JP7061932B2 - 流量測定方法および流量測定装置 - Google Patents
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Description
図1は、基板処理システム10の一例を示す概略図である。基板処理システム10は、複数のプロセスモジュールを備え、図1に示されているように、複数のチャンバ12-1~12-N(数Nは、2以上の整数。)と複数のガス供給部14-1~14-(N+1)とを備えている。複数のチャンバ12-1~12-Nのうちの1つのチャンバ12-1の内部には、基板処理のために基板が収容される処理空間が形成されている。複数のチャンバ12-1~12-Nのうちのチャンバ12-1と異なる他のチャンバ12-i(i=2,3,4,…,N)も、チャンバ12-1と同様に、内部に処理空間が形成されている。
図3は、流量測定方法の一例を示すシーケンスチャートである。図3のシーケンスチャートの横軸は、時間を示している。縦軸は、第3のガス流路43の圧力と、第1のバルブ51の開閉状態と、第2のバルブ52の開閉状態と、第3のバルブ53の開閉状態とを示している。縦軸は、さらに、バルブ30-1の開閉状態と、流量制御器18-1のガスの出力状態とを示している。
Q=dP/dt×1/R×(Vstray/Tstray+Vext/Text+Vfv/Tfv)…(1)
ここで、dPは、圧力P1と圧力P2とを用いて、次式により表現される。
dP=P2-P1
dtは、ステップS4で流量制御器18-1を介してガスが第1のガス流路21に供給された時間Δtを示している。容積Vstrayは、流量制御器18-1の流路82のうちのオリフィス部材83と二次バルブ20-1のダイヤフラム間容積を示している。温度Tstrayは、流量制御器18-1の流路82を流れるガスの温度を示し、流量制御器18-1の温度センサ86により測定された温度を示している。容積Vextは、第1のガス流路21の容積と第2のガス流路42の容積との和を示している。温度Textは、圧力P2が測定されるときに第1のガス流路21と第2のガス流路42に充填されるガスの温度を示している。容積Vfvは、第3のガス流路43の容積を示している。温度Tfvは、圧力P2が測定されるときに第3のガス流路43に充填されるガスの温度を示している。
P2×Vext/Text+P3×Vfv/Tfv=P4×Vext/Text+P4×Vfv/Tfv…(2)
(2)式が変形されることにより、次(3)式が導かれる。
Vext/Text=Vfv/Tfv×(P4-P3)/(P2-P4)…(3)
(3)式が(1)式に代入されることにより、次(4)式が導かれる。
Q=(P2-P1)/Δt×1/R×{Vstray/Tstray+Vfv/Tfv×(P2-P3)/(P2-P4)}…(4)
このため、ステップS4で流量制御器18-1を介して第1のガス流路21に供給されたガスのモル数nは、次(5)式により表現される。
n=(P2-P1)/R×{Vstray/Tstray+Vfv/Tfv×(P2-P3)/(P2-P4)}…(5)
このとき、ステップS4で生成された複数のガスパルスの個数でモル数nを除算した値は、流量制御器18-1を介して第1のガス流路21に1つのガスパルスあたりに供給されたガスの量を示している。
12-1~12-N:複数のチャンバ
14-1~14-(N+1):複数のガス供給部
18-1~18-M:複数の流量制御器
30-1~30-(N+1):複数のバルブ
34-1~34-N:複数のターボ分子ポンプ
40 :流量測定システム
21 :第1のガス流路
42 :第2のガス流路
43 :第3のガス流路
44 :第4のガス流路
47 :圧力センサ
48 :圧力センサ
49 :温度センサ
51 :第1のバルブ
52 :第2のバルブ
53 :第3のバルブ
71 :主制御部
Claims (2)
- 第1流路が処理空間から遮断された後に、流量制御器に接続される第1流路と、前記第1流路に接続される第2流路の第1圧力を測定することと、
前記第1圧力が測定された後で、前記流量制御器を介して前記第1流路と前記第2流路とに複数のパルス状にガスを供給し、前記第1流路と前記第2流路とに充填されたガスの圧力が安定した後の圧力である第2圧力と温度とを測定することと、
前記第1流路と前記第2流路との間が接続されていない状態で前記第2流路からガスが排気された後に、前記第2流路に充填されているガスの第3圧力を測定することと、
前記第3圧力が測定された後に、前記第1流路と前記第2流路とが接続された状態で、前記第1流路と前記第2流路とに充填されているガスの第4圧力を測定することと、
前記第1圧力と前記第2圧力と前記第3圧力と前記第4圧力と前記温度とに基づいて、前記流量制御器を介して前記第1流路と前記第2流路とに供給されたガスの量を算出することと、
前記第1圧力が測定される前で、前記流量制御器を介して供給されるガスを用いて基板が処理される処理空間が前記第1流路に接続されているときに、前記処理空間から気体が排気されることにより、前記第1流路と前記第2流路とを真空引きすること
とを備える流量測定方法。 - 流量制御器に接続される第1流路と、
前記第1流路に接続される第2流路と、
前記第1流路と前記第2流路との間に設けられるバルブと、
前記第2流路に充填される気体の圧力を測定する圧力センサと、
前記気体の温度を測定する温度センサと、
制御部とを備え、
前記制御部は、
第1流路が処理空間から遮断された後に、前記第1流路と前記第2流路の第1圧力が測定されるように、前記圧力センサを制御し、
前記第1圧力が測定された後で、前記流量制御器を介して前記第1流路と前記第2流路とに複数のパルス状にガスが供給されるように、前記流量制御器を制御し、
前記第1流路と前記第2流路とにガスが供給された後に、前記第1流路と前記第2流路とに充填されたガスの圧力が安定した後の圧力である第2圧力と温度とが測定されるように、前記圧力センサを制御し、
前記第2圧力が測定された後に、前記第1流路と前記第2流路との間が閉鎖されるように前記バルブを制御し、
前記第1流路と前記第2流路との間が閉鎖された状態で前記第2流路からガスが排気された後に、前記第2流路に充填されているガスの第3圧力が測定されるように、前記圧力センサを制御し、
前記第3圧力が測定された後に、前記第1流路と前記第2流路との間が開放されるように前記バルブを制御し、
前記第1流路と前記第2流路との間が開放された後に、前記第1流路と前記第2流路とに充填されているガスの第4圧力が測定されるように、前記圧力センサを制御し、
前記第1圧力と前記第2圧力と前記第3圧力と前記第4圧力と前記温度とに基づいて前記流量制御器を介して前記第1流路と前記第2流路とに供給されたガスの量を算出し、
前記第1圧力が測定される前で、前記流量制御器を介して供給されるガスを用いて基板が処理される処理空間が前記第1流路に接続されているときに、前記処理空間から気体が排気されることにより、前記第1流路と前記第2流路とを真空引きする
流量測定装置。
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