TWI633283B - 能夠測定流量的氣體供給裝置、流量計、以及流量測定方法 - Google Patents

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TWI633283B TW106101245A TW106101245A TWI633283B TW I633283 B TWI633283 B TW I633283B TW 106101245 A TW106101245 A TW 106101245A TW 106101245 A TW106101245 A TW 106101245A TW I633283 B TWI633283 B TW I633283B
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Abstract

一種能夠測定流量的氣體供給裝置，係具備：流量控制器，係控制所流通的氣體流量；第1遮斷閥，係設置在前述流量控制器的下游；第2遮斷閥，係設置在連通於前述第1遮斷閥的下游側的第1流路；第2流路，係從前述第1流路分歧；第3遮斷閥，係設置在前述第2流路；壓力檢測器，係檢測受到前述第1、第2、以及第3遮斷閥所包圍的流路內的壓力；溫度檢測器，係檢測受到前述第1、第2、以及第3遮斷閥所包圍的流路內的溫度；體積測定用槽，係連接於前述第3遮斷閥的下游並具有已知體積；以及運算控制裝置，係將受到前述第1、第2、以及第3遮斷閥所包圍的流路體積，藉由在前述第3遮斷閥的開狀態及閉狀態運用波以耳定律(Boyle's law)作求取，並且使用前述流路體積、前述壓力檢測器、以及前述溫度檢測器的檢測值運算前述流量控制器的流量。

Description

能夠測定流量的氣體供給裝置、流量計、以及流量測定方法
本發明，係有關於能夠測定流量的氣體供給裝置、流量計、以及流量測定方法。
以往，於半導體製造過程等當中，為了將製程氣體等以預定流量作供給，係使用具備流量控制器或閥等之氣體供給裝置。該種流量控制器，因有高精度的流量控制之需求，故有必要測定流量並檢驗控制精度。作為測定流量的方法如此般之技術，係自壓力上升率測定流量的ROR(rate of rise)法(亦稱為累積(buildup)法)廣為所知(專利文獻1、2等)。
ROR法，係使以流量控制器控制了流量的氣體在存在於流路的預定的體積(V)內作流動，並藉由測定壓力上升率(△P/△t)及溫度(T)而使用Q=(△P/△t)×V/RT的關係(R係氣體常數)以測定流量(Q)。
〔先前技術文獻〕 〔專利文獻〕
[專利文獻1]日本特表2009-543061號公報
[專利文獻2]日本特許第4801726號公報
對於由ROR法所致之流量的測定所必要的流路內的體積(V)，係因流量控制器的配置或所連接的流量控制器的個數、或是配管佈局等而不會一致，故有必要在測定流量前預先測定體積(V)。
然而，以往之ROR法係使用流量控制器測定體積(V)，且該使用於測定的流量控制器的控制流量係包含有誤差，故所測定的體積(V)可能含有誤差。
另外，氣體供給裝置，雖係有省空間化之需求，然而若安裝用以測定流量的附屬裝置則會妨礙省空間化。
因此，本發明係以提供一種能夠測定流量的氣體供給裝置以及流量測定方法為主要目的，其係使ROR所致之流量測定所必要之體積的測定誤差更為降低，且使流量控制器能夠進行更高精度的流量測定。
並且，以提供一種用以測定流量控制器的流量之流量計為目的，其係能夠達成氣體供給裝置的省空間化。
為達成前述目的，本發明的第1形態，係有關於能夠測定流量的氣體供給裝置，其係具備：流量控制器，係控 制所流通的氣體流量；第1遮斷閥，係設置在前述流量控制器的下游；第2遮斷閥，係設置在連通於前述第1遮斷閥的下游側的第1流路；第2流路，係在前述第1遮斷閥與前述第2遮斷閥之間從前述第1流路分歧；第3遮斷閥，係設置在前述第2流路；壓力檢測器，係用以檢測受到前述第1遮斷閥、前述第2遮斷閥、以及前述第3遮斷閥所包圍的流路內的壓力；溫度檢測器，係用以檢測受到前述第1遮斷閥、前述第2遮斷閥、以及前述第3遮斷閥所包圍的流路內的溫度；體積測定用槽，係連接於前述第3遮斷閥的下游並具有已知體積；以及運算控制裝置；前述運算控制裝置，係將受到前述第1遮斷閥、前述第2遮斷閥、以及前述第3遮斷閥所包圍的流路體積，藉由在前述第3遮斷閥的開狀態及閉狀態運用波以耳定律(Boyle's law)作求取，並且使用前述流路體積、前述壓力檢測器、以及前述溫度檢測器的檢測值運算前述流量控制器的流量。
本發明的第2形態，係於前述第1形態中，能夠具備：能夠裝卸的接頭，係在前述體積測定用槽的上游位置設置於前述第2流路。
本發明的第3形態，係於前述第2形態中，能夠在前述第3遮斷閥與前述體積測定用槽之間具備第4遮斷閥，並能夠在前述第3遮斷閥與前述第4遮斷閥之間設置前述接頭。
本發明的第4形態，係於前述第1形態中，前述運算 控制裝置，係能夠透過電連接器，與前述壓力檢測器及前述溫度檢測器能夠裝卸地作連接。
本發明的第5形態，係於前述第2形態中，能夠在比前述壓力檢測器及前述溫度檢測器更靠上游位置於前述第2流路設置前述接頭，並且在比前述接頭更靠上游位置於前述第2流路具備第5遮斷閥。
本發明的第6形態，係於前述第1形態中，前述流量控制器係設置有複數個，在各流量控制器的下游係設置有前述第1遮斷閥，各第1遮斷閥的下游側係連通於前述第1流路。
另外，為達成前述目的，本發明的第7形態，係有關於流量計，其係於具備：流量控制器，係控制所流通的氣體流量；第1遮斷閥，係設置在前述流量控制器的下游；第2遮斷閥，係設置在連通於前述第1遮斷閥的下游側的第1流路；分歧流路，係在前述第1遮斷閥與前述第2遮斷閥之間從前述第1流路分歧；第5遮斷閥，係設置在前述分歧流路；的氣體供給裝置，能夠裝卸且用以測定前述流量控制器的流量；前述流量計，係具備：接頭，係在前述第5遮斷閥的下游側於前述分歧流路能夠裝卸；第3遮斷閥，係設置在連接於前述接頭的接續流路；壓力檢測器，係用以檢測前述接續流路的內部的壓力；溫度檢測器，係用以檢測前述接續流路的內部的溫度；體積測定用槽，係連接於前述第3遮斷閥的下游並具有已知體積；以及運算控制裝置；前述運算控制裝置，係將在前述接頭連 接於前述分歧流路的狀態下受到前述第1遮斷閥、前述第2遮斷閥、以及前述第3遮斷閥所包圍的流路體積，藉由在前述第3遮斷閥的開狀態及閉狀態運用波以耳定律(Boyle's law)作求取，並且使用前述流路體積、前述壓力檢測器、以及前述溫度檢測器的檢測值運算前述流量控制器的流量。
另外，為達成前述目的，本發明的第8形態，係有關於流量測定方法，其係將受到連接於流量控制器的下游側之第1遮斷閥、設置在連通於前述第1遮斷閥的下游側之第1流路之第2遮斷閥、以及設置在前述第1遮斷閥與前述第2遮斷閥之間從前述第1流路分歧的流路之第3遮斷閥所包圍的流路體積，使用連接於前述第3遮斷閥的下游側之具有已知體積的體積測定用槽作測定，並使用前述流路體積藉由ROR(rate of rise)法測定前述流量控制器的流量；該流量測定方法，係包含：第1步驟，係關閉前述第1遮斷閥，並且開啟前述第2遮斷閥及前述第3遮斷閥，而通過前述第2遮斷閥作排氣；第2步驟，係關閉前述第2遮斷閥及前述第3遮斷閥；第3步驟，係開啟前述第1遮斷閥，並在通過前述流量控制器使設定流量的氣體流通之後關閉前述第1遮斷閥，再檢測前述第1或第2流路內的第1壓力；第4步驟，係開啟前述第3遮斷閥，並檢測受到第1遮斷閥、第2遮斷閥以及第3遮斷閥所包圍的流路內的第2壓力；以及第5步驟，係將由第1遮斷閥、第2遮斷閥以及第3遮斷閥所包圍的前述流路體積， 使用前述第1壓力、前述第2壓力、以及前述體積測定用的已知體積藉由波以耳定律作運算。
本發明的第9形態，係於前述第8形態中，能夠進一步包含：第6步驟，係關閉前述第1遮斷閥及前述第3遮斷閥，並且開啟前述第2遮斷閥，而通過前述第2遮斷閥作排氣；第7步驟，係開啟前述第1遮斷閥，並通過前述流量控制器使設定流量的氣體流通；第8步驟，係關閉前述第2遮斷閥，並檢測受到前述第1遮斷閥、第2遮斷閥以及第3遮斷閥所包圍的流路內的第3壓力；第9步驟，係測定受到前述第1遮斷閥、第2遮斷閥以及第3遮斷閥所包圍的流路內的溫度；第10步驟，係在從前述第8步驟經過預定時間後，檢測受到第1遮斷閥、第2遮斷閥以及第3遮斷閥所包圍的流路內的第4壓力；以及第11步驟，係自前述第3壓力及前述第4壓力運算壓力上升率，並使用所運算的壓力上升率、前述第5步驟中所測定的流路體積、以及前述第9步驟中所測定的溫度，運算前述流量控制器的流量。
本發明的第10形態，係於前述第8形態中，前述流量控制器係以並列狀設置有複數個，各前述流量控制器的下游側係藉由前述第1流路所連通，複數個流量控制器當中所期望的流量控制器的流量係受到測定。
依據本發明，因為係利用波以耳定律求取流量的測定 所必要的流路體積，故所測定的流路體積不受流量控制器的誤差所影響。另外，藉由在從第1流路分歧的流路透過接頭使體積測定用槽能夠卸除，能夠僅於測定流路體積時、例如設置流量控制器時連接體積測定用槽，並在測定流路體積後卸除體積測定用槽，故能夠達成省空間化。另外，體積測定用槽，係能夠使用於其他流量控制器的ROR用流路體積的測定，故能夠重覆使用。
1A、1BC、1D、1E‧‧‧能夠測定流量的氣體供給裝置
1B‧‧‧氣體供給裝置
1C‧‧‧流量計
2‧‧‧流量控制器
3‧‧‧第1遮斷閥
4a、4b‧‧‧氣體排出口
5‧‧‧第1流路
6‧‧‧第2遮斷閥
7‧‧‧第2流路
7a‧‧‧分歧流路
7b‧‧‧接續流路
8‧‧‧第3遮斷閥
9‧‧‧壓力檢測器
10‧‧‧溫度檢測器
11‧‧‧體積測定用槽
12‧‧‧運算控制裝置
13‧‧‧第4遮斷閥
14、21‧‧‧接頭
16‧‧‧電連接器
22‧‧‧第5遮斷閥
Va‧‧‧流路體積
[第1圖]係表示本發明的第1實施形態之方塊圖。
[第2圖]係表示測定本發明之流量測定方法的檢驗用流量體積Va的順序之一例的流程圖。
[第3圖]係表示測定本發明之流量測定方法的流量檢驗順序之一例的流程圖。
[第4圖]係表示本發明的第2實施形態之方塊圖。
[第5圖]係表示本發明的第3實施形態之方塊圖。
[第6圖]係表示本發明的第4實施形態之方塊圖。
針對本發明的實施形態，於以下參照第1圖~第6圖進行說明。又，於所有圖中，係對於相同或類似的構成元件賦予相同符號。
第1圖，係表示本發明的第1實施形態之方塊圖。能夠測定流量的氣體供給裝置1A，係具備：複數個流量控 制器2，係控制所流通的氣體流量；第1遮斷閥3，係設置在流量控制器2的下游；第2遮斷閥6，係設置在連通於前述第1遮斷閥的下游側的第1流路5；第2流路7，係在第1遮斷閥3與第2遮斷閥6之間從第1流路5分歧；第3遮斷閥8，係設置在第2流路7；壓力檢測器9，係用以檢測受到第1遮斷閥3、第2遮斷閥6、以及第3遮斷閥8所包圍的流路內的壓力；溫度檢測器10，係用以檢測受到第1遮斷閥3、第2遮斷閥6、以及第3遮斷閥8所包圍的第3遮斷閥8的上游的第2流路內的溫度；體積測定用槽11，係連接於第3遮斷閥8的下游；能夠裝卸的接頭14，係在體積測定用槽11的上游位置設置於第2流路7；以及運算控制裝置12。
雖於第1圖中壓力檢測器9係設置於第3遮斷閥8的上游的第2流路7，然而第1流路5內的壓力與第2流路內的壓力係實質上相同，故雖未圖示，藉由將壓力檢測器9配置於第1流路5，檢測第1流路5內的氣體的壓力亦可。同樣地，雖於第1圖中溫度檢測器10係設置於第3遮斷閥8的上游的第2流路7，然而第1流路5內的溫度與第2流路內的溫度係實質上相同，故雖未圖示，藉由將溫度檢測器10配置於第1流路5，檢測第1流路5內的氣體的溫度亦可。
運算控制裝置12，係將受到第1遮斷閥3、第2遮斷閥6、以及第3遮斷閥8所包圍的流路體積Va(於第1圖以粗線所示之部分的體積)，藉由在第3遮斷閥8的開 狀態及閉狀態運用波以耳定律(Boyle's law)作求取，並且使用所求得的流路體積Va、壓力檢測器9、以及溫度檢測器10的檢測值測定流量控制器2的流量。
流量控制器2，係能夠使用週知之流量控制器，並能夠使用壓力控制式流量控制器。壓力控制式流量控制器，係藉由控制設置在流路的節流部的上游壓力P1，而控制流量。此係利用在臨界膨脹狀態中，通過孔口等的節流部的流量僅與上游壓力P1(絕對壓力)成比例，而不依賴於節流部的下游壓力P2。臨界膨脹條件，係通過節流部的流體成為音速的條件，節流部的上游壓力P1為節流部的下游壓力P2的約2倍以上。以壓力感應器檢測節流部的上游壓力P1，並藉由內建的控制器以使上游壓力P1成為預定壓力的方式控制配置在節流部的上游的控制閥，將流量控制為預定流量。於控制閥，係能夠使用壓電驅動式金屬隔膜控制閥。
第1遮斷閥3、第2遮斷閥6、以及第3遮斷閥8，係例如能夠為空氣壓驅動閥。驅動空氣，係透過未圖示之電磁閥，供給至各個遮斷閥。第1遮斷閥3，係能夠設置在流量控制器2的氣體出口附近；第2遮斷閥6，係連接於真空泵浦20。
壓力檢測器9，係能夠使用半導體壓電電阻擴散壓力感應器、或靜電電容型壓力感應器等週知的壓力感應器。溫度檢測器10，係能夠使用熱電偶(thermocouple)等週知的溫度感應器。
體積測定用槽11，係具有已知的體積。在第3遮斷閥8與體積測定用槽11之間，係設置有手動式的第4遮斷閥13。在第3遮斷閥8與第4遮斷閥13之間，係連接有能夠裝卸的接頭14。如於第1圖以假想線所示，藉由將接頭14分離並卸除，能夠將體積測定用槽11與第4遮斷閥13一起卸除。為了防止外部空氣或垃圾，在卸除接頭14前，係關閉第3遮斷閥8及第4遮斷閥13。
運算控制裝置12，係將由CPU(Central Processing Unit)12a、記憶體12b等所構成的電路基板收容於盒內，並透過電連接器16，與壓力檢測器9及溫度檢測器10能夠裝卸地藉由配線15作連接。電連接器16，係能夠安裝於收容流量控制器2等之罩盒1a。運算控制裝置12，係具備用以連接RS-232C纜線等之通訊纜線17的連接埠17a，並能夠藉由通訊纜線17與外部的電腦18連接。外部的電腦18，係例如為控制成膜裝置等半導體製造裝置的電腦。運算控制裝置12，係能夠直接、或是通過藉由通訊纜線17所連接的電腦18，控制將操作第1遮斷閥3、第2遮斷閥6、第3遮斷閥8的驅動空氣作開關電磁閥(附圖示)。
運算控制裝置12，係遵照記憶於記憶體12b的程式，將於第1圖以粗線所示的流路體積Va以第2圖所示的順序作測量。參照第2圖的流程圖，於步驟1中，在所有的第1遮斷閥3關閉，第2遮斷閥6、第3遮斷閥8、及第4遮斷閥13開啟的狀態下實施抽真空。經過預定時 間t1後，於步驟2中，關閉第2遮斷閥6、及第3遮斷閥8。經過預定時間t2，於步驟3中，開啟任一個第1遮斷閥3，並自流量控制器2流通氣體，例如氮氣。經過預定時間t3後，流路體積Va內的壓力上升時，於步驟4中，關閉流通了氣體的流量控制器2的第1遮斷閥3。於步驟5中，藉由壓力檢測器9檢測壓力Pa。所檢測的壓力Pa，係記憶於記憶體12b。接著，於步驟6中，開啟第3遮斷閥8，使位於流路體積Va內的氣體在體積測定用槽11內擴散。於步驟7中，藉由壓力檢測器9檢測壓力Pb。所檢測的壓力Pb，係記憶於記憶體12b。體積測定用槽11的體積Vt係已知者，從第3遮斷閥8至體積測定用槽11為止的流路內體積Vf亦為已知者。設Vt+Vf=Vb。在此，運用波以耳定律(PV=一定)。
Pa‧Va=Pb‧(Va+Vb)...(1)
Va=Pb‧Vb/(Pa-Pb)...(2)
使用前述式(2)，運算流路體積Va，並記憶於記憶體12b(步驟8)。
在流路體積Va被記憶於記憶體12b之後，體積測定用槽11，係藉由將接頭14分離，能夠自第2流路7卸除。
如前述般，流路體積Va，係利用波以耳定律作運算，並藉由不依賴流量控制器2的設定流量Qs的方法作測定。因此，所測定的流路體積Va，係不包含流量控制器2的個體差或流量誤差。波以耳定律，雖係對於理想氣 體有效，於實際氣體中在壓力較低的範圍亦有效。
運算控制裝置12，係遵照記憶於記憶體12b的程式，使用流路體積Va藉由ROR運算流量控制器2的流量。具體而言，係遵照第3圖所示之流程圖作運算。參照第3圖，於步驟10中，在所有的第1遮斷閥3及第3遮斷閥8關閉，第2遮斷閥6開啟的狀態下藉由真空泵浦20抽真空，流路體積Va受到排氣。經過預定時間t4後，於步驟11中，開啟欲測定流量的一個流量控制器2的第1遮斷閥3，並自該一個流量控制器2以設定流量Qs流通氣體。經過預定時間t5而氣體的流動穩定後，於步驟12中，關閉第2遮斷閥6。因此，流路體積Va內的壓力上升。在關閉第2遮斷閥6後，於步驟13中，藉由壓力檢測器9檢測壓力Py，並藉由溫度檢測器10測定溫度T。在經過預定時間△t時，於步驟14中，藉由壓力檢測器9檢測壓力Px。時間△t，係能夠自壓力檢測器9的採樣週期來計數。於步驟15中，運算Py-Px=△P。於步驟16中，將記憶於記憶體12b的流路體積Va、以及藉由溫度檢測器10所測定的溫度T代入下述式(3)，而測定流量Qc。下述式(3)中的R係氣體常數。
Qc=(△P/△t)×Va/RT...(3)
如前述般測定的流量Qc的資料，係例如能夠傳送至外部電腦18，並於外部電腦18中與流量控制器2所設定的流量Qs進行比較檢驗。
由前述說明可知，流路體積Va，係藉由前述式(2) 所測定。因此，不包含流量控制器2的個體差或誤差，而能夠進行比以往精度更高的流量測定。
另外，在流路體積Va被記憶於記憶體12b之後，則不再需要體積測定用槽11，故藉由將接頭14卸除而能夠作卸除。藉此，能夠使收容流量控制器2的罩盒1a小型化等，並能夠達成流量控制器2的省空間化，亦能夠削減成本。另外，所卸除的體積測定用槽11，係能夠利用於其他氣體供給裝置的流量測定時之流路體積Va的測定。
進而，運算控制裝置12，係藉由卸除配線15的電連接器16，並卸除連接於外部的電腦18的通訊纜線17，能夠自氣體供給裝置1A卸除。藉此，能夠達成氣體供給裝置1A的小型化，並能夠削減成本。所卸除的運算控制裝置12，係能夠利用於其他氣體供給裝置的流量測定時之體積Va的測定。
接著，針對本發明的第2實施形態，於以下參照第4圖進行說明。又，對於與前述第1實施形態中之相同構成元件賦予相同符號。第2實施形態，係對於氣體供給裝置1B能夠裝卸的流量計1C。
氣體供給裝置1B，係具備：流量控制器2，係控制所流通的氣體流量；第1遮斷閥3，係設置在流量控制器2的下游；第2遮斷閥6，係設置在連通於第1遮斷閥3的下游側的第1流路5；分歧流路7a，係在第1遮斷閥3與第2遮斷閥6之間從第1流路5分歧；以及第5遮斷閥22，係設置在分歧流路7a。
流量計1C，係具備：接頭21b，係在第5遮斷閥22的下游側對於設置在分歧流路7b的末端部的接頭21a能夠裝卸；第3遮斷閥8，係設置在連接於接頭21b的接續流路7b；壓力檢測器9，係用以檢測接續流路7b的內部的壓力；溫度檢測器10，係用以檢測接續流路7b的內部的溫度；體積測定用槽11，係連接於第3遮斷閥8的下游並具有已知體積；以及運算控制裝置12。
將接頭21a與接頭21b連結，並將分歧流路7a與接續流路7b連接，藉此形成自第1流路5分歧之第2流路7，並且構成能夠測定流量的氣體供給裝置1BC。
依據第2實施形態的構成，僅藉由將接頭21a及接頭21b分離並卸除，便能夠將具備體積測定用槽11、壓力檢測器9、溫度檢測器10、以及運算控制裝置12的流量計1C卸除。另外，將第3遮斷閥8、體積測定用槽11、壓力檢測器9、溫度檢測器10、以及運算控制裝置12組裝入一個外殼23，而能夠一起搬運，藉此能夠利用於安裝在其他半導體製造裝置等的流量控制器的流量測定。
接著，針對本發明的第3實施形態，於以下參照第5圖進行說明。又，對於與前述第1實施形態中之相同構成元件賦予相同符號。第3實施形態之能夠測定流量的氣體供給裝置1D，係第1流路5在下游端部分歧為2根，一方係具備製程氣體的氣體排出口4a，另一方係沖洗氣體的氣體排出口4b，並在氣體排出口4a、4b之各自的一次側設置有第2遮斷閥6。第1流路5的形態，係依氣體供 給裝置所設置的半導體製造裝置等之規格而有種種變更形態。
第6圖，係表示作為第1實施形態之變更形態的第4實施形態的方塊圖。於第4實施形態之能夠測定流量的氣體供給裝置1E，係在壓力檢測器9及溫度檢測器10的上游位置於第2流路7設置第5遮斷閥25，並在第5遮斷閥25與第3遮斷閥8之間追加連接已知容量的腔室26。於ROR法中，當測定壓力上升率時的體積較小，則視流量而定，有檢驗精度低落之情形，藉由設置腔室26，能夠防止流量測定精度之低落。
本發明，係不限於前述實施形態，可在不脫離本發明的主旨的範圍內進行各種變更。例如，於前述實施形態中雖例示了具備複數個流量控制器的氣體供給裝置，然而亦能夠於氣體供給裝置僅具備一個流量控制器。另外，於前述實施形態中，雖例示了壓力式流量控制裝置作為流量控制器，然而亦能夠使用熱式質量流量控制器。於第2圖及第3圖的流程圖中，雖為按時間t1~t4轉移至下個步驟的演算法，亦能夠為按壓力檢測器9的壓力值轉移至下個步驟的演算法。

Claims (10)

  1. 一種能夠測定流量的氣體供給裝置，係具備：流量控制器，係控制所流通的氣體流量；第1遮斷閥，係設置在前述流量控制器的下游；第2遮斷閥，係設置在連通於前述第1遮斷閥的下游側的第1流路；第2流路，係在前述第1遮斷閥與前述第2遮斷閥之間從前述第1流路分歧；第3遮斷閥，係設置在前述第2流路；壓力檢測器，係用以檢測受到前述第1遮斷閥、前述第2遮斷閥、以及前述第3遮斷閥所包圍的流路內的壓力；溫度檢測器，係用以檢測受到前述第1遮斷閥、前述第2遮斷閥、以及前述第3遮斷閥所包圍的流路內的溫度；體積測定用槽，係連接於前述第3遮斷閥的下游並具有已知體積；以及運算控制裝置；前述運算控制裝置，係將受到前述第1遮斷閥、前述第2遮斷閥、以及前述第3遮斷閥所包圍的流路體積，藉由在前述第3遮斷閥的開狀態及閉狀態運用波以耳定律(Boyle's law)作求取，並且使用前述流路體積、前述壓力檢測器、以及前述溫度檢測器的檢測值運算前述流量控制器的流量。
  2. 如請求項1所述之能夠測定流量的氣體供給裝置，其中，係具備：能夠裝卸的接頭，係在前述體積測定用槽的上游位置設置於前述第2流路。
  3. 如請求項2所述之能夠測定流量的氣體供給裝置，其中，在前述第3遮斷閥與前述體積測定用槽之間具備第4遮斷閥，並在前述第3遮斷閥與前述第4遮斷閥之間設置前述接頭。
  4. 如請求項1所述之能夠測定流量的氣體供給裝置，其中，前述運算控制裝置，係透過電連接器，與前述壓力檢測器及前述溫度檢測器能夠裝卸地作連接。
  5. 如請求項2所述之能夠測定流量的氣體供給裝置，其中，在比前述壓力檢測器及前述溫度檢測器更靠上游位置於前述第2流路設置前述接頭，並且在比前述接頭更靠上游位置於前述第2流路具備第5遮斷閥。
  6. 如請求項1所述之能夠測定流量的氣體供給裝置，其中，具備複數個前述流量控制器，在各流量控制器的下游係設置有前述第1遮斷閥，各第1遮斷閥的下游側係連通於前述第1流路。
  7. 一種流量計，係對於氣體供給裝置能夠裝卸，且用以測定流量控制器的流量；該氣體供給裝置，係具備：流量控制器，係控制所流通的氣體流量；第1遮斷閥，係設置在前述流量控制器的下游；第2遮斷閥，係設置在連通於前述第1遮斷閥的下游側的第1流路；分歧流路，係在前述第1遮斷閥與前述第2遮斷閥之間從前述第1流路分歧；以及第5遮斷閥，係設置在前述分歧流路；前述流量計，係具備：接頭，係在前述第5遮斷閥的下游側於前述分歧流路能夠裝卸；第3遮斷閥，係設置在連接於前述接頭的接續流路；壓力檢測器，係用以檢測前述接續流路的內部的壓力；溫度檢測器，係用以檢測前述接續流路的內部的溫度；體積測定用槽，係連接於前述第3遮斷閥的下游並具有已知體積；以及運算控制裝置；前述運算控制裝置，係將在前述接頭連接於前述分歧流路的狀態下受到前述第1遮斷閥、前述第2遮斷閥、以及前述第3遮斷閥所包圍的流路體積，藉由在前述第3遮斷閥的開狀態及閉狀態運用波以耳定律作求取，並且使用前述流路體積、前述壓力檢測器、以及前述溫度檢測器的檢測值運算前述流量控制器的流量。
  8. 一種流量測定方法，係將受到連接於流量控制器的下游側之第1遮斷閥、設置在連通於前述第1遮斷閥的下游側之第1流路之第2遮斷閥、以及設置在前述第1遮斷閥與前述第2遮斷閥之間從前述第1流路分歧的第2流路之第3遮斷閥所包圍的流路體積，使用連接於前述第3遮斷閥的下游側之具有已知體積的體積測定用槽作測定，並使用前述流路體積藉由ROR(rate of rise)法測定前述流量控制器的流量；前述流量測定方法，係包含：第1步驟，係關閉前述第1遮斷閥，並且開啟前述第2遮斷閥及前述第3遮斷閥，而通過前述第2遮斷閥作排氣；第2步驟，係經過第一預定時間後，或是，前述第1流路或第2流路內的壓力值成為預定壓力值後，關閉前述第2遮斷閥及前述第3遮斷閥；第3步驟，係開啟前述第1遮斷閥，並在通過前述流量控制器使設定流量的氣體流通之後，經過第二預定時間後，或是，前述第1流路或第2流路內的壓力值成為預定壓力值後，關閉前述第1遮斷閥，再檢測前述第1或第2流路內的第1壓力；第4步驟，係開啟前述第3遮斷閥，並檢測受到前述第1遮斷閥、第2遮斷閥以及第3遮斷閥所包圍的流路內的第2壓力；以及第5步驟，係將由前述第1遮斷閥、第2遮斷閥以及第3遮斷閥所包圍的前述流路體積，使用前述第1壓力、前述第2壓力、以及前述體積測定用的已知體積藉由波以耳定律作運算。
  9. 如請求項8所述之流量測定方法，其中，係包含：第6步驟，係關閉前述第1遮斷閥及前述第3遮斷閥，並且開啟前述第2遮斷閥，而通過前述第2遮斷閥作排氣；第7步驟，係經過第三預定時間後，或是，前述第1流路或第2流路內的壓力值成為預定壓力值後，開啟前述第1遮斷閥，並通過前述流量控制器使設定流量的氣體流通；第8步驟，係經過第四預定時間後，或是，前述第1流路或第2流路內的壓力值成為預定壓力值後，關閉前述第2遮斷閥，並檢測受到前述第1遮斷閥、第2遮斷閥以及第3遮斷閥所包圍的流路內的第3壓力；第9步驟，係測定受到前述第1遮斷閥、第2遮斷閥以及第3遮斷閥所包圍的流路內的溫度；第10步驟，係在從前述第8步驟經過第五預定時間後，檢測受到第1遮斷閥、第2遮斷閥以及第3遮斷閥所包圍的流路內的第4壓力；以及第11步驟，係自前述第3壓力及前述第4壓力運算壓力上升率，並使用所運算的壓力上升率、前述第5步驟中所測定的流路體積、以及前述第9步驟中所測定的溫度，運算前述流量控制器的流量。
  10. 如請求項8所述之流量測定方法，其中，前述流量控制器係以並列狀設置有複數個，各前述流量控制器的下游側係藉由前述第1流路所連通，複數個流量控制器當中所期望的流量控制器的流量係受到測定。
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