TWI786173B - 缺陷記錄系統和膜製造系統以及膜的製造方法 - Google Patents

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TWI786173B
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Abstract

本發明提供一種可使膜之缺陷與標記之間隔減小,且可抑制膜之缺陷資訊之記錄遺漏的產生的缺陷記錄系統。
本發明之缺陷記錄系統係具備:檢查部,係設置在膜之搬送路徑,並檢查膜之缺陷;印刷部,係在搬送路徑中設置在檢查部之下游,且對膜印刷資訊而予以記錄;以及控制部,係依據由檢查部所得之檢查結果來控制印刷部之動作;印刷部係具有:噴墨裝置,係朝與長邊方向交叉之方向延伸而設置,以印刷資訊;及移動裝置,係使噴墨裝置沿著交叉之方向移動;噴墨裝置係具有複數個射出孔,複數個射出孔係從交叉之方向之膜的一端至另一端離散地配置,控制部係依據檢查結果,來控制由移動裝置所進行之噴墨裝置的位置移動及由噴墨裝置所進行之印刷。

Description

缺陷記錄系統和膜製造系統以及膜的製造方法
本發明係關於一種缺陷記錄系統,和膜製造系統以及膜的製造方法。
例如,偏光膜等光學膜係在進行異物或凹凸等缺陷檢查之後,被捲繞在芯材之周圍。此時,會有屬於檢查結果之有關缺陷位置或種類之資訊(以下稱為「缺陷資訊」)藉由在光學膜之寬度方向的端部印刷條碼,或對缺陷部位施予標記,而記錄在光學膜之情形。
例如,在專利文獻1中,記載有一種依序使用可朝檢查對象之寬度方向移動之複數個標記筆,而對缺陷(標記目標)施予標記之技術。
並且,在專利文獻2中,記載有一種利用在彼此不同之位置載置有二排噴墨模組之薄片(web)標記具,而對薄片上之異常進行標記之技術。
(先前技術文獻) (專利文獻)
專利文獻1:日本特開2015-059804號公報
專利文獻2:日本特開2012-233917號公報
該等缺陷部位係大多從製品去除而被破棄。在習知之方法中,為了顯示缺陷之位置,會有以包圍其周圍之方式施予標記之情形。此時,會有位在缺陷部位與標記之間的光學膜被廢棄之情形。因此,當缺陷部位與標記之間隔大時,光學膜之耗損會變多。當光學膜之耗損多時,由於製造成本會變高,因此要求使光學膜之耗損減少。為了減少光學膜之耗損,可考慮使缺陷部位與標記之間隔減小。
然而,在專利文獻1所述之發明中,會有下述疑慮:標記筆之移動與間隔不匹配,檢查對象之標記目標與標記之間隔會變大,或產生檢查對象之缺陷資訊的記錄遺漏。
並且,在專利文獻2所述之發明中,薄片上之異常與標記具之間隔並非充分地小。此外,為了使該間隔變小,必須將噴墨模組密集地排列。
再者,上述之課題係推測為亦會在光學膜以外之膜中的缺陷檢查中發生。
本發明係鑑於上述課題而研創者,其目的在於提供一種缺陷記錄系統和膜製造系統以及膜的製造方 法,係可使膜之缺陷與標記之間隔變小,且可抑制膜之缺陷資訊之記錄遺漏產生。
為瞭解決上述課題,本發明之一態樣係提供一種缺陷記錄系統,該缺陷記錄系統係對於朝長邊方向搬送之長形的膜,記錄有關於膜所具有之缺陷之資訊者,且具備:檢查部,係設置在膜之搬送路徑,並檢查膜之缺陷;印刷部,係在搬送路徑中設置在檢查部之下游,且對膜印刷資訊而予以記錄;控制部,係依據由檢查部所得之檢查結果來控制印刷部之動作;印刷部係具有:噴墨裝置,係朝與長邊方向交叉之方向延伸而設置,且對膜射出印墨以印刷資訊;及移動裝置,係使噴墨裝置沿著交叉之方向移動;噴墨裝置係具有複數個射出印墨之射出孔,複數個射出孔係從交叉之方向之膜的一端至另一端離散地配置,控制部係依據檢查結果,來控制由移動裝置所進行之噴墨裝置的位置移動及由噴墨裝置所進行之印刷。
在本發明之一態樣中亦可設為,噴墨裝置係具有沿著交叉之方向排列之複數個噴墨頭,噴墨頭係分別具有射出孔,移動裝置係使複數個噴墨頭沿著交叉之方向移動,前述控制部分別獨立地控制複數個前述噴墨頭之移動的構成。
在本發明之一態樣中亦可設為,複數個噴墨頭係排列成沿著交叉之方向設定之複數之列,在交叉之方向彼此相鄰接之2個噴墨頭分別排列在不同之列的構 成。
在本發明之一態樣中亦可設為,噴墨裝置具有第1噴墨裝置及在搬送路徑中配置在第1噴墨裝置之下游的第2噴墨裝置的構成。
在本發明之一態樣中亦可設為,第1噴墨裝置與第2噴墨裝置之至少一方係具有沿著交叉之方向排列之複數個噴墨頭,噴墨頭係分別具有射出孔,移動裝置係使複數個噴墨頭沿著交叉之方向移動,控制部分別獨立地控制複數個噴墨頭之移動的構成。
在本發明之一態樣中亦可設為,複數個噴墨頭係排列成沿著交叉之方向設定之複數個列,在交叉之方向彼此相鄰之2個噴墨頭分別排列在不同之列的構成。
在本發明之一態樣中亦可設為,第1噴墨裝置具有沿著交叉之方向排列之複數個噴墨頭的構成。
在本發明之一態樣中亦可設為,具有在搬送路徑中配置於第1噴墨裝置與第2噴墨裝置之間,且檢測出因第1噴墨裝置所致之印刷不良的感測器,控制部依據由檢查部所得之檢查結果及感測器之檢測結果,使第2噴墨裝置驅動,以將資訊印刷於對應於印刷不良之位置的構成。
在本發明之一態樣中亦可設為,第1噴墨裝置所射出之印墨與第2噴墨裝置所射出之印墨的顏色不同的構成。
本發明之一態樣係提供一種具有將長形之 膜朝長邊方向搬送之搬送裝置及上述缺陷記錄系統的膜製造系統。
本發明之一態樣係提供一種利用上述膜製造系統之膜的製造方法。
依據本發明之一態樣,可使膜之缺陷與標記之間隔減小,且可抑制產生膜之缺陷資訊之記錄遺漏的缺陷記錄系統和膜製造系統以及膜的製造方法。
1、2‧‧‧缺陷記錄系統
11‧‧‧缺陷檢查裝置
12‧‧‧印刷部
13、53、55‧‧‧噴墨裝置
14‧‧‧移動裝置
15‧‧‧測長器
16‧‧‧控制裝置
21a、22a、23a‧‧‧照明部
21b、22b、23b‧‧‧光檢測部
24‧‧‧判定部
31、31A、31B、31C、31D、31E‧‧‧噴墨頭
31a‧‧‧端邊
32‧‧‧射出孔
41‧‧‧感測器
53A‧‧‧第1噴墨裝置
53B‧‧‧第2噴墨裝置
101‧‧‧膜
101a‧‧‧一端
101b‧‧‧另一端
200‧‧‧膜製造系統
201‧‧‧搬送裝置
203‧‧‧搬送輥
AR‧‧‧範圍
D、D1、D2、D3、D4、D5‧‧‧缺陷
F11‧‧‧偏光膜
L1‧‧‧第1列
L2‧‧‧第2列
M、M1、M2、M3、M4‧‧‧記號
P‧‧‧顯示面板
P1‧‧‧第1基板
P2‧‧‧第2基板
P3‧‧‧液晶層
P4‧‧‧顯示區域
PT1‧‧‧第1印刷圖案
PT2‧‧‧第2印刷圖案
PT3‧‧‧第3印刷圖案
PT4‧‧‧第4印刷圖案
R‧‧‧搬送路徑
第1圖係顯示液晶顯示面板P之構成的俯視圖。
第2圖係第1圖之II-II剖視圖。
第3圖係顯示第1實施形態之膜製造系統之構成的立體圖。
第4圖係顯示噴墨裝置13之構成的俯視圖。
第5圖係顯示噴墨裝置13所具有之噴墨頭之構成的俯視圖。
第6圖係顯示第1實施形態之記號M之配置例的示意圖。
第7圖係顯示第2實施形態之噴墨裝置之構成的俯視圖。
第8圖係顯示第2實施形態之複數個噴墨頭之動作的示意圖。
第9圖係顯示第3實施形態之噴墨裝置之構成的俯視 圖。
第10圖係顯示第4實施形態之膜製造系統之構成的立體圖。
<第1實施形態>
以下,參考第1圖至第6圖,針對本發明之第1實施形態的膜製造系統及膜的製造方法加以說明。此外,在以下之全部圖式中,為了容易地觀看圖式,各構成元件之尺寸或比率等係適當地設定成不同。
再者,在以下之說明中,係例示製造構成光學顯示裝置之光學膜之膜的製造方法。並且,例示用於該膜製造方法之膜製造系統。
就利用膜製造方法來製造之光學膜而言,可列舉偏光膜、位相差膜及亮度提升膜等。例如,光學膜係貼合在液晶顯示面板及有機EL顯示面板等光學顯示零件。
[光學顯示裝置]
就適用由本實施形態之製造方法所製造之膜的光學顯示裝置而言,係例示穿透型之液晶顯示裝置。穿透型之液晶顯示裝置係具備液晶顯示面板及背光。在該液晶顯示裝置中,將從背光射出之照明光從液晶顯示面板之背面側入射,並將藉由液晶顯示面板而調變之光從液晶顯示面板之表面側射出,藉此可顯示圖像。
針對液晶顯示面板P之構成加以說明。第1 圖係顯示液晶顯示面板P之構成的俯視圖。第2圖係第1圖之II-II剖視圖。此外,在第2圖中,係省略顯示剖面之陰影線的圖示。
如第1圖及第2圖所示,液晶顯示面板P係具備:第1基板P1;與第1基板P1相對向而配置之第2基板P2;及配置在第1基板P1與第2基板P2之間的液晶層P3。
第1基板P1係由俯視形狀長方形之透明基板所構成。第2基板P2係由比第1基板P1小之長方形的透明基板所構成。液晶層P3係利用密封材(未圖示)將第1基板P1與第2基板P2之間的周圍予以密封,且配置在由密封材所包圍之區域的內側。該區域之俯視形狀係為長方形。在液晶顯示面板P中,將俯視時收容在液晶層P3之外周內側的區域作為顯示區域P4,將包圍該顯示區域P4之周圍的外側之區域作為邊框部G。
在液晶顯示面板P之背面(背光側)貼合有偏光膜F11。在液晶顯示面板P之表面(顯示面側)貼合有偏光膜F12。在液晶顯示面板P之背面(背光側),與偏光膜F11重疊而貼合有亮度提升膜F13。
當適用於該構成之光學顯示裝置之偏光膜或亮度提升膜等光學膜具有缺陷時,會有發生無法正確地使光學顯示裝置作動等問題之情形。
因此,為了防止該問題之產生,在本實施形態之膜的製造系統中,檢查膜之缺陷,並記錄屬於該檢 查結果之缺陷資訊。藉此,可使缺陷部位從製品(膜)廢棄。再者,由於膜之缺陷與標記(記號)之間隔小,因此可使與缺陷部位一同被廢棄之膜的耗損減少。此外,缺陷部位係指缺陷之正上方及其附近。
[膜製造系統]
接著,針對利用在本實施形態之製造方法之膜製造系統加以說明。第3圖係顯示第1實施形態之膜製造系統之構成的立體圖。
第3圖所示之膜製造系統200係製造長形之膜101者。膜101係上述之光學膜。
此外,在以下之說明中,依需要來設定xyz正交座標系統,一邊參照該xyz正交座標系統,一邊針對各構件之位置關係加以說明。在本實施形態中,將膜101之長邊方向設為x方向,在膜101之面內將與x方向正交之方向(膜101之短邊方向)設為y方向,將與x方向及y方向正交之方向設為z方向。
在此,x方向與y方向係位於水平面內,z方向係位於鉛直方向(上下方向)。
此外,有將+x方向稱為下游之情形。
膜製造系統200係具備缺陷記錄系統1及搬送裝置201。
搬送裝置201係將膜101朝長邊方向(x方向)搬送。在搬送裝置201所形成之搬送路徑R,具備有搬送輥203。此外,搬送輥203亦可具備複數個。
膜101係對於聚乙烯醇(PVA,Polyvinyl Alcohol)等樹脂膜施行染色處理、交聯處理及延伸處理等之後,依需要而在施行過前述處理之膜的兩面貼合三醋酸纖維素(TAC,Triacetyl cellulose)等保護膜而得者。
[缺陷記錄系統]
缺陷記錄系統1係對於朝長邊方向(x方向)搬送之膜101,檢查膜101所具有之缺陷,並記錄屬於其檢查結果的資訊(以下亦稱為「缺陷資訊」)。
如第3圖所示,缺陷記錄系統1係具備缺陷檢查裝置11、噴墨裝置13、移動裝置14、測長器15及控制裝置16。
在本說明書中,缺陷檢查裝置11係相當於申請專利範圍中之檢查部。並且,控制裝置16係相當於申請專利範圍中之控制部。並且,將包含噴墨裝置13及移動裝置14之構成稱為印刷部12。
[缺陷檢查裝置]
缺陷檢查裝置11係設置在膜101之搬送路徑R,以檢查膜101之缺陷。就缺陷之種類而言,可列舉在膜101之製造時或搬送時所產生之異物、凹凸、亮點缺陷等。此外,亮點缺陷係指可藉由利用後述之照明部的檢查而進行判定者。例如,在偏光膜中,亮點缺陷係指藉由偏光之散亂等而產生者。
在本實施形態中,利用缺陷檢查裝置11,對於被搬送之膜101,執行例如反射檢查、穿透檢查、傾 斜穿透檢查、正交偏光鏡穿透檢查等之檢查處理,以檢測出膜101之缺陷。缺陷檢查裝置11係可執行上述之檢查處理者。
缺陷檢查裝置11係具有照明部21a、照明部22a及照明部23a、光檢測部21b、光檢測部22b及光檢測部23b、及判定部24。照明部21a至照明部23a係排列配置在膜101之搬送方向(長邊方向、x方向)。並且,光檢測部21b至光檢測部23b係排列配置在膜101之搬送方向。
照明部21a至照明部23a係對膜101照射照明光。光檢測部21b至光檢測部23b係檢測出穿透膜101之光(穿透光)。
照明部21a至照明部23a、光檢測部21b至光檢測部23b係分別隔著膜101而相對向配置。此時,照明部21a會對應於光檢測部21b,照明部22a會對應於光檢測部22b,照明部23a會對應於光檢測部23b。
此外,缺陷檢查裝置11並不限定於用以檢測該穿透光之構成,亦可具有用以檢測反射光之構成,或用以檢測穿透光及反射光之構成。在檢測反射光時,光檢測部係配置在與照明部相同之側。
照明部21a至照明部23a係依據缺陷檢查之種類而將經調整光強度、波長、或偏光狀態等的照明光照射在膜101。光檢測部21b至光檢測部23b係利用CCD等攝像元件,對膜101之被照射照明光之位置的圖像進行攝 像。
由光檢測部21b至光檢測部23b所攝像之圖像係輸出至判定部24。判定部24係對由光檢測部21b至光檢測部23b所攝像之圖像進行解析,以判定缺陷之有無(位置)或種類等。將該判定部24所判定之結果(檢查結果)輸出至後述之控制裝置16。此外,判定部24亦可為控制裝置16之一部分。
[印刷部]
印刷部12係設置在搬送路徑R中之缺陷檢查裝置11的下游,並在膜101印刷缺陷資訊並予以記錄。
(噴墨裝置)
第4圖係顯示噴墨裝置13之構成的俯視圖。第5圖係顯示噴墨裝置13具有之噴墨頭之構成的俯視圖。第4圖所示之噴墨裝置13係朝與膜101之長邊方向交叉的方向延伸設置,且對膜101射出印墨並印刷缺陷資訊。在第4圖中,與膜101之長邊方向交叉的方向係指y方向。
此外,在第4圖中,噴墨裝置13之延伸方向與膜101之長邊方向所成的角度雖為90°,但不限定於此。
噴墨裝置13係藉由後述之控制裝置16所進行之控制而將缺陷資訊記録在膜101。第4圖所示之噴墨裝置13係具有沿著與膜101之長邊方向交叉的方向排列之10個噴墨頭31。
噴墨裝置13係具有複數個射出孔32(參照 第5圖)。複數個射出孔32係在膜101之長邊方向交叉之方向中從膜101的一端101a至另一端101b離散地配置。此外,在本實施形態中所謂「離散地」係指射出孔32規則性地以一列配置之情形,亦包含不規則性排列之情形。
在此,針對複數個射出孔32之配置例,一邊參照第5圖一邊加以說明。第5圖所示之噴墨頭31係具有16個射出印墨之射出孔32。再者,鄰接之2個射出孔32的間隔係10mm,從噴墨頭31之端邊31a至配置在最外側之射出孔32的間隔係5mm。
此外,在1個噴墨頭31之中,16個射出孔32係以等間隔排列,亦能以不同之間隔排列。再者,複數個噴墨頭31之射出孔32之數量、大小、間隔等係可為彼此相同,亦可為彼此不同。
(移動裝置)
如第3圖及第4圖所示,移動裝置14係藉由以後述之控制裝置16所進行之控制,使噴墨裝置13沿著與膜101之長邊方向交叉之方向移動。後述之控制裝置16係使移動裝置14驅動,且使複數個噴墨頭31沿著與膜101之長邊方向交叉的方向移動。
[測長器]
測長器15係配置在搬送輥203,以測量膜101之搬送量。測長器15係由旋轉編碼器所構成。
構成測長器15之旋轉編碼器係測量膜101之搬送量。膜101之搬送量係依據與膜101相接而旋轉之 搬送輥203的旋轉變位量而決定。測長器15之測量結果係輸出至後述之控制裝置16。
[控制裝置]
控制裝置16係依據由缺陷檢查裝置11所進行之檢查結果,來控制印刷部12之動作。具體而言,控制裝置16係依據由缺陷檢查裝置11所進行之檢查結果,來控制由移動裝置14s進行之噴墨裝置13的位置移動及由噴墨裝置13所進行之印刷。
控制裝置16係使移動裝置14驅動,並使噴墨裝置13移動至噴墨裝置13之y座標與缺陷部位之y座標重疊的位置。
在缺陷記錄系統1中,為了不會在藉由膜101之缺陷檢查裝置11而進行缺陷檢查之位置(缺陷檢查位置)與缺陷資訊之記錄之位置(資訊記錄位置)之間產生偏離,在進行缺陷檢查之後以預定之時序來記錄缺陷資訊。例如,在本實施形態中,於利用缺陷檢查裝置11進行檢查之時刻以後,算出在搬送路徑R上被搬送之膜的搬送量,當所算出之搬送量與偏置距離一致時,藉由噴墨裝置13來進行記錄。
因此,偏置距離係指缺陷檢查裝置11與噴墨裝置13之間之膜的搬送距離。嚴格來說,偏置距離係定義作為缺陷檢查裝置11之缺陷檢查位置與噴墨裝置13之資訊記錄位置之間之膜的搬送距離。
偏置距離係預先記憶在控制裝置16。具體 而言,在缺陷檢查裝置11中,會存在有光檢測部21b至光檢測部23b,以在各個光檢測部21b至光檢測部23b進行缺陷之檢查。因此,在控制裝置16中,於各個光檢測部21b至光檢測部23b記憶有偏置距離。
在本實施形態中,依據測長器15之測量結果,在由缺陷檢查裝置11進行檢查之時刻以後,算出在搬送路徑R上被搬送之膜的搬送量,當所算出之搬送量與偏置距離一致時,藉由噴墨裝置13來進行印刷。
(記號之配置例)
例如,在無法藉由對缺陷部位變更噴墨裝置之y座標的習知系統中,會有難以在缺陷之正上方印刷記號之情形。另一方面,在不變更噴墨裝置之y座標的情形下,為了在缺陷之正上方印刷記號,可考慮將多數個射出孔密集地配置在噴墨裝置之方法。然而,配置多數個射出孔時,可推測出發生印墨之阻塞等問題的機會將變多。
結果,可推測出維護所耗費用之時間或費用會更為增加。
相對於此,在本實施形態中,如第4圖所示,藉由使噴墨裝置13移動,可在膜101之缺陷D的正上方印刷記號M。在第4圖中,雖顯示點狀之記號,但亦可為線狀之記號。
再者,當具有x座標相等之缺陷D1及缺陷D2時,對於缺陷D1,可在其正上方印刷記號M1。另一方面,對於缺陷D2,能以包圍其周圍之方式印刷記號M2。 此外,針對記號M之配置,並不限定於此。
第6圖係顯示第1實施形態之記號M之配置例的示意圖。在本實施形態中,如第6圖(a)所示,亦可在膜101之表面,以於與膜101之長邊方向交叉的方向使缺陷D位於相鄰之第1印刷圖案PT1與第2印刷圖案PT2之間的方式,印刷第1印刷圖案PT1及第2印刷圖案PT2。
此時,就第1印刷圖案PT1及第2印刷圖案PT2而言,在膜101之搬送方向(長邊方向、x方向)排列複數個點狀之記號M並予以印刷。
第1印刷圖案PT1與第2印刷圖案PT2之間隔係依要使用之二個射出孔32(參照第5圖)之間隔而決定。利用第5圖所示之噴墨頭31,來使用鄰接之二個射出孔32時,第1印刷圖案PT1與第2印刷圖案PT2之間隔係成為10mm。
並且,如第6圖(b)所示,當缺陷D較大時,亦可印刷相鄰接之第1印刷圖案PT1、第2印刷圖案PT2、第3印刷圖案PT3、第4印刷圖案PT4。利用第5圖所示之噴墨頭31,在使用相鄰接之4個射出孔32時,第1印刷圖案PT1與第4印刷圖案PT4之間隔係成為30mm。
在此,將第2印刷圖案PT2至第4印刷圖案PT4稱為「第X印刷圖案PTX」。如上所述,由於缺陷D位於第1印刷圖案PT1與第X之印刷圖案PTX之間,因此可顯示缺陷D之位置。藉此,在印刷後之檢查中,可容易地掌握缺陷D之位置。
再者,藉由第1印刷圖案PT1與第X印刷 圖案PTX之間隔,可辨識位在其間之缺陷D的大小。此外,亦可不一定要使用排列在與膜101之搬送方向(長邊方向)交叉的方向(第4圖中之y方向)之複數個射出孔32中之相隣接之射出孔32。亦可配合缺陷D之位置及大小,適當地選擇射出孔32。
構成第1印刷圖案PT1及第X印刷圖案PTX之點狀的記號M之個數或間隔並無特別限制,但亦可變更記號M之個數或間隔。並且,就印刷之記號而言,除了點狀或線狀之記號以外,亦可組合記號或花紋等。在本實施形態中,係使由記號之種類、數量及間隔所構成之群中選出的至少一個來與缺陷資訊預先相對應,並依據該對應關係詳細地記錄缺陷資訊。
(膜之製造方法)
接著,針對利用第3圖所示之膜製造系統200之膜的製造方法加以說明。膜101會藉由搬送裝置201而朝膜101之長邊方向(+x方向)搬送。
首先,缺陷檢查裝置11會檢查膜101之缺陷。在由缺陷檢查裝置11進行檢查之時刻以後,測長器15會算出膜101之搬送量。
接著,依據由缺陷檢查裝置11進行之檢查結果及測長器15的測量結果,控制裝置16係控制噴墨裝置13及移動裝置14。詳細而言,藉由移動裝置14而使噴墨裝置13之噴墨頭31朝與缺陷部位相對應之位置移動。
再者,選擇該噴墨頭31所具有之複數個射 出孔32中之印刷第1印刷圖案PT1及第X印刷圖案PTX的射出孔32。然後,從該等選択之射出孔32來射出印墨,而在膜101記錄缺陷資訊。如此,製造出記錄有缺陷資訊之膜。
此外,在本實施形態中,噴墨裝置13雖具有複數個噴墨頭31,但並不限定於此。就本實施形態之噴墨裝置而言,亦可為由一個噴墨頭所構成,且朝與膜101之長邊方向交叉的方向延伸設置的噴墨裝置。
依據以上構成之缺陷記錄系統,可使膜之缺陷與標記(記號)之間隔變小,且可抑制膜之缺陷資訊的記錄遺漏之產生。
再者,具備該缺陷記錄系統之膜製造系統係可使膜之缺陷與標記之間隔變小,且可抑制膜之缺陷資訊的記錄遺漏之產生。
再者,利用該膜製造系統之膜的製造方法係可使膜之缺陷與標記之間隔變小,且可抑制膜之缺陷資訊的記錄遺漏之產生。
<第2實施形態>
以下,一面參照第7圖,一面針對本發明第2實施形態之膜的製造方法加以說明。本實施形態之膜的製造方法係與第1實施形態之膜的製造方法局部共通。不同者係在於噴墨裝置之構成。因此,針對在本實施形態中與第1實施形態共通之構成元件係標記相同符號,並省略詳細之說明。
(噴墨裝置)
第7圖係顯示第2實施形態之噴墨裝置之構成的俯視圖。此外,第7圖係對應於第4圖。在第7圖所示之噴墨裝置53中,複數個噴墨頭31係排列在沿著與膜101之長邊方向交叉的方向設定之第1列L1及第2列L2。
噴墨頭31A及噴墨頭31B係在與膜101之長邊方向交叉的方向彼此相鄰接配置。5個噴墨頭31B係排列在第1列L1,5個噴墨頭31A係排列在第2列L2。
亦即,噴墨頭31A及噴墨頭31B係分別排列在不同之列排列。藉此,噴墨頭31A及噴墨頭31B係可分別獨立地移動。
此外,排列有複數個噴墨頭31之列的數量亦可限定於二個,亦可例如為三個。
藉由使用具備該噴墨裝置53之缺陷記錄系統,具有下述之優點。例如,在具有x座標相等之缺陷D1及缺陷D2時,在第1實施形態中,係先說明僅針對缺陷D1在其正上方印刷記號M1之情形。
相對於此,在第2實施形態中,噴墨頭31A及噴墨頭31C可分別獨立地移動。在此,噴墨頭31C係指5個噴墨頭31B中之可對缺陷D2印刷記號M2之噴墨頭。第8圖係顯示第2實施形態之複數個噴墨頭之動作的示意圖。如第8圖所示,藉由使噴墨頭31A朝+y方向移動,而可使噴墨頭31A之射出孔32A的y座標與缺陷D1之y座標一致。同樣地,藉由噴墨頭31C朝-y方向移動,可使噴 墨頭31C之射出孔32C的y座標與缺陷D2之y座標一致。
因此,針對缺陷D1及缺陷D2之兩方,可在其正上方印刷記號M1及記號M2。因此,可使缺陷D與記號M之間隔減小,且可減少在將缺陷部位廢棄之際產生之膜的耗損。
再者,即使在存在有y座標為不同之多數個缺陷D時,亦可抑制膜101之缺陷資訊的記錄遺漏之產生。
由以上之情形得知,在第2實施形態中可使膜之缺陷與標記(記號)之間隔減小,且可抑制膜之缺陷資訊之記錄遺漏的產生。
<第3實施形態>
以下,參照第9圖,針對本發明第3實施形態之膜的製造方法加以說明。本實施形態之膜的製造方法係與第2實施形態之膜的製造方法局部共通。不同者係在於噴墨裝置之構成。因此,在本實施形態中,針對與第2實施形態共通之構成元件標記相同之符號,並省略詳細之說明。
(噴墨裝置)
第9圖係顯示第3實施形態之噴墨裝置之構成的俯視圖。此外,第9圖係對應於第4圖。第9圖所示之噴墨裝置55係具有第1噴墨裝置53A及第2噴墨裝置53B。第2噴墨裝置53B係在搬送路徑中配置在第1噴墨裝置53A之下游(+x方向)。
第1噴墨裝置53A及第2噴墨裝置53B係 為與第2實施形態之噴墨裝置53相同的構成。
第1噴墨裝置53A所射出之印墨的顏色亦可與第2噴墨裝置53B所射出之印墨的顏色不同。藉此,除了區分點狀或線狀之記號、符號、花紋之外,亦可區分顏色。此時,預先使記號之種類、顏色、數量、間隔與缺陷資訊預先對應,並依據該對應關係而詳細地記錄缺陷資訊。
此外,第1噴墨裝置53A與第2噴墨裝置53B之至少任一方亦可為與第1實施形態之噴墨裝置13相同的構成。
再者,第1噴墨裝置53A與第2噴墨裝置53B之至少任一者亦可為由一個噴墨頭所構成,且朝與膜101之長邊方向交叉的方向延伸設置之噴墨裝置。第1噴墨裝置53A係較佳為第2實施形態之噴墨裝置53。
藉由使用具備該噴墨裝置55之缺陷記錄系統,而具有下述之優點。例如,假設噴墨頭31A位於可印刷之範圍AR,且具有x座標相等之缺陷D3及缺陷D4的情形。此時,在第1實施形態中,先說明僅針對缺陷D3可在其正上方印刷記號M3。
相對於此,在第3實施形態中,第2噴墨裝置53B係具有可在範圍AR印刷之噴墨頭31D。在第3實施形態中,噴墨頭31A及噴墨頭31D係可分別獨立地移動。結果,可對於缺陷D3及缺陷D4之兩方,在其正上方印刷記號M3及記號M4。因此,可使缺陷D與記號M之 間隔減小,且可減少在將缺陷部位予以廢棄之際產生之膜的耗損。
再者,與第2實施形態同樣地,在第3實施形態中,即使存在有y座標不同之多數個缺陷D時,亦可抑制膜101之缺陷資訊的記錄遺漏之產生。
並且,亦可針對其他缺陷D5,藉由第1印刷圖案PT1及第2印刷圖案PT2來記錄缺陷資訊。在第3實施形態中,噴墨頭31C係可印刷第1印刷圖案PT1,噴墨頭31E係可印刷第2印刷圖案PT2。噴墨頭31E係包含在第2噴墨裝置53B,且位於與噴墨頭31D不同之列。具體而言,噴墨頭31E係位於噴墨頭31D所在之列的上游側之列。在第3實施形態中,藉由變更噴墨頭31C及噴墨頭31E之位置關係,而可變更第1印刷圖案PT1與第2印刷圖案PT2之間隔。
再者,第2噴墨裝置53B亦可與第1噴墨裝置53A所印刷之記號重疊,來印刷記號。此時,即使在無法由第1噴墨裝置53A印刷記號時,亦可由第2噴墨裝置53B印刷記號。因此,可抑制因印刷不良所造成之缺陷資訊的記錄遺漏之產生。
由以上得知,即使在第3實施形態中,亦可使膜之缺陷與標記(記號)之間隔減小,且可抑制膜之缺陷資訊之記錄遺漏的產生。
[第4實施形態]
以下,一邊參照第10圖,一邊針對本發明第4實施 形態之膜的製造方法加以說明。本實施形態之膜的製造方法係與第3實施形態之膜的製造方法局部共通。不同者係在於缺陷記錄系統之構成。因此,針對在本實施形態中與第3實施形態共通之構成元件,標記相同符號,並省略詳細之說明。
[缺陷記錄系統]
第10圖係顯示第4實施形態之膜製造系統之構成的立體圖。此外,第10圖係對應於第3圖。如第10圖所示,缺陷記錄系統2係具備缺陷檢查裝置11、噴墨裝置55、移動裝置14、測長器15、控制裝置16及感測器41。再者,將包含噴墨裝置55及移動裝置14之構成稱為印刷部12。
[感測器]
如第10圖所示,感測器41係配置在搬送路徑R中之第1噴墨裝置53A與第2噴墨裝置53B之間。感測器41係檢測出因第1噴墨裝置53A所造成之印刷不良。感測器41係由例如攝像機所構成。由感測器41所攝像之圖像(檢測結果)係輸出至控制裝置16。
控制裝置16係依據由缺陷檢查裝置11所進行之檢查結果及感測器41的檢測結果,使第2噴墨裝置53B驅動,以在對應於印刷不良之位置印刷缺陷資訊。
此外,在本實施形態中,第2噴墨裝置53B亦可從頭開始驅動,亦可停止。
由以上得知,即使在第4實施形態中,亦可使膜之缺陷與標記(記號)之間隔減小,且可抑制膜之缺 陷資訊之記錄遺漏的產生。特別是,可即時地檢測出印刷不良,且抑制因印刷不良所造成之缺陷資訊的記錄遺漏之產生。
以上,一邊參照附圖,一邊針對本發明之較佳實施形態例進行了說明,惟本發明當然並不限定於該例。在上述例中所示之各構成構件的諸形狀或組合等係為一例,亦可在在不會脫離本發明之主旨的範圍下,依據設計要求等進行各種變更。
P‧‧‧顯示面板
P1‧‧‧第1基板
P2‧‧‧第2基板
P3‧‧‧液晶層
P4‧‧‧顯示區域

Claims (11)

  1. 一種缺陷記錄系統,係對於朝長邊方向搬送之長形的膜,記錄有關於前述膜所具有之缺陷之資訊者,且具備:檢查部,係設置在前述膜之搬送路徑,並檢查前述膜之缺陷;印刷部,係在前述搬送路徑中設置在前述檢查部之下游,且對前述膜印刷前述資訊而予以記錄;以及控制部,係依據由前述檢查部所得之檢查結果來控制前述印刷部之動作;前述印刷部係具有:噴墨裝置,係朝與前述長邊方向交叉之方向延伸而設置,且對前述膜射出印墨以印刷前述資訊;及移動裝置,係使前述噴墨裝置沿著前述交叉之方向移動;前述噴墨裝置係具有複數個射出前述印墨之射出孔,複數個前述射出孔係從前述交叉之方向之前述膜的一端至另一端離散地配置,前述控制部係依據前述檢查結果,來控制由前述移動裝置所進行之前述噴墨裝置的位置移動,及由前述噴墨裝置所進行之印刷。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之缺陷記錄系統,其中,前述噴墨裝置係具有沿著前述交叉之方向排列之複數個噴墨頭, 前述噴墨頭係分別具有前述射出孔,前述移動裝置係使複數個前述噴墨頭沿著前述交叉之方向移動,前述控制部係分別獨立地控制複數個前述噴墨頭之移動。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之缺陷記錄系統,其中,複數個前述噴墨頭係排列成沿著前述交叉之方向設定之複數之列,在前述交叉之方向彼此相鄰接之2個前述噴墨頭係分別排列在不同之前述列。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之缺陷記錄系統,其中,前述噴墨裝置係具有:第1噴墨裝置;以及在前述搬送路徑中配置在前述第1噴墨裝置之下游的第2噴墨裝置。
  5. 如申請專利範圍第4項所述之缺陷記錄系統,其中,前述第1噴墨裝置與前述第2噴墨裝置之至少一方係具有沿著前述交叉之方向排列之複數個噴墨頭,前述噴墨頭係分別具有前述射出孔,前述移動裝置係使複數個前述噴墨頭沿著前述交叉之方向移動,前述控制部係分別獨立地控制複數個前述噴墨頭之移動。
  6. 如申請專利範圍第5項所述之缺陷記錄系統,其中,複 數個前述噴墨頭係排列成沿著前述交叉之方向設定之複數個列,在前述交叉之方向彼此相鄰之2個前述噴墨頭係分別排列在不同之前述列。
  7. 如申請專利範圍第5項或第6項所述之缺陷記錄系統,其中,前述第1噴墨裝置係具有沿著前述交叉之方向排列之複數個噴墨頭。
  8. 如申請專利範圍第4項至第6項中任一項所述之缺陷記錄系統,更具有:感測器,係在前述搬送路徑中配置於前述第1噴墨裝置與前述第2噴墨裝置之間,且檢測出因前述第1噴墨裝置所致之印刷不良,前述控制部係依據由前述檢查部所得之檢查結果及前述感測器之檢測結果,使前述第2噴墨裝置驅動,以於對應於前述印刷不良之位置印刷前述資訊。
  9. 如申請專利範圍第4項至第6項中任一項所述之缺陷記錄系統,其中,前述第1噴墨裝置所射出之印墨係與前述第2噴墨裝置所射出之印墨的顏色不同。
  10. 一種膜製造系統,係具備:搬送裝置,係將長形之膜朝長邊方向搬送;以及申請專利範圍第1項至第9項中任一項所述之缺陷記錄系統。
  11. 一種膜的製造方法,係利用申請專利範圍第10項所述之膜製造系統。
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113466256B (zh) * 2021-06-29 2022-04-15 深圳市楠轩光电科技有限公司 一种光学薄膜缺陷批量式检测设备

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001305070A (ja) * 2000-04-19 2001-10-31 Sumitomo Chem Co Ltd シート状製品の欠陥マーキング方法および装置
JP2006292678A (ja) * 2005-04-14 2006-10-26 Kimoto & Co Ltd 欠陥マーキング装置、シート材料の製造方法およびシート材料
CN101035946A (zh) * 2004-04-19 2007-09-12 3M创新有限公司 在材料织物上自动标记缺陷的装置和方法
JP2014195881A (ja) * 2013-03-29 2014-10-16 セイコーエプソン株式会社 液体吐出装置
US20160103632A1 (en) * 2014-10-08 2016-04-14 Océ-Technologies B.V. Method for defect detection in a printing system and printing system
TW201719152A (zh) * 2015-03-20 2017-06-01 Sumitomo Chemical Co 層積光學薄膜的缺陷檢查方法,光學薄膜的缺陷檢查方法及層積光學薄膜的製造方法

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001058446A (ja) * 1999-08-20 2001-03-06 Isetoo:Kk インクジェットプリントシステムにおける印刷検証装置
JP2002168793A (ja) * 2000-11-30 2002-06-14 Fuji Photo Film Co Ltd 表面欠陥検査装置および表面欠陥検査方法
TWI258432B (en) * 2003-12-26 2006-07-21 Ind Tech Res Inst Method for patching element defects by ink-jet printing
JP2006123203A (ja) * 2004-10-26 2006-05-18 Konica Minolta Holdings Inc インクジェット記録装置
JP2006240119A (ja) * 2005-03-04 2006-09-14 Konica Minolta Holdings Inc インクジェット記録装置
JP2007015194A (ja) * 2005-07-06 2007-01-25 Konica Minolta Holdings Inc 記録ヘッドのメンテナンス方法及びインクジェットプリンタ
JP2007030407A (ja) 2005-07-28 2007-02-08 Canon Inc 印字制御装置
JP2007125581A (ja) * 2005-11-04 2007-05-24 Jfe Steel Kk 鋼板の欠陥マーキングと欠陥除去方法およびその装置
JP4680778B2 (ja) * 2006-01-10 2011-05-11 ヤマハ発動機株式会社 印刷検査方法および印刷装置
JP4437805B2 (ja) * 2006-09-13 2010-03-24 シャープ株式会社 インク吐出装置及びインク吐出制御方法
JP2008175940A (ja) * 2007-01-17 2008-07-31 Sekisui Chem Co Ltd 光学フィルムの欠陥のマーキング方法
JP2010181620A (ja) * 2009-02-05 2010-08-19 Sharp Corp インクジェット装置
JP5588223B2 (ja) * 2009-05-26 2014-09-10 旭化成イーマテリアルズ株式会社 ワイヤグリッド偏光フィルム用欠陥マーキング装置及び欠陥マーキング方法
JP5555064B2 (ja) * 2010-06-11 2014-07-23 旭化成イーマテリアルズ株式会社 フィルム用欠陥マーキング装置及び欠陥マーキング方法
JP5494463B2 (ja) * 2010-12-22 2014-05-14 ブラザー工業株式会社 インクジェット記録装置
JP2013134136A (ja) * 2011-12-26 2013-07-08 Jfe Steel Corp 表面欠陥検査システム
JP5911735B2 (ja) * 2012-02-27 2016-04-27 富士フイルム株式会社 インクジェット記録装置及び方法並びに衛生用品の製造方法
JP5925609B2 (ja) * 2012-06-12 2016-05-25 日東電工株式会社 シート状製品の検査システム及びシート状製品の検査方法
JP2014004779A (ja) * 2012-06-26 2014-01-16 Riso Kagaku Corp インクジェット印刷装置
JP6177017B2 (ja) * 2013-06-12 2017-08-09 住友化学株式会社 欠陥検査システム
JP6285658B2 (ja) * 2013-08-02 2018-02-28 住友化学株式会社 欠陥検査システム及びフィルム製造装置
JP6260045B2 (ja) 2013-09-18 2018-01-17 株式会社メック 欠陥検査システム、及びマーキング方法
US9199498B2 (en) * 2013-11-21 2015-12-01 Eastman Kodak Company Inkjet printing method and apparatus with feedback control
JP2017094549A (ja) 2015-11-20 2017-06-01 セイコーエプソン株式会社 印刷ヘッドおよび印刷装置

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001305070A (ja) * 2000-04-19 2001-10-31 Sumitomo Chem Co Ltd シート状製品の欠陥マーキング方法および装置
CN101035946A (zh) * 2004-04-19 2007-09-12 3M创新有限公司 在材料织物上自动标记缺陷的装置和方法
JP2006292678A (ja) * 2005-04-14 2006-10-26 Kimoto & Co Ltd 欠陥マーキング装置、シート材料の製造方法およびシート材料
JP2014195881A (ja) * 2013-03-29 2014-10-16 セイコーエプソン株式会社 液体吐出装置
US20160103632A1 (en) * 2014-10-08 2016-04-14 Océ-Technologies B.V. Method for defect detection in a printing system and printing system
TW201719152A (zh) * 2015-03-20 2017-06-01 Sumitomo Chemical Co 層積光學薄膜的缺陷檢查方法,光學薄膜的缺陷檢查方法及層積光學薄膜的製造方法

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