TWI681554B - 畫素陣列基板及其驅動方法 - Google Patents

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Abstract

一種畫素陣列基板及其驅動方法，其中畫素陣列基板包括基板、位於基板上的至少一畫素結構以及液晶層。至少一畫素結構包括微型發光二極體、支撐牆、位於支撐牆與微型發光二極體之間的第一底電極以及設置於支撐牆上且與第一底電極分離的第一頂電極。微型發光二極體包括第一電極、電性連接第一電極的第一半導體層、第二半導體層、位於第一半導體層與第二半導體層之間的發光層以及電性連接第二半導體層的第二電極。液晶層設置於第一底電極上且位於支撐牆與微型發光二極體之間。

Description

畫素陣列基板及其驅動方法
本發明是有關於一種基板及其驅動方法，且特別是有關於一種畫素陣列基板及其驅動方法。
發光二極體(Light Emitting Diode；LED)為一種發光元件，因其具低功耗、高亮度、高解析度及高色彩飽和度等特性，因而適用於構建發光二極體顯示面板之畫素結構。微型發光二極體(Micro-Light Emitting Diode；μLED)不僅承繼發光二極體的特性，同時可將使用微型發光二極體之畫素結構的體積縮小至使用發光二極體之畫素結構的體積的1%。
然而，微型發光二極體的電極墊會遮擋住微型發光二極體所激發出來的光線，導致微型發光二極體光取出效率降低的問題，嚴重地影響顯示面板的品質。因此，目前亟需一種能增加微型發光二極體光取出效率的方法。
本發明提供一種畫素陣列基板，能解決微型發光二極體光取出效率降低的問題或調整出光角度。
本發明提供一種畫素陣列基板的驅動方法，能解決微型發光二極體光取出效率降低的問題或調整出光角度。
本發明的一種畫素陣列基板，包括基板、位於基板上的至少一畫素結構以及液晶層。至少一畫素結構包括微型發光二極體、設置於基板上的支撐牆、設置於基板上且位於支撐牆與微型發光二極體之間的第一底電極以及設置於支撐牆上且與第一底電極分離的第一頂電極。微型發光二極體包括第一電極、電性連接第一電極的第一半導體層、至少部分與第一半導體層重疊的第二半導體層、位於第一半導體層與第二半導體層之間的發光層以及電性連接第二半導體層的第二電極。液晶層設置於第一底電極上且位於支撐牆與微型發光二極體之間。
本發明的一種畫素陣列基板的驅動方法，包括先提供畫素陣列基板，其中畫素陣列基板包括基板、位於基板上的至少一畫素結構以及液晶層。至少一畫素結構包括微型發光二極體、設置於基板上的第一底電極、位於微型發光二極體的至少兩側的支撐牆以及設置於支撐牆上且與第一底電極分離的第一頂電極。微型發光二極體包括第一電極、電性連接第一電極的第一半導體層、至少部分與第一半導體層重疊的第二半導體層、位於第一半導體層與第二半導體層之間的發光層以及電性連接第二半導體層的第二電極。液晶層設置於第一底電極上且位於支撐牆與微型發 光二極體之間。再來，對第一電極施加第一電壓、對第一底電極施加第二電壓、對第二電極施加第三電壓以及對第一頂電極施加第四電壓，其中第一電壓不同於第三電壓且第二電壓不同於第四電壓。
基於上述，本發明的畫素陣列基板及其驅動方法可以改善畫素結構光取出效率降低的問題，或調整出光角度，並可進一步提升顯示面板的顯示品質。
為讓本發明的上述特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉實施例，並配合所附圖式作詳細說明如下。
100、200、300、400‧‧‧畫素陣列基板
110‧‧‧基板
112‧‧‧支撐牆
112a‧‧‧第一側
112b‧‧‧第二側
114‧‧‧第一電極
116‧‧‧第一半導體層
118‧‧‧發光層
120‧‧‧第二半導體層
122‧‧‧第二電極
124、144‧‧‧絕緣層
126、126’‧‧‧電極墊
128‧‧‧連接結構
132‧‧‧第一訊號線
134‧‧‧第二訊號線
136‧‧‧對向基板
142‧‧‧焊料
A-A’、B-B’‧‧‧剖線
b1‧‧‧第一底電極
b2‧‧‧第二底電極
BM‧‧‧遮光圖案
COM‧‧‧共用電極線
d‧‧‧距離
D‧‧‧汲極
DL‧‧‧資料線
G‧‧‧閘極
LC‧‧‧液晶層
LED、LED1、LED2‧‧‧微型發光二極體
PX、PX1、PX2‧‧‧畫素結構
S‧‧‧源極
SL‧‧‧掃描線
T‧‧‧主動元件
t1‧‧‧第一頂電極
t2‧‧‧第二頂電極
α1、α2‧‧‧夾角
圖1是依照本發明一實施例的一種畫素陣列基板的上視示意圖。
圖2是根據圖1的剖線A-A’繪示的畫素陣列基板的剖面示意圖。
圖3是依照本發明另一實施例的一種畫素陣列基板的上視示意圖。
圖4是根據圖3的剖線B-B’繪示的畫素陣列基板的剖面示意圖。
圖5是依照本發明另一實施例的一種畫素陣列基板的上視示意圖。
圖6是依照本發明另一實施例的一種畫素陣列基板的上視示意圖。
在下文中將參照附圖更全面地描述本發明，在附圖中示出了本發明的示例性實施例。如本領域技術人員將認識到的，可以以各種不同的方式修改所描述的實施例，而不脫離本發明的精神或範圍。
除非另有定義，本文使用的所有術語(包括技術和科學術語)具有與本發明所屬領域的普通技術人員通常理解的相同的含義。將進一步理解的是，諸如在通常使用的字典中定義的那些術語應當被解釋為具有與它們在相關技術和本發明的上下文中的含義一致的含義，並且將不被解釋為理想化的或過度正式的意義，除非本文中明確地這樣定義。
本文參考作為理想化實施例的示意圖的截面圖來描述示例性實施例。因此，可以預期到作為例如製造技術及/或(and/or)公差的結果的圖示的形狀變化。因此，本文所述的實施例不應被解釋為限於如本文所示的區域的特定形狀，而是包括例如由製造導致的形狀偏差。例如，示出或描述為平坦的區域通常可以具有粗糙及/或非線性特徵。此外，所示的銳角可以是圓的。因此，圖中所示的區域本質上是示意性的，並且它們的形狀不是旨在示出區域的精確形狀，並且不是旨在限制權利要求的範圍。
圖1是依照本發明一實施例的一種畫素陣列基板的上視示意圖。圖2是根據圖1的剖線A-A’繪示的畫素陣列基板的剖面示意圖。
請參照圖1及圖2，本實施例的畫素陣列基板100包括基板110、畫素陣列以及液晶層LC。基板110之材質可為玻璃、石英、有機聚合物、金屬、或是其它可適用的材料。基板110上包括設置有畫素陣列。畫素陣列包括多條掃描線SL、多條資料線DL、多條第一訊號線132、至少一畫素結構PX以及共用電極線COM，為了方便說明，僅以一條掃描線SL、一條資料線DL、一條第一訊號線132、一個畫素結構PX以及一條共用電極線COM為例。掃描線SL與資料線DL彼此交錯設置，且每一個畫素結構電性連接於所對應的掃描線SL之其中一條和所對應的資料線DL之其中一條。本發明之實施例，是以掃描線SL的延伸方向與資料線DL的延伸方向不平行為例。舉例來說，掃描線SL的延伸方向與資料線DL的延伸方向互相垂直。掃描線SL與資料線DL一般是使用金屬材料。然，本發明不限於此，根據其他實施例，掃描線SL與資料線DL也可以使用其他導電材料(例如：金屬材料的氮化物、金屬材料的氧化物、金屬材料的氮氧化物或其它合適的材料)或是金屬材料與其它導電材料的堆疊層。圖2還繪示出設置於畫素陣列基板100之對向側的對向基板136，對向基板136上例如可以包括濾光圖案、波長轉換材料或其他構件。
請繼續參考圖1及圖2，至少一畫素結構PX位於基板110 上。畫素結構PX包括主動元件T、微型發光二極體LED、支撐牆112、第一底電極b1、第二底電極b2以及第一頂電極t1。主動元件T可以是底部閘極型薄膜電晶體或是頂部閘極型薄膜電晶體，其包括閘極G、源極S、汲極D以及通道CH。
主動元件T的閘極G電性連接至掃描線SL其中之一者，主動元件T的源極S電性連接至資料線DL其中之一者，且主動元件T的汲極D電性連接至微型發光二極體LED之一端。在一些實施例中，主動元件T與微型發光二極體LED之間還藉由其他驅動元件電性連接，但本發明不以此為限。
請繼續參考圖1，在本實施例中，共用電極線COM包括延伸方向與掃描線SL延伸方向平行的主幹以及自主幹部朝向畫素結構PX延伸的分支，其中共用電極線COM的分支與電極墊126’電性連接。共用電極線COM可為透明導電圖案，其材質可為金屬氧化物，例如銦錫氧化物、銦鋅氧化物、鋁錫氧化物、鋁鋅氧化物、銦鍺鋅氧化物、或其它合適的氧化物、或者是上述至少二者之堆疊層。共用電極線COM的材質亦可採用具高反射性的導電材料，例如金屬、合金、金屬的氮化物、金屬的氧化物、金屬的氮氧化物、或是金屬與其它導電材料的堆疊層。在本實施例中，共用電極線COM例如採用與掃描線SL相同的材質或同一道製程，但本發明不以此為限。
請繼續參考圖1及圖2，微型發光二極體LED包括第一電極114、第一半導體層116、發光層118、第二半導體層120、 第二電極122以及絕緣層124。在本實施例中，絕緣層124具有至少兩個開口，分別暴露出第一半導體層116的部分頂面與第二半導體層120的部分頂面。在本實施例中，第一電極114與第二電極122分別設置於絕緣層124暴露出第一半導體層116與第二半導體層120的開口中。第一電極114亦可透過另一導電膜層，間接與第一半導體層116接觸，第二電極122亦可透過前述之另一導電膜層，間接與第二半導體層120接觸。第一電極114電性連接第一半導體層116，第二電極122電性連接第二半導體層120。在本實施例中，第二半導體層120與部分第一半導體層116重疊。第一半導體層116與第二半導體層120中的一者為N型摻雜半導體，且另一者為P型摻雜半導體。第一半導體層116與第二半導體層120的材料例如包括氮化鎵(GaN)、氮化銦鎵(InGaN)、砷化鎵(GaAs)或其他IIIA族和VA族元素組成的材料或其他合適的材料，但本發明不以此為限。
發光層118位於第一半導體層116以及第二半導體層120之間。發光層118例如具有量子井(Quantum Well；QW)，發光層118例如為單量子井(SQW)、多量子井(MQW)或其它的量子井，P型摻雜的半導體層提供的電洞與N型摻雜的半導體層提供的電子可以在發光層118結合，並以光的模式釋放出能量。在一些實施例中，發光層118的材料例如包括氮化鎵(GaN)、氮化銦鎵(InGaN)、砷化鎵(GaAs)、磷化鋁鎵銦(AlGaInP)、砷化銦鋁鎵(InAlGaAs)或其他IIIA族和VA族元素組成的材料或其 他合適的材料。發光層118的寬度為W，例如W介於5微米與50微米之間。雖然在本實施例中，微型發光二極體LED是以水平式微型發光二極體為例，但本發明不以此為限。在其他實施例中，微型發光二極體LED也可以是垂直式微型發光二極體或其他型式的微型發光二極體。
請繼續參考圖1及圖2，支撐牆112設置於基板110上且第一頂電極t1設置於支撐牆112上。在本實施例中，支撐牆112與第一頂電極t1是封閉式地環繞於微型發光二極體LED的四側，但本發明不限於此，支撐牆112與第一頂電極t1也可以是局部式地環繞於微型發光二極體LED的四側。支撐牆112與第一頂電極t1垂直投影至基板110上的圖樣可為中空的圓形、橢圓形、正方形、長方形、菱形、六邊形以及多邊形。微型發光二極體LED之發光層118垂直投影至基板110上的圖樣之一側邊與第一頂電極t1垂直投影至基板110上的圖樣之間具有一最短距離d，此最短距離d大於W且小於5倍的W，例如最短距離d介於15微米與250微米之間。考量光取出效率或調整出光角度效果時，支撐牆112的高度H為微型發光二極體LED的高度L的兩倍以上，較佳的高度比值為三倍以上。例如微型發光二極體LED的高度L是2微米至10微米，支撐牆112的高度H是6微米至30微米。第一頂電極t1與第一訊號線132電性連接。第一訊號線132例如將多個第一頂電極t1串聯在一起。第一底電極b1設置於基板110上，且位於支撐牆112與微型發光二極體LED之間。第一底電極b1與第 一頂電極t1分離。第一底電極b1電性連接第一電極114至電極墊126’。第一底電極b1與第二底電極b2分離。第二底電極b2設置於基板110上，且與第二電極122電性連接。第二底電極b2藉由電極墊126以及連接結構128與主動元件T的汲極D電性連接。
在一些實施例中，微型發光二極體LED是先形成於生長基板上，接著再自生長基板轉移至基板110上。在一些實施例中，基板110上具有黏著層(未繪出)，黏著層有助於固定微型發光二極體LED於基板110上。將微型發光二極體LED轉移至基板110上之後，再形成第一底電極b1與第二底電極b2，以將微型發光二極體LED電性連接至電極墊126以及電極墊126’。
在一些實施例中，第一底電極b1、第二底電極b2以及第一頂電極t1例如是於同一道製程(例如是化學氣相沉積製程)中所形成，且可以藉由同一個遮罩而沉積出預期的形狀。在一些實施例中，由於支撐牆112具有高度H，因此，沉積出來之第一頂電極t1與第一底電極b1可以互相分離而不會短路。在一實施例中，第一頂電極t1除了會形成於支撐牆112頂面之外，還會形成於支撐牆112靠近頂面的部分側面，但並未完全覆蓋支撐牆112的側面，所以此時第一頂電極t1與基板110之間的距離至少大於2/3H較佳。在此設計下，因製程而造成短路的問題較不易發生，且在第一頂電極t1與第一底電極b1所產生的電場分佈及控制上效果較佳。在本實施方式中，第一底電極b1、第二底電極b2以及第一頂電極t1之材質可包括：金屬材料、金屬氧化物或其他合適的 材料，其中金屬材料例如包括銅、鋼、銅鎢合金、銅銀合金或其它合適的金屬，金屬氧化物例如包括銦錫氧化物、銦鋅氧化物、鋁錫氧化物、鋁鋅氧化物、銦鍺鋅氧化物、其它合適的氧化物或者是上述至少二者之堆疊層。在本實施例中，第一底電極b1、第二底電極b2以及第一頂電極t1之材質相同，但本發明不限於此。在其他實施例中，第一底電極b1、第二底電極b2以及第一頂電極t1之材質也可以不相同。
請參考圖2，液晶層LC設置於第一底電極b1上，且部分液晶層LC位於支撐牆112與微型發光二極體LED之間，部分液晶層覆蓋微型發光二極體LED。液晶層LC包括液晶分子或是其它可適用的介質。在本發明下列實施例中，液晶層LC的材料較佳係藍相液晶分子，但本發明不限於此。液晶層LC中的液晶分子的折射率介於1.7與2.4之間。在未施加電場時，液晶層LC中的液晶分子具有光學等向性。畫素陣列基板100的驅動方法包括，先提供畫素陣列基板100，接著對第一電極114施加第一電壓V1、對第一底電極b1施加第二電壓V2、對第二電極122施加第三電壓V3以及對第一頂電極t1施加第四電壓V4。在本實施例中，第一電壓V1等於第二電壓V2、第一電壓V1不同於第三電壓V3，且第二電壓V2不同於第四電壓V4。在施加電場時，液晶層LC中的液晶分子會轉動或如藍相液晶分子產生結構改變，並進而改變微型發光二極體LED所發出之光線的行進方向，進一步地使光集中或可進行出光的調整。液晶分子的折射率變化例如可藉由調 整第四電壓V4而改變。在本實施例中，藉由改變液晶層LC內的液晶分子，可以增加畫素結構的出光角度且解決畫素結構光取出效率降低的問題，或者進行出光角度的調整。
基於上述，本發明的畫素陣列基板100及其驅動方法可以增加畫素結構的出光角度且解決畫素結構光取出效率降低的問題，或調整出光角度，並可進一步提升顯示面板的顯示品質。
圖3是依照本發明另一實施例的一種畫素陣列基板的上視示意圖。圖4是根據圖3的剖線B-B’繪示的畫素陣列基板的剖面示意圖。在此必須說明的是，圖3與圖4的實施例沿用圖1與圖2的實施例的元件標號與部分內容，其中採用相同或近似的標號來表示相同或近似的元件，並且省略了相同技術內容的說明。關於省略部分的說明可參考前述實施例，下述實施例不再重複贅述。
圖4的實施例與圖2的實施例的區別的特點在於：畫素陣列基板200更包括第二頂電極t2與第二訊號線134。
請參考圖3及圖4，在本實施例的畫素陣列基板200中，至少一畫素結構PX包括主動元件T、微型發光二極體LED、支撐牆112、第一底電極b1、第一頂電極t1以及第二頂電極t2。在本實施例中，支撐牆112包含彼此分隔的兩部分，第二頂電極t2設置於一部分支撐牆112上，且與位於另一部分支撐牆112上的第一頂電極t1互相分離。第二頂電極t2與第二訊號線134電性連接，第二訊號線134例如與第一訊號線132具有相同的延伸方向 但分別設置於畫素結構PX的相對兩側。支撐牆112具有面向微型發光二極體LED的第一側112a，與位於第一側112a對面的第二側112b。支撐牆112的第一側112a與基板110之間的夾角為α1，支撐牆112的第二側112b至少有部分與基板110之間的夾角為α2，α1大於α2。由於α1大於α2，支撐牆112上之第一頂電極t1以及第二頂電極t2可以沉積於支撐牆112第二側112b較緩的部分上，透過結構變化較緩的部分，使第一頂電極t1與第二頂電極t2可以較輕易的分別與第一訊號線132以及第二訊號線134電性連接，而減少第一頂電極t1與第二頂電極t2和第一訊號線132以及第二訊號線134電性連接時因支撐牆112的高度太高而產生的斷線問題。
在本實施例中，支撐牆112與第一頂電極t1或支撐牆112與第二頂電極t2是局部式地環繞於微型發光二極體LED的四側，但本發明不限於此。
請繼續參考圖3及圖4，在本實施例中，微型發光二極體LED例如是透過焊料142與基板110上之電極墊126接合(電性連接)，且焊料142周圍例如有絕緣層144，但本發明不限於此。微型發光二極體LED的第二電極122藉由電極墊126以及連接結構128與主動元件T的汲極D電性連接。第二電極122電性連接第二半導體層120。在本實施例中，微型發光二極體LED的絕緣層124具有至少一個開口以暴露出第一半導體層116的部分頂面。第一電極114設置於絕緣層124在第一半導體層116暴露出 的開口中，且第一電極114電性連接第一半導體層116。在本實施例中，第二半導體層120與第一半導體層116重疊。雖然在本實施例中，微型發光二極體LED是以垂直式微型發光二極體為例，但本發明不以此為限。在其他實施例中，微型發光二極體LED也可以是水平式微型發光二極體或其他型式的微型發光二極體。
畫素陣列基板200的驅動方法包括，先提供畫素陣列基板200，接著對第一電極114施加第一電壓V1、對第一底電極b1施加第二電壓V2、對第二電極122施加第三電壓V3、對第一頂電極t1施加第四電壓V4以及對第二頂電極t2施加第五電壓V5，其中第一電壓V1等於第二電壓V2、第一電壓V1不同於第三電壓V3、第二電壓V2不同於第四電壓V4、第二電壓V2不同於第五電壓V5，且第五電壓V5不同於第四電壓V4。例如使第一電極114電性連接第一底電極b1。在施加電場時，液晶層LC中的液晶分子會轉動或因形變而產生折射率的變化，並改變微型發光二極體LED所發出之光線的行進方向，進一步地使光集中或分散。液晶分子的折射率變化例如可藉由調整第四電壓V4以及第五電壓V5而改變。在本實施例中，藉由第五電壓V5不同於第四電壓V4，使得微型發光二極體LED與兩側支撐牆112之間的液晶分子感受到不同的電場強度，進一步地使微型發光二極體LED兩側的液晶分子的轉動角度或形變程度不同，藉此可以局部調整視角，達到特定方向影像或局部防窺的效果。舉例來說，在本實施例中，使用高折射率(例如折射率為1.8)的藍相液晶構成的液晶層LC的 畫素陣列基板200，在未施加電場或施加電場時的中心視角輝度及整體輝度都比一般的畫素陣列基板高。在本實施例中，亦可藉由液晶層LC位於支撐牆112與微型發光二極體LED之間且具有雙折射率的特性，可以增加畫素結構的出光角度且解決畫素結構光取出效率降低的問題。
基於上述，本發明的畫素陣列基板200及其驅動方法可以增加畫素結構的出光角度且解決畫素結構的光取出效率降低的問題，或調整出光角度，並可進一步提升顯示面板的顯示品質。
圖5是依照本發明另一實施例的一種畫素陣列基板的上視示意圖。在此必須說明的是，圖5的實施例沿用圖3的實施例的元件標號與部分內容，其中採用相同或近似的標號來表示相同或近似的元件，並且省略了相同技術內容的說明。關於省略部分的說明可參考前述實施例，下述實施例不再重複贅述。
圖5的實施例是根據排列多個圖3的實施例之畫素結構的上視示意圖。請參考圖5，在本實施例中，畫素陣列基板300包括兩個畫素結構PX1、PX2。兩個畫素結構PX1、PX2的支撐牆112彼此分離，且其中一個畫素結構PX2的第一頂電極t1相鄰於另一個畫素結構PX1的第二頂電極t2。在本實施例中，兩個畫素結構PX1、PX2中的微型發光二極體LED1、LED2可以各別發出不同顏色的光。舉例來說，微型發光二極體LED1與微型發光二極體LED2可以各別發出不同顏色的光。在一些實施例中，對應於不同之微型發光二極體的液晶層包括不同折射率的液晶分子或 者可透過施加的電壓而個別視角調整。舉例來說，其中一個畫素結構PX2例如發出藍光且使用折射率為1.7的液晶分子構成的液晶層，另一個畫素結構PX1例如發出紅光且使用折射率為2.2的液晶分子構成的液晶層。在本實施例中，使用不同的微型發光二極體以及不同折射率的液晶分子構成的液晶層，可以增加畫素結構的出光角度且解決畫素結構光取出效率降低的問題。在一些實施例中，例如使用噴墨的方式形成不同折射率的液晶分子。
在本實施例中，畫素陣列基板300的驅動方法包括對第一電極114施加第一電壓V1、對第一底電極b1施加第二電壓V2、對第二電極122施加第三電壓V3、對第一頂電極t1施加第四電壓V4以及對第二頂電極t2施加第五電壓V5，其中第一電壓V1等於第二電壓V2、第一電壓V1不同於第三電壓V3、第二電壓V2不同於第四電壓V4、第二電壓V2不同於第五電壓V5、第五電壓V5不同於第四電壓V4，且其中一個畫素結構PX2的第一頂電極t1與另一個畫素結構PX1的第二頂電極t2施加有相同的電壓。在本實施例中，藉由其中一個畫素結構PX2的第一頂電極t1與另一個畫素結構PX1的第二頂電極t2施加有相同的電壓，可以改善相鄰的兩畫素結構PX1、PX2之間的漏光問題。
基於上述，本發明的畫素陣列基板300及其驅動方法，藉由位於基板110上且分別包括微型發光二極體LED1、LED2的畫素結構PX1、PX2以及位於支撐牆112與微型發光二極體LED1、LED2之間的液晶層LC，可以增加出畫素結構的光角度且 解決畫素結構光取出效率降低的問題，或調整出光角度，並可進一步提升顯示面板的顯示品質。
圖6是依照本發明另一實施例的一種畫素陣列基板的上視示意圖。在此必須說明的是，圖6的實施例沿用圖5的實施例的元件標號與部分內容，其中採用相同或近似的標號來表示相同或近似的元件，並且省略了相同技術內容的說明。關於省略部分的說明可參考前述實施例，下述實施例不再重複贅述。
圖6的實施例與圖5的實施例的區別的特點在於：畫素陣列基板400更包括遮光圖案BM。
請參考圖6，在本實施例中，畫素陣列基板400包括兩個畫素結構PX1、PX2。兩個畫素結構PX1、PX2的支撐牆112彼此分離，且其中一個畫素結構PX2的第一頂電極t1相鄰於另一個畫素結構PX1的第二頂電極t2。在本實施例中，畫素陣列基板400更包括遮光圖案BM。遮光圖案BM位於任意相鄰兩個畫素結構之間，用以遮蔽其間的各訊號線，其中遮光圖案BM可部分延伸重疊於一個畫素結構PX2的第一頂電極t1上方以及另一個畫素結構PX1的第二頂電極t2上方，但本發明不以此為限，在其他實施例中可以不與任何頂電極重疊。遮光圖案BM於基板110的垂直投影位於其中一個畫素結構PX2的第一頂電極t1於基板110的垂直投影以及另一個畫素結構PX1的第二頂電極t2於基板110的垂直投影之間。在本實施例中，藉由遮光圖案BM的配置可以改善相鄰的兩畫素結構之間的漏光問題。
基於上述，本發明的畫素陣列基板及其驅動方法可以增加畫素結構的出光角度且解決畫素結構光取出效率降低的問題，或調整出光角度，並可進一步提升顯示面板的顯示品質。
綜上所述，本發明的畫素陣列基板及其驅動方法，藉由位於基板上且包括微型發光二極體的畫素結構以及液晶層，可以增加中心視角輝度及整體輝度、局部調整視角且達到特定方向影像或局部防窺的效果或改善相鄰的兩畫素結構之間的漏光問題等。本發明的畫素陣列基板及其驅動方法可以增加畫素結構的出光角度且解決畫素結構光取出效率降低的問題，或調整出光角度，並可進一步提升顯示面板的顯示品質。
雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明的精神和範圍內，當可作些許的更動與潤飾，故本發明的保護範圍當視後附的申請專利範圍所界定者為準。
200：畫素陣列基板 110：基板 112：支撐牆 112a：第一側 112b：第二側 114：第一電極 116：第一半導體層 118：發光層 120：第二半導體層 122：第二電極 124、144：絕緣層 126：電極墊 128：連接結構 136：對向基板 142：焊料 B-B’：剖線 b1：第一底電極 LC：液晶層 LED：微型發光二極體 t1：第一頂電極 t2：第二頂電極 α1、α2：夾角

Claims (19)

  1. 一種畫素陣列基板，包括： 一基板； 至少一畫素結構，位於該基板上，該至少一畫素結構包括： 一微型發光二極體，包括： 一第一電極； 一第一半導體層，電性連接該第一電極； 一第二半導體層，至少部分與該第一半導體層重疊； 一發光層，位於該第一半導體層以及該第二半導體層之間；以及 一第二電極，電性連接該第二半導體層； 一支撐牆，設置於該基板上； 一第一底電極，設置於該基板上，且位於該支撐牆與該微型發光二極體之間；以及 一第一頂電極，設置於該支撐牆上，且與該第一底電極分離；以及 一液晶層，設置於該第一底電極上，且位於該支撐牆與該微型發光二極體之間。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的畫素陣列基板，其中該第一底電極與該第一電極電性連接。
  3. 如申請專利範圍第1項所述的畫素陣列基板，其中該支撐牆具有面向該微型發光二極體的一第一側，與位於該第一側對面的一第二側，該第一側與該基板之間的夾角為α1，該第二側與該基板之間的夾角為α2，α1大於α2。
  4. 如申請專利範圍第1項所述的畫素陣列基板，更包括： 一第一訊號線，與該第一頂電極電性連接。
  5. 如申請專利範圍第1項所述的畫素陣列基板，其中該液晶層的材料為藍相液晶。
  6. 如申請專利範圍第2項所述的畫素陣列基板，更包括： 一第二底電極，設置於該基板上，且與該第二電極電性連接。
  7. 如申請專利範圍第1項所述的畫素陣列基板，其中該支撐牆與該第一頂電極環繞於該微型發光二極體的四側。
  8. 如申請專利範圍第1項所述的畫素陣列基板，其中該支撐牆的高度為該微型發光二極體的高度的兩倍以上。
  9. 如申請專利範圍第1項所述的畫素陣列基板，其中該支撐牆的高度為H，該第一頂電極與該基板之間的距離大於2/3H。
  10. 如申請專利範圍第1項所述的畫素陣列基板，其中該發光層的寬度為W，該發光層於該基板的垂直投影形成一圖形，該圖形之一側邊與該第一頂電極於該基板的垂直投影之間具有一最短距離，該最短距離大於W且小於5倍的W。
  11. 如申請專利範圍第1項所述的畫素陣列基板，更包括： 一第二頂電極，設置於該支撐牆上，且與該第一頂電極互相分離；以及 一第二訊號線，與該第二頂電極電性連接。
  12. 如申請專利範圍第11項所述的畫素陣列基板，包括兩個相鄰的畫素結構，該兩個相鄰的畫素結構的支撐牆彼此分離，且其中一個畫素結構的第一頂電極相鄰於另一個畫素結構的第二頂電極。
  13. 如申請專利範圍第12項所述的畫素陣列基板，更包括： 一遮光圖案，位於該兩個相鄰的畫素結構之間。
  14. 如申請專利範圍第13項所述的畫素陣列基板，其中該遮光圖案於該基板的垂直投影位於該其中一個畫素結構的該第一頂電極於該基板的垂直投影以及該另一個畫素結構的該第二頂電極於該基板的垂直投影之間。
  15. 一種畫素陣列基板的驅動方法，包括： 提供一畫素陣列基板，該畫素陣列基板包括： 一基板； 至少一畫素結構，位於該基板上，該至少一畫素結構包括： 一微型發光二極體，包括： 一第一電極； 一第一半導體層，電性連接該第一電極； 一第二半導體層，至少部分與該第一半導體層重疊； 一發光層，位於該第一半導體層以及該第二半導體層之間；以及 一第二電極，電性連接該第二半導體層； 一支撐牆，設置於該基板上； 一第一底電極，設置於該基板上，且位於該支撐牆與微型發光二極體之間以及 一第一頂電極，設置於該支撐牆上，且與該第一底電極分離；以及 一液晶層，設置於該第一底電極上，且位於該支撐牆與該微型發光二極體之間； 對該第一電極施加一第一電壓； 對該第一底電極施加一第二電壓； 對該第二電極施加一第三電壓；以及 對該第一頂電極施加一第四電壓，其中該第一電壓不同於該第三電壓，且該第二電壓不同於該第四電壓。
  16. 如申請專利範圍第15項所述的驅動方法，其中該液晶層的材料為藍相液晶。
  17. 如申請專利範圍第15項所述的驅動方法，其中該第一底電極與該第一電極電性連接，且該第一電壓等於該第二電壓。
  18. 如申請專利範圍第15項所述的驅動方法，其中該至少一畫素結構更包括： 一第二頂電極，設置於該支撐牆上，且與該第一頂電極互相分離；以及 該畫素陣列基板更包括： 一第二訊號線，與該第二頂電極電性連接， 該驅動方法更包括： 對該第二頂電極施加一第五電壓，其中該第二電壓不同於該第五電壓。
  19. 如申請專利範圍第18項所述的驅動方法，其中該第五電壓不同於該第四電壓。
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