的薄膜沉積機台，包括兩個遮蔽板感測單元分別設置在兩個感測區，並分別用以感測進入兩個感測區的第一遮蔽單元及第二遮蔽單元，以確定第一遮蔽單元及第二遮蔽單元操作在開啟狀態。
所述的用以感測遮蔽機構開合的薄膜沉積機台，其中第一遮蔽單元包括一第一連接臂及一第一遮蔽板，驅動裝置經由第一連接臂連接第一遮蔽板，第一反射面則設置在第一連接臂上，而第二遮蔽單元則包括一第二連接臂及一第二遮蔽板，驅動裝置經由第二連接臂連接第二遮蔽板，第二反射面則設置在第二連接臂上。
所述的用以感測遮蔽機構開合的薄膜沉積機台，其中第一連接臂包括一第一凸出部，第一反射面設置在第一凸出部上，而第二連接臂包括一第二凸出部，第二反射面設置在第二凸出部上。
所述的用以感測遮蔽機構開合的薄膜沉積機台，其中第一遮蔽單元及第二遮蔽單元操作在遮蔽狀態，而第一感測光束垂直第一反射面，第二感測光束垂直第二反射面。
所述的用以感測遮蔽機構開合的薄膜沉積機台，其中驅動裝置包括一軸封裝置及至少一驅動馬達，軸封裝置包括一外管體及一軸體，外管體包括一空間用以容置軸體，驅動馬達透過外管體連接第一遮蔽單元，透過軸體連接第二遮蔽單元，並同步驅動軸體及外管體朝相反的方向轉動。
所述的用以感測遮蔽機構開合的薄膜沉積機台，包括兩個第一感測單元與外管體相鄰，分別用以感測外管體轉動至一第一位置及一第二位置，外管體轉動至第一位置時，第一遮蔽單元操作在開啟狀態，而外管體轉動至第二位置時，第一遮蔽單元操作在遮蔽狀態。
所述的用以感測遮蔽機構開合的薄膜沉積機台，包括兩個第二感測單元與軸體相鄰，並分別用以感測軸體轉動至一第三位置及一第四位置，軸體轉動至第三位置時，第二遮蔽單元操作在開啟狀態，而軸體轉動至第四位置時，第二遮蔽單元操作在遮蔽狀態。
所述的用以感測遮蔽機構開合的薄膜沉積機台，包括一第一凸出單元及一第二凸出單元，第一凸出單元連接外管體，而第二凸出單元則連接軸體，其中第一凸出單元隨著外管體轉動，並以第一感測單元感測第一凸出單元，第二凸出單元隨著軸體轉動，並以第二感測單元感測第二凸出單元。
請參閱圖1，為本發明用以感測遮蔽機構開合的薄膜沉積機台操作在遮蔽狀態一實施例的側面剖面示意圖。如圖所示，用以感測遮蔽機構開合的薄膜沉積機台10主要包括一反應腔體11、一承載盤165及一遮蔽機構100，其中反應腔體11包括一容置空間12用以容置承載盤165及部分的遮蔽機構100。
承載盤165位於反應腔體11的容置空間12內，並用以承載至少一基板163。用以感測遮蔽機構開合的薄膜沉積機台10為物理氣相沉積腔體為例，反應腔體11內設置一靶材161，其中靶材161面對基板163及承載盤165。例如靶材161可設置在反應腔體11的上表面，並朝向位於容置空間12內的承載盤165及/或基板163。
請配合參閱圖2，遮蔽機構100包括一第一遮蔽單元14、一第二遮蔽單元15及一驅動裝置17，其中第一遮蔽單元14及第二遮蔽單元15位於容置空間12內。驅動裝置17連接第一遮蔽單元14及第二遮蔽單元15，並分別驅動第一遮蔽單元14及第二遮蔽單元15朝相反方向擺動，例如第一遮蔽單元14及第二遮蔽單元15以驅動裝置17為軸心同步擺動。
在本發明一實施例中，第一遮蔽單元14包括一第一連接臂141及一第一遮蔽板143，其中第一連接臂141用以承載第一遮蔽板143。第二遮蔽單元15則包括一第二連接臂151及一第二遮蔽板153，其中第二連接臂151用以承載第二遮蔽板153。驅動裝置17分別透過第一連接臂141及一第二連接臂151帶動第一遮蔽板143及第二遮蔽板153朝相反方向擺動或轉動。
第一遮蔽板143及第二遮蔽板153可為板體，其中第一遮蔽板143及第二遮蔽板153的面積及形狀可為相近，例如第一遮蔽板143及第二遮蔽板153可為半圓形的板體。當驅動裝置17帶動第一遮蔽板143及第二遮蔽板153閉合時，第一遮蔽板143及第二遮蔽板153會相互靠近並形成一圓板狀的遮蔽件，並用以遮擋承載盤165及/或基板163。上述第一遮蔽板143及第二遮蔽板153的面積及形狀相近，並為半圓形的板體僅為本發明一實施例，並非本發明權利範圍的限制。
本發明實施例所述的第一遮蔽單元14及第二遮蔽單元15操作在遮蔽狀態，可定義為第一遮蔽板143及第二遮蔽板153相互靠近，直到兩者之間的間距小於一門檻值，例如小於1mm，以防止第一遮蔽板143及第二遮蔽板153在接觸過程中產生微粒，而汙染反應腔體11的容置空間12及/或承載盤165。
具體而言，本發明用以感測遮蔽機構開合的薄膜沉積機台10及/或遮蔽機構100可操作在兩種狀態，分別是開啟狀態及遮蔽狀態。如圖2所示，驅動裝置17可驅動第一遮蔽單元14及第二遮蔽單元15朝相反方向擺動，使得第一遮蔽單元14及第二遮蔽單元15相互遠離，並操作在開啟狀態。操作在開啟狀態的第一遮蔽單元14及第二遮蔽單元15之間會形成一間隔空間152，使得靶材161與承載盤165及基板163之間不存在第一遮蔽單元14及第二遮蔽單元15。
而後可驅動承載盤165及基板163朝靶材161的方向靠近，並透過容置空間12內的氣體，例如惰性氣體，撞擊靶材161，以在基板163的表面沉積薄膜。
在本發明一實施例中，如圖1所示，反應腔體11的容置空間12可設置一擋件111，其中擋件111的一端連接反應腔體11，而擋件111的另一端則形成一開口112。承載盤165朝靶材161靠近時，反應腔體11、承載盤165及擋件111會在容置空間12內區隔出一反應空間，並在反應空間內的基板163表面沉積薄膜。
此外，如圖1及圖8所示，驅動裝置17可驅動第一遮蔽單元14及第二遮蔽單元15朝相反方向擺動，使得第一遮蔽單元14及第二遮蔽單元15相互靠近，並操作在遮蔽狀態。閉合的第一遮蔽單元14及第二遮蔽單元15位在靶材161與承載盤165之間，以遮蔽承載盤165並隔離靶材161及承載盤165。
操作在遮蔽狀態的第一遮蔽單元14及第二遮蔽單元15可在容置空間12內區隔一清潔空間121，其中清潔空間121與反應空間的區域部分重疊或相近。可在清潔空間121內進行預燒(burn-in)製程，以清潔靶材161及清潔空間121內的反應腔體11及/或擋件111，並去除靶材161表面的氧化物、氮化物或其他汙染物，及反應腔體11及/或擋件111表面的沉積薄膜，以避免清潔過程中產生的物質汙染或沉積在承載盤165及/或基板163的表面。
在本發明一實施例中，如圖3所示，驅動裝置17包括至少一驅動馬達171及一軸封裝置173，其中驅動馬達171透過軸封裝置173連接第一遮蔽單元14及第二遮蔽單元15，例如驅動馬達171透過一連動機構18分別連接及驅動第一遮蔽單元14及第二遮蔽單元15朝相反方向同步擺動。驅動馬達171位於反應腔體11的容置空間12外，而軸封裝置173則穿過並設置在反應腔體11上，其中部分的軸封裝置173位於反應腔體11的容置空間12內。
軸封裝置173包括一外管體1731及一軸體1733。外管體1731包括一空間1732用以容置軸體1733，其中外管體1731及軸體1733同軸設置，且外管體1731及軸體1733可相對轉動。外管體1731連接第一連接臂141，並經由第一連接臂141連接並帶動第一遮蔽板143擺動。軸體1733連接第二連接臂151，並經由第二連接臂151連接並帶動第二遮蔽板153擺動。
軸封裝置173可以是一般常見的軸封，主要用以隔離反應腔體11的容置空間12與外部的空間，以維持容置空間12的真空。在本發明另一實施例中，軸封裝置173可以是磁流體軸封。
為了確認第一遮蔽單元14及第二遮蔽單元15是否操作在遮蔽狀態，如圖1及圖8所示，本發明進一步在第一遮蔽單元14及第二遮蔽單元15上分別設置一第一反射面145及一第二反射面155，並於反應腔體11上設置一第一距離感測單元191及一第二距離感測單元193。在實際應用時，第一距離感測單元191及第二距離感測單元193可以是光學測距儀。
第一距離感測單元191與第一遮蔽單元14設置在反應腔體11的同一側，其中第一距離感測單元191用以將一第一感測光束L1投射至第一遮蔽單元14上。在實際應用時可調整第一距離感測單元191的設置位置，使得第一遮蔽單元14操作在遮蔽狀態時，第一距離感測單元191產生的第一感測光束L1投射在第一遮蔽單元14的第一反射面145。此時第一感測光束L1會與第一反射面145垂直，使得第一距離感測單元191接收到第一反射面145反射的第一感測光束L1。
當第一距離感測單元191可由反射的第一感測光束L1量測出第一遮蔽單元14與第一距離感測單元191之間的距離，並由量測的距離判斷第一遮蔽單元14是否確實操作在遮蔽狀態。
第二距離感測單元193與第二遮蔽單元15設置在反應腔體11的同一側，其中第二距離感測單元193用以將一第二感測光束L2投射至第二遮蔽單元15上。當第二遮蔽單元15操作在遮蔽狀態時，第二距離感測單元193產生的第二感測光束L2會投射在第二遮蔽單元15的第二反射面155，其中第二感測光束L2與第二反射面155垂直，使得第二距離感測單元193可接收到反射的第二感測光束L2，以量測出第二遮蔽單元15與第二感測單元133之間的距離，並由量測的距離判斷第二遮蔽單元15是否確實操作在遮蔽狀態。
在本發明一實施例中，如圖1所示，反應腔體11上可分別設置一透光窗115，其中第一距離感測單元191及第二距離感測單元193分別面對兩個透光窗115，並分別經由兩個透光窗115將第一感測光束L1及第二感測光束L2投射在反應腔體11內的第一遮蔽單元14及第二遮蔽單元15上。
在本發明一實施例中，如圖4所示，第一連接臂141可包括一第一凸出部147，其中第一反射面145設置在第一連接臂141的第一凸出部147上。第二連接臂151可包括一第二凸出部157，其中第二反射面155設置在第二連接臂151的第二凸出部157上。
請參閱圖5，為本發明用以感測遮蔽機構開合的薄膜沉積機台操作在遮蔽狀態又一實施例的側面剖面示意圖。如圖所示，用以感測遮蔽機構開合的薄膜沉積機台20主要包括一反應腔體11、一承載盤165及一遮蔽機構100，其中反應腔體11包括一容置空間12用以容置承載盤165及部分的遮蔽機構100。
請配合參閱圖6、圖7及圖8所示，反應腔體11上分別設置兩個感測區113，其中兩個感測區113凸出反應腔體11。兩個感測區113的高度小於反應腔體11，並可於兩個感測區113上可分別設置一透光窗115。第一距離感測單元191及第二距離感測單元193分別設置在兩個感測區113，並分別面對兩個透光窗115。第一距離感測單元191及第二距離感測單元193產生第一感測光束L1及第二感測光束L2分別穿透兩個透光窗115，並投射在反應腔體11內的第一遮蔽單元14及第二遮蔽單元15上。
當第一遮蔽單元14及第二遮蔽單元15操作在遮蔽狀態時，第一感測光束L1及第二感測光束L2會分別投射在第一遮蔽單元14的第一反射面145及第二遮蔽單元15的第二反射面155。第一距離感測單元191及第二距離感測單元193會分別接收被第一反射面145及第二反射面155反射的第一感測光束L1及第二感測光束L2，並量測出第一遮蔽單元14與第一距離感測單元191之間的距離，及第二遮蔽單元15與第二距離感測單元193之間的距離，並判斷第一遮蔽單元14及第二遮蔽單元15是否確實操作在遮蔽狀態，如圖8所示。
此外，可進一步在兩個感測區113上分別設置一遮蔽板感測單元195，其中兩個遮蔽板感測單元195分別用以感測進入兩個感測區113的第一遮蔽單元14及第二遮蔽單元15。當兩個遮蔽板感測單元195感測到第一遮蔽單元14及第二遮蔽單元15時，可判斷第一遮蔽單元14及第二遮蔽單元15操作在開啟狀態，如圖7所示。
在本發明一實施例中，如圖9所示，驅動馬達171的數量可為兩個，分別為第一驅動馬達1711及第二驅動馬達1713，第一驅動馬達1711及第二驅動馬達1713分別連接軸封裝置173的外管體1731及軸體1733，並透過外管體1731及軸體1733分別帶動第一遮蔽單元14及第二遮蔽單元15朝不同方向擺動。
兩個第一感測單元131與軸封裝置173的外管體1731相鄰，其中兩個第一感測單元131之間具有一間距，例如兩個第一感測單元131與外管體1731的軸心形成一夾角，並分別用以感測外管體1731是否轉動到一第一位置(或第一角度)及一第二位置(或第二角度)。
當外管體1731轉動第一位置時，會帶動第一遮蔽板143轉動至開啟狀態，而當外管體1731轉動到第二位置時，則會帶動第一遮蔽板143轉動至遮蔽狀態。由於外管體1731與第一遮蔽板143之間基本上不會相對轉動，因此可透過兩個第一感測單元131感測到外管體1731轉動到第一位置或第二位置，確認第一遮蔽板143是否確實操作在開啟狀態或遮蔽狀態。
在本發明一實施例中，外管體1731上可設置一第一凸出單元135，其中第一凸出單元135朝外管體1731的徑向外側凸出，例如第一凸出單元135可以是長條狀體，並透過螺絲或焊接的方式固定在外管體1731上。當外管體1731轉動時會帶動第一凸出單元135轉動，使得第一凸出單元135與第一感測單元131干涉，以利於第一感測單元131感測外管體1731轉動至第一位置或第二位置。
在本發明另一實施例中，遮蔽機構100可進一步設置兩個第二感測單元133，其中兩個第二感測單元133與軸封裝置173的軸體1733相鄰。兩個第二感測單元133之間具有一間距，並分別用以感測軸體1733轉動到一第三位置(或第三角度)及一第四位置(或第四角度)。
當軸體1733轉動第三位置時，會帶動第二遮蔽板153轉動至開啟狀態，而當軸體1733轉動到第四位置時，則會帶動第二遮蔽板153轉動至遮蔽狀態。由於軸體1733與第二遮蔽板153之間基本上不會相對轉動，因此可透過兩個第二感測單元133感測到軸體1733轉動到第三位置或第四位置，確認第二遮蔽板153是否確實轉動到開啟狀態或遮蔽狀態。
在本發明一實施例中，軸體1733上可設置一第二凸出單元137，其中第二凸出單元137沿著軸體1733的徑向凸出，並會與第二感測單元133干涉，以利於第二感測單元133感測軸體1733轉動至第三位置或第四位置。
本發明上述的第一感測單元131及第二感測單元133亦可應用在只有單一個驅動馬達171的構造上，如圖3所述的構造。透過過本發明上述的構造設計，可確認第一遮蔽單元14及第二遮蔽單元15操作在遮蔽狀態或開啟狀態，可有效防止在進行清潔或預燒製程時對反應腔體11及承載盤165造成汙染，同時可避免承載盤165碰撞到第一遮蔽單元14及/或第二遮蔽單元15，而造成機構的損害。
以上所述者，僅為本發明之一較佳實施例而已，並非用來限定本發明實施之範圍，即凡依本發明申請專利範圍所述之形狀、構造、特徵及精神所為之均等變化與修飾，均應包括於本發明之申請專利範圍內。
10:用以感測遮蔽機構開合的薄膜沉積機台 100:遮蔽機構 11:反應腔體 111:擋件 112:開口 113:感測區 115:透光窗 12:容置空間 121:清潔空間 131:第一感測單元 133:第二感測單元 135:第一凸出單元 137:第二凸出單元 14:第一遮蔽單元 141:第一連接臂 143:第一遮蔽板 145:第一反射面 147:第一凸出部 15:第二遮蔽單元 151:第二連接臂 152:間隔空間 153:第二遮蔽板 155:第二反射面 157:第二凸出部 161:靶材 163:基板 165:承載盤 17:驅動裝置 171:驅動馬達 1711:第一驅動馬達 1713:第二驅動馬達 173:軸封裝置 1731:外管體 1732:空間 1733:軸體 18:連動機構 191:第一距離感測單元 193:第二距離感測單元 195:遮蔽板感測單元 20:用以感測遮蔽機構開合的薄膜沉積機台 L1:第一感測光束 L2:第二感測光束
[圖1]為本發明用以感測遮蔽機構開合的薄膜沉積機台操作在遮蔽狀態一實施例的側面剖面示意圖。
[圖2]為本發明薄膜沉積機台的遮蔽機構操作在開啟狀態一實施例的立體示意圖。
[圖3]為本發明遮蔽機構的驅動裝置一實施例的剖面示意圖。
[圖4]為本發明用以感測遮蔽機構開合的薄膜沉積機台的部分構造一實施例的立體示意圖。
[圖5]為本發明用以感測遮蔽機構開合的薄膜沉積機台操作在遮蔽狀態又一實施例的側面剖面示意圖。
[圖6]為本發明用以感測遮蔽機構開合的薄膜沉積機台的反應腔體一實施例的立體示意圖。
[圖7]為本發明用以感測遮蔽機構開合的薄膜沉積機台操作在開啟狀態一實施例的上方透視圖。
[圖8]為本發明用以感測遮蔽機構開合的薄膜沉積機台操作在遮蔽狀態一實施例的上方俯視圖。
[圖9]為本發明遮蔽機構的驅動裝置又一實施例的剖面示意圖。
115:透光窗
141:第一連接臂
145:第一反射面
147:第一凸出部
151:第二連接臂
155:第二反射面
157:第二凸出部
191:第一距離感測單元
193:第二距離感測單元
L1:第一感測光束
L2:第二感測光束

Claims (10)

  1. 一種用以感測遮蔽機構開合的薄膜沉積機台，包括： 一反應腔體，包括一容置空間； 一承載盤，位於該容置空間內，並用以承載至少一基板；及 一遮蔽機構，包括： 一第一遮蔽單元，位於該容置空間內，並包括一第一反射面； 一第二遮蔽單元，位於該容置空間內，並包括一第二反射面； 至少一驅動裝置，連接該第一遮蔽單元及該第二遮蔽單元，並分別驅動該第一遮蔽單元及該第二遮蔽單元朝相反的方向擺動，使得該第一遮蔽單元及該第二遮蔽單元在一開啟狀態及一遮蔽狀態之間切換，其中該遮蔽狀態的該第一遮蔽單元靠近該第二遮蔽單元，而該開啟狀態的該第一遮蔽單元及該第二遮蔽單元之間則形成一間隔空間； 一第一距離感測單元，設置在該反應腔體上，並用以將一第一感測光束投射至該第一遮蔽單元的該第一反射面，以確認該第一遮蔽單元操作在該遮蔽狀態；及 一第二距離感測單元，設置在該反應腔體上，並用以將一第二感測光束投射至該第二遮蔽單元的該第二反射面，以確定該第二遮蔽單元操作在該遮蔽狀態。
  2. 如請求項1所述的用以感測遮蔽機構開合的薄膜沉積機台，包括兩個感測區連接該反應腔體，該感測區凸出該反應腔體，且該兩個感測區的高度小於該反應腔體。
  3. 如請求項2所述的用以感測遮蔽機構開合的薄膜沉積機台，包括兩個遮蔽板感測單元分別設置在該兩個感測區，並分別用以感測進入該兩個感測區的該第一遮蔽單元及該第二遮蔽單元，以確定該第一遮蔽單元及該第二遮蔽單元操作在該開啟狀態。
  4. 如請求項1所述的用以感測遮蔽機構開合的薄膜沉積機台，其中該第一遮蔽單元包括一第一連接臂及一第一遮蔽板，該驅動裝置經由該第一連接臂連接該第一遮蔽板，該第一反射面則設置在第一連接臂上，而該第二遮蔽單元則包括一第二連接臂及一第二遮蔽板，該驅動裝置經由該第二連接臂連接該第二遮蔽板，該第二反射面則設置在該第二連接臂上。
  5. 如請求項4所述的用以感測遮蔽機構開合的薄膜沉積機台，其中該第一連接臂包括一第一凸出部，該第一反射面設置在該第一凸出部上，而該第二連接臂包括一第二凸出部，該第二反射面設置在該第二凸出部上。
  6. 如請求項1所述的用以感測遮蔽機構開合的薄膜沉積機台，其中該第一遮蔽單元及該第二遮蔽單元操作在該遮蔽狀態，而該第一感測光束垂直該第一反射面，該第二感測光束垂直該第二反射面。
  7. 如請求項1所述的用以感測遮蔽機構開合的薄膜沉積機台，其中該驅動裝置包括一軸封裝置及至少一驅動馬達，該軸封裝置包括一外管體及一軸體，該外管體包括一空間用以容置該軸體，該驅動馬達透過該外管體連接該第一遮蔽單元，透過該軸體連接該第二遮蔽單元，並同步驅動該軸體及該外管體朝相反的方向轉動。
  8. 如請求項7所述的用以感測遮蔽機構開合的薄膜沉積機台，包括兩個第一感測單元與該外管體相鄰，分別用以感測該外管體轉動至一第一位置及一第二位置，該外管體轉動至該第一位置時，該第一遮蔽單元操作在該開啟狀態，而該外管體轉動至該第二位置時，該第一遮蔽單元操作在該遮蔽狀態。
  9. 如請求項8所述的用以感測遮蔽機構開合的薄膜沉積機台，包括兩個第二感測單元與該軸體相鄰，並分別用以感測該軸體轉動至一第三位置及一第四位置，該軸體轉動至該第三位置時，該第二遮蔽單元操作在該開啟狀態，而該軸體轉動至該第四位置時，該第二遮蔽單元操作在該遮蔽狀態。
  10. 如請求項9所述的用以感測遮蔽機構開合的薄膜沉積機台，包括一第一凸出單元及一第二凸出單元，該第一凸出單元連接該外管體，而該第二凸出單元則連接該軸體，其中該第一凸出單元隨著該外管體轉動，並以該第一感測單元感測該第一凸出單元，該第二凸出單元隨著該軸體轉動，並以該第二感測單元感測該第二凸出單元。
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