TWM596451U - 光阻塗佈裝置 - Google Patents

Abstract

一種光阻塗佈裝置，其包括一基材固持構件、一旋轉構件以及一噴淋構件。基材固持構件用以固持一基材。旋轉構件水平設置於基材固持構件的至少一接合部，其中旋轉構件用以使基材固持構件轉動或線性移動。噴淋構件設置於基材固持構件上方，並沿一滑軌移動，用以於基材上形成光阻層，其中噴淋構件的移動方向與基材固持構件的轉動方向或與基材固持構件的線性移動方向垂直。本創作之裝置可於多種基材上形成光阻層，所形成的光阻層也具有較好的均勻度，且可縮短成膜時間。

Description

光阻塗佈裝置

本創作是有關一種光阻塗佈裝置，尤指一種可對不同承載台上之基材形成光阻層之光阻塗佈裝置。

以往在製作全像圖圖案轉移時，請參考圖1，先於滾輪10上組裝薄片狀的全像版11，再將全像版11上的全像紋路圖案轉移至材料20上，使材料20具有相對應的全像紋路圖案21。上述全像紋路圖案轉移方式，轉移後的材料20上兩相鄰的全像紋路圖案21之間，會留下對應於全像板11的接縫12的間隙22。因此，轉移後的材料20在後續使用時，因為間隙22的存在而會造成材料20極大的浪費。一種改良的技術如圖3所示，利用製作光阻、顯影以將圖案轉移，其中當形成光阻層時，滾輪10傾斜設置，光阻材料係利用滴塗(drip coating)的方式慢慢塗佈於滾輪10上，此種製程程序需耗費十幾個工作天，且塗佈的均勻度不是非常好。

有鑑於上述習知結構之缺失，製造品質良好、符合成本效益又適合於全像圖圖案轉移的光阻塗佈裝置便是目前極需努力的目標。

本創作提供一種光阻塗佈裝置，用於將一光阻層形成至一基材，此外，此裝置適用於不同基材固持構件，其結構整體設計可使光阻塗佈地更均勻且縮短製程時間，進而提高產品品質。

本創作一實施例之一種光阻塗佈裝置，用以形成一光阻層於一基材上，其包括一基材固持構件、一旋轉構件以及一噴淋構件。基材固持構件用以固持基材。旋轉構件水平設置於基材固持構件的至少一接合部，其中旋轉構件用以使基材固持構件轉動或直線移動。噴淋構件設置於基材固持構件上方，並沿一滑軌線性移動，用以將一光阻材料噴灑於基材以於基材上形成光阻層，其中噴淋構件的移動方向與基材固持構件的轉動方向或與基材固持構件的線性移動方向垂直。

以下藉由具體實施例配合所附的圖式詳加說明，當更容易瞭解本創作之目的、技術內容、特點及其所達成之功效。

以下將詳述本創作之各實施例，並配合圖式作為例示。除了這些詳細說明之外，本創作亦可廣泛地施行於其它的實施例中，任何所述實施例的輕易替代、修改、等效變化都包含在本創作之範圍內，並以申請專利範圍為準。在說明書的描述中，為了使讀者對本創作有較完整的瞭解，提供了許多特定細節；然而，本創作可能在省略部分或全部特定細節的前提下，仍可實施。此外，眾所周知的步驟或元件並未描述於細節中，以避免對本創作形成不必要之限制。圖式中相同或類似之元件將以相同或類似符號來表示。特別注意的是，圖式僅為示意之用，並非代表元件實際之尺寸或數量，有些細節可能未完全繪出，以求圖式之簡潔。

本創作之一實施例之光阻塗佈裝置，用於將一形成一光阻層於一基材上，光阻塗佈裝置包含：一基材固持構件、一旋轉構件以及一噴淋構件。基材固持構件用以固持基材，於一實施例中，基材固持構件為一圓柱形滾輪或一平面載台。旋轉構件水平設置於基材固持構件的至少一接合部，其中旋轉構件用以使基材固持構件轉動或直線移動。噴淋構件設置於基材固持構件上方，並沿一滑軌移動，用以將一光阻材料噴灑於基材以於基材上形成光阻層，其中噴淋構件的移動方向與基材固持構件的轉動方向或與基材固持構件的線性移動方向垂直。圖式搭配詳細說明如下。

請參考圖4-1之實施例，光阻塗佈裝置100包含：一基材固持構件110、一旋轉構件120以及一噴淋構件130。其中基材固持構件110用以固持基材S，於此實施例中，基材固持構件110為一圓柱形滾輪，且基材S為金屬材質設置於圓柱形滾輪上。而旋轉構件120水平設置於基材固持構件110的至少一接合部112上，於此實施例中，基材固持構件110具有兩個接合部112於其左右兩側，且基材固持構件110的接合部112係以適當方式鎖固於旋轉構件120上。於此實施例中，旋轉構件120受電力致動時可使基材固持構件110轉動。噴淋構件130設置於基材固持構件110上方，並沿一滑軌140移動，於此實施例中，滑軌140為一直線滑軌，而噴淋構件130的移動方向A與基材固持構件110的轉動方向B是垂直的(請一併參考圖4-2)。

接續上述，當噴淋構件130將光阻材料噴灑於基材S時，旋轉構件120以一第一速度轉動圓柱形滾輪(基材固持構件110)。光阻材料塗佈噴灑於基材S後，旋轉構件120以一第二速度轉動圓柱形滾輪(基材固持構件110)，以將光阻材料均勻塗佈至基材S上，其中第二速度高於第一速度。於一實施例中，第一速度為1轉/分鐘至500轉/分鐘(即1RPM至500RPM)，而第二速度為100轉/分鐘至3000轉/分鐘(即100RPM至3000RPM)，其中RPM為每分鐘多少轉(Revolution(s) Per Minute)。圖4-1及圖4-2所示之實施例，包含但不限於無縫版製程中之全像圖圖案轉移使用。本創作多功能光阻塗佈裝置，可使光阻塗佈地更均勻且縮短製程時間，亦可製作較薄的光阻膜。

承上，於一實施例中，噴淋構件130具有一噴灑頭132，噴淋構件130在圓柱形滾輪(基材固持構件110)上方水平移動，以利將光阻材料較均勻地噴灑在基材S上。

可以理解的是，於又一實施例中，請參考圖5，噴淋構件130具有複數個噴灑頭132分配於圓柱形滾輪(基材固持構件110)上方。

於上述實例中，基材固持構件110亦可為一金屬材質之圓柱形滾輪，也就是說，基材固持構件110即為基材S，而光阻材質直接噴灑在基材固持構件110(圓柱形滾輪)上。

於又一實施例中，如圖6-1所示，其中基材固持構件110為一平面載台，而固持於平面載台上的基材S包含但不限於一晶圓或一玻璃。且旋轉構件120受動力驅動而轉動，用以使與旋轉構件120接觸的接合部112帶動基材固持構件110線性移動。於此實施例中，請一併參考圖6-2，滑軌140為一直線滑軌，而噴淋構件130的移動方向A與基材固持構件110的移動方向C是垂直的。於一實施例中，平面載台平行裝設光阻塗佈裝置100之一地面F，旋轉構件120帶動基材固持構件110與地面F平行移動。利用噴淋構件130與基材固持構件110的相對作動，使得光阻材質可較均勻地噴灑在基材S上。

根據上述，本創作之具多功能的光阻塗佈裝置，其係利用噴灑頭的方式將光阻材料以噴灑方式形成於基材上，不僅更光阻膜較均勻且製程也更快速，製程時間大幅降低。此外，噴灑頭的方式形成光阻膜比較不會產生條紋也較不容易剝離。更者，圓柱形滾輪的截面尺寸、長度更為彈性，可依據需求做不同設計。由於，光阻膜的品質提升，進而全像圖圖案轉移整體的製程良率亦提升，製程成本亦可大幅下降。此外，可基於不同基材變更基材固持構件的形式，使裝置使用上更為彈性。

綜合上述，本創作之具多功能的光阻塗佈裝置，用於將一光阻層形成至一基材，此外，此裝置適用於不同基材固持構件，其結構整體設計可使光阻塗佈地更均勻且縮短製程時間，進而提高產品品質。

以上所述之實施例僅是為說明本創作之技術思想及特點，其目的在使熟習此項技藝之人士能夠瞭解本創作之內容並據以實施，當不能以之限定本創作之專利範圍，即大凡依本創作所揭示之精神所作之均等變化或修飾，仍應涵蓋在本創作之專利範圍內。

10:滾輪 11:全像版 12:接縫 20:材料 21:全像紋路圖案 22:間隙 100:光阻塗佈裝置 110:基材固持構件 112:接合部 120:旋轉構件 130:噴淋構件 132:噴灑頭 140:滑軌 S:基材 A, B, C:方向 F:地面

[圖1至圖3]顯示本創作之先前技術之一示意圖。 [圖4-1]顯示本創作之一實施例之光阻塗佈裝置之一示意圖。 [圖4-2]顯示圖4-1的局部上視示意圖。 [圖5]顯示本創作之又一實施例之光阻塗佈裝置之一示意圖。 [圖6-1]顯示本創作之再一實施例之光阻塗佈裝置之一示意圖。 [圖6-2]顯示圖6-1的局部上視示意圖。

100:光阻塗佈裝置

110:基材固持構件

112:接合部

120:旋轉構件

130:噴淋構件

132:噴灑頭

140:滑軌

S:基材

A:方向

Claims (12)

1. 一種光阻塗佈裝置，用以形成一光阻層於一基材上，其包含： 一基材固持構件，用以固持該基材； 一旋轉構件，水平設置於該基材固持構件的至少一接合部，其中該旋轉構件用以使該基材固持構件轉動或直線移動；以及 一噴淋構件，設置於該基材固持構件上方，並沿一滑軌移動，用以將一光阻材料噴灑於該基材以於該基材上形成該光阻層，其中該噴淋構件的移動方向與該基材固持構件的轉動方向或與該基材固持構件的線性移動方向垂直。
2. 如請求項1所述之光阻塗佈裝置，其中該基材固持構件為一圓柱形滾輪，且該基材為金屬材質製成的基材；及該基材固持構件的該接合部係鎖固於該旋轉構件上。
3. 如請求項2所述之光阻塗佈裝置，其中該當該噴淋構件將該光阻材料噴灑於該基材時，該旋轉構件以一第一速度轉動該圓柱形滾輪；以及該光阻材料塗佈噴灑於該基材後，該旋轉構件以一第二速度轉動該圓柱形滾輪，以將該光阻材料均勻塗佈至該基材上，其中該第二速度高於該第一速度。
4. 如請求項3所述之光阻塗佈裝置，其中該第一速度為1轉/分鐘(RPM)至500轉/分鐘(RPM)。
5. 如請求項3所述之光阻塗佈裝置，其中該第二速度為100轉/分鐘(RPM)至3000轉/分鐘(RPM)。
6. 如請求項1所述之光阻塗佈裝置，其中該基材固持構件為一金屬材質的圓柱形滾輪，且該基材固持構件為該基材；及該基材固持構件的該接合部係鎖固於該旋轉構件上。
7. 如請求項6所述之光阻塗佈裝置，其中該當該噴淋構件將該光阻材料噴灑於該圓柱形滾輪時，該旋轉構件以一第一速度轉動該圓柱形滾輪；以及該光阻材料塗佈噴灑於該圓柱形滾輪後，該旋轉構件以一第二速度轉動該圓柱形滾輪，以將該光阻材料均勻塗佈至該圓柱形滾輪上，其中該第二速度高於該第一速度。
8. 如請求項7所述之光阻塗佈裝置，其中該第一速度為1轉/分鐘(RPM)至500轉/分鐘(RPM)。
9. 如請求項7所述之光阻塗佈裝置，其中該第二速度為100轉/分鐘(RPM)至3000轉/分鐘(RPM)。
10. 如請求項1所述之光阻塗佈裝置，其中該基材固持構件為一平面載台，且該旋轉構件受動力驅動而轉動，用以使與該旋轉構件接觸的該接合部帶動該基材固持構件線性移動。
11. 如請求項10所述之光阻塗佈裝置，其中該基材為一晶圓或一玻璃。
12. 如請求項10所述之光阻塗佈裝置，其中該平面載台平行裝設該光阻塗佈裝置之一地面，該旋轉構件帶動該基材固持構件與該地面平行移動。

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