CN210742674U - 光阻涂布装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型有关于一种光阻涂布装置，用于将一全像图图案转移至一饰材，光阻涂布装置包括：一基座，具有一第一致动构件；一圆柱形滚轮；以及一喷淋构件。圆柱形滚轮水平设置于基座上且喷淋构件设置于圆柱形滚轮的上方，其中当喷淋构件将光阻材料喷洒于圆柱形滚轮时，第一致动构件能以一第一速度转动圆柱形滚轮；以及光阻材料涂布喷扫于圆柱形滚轮后，第一致动构件能以一第二速度转动圆柱形滚轮，以将光阻材料均匀涂布至圆柱形滚轮上，其中第二速度高于第一速度。本实用新型的光阻涂布装置，可使光阻涂布地更均匀且缩短制作时间。

Description

光阻涂布装置

技术领域

本实用新型有关一种光阻涂布装置，尤其是关于一种用于将一全像图图案转移至一饰材的光阻涂布装置。

背景技术

以往在制作全像图图案转移时，请参考图1和图2，先于滚轮10上组装薄片状的全像版11，再将全像版11上的全像纹路图案转移至材料20上，使材料20具有相对应的全像纹路图案21。上述全像纹路图案的转移方式，转移后的材料20上两个相邻的全像纹路图案21之间，会留下对应于全像板11的接缝12的间隙22。因此，转移后的材料20在后续使用时，因为间隙22的存在而会造成材料20极大的浪费。一种改进的技术如图3所示，利用制作光阻、显影以将图案转移，其中当形成光阻层时，滚轮10倾斜设置，光阻材料利用滴涂(dripcoating)的方式慢慢涂布于滚轮10上，此种制作程序需耗费十几个工作日，且涂布的均匀度不是非常好。

有鉴于上述现有结构的缺失，制造质量良好、符合成本效益又适合于全像图图案转移的光阻涂布装置便是目前极需努力的目标。

实用新型内容

本实用新型提供了一种光阻涂布装置，用于将一全像图图案转移至一饰材，其结构整体设计的目的是使光阻涂布地更均匀且缩短制作时间，进而提高产品质量。

本实用新型一实施例的一种光阻涂布装置，用于将一全像图图案转移至一饰材，光阻涂布装置包括：一基座，具有一第一致动构件；圆柱形滚轮，利用一轮轴水平设置于所述基座上；以及一喷淋构件，设置于所述圆柱形滚轮的上方，所述喷淋构件用以将一光阻材料喷洒于所述圆柱形滚轮上；其中在所述喷淋构件将所述光阻材料喷洒于所述圆柱形滚轮的状态下，所述第一致动构件能以一第一速度转动所述圆柱形滚轮；以及所述光阻材料涂布喷扫于所述圆柱形滚轮后，所述第一致动构件能以一第二速度转动所述圆柱形滚轮，以将所述光阻材料均匀涂布至所述圆柱形滚轮上，其中所述第二速度高于所述第一速度。

优选的，其中，所述圆柱形滚轮为金属材质制成的圆柱形滚轮。

优选的，其中，所述喷淋构件具有一喷洒头。

优选的，其中，还包括一用以将所述喷淋构件在所述圆柱形滚轮的上方水平移动的第二致动构件。

优选的，其中，所述喷淋构件具有多个喷洒头。

优选的，其中，所述多个喷洒头平均分配于所述圆柱形滚轮的上方。

优选的，其中，所述第一速度为1转/分钟至500转/分钟。

优选的，其中，所述第二速度为100转/分钟至3000转/分钟。

本实用新型的光阻涂布装置的优点与效果是：可使光阻涂布地更均匀且缩短制作时间。

以下通过具体实施例配合所示附图详加说明，当更容易了解本实用新型的目的、技术内容、特点及其所达成的效果。

附图说明

图1至图3为现有技术的示意图；

图4为本实用新型的一实施例的光阻涂布装置的示意图；

图5为本实用新型的又一实施例的光阻涂布装置的示意图。

附图标记与说明：

10、滚轮； 11、全像版；

12、接缝； 20、材料；

21、全像纹路图案； 22、间隙；

100、光阻涂布装置； 110、基座；

112、第一致动构件； 114、第二致动构件；

120、圆柱形滚轮； 130、喷淋构件；

132、喷洒头。

具体实施方式

以下将详述本实用新型的各个实施例，并配合附图作为例示。除了这些详细说明之外，本实用新型也可广泛地施行于其它的实施例中，任何所述实施例的轻易替代、修改、等效变化都包含在本实用新型的范围内，并以权利要求书的范围为准。在说明书的描述中，为了使本领域的技术人员对本实用新型有较完整的了解，提供了许多特定细节；然而，本实用新型可能在省略部分或全部特定细节的前提下，仍可实施。此外，众所周知的步骤或元件并未描述于细节中，以避免对本实用新型形成不必要的限制。附图中相同或类似的元件将以相同或类似符号来表示。特别注意的是，附图仅为示意之用，并非代表元件实际的尺寸或数量，以求附图的简洁，有些细节可能未完全绘出。

请参照图4，本实用新型的一实施例的光阻涂布装置100，用于将一全像图图案转移至一饰材，光阻涂布装置100包括：一基座110、一圆柱形滚轮120以及一喷淋构件130。基座110具有一第一致动构件112。于一实施例中，圆柱形滚轮120为金属材质制成的圆柱形滚轮。

接续上述，如图4所示，圆柱形滚轮120水平设置于基座110上且喷淋构件130设置于圆柱形滚轮120的上方，其中当喷淋构件130将光阻材料喷洒于圆柱形滚轮120时，第一致动构件112以一第一速度转动圆柱形滚轮120；以及光阻材料涂布喷扫于圆柱形滚轮120后，第一致动构件112以一第二速度转动圆柱形滚轮120，以将光阻材料均匀涂布至圆柱形滚轮120上，其中第二速度高于第一速度。于一实施例中，第一速度为1转/分钟至500转/分钟(即1RPM至500RPM)，而第二速度为100转/分钟至3000转/分钟(即100RPM至3000RPM)，其中RPM的英文释义为round per minute即每分钟多少转。本实用新型光阻涂布装置，可使光阻涂布地更均匀且缩短制作时间，也可制作较薄的光阻膜。

接续上述，于一实施例中，喷淋构件130具有一喷洒头132。而光阻涂布装置100还包括一第二致动构件114，用以将喷淋构件130在圆柱形滚轮120的上方水平移动，以利于将光阻材料较均匀地喷洒在圆柱形滚轮120上。

可以理解的是，于又一实施例中，请参考图5，喷淋构件130具有多个喷洒头132，其中喷洒头132可以平均分配于圆柱形滚轮120的上方。

根据上述，本实用新型的光阻涂布装置，其是利用喷洒头的方式将光阻材料以喷洒的方式形成于基材(圆柱形滚轮120)上，不仅光阻膜较均匀且制作也更快速，制作时间可从16天大幅降低至2天。此外，喷洒头的方式形成光阻膜比较不会产生条纹也较不容易剥离。此外，圆柱形滚轮120的截面尺寸、长度更为弹性，可依据需求做不同设计。由于，光阻膜的质量提升，进而全像图图案转移整体的制作良率也提升，制作成本也可大幅下降。

综合上述，本实用新型的光阻涂布装置，用于将一全像图图案转移至一饰材，其结构整体设计可使光阻涂布地更均匀且缩短制作时间，进而提高产品品质。

以上所述的实施例仅是为说明本实用新型的技术思想及特点，其目的在使本领域的技术人员能够了解本实用新型的内容并据以实施，并不能以此限定本实用新型的专利保护范围，即只要依据本实用新型所揭露的精神所作的同等变化或修改，仍应涵盖在本实用新型的专利保护范围内。

Claims (8)

1.一种光阻涂布装置，用于将一全像图图案转移至一饰材，其特征在于，所述光阻涂布装置包括：

一基座，具有一第一致动构件；

一圆柱形滚轮，利用一轮轴水平设置于所述基座上；以及

一喷淋构件，设置于所述圆柱形滚轮的上方，所述喷淋构件用以将一光阻材料喷洒于所述圆柱形滚轮上；

其中，在所述喷淋构件将所述光阻材料喷洒于所述圆柱形滚轮的状态下，所述第一致动构件能以一第一速度转动所述圆柱形滚轮；以及

所述光阻材料涂布喷扫于所述圆柱形滚轮后，所述第一致动构件能以一第二速度转动所述圆柱形滚轮，以将所述光阻材料均匀涂布至所述圆柱形滚轮上，其中所述第二速度高于所述第一速度。

2.如权利要求1所述的光阻涂布装置，其特征在于，所述圆柱形滚轮为金属材质制成的圆柱形滚轮。

3.如权利要求1所述的光阻涂布装置，其特征在于，所述喷淋构件具有一喷洒头。

4.如权利要求3所述的光阻涂布装置，其特征在于，还包括一用以将所述喷淋构件在所述圆柱形滚轮的上方水平移动的第二制动构件。

5.如权利要求1所述的光阻涂布装置，其特征在于，所述喷淋构件具有多个喷洒头。

6.如权利要求5所述的光阻涂布装置，其特征在于，所述多个喷洒头平均分配于所述圆柱形滚轮的上方。

7.如权利要求1所述的光阻涂布装置，其特征在于，所述第一速度为1转/分钟至500转/分钟。

8.如权利要求1所述的光阻涂布装置，其特征在于，所述第二速度为100转/分钟至3000转/分钟。

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