TWM591253U - 光阻塗佈裝置 - Google Patents

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TWM591253U
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TW
Taiwan
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cylindrical roller
coating device
photoresist coating
photoresist
spray
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TW108215589U
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Inventor
林劉恭
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光群雷射科技股份有限公司
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Abstract

一種光阻塗佈裝置,用於將一全像圖圖案轉移至一飾材,光阻塗佈裝置包含:一基座,具有一第一致動構件;一圓柱形滾輪;以及一噴淋構件。圓柱形滾輪水平設置於基座上且噴淋構件設置於圓柱形滾輪上方,其中當噴淋構件將光阻材料噴灑於圓柱形滾輪時,第一致動構件以一第一速度轉動圓柱形滾輪;以及光阻材料塗佈噴掃於圓柱形滾輪後,第一致動構件以一第二速度轉動圓柱形滾輪,以將光阻材料均勻塗佈至圓柱形滾輪上,其中第二速度高於第一速度。本創作光阻塗佈裝置,可使光阻塗佈地更均勻且縮短製程時間。

Description

光阻塗佈裝置
本創作是有關一種光阻塗佈裝置,尤指一種用於將一全像圖圖案轉移至一飾材的光阻塗佈裝置。
以往在製作全像圖圖案轉移時,請參考圖1,先於滾輪10上組裝薄片狀的全像版11,再將全像版11上的全像紋路圖案轉移至材料20上,使材料20具有相對應的全像紋路圖案21。上述全像紋路圖案轉移方式,轉移後的材料20上兩相鄰的全像紋路圖案21之間,會留下對應於全像板11的接縫12的間隙22。因此,轉移後的材料20在後續使用時,因為間隙22的存在而會造成材料20極大的浪費。一種改良的技術如圖3所示,利用製作光阻、顯影以將圖案轉移,其中當形成光阻層時,滾輪10傾斜設置,光阻材料係利用滴塗(drip coating)的方式慢慢塗佈於滾輪10上,此種製程程序需耗費十幾個工作天,且塗佈的均勻度不是非常好。
有鑑於上述習知結構之缺失,製造品質良好、符合成本效益又適合於全像圖圖案轉移的光阻塗佈裝置便是目前極需努力的目標。
本創作提供一種光阻塗佈裝置,用於將一全像圖圖案轉移至一飾材,其結構整體設計可使光阻塗佈地更均勻且縮短製程時間,進而提高產品品質。
本創作一實施例之一種光阻塗佈裝置,用於將一全像圖圖案轉移至一飾材,光阻塗佈裝置包含:一基座、一圓柱形滾輪以及一噴淋構件。基座具有一第一致動構件。圓柱形滾輪,利用一輪軸水平設置於基座上。噴淋構件設置於圓柱形滾輪上方,用以將一光阻材料噴灑於圓柱形滾輪上,其中當噴淋構件將光阻材料噴灑於圓柱形滾輪時,第一致動構件以一第一速度轉動圓柱形滾輪;以及光阻材料塗佈噴掃於圓柱形滾輪後,第一致動構件以一第二速度轉動圓柱形滾輪,以將光阻材料均勻塗佈至圓柱形滾輪上,其中第二速度高於第一速度。
以下藉由具體實施例配合所附的圖式詳加說明,當更容易瞭解本創作之目的、技術內容、特點及其所達成之功效。
以下將詳述本創作之各實施例,並配合圖式作為例示。除了這些詳細說明之外,本創作亦可廣泛地施行於其它的實施例中,任何所述實施例的輕易替代、修改、等效變化都包含在本創作之範圍內,並以申請專利範圍為準。在說明書的描述中,為了使讀者對本創作有較完整的瞭解,提供了許多特定細節;然而,本創作可能在省略部分或全部特定細節的前提下,仍可實施。此外,眾所周知的步驟或元件並未描述於細節中,以避免對本創作形成不必要之限制。圖式中相同或類似之元件將以相同或類似符號來表示。特別注意的是,圖式僅為示意之用,並非代表元件實際之尺寸或數量,有些細節可能未完全繪出,以求圖式之簡潔。
請參照圖4,本創作之一實施例之光阻塗佈裝置100,用於將一全像圖圖案轉移至一飾材,光阻塗佈裝置100包含:一基座110、一圓柱形滾輪120以及一噴淋構件130。基座110具有一第一致動構件112。於一實施例中,圓柱形滾輪120為金屬材質。
接續上述,如圖4所示,圓柱形滾輪120水平設置於基座110上且噴淋構件130設置於圓柱形滾輪120上方,其中當噴淋構件130將光阻材料噴灑於圓柱形滾輪120時,第一致動構件112以一第一速度轉動圓柱形滾輪120;以及光阻材料塗佈噴掃於圓柱形滾輪120後,第一致動構件112以一第二速度轉動圓柱形滾輪120,以將光阻材料均勻塗佈至圓柱形滾輪120上,其中第二速度高於第一速度。於一實施例中,第一速度為1轉/分鐘至500轉/分鐘(即1RPM至500RPM),而第二速度為100轉/分鐘至3000轉/分鐘(即100RPM至3000RPM),其中RPM為每分鐘多少轉(Revolution(s) Per Minute)。本創作光阻塗佈裝置,可使光阻塗佈地更均勻且縮短製程時間,亦可製作較薄的光阻膜。
承上,於一實施例中,噴淋構件130具有一噴灑頭132。而光阻塗佈裝置100更包含一第二致動構件114,用以將噴淋構件130在圓柱形滾輪120上方水平移動,以利將光阻材料較均勻地噴灑在圓柱形滾輪120上。
可以理解的是,於又一實施例中,請參考圖5,噴淋構件130具有複數個噴灑頭132,其中噴灑頭132可以平均分配於圓柱形滾輪120上方。
根據上述,本創作之光阻塗佈裝置,其係利用噴灑頭的方式將光阻材料以噴灑方式形成於基材(圓柱形滾輪)上,不僅更光阻膜較均勻且製程也更快速,製程時間可從16天大幅降低至2天。此外,噴灑頭的方式形成光阻膜比較不會產生條紋也較不容易剝離。更者,圓柱形滾輪的截面尺寸、長度更為彈性,可依據需求做不同設計。由於,光阻膜的品質提升,進而全像圖圖案轉移整體的製程良率亦提升,製程成本亦可大幅下降。
綜合上述,本創作之光阻塗佈裝置,用於將一全像圖圖案轉移至一飾材,其結構整體設計可使光阻塗佈地更均勻且縮短製程時間,進而提高產品品質。
以上所述之實施例僅是為說明本創作之技術思想及特點,其目的在使熟習此項技藝之人士能夠瞭解本創作之內容並據以實施,當不能以之限定本創作之專利範圍,即大凡依本創作所揭示之精神所作之均等變化或修飾,仍應涵蓋在本創作之專利範圍內。
10‧‧‧滾輪 11‧‧‧全像版 12‧‧‧接縫 20‧‧‧材料 21‧‧‧全像紋路圖案 22‧‧‧間隙 100‧‧‧光阻塗佈裝置 110‧‧‧基座 112‧‧‧第一致動構件 114‧‧‧第二致動構件 120‧‧‧圓柱形滾輪 130‧‧‧噴淋構件 132‧‧‧噴灑頭
圖1至圖3為一示意圖,顯示本創作之先前技術。 圖4為一示意圖,顯示本創作之一實施例之光阻塗佈裝置。 圖5為一示意圖,顯示本創作之又一實施例之光阻塗佈裝置。
100‧‧‧光阻塗佈裝置
110‧‧‧基座
112‧‧‧第一致動構件
114‧‧‧第二致動構件
120‧‧‧圓柱形滾輪
130‧‧‧噴淋構件
132‧‧‧噴灑頭

Claims (8)

  1. 一種光阻塗佈裝置,用於將一全像圖圖案轉移至一飾材,該光阻塗佈裝置包含: 一基座,具有一第一致動構件; 一圓柱形滾輪,利用一輪軸水平設置於該基座上;以及 一噴淋構件,設置於該圓柱形滾輪上方,用以將一光阻材料噴灑於該圓柱形滾輪上,其中 當該噴淋構件將該光阻材料噴灑於該圓柱形滾輪時,該第一致動構件以一第一速度轉動該圓柱形滾輪;以及 該光阻材料塗佈噴掃於該圓柱形滾輪後,該第一致動構件以一第二速度轉動該圓柱形滾輪,以將該光阻材料均勻塗佈至該圓柱形滾輪上,其中該第二速度高於該第一速度。
  2. 如請求項1所述之光阻塗佈裝置,其中該圓柱形滾輪為金屬材質的圓柱形滾輪。
  3. 如請求項1所述之光阻塗佈裝置,其中該噴淋構件具有一噴灑頭。
  4. 如請求項3所述之光阻塗佈裝置,更包含一第二致動構件,用以將該噴淋構件在該圓柱形滾輪上方水平移動。
  5. 如請求項1所述之光阻塗佈裝置,其中該噴淋構件具有複數個噴灑頭。
  6. 如請求項5所述之光阻塗佈裝置,其中該複數個噴灑頭平均分配於該圓柱形滾輪上方。
  7. 如請求項1所述之光阻塗佈裝置,其中該第一速度為1轉/分鐘(RPM)至500轉/分鐘(RPM)。
  8. 如請求項1所述之光阻塗佈裝置,其中該第二速度為100轉/分鐘(RPM)至3000轉/分鐘(RPM)。
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