TWI810766B - 用於量測設置於伴隨溫度改變的氣氛中的基板支撐構件之水平度的基板式感測器、藉由使用基板式感測器量測基板支撐構件之水平度的方法、及非暫時性電腦可讀媒體 - Google Patents

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Abstract

揭示一種藉由使用基板式感測器來量測水平度的方法。在實施例中，前述方法可包括步驟(1)將基板式感測器以第一角度定位於支撐構件中，步驟(2)將由步驟(1)中一或多個感測器收集的資料作為第一資料接收，步驟(3)將基板式感測器以不同於第一角度的第二角度定位於支撐構件中，步驟(4)將由步驟(3)中一或多個感測器收集的資料作為第二資料接收，及步驟(5)藉由比較第一資料與第二資料判定支撐構件是否水平。

Description

用於量測設置於伴隨溫度改變的氣氛中的基板支撐構件之水平度的基板式感測器、藉由使用基板式感測器量測基板支撐構件之水平度的方法、及非暫時性電腦可讀媒體
本文所述發明概念的實施例係關於用於量測設置於伴隨溫度改變的氣氛中的基板支撐構件之水平度的基板式感測器以及藉由使用基板式感測器量測水平度的方法。
通常，半導體裝置係藉由使用諸如晶圓的基板來製造。具體而言，半導體裝置係藉由執行沉積製程、光學微影術製程、蝕刻製程、及類似者來製造，以在基板的上表面上形成精細電路圖案。
由於在其上形成電路圖案的基板上表面在製程執行期間可能受到污染，故可執行清洗製程以移除異物。
近年來，超臨界流體已用於清洗基板或顯影基板的製程中。根據實例，可藉由使用異丙醇(下文稱為IPA)清洗基板的上表面、並藉由供應超臨界狀態的二氧化碳(CO2)至基板的上表面移除留在基板上的IPA來執行清洗製程。
使用超臨界流體的製程使用提供處理空間的容器，其中製程流體可保持在高溫/高壓超臨界相。舉例而言，當二氧化碳(CO2)以超臨界狀態供應至基板上表面時，容器的處理空間必須保持在二氧化碳的臨界溫度或更高及臨界壓力或更高。當處理空間保持在臨界溫度或更高及臨界壓力或更高時，支撐設置於處理空間中的晶圓的基板支撐構件的晶圓的水平狀態不能保持，但當前發明者認知到晶圓的水平狀態不能在容器內部由基板支撐構件直接量測。
本發明概念的態樣提供一種用於量測水平度的基板式感測器，其能夠量測位於提供高溫/高壓氣氛的容器內部的基板支撐構件的空閒狀態、及藉由使用超臨界流體處理基板(舉例而言，晶圓)的製程期間，基板支撐構件的水平狀態，以及藉由使用基板式感測器量測水平度的方法。
本發明概念的態樣亦提供用於量測水平度的基板式感測器，其能夠以0.1度或更小的單位量測位於提供高溫/高壓氣氛的容器內部的基板支撐構件的空閒狀態及藉由使用超臨界流體處理基板(例如，晶圓)的製程期間，基板支撐構件的水平狀態，以及藉由使用基板式感測器量測水平度的方法。
本發明概念的態樣提供一種基板處理方法及基板處理設備，藉由前述方法及設備，當藉由使用超臨界流體清洗基板時，可以提高清洗效率。
本發明概念的態樣不限於此，熟習此項技術者可自以下描述清楚地理解本發明的其他未提及態樣。
本發明概念提供設置於伴隨溫度改變的氣氛中的基板式感測器，用於量測支撐基板的支撐構件的水平度。在實施例中，基板式感測器可包括具有基板形狀的基座、設置於基座中包括3個或3個以上軸加速度感測器或6個或6個以上軸量測單元(IMU)的一或多個感測器、接收由一或多個感測器收集的資料的接收器、及提供電力至一或多個感測器及接收器的電源。
在實施例中，基座可具有與基板的尺寸實質上相同的實體尺寸。
在實施例中，可提供複數個感測器，且第二感測器可相對於基座中心設置於與第一感測器相對180度的位置處。
在實施例中，基板式感測器可進一步包括一發射器，用於將接收器接收到的資料發送至外部。
在實施例中，支撐構件可包括複數個支撐銷，這些支撐銷將基板與支撐構件的平面以特定間隔間隔開，且一或多個感測器可位於對應於支撐銷中之任意一或多者的位置處。
在實施例中，一或多個感測器可產生根據暴露溫度而改變的獨特誤差。
本發明概念亦提供一種藉由使用基板式感測器量測水平度的方法。在實施例中，前述方法可包括步驟(1)將基板式感測器以第一角度定位於支撐構件中，步驟(2)將由步驟(1)中一或多個感測器收集的資料作為第一資料接收，步驟(3)將基板式感測器以不同於第一角度的第二角度定位於支撐構件中，步驟(4)將由步驟(3)中一或多個感測器收集的資料作為第二資料接收，及(5)藉由比較第一資料與第二資料判定支撐構件是否水平。
在實施例中，一或多個感測器可係6個或6個以上軸慣性量測單元(inertia measurement unit；IMU)，第一資料及第二資料可分別包括滾轉(位凖X)及俯仰(位凖Y)元素，第一資料與第二資料之比較可係比較第一資料之元素與第 二資料之元素，當第一資料之元素及第二資料之元素包括於同一類別中時，可判定支撐構件係水平的，而當第一資料之元素及第二資料之元素不包括於同一類別中時，可判定支撐構件係傾斜的。
在實施例中，一或多個感測器可係6個或6個以上軸慣性量測單元(IMU)，第一資料及第二資料可分別包括滾轉(位凖X)及俯仰(位凖Y)元素，第一資料可包括(位凖X1，位凖Y1)元素，第二資料可包括(位凖X2，位凖Y2)元素，一或多個感測器可產生根據暴露溫度而改變的獨特誤差，由基板式感測器量測的支撐構件的傾斜可藉由儲存可由處理器執行的程式碼的非暫時性電腦可讀媒體計算為包括(位凖Xa，位凖Ya)的元素，且當第一角度為0度且第二角度為180度時，位凖Xa可為(位凖X1-位凖X2)/2，且位凖Ya可為(位凖Y1-位凖Y2)/2。
在實施例中，第一資料可包括(X1，Y1，Z1)元素，第二資料可包括(X2，Y2，Z2)元素，第一資料與第二資料的比較可係比較第一資料之元素與第二資料之元素，當第一資料之元素及第二資料之元素包括於同一類別中時，可判定支撐構件係水平的，而當第一資料之元素與第二資料之元素不包括於同一類別中時，可判定支撐構件係傾斜的。
在實施例中，基板式感測器可經組態以：提供複數個感測器，且一個感測器相對於基座中心設置於與另一感測器相對180度的位置處，第一資料及第二資料分別由前述一個感測器及另一感測器接收，藉由比較接收自第一感測器的第一資料與第二資料來判定支撐構件是否水平，並藉由比較接收自第二感測器的第一資料與第二資料來驗證自前述一個感測器得出的判定的有效性。
在實施例中，支撐構件可提供至藉由使用超臨界流體處理基板的基板處理設備的高壓容器，支撐構件可包括複數個支撐銷，以特定間隔將基板 與支撐構件的平面間隔開，且一或多個感測器可定位於對應於第一角度及第二角度的支撐銷中之一或多者的位置處。
在實施例中，支撐構件可固定至高壓容器的上部部分，複數個固定桿可將支架與高壓容器的上部部分連接，且支撐銷可形成於支架的上表面上。
在實施例中，第一資料可包括(X1，Y1，Z1)的X1及Y1元素，第二資料可包括(X2，Y2，Z2)的X2及Y2元素，感測器可產生根據暴露溫度改變的獨特誤差，且獨特誤差包括(X3，Y3，Z3)的X3及Y3元素，可藉由儲存可由處理器執行的程式碼的非暫時性電腦可讀媒體將由基板式感測器量測的支撐構件的傾斜計算為包括(x，y，z)的x及y的元素，當第一角度為0度且第二角度為180度時，x為(X1-X2)/2且y為(Y1-Y2)/2。
在實施例中，第一資料可包括(X1，Y1，Z1)元素，第二資料可包括(X2，Y2，Z2)元素，感測器可產生根據暴露溫度改變的獨特誤差，且獨特誤差可包括(X3，Y3，Z3)元素，由基板式感測器量測的支撐構件的傾斜可藉由儲存可由處理器執行的程式碼的非暫時性電腦可讀媒體計算為包括(x,y,z)的元素，且當第一角度為0度且第二角度為180度時，x為(X1-X2)/2，y為(Y1-Y2)/2， 且z為
Figure 110148804-A0305-02-0007-1
。
本發明概念亦提供一種非暫時性電腦可讀媒體，用於儲存可由處理器執行的程式碼。在實施例中，處理器可藉由比較基板式感測器以第一角度位於支撐構件中之後收集的第一資料與基板式感測器以不同於第一角度的第二角度位於支撐構件中之後收集的第二資料來導出支撐構件是否水平。
在實施例中，第一資料及第二資料可分別包括滾轉(位凖X)及俯仰(位凖Y)元素，第一資料與第二資料的比較可係比較第一資料之元素與第二資料之元素，當第一資料之元素及第二資料之元素包括於同一類別中時，可判定支 撐構件係水平的，而當第一資料之元素及第二資料之元素不包括於同一類別中時，可判定支撐構件係傾斜的。
在實施例中，第一資料及第二資料可分別包括滾轉(位凖X)及俯仰(位凖Y)元素，第一資料可包括(位凖X1，位凖Y1)元素，第二資料可包括(位凖X2，位凖Y2)元素，一或多個感測器可產生根據暴露溫度改變的獨特誤差，由基板式感測器量測的支撐構件的傾斜可藉由儲存可由處理器執行的程式碼的非暫時性電腦可讀媒體計算為包括(位凖Xa，位凖Ya)的元素，當第一角度為0度且第二角度為180度時，位凖Xa為(位凖X1-位凖X2)/2，且其中位凖Ya為(位凖Y1-位凖Y2)/2。
在實施例中，第一資料可包括(X1，Y1，Z1)的X1及Y1元素，第二資料可包括(X2，Y2，Z2)的X2及Y2元素，支撐構件的傾斜可計算為包括(x，y，z)的x及y的元素，且當第一角度界定為0度且第二角度界定為180度時，x可為(X1-X2)/2且y可為(Y1-Y2)/2。
在實施例中，第一資料可包括(X1，Y1，Z1)元素，第二資料可包括(X2，Y2，Z2)元素，支撐構件的傾斜可計算為(x，y，z)，且當第一角度為0度且第二角度為180度時，x為(X1-X2)/2，y為(Y1-Y2)/2，且z為
Figure 110148804-A0305-02-0008-2
在實施例中，根據感測器暴露的溫度產生的獨特誤差包括(X3，Y3，Z3)元素，x可為(X1-X2)/2，y可為(Y1-Y2)/2，且z可計算為
Figure 110148804-A0305-02-0008-3
10:索引模組
12:負載埠
14:索引框
20:處理模組
30:控制器
80:容器
92:第一方向
94:第二方向
96:第三方向
120:索引機器人
122:手部
140:導軌
152:第二支撐突起
200:緩衝單元
220:緩衝器
300:轉移設備
320:轉移機器人
322:手部
340:導軌
400:液體處理設備
410:殼體
420:杯
422:第一回收容器
422a:第一入口
424:第二回收容器
424a:第二入口
426:第三回收容器
426a:第三入口
440:支撐單元
442:支撐板
442a:支撐銷
442b:卡盤銷
444:驅動軸
446:驅動器
460:液體供應單元
461:臂
462:第一噴嘴
464:第二噴嘴
466:第三噴嘴
480:提升單元
500:超臨界處理設備
500a:基板處理設備
502:處理空間
504:緩衝區域
520:容器
522:上部容器
524:下部容器
531:第一供應埠
532:排氣埠
533:第二供應埠
540:支撐構件/第一基板支撐部分
542:固定桿
542a:第一固定桿
542b:第二固定桿
542c:第三固定桿
542d:第四固定桿
544:支架
544a:第一支架
544b:第二支架
546a:第一支撐銷
546b:第二支撐銷
546c:第三支撐銷
546d:第四支撐銷
550:排氣單元
560:流體供應單元
562:主供應線
564:上部分支線
566:下部分支線
570:加熱器
580:擋板
582:支撐構件
583:第二基板支撐部分
590:驅動構件
600:基板式感測器
610:基座
621:第一感測器
622:第二感測器
623:第三感測器
624:第四感測器
630:中心模組
1600:基板式感測器
W:基板
上述以及其他標的物及特徵將自以下參考下圖的描述中變得明顯，其中除非另有規定，否則相同的元件符號係指各個圖式中的相同部件，且其中：圖1係示意性地圖示根據本發明概念的實施例的基板處理設備之平面圖；圖2係示意性地圖示圖1的液體處理設備的實施例之視圖；圖3係示意性地圖示圖1的超臨界處理設備的實施例之視圖；圖4係圖示設置於圖3的超臨界處理設備中的基板支撐構件的實施例之透視圖；圖5係根據本發明概念的實施例的基板式感測器之平面圖；圖6係根據本發明概念的實施例的圖5的基板式感測器之透視圖；圖7圖示一例示性視圖，其中IMU的量測值根據一量測值改變，其中圖7A的圖形係根據第一IMU的溫度改變的量測值改變之實例，圖7B的圖形係根據第二IMU的溫度改變的量測值改變之實例；圖8圖示根據本發明概念的實施例藉由使用基板式感測器600來判定支撐構件是否可水平支撐晶圓的方法，並圖示支撐構件可水平支撐晶圓的情況；圖9圖示根據本發明概念的實施例藉由使用基板式感測器600來判定支撐構件是否可水平支撐晶圓的方法，並圖示支撐構件不能水平支撐晶圓的實例，且圖示當晶圓由支撐構件支撐時支撐構件傾斜θ的情況；圖10係根據本發明概念的另一實施例的基板式感測器之平面圖；圖11係根據圖10的實施例的基板式感測器之透視圖； 圖12圖示根據圖10的實施例藉由使用基板式感測器來判定支撐構件是否可水平支撐晶圓的方法，並圖示支撐構件可水平支撐晶圓的情況；圖13圖示根據圖10的實施例藉由使用基板式感測器來判定支撐構件是否可水平支撐晶圓的方法，並圖示支撐構件不能水平支撐晶圓的實例，且圖示當晶圓由支撐構件支撐時支撐構件傾斜θ的情況；圖14係用於解釋根據本發明概念的實施例的概念之坐標軸；圖15係用於解釋根據本發明概念的另一實施例的概念之坐標軸；圖16係示意性地圖示圖1的超臨界處理設備的另一實施例之視圖，且係圖示容器打開狀態之橫截面圖；及圖17係圖示根據圖16的實施例的超臨界處理設備的容器關閉的狀態之橫截面圖。
在下文中，將參考隨附圖式詳細描述本發明概念的例示性實施例，以便本發明概念所屬領域的熟練技術人士可容易地實現本發明概念。然而，本發明概念可以各種不同形式實施，且不限於實施例。此外，在對本發明概念的實施例的描述中，當相關已知功能或組態使得本發明概念的實質不必要地不清楚時，將省略其詳細描述。此外，相同的參考號用於在整個圖式中執行類似功能及操作的部件。
「包括」一些元素的表達可意謂可進一步包括另一元素而不排除，除非有特別矛盾的描述。具體而言，術語「包括」及「具有」用於標記說明書中描述的特徵、數目、步驟、操作、元件、部分、或其組合係存在的，且可理解為可添加一或多個其他特徵、數目、步驟、操作、元件、部分、或其組合。
除非另有規定，否則單數形式的術語可包括複數形式。此外，在隨附圖式中，為了更清楚地描述，可誇大元件的形狀及尺寸。
術語「及/或」包括所列項目中之任意一者及一或多個組合。此外，說明書中「連接」的含義不僅指構件A與構件B彼此直接連接的情況，而且亦指構件A與構件B彼此間接連接、而構件C***構件A與構件B之間的情況。
本發明的實施例可以各種形式修改，且本發明概念的範疇不應解釋為限於以下實施例。提供本發明概念的實施例係為熟習此項技術者更完整地描述本發明概念。因此，隨附圖式的組件形狀經誇大以強調其更清楚的描述。
圖1係示意性地圖示根據本發明概念的實施例的基板處理系統之平面圖。
參考圖1，基板處理系統包括索引索引模組10、處理模組20、及控制器(未示於圖)。根據實施例，索引模組10及處理模組20沿一個方向安置。下文中，安置索引模組10及處理模組20的方向將稱為第一方向92，當自頂部觀察時垂直於第一方向92的方向將稱為第二方向94，且與第一方向92及第二方向94兩者垂直的方向將稱為第三方向96。
索引模組10將晶圓「W」自容器80(其中接收晶圓「W」)轉移至處理模組20，且完全由處理模組20處理的晶圓「W」在容器80中接收。索引模組10的縱向方向為第二方向94。索引模組10包括複數個負載埠12及一索引框14。負載埠12位於處理模組20相對於索引框14的相對側上。接收晶圓「W」的容器80定位於負載埠12上。可提供複數個負載埠12，且複數個負載埠12可沿第二方向94安置。
容器80可係封閉容器，諸如前開式統一吊艙(front open unified pod；FOUP)。容器80可藉由饋入單元(未圖示)定位於負載埠12上，饋入單元諸如高架傳送裝置、高架輸送機、或自動導引車輛、或操作者。
在索引框14中設置索引機器人120。可在索引框14中設置縱向方向為第二方向94的導軌140，且索引機器人120可在導軌140上移動。索引機器人120包括手122，晶圓「W」定位於手122上，且手122可前後移動，繞第三方向96旋轉，並沿第三方向96移動。可設置複數個手122，使其在向上/向下方向上彼此間隔開，且可獨立地向前及向後移動手122。
處理模組20包括緩衝單元200、轉移設備300、液體處理設備400、及超臨界處理設備500。緩衝單元200提供空間，其中帶入處理模組20中的晶圓「W」及自處理模組20中帶出的晶圓「W」暫時停留於其中。液體處理設備400藉由將液體供應至晶圓「W」上來執行液體處理晶圓「W」的液體處理製程。超臨界處理設備500執行移除駐留在晶圓「W」上的液體的乾燥製程。轉移設備300在緩衝單元200、液體處理設備400、及超臨界處理設備500中之任意兩者之間轉移晶圓「W」。
轉移設備300經安置使得其縱長方向為第一方向92。緩衝單元200安置於索引模組10與轉移設備300之間。液體處理設備400及超臨界處理設備500可安置於轉移設備300的一側上。液體處理設備400與轉移設備300可沿第二方向94安置。超臨界處理設備500與轉移設備300可沿第二方向94安置。緩衝單元200可位於轉移設備300的一個末端處。
根據實例，液體處理設備400可安置於轉移設備300的相對側上，超臨界處理設備500可安置於轉移設備300的相對側上，且液體處理設備400可安置於比超臨界處理設備500更靠近緩衝單元200的位置處。在轉移設備300的一側上，液體處理設備400可設置於沿第一方向92與第三方向96的「A」乘「B」(「A」及「B」為1或大於1之整數)的陣列上。此外，在轉移設備300的一側上，超臨界處理設備500可設置於沿第一方向92與第三方向96的「C」乘「D」(「C」及「D」 為1或大於1之整數)的陣列上。與上述描述不同，僅液體處理設備400可設置於轉移設備300的一側上，且僅超臨界處理設備500可設置於其相對側上。
轉移設備300具有轉移機器人320。縱長方向為第一方向92的導軌340可設置於轉移設備300中，且轉移機器人320可在導軌340上移動。轉移機器人320包括一手部322，晶圓「W」定位於手部322上，且手部322可向前及向後移動、繞第三方向96旋轉、及沿第三方向96移動。可設置複數個手部322，以在向上/向下方向上彼此間隔開，且手部322可獨立地向前及向後移動。
緩衝單元200包括複數個緩衝器220，晶圓「W」定位於其上。緩衝器220安置成沿第三方向96彼此間隔開。緩衝單元200的正面及背面可打開。正面係面向索引模組10的表面，而背面係面向轉移設備300的表面。索引機器人120可經由正面接近緩衝單元200，而轉移機器人320可經由背面接近緩衝單元200。
圖2係示意性地圖示圖1之液體處理設備400的實施例之視圖。參考圖2，液體處理設備400包括殼體410、杯420、支撐單元440、液體供應單元460、及提升單元480。殼體410具有基本矩形的平行六面體形狀。杯420、支撐單元440、及液體供應單元460安置於殼體410中。
杯420具有開放式頂部的處理空間，且晶圓「W」在處理空間中進行液體處理。支撐單元440在處理空間中支撐晶圓「W」。液體供應單元460將液體供應至由支撐單元440支撐的晶圓「W」上。可提供複數種液體，且可順序地供應至晶圓「W」上。提升單元480調整杯420與支撐單元440之間的相對高度。
根據實施例，杯420具有複數個回收容器(422、424、及426)。回收容器(422、424、及426)具有用於回收處理基板的液體的回收空間。回收容器 (422、424、及426)設置成具有圍繞支撐單元440的環形形狀。當執行液體處理製程時，由於晶圓「W」的旋轉而飛濺的預處理液體經由回收容器(422、424、及426)的入口(422a、424a、及426a)引入回收空間。根據實施例，杯420具有第一回收容器422、第二回收容器424、及第三回收容器426。第一回收容器422安置成圍繞支撐單元440，第二回收容器424安置成圍繞第一回收容器422，且第三回收容器426安置成圍繞第二回收容器424。經由其將液體引入第二回收容器424的第二入口424a可位於經由其將液體引入第一回收容器422的第一入口422a的上側上，且經由其將液體引入第三回收容器426的第三入口426a可位於第二入口424a的上側上。
支撐設備440具有支撐板442及驅動軸444。支撐板442的上表面可具有基本圓形形狀，且可具有大於晶圓「W」直徑的直徑。支撐晶圓「W」的背面的支撐銷442a設置於支撐板442的中心部分處，且支撐銷442a的上部末端突出於支撐板442，使得晶圓「W」與支撐板442藉由特定距離間隔開。卡盤銷442b設置於支撐板442的邊緣部分處。卡盤銷442b向上突出於支撐板442，並支撐晶圓「W」的一側，使得當晶圓「W」旋轉時晶圓「W」不與支撐單元440分離開。驅動軸444由驅動器446驅動，並連接至晶圓「W」的底表面的中心，並圍繞其中心軸旋轉支撐板442。
根據一實例，液體供應單元460具有第一噴嘴462、第二噴嘴464、及第三噴嘴466。第一噴嘴462供應第一液體至晶圓「W」。第一液體可為移除駐留在晶圓「W」上的薄膜或異物的液體。第二噴嘴464供應第二液體至晶圓「W」。第二液體可為容易溶解於第三液體中的液體。舉例而言，第二液體可為比第一液體更容易溶解於第三液體中的液體。第二液體可為中和供應至晶圓「W」上的第一液體的液體。此外，第二液體可為中和第一液體且比第一液體更容易溶解於第三液體中的液體。根據實施例，第二液體可為水。第三噴嘴466 供應第三液體至晶圓「W」。第三液體可為容易溶解於超臨界處理設備500中使用的超臨界處理流體中的液體。舉例而言，第三液體可為比第二液體容易溶解於超臨界處理設備500中使用的超臨界流體中的液體。根據一實例，第三液體可為有機溶劑。有機溶劑可係異丙醇(Isopropyl Alcohol；IPA)。根據實施例，超臨界流體可為二氧化碳。第一噴嘴462、第二噴嘴464、及第三噴嘴466可由不同的臂461支撐，且臂461可獨立移動。任選地，第一噴嘴462、第二噴嘴464、及第三噴嘴466可安裝於同一臂上來同時移動。
提升單元480向上及向下移動杯420。杯420與晶圓「W」之間的相對高度隨著杯420向上及向下移動而改變。因此，由於回收預處理液體的回收容器(422、424、及426)根據供應至晶圓「W」的液體的種類而改變，故可分離及回收液體。與上述描述不同，杯420可固定安裝，而提升單元480可向上及向下移動支撐單元440。
圖3係示意性地圖示圖1的超臨界處理設備500的實施例之視圖。根據實施例，超臨界處理設備500藉由使用超臨界流體移除晶圓「W」上的液體。超臨界處理設備500包括容器520、支撐構件540、流體供應單元560、及擋板580。
容器520提供處理空間502，在其中執行超臨界製程。容器520具有上部容器522(上部主體)及下部容器524(下部主體)，且上部容器522與下部容器524組合以提供上述處理空間502。上部容器522設置於下部容器524之上。上部容器522的位置可固定，而下部容器524可由諸如氣缸的驅動構件590提升。當下部容器524與上部容器522間隔開時，處理空間502打開，接著，將晶圓「W」帶入或帶出。在製程期間，下部容器524附著於上部容器522，且處理空間502密封於外部。超臨界處理設備500具有加熱器570。根據實施例，加熱器570位於容器520的壁之內。在一實施例中，加熱器570可提供至構成容器520的上部容器522 及下部容器524中之任意一或多者。加熱器570加熱容器520的處理空間502，使得供應至容器520的處理空間502中的流體保持在超臨界狀態。由於超臨界流體，處理空間502形成一氣氛。
支撐構件540在容器520的處理空間502中支撐晶圓「W」。支撐構件540包括固定桿542及支架544。固定桿542可固定安裝於上部容器522中，以向下突出於上部容器522的底表面。可設置固定桿542，使得其縱長方向在向上/向下方向上。可設置複數個彼此間隔開的固定桿542。固定桿542安置成使得當晶圓「W」帶入或帶出由固定桿542圍繞的空間時，晶圓「W」不會干擾固定桿542。支架544耦接至固定桿542中之各者。支架544自固定桿542的下部末端在平行於地面的方向上延伸。在一實施例中，支架544以可支撐晶圓「W」下部末端圓周的形狀延伸，以支撐待支撐的晶圓「W」的下表面。
流體供應單元560供應製程流體至容器520的處理空間502。根據實施例，製程流體可以超臨界狀態供應至處理空間502。與此不同，製程流體可以氣態供應至處理空間502，且可在處理空間502中相變為超臨界狀態。根據實施例，流體供應單元560具有主供應線562、上部分支線564、及下部分支線566。上部分支線564及下部分支線566自主供應線562分支開。上部分支線564耦接至上部容器522，以在定位於支撐構件540上的晶圓「W」上方供應清洗液。根據一實例，上部分支線564耦接至上部容器522的中心。下部分支線566耦接至下部容器524，以供應定位於支撐構件540上的晶圓「W」下方的清洗液。根據實例，下部分支線566耦接至下部容器524的中心。排氣單元550耦接至下部容器524。容器520的處理空間502中的超臨界流體經由排氣單元550排放至容器520的外部。
擋板580可安置於容器520的處理空間502中。擋板580可具有圓盤形狀。擋板580由支撐構件582支撐，以與容器520的底表面向上間隔開。支撐構 件582具有桿狀形狀，且複數個支撐構件582安置成藉由特定距離彼此間隔開。當自頂部觀察時，擋板580可設置為與下部分支線566的出口及排氣單元550的入口重疊。擋板580可防止經由下部分支線566供應的清洗液直接朝向晶圓「W」排放從而損壞晶圓「W」。
圖4係圖示設置於圖3的超臨界處理設備中的支撐構件540的實施例之透視圖。參考圖4，將更詳細地描述根據實施例的支撐構件540。
支撐構件540包括固定桿542及支架544。固定桿542可固定安裝於上部容器522中，以向下突出於上部容器522的底表面。可設置固定桿542，使得其縱長方向為向上/向下方向。根據實施例，複數個固定桿542可彼此間隔設置。在一實施例中，固定桿542包括第一固定桿542a、第二固定桿542b、第三固定桿542c、及第四固定桿542d。複數個支架544可彼此間隔設置。在一實施例中，支架544包括第一支架544a及第二支架544b。第一固定桿542a及第二固定桿542b耦接至第一支架544a。第三固定桿542c及第四固定桿542d耦接至第二支架544b。第一固定桿542a及第二固定桿542b彼此相鄰，且第三固定桿542c及第四固定桿542d彼此相鄰。第一固定桿542a與第三固定桿542c之間的距離很大，使得晶圓「W」可在兩者之間通過。
第一支架544a可具有具有特定中心角的圓弧形狀。第一支撐銷546a及第二支撐銷546b設置於第一支架544a的上表面上，以彼此間隔開。第一支撐銷546a及第二支撐銷546b藉由特定高度突出於第一支架544a的上表面。隨著第一支撐銷546a與第二支撐銷546b之間的間隔距離變大，晶圓「W」可穩定地支撐，但可根據設計做出不同的設定。
第二支架544b可具有具有特定中心角的圓弧形狀。第三支撐銷546c及第四支撐銷546d設置於第二支架544b的上表面上，以彼此間隔開。第三 支撐銷546c及第四支撐銷546d藉由特定高度突出於第二支架544b的上表面。隨著第三支撐銷546c與第四支撐銷546d之間的間隔距離變大，晶圓「W」可穩定地支撐，但可根據設計做出不同的設定。
第一支撐銷546a、第二支撐銷546b、第三支撐銷546c、及第四支撐銷546d藉由特定間隔將晶圓「W」與由支架544界定的平面間隔開。支撐銷546藉由減小晶圓「W」與支架544的接觸面積來減輕晶圓「W」由於晶圓「W」與支架544的接觸所受到的污染。根據實施例，儘管支撐銷546為第一支撐銷546a、第二支撐銷546b、第三支撐銷546c、及第四支撐銷546d總共四個支撐銷，但只要支撐銷546可藉由特定距離與由支架544界定的平面間隔開，則可提供與本說明書不同數目的支撐銷546。支撐銷546必須在高溫及高壓環境下保持不變形。在一實施例中，支撐銷546可由與支架544相同的材料形成。
由於上述結構，帶入容器520的處理空間502中的晶圓「W」的周邊區域定位於支架544的支撐銷546上，且晶圓「W」的整個上表面區域、晶圓「W」的下表面的中心區域、及晶圓「W」的底表面的周邊區域的一部分暴露於供應至處理空間502中的製程流體。
支撐晶圓「W」的支撐銷546的末端高度必須一致。支撐銷546的高度可根據支架544的水平度以及固定桿542與上部容器522的耦接程度而改變。此外，由於在打開容器520的製程中下部容器524的提升，支撐銷546的最上端的高度可變得不同。由於除上述原因以外的各種原因，支撐銷546的最上端的高度可變得不同。然而，僅當支撐銷546的最上端的高度設定為相同時，由支撐銷546的上部末端支撐的晶圓「W」才可保持水平。可經由水滴計判定支撐銷546最上端的高度是否相同，但誤差範圍嚴重，且在該製程中無法識別支撐銷546最上端的高度是否相同。
圖5係根據本發明概念的實施例的基板式感測器600之平面圖。圖6係根據本發明概念的實施例的圖5的基板式感測器之透視圖。參考圖5及圖6，將描述根據實施例的基板式感測器600。當使用根據本發明概念的實施例的基板式感測器600時，可判定晶圓「W」是否可由支撐構件540水平支撐。舉例而言，基板式感測器600以不超過0.1度的單位量測支撐銷546最上端的高度差，並可識別在該製程中支撐銷546最上端的高度是否相同。
基板式感測器600包括基座610。基座610設置成具有與基板的尺寸基本相同或相似的實體尺寸。基本相同或類似係指程度大到使得一般技術人士認為，當基板式感測器600與基板的環境相同時，即使基板式感測器600的尺寸與經處理基板的尺寸不完全相同，由基板式感測器600形成的條件亦為基板經處理時的條件。
基板式感測器600包括一或多個感測器。感測器包括3個或3個以上軸加速度感測器或6個或6個以上慣性量測單元。
加速度感測器係已知技術，且係可參照地球重力加速度量測施加於物件上的力的感測器。加速度感測器藉由將重力加速度分解為X、Y、及Z軸的分量來顯示軸的大小。加速度感測器可藉由X、Y、及Z值的向量和來表示重力加速度。由於即使在停止狀態下加速度感測器的值亦具有特定值，故可識別傾斜度。在藉由使用加速度感測器量測傾斜時，x軸的傾斜可由arctan(x/z)表達且y軸的傾斜可由arctan(y/z)表達。
6個或6個以上軸IMU(以下稱為「IMU」)係已知技術，且除3軸加速度感測器以外，亦包括一3軸陀螺感測器。三軸陀螺感測器量測角速度。如圖14所示，6個或6個以上軸IMU計算滾轉(以下稱為位凖Y)、俯仰(以下稱為位凖 X)、及偏航。在已知IMU中，可應用三軸地磁感測器來校正陀螺感測器的最終值漂移的現象。
諸如IMU的感測器的量測值在敏感地反應溫度改變時發生改變，從而造成誤差。作為實例，IMU的量測值亦隨著溫度的升高而增大。舉例而言，IMU的量測值亦隨著溫度的降低而減小。圖7圖示一例示性視圖，其中IMU的量測值根據溫度而改變，其中圖7A的圖形係根據第一IMU的溫度改變而量測值改變之實例，而圖7B的圖形係根據第二IMU的溫度改變而量測值改變之實例。參考圖7A的圖形及圖7B的圖形，與第二IMU相比，第一IMU的溫度量測的改變率高。根據本發明概念的一實施例，儘管根據溫度上升存在量測誤差，但可判定晶圓「W」是否可由支撐構件540水平支撐。
提供至基板式感測器600的感測器包括第一感測器621。此外，可進一步包括第二感測器622。第一感測器621及第二感測器622為6個或6個以上軸IMU。第一感測器621及第二感測器622可位於相對於基板式感測器600的中心「C」的彼此相對的位置處。第一感測器621及第二感測器622可位於基板式感測器600的邊緣處。在實施例中，第一感測器621及第二感測器622可安置成位於支撐銷546的上部部分處。詳言之，第一感測器621可位於第一支撐銷546a的上部部分處，而第二感測器622可位於第四支撐銷546d的上部部分處。由第一感測器621及第二感測器622相對於基板式感測器600的中心「C」界定的角度可為180度。
基板式感測器600包括中心模組630。中心模組630可包括自第一感測器621及/或第二感測器622接收資料的通訊裝置、儲存資料的儲存裝置、發送資料的發射器、及提供電力至組態的電源。第一感測器621及中心模組630可彼此連接，使得由第一感測器621獲取的資料可由中心模組630接收。第二感測器622及中心模組630可彼此連接，使得由第二感測器622獲取的資料可由中心模 組630接收。發射器可由無線通訊模組提供。經由由發射器發送的資料，可由提供至外部的裝置進行以下描述之計算。此外，提供計算器至中心模組630，將在以下描述之計算由計算器進行，且由支撐構件540產生的傾斜可藉由發射器發送至外部設備。
圖8圖示根據本發明概念的一實施例藉由使用基板式感測器600來判定支撐構件540是否可水平支撐晶圓的方法，並圖示支撐構件可水平支撐晶圓的情況。圖9圖示根據本發明概念的實施例藉由使用基板式感測器600來判定支撐構件是否可水平支撐晶圓的方法，並圖示支撐構件不能水平支撐晶圓的實例，且圖示當晶圓由支撐構件支撐時支撐構件傾斜θ的情況。參考圖8及圖9，將描述藉由使用基板式感測器600來量測支撐構件的水平度的方法。
根據實施例，基板式感測器600包括在以第一角度提供基板式感測器600的狀態下量測支撐構件540傾斜的第一操作，以及在以第二角度提供基板式感測器600的狀態下量測支撐構件540傾斜的第二操作。第二角度係基板式感測器600自第一角度旋轉180度的狀態。圖8(a)及圖9(a)圖示根據第一操作的傾斜量測狀態，且圖8(b)及圖9(b)圖示根據第二操作的傾斜量測狀態。基板式感測器600可經由設置於超臨界處理設備500外部的對準器自第一角度旋轉至第二角度。舉例而言，包括對準緩衝單元200中基板的對準器的基板式感測器600可旋轉。旋轉的基板式感測器600可由轉移機器人320饋入，並可位於支撐構件540中。
在根據第一操作以第一角度提供基板式感測器600的狀態下，第一感測器621可位於第一支撐銷546a上方，且第二感測器622可位於第四支撐銷546d上方。在根據第二操作以第二角度提供基板式感測器600的狀態下，第一感測器621可位於第四支撐銷546d上方，且第二感測器622可位於第一支撐銷546a上方。第一感測器621及第二感測器622的位置係簡單的實例，且本發明概念不 限於上述位置。同時，發明者(多個)認識到，當感測器位於支撐銷546上方時，可最準確地導出支撐構件540的水平狀態。然而，由於根據設計，複數個支撐銷546可設置於不同於本發明概念實施例的位置處，故根據第一角度的感測器的位置可在考慮一般技術常識的情況下適當修改。
第一感測器621及第二感測器622的量測值可根據溫度改變。如上所述，這係IMU的基本特徵。根據本發明概念的實施例，儘管量測值根據溫度改變，但可藉由在基板式感測器600以第一角度提供的狀態下量測傾斜及在基板式感測器600以第二角度提供的狀態下量測傾斜來判定水平狀態。
舉例而言，假設第一溫度(高於室溫的溫度，舉例而言，約70℃的溫度)的氣氛。假設第一感測器621在約70℃的溫度氣氛中在(位凖X，位凖Y)的坐標下產生(0.64°,0.42°)的獨特誤差。此外，假設第二感測器622在約70℃的溫度氣氛中在(位凖X，位凖Y)的坐標下產生(0.61°,0.43°)的獨特誤差。
如圖8中所示當零校準IMU的值在水平狀態下為(0.00°,0.00°)，支撐構件可水平支撐晶圓時，第一感測器621的量測值V1在根據第一操作以第一角度提供基板式感測器600的狀態下量測為(0.64°,0.42°)，且第二感測器622的量測值V1為(0.61°,0.43°)。此外，在根據第二操作以第二角度提供基板式感測器600的狀態下量測的第一感測器621的量測值V2為(0.64°,0.42°)，且第二感測器622的量測值V2為(0.61°,0.43°)。當晶圓設置成水平支撐時基本量測的值僅為感測器的獨特誤差，因此當V1-V2為(0.00°,0.00°)時判定水平狀態。然而，在本發明概念的實施例中表達的係(0.00°,0.00°)的數學值，但水平狀態係在基本認為係(0.00°,0.00°)的狀態下判定的。舉例而言，當(±0.05°,±0.05°)的範圍評估為水平狀態時，則即使該值在數學上並非(0.00°,0.00°)，亦會判定水平狀態。
比較結果如表1中所示。
Figure 110148804-A0305-02-0023-4
圖9圖示當晶圓支撐於支撐構件540上時基板式感測器600傾斜θ的情況。假設第一感測器621在約70℃的第一溫度氣氛中在(X級，Y級)坐標下產生獨特誤差(0.64°,0.42°)。此外，假設第二感測器622在約70℃的氣氛溫度中在(X級，Y級)坐標下產生獨特誤差(0.61°,0.43°)。
假設當基板式感測器600在基板式感測器600以第一角度提供的狀態下傾斜θ時向量坐標為(0.07°-0.05°)。在根據第一操作以第一角度提供基板式感測器600的狀態下量測的第一感測器621的量測值V1為(0.71°,0.37°)，且第二感測器622的量測值V1為(0.68°,0.38°)。此外，在根據第二操作以第二角度提供基板式感測器600的狀態下量測的第一感測器621的量測值V2為(0.54°,0.48°)，且第二感測器622的量測值V2為(0.57°,0.47°)。當晶圓設置成水平支撐時，存在基本量測值，且，藉由在向量和中添加感測器的獨特誤差來量測量測值。因此，當第一感測器621中V1-V2非(0.00°,0.00°)時，判定該狀態非水平狀態。
比較結果如表2中所示。
Figure 110148804-A0305-02-0023-5
第一操作中處於第一角度的第一感測器621的位置成為處於第二角度的第二感測器622的位置，基板式感測器600在第二操作中旋轉180°。第一 操作中處於第一角度的第二感測器622的位置成為處於第二角度的第一感測器621的位置，基板式感測器600在第二操作中旋轉180°。
此外，隨著感測器的方向變為相反，處於第二角度的第一感測器621及第二感測器622的量測值量測為(-0.07°,0.05°)的傾角，這構成量測值中之一些。亦即，因為V1為(位凖X的獨特誤差，位凖Y的獨特誤差)+(0.07°,-0.05°)且V2為(位凖X的獨特誤差，位凖Y的獨特誤差)+(-0.07°,+0.05°)，故傾角θ可藉由(V1-V2)/2的公式獲得。根據實施例，θ=(V1-V2)/2=(0.07°,-0.05°)。
在另一態樣中，可參考量測位置來量測傾角。
Figure 110148804-A0305-02-0024-6
根據本發明概念的另一態樣，可經由{(
Figure 110148804-A0305-02-0024-28
1-
Figure 110148804-A0305-02-0024-29
2)+(
Figure 110148804-A0305-02-0024-30
1-
Figure 110148804-A0305-02-0024-31
2)}/4計算傾角。圖5至圖9中描述的基板式感測器600可僅用第一感測器621獲得相同的結果，但可藉由提供第二感測器622來驗證有效性。此外，可經由藉由使用第一感測器621及第二感測器622導出的傾斜值之平均來計算更高精度的傾斜。
圖10係根據本發明概念的另一實施例的基板式感測器1600之平面圖。圖11係根據圖10的實施例的基板式感測器1600之透視圖。參考圖10及圖11，將描述根據另一實施例的基板式感測器1600。當使用基板式感測器1600時，可判定晶圓「W」是否可由支撐構件540水平支撐。舉例而言，基板式感測器1600 以不超過0.1度的單位量測支撐銷546最上端的高度差，且可識別在該製程期間支撐銷546最上端的高度是否相同。
基板式感測器1600包括一或多個感測器。感測器可係IMU。提供至基板式感測器600的感測器包括第一感測器621及第二感測器622。此外，可進一步包括第三感測器623及第四感測器624。第一感測器621、第二感測器622、第三感測器623、及第四感測器624為IMU。
第一感測器621及第二感測器622可位於相對於基板式感測器600的中心「C」的彼此相對的位置處。第一感測器621及第二感測器622可位於基板式感測器600的邊緣處。在一實施例中，第一感測器621及第二感測器622可安置成位於支撐銷546的上部部分處。詳言之，第一感測器621可位於第一支撐銷546a的上部部分處，且第二感測器622可位於第四支撐銷546d的上部部分處。由第一感測器621及第二感測器622相對於基板式感測器600的中心「C」界定的角度可為180度。
第三感測器623及第四感測器624可位於相對於基板式感測器600的中心「C」的彼此相對的位置處。第三感測器623及第四感測器624可位於基板式感測器600的邊緣處。在一實施例中，第三感測器623及第四感測器624可安置成位於支撐銷546的上部部分處。詳言之，第三感測器623可位於第二支撐銷546b的上部部分處，且第四感測器624可位於第三支撐銷546c的上部部分處。由第三感測器623及第四感測器624相對於基板式感測器600的中心「C」界定的角度可為180度。
基板式感測器1600包括中心模組630。中心模組630可包括自第一感測器621、第二感測器622、第三感測器623、及/或第四感測器624接收資料的通訊裝置、儲存資料的儲存裝置、發送資料的發射器、及提供電力至組態的電 源。第一感測器621與中心模組630可彼此連接，使得由第一感測器621獲取的資料可由中心模組630接收。第二感測器622與中心模組630可彼此連接，使得由第二感測器622獲取的資料可由中心模組630接收。第三感測器623與中心模組630可彼此連接，使得由第三感測器623獲取的資料可由中心模組630接收。第四感測器624與中心模組630可彼此連接，使得由第四感測器624獲取的資料可由中心模組630接收。發射器可由無線通訊模組提供。經由由發射器發送的資料，可藉由提供至外部的裝置進行以下描述之計算。此外，提供計算器至中心模組630，且以下將描述的計算由計算器進行，由此，由支撐構件540產生的傾斜可經由發射器轉移至外部裝置。
圖12圖示藉由使用根據圖10的實施例的基板式感測器1600來判定支撐構件是否可水平支撐晶圓的方法，並圖示支撐構件可水平支撐晶圓的情況。圖13圖示藉由使用根據圖10的實施例的基板式感測器1600來判定支撐構件是否可水平支撐晶圓的方法，並圖示支撐構件不能水平支撐晶圓的實例，且圖示當晶圓由支撐構件支撐時支撐構件傾斜θ的情況。參考圖12及圖13，將描述藉由使用基板式感測器1600量測支撐構件540的水平度的方法。
根據實施例，基板式感測器1600包括在基板式感測器1600以第一角度提供的狀態下量測支撐構件540傾斜的第一操作，及在基板式感測器1600以第二角度提供的狀態下量測支撐構件540傾斜的第二操作。第二角度係基板式感測器1600自第一角度旋轉180度的狀態。圖12A及圖13A圖示根據第一操作的傾斜量測狀態，且圖12B及圖13B圖示根據第二操作的傾斜量測狀態。基板式感測器1600可經由設置於超臨界處理設備500外部的對準器自第一角度旋轉至第二角度。舉例而言，包括對準緩衝單元200中基板的對準器的基板式感測器1600可旋轉。旋轉的基板式感測器1600可由轉移機器人320饋入，並可位於支撐構件540中。
在根據第一操作以第一角度提供基板式感測器1600的狀態下，第一感測器621可位於第一支撐銷546a之上，且第二感測器622可位於第四支撐銷546d之上。此外，第三感測器623可位於第二支撐銷546b的上部部分處，且第四感測器624可位於第三支撐銷546c的上部部分處。
在根據第二操作以第二角度提供基板式感測器1600的狀態下，第一感測器621可位於第四支撐銷546d之上，且第二感測器622可位於第一支撐銷546a之上。此外，第三感測器623可位於第三支撐銷546c的上部部分處，且第四感測器624可位於第二支撐銷546b的上部部分處。
第一感測器621、第二感測器622、第三感測器623、及第四感測器624的位置係簡單的實例，且本發明的概念不限於上述位置。同時，發明者(多個)認識到，當感測器位於支撐銷546之上時，可最準確地導出支撐構件540的水平狀態。然而，由於根據設計，複數個支撐銷546可設置於不同於本發明概念實施例的位置處，故根據第一角度的感測器的位置可在考慮一般技術常識的情況下適當修改。
第一感測器621、第二感測器622、第三感測器623、及第四感測器624的量測值可根據溫度改變。如上所述，這係IMU的基本特徵。根據本發明概念的一實施例，儘管量測值根據溫度發生改變，但可藉由在基板式感測器1600以第一角度提供的狀態下量測傾斜並在基板式感測器600以第二角度提供的狀態下量測傾斜來判定水平狀態。
作為實例，假設第一溫度(高於室溫的溫度，舉例而言，約70℃的溫度)的氣氛。假設第一感測器621在約70℃的溫度氣氛中在(X級，Y級)的坐標下產生(0.64°,0.42°)的獨特誤差。此外，假設第二感測器622在約70℃的溫度氣氛中在(X級，Y級)的坐標下產生(0.61°,0.43°)的獨特誤差。
假設第三感測器623在約70℃的溫度氣氛中在(X級，Y級)的坐標下產生(0.62°,0.43°)的獨特誤差。此外，假設第四感測器624在約70℃的溫度氣氛中在(X級，Y級)的坐標下產生(0.65°,0.42°)的獨特誤差。
如圖12中所示當IMU的值在水平狀態下為(0.00°,0.00°)，支撐構件可水平支撐晶圓時，在根據第一操作以第一角度提供基板式感測器600的狀態下量測的第一感測器621的量測值V1為(0.64°,0.42°)，第二感測器622的量測值V1為(0.61°,0.43°)，第三感測器623的量測值V1為(0.62°,0.43°)，且第四感測器624的量測值V1為(0.65°,0.42°)。此外，在根據第二操作以第二角度提供基板式感測器600的狀態下量測的第一感測器621的量測值V2為(0.64°,0.42°)，第二感測器622的量測值V2為(0.61°,0.43°)，第三感測器623的量測值V2為(0.62°,0.43°)，且第四感測器624的量測值V2為(0.65°,0.42°)。當晶圓設置成水平支撐時基本量測值僅為感測器的獨特誤差，因此當V1-V2為(0.00°,0.00°)時判定水平狀態。然而，在本發明概念的實施例中表達的係(0.00°,0.00°)的數學值，但水平狀態係在基本認為係(0.00°,0.00°)的狀態下判定的。舉例而言，當(±0.05o,±0.05o)的範圍評估為水平時，則即使該值數學上非(0.00°,0.00o)，亦會判定水平狀態。
比較結果如表4中所示。
Figure 110148804-A0305-02-0028-7
Figure 110148804-A0305-02-0029-8
圖13圖示當晶圓支撐於支撐構件540上時支撐構件540傾斜θ的情況。假設第一感測器621在約70℃的溫度氣氛中在(X級，Y級)的坐標下產生(0.64°,0.42°)的獨特誤差。假設第二感測器622在約70℃的第一溫度氣氛中在(X級，Y級)的坐標下產生獨特誤差(0.61°,0.43°)。假設第三感測器623在約70℃的溫度氣氛中在(X級，Y級)的坐標下產生(0.62°,0.43°)的獨特誤差。此外，假設第四感測器624在約70℃的溫度氣氛中在(X級，Y級)的坐標下產生(0.65°,0.42°)的獨特誤差。
假設當基板式感測器1600在基板式感測器600以第一角度提供的狀態下傾斜θ時向量坐標為(0.07o,-0.05o)。在根據第一操作以第一角度提供基板式感測器600的狀態下量測的第一感測器621的量測值V1為(0.71o,0.37o)，第二感測器622的量測值V1為(0.68o,0.38o)，第三感測器623的量測值V1為(0.69o,0.38o)，且第四感測器624的量測值V1為(0.72o,0.37o)。此外，在根據第二操作以第二角度提供基板式感測器600的狀態下量測的第一感測器621的量測值V2為(0.57o,0.47o)，且第二感測器622的量測值V2為(0.54o,0.48o)。第三感測器623為(0.55o,0.48o)，且第四感測器624為(0.58o,0.47o)。當晶圓設置成水平支撐時，存在基本量測值，且，藉由在向量和中添加感測器的獨特誤差來量測量測值。因此，當V1-V2在第一感測器621、第二感測器622、第三感測器623、及/或第四感測器624中非(0.00o,0.00o)時，判定該狀態非水平狀態。
比較結果如表5中所示。
Figure 110148804-A0305-02-0029-9
Figure 110148804-A0305-02-0030-10
第一操作中處於第一角度的第一感測器621的位置成為處於第二角度的第二感測器622的位置，基板式感測器600在第二操作中旋轉180°。第一操作中處於第一角度的第二感測器622的位置成為處於第二角度的第一感測器621的位置，基板式感測器600在第二操作中旋轉180°。第一操作中處於第一角度的第三感測器623的位置成為處於第二角度的第四感測器624的位置，基板式感測器600在第二操作中旋轉180°。第一操作中處於第一角度的第四感測器624的位置成為處於第二角度的第三感測器623的位置，基板式感測器600在第二操作中旋轉180°。此外，隨著感測器的方向變為相反，處於第二角度的第一感測器621及第二感測器622的量測值量測為(-0.07,0.05)的傾角θ，其構成量測值中之一些。亦即，因為V1為(位凖X的獨特誤差，位凖Y的獨特誤差)+(0.07°,-0.05°)，且V2為(位凖X的獨特誤差，位凖Y的獨特誤差)+(-0.07°,+0.05°)，傾角θ可自(V1-V2)/2的公式獲得。根據實施例，θ=(V1-V2)/2=(0.07°,-0.05°)。
在另一態樣中，可參考量測位置量測傾角。
Figure 110148804-A0305-02-0030-11
Figure 110148804-A0305-02-0031-12
根據本發明概念的另一態樣，可經由{(
Figure 110148804-A0305-02-0031-32
-
Figure 110148804-A0305-02-0031-33
)+(
Figure 110148804-A0305-02-0031-34
-
Figure 110148804-A0305-02-0031-35
)}/4及{(
Figure 110148804-A0305-02-0031-36
1X-
Figure 110148804-A0305-02-0031-44
)+(
Figure 110148804-A0305-02-0031-38
1X-
Figure 110148804-A0305-02-0031-39
)}/4計算傾角。此外，可經由藉由使用第一感測器621、第二感測器622、第三感測器623、及第四感測器624導出的傾斜值的平均來計算更高精度的傾斜。在下文中，將描述根據另一實施例的用於計算傾斜值的方法。
根據另一實施例，提供至基板式感測器600的感測器為三軸加速度感測器。再次參考圖8至圖12，將描述根據本發明概念的另一實施例的用於計算傾角的方法。
圖8圖示根據本發明概念的實施例的藉由使用基板式感測器600來判定支撐構件540是否可水平支撐晶圓的方法，並圖示支撐構件可水平支撐晶圓的情況。圖9圖示根據本發明概念的實施例的藉由使用基板式感測器600來判定支撐構件是否可水平支撐晶圓的方法，並圖示支撐構件不能水平支撐晶圓的實例，且圖示當晶圓由支撐構件支撐時支撐構件傾斜θ的情況。參考圖8及圖9，將描述藉由使用基板式感測器600來量測支撐構件的水平度的方法。
根據實施例，基板式感測器600包括在基板式感測器600以第一角度提供的狀態下量測支撐構件540的傾斜的第一操作，及在基板式感測器600以第二角度提供的狀態下量測支撐構件540的傾斜的第二操作。第二角度係基板式感測器600自第一角度旋轉180度的狀態。圖8(a)及圖9(a)圖示根據第一操作的傾 斜量測狀態，且圖8(b)及圖9(b)圖示根據第二操作的傾斜量測狀態。基板式感測器600可經由設置於超臨界處理設備500外部的對準器自第一角度旋轉至第二角度。舉例而言，可使用在緩衝單元200中對準基板的對準器來旋轉基板式感測器600。旋轉的基板式感測器600可由轉移機器人320饋入，並可位於支撐構件540中。
在根據第一操作以第一角度提供基板式感測器600的狀態下，第一感測器621可位於第一支撐銷546a之上，且第二感測器622可位於第四支撐銷546d之上。在根據第二操作以第二角度提供基板式感測器600的狀態下，第一感測器621可位於第四支撐銷546d之上，且第二感測器622可位於第一支撐銷546a之上。第一感測器621及第二感測器622的位置係簡單的實例，且本發明概念不限於上述位置。同時，發明者(多個)認識到，當感測器位於支撐銷546之上時，可最準確地導出支撐構件540的水平狀態。然而，由於根據設計，複數個支撐銷546可設置於不同於本發明概念實施例的位置處，故根據第一角度的感測器的位置可在考慮一般常識的情況下適當修改。
第一感測器621及第二感測器622的量測值可根據溫度改變。如上所述，這係加速度感測器的基本特徵。根據本發明概念的實施例，儘管量測值根據溫度改變，但可藉由在基板式感測器600以第一角度提供的狀態下量測傾斜及在基板式感測器600以第二角度提供的狀態下量測傾斜來判定水平狀態。
作為實例，假設第一溫度(高於室溫的溫度，舉例而言，約70℃的溫度)的氣氛。假設第一感測器621在約70℃的溫度氣氛中在(X，Y，Z)的向量坐標下產生(1,1,-1)的獨特誤差。此外，假設第二感測器622在約70℃的溫度氣氛中在(X，Y，Z)的坐標下產生獨特誤差(0.8,0.7,-1.1)。
如圖8中所示當加速度感測器的值在水平狀態下為(0,0,-9.8)，支撐構件可水平支撐晶圓時，在根據第一操作以第一角度提供基板式感測器600的狀態下量測的第一感測器621的量測值V1為(1,1,-10.8)，且第二感測器622的量測值V1為(0.8,0.7,-10.9)。此外，在根據第二操作以第二角度提供基板式感測器600的狀態下量測的第一感測器621的量測值V2為(1,1,-10.8)，且第二感測器622的量測值V2為(0.8,0.7,-10.9)。當晶圓設置成水平支撐時，基本量測值僅係對應於感測器的Z值及獨特誤差的值，因此當V1-V2為(0,0,0)時判定水平狀態。然而，本發明概念的實施例中表達的係(0，0，0)的數學值，但水平狀態係在可基本認為係(0,0,0)的狀態下判定的。舉例而言，當(±0.05,±0.05,±0.05)的範圍評估為水平時，則即使該值在數學上非(0,0,0)，亦會判定水平狀態。
比較結果如表7中所示。
Figure 110148804-A0305-02-0033-13
圖9圖示當晶圓支撐於支撐構件540上時支撐構件540傾斜θ的情況。假設第一感測器621在約70℃的溫度氣氛中在(X，Y，Z)的向量坐標下產生(1,1,-1)的獨特誤差。此外，假設第二感測器622在約70℃的溫度氣氛中在(X,Y,Z)的坐標下產生獨特誤差(0.8,0.7,-1.1)。
假設在基板式感測器600以第一角度提供的狀態下，當基板式感測器600傾斜θ時，向量坐標為(2,0.5,-9.56)。第一感測器621的量測值V1在根據第一操作以第一角度提供基板式感測器600的狀態下量測為(3,1.5,-10.3)，且第 二感測器622的量測值V1為(2.8,1.2,-10.4)。此外，在根據第二操作以第二角度提供基板式感測器600的狀態下量測的第一感測器621的量測值V2為(-1,0.5,-10.3)，且第二感測器622的量測值V2為(-1.2,0.2,-10.4)。當晶圓設置成水平支撐時，基本量測值係存在的，且，藉由在向量和中添加感測器的獨特誤差來量側測量測值。因此，當第一感測器621中V1-V2非(0.00°,0.00°)且第二感測器622中V1-V2為(2.8,1,0)時，判定該狀態非水平狀態。
比較結果如表8中所示。
Figure 110148804-A0305-02-0034-14
當基板式感測器600在基板式感測器600以第一角度提供的狀態下傾斜θ時向量坐標的X值及Y值可經由(V1-V2)/2知道。(V1-V2)/2為(x,y,0)。因此，當判定支撐構件不處於水平狀態時，可經由一公式判定傾角。在本實施例中，(V1-V2)/2=(x,y,0)=(2,0.5,0)。在此，當考慮加速度感測器中使用的加速度的「g」值為地球的重力加速度時，平面的傾斜θ的「z」值可作為g*sin(a)的值獲得，因為當藉由使用極坐標計算「z」值時，「x」值及「y」值係藉由圖15參考的已知值。在另一方法中，「z」值可藉由使用畢氏定理經由
Figure 110148804-A0305-02-0034-15
獲得。「z」值係在考慮重力方向的情況下獲得的。在基板式感測器600以第一角度提供的狀態下，當基板式感測器600傾斜θ時的向量坐 標可藉由使用加速度感測器作為
Figure 110148804-A0305-02-0034-16
獲得。
此外，(X值的獨特誤差，Y值的獨特誤差，V1(或V2)的Z值)可經由(V1+V2)/2驅動。舉例而言，在本實例中，在第一感測器621的情況下，(V1+V2)/2為(1,1,-10.3)，且在第二感測器622的情況下，(V1+V2)/2為(0.8,0.7,-10.4)。此 外，可經由差值V1(Z)或V2(Z)及
Figure 110148804-A0305-02-0035-18
的傾斜值的「Z」值來計算Z值的獨特誤差。
圖5至圖9中所述的基板式感測器600可僅用第一感測器621獲得相同的結果，但可藉由提供第二感測器622來驗證有效性。
隨後，將參考圖12及圖13描述根據另一實施例的方法，該方法用於根據經由圖10引用的本發明概念的另一實施例的基板式感測器1600量測傾斜值。基板式感測器1600包括一或多個感測器。感測器為3個或3個以上軸加速度感測器。
根據實施例，基板式感測器1600包括在基板式感測器600以第一角度提供的狀態下量測支撐構件540的傾斜的第一操作，及在基板式感測器600以第二角度提供的狀態下量測支撐構件540的傾斜的第二操作。第二角度係基板式感測器600自第一角度旋轉180度的狀態。圖12(a)及圖13(b)圖示根據第一操作的傾斜量測狀態，且圖12(b)及圖13(b)圖示根據第二操作的傾斜量測狀態。基板式感測器1600可藉由設置於超臨界處理設備500外部的對準器自第一角度旋轉至第二角度。舉例而言，可使用在緩衝單元200中對準基板的對準器來旋轉基板式感測器1600。旋轉的基板式感測器1600可由轉移機器人320饋入，並可位於支撐構件540中。
在根據第一操作以第一角度提供基板式感測器1600的狀態下，第一感測器621可位於第一支撐銷546a上方，且第二感測器622可位於第四支撐銷 546d上方。此外，第三感測器623可位於第二支撐銷546b的上部部分處，且第四感測器624可位於第三支撐銷546c的上部部分處。
在根據第二操作以第二角度提供基板式感測器600的狀態下，第一感測器621可位於第四支撐銷546d上方，且第二感測器622可位於第一支撐銷546a上方。此外，第三感測器623可位於第三支撐銷546c的上部部分處，且第四感測器624可位於第二支撐銷546b的上部部分處。
第一感測器621、第二感測器622、第三感測器623、及第四感測器624的位置係簡單實例，本發明概念不限於上述位置。同時，發明者(多個)認識到，當感測器位於支撐銷546上方時，可最準確地導出支撐構件540的水平狀態。然而，由於根據設計，複數個支撐銷546可設置於不同於本發明概念實施例的位置處，故根據第一角度的感測器的位置可在考慮一般技術常識的情況下適當修改。
第一感測器621、第二感測器622、第三感測器623、及第四感測器624的量測值可根據溫度改變。如上所述，這係加速度感測器的基本特徵。根據本發明概念的實施例，儘管量測值根據溫度改變，但可藉由在基板式感測器1600以第一角度提供的狀態下量測傾斜及在基板式感測器600以第二角度提供的狀態下量測傾斜來判定水平狀態。
作為實例，假設第一溫度(高於室溫的溫度，舉例而言，約70℃的溫度)的氣氛。假設第一感測器621在約70℃的溫度氣氛中在(X，Y，Z)的向量坐標下產生(1,1,-1)的獨特誤差。假設第二感測器622在約70℃的溫度氣氛中在(X，Y，Z)的坐標下產生(0.8,0.7,-1.1)的獨特誤差。假設第三感測器623在約70℃的溫度氣氛中在(X，Y，Z)的坐標下產生(0.6,0.7,-1)的獨特誤差。此外，假設第 四感測器624在約70°℃的溫度氣氛中在(X，Y，Z)的坐標下產生(0.5,0.8,-1.2)的獨特誤差。
如圖12中所示當加速度感測器的值在水平狀態下為(0,0,-9.8)，支撐構件可水平支撐晶圓時，在根據第一操作以第一角度提供基板式感測器600的狀態下量測的第一感測器621的量測值V1為(1,1,-10.8)，第二感測器622的量測值V1為(0.8,0.7,-10.9)，第三感測器623的量測值V1為(0.6,0.7,-10.8)，且第四感測器624的量測值V1為(0.5,0.8,-11)。此外，在根據第二操作以第二角度提供基板式感測器600的狀態下量測的第一感測器621的量測值V2為(1,1,-10.8)，第二感測器622的量測值V2為(0.8,0.7,-10.9)，第三感測器623的量測值V2為(0.6,0.7,-10.8)，且第四感測器624的量測值V2為(0.5,0.8,-11)。當晶圓設置成水平支撐時，基本量測值僅係對應於感測器的Z值及獨特誤差的值，因此當V1-V2為(0,0,0)時判定水平狀態。然而，本發明概念的實施例中表達的係(0,0,0)的數學值，但水平狀態係在可基本認為係(0,0,0)的狀態下判定的。舉例而言，當(±0.05,±0.05,±0.05)的範圍評估為水平時，即使該值在數學上非(0,0,0)，亦會判定水平狀態。
比較結果如表9中所示。
Figure 110148804-A0305-02-0037-19
圖13圖示當晶圓支撐於支撐構件540上時支撐構件540傾斜θ的情況。假設第一感測器621在約70℃的溫度氣氛中在(X，Y，Z)的向量坐標下產生(1,1,-1)的獨特誤差。假設第二感測器622在約70℃的溫度氣氛中在(X，Y，Z)的坐標下產生(0.8,0.7,-1.1)的獨特誤差。假設第三感測器623在約70℃的溫度氣氛中在(X，Y，Z)的坐標下產生(0.6,0.7,-1)的獨特誤差。此外，假設第四感測器624在約70℃的溫度氣氛中在(X，Y，Z)的坐標下產生(0.5,0.8,-1.2)的獨特誤差。
假設在基板式感測器600以第一角度提供的狀態下，當基板式感測器1600傾斜θ時，向量坐標為(2,0.5,-9.3)。在根據第一操作以第一角度提供基板式感測器600的狀態下量測的第一感測器621的量測值V1為(3,1.5,-10.3)，第二感測器622的量測值V1為(2.8,1.2,-10.4)，第三感測器623的量測值V1為(-2.6,4,-10.3)，且第四感測器624的量測值V1為(-2.7,4.1,-10.5)。此外，在根據第二操作以第二角度提供基板式感測器600的狀態下量測的第一感測器621的量測值V2為(1,0.5,-10.3)，且第二感測器622的量測值V2為(-1.2,0.2,-10.4)。第三感測器623為(3.8,-2.6,-10.3)，且第四感測器624為(3.7,-2.5,-10.5)。當晶圓設置成水平支撐時，存在基本量測值，且，藉由在向量和中添加感測器的獨特誤差來量測量測值。因此，當第一感測器621中的V1-V2為(2.8,1.2,0)，第二感測器622中的V1-V2為(2.8,1,0)，第三感測器623中的V1-V2為(-6.4,-6.6,0)，且第四感測器624中的V1-V2為(-6.4,-6.6,0)時，判定該狀態非水平狀態。
比較結果如表10中所示。
Figure 110148804-A0305-02-0038-20
Figure 110148804-A0305-02-0039-21
在基板式感測器600以第一角度提供的狀態下，當基板式感測器600傾斜θ時向量坐標的X值及Y值經由(V1-V2)/2知道。(V1-V2)/2為(x，y，0)。因此，當判定支撐構件不處於水平狀態時，可經由公式判定傾角。在本實施例中，經由第一感測器621及第二感測器622導出的(V1-V2)/2為(x，y，0)=(2,0.5,0)。在本實施例中，由第三感測器623及第四感測器624導出的(V1-V2)/2為(x，y，0)=(-3.2,3.3,0)。根據坐標的旋轉，即使值不同，亦存在差異。在此，當考慮加速度感測器中使用的加速度g值為地球的重力加速度時，平面的傾斜θ的z值可作為g*sin(a)的值獲得，因為當藉由使用極坐標計算z值時，x值及y值係經由圖5參考的已知值。在另一方法中，z值可藉由使用畢氏定理經由
Figure 110148804-A0305-02-0039-22
獲得。z值係在考慮重力方向的情況下獲得的。在基板式感測器600以第一角度提供的狀態下，當基板式感測器600傾斜
Figure 110148804-A0305-02-0039-40
è時的向量坐標 可藉由使用加速度感測器作為
Figure 110148804-A0305-02-0039-24
獲得。
此外，(X值的獨特誤差，Y值的獨特誤差，V1(或V2)的Z值)可經由(V1+V2)/2驅動。舉例而言，在本實例中，在第一感測器621的情況下，(V1+V2)/2為(1,1,-10.3)，且在第二感測器622的情況下，(V1+V2)/2為(0.8,0.7,-10.4)。此外，在第三感測器623的情況下，(V1+V2)/2=(0.6,0.7,-10.3)，且在第四感測器624的情況下，(V1-V2)/2=(x，y，0)=(0.5,0.8,-10.5)。此外，可藉由差值V1(Z)或V2(Z) 及
Figure 110148804-A0305-02-0039-25
的傾斜值的「Z」值來計算Z值的獨特誤差。
上述實施例及公式對應於本發明概念的實施例。一般技藝人士可基於說明書中描述的發明概念的精神推導出未揭示的各種公式及實施例。
圖16係示意性地圖示圖1的超臨界處理設備的另一實施例之視圖，且係圖示容器打開狀態之橫截面圖。圖17係圖示根據圖16的實施例的超臨 界處理設備的容器關閉的狀態之橫截面圖。將參考圖16及圖17描述本發明概念的另一實施例。
基板處理設備500a可包括容器520、第一基板支撐部分540、第二基板支撐部分583、第一供應埠531、第二供應埠533、及排氣埠532。
容器520可提供乾燥基板的空間。該空間可包括處理區域502及緩衝區域504。處理區域502可係對應於基板「W」的上表面的區域，而緩衝區域504可係位於基板「W」之下的區域。容器520可包括上部容器522及下部容器524。上部容器522可包括上壁及第一側壁。上部容器522的上壁可係容器520的上壁。上部容器522的第一側壁可係容器520側壁的一部分。下部容器524可包括下壁及第二側壁。下部容器524的下壁可係容器520的下壁。下部容器524的第二側壁可係容器的側壁的一部分。
由於上部容器522及下部容器524藉由驅動機構(未圖示)相對移動，其可彼此嚙合，以便在容器520關閉的閉合位置(圖17之圖示)與容器520打開的開口位置(圖16之圖示)之間切換。舉例而言，上部容器522及下部容器524中之至少任意一者可沿著彼此耦接或彼此分離的提升桿(未圖示)向上及向下移動。在容器520的開口位置處，基板「W」可裝入容器520內部或自容器520內部卸下。在容器520的閉合位置處，可對基板「W」執行超臨界乾燥製程。
第一基板支撐部分540可安置於容器520中，且可在基板「W」載入容器中時支撐基板「W」。如圖16中所示，當在容器520的開口位置處將基板「W」裝入容器內部或自容器內部卸下時，第一基板支撐部分540可支撐基板「W」。第二基板支撐部分583可安置於容器520中，且當基板「W」在容器520的內部處理時，第二基板支撐部分583可支撐基板「W」。如圖17中所示，當在 容器520的閉合位置處對基板「W」執行超臨界流體處理時，第二基板支撐部分583可支撐基板「W」。
第一基板支撐部分540可包括自上部容器522的上壁延伸的第一支撐構件，以在與上壁藉由第一距離間隔開的位置處支撐基板「W」。第一基板支撐部分540可在容器520的閉合位置處，在距下部容器524的下壁的第一高度處支撐基板「W」。
在容器520的開口位置處，裝入容器內部或自容器內部卸下的基板「W」可由第一基板支撐部件540臨時支撐。由第一基板支撐部分540支撐的基板「W」的上表面可面向上部容器522的上壁，且基板「W」的下表面可面向下部容器524的下表面。
基板處理設備500a可包括設置於下部容器524的下壁與第一基板支撐部分540之間的擋板580。擋板580可安裝為藉由預設距離與下部容器524的下壁間隔開。擋板580可藉由支撐構件582固定至下部容器524的下壁上。擋板580可包括具有特定厚度的板，該板佔據緩衝區域504中的特定空間。擋板580可阻止來自第一供應埠531的超臨界流體直接噴射至基板「W」的後表面。緩衝區域504的體積可藉由擋板580減小。緩衝區域504的體積可小於處理區域502的體積。因此，存在於基板「W」下方的緩衝區域504中的超臨界流體的量可小於存在於基板「W」上的處理區域502中的超臨界流體的量。擋板580可藉由在基板「W」下方的緩衝空間中提供結構來減少處理時間，以保持處理性能，同時減少用於乾燥處理的超臨界流體的量，從而減少緩衝空間。
第二基板支撐部分583在與上部容器522的上壁藉由第二距離間隔開的位置處支撐基板「W」。第二支撐構件可自容器的閉合位置處的下部容器524的下壁以大於第一高度的第二高度支撐基板「W」。
第二基板支撐部分583可安置於擋板580上，以支撐基板「W」。第二基板支撐部分583可包括向上延伸形成擋板580的上表面的複數個第二支撐突起152。第二支撐突起可自擋板580向上延伸，以接觸並支撐基板「W」的中心區域。
儘管第二基板支撐部分583安置於擋板580上，但本發明概念不限於此，且第二基板支撐部分583可安裝為與下部容器524的下壁具有預設高度。
當容器520打開時，構成第二基板支撐部分583的第二支撐突起可與下部容器524一起移動。隨後，基板「W」可載入容器520的內部，以固定於第一基板支撐部分540的第一支撐突起上。當容器520關閉時，構成第二基板支撐部分583的第二支撐突起可與下部容器524一起升高。由於構成第二基板支撐部分583的第二支撐突起的高度大於第一基板支撐部分540的第一支撐突起的高度，故基板「W」可固定於構成第二基板支撐部分583的第二支撐突起上。隨後，可在由第二基板支撐部分583支撐的基板「W」上執行超臨界乾燥製程。
根據圖14及圖15中引用的另一實施例，將基板式感測器600或1600提供至超臨界處理設備，以量測第二基板支撐部分583的傾斜。
此外，作為本發明概念的實施例，已描述提供至超臨界處理設備以量測支撐構件水平度之項目，但其可適用於在伴隨溫度改變的氣氛環境中要求高精度之水平度量測。
此外，由於本發明概念適用於在特定環境條件下執行量測，故與加速度感測器使用校正係數校正對溫度敏感的項目的方法相比，在詳細情況下可達成更高的量測精度。
詳言之，已描述在高溫環境中獨特誤差很大，但水平度可在室溫及低溫下量測。
由上述基板式感測器600及基板式感測器1600量測的支撐構件540的傾斜可藉由儲存可由處理器執行的程式碼的非暫時性電腦可讀媒體來計算。
根據本發明概念的一實施例，可量測位於提供高溫/高壓氣氛的容器內部的基板支撐構件的閒置狀態以及製程期間基板支撐構件的水平狀態，以藉由使用超臨界流體處理基板(例如，晶圓)、及藉由使用其量測水平度的方法
根據本發明概念的實施例，位於提供高溫/高壓氣氛的容器內部的基板支撐構件的閒置狀態及製程期間基板支撐構件的水平狀態可以不超過0.1度的單位來量測，以藉由使用超臨界流體處理基板(例如，晶圓)、及藉由使用其量測水平度的方法
本發明概念的效果不限於上述效果，本發明概念所屬領域的熟練技術人士可自說明書及隨附圖式中清楚地理解未提及之效果。
雖然已參考實施例描述本發明概念，但熟習此項技術者顯然可在不脫離本發明概念的精神及範疇的情況下進行各種更改及修改。因此，應理解，上述實施例並非限制性而係說明性的。
546a:第一支撐銷
546d:第四支撐銷
600:基板式感測器
610:基座
621:第一感測器
622:第二感測器
630:中心模組

Claims (19)

  1. 一種基板式感測器，設置於伴隨溫度改變的氣氛中，以量測支撐基板的支撐構件之水平度，前述基板式感測器包括：具有前述基板之形狀的基座；設置於前述基座中的一或多個感測器，其包括3個或3個以上軸加速度感測器或6個或6個以上軸量測單元(IMU)；接收器，經組態以接收由一或多個前述感測器收集之資料；及電源，經組態以提供電力至一或多個前述感測器及前述接收器。
  2. 如請求項1所述之基板式感測器，其中前述基座具有與前述基板之尺寸實質上相同的實體尺寸。
  3. 如請求項1所述之基板式感測器，其中提供複數個感測器，且第二感測器相對於前述基座的中心設置於與第一感測器相對180度的位置處。
  4. 如請求項1所述之基板式感測器，其進一步包含：發射器，經組態以將由前述接收器接收的前述資料發送至外部。
  5. 如請求項1所述之基板式感測器，其中前述支撐構件包括將前述基板與前述支撐構件的平面以特定間隔間隔開的複數個支撐銷，且其中一或多個前述感測器位於對應於前述支撐銷中之任意一或多者的位置處。
  6. 如請求項1所述之基板式感測器，其中一或多個前述感測器產生根據暴露溫度而改變的獨特誤差。
  7. 一種藉由使用如請求項1所述之基板式感測器量測水平度的方法，前述方法包含以下步驟： 步驟(1)將前述基板式感測器以第一角度定位於前述支撐構件中；步驟(2)將由前述步驟(1)中的一或多個前述感測器收集的資料作為第一資料接收；步驟(3)以不同於前述第一角度的第二角度將前述基板式感測器定位於前述支撐構件中；步驟(4)將由前述步驟(3)中的一或多個前述感測器收集的資料作為第二資料接收；及步驟(5)藉由比較前述第一資料與前述第二資料來判定前述支撐構件是否水平。
  8. 如請求項7所述之方法，其中一或多個前述感測器為6個或6個以上軸慣性量測單元(IMU)，其中前述第一資料及前述第二資料分別包括滾轉(位凖X)及俯仰(位凖Y)的元素，其中前述第一資料與前述第二資料之前述比較係比較前述第一資料之前述元素與前述第二資料之前述元素，其中當前述第一資料之前述元素及前述第二資料之前述元素包括於同一類別中時，判定前述支撐構件係水平的，且其中當前述第一資料之前述元素及前述第二資料之前述元素不包括於同一類別中時，判定前述支撐構件係傾斜的。
  9. 如請求項7所述之方法，其中一或多個前述感測器為6個或6個以上軸慣性量測單元(IMU)， 其中前述第一資料及前述第二資料分別包括滾轉(位凖X)及俯仰(位凖Y)的元素，其中前述第一資料包括(位凖X1，位凖Y1)的元素，其中前述第二資料包括(位凖X2，位凖Y2)的元素，其中一或多個前述感測器產生根據暴露溫度而改變的獨特誤差，其中由前述基板式感測器量測的前述支撐構件的傾斜藉由儲存可由處理器執行之程式碼的非暫時性電腦可讀媒體計算為包括(位凖Xa，位凖Ya)的元素，其中當前述第一角度為0度且前述第二角度為180度時，位凖Xa為(位凖X1-位凖X2)/2，且位凖Ya為(位凖Y1-位凖Y2)/2。
  10. 如請求項7所述之方法，其中前述基板式感測器經組態使得：提供複數個感測器，且一個感測器相對於基座中心設置於與另一感測器相對180度的位置處，前述第一資料及前述第二資料分別由前述一個感測器及前述另一感測器接收，藉由比較自前述一個感測器接收的前述第一資料與前述第二資料，判定前述支撐構件是否水平，且藉由比較自前述另一感測器接收的前述第一資料與前述第二資料，驗證自前述一個感測器得出的前述判定的有效性。
  11. 如請求項7所述之方法，其中將前述支撐構件提供至基板處理設備之高壓容器，前述基板處理設備藉由使用超臨界流體來處理基板， 其中前述支撐構件包括以特定間隔將前述基板與前述支撐構件之平面間隔開的複數個支撐銷，且其中一或多個前述感測器位於對應於前述第一角度及前述第二角度處的前述支撐銷中之一或多者的位置處。
  12. 如請求項11所述之方法，其中前述支撐構件固定至前述高壓容器的上部部分，其中複數個固定桿將複數個支架與前述高壓容器的前述上部部分連接，且其中前述支撐銷形成於前述支架的上表面上。
  13. 如請求項7所述之方法，其中前述第一資料包括(X1，Y1，Z1)的元素，其中前述第二資料包括(X2，Y2，Z2)的元素，其中前述第一資料與前述第二資料之前述比較係比較前述第一資料之前述元素與前述第二資料之前述元素，其中當前述第一資料之前述元素與前述第二資料之前述元素包括於同一類別中時，判定前述支撐構件係水平的，且其中當前述第一資料之前述元素與前述第二資料之前述元素不包括於同一類別中時，判定前述支撐構件係傾斜的。
  14. 如請求項7所述之方法，其中前述第一資料包括(X1，Y1，Z1)的X1及Y1的元素，其中前述第二資料包括(X2，Y2，Z2)的X2及Y2的元素，其中前述感測器產生根據暴露溫度改變的獨特誤差，且前述獨特誤差包括(X3，Y3，Z3)的X3及Y3的元素， 其中由前述基板式感測器量測的前述支撐構件的傾斜藉由儲存可由處理器執行之程式碼的非暫時性電腦可讀媒體計算為包括(x，y，z)的x及y元素，且其中當前述第一角度為0度且前述第二角度為180度時，x為(X1-X2)/2，且y為(Y1-Y2)/2。
  15. 如請求項7所述之方法，其中前述第一資料包括(X1，Y1，Z1)的元素，其中前述第二資料包括(X2，Y2，Z2)的元素，其中前述感測器產生根據暴露溫度而改變的獨特誤差，且前述獨特誤差包括(X3、Y3、Z3)的元素，其中由前述基板式感測器量測的前述支撐構件的傾斜藉由儲存可由處理器執行之程式碼的非暫時性電腦可讀媒體計算為包括(x，y，z)的元素，且其中當前述第一角度為0度且前述第二角度為180度時，x為(X1-X2)/2，且y為(Y1-Y2)/2，且z為
    Figure 110148804-A0305-02-0052-26
    ；其中g為地球的重力加速度。
  16. 一種非暫時性電腦可讀媒體，用於儲存可由處理器執行的程式碼，其中前述處理器經組態以：藉由比較在如請求項1所述之基板式感測器以第一角度位於前述支撐構件中之後收集的第一資料與在如請求項1所述之基板式感測器以不同於前述第一角 度的第二角度位於前述支撐構件中之後收集的第二資料，得出前述支撐構件是否水平。
  17. 如請求項16所述之非暫時性電腦可讀媒體，其中前述第一資料及前述第二資料分別包括滾轉(位凖X)及俯仰(位凖Y)的元素；其中前述第一資料與前述第二資料之前述比較係比較前述第一資料之前述元素與前述第二資料之前述元素，其中當前述第一資料之前述元素及前述第二資料之前述元素包括於同一類別中時，判定前述支撐構件係水平的，且其中當前述第一資料之前述元素及前述第二資料之前述元素不包括於同一類別中時，判定前述支撐構件係傾斜的。
  18. 如請求項16所述之非暫時性電腦可讀媒體，其中前述第一資料及前述第二資料分別包括滾轉(位凖X)及俯仰(位凖Y)的元素，其中前述第一資料包括(位凖X1，位凖Y1)的元素，其中前述第二資料包括(位凖X2，位凖Y2)的元素，其中前述一或多個感測器產生根據暴露溫度而改變的獨特誤差，其中由前述基板式感測器量測的前述支撐構件的傾斜藉由儲存可由處理器執行之程式碼的非暫時性電腦可讀媒體計算為包括(位凖Xa，位凖Ya)的元素，且其中當前述第一角度為0度且前述第二角度為180度時，位凖Xa為(位凖X1-位凖X2)/2，且位凖Ya為(位凖Y1-位凖Y2)/2。
  19. 如請求項16所述之非暫時性電腦可讀媒體，其中前述第一資料包括(X1，Y1，Z1)的元素， 其中前述第二資料包括(X2，Y2，Z2)的元素，其中前述支撐構件的傾斜計算為(x，y，z)，且其中當前述第一角度為0度且前述第二角度為180度時，x為(X1-X2)/2，且y為(Y1-Y2)/2，且z為
    Figure 110148804-A0305-02-0054-27
    ；其中g為地球的重力加速度。
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