TWI668512B - Sensitive radiation linear resin composition, pattern manufacturing method, transparent insulating film, and display device - Google Patents
Sensitive radiation linear resin composition, pattern manufacturing method, transparent insulating film, and display device Download PDFInfo
- Publication number
- TWI668512B TWI668512B TW104126876A TW104126876A TWI668512B TW I668512 B TWI668512 B TW I668512B TW 104126876 A TW104126876 A TW 104126876A TW 104126876 A TW104126876 A TW 104126876A TW I668512 B TWI668512 B TW I668512B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- group
- resin composition
- meth
- substituent
- linear resin
- Prior art date
Links
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Graft Or Block Polymers (AREA)
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014207504A JP6764636B2 (ja) | 2014-10-08 | 2014-10-08 | 感放射線性樹脂組成物、パターン製造方法、透明絶縁膜、及び表示装置 |
JP2014-207504 | 2014-10-08 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW201624111A TW201624111A (zh) | 2016-07-01 |
TWI668512B true TWI668512B (zh) | 2019-08-11 |
Family
ID=55916808
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW104126876A TWI668512B (zh) | 2014-10-08 | 2015-08-18 | Sensitive radiation linear resin composition, pattern manufacturing method, transparent insulating film, and display device |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6764636B2 (ja) |
KR (1) | KR102452067B1 (ja) |
TW (1) | TWI668512B (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6856367B2 (ja) * | 2016-11-30 | 2021-04-07 | 東京応化工業株式会社 | 感光性組成物、硬化膜、発光表示素子用の発光層、発光表示素子、及び発光層の形成方法 |
US10866511B2 (en) * | 2016-12-15 | 2020-12-15 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Extreme ultraviolet photolithography method with developer composition |
JP6853057B2 (ja) | 2017-01-31 | 2021-03-31 | 東京応化工業株式会社 | 重合性組成物、硬化膜の製造方法、及び硬化膜 |
US11300878B2 (en) | 2017-11-13 | 2022-04-12 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Photoresist developer and method of developing photoresist |
US11694896B2 (en) | 2019-10-31 | 2023-07-04 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Photoresist developer and method of developing photoresist |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007025678A (ja) * | 2005-07-19 | 2007-02-01 | Dongjin Semichem Co Ltd | 有機無機複合感光性樹脂組成物、tft型液晶表示素子及びそのパターン形成方法 |
JP2011034093A (ja) * | 2010-09-21 | 2011-02-17 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物、硬化物及びその製造方法、絶縁保護被膜、感光性エレメント及びその製造方法、レジストパターンの形成方法、並びにプリント配線板及びその製造方法 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS628777A (ja) | 1985-07-03 | 1987-01-16 | 株式会社 タカラ | 変形玩具 |
CA1307695C (en) | 1986-01-13 | 1992-09-22 | Wayne Edmund Feely | Photosensitive compounds and thermally stable and aqueous developablenegative images |
JP3548146B2 (ja) * | 2001-09-26 | 2004-07-28 | 太陽インキ製造株式会社 | 光硬化性組成物及びそれを用いて黒色パターンを形成したプラズマディスプレイパネル |
JP4292985B2 (ja) * | 2003-12-25 | 2009-07-08 | Jsr株式会社 | 感放射線性組成物、マイクロレンズとその形成方法および液晶表示素子 |
KR100894062B1 (ko) * | 2007-03-26 | 2009-04-21 | 삼성에스디아이 주식회사 | 감광성 페이스트 조성물, 이를 이용하여 제조된 플라즈마디스플레이 패널의 격벽 및 이를 포함하는 플라즈마디스플레이 패널 |
JP2011203562A (ja) | 2010-03-26 | 2011-10-13 | Jsr Corp | 感放射線性樹脂組成物、表示素子用スペーサー、保護膜、層間絶縁膜ならびにそれらの形成方法 |
KR101807641B1 (ko) * | 2010-04-14 | 2017-12-11 | 도레이 카부시키가이샤 | 네거티브형 감광성 수지 조성물, 그것을 사용한 보호막 및 터치 패널 부재 |
JP2012203061A (ja) * | 2011-03-24 | 2012-10-22 | Jnc Corp | 金属アルコキシドを含有する感光性組成物及びそれを用いたパターン状透明膜の製造方法 |
JP5934664B2 (ja) | 2012-03-19 | 2016-06-15 | 富士フイルム株式会社 | 着色感放射線性組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ、着色パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、及び画像表示装置 |
JP6070035B2 (ja) * | 2012-10-05 | 2017-02-01 | 不二製油株式会社 | 水中油型乳化組成物 |
JP5890337B2 (ja) * | 2013-02-13 | 2016-03-22 | 東京応化工業株式会社 | 感放射線性樹脂組成物、絶縁膜、及び表示装置 |
JP6195456B2 (ja) * | 2013-03-12 | 2017-09-13 | 東京応化工業株式会社 | 感放射線性樹脂組成物 |
JP2015193758A (ja) * | 2014-03-31 | 2015-11-05 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | オーバーコート用感光性樹脂組成物、ならびにそれを用いた塗膜 |
-
2014
- 2014-10-08 JP JP2014207504A patent/JP6764636B2/ja active Active
-
2015
- 2015-08-18 TW TW104126876A patent/TWI668512B/zh active
- 2015-10-06 KR KR1020150140625A patent/KR102452067B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007025678A (ja) * | 2005-07-19 | 2007-02-01 | Dongjin Semichem Co Ltd | 有機無機複合感光性樹脂組成物、tft型液晶表示素子及びそのパターン形成方法 |
JP2011034093A (ja) * | 2010-09-21 | 2011-02-17 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物、硬化物及びその製造方法、絶縁保護被膜、感光性エレメント及びその製造方法、レジストパターンの形成方法、並びにプリント配線板及びその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201624111A (zh) | 2016-07-01 |
KR20160041804A (ko) | 2016-04-18 |
JP6764636B2 (ja) | 2020-10-07 |
KR102452067B1 (ko) | 2022-10-11 |
JP2016075853A (ja) | 2016-05-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI668512B (zh) | Sensitive radiation linear resin composition, pattern manufacturing method, transparent insulating film, and display device | |
TWI703405B (zh) | 感光性組合物、圖案形成方法、硬化物、及顯示裝置 | |
TWI773642B (zh) | 感光性組成物、圖型形成方法、硬化膜、絕緣膜,及顯示裝置 | |
TWI649622B (zh) | Photosensitive resin composition | |
TWI803515B (zh) | 感光性組合物、硬化物形成方法、硬化物、圖像顯示裝置用面板、及圖像顯示裝置 | |
TW201339252A (zh) | 著色組合物、彩色濾光片、顯示元件及顏料分散液 | |
TWI578103B (zh) | A radiation-sensitive resin composition, an insulating film, and a display device | |
TW201827926A (zh) | 感光性組合物、感光性組合物之製造方法、光聚合起始劑及光聚合起始劑之調製方法 | |
TWI660998B (zh) | 透明絕緣膜形成用組成物 | |
TWI624727B (zh) | Photosensitive composition, method for producing the photosensitive composition, method for forming a film using the photosensitive composition, method for suppressing adhesion when the photosensitive composition is stored, photopolymerization initiator, and photopolymerization initiator Production method | |
TWI472878B (zh) | 彩色濾光片用光敏樹脂組成物及使用該組成物之彩色濾光片 | |
TW201920083A (zh) | 感光性組合物及用於其之光聚合起始劑 | |
TW201815984A (zh) | 感光性樹脂組成物、黑色感光性樹脂層以及彩色濾光片 | |
JP7249119B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、パターニングされた硬化膜の製造方法及び硬化膜 | |
CN113515010A (zh) | 感光性组合物、经图案化的固化膜的制造方法及经图案化的固化膜 | |
US20180373144A1 (en) | Photosensitive resin composition and cured film prepared therefrom | |
JP6437050B2 (ja) | 感光性組成物、パターン形成方法、硬化膜、絶縁膜、及び表示装置 | |
TWI784029B (zh) | 感光性組合物、圖案形成方法、硬化物、及顯示裝置 | |
JP2021096336A (ja) | 着色感光性組成物、着色膜、着色膜の製造方法及びパターン化された着色膜の製造方法 | |
TW201523149A (zh) | 感光性樹脂組成物、樹脂圖案的形成方法及顯示裝置 | |
TW201937286A (zh) | 感光性組合物、硬化物、硬化物形成方法、彩色濾光片、及影像顯示裝置 | |
TW201903529A (zh) | 感光性組成物、硬化膜、顯示裝置,及經圖型化之硬化膜的形成方法 |