TWI632213B - Adhesive composition for acrylic or cycloolefin type polarizing film, adhesive layer, acrylic or cycloolefin type polarizing film with adhesive layer, and image forming apparatus - Google Patents

Adhesive composition for acrylic or cycloolefin type polarizing film, adhesive layer, acrylic or cycloolefin type polarizing film with adhesive layer, and image forming apparatus Download PDF

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Abstract

本發明提供丙烯酸系或環烯烴系偏光薄膜用黏著劑組成物、黏著劑層及附黏著劑層之丙烯酸系或環烯烴系偏光薄膜，該黏著劑組成物可形成耐久性等主要特性優異、特別是抗靜電機能的加溼耐久性優異之黏著劑層。一種丙烯酸系或環烯烴系偏光薄膜用黏著劑組成物，係含有(甲基)丙烯酸系聚合物(A)、以及具有陰離子成分與陽離子成分之離子性化合物(B)的黏著劑組成物，其特徴在於，(甲基)丙烯酸系聚合物(A)係含有含羥基單體作為單體單元的含羥基之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)，而陰離子成分係具有有機基且碳數為2以上之陰離子成分。

Description

丙烯酸系或環烯烴系偏光薄膜用黏著劑組成物、黏著劑層、附黏著劑層之丙烯酸系或環烯烴系偏光薄膜及影像形成裝置 發明領域
本發明係關於抗靜電機能優異之丙烯酸系或環烯烴系偏光薄膜用黏著劑組成物、由該黏著劑組成物所形成之黏著劑層，以及具有該黏著劑層之附黏著劑層之丙烯酸系或環烯烴系偏光薄膜。進一步，本發明係關於使用有前述附黏著劑層之偏光薄膜的液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置、PDP等影像顯示裝置。
發明背景
液晶顯示裝置等，從其影像形成方式而言，在液晶胞的兩側配置偏光元件係不可或缺的，一般而言係貼著有偏光薄膜。而於將前述偏光薄膜貼著於液晶胞之際，通常係使用黏著劑。又，偏光薄膜與液晶胞的接著，通常為減低光的損失，使用黏著劑來密接各個材料。在這樣的狀況下，由於具有使偏光薄膜固著不需乾燥步驟等優點的緣故，黏著劑一般係使用在偏光薄膜單側預先設有作為黏著劑層的附黏著劑層之偏光薄膜。在附黏著劑層之偏光薄膜的黏著劑層，通常，貼附有離型膜。
製造液晶顯示裝置時，在將前述附黏著劑層之偏光薄膜貼附至液晶胞之際，自附黏著劑層之偏光薄膜的黏著劑層剝離離型膜，但因為該離型膜的剝離而產生靜電。這樣產生的靜電影響液晶顯示裝置內部之液晶的配向，而招致不良。又，有在使用液晶顯示裝置時產生因靜電所致之顯示不均的狀況。靜電的產生，例如，可藉由在偏光薄膜的外表面形成抗靜電層來抑制，但其效果不彰，有無法從根本上防止靜電產生這樣的問題點。因此，為了在靜電產生之根本的位置處抑制產生，謀求對黏著劑層賦予抗靜電機能。就對黏著劑層賦予抗靜電機能之方法，例如，提議有在形成黏著劑層之黏著劑，摻混離子性化合物(專利文獻1~6)。
先行技術文獻 專利文獻
專利文獻1 日本特開2005-306937號公報
專利文獻2 日本特表2006-111846號公報
專利文獻3 日本特開2008-517138號公報
專利文獻4 日本特表2010-523806號公報
專利文獻5 日本特開2011-016990號公報
專利文獻6 日本特開2011-017000號公報
發明概要
專利文獻1及2中，係透過將具有雙(五氟乙磺醯 基)醯亞胺陰離子之離子性化合物添加至黏著劑組成物中作為陰離子成分，來賦予黏著劑層之抗靜電機能。又，專利文獻3及4中，係透過將具有雙三氟甲碸醯亞胺陰離子(bistrifluoromethanesulfoneimide anion)或雙三氟乙碸醯亞胺陰離子(bistrifluoroethanesulfoneimide anion)之離子性化合物添加至黏著劑組成物中作為陰離子成分，來賦予黏著劑層之抗靜電機能。然而，就由含有此等離子性化合物之黏著劑組成物所形成的黏著劑層而言，要是曝露在常溫常溼以上的條件下，舉例來說在60℃、90%RH或60℃、95%RH等之溼熱條件下，則表面電阻值上升，而有損及抗靜電機能之情事。
又，在下述專利文獻5及6記載了一點，要是將具 有含有具碳原子之全氟烷基之醯亞胺陰離子的離子性化合物添加至黏著劑組成物中，則黏著劑層的抗靜電機能無法充分提升，而當具有雙(氟磺醯基)醯亞胺陰離子之離子性化合物經添加至黏著劑組成物中時，可提高黏著劑層的抗靜電機能。然而，就記載於此等專利文獻的發明而言，其課題不在於抑制加溼試驗後表面電阻值的上升，故亦未針對暴露在溼熱條件之際的表面電阻值有具體的記載或意見。
本發明之目的係提供丙烯酸系或環烯烴系偏光 薄膜用黏著劑組成物、黏著劑層及附黏著劑層之丙烯酸系或環烯烴系偏光薄膜，該黏著劑組成物能夠形成耐久性等主要特性優異、特別是抗靜電機能之加溼耐久性優異的黏著劑層。
又，本發明之目的係提供使用有前述附黏著劑層之偏光薄膜的影像顯示裝置。
本發明人等為解決前述課題反覆深入探討的結果，發現下述黏著劑組成物而至完成本發明。
即，本發明係關於一種丙烯酸系或環烯烴系偏光薄膜用黏著劑組成物，係含有(甲基)丙烯酸系聚合物(A)、以及具有陰離子成分與陽離子成分之離子性化合物(B)的黏著劑組成物，其特徴在於，前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)係含有含羥基單體作為單體單元的含羥基之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)，而前述陰離子成分係具有有機基且碳數為2以上的陰離子成分。
在上述黏著劑組成物中，前述陰離子成分宜為以下述通式(1)、下述通式(2)、及下述通式(3)表示之至少1種陰離子成分：(CnF2n+1SO2)2N- (1)(通式(1)中，n係1~10的整數)；：CF2(CmF2mSO2)2N- (2)(通式(2)中，m係2~10的整數)；-O3S(CF2)i SO3 - (3)(通式(3)中，i係3~10的整數)。
在上述黏著劑組成物中，前述離子性化合物(B)所具有之陽離子成分，宜為鹼金屬陽離子及有機陽離子之至少1種。
在上述黏著劑組成物中，前述離子性化合物(B)所具有之陽離子成分宜為鋰陽離子。
在上述黏著劑組成物中，前述離子性化合物(B) 所具有之陰離子成分宜為雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺陰離子、雙(七氟丙磺醯基)醯亞胺陰離子、雙(九氟丁磺醯基)醯亞胺陰離子、環-六氟丙烷-1,3-雙(磺醯基)醯亞胺陰離子、及六氟丙烷-1,3-二磺酸陰離子之至少1種。
在上述黏著劑組成物中，相對於前述含羥基之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，宜含有0.001~10重量份之前述離子性化合物(B)。
在上述黏著劑組成物中，前述含羥基之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)，宜含有含羧基單體作為單體單元。
在上述黏著劑組成物中，宜進一步含有交聯劑(C)。
在上述黏著劑組成物中，相對於前述含羥基之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，宜含有0.01~20重量份之前述交聯劑(C)。
在上述黏著劑組成物中，相對於前述含羥基之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，宜進一步含有0.001~5重量份之矽烷耦合劑(D)。
在上述黏著劑組成物中，相對於前述含羥基之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，宜進一步含有0.001~10重量份之聚醚改質矽氧烷(E)。
在上述黏著劑組成物中，前述交聯劑(C)宜為異氰酸酯系化合物及過氧化物之至少1種。
在上述黏著劑組成物中，前述含羥基之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)的重量平均分子量宜為50萬~300萬。
又，本發明係關於一種黏著劑層，其係由前述任 一者記載之丙烯酸系或環烯烴系偏光薄膜用黏著劑組成物所形成者。
又，本發明係關於一種附黏著劑層之丙烯酸系或 環烯烴系偏光薄膜，其特徵在於具有丙烯酸系或環烯烴系偏光薄膜與黏著劑層，其中該丙烯酸系或環烯烴系偏光薄膜在偏光件的單面或兩面具有丙烯酸系或環烯烴系透明保護薄膜，且前述黏著劑層係前述記載的黏著劑層。
在上述附黏著劑層之丙烯酸系或環烯烴系偏光 薄膜中，前述黏著劑層宜為經積層在丙烯酸系或環烯烴系透明保護薄膜側者。
在上述附黏著劑層之丙烯酸系或環烯烴系偏光 薄膜中，前述丙烯酸系或環烯烴系偏光薄膜宜為在偏光件的單面具有丙烯酸系或環烯烴系透明保護薄膜者，在偏光件的另一面則具有三醋酸纖維素膜(Triacetyl Cellulose Film)，且前述黏著劑層係經積層在三醋酸纖維素膜側者。
在上述附黏著劑層之丙烯酸系或環烯烴系偏光 薄膜中，前述丙烯酸系或環烯烴系偏光薄膜宜為在偏光件的單面具有丙烯酸系或環烯烴系透明保護薄膜者，而在偏光件之另一面則未具有透明保護薄膜，且前述黏著劑層係經積層在未具有透明保護薄膜的偏光件面側者。
在上述附黏著劑層之丙烯酸系或環烯烴系偏光薄膜中，前述偏光件的厚度宜為1~10μm。
在上述附黏著劑層之丙烯酸系或環烯烴系偏光 薄膜中，前述丙烯酸系或環烯烴系偏光薄膜與前述黏著劑層之間宜具有易接著層。
進一步，本發明係關於一種影像顯示裝置，其特徴在於至少使用有1個前述記載之附黏著劑層之偏光薄膜。
就使用有丙烯酸系聚合物作為基底聚合體的黏著劑組成物而言，可透過對該黏著劑摻混離子性化合物來賦予抗靜電機能。另一方面，當黏著劑層的表面存在離子性化合物時，有黏著劑層與被接著物的接著力降低的情形，當暴露於溼熱條件下時，有試驗後之表面電阻值上升，而損及抗靜電機能的情形。
本發明之黏著劑組成物，係在基底聚合體的含羥基之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之基礎上，含有可賦予抗靜電機能的離子性化合物(B)，由此黏著劑組成物所形成之黏著劑層之抗靜電機能優異。尤其本發明之黏著劑組成物含有離子性化合物(B)，而該離子性化合物(B)係具有具有機基且碳數為2以上之陰離子成分者，故即便在加溼試驗後仍可將黏著劑層的表面電阻值保持為低。因此，由本發明之黏著劑組成物所形成之黏著劑層及具有該黏著劑層的附黏著劑層之偏光薄膜，在耐久性等主要特性優異的同時，抗靜電機能的加溼耐久性尤為優異。
再者，當在黏著劑組成物中添加離子性化合物時，雖僅若干但在加溼後會使黏著劑層容易剝離，或者在過熱後易於發生黏著劑層發泡的情形。然而，就本發明而 言，由於將特定的離子性化合物(B)與含羥基之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)一起使用，故抗靜電機能的加溼耐久性優異，並且耐加濕剝離性及抗發泡性尤為優異。
用以實施發明之形態
根據本發明的黏著劑組成物，含有含羥基之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)作為基底聚合體。含羥基之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)，通常，就單體單元而言，含有(甲基)丙烯酸烷基酯作為主成分。再者，(甲基)丙烯酸酯係指稱丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯，與本發明之(甲基)係相同的意義。
作為構成含羥基之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之主骨架的(甲基)丙烯酸烷基酯，可例示直鏈狀或分枝鏈狀之烷基的碳數1~18者。舉例來說，作為前述烷基可例示：甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、戊基、己基、環己基、庚基、2-乙基己基、異辛基、壬基、癸基、異癸基、十二基、異肉豆蔻基、月桂基、十三基、十五基、十六基、十七基、十八基等。此等係可單獨或者組合來使用。此等烷基的平均碳數宜為3~9。
含羥基之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)，含有含羥基單體作為單體單元，具體地舉例來說：(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸3-羥丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥己酯、(甲基)丙烯酸8-羥辛酯、(甲基)丙烯酸10- 羥癸酯、(甲基)丙烯酸12-羥基月桂酯或(4-羥甲基環己基)-甲基丙烯酸酯等。在含羥基之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)中前述含羥基單體的比例，在全部構成單體(100重量%)的重量比率，以1~10重量%為佳，以3~7重量%為更佳。
又，從黏著特性、耐久性、相位差的調整、折射 率的調整等點來看，可使用如苯氧乙基(甲基)丙烯酸酯、苄基(甲基)丙烯酸酯般之含有芳香環之(甲基)丙烯酸烷基酯。含有芳香環之(甲基)丙烯酸烷基酯，可將經聚合此而成之聚合物混合至前述例示的(甲基)丙烯酸系聚合物來使用，但從透明性的觀點來看，含有芳香環之(甲基)丙烯酸烷基酯，宜與前述(甲基)丙烯酸烷基酯共聚合來使用。
在含羥基之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)中之含有 前述芳香環之(甲基)丙烯酸烷基酯的比例，係在含羥基之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之全部構成單體(100重量%)的重量比率中，能以50重量%以下的比例來含有。進一步來說，含有芳香環之(甲基)丙烯酸烷基酯的含有率係以1~35重量%為佳，以5~30重量%為較佳，以10~25重量%為更佳。
在前述含羥基之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)中，以 接著性及耐熱性之改善為目的，可將具有具(甲基)丙烯醯基或乙烯基等不飽和雙鍵之聚合性官能基的1種以上的共聚單體藉由共聚合來導入。作為那樣的共聚單體的具體例，例如可舉：(甲基)丙烯酸、羧乙基(甲基)丙烯酸酯、羧戊基(甲基)丙烯酸、伊康酸、馬來酸、富馬酸、巴豆酸等含羧基之單體；馬來酸酐、伊康酸酐等含酸酐基之單體；丙烯酸 的己內酯加合物；苯乙烯磺酸或烯丙基磺酸、2-(甲基)丙烯醯胺基-2-甲基丙磺酸、(甲基)丙烯醯胺基丙磺酸、磺丙基(甲基)丙烯酸酯(sulfopropyl(meth)acrylate)、(甲基)丙烯醯氧基萘磺酸等含磺酸基之單體；2-羥乙基丙烯醯基膦酸酯等含磷酸基之單體等。
又，(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯 胺、N-丁基(甲基)丙烯醯胺或N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基丙烷(甲基)丙烯醯胺等(N-取代)醯胺系單體；(甲基)丙烯酸胺基乙基酯、(甲基)丙烯酸N,N-二甲胺乙酯、(甲基)丙烯酸三級丁基胺基乙基酯等(甲基)丙烯酸烷基胺基烷基酯系單體；(甲基)丙烯酸甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧基乙酯等(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯系單體；N-(甲基)丙烯醯氧基亞甲基琥珀醯亞胺或N-(甲基)丙烯醯基-6-氧基六亞甲基琥珀醯亞胺、N-(甲基)丙烯醯基-8-氧基八亞甲基琥珀醯亞胺、N-丙烯醯基啉等琥珀醯亞胺系單體；N-環己基馬來醯亞胺或N-異丙基馬來醯亞胺、N-月桂基馬來醯亞胺或N-苯基馬來醯亞胺等馬來醯亞胺系單體；N-甲基伊康醯亞胺、N-乙基伊康醯亞胺、N-丁基伊康醯亞胺、N-辛基伊康醯亞胺、N-2-乙基己基伊康醯亞胺、N-環己基伊康醯亞胺、N-月桂基伊康醯亞胺等伊康醯亞胺系單體等亦可列舉作為改質目標的單體例。
進一步，作為改質單體亦可使用乙酸乙烯酯、丙 酸乙烯酯、N-乙烯基吡咯啶酮、甲基乙烯基吡咯啶酮、乙烯基吡啶、乙烯基哌啶酮、乙烯基嘧啶、乙烯基哌、乙 烯基吡、乙烯基吡咯、乙烯基咪唑、乙烯基唑、乙烯基啉、N-乙烯基羧酸醯胺類、苯乙烯、α-甲基苯乙烯、N-乙烯基己內醯胺等乙烯基系單體；丙烯腈、甲基丙烯腈等氰基丙烯酸酯系單體；(甲基)丙烯酸環氧丙酯等含環氧基之丙烯酸系單體；(甲基)丙烯酸聚乙二醇酯、(甲基)丙烯酸聚丙二醇酯、(甲基)丙烯酸甲氧基乙二醇酯、(甲基)丙烯酸甲氧基聚丙二醇酯等二醇系丙烯酸酯單體；(甲基)丙烯酸四氫糠酯、氟(甲基)丙烯酸酯、矽氧烷(甲基)丙烯酸酯或2-甲氧基乙基丙烯酸酯等丙烯酸酯系單體等。進一步而言，可舉異戊二烯、丁二烯、異丁烯、乙烯基醚等。
進一步，作為上述以外的可共聚之單體，可舉含 有矽原子之矽烷系單體等。作為矽烷系單體例如可舉：3-丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、4-乙烯基丁基三甲氧矽烷、4-乙烯基丁基三乙氧基矽烷、8-乙烯基辛基三甲氧基矽烷、8-乙烯基辛基三乙氧基矽烷、10-甲基丙烯醯氧基癸基三甲氧基矽烷、10-丙烯醯氧基癸基三甲氧基矽烷、10-甲基丙烯醯氧基癸基三乙氧基矽烷、10-丙烯醯氧基癸基三乙氧基矽烷等。
又，作為共聚單體，可使用三丙二醇二(甲基)丙 烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A二環氧丙基醚二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸 酯、己內酯改質二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸與多元醇的酯化物等具有2個以上(甲基)丙烯醯基、乙烯基等不飽和雙鍵的多官能性單體或者，在聚酯、環氧化物、胺甲酸乙酯等骨架經附加2個以上(甲基)丙烯醯基、乙烯基等不飽和雙鍵作為與單體成分相同之官能基而成的聚酯(甲基)丙烯酸酯、環氧(甲基)丙烯酸酯、胺甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯等。
含羥基之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)，在全部構成 單體的重量比率來說，以(甲基)丙烯酸烷基酯為主成分，含羥基之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)中之前述共聚單體的比例，未被特別限制，但在全部構成單體的重量比率中，前述共聚單體的比例以0~20%左右，0.1~15%左右，進一步係0.1~10%左右為佳。
在此等共聚單體之中，從接著性、耐久性之點來 看，較佳使用含羧基的單體。當黏著劑組成物含有交聯劑的時，含羧基之單體係成為與交聯劑的反應點。由於含羧基之單體富有與分子間交聯劑反應性的緣故，為了所獲得之黏著劑層的凝聚性及耐熱性的提升而較佳地使用。含羧基單體因為可同時滿足耐久性與可再加工性之點而為佳。
當含有含羧基單體作為共聚單體時，其比例係以 0.05~10重量%為佳，0.1~8重量%為較佳，以0.2~6重量%為更佳。
本發明的含羥基之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)，通常係使用重量平均分子量為50萬~300萬之範圍者。考慮耐 久性，特別係耐熱性的話，以使用重量平均分子量係70萬~270萬者為佳。以80萬~250萬為更佳。要是重量平均分子量小於50萬，則在耐熱性之點不佳。又，要是重量平均分子量變得大於300萬，則為了調整至用以塗敷的黏度，變得需要大量的稀釋溶劑，而成本增加而不佳。再者，重量平均分子量係指以GPC(凝膠滲透層析法)測定，並由聚苯乙烯換算所算出之值。
這樣的含羥基之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)的製 造，可適宜選擇溶液聚合、塊狀聚合、乳化聚合、各種自由基聚合等已知的製造方法。又，所獲得之含羥基之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)可係無規共聚物、嵌段共聚物、接技共聚物等之任一者。
再者，就溶液聚合而言，舉例來說可使用乙酸乙 酯、甲苯等作為聚合溶劑。就具體的溶液聚合例而言，反應係在氮等惰性氣體氣流下，添加聚合起始劑，通常，係在50~70℃左右，5~30小時左右的反應條件下進行。
可使用於自由基聚合的聚合起始劑、鏈轉移劑、 乳化劑等未被特別限定，可適宜選擇來使用。再者，含羥基之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)的重量平均分子量係能夠透過聚合起始劑、鏈轉移劑的使用量、反應條件來控制，因應此等之種類適宜調整其之使用量。
作為聚合起始劑，例如可舉：2,2’-偶氮雙異丁 腈、2,2’-偶氮雙(2-脒基丙烷)二鹽酸鹽、2,2’-偶氮雙[2-(5-甲基-2-咪唑啉-2-基)丙烷]二鹽酸鹽、2,2’-偶氮雙(2-甲基丙 脒)二硫酸鹽、2,2’-偶氮雙(N,N’-二亞甲基異丁脒)、2,2’-偶氮雙[N-(2-羧乙基)-2-甲基丙脒]水合物(和光純藥公司製，VA-057)等偶氮系起始劑、過硫酸鉀、過硫酸銨等過硫酸鹽、二(2-乙基己基)過氧化二碳酸酯、二(4-三級丁基環己基)過氧化二碳酸酯、二-二級丁基過氧化二碳酸酯、三級丁基過氧化新癸酸酯、三級己基過氧化叔戊酸酯、三級丁基過氧化叔戊酸酯、二月桂醯過氧化物、二-正辛醯過氧化物、1,1,3,3-四甲基丁基過氧化-2-乙基己酸酯、二(4-甲基苯甲醯基)過氧化物、二苯甲醯基過氧化物、三級丁基過氧化異丁酸酯、1,1-二(三級己基過氧化)環己烷、三級丁基過氧化氫、過氧化氫等過氧化物系起始劑、過硫酸鹽與亞硫酸氫鈉的組合、過氧化物與抗壞血酸鈉的組合等經組合過氧化物與還原劑之氧化還原系起始劑等，但非被限定於此等。
前述聚合起始劑，單獨地使用亦可，或是混合2種以上使用亦可，整體而言的含量相對於單體100重量份，係以0.005~1重量份左右為佳，以0.02~0.5重量份左右為更佳。
再者，就聚合起始劑而言，例如使用2,2’-偶氮雙異丁腈，為了製造前述重量平均分子量之含羥基的(甲基)丙烯酸系聚合物(A)，聚合起始劑的使用量相對於單體成分全部量100重量份，以令為0.06~0.2重量份左右為佳，以令為0.08~0.175重量份左右為更佳。
就鏈轉移劑而言，例如可舉：月桂硫醇、環氧丙基硫醇、巰基乙酸、2-巰基乙醇、硫代乙醇酸、硫代乙醇酸2-乙基己基酯、2,3-二巰基-1-丙醇等。鏈轉移劑係單獨地 使用亦可，或混合2種以上使用亦可，整體的含量相對於單體成分之全部量100重量份，係0.1重量份左右以下。
又，作為在乳化聚合時使用的乳化劑，例如可 舉：月桂基硫酸鈉、月桂基硫酸銨、十二烷基苯磺酸鈉、聚氧乙烯烷基醚硫酸銨、聚氧乙烯烷基苯基醚硫酸鈉等陰離子系乳化劑；聚氧乙烯烷基醚、聚氧乙烯烷基苯基醚、聚氧乙烯脂肪酸酯、聚氧乙烯-聚氧丙烯嵌段聚合物等非離子系乳化劑等。此等乳化劑，單獨地使用亦可，亦可併用2種以上。
進一步，作為反應性乳化劑，就經導入丙烯基、 烯丙基醚基等自由基聚合性官能基的乳化劑而言，具體來說，例如有Aqualon HS-10、HS-20、KH-10、BC-05、BC-10、BC-20(以上任一者均係第一工業製藥公司製)、ADEKA REASOAP SE10N(旭電化工公司製)等。由於反應性乳化劑，在聚合後被納入聚合物鏈的緣故，耐水性變好而為佳。 乳化劑的使用量，相對於單體成分之全部量100重量份，係0.3~5重量份，從聚合安定性及機械安定性來看以0.5~1重量份較佳。
根據本發明的黏著劑組成物，在前述含羥基之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)外，含有離子性化合物(B)，這樣的離子性化合物(B)係具有陰離子成分及陽離子成分。
(離子性化合物(B)的陰離子成分)
在本發明中，當陰離子成分係具有有機基且係碳數為2以上之陰離子成分時，透過與含羥基之(甲基)丙烯酸系聚合 物(A)併用，則抗靜電機能的加溼耐久性優異，並且耐加濕剝離性及抗發泡性優異，故而為佳。特別是陰離子成分係以下述通式(1)、下述通式(2)、及下述通式(3)表示之至少1種之陰離子成分時，前述抗靜電機能的加溼耐久性、耐加濕剝離性及抗發泡性的提升效果顯著提高，因而尤佳：(CnF2n+1SO2)2N- (1)(通式(1)中，n係1~10的整數)；CF2(CmF2mSO2)2N- (2)(通式(2)中，m係2~10的整數)；-O3S(CF2)i SO3 - (3)(通式(3)中，i係3~10的整數)。
就以上述通式(1)所表示之陰離子成分而言，具體來說可舉：雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺陰離子、雙(七氟丙磺醯基)醯亞胺陰離子、雙(九氟丁磺醯基)醯亞胺陰離子、雙(十一氟戊磺醯基)醯亞胺陰離子、雙(十三氟己磺醯基)醯亞胺陰離子、雙(十五氟庚磺醯基)醯亞胺陰離子等。此等之中，以雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺陰離子、雙(七氟丙磺醯基)醯亞胺陰離子或雙(九氟丁磺醯基)醯亞胺陰離子為特佳。
就以上述通式(2)所表示的陰離子成分而言，具體而言可舉環-六氟丙烷-1,3-雙(磺醯基)醯亞胺陰離子，能夠適宜地使用。
就以上述通式(3)所表的陰離子成分而言，具體而言，可舉六氟丙烷-1,3-二磺酸陰離子，能夠適宜地使用。
(離子性化合物(B)的陽離子成分)
就離子性化合物(B)的陽離子成分而言，可舉：鋰、鈉、鉀之鹼金屬離子，與上述的陰離子成分一起構成作為離子性化合物(B)的鹼金屬鹽。在鹼金屬離子中，就由含有具有鉀 離子的離子性化合物(B)之黏著劑組成物所形成的黏著劑層而言，有初期的表面電阻值上升的傾向。另一方面，當含有具有鋰離子之離子性化合物(B)時，可抑制黏著劑層之初期的表面電阻值及加溼後之表面電阻值的上升。
一般而言，要是使黏著劑組成物中離子性化合物 (B)的比例增多則抗靜電性能會提升的另一面，有耐久性變得不充分的傾向，抗靜電機能與耐久性係有二律相悖的傾向。然而，當使用有具有鋰離子之離子性化合物(B)時，即便降低離子性化合物(B)的比例，可提升抗靜電機能，特別係抗靜電機能的加溼耐久性。因此，在本發明來說，特別是考慮到抗靜電機能之加溼耐久性時，以具有鋰離子的離子性化合物(B)為佳。
就鹼金屬鹽而言，具體來說可舉：雙(七氟丙磺醯基)醯亞胺鋰、雙(七氟丙磺醯基)醯亞胺鈉、雙(七氟丙磺醯基)醯亞胺鉀、雙(九氟丁磺醯基)醯亞胺鋰、雙(九氟丁磺醯基)醯亞胺鈉、雙(九氟丁磺醯基)醯亞胺鉀、環-六氟丙烷-1,3-雙(磺醯基)醯亞胺鋰、環-六氟丙烷-1,3-雙(磺醯基)醯亞胺鈉、環-六氟丙烷-1,3-雙(磺醯基)醯亞胺鉀、1,1,2,2,3,3-六氟丙烷-1,3-二磺酸二鋰鹽、1,1,2,2,3,3-六氟丙烷-1,3-二磺酸二鈉鹽、1,1,2,2,3,3-六氟丙烷-1,3-二磺酸二鉀鹽等。在此等之中，以雙(七氟丙磺醯基)醯亞胺鋰、雙(九氟丁磺醯基)醯亞胺鋰、環-六氟丙烷-1,3-雙(磺醯基)醯亞胺鋰、六氟丙烷-1,3-二磺酸二鋰鹽為特佳。
進一步，就離子性化合物(B)的陽離子成分而 言，可舉有機陽離子，與上述的陰離子成分一起構成作為離子性化合物(B)的有機陽離子-陰離子鹽。「有機陽離子-陰離子鹽」亦可被稱為離子性液體、離子性固體。就有機陽離子而言，具體來說可舉：吡啶陽離子、哌啶陽離子、吡咯啶陽離子(pyrrolidinium cation)、具有二氫吡咯骨架的陽離子、具有吡咯骨架的陽離子、咪唑陽離子(imidazolium cation)、四氫嘧啶陽離子、二氫嘧啶陽離子、吡唑陽離子(pyrazolium cation)、吡唑啉陽離子(pyrazolinium cation)、四烷基銨陽離子、三烷基鋶陽離子、四烷基鏻陽離子等。
就有機陽離子-陰離子鹽的具體例而言，可適宜 選擇由上述陽離子成分與陰離子成分的組合構成的化合物來使用，例如可舉：1-丁基-3-甲基吡啶鎓雙(七氟丙磺醯基)醯亞胺、1-丁基-3-甲基吡啶鎓雙(九氟丁磺醯基)醯亞胺、1-丁基-3-甲基吡啶鎓環-六氟丙烷-1,3-雙(磺醯基)醯亞胺、雙(1-丁基-3-甲基吡啶鎓)六氟丙烷-1,3-二磺酸、1-乙基-3-甲基咪唑鎓雙(七氟丙磺醯基)醯亞胺醯亞胺、1-乙基-3-甲基咪唑鎓雙(九氟丁磺醯基)醯亞胺、1-乙基-3-甲基咪唑鎓環-六氟丙烷-1,3-雙(磺醯基)醯亞胺、雙(1-乙基-3-甲基吡啶鎓)六氟丙烷-1,3-二磺酸等。
在本發明黏著劑組成物中之離子性化合物(B)的 比例，相對於含羥基之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，以0.001~10重量份為佳。前述化合物(B)未達0.001重量份的話，有抗靜電性能的提升效果並不充分的情形。前述化合物(B)係以0.1重量份以上為佳，以0.5重量份以上為更 佳。另一方面，要是前述離子性化合物(B)係多於10重量份，則有耐久性變得不充分的情形。前述化合物(B)係以5重量份以下為佳，以3重量份以下為更佳。前述化合物(B)的比例係可採用前述上限值或下限值來設定較佳範圍。
進一步，於本發明的黏著劑組成物，可含有交聯 劑(C)。就交聯劑(C)而言，可使用有機系交聯劑或多官能性金屬螯合物。就有機系交聯劑而言可舉：異氰酸酯系交聯劑、過氧化物系交聯劑、環氧系交聯劑、亞胺系交聯劑等。 多官能性金屬螯合物係多價金屬與有機化合物共價鍵結或是配位鍵結者。就多價金屬原子而言可舉：Al、Cr、Zr、Co、Cu、Fe、Ni、V、Zn、In、Ca、Mg、Mn、Y、Ce、Sr、Ba、Mo、La、Sn、Ti等。就共價鍵結或配位鍵結的有機化合物中之原子，可舉氧原子等，就有機化合物而言可舉：烷基酯、醇化合物、羧酸化合物、醚化合物、酮化合物等。
就交聯劑(C)而言，以異氰酸酯系交聯劑及/或過 氧化物型交聯劑為佳。作為根據異氰酸酯系交聯劑的化合物，例如可舉：二異氰酸甲苯酯、氯伸苯基二異氰酸酯(chlorphenylene diisocyanate)、四亞甲基二異氰酸酯、伸茬基二異氰酸酯(xylylene diisocyanate)、二苯甲烷二異氰酸酯、經氫化之二苯甲烷二異氰酸酯等異氰酸酯單體以及經將此等異氰酸酯單體與三羥甲基丙烷等加成所得之異氰酸酯化合物或三聚異氰酸酯化物、縮二脲型化合物，進一步經聚醚多元醇或聚酯多元醇、丙烯酸多元醇(acrylic polyol)、聚丁二烯多元醇、聚異戊二烯多元醇等加成反應 所得之胺甲酸乙酯預聚物型的異氰酸酯等。特佳係，聚異氰酸酯化合物，係選自於由六亞甲基二異氰酸酯、氫化伸茬基二異氰酸酯及異佛酮二異氰酸酯構成之群組之1種或由其而來的聚異氰酸酯化合物。於此處，在選自於由六亞甲基二異氰酸酯、氫化伸茬基二異氰酸酯以及異佛酮二異氰酸酯構成之群組之1種或是由其而來的聚異氰酸酯化合物中，係含有六亞甲基二異氰酸酯、氫化伸茬基二異氰酸酯、異佛酮二異氰酸酯、多元醇改質六亞甲基二異氰酸酯、多元醇改質氫化伸茬基二異氰酸酯、三聚物型氫化伸茬基二異氰酸酯以及多元醇改質異佛酮二異氰酸酯等。特別係將包含於聚合物的酸、鹼基作為觸媒，例示的聚異氰酸酯化合物與羥基的反應，迅速地進行，因此特別對交聯的速度有貢獻而為佳。
作為過氧化物，只要係藉由加熱或光照射產生自 由基活性種而使黏著劑組成物之基底聚合體的交聯進行者，可適宜使用，但，考量到作業性及安定性，以使用1分鐘半衰期溫度為80℃~160℃的過氧化物為佳，以使用90℃~140℃的過氧化物為較佳。
作為可使用之過氧化物，例如可舉：二(2-乙基 己基)過氧化二碳酸酯(1分鐘半衰期溫度：90.6℃)、二(4-三級丁基環己基)過氧化二碳酸酯(1分鐘半衰期溫度：92.1℃)、二-二級丁基過氧化二碳酸酯(1分鐘半衰期溫度：92.4℃)、三級丁基過氧化新癸酸酯(1分鐘半衰期溫度：103.5℃)、三級己基過氧化叔戊酸酯(1分鐘半衰期溫度： 109.1℃)、三級丁基過氧化叔戊酸酯(1分鐘半衰期溫度：110.3℃)、二月桂醯過氧化物(1分鐘半衰期溫度：116.4℃)、二-正辛醯過氧化物(1分鐘半衰期溫度：117.4℃)、1,1,3,3-四甲基丁基過氧化-2-乙基己酸酯(1分鐘半衰期溫度：124.3℃)、二(4-甲基苯甲醯基)過氧化物(1分鐘半衰期溫度：128.2℃)、二苯甲醯基過氧化物(1分鐘半衰期溫度：130.0℃)、三級丁基過氧化異丁酸酯(1分鐘半衰期溫度：136.1℃)、1,1-二(三級己基過氧化)環己烷(1分鐘半衰期溫度：149.2℃)等。其中，特別地由於交聯反應效率優異，較佳使用二(4-三級丁基環己基)過氧化二碳酸酯(1分鐘半衰期溫度：92.1℃)、二月桂醯過氧化物(1分鐘半衰期溫度：116.4℃)、二苯甲醯基過氧化物(1分鐘半衰期溫度：130.0℃)等。
再者，所謂過氧化物的半衰期係表示過氧化物之 分解速度的指標，係稱到過氧化物的殘存量變成一半的時間。關於為了在任意時間下獲得半衰期的分解溫度，或在任意溫度下的半衰期時間，係記載於廠商型錄等，例如，記載於日本油脂股份公司的「有機過氧化物型錄第9版(2003年5月)」等。
交聯劑(C)的使用量，相對於含羥基之(甲基)丙烯 酸系聚合物(A)100重量份，以0.01~20重量份為佳，進一步以0.03~10重量份為佳。再者，交聯劑(C)為未達0.01重量份的話，有黏著劑的凝聚力不足的傾向，在加熱時有產生發泡之虞，另一方面，要是多於20重量份，則耐溼性不充分， 變得容易在可靠性試驗等產生剝離。
單獨地使用1種上述異氰酸酯系交聯劑亦可，或 混合2種以上使用亦可，整體的含量，相對於前述含羥基之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，前述聚異氰酸酯化合物交聯劑以0.01~2重量份為佳，以0.02~2重量份為較佳，以0.05~1.5重量份為更佳。能夠考慮凝聚力、在耐久性試驗之剝離的阻止等，適宜含有之。
前述過氧化物係單獨地使用1種亦可，或混合2 種以上使用亦可，整體的含量，相對於前述含羥基之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，前述過氧化物係0.01~2重量份，以0.04~1.5重量份為佳，以0.05~1重量份為較佳。為了加工性、可再加工性、交聯安定性、剝離性等之調整，在此範圍內適宜選擇。
再者，就反應處理後殘存之過氧化物分解量的測 定方法而言，舉例來說，可藉由HPLC(高效液相層析法)來測定。
更具體地說，舉例來說，以每份約0.2g取出反應處理後的黏著劑組成物，浸漬於乙酸乙酯10ml中，以振盪機在25℃下，以120rpm振盪3小時，抽出後在室溫靜置3日。其次，添加乙腈10ml，在25℃下，以120rpm振盪30分鐘，可藉由將膜過濾器(0.45μm)進行過濾所獲得的抽出液約10μl注入HPLC來分析，作為反應處理後之過氧化物量。
進一步，在本發明之黏著劑組成物可含有矽烷耦合劑(D)。透過使用矽烷耦合劑(D)，可使耐久性提升。就 矽烷耦合劑而言，具體而言，例如可舉：3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷(3-glycidoxypropyltrimethoxysilane)、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、2-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷等含環氧基之矽烷耦合劑、3-胺基丙基三甲氧基矽烷、N-2-(胺基乙基)-3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-三乙氧基矽烷基-N-(1,3-二甲基亞丁基)丙基胺、N-苯基-γ-胺基丙基三甲氧基矽烷等含胺基之矽烷耦合劑、3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷等含(甲基)丙烯醯基之矽烷耦合劑、3-異氰酸酯丙基三乙氧基矽烷等含異氰酸酯基之矽烷耦合劑等。
前述矽烷耦合劑(D)係單獨地使用亦可，或混合2 種以上使用亦可，整體的含量係相對於前述含羥基之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，前述矽烷耦合劑以0.001~5重量份為佳，進一步以0.01~1重量份為佳，進一步以0.02~1重量份為更佳，進一步以0.05~0.6重量份為佳。係使耐久性提升且適度保持對液晶胞等光學部件的接著力的量。
進一步，在本發明之黏著劑組成物，可摻混聚醚 改質矽氧烷(E)。聚醚改質矽氧烷(E)，例如，可使用揭示於日本特開2010-275522號公報者。
聚醚改質矽氧烷(E)係具有聚醚骨架，且在至少1 個末端具有以下述通式(3)：-SiRaM3-a(式中，R係亦可具有取代基且碳數1~20的1價有機基、M係羥基或水解性基、a係0~2的整數。但R為複數存在時，複數的R可彼此相同或 相異，M為複數存在時，複數的M可彼此相同或相異。)所表示之反應性矽烷基。
就前述聚醚改質矽氧烷(E)而言，可舉以通式 (4)：RaM3-aSi-X-Y-(AO)n-Z(式中，R係亦可具有取代基且碳數1~20的1價有機基、M係羥基或水解性基、a係0~2之整數。但，R為複數存在時，複數的R可彼此相同或相異，M為複數存在時，複數的M可彼此相同或相異。AO表示直鏈或分枝鏈之碳數1~10的氧基伸烷基，n係1~1700，表示氧基伸烷基的平均加成莫耳數。X係表示碳數1~20的直鏈或分枝鏈的伸烷基。Y係表示醚鍵結、酯鍵結、胺甲酸乙酯鍵結或碳酸酯鍵結。
Z係氫原子、1價之碳數1~10的烴基，以
通式(4A)：-Y1-X-SiRaM3-a(式中，R、M、X、a係與前述相同。Y1係表示單鍵、-CO-鍵、-CONH-鍵或-COO-鍵。)，或者
通式(4B)：-Q{-(OA)n-Y-X-SiRaM3-a}m(式中，R、M、X、Y、a係與前述相同。OA係同於前述之AO、n係與前述相同。Q係2價以上之碳數1~10的烴基、m係與該烴基的價數相同。)所表示之基。)所表示之化合物。
就聚醚改質矽氧烷(E)的具體例而言，例如可舉：Kaneka公司製之MS聚合物S203、S303、S810；SILYL EST250、EST280；Silyl SAT10、Silyl SAT200、Silyl SAT220、Silyl SAT350、Silyl SAT400；旭硝子公司製之EXCESTAR S2410、S2420或S3430等。
進一步，於本發明之黏著劑組成物亦可含有其他 已知的添加劑，例如可因應使用的用途適宜添加著色劑、顏料等粉體、染料、界面活性劑、塑化劑、黏著性賦予劑、表面潤滑劑、流平劑、軟化劑、抗氧化劑、抗老化劑、光安定劑、紫外線吸收劑、聚合抑制劑、無機或有機的填充劑、金屬粉、粒子狀、箔狀物等。又，在可控制的範圍內亦可採用添加還原劑的氧化還原系。
透過前述黏著劑組成物來形成黏著劑層，但在黏 著劑層的形成之際，較佳係與調整交聯劑整體的添加量一起，充分考慮交聯處理溫度及交聯處理時間的影響。
因使用之交聯劑不同能夠調整交聯處理溫度及交聯處理時間。交聯處理溫度係以170℃以下為佳。
又，如此的交聯處理亦能夠在黏著劑層之乾燥步驟時的溫度下進行，亦可在乾燥步驟後另外設交聯處理步驟來進行。
又，關於交聯處理時間，可考慮生產性及作業性來設定，通常係0.2~20分鐘左右，以0.5~10分鐘左右為佳。
本發明的附黏著劑層之偏光薄膜係，在偏光薄膜的至少單面，透過前述黏著劑組成物經形成有黏著劑層者。
作為形成黏著劑層的方法，例如，藉由將前述黏著劑組成物塗佈於經剝離處理的隔板等，在乾燥除去聚合溶劑等來形成黏著劑層之後轉移至偏光薄膜的方法、或者在偏光薄膜塗佈前述黏著劑組成物，乾燥除去聚合溶劑等來將黏著劑層形成在偏光薄膜的方法等來製作。再者，在 黏著劑的塗佈之際，亦可適宜地新添加聚合溶劑以外的一種以上的溶劑。
就經剝離處理的隔板而言，較佳使用矽氧烷剝離 襯墊(release liner)。在這樣的襯墊上塗佈本發明的接著劑組成物，在使之乾燥來形成黏著劑層的步驟中，作為使黏著劑乾燥的方法而言，能因應目的採用適宜、適切的方法。 較佳係使用過熱乾燥上述塗佈膜的方法。加熱乾燥溫度，較佳係40℃~200℃，更佳係50℃~180℃，特佳係70℃~170℃。藉由令加熱溫度為上述的範圍可獲得具有優異黏著特性的黏著劑。
乾燥時間能採用適宜、適切的時間。上述乾燥時 間較佳係5秒~20分，更佳係5秒~10分，特佳係10秒~5分。
又，在偏光薄膜的表面，或可形成錨定層、或在 經施以電暈處理、電漿處理等各種易接著處理後形成黏著劑層。又，亦可在黏著劑層的表面進行易接著處理。
就黏著劑層的形成方法而言，可使用各種方法。 具體而言，例如可舉透過輥塗法、接觸上膠輥塗佈法、凹版塗佈法、逆輥塗佈法、滾動刷塗法、噴塗法、浸漬輥塗佈法、棒塗法、刮刀塗佈法、氣動刮刀塗法、簾塗佈法、唇嘴塗佈法、鑄模塗佈機等之押出塗佈法等方法。
黏著劑層的厚度，未被特別限制，例如係 1~100μm左右。以2~50μm為佳，較佳係2~40μm，更佳係5~35μm。
當前述黏著劑層曝露時，至供至實際使用亦可利 用經剝離處理之片材(隔板)保護黏著劑層。
作為隔板的構成材料，例如可舉：聚乙烯、聚丙 烯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚酯薄膜等塑料薄膜、紙、布、不織布等多孔材料、網狀織物(net)、發泡片材、金屬箔，以及此等之積層體等適宜的薄葉體等，惟從表面平滑性優異之點來看，適宜地使用塑料薄膜。
作為該塑料薄膜，係能夠保護前述黏著劑層的薄 膜即可未被特別限定，例如可舉：聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、聚丁烯薄膜、聚丁二烯薄膜、聚甲基戊烯薄膜、聚氯乙烯薄膜、氯乙烯共聚物薄膜、聚對苯二甲酸乙二酯薄膜、聚對苯二甲酸丁二酯薄膜、聚胺甲酸乙酯薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物薄膜等。
前述隔板的厚度通常係5~200μm，較佳係 5~100μm左右。在前述隔板因應需要，亦可進行由矽氧烷系、氟系、長鏈烷基系或脂肪酸醯胺系之離型劑、氧化矽粉等所致之離型及防污處理，或塗佈型、揉合型、蒸著型等抗靜電處理。特別係，透過在前述隔板表面適宜地進行矽氧烷處理、長鏈烷基處理、氟處理等剝離處理，能夠更加提高自前述黏著劑層的剝離性。
再者，於上述附黏著劑層之偏光薄膜的製作之際 使用之，經剝離處理的片材，能夠逕作為附黏著劑層之偏光薄膜的隔板使用，能夠進行步驟面上的簡略化。
根據本發明之附黏著劑層之偏光薄膜，係至少具 有偏光薄膜與前述記載之黏著劑層者，偏光薄膜一般係使 用在偏光件的單面或兩面具有透明保護薄膜者。特別係，根據本發明之黏著劑組成物，作為在偏光件之單面或兩面具有丙烯酸系或環烯烴系透明保護薄膜之丙烯酸系或環烯烴系偏光薄膜用係有用的。
偏光件未被特別限定，可使用各種類者。就偏光 件而言，例如可舉：經使碘或二色性染料之二色性物質吸附於聚乙烯醇系薄膜、部分縮甲醛化(formalization)聚乙烯醇系薄膜、乙烯‧乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化薄膜等親水性高分子薄膜並經單軸拉伸者；聚乙烯醇的脫水處理物或聚氯乙烯的脫鹽酸處理物等多烯系配向薄膜等。此等之中，由聚乙烯醇系薄膜與碘等二色性物質構成之偏光件為適宜的。此等偏光件的厚度未被特別限制，惟一般係80μm左右以下。
經以碘染色並單軸拉伸之聚乙烯醇系薄膜的偏 光件，例如，可藉由將聚乙烯醇浸漬於碘的水溶液來染色，並且拉伸至原始長度3~7倍來作成。因應需要亦可浸漬於碘化鉀等的水溶液(亦可包含硼酸及硫酸鋅、氯化鋅等)。進一步因應需要，亦可在染色前亦可將聚乙烯醇系薄膜浸漬於水中來進行水洗。透過水洗聚乙烯醇系薄膜，在能夠洗淨聚乙烯醇系薄膜表面的髒污及抗結塊劑之外，透過使聚乙烯醇系薄膜膨潤亦有防止染色不均等不均勻之效果。拉伸係可在經以碘染色後進行，亦可一邊染色一邊進行拉伸，或者亦可在拉伸之後再以碘來染色。在硼酸或碘化鉀等水溶液或水浴中亦可進行拉伸。
又，作為偏光件可使用厚度為10μm以下的薄型偏光件。從薄型化的觀點來說，該厚度係以1~7μm為佳。這樣的薄型的偏光件，厚度不均少且可見度優異，又，因為尺寸變化少的緣故而耐久性優異，進一步作為偏光薄膜的厚度亦能夠圖謀薄型化之點而為佳。
作為薄型的偏光件，代表性地，可舉記載於日本特開昭51-069644號公報或日本特開2000-338329號公報、WO2010/100917號說明書、PCT/JP2010/001460的說明書，或者日本特願2010-269002號說明書或日本特願2010-263692號說明書的薄型偏光膜。此等薄型偏光膜，可藉由包含將聚乙烯醇系樹脂(以下，亦稱PVA系樹脂)層與拉伸用樹脂基材在積層體的狀態下予以拉伸之步驟與染色之步驟的製法來獲得。此製法的話，即便PVA系樹脂層薄，藉由被支持在拉伸用樹脂基材而能夠進行沒有因拉伸所致之斷裂等不良的拉伸。
就前述薄型偏光膜而言，在包含在積層體的狀態下進行拉伸之步驟與染色之步驟的製法中，在可高倍率地拉伸並可使偏光性能提升之點，宜為透過包含如有記載在WO2010/100917號說明書、PCT/JP2010/001460之說明書，或日本特願2010-269002號說明書及特願2010-263692號說明書之，在硼酸水溶液中進行拉伸之步驟的製法所能夠獲得者，特佳係藉由包含有記載在日本特願2010-269002號說明書及日本特願2010-263692號說明書之，在硼酸水溶液中進行拉伸之前進行輔助性地空中拉伸之步驟的製法所能夠 獲得者。
記載於上述之PCT/JP2010/001460說明書之薄型 高機能偏光膜，係由在樹脂基材一體性地被製膜之，經配向有二色性物質之PVA系樹脂構成之厚度7μm以下的薄型高機能偏光膜，具有單體穿透率為42.0%以上及偏光度為99.95%以上之光學特性。
上述薄型高機能偏光膜，係可藉由在具有至少 20μm之厚度的樹脂基材，藉由PVA系樹脂的塗佈及乾燥來生成PVA系樹脂層，將所生成之PVA系樹脂層浸漬於二色性物質的染色液，使二色性物質吸附於PVA系樹脂層，再在硼酸水溶液中將經吸附有二色性物質的PVA系樹脂層，與樹脂基材一體地以使得總拉伸倍率成為原始長度的5倍以上的方式來拉伸，而製造。
又，製造包含經配向有二色性物質之薄型高機能 偏光膜的積層體薄膜的方法，藉由包含下述步驟，而能夠製造上述薄型高機能偏光膜：生成積層體薄膜的步驟，該積層體薄膜包含具有至少20μm厚度的樹脂基材，與藉由在樹脂基材的單面塗佈及乾燥包含PVA系樹脂之水溶液所形成的PVA系樹脂層；使二色性物質吸附於包含於積層體薄膜之PVA系樹脂層的步驟，係藉由將包含樹脂基材與經形成在樹脂基材之單面之PVA系樹脂層的前述積層體薄膜，浸漬於包含二色性物質的染色液中；拉伸步驟，其係將包含經使二色性物質吸附的PVA系樹脂層的前述積層體薄膜，在硼酸水溶液中，以使得總拉伸倍率成為原始長度之5 倍以上的方式來進行拉伸；以及，製造積層體薄膜的步驟，該積層體薄膜係藉由經使吸附有二色性物質之PVA系樹脂層係與樹脂基材一體地被拉伸，而在樹脂基材的單面製膜有，由經配向有二色性物質之PVA系樹脂層構成之厚度為7μm以下、具有單體穿透率為42.0%以上且偏光度為99.95%以上之光學特性的薄型高機能偏光膜。
在本發明來說，如上述般，在上述附黏著劑層之 偏光薄膜中，就厚度為10μm以下之偏光件來說，係由經配向有二色性物質之PVA系樹脂構成之連續卷狀(continuous web)的偏光膜，可使用藉由積層體(其包含經製膜在熱可塑性樹脂基材的聚乙烯醇系樹脂層)係以由空中輔助拉伸與硼酸水中拉伸構成之2段拉伸步驟來拉伸所獲得者。作為前述熱可塑性樹脂基材，宜為非晶形酯系熱可塑性樹脂基材或結晶性酯系熱可塑性樹脂基材。
上述日本特願2010-269002號說明書或日本特願 2010-263692號說明書的薄型偏光膜係由經配向有二色性物質之PVA系樹脂構成的連續卷狀的偏光膜，係藉由積層體(其包含經製膜在非晶形酯系熱可塑性樹脂基材之PVA系樹脂層)係以由空中輔助拉伸與硼酸水中拉伸構成之2段拉伸步驟所拉伸，而作成10μm以下之厚度者。這樣的薄型偏光膜，當令單體穿透率為T、偏光度為P時，以作成具有満足P>-(100.929T-42.4-1)×100(惟，T<42.3)，以及P≧99.9(惟，T≧42.3)之條件之光學特性者為佳。
具體來說，前述薄型偏光膜係可藉由包含下述步 驟之薄型偏光膜的製造方法來製造：生成拉伸中間產物之步驟，其係藉由對經製膜在連續卷狀之非晶形酯系熱可塑性樹脂基材的PVA系樹脂層進行空中高溫拉伸，而生成由被配向之PVA系樹脂層構成之拉伸中間產物；生成著色中間產物之步驟，藉由對拉伸中間產物進行二色性物質的吸附，來生成由經使配向有二色性物質(宜為碘或者碘與有機染料的混合物)之PVA系樹脂層構成的著色中間產物；以及，生成偏光膜的步驟，其係藉由對著色中間產物進行硼酸水中拉伸，而生成由經使配向有二色性物質之PVA系樹脂層構成之厚度為10μm以下的偏光膜。
在此製造方法中，以使得藉由空中高溫拉伸與硼 酸水中拉伸進行之PVA系樹脂層(其經製膜在非晶形酯系熱可塑性樹脂基材)的總拉伸倍率係5倍以上為理想的。用於硼酸水中拉伸之硼酸水溶液的液溫可令為60℃以上。在硼酸水溶液中拉伸著色中間產物之前，宜對著色中間產物施以不溶解化處理，在當下，宜藉由將前述著色中間產物浸漬在液溫不超過40℃的硼酸水溶液來進行。上述非晶形酯系熱可塑性樹脂基材係可令為非晶形聚對苯二甲酸乙二酯(其包含經使共聚合有間苯二甲酸之共聚聚對苯二甲酸乙二酯、經使共聚合有環己烷二甲醇之共聚聚對苯二甲酸乙二酯或其他之共聚聚對苯二甲酸乙二酯)，以由透明樹脂構成者為佳，其厚度可令為所製膜之PVA系樹脂層之厚度的7倍以上。又，空中高溫拉伸的拉伸倍率宜為3.5倍以下，空中高溫拉伸之拉伸溫度宜為PVA系樹脂的玻璃轉移溫度以 上，具體來說95℃~150℃的範圍。當以自由端單軸拉伸來進行空中高溫拉伸時，經製膜在非晶形酯系熱可塑性樹脂基材之PVA系樹脂層的總拉伸倍率宜為5倍以上且7.5倍以下。又，當以固定端單軸拉伸來進行空中高溫拉伸時，經製膜在非晶形酯系熱可塑性樹脂基材之PVA系樹脂層的總拉伸倍率宜為5倍以上且8.5倍以下。
更具體地說，可藉由下面的方法來製造薄型偏光膜。
製作經使共聚合有6mol%間苯二甲酸之間苯二甲酸共聚聚對苯二甲酸乙二酯(非晶形PET)之連續卷狀的基材。非晶形PET的玻璃轉移溫度係75℃。如以下般製作由連續卷狀之非晶形PET基材與聚乙烯醇(PVA)層構成的積層體。附帶一提，PVA的玻璃轉移溫度係80℃。
準備200μm厚的非晶形PET基材，與經將聚合度1000以上、皂化度99%以上之PVA粉末溶解於水所成之4~5%濃度的PVA水溶液。其次，在200μm厚的非晶形PET基材塗佈PVA水溶液，以50~60℃的溫度進行乾燥，獲得在非晶形PET基材經製膜有7μm厚之PVA層的積層體。
將包含7μm厚之PVA層的積層體，經由以下步驟(其包含空中輔助拉伸及硼酸水中拉伸之2段拉伸步驟)，製造3μm厚的薄型高機能偏光膜。藉由第1段的空中輔助拉伸步驟，將含7μm厚之PVA層之積層體與非晶形PET基材一體地進行拉伸，而生成含5μm厚之PVA層的拉伸積層體。具體來說，此拉伸積層體係將含7μm厚之PVA層的積層體放上經配備在被設定為130℃之拉伸溫度環境之烘箱中的拉伸裝 置，以使拉伸倍率成為1.8倍的方式進行自由端單軸地拉伸所得者。藉由此拉伸處理，使包含於拉伸積層體的PVA層變化為PVA分子被配向之5μm厚之PVA層。
其次，藉由染色步驟來生成使碘經吸附於PVA分 子被配向之5μm厚的PVA層的著色積層體。具體來說，此著色積層體，係藉由將拉伸積層體，以使得構成最終所生成之高機能偏光膜之PVA層的單體穿透率成為40~44%的任意時間，浸漬於液溫30℃之包含碘及碘化鉀之染色液中，經使碘吸附於包含於拉伸積層體之PVA層者。在本步驟來說，染色液係令水為溶劑、令碘濃度為0.12~0.30重量%的範圍內且令碘化鉀濃度為0.7~2.1重量%的範圍內。碘與碘化鉀之濃度的比係1比7。附帶一提，為了將碘溶解於水，碘化鉀係必須的。更詳細地說，藉由將拉伸積層體浸漬在碘濃度0.30重量%、碘化鉀濃度2.1重量%的染色液中60秒，來生成經使碘吸附於PVA分子被配向之5μm厚之PVA層的著色積層體。
進一步，藉由第2段之硼酸水中拉伸步驟，將著 色積層體與非晶形PET基材一體地進一步進行拉伸，來生成含3μm厚之構成高機能偏光膜之PVA層的光學薄膜積層體。具體來說，此光學薄膜積層體，係將著色積層體放上經配備在處理裝置(其被設定在包含硼酸與碘化鉀之液溫範圍60~85℃的硼酸水溶液中)中的拉伸裝置，以使得拉伸倍率成為3.3倍的方式自由端單軸地進行拉伸而成者。更詳細地，硼酸水溶液的液溫係65℃。除此之外，相對於水100 重量份令硼酸含量為4重量份，而相對於水100重量份令碘化鉀含量為5重量份。本步驟中，將經調整碘吸附量之著色積層體，首先浸漬於硼酸水溶液5~10秒。此後，將該著色積層體逕通過配備在處理裝置的拉伸裝置之周速相異之複數組的輥筒間，費時30~90秒以使得拉伸倍率成為3.3倍的方式自由端單軸地進行拉伸。藉由此拉伸處理，使得包含於著色積層體的PVA層，轉變為被吸附之碘以聚碘離子錯合物的形式經單一方向高度配向的3μm厚的PVA層。此PVA層係構成光學薄膜積層體的高機能偏光膜。
雖然非係在光學薄膜積層體的製造中所必須的步驟，宜透過洗淨步驟，將光學薄膜積層體自硼酸水溶液取出，以碘化鉀水溶液來洗淨附著在經製膜在非晶形PET基材之3μm厚的PVA層表面的硼酸。此後，將經洗淨之光學薄膜積層體藉著由60℃的溫風所行之乾燥步驟進行乾燥。再者，洗淨步驟係用以消除硼酸析出等外觀不良的步驟。
同樣地，雖然並非係在光學薄膜積層體的製造中所必須的步驟，但可藉由貼合及/或轉移步驟，一邊在經製膜在非晶形PET基材之3μm厚之PVA層的表面塗佈接著劑，並在貼合80μm厚的三醋酸纖維素膜之後，剝離非晶形PET基材，將3μm厚之PVA層轉移至80μm厚的三醋酸纖維素膜。
[其他的步驟]
上述薄型偏光膜的製造方法，在上述步驟以外，可含有其他的步驟。就其他的步驟而言，例如可舉：不溶解化步驟、交聯步驟、乾燥(含水率的調節)步驟等。其他的步驟， 能在任意適切的時機進行。
上述不溶解化步驟，代表性來說，係藉由使PVA系樹脂層浸漬於硼酸水溶液中來進行。藉由施行不溶解化處理，可對PVA系樹脂層賦予耐水性。該硼酸水溶液的濃度，相對於水100重量份，宜為係1重量份~4重量份。不溶解化浴(硼酸水溶液)的液溫較佳係20℃~50℃。較佳地，不溶解化步驟係在積層體製作後，在染色步驟及水中拉伸步驟之前進行。
上述交聯步驟，代表性地，係藉由使PVA系樹脂層浸漬於硼酸水溶液中來進行。藉由施行交聯處理，可對PVA系樹脂層賦予耐水性。該硼酸水溶液的濃度，相對於水100重量份，宜為1重量份~4重量份。又，當在上述染色步驟後進行交聯步驟時，進一步以摻混碘化物為佳。藉由摻混碘化物，可抑制經吸附於PVA系樹脂層之碘的溶離。碘化物的摻混量，相對於水100重量份，較佳係1重量份~5重量份。碘化物的具體例係如上述。交聯浴(硼酸水溶液)的液溫較佳係20℃~50℃。較佳地，交聯步驟係在上述第2之硼酸水中拉伸步驟之前進行。在較佳的實施形態而言，係以染色步驟、交聯步驟及第2之硼酸水中拉伸步驟依此順序進行。
如前述，依據本發明的黏著劑組成物，作為在偏光件之單面或兩面具有丙烯酸系或環烯烴系透明保護薄膜之丙烯酸系或環烯烴系偏光薄膜用係有用的。特別係，就偏光薄膜的構成而言，當在積層黏著劑層之側具有丙烯酸系或環烯烴系透明保護薄膜時(偏光件-丙烯酸系或環烯烴 系透明保護薄膜-黏著劑層)，由於光學特性良好而為佳。就丙烯酸系透明保護薄膜而言，例如可舉：(甲基)丙烯酸系、丙烯酸胺甲酸乙酯系的熱硬化性樹脂或紫外線硬化型樹脂，而作為環烯烴系透明保護薄膜可舉：降烯系樹脂等環狀聚烯烴樹脂。另一方面，在偏光件之，與丙烯酸系或環烯烴系透明保護薄膜係相反側的面，亦可積層丙烯酸系或環烯烴系透明保護薄膜以外的透明保護薄膜，亦可不積層透明保護薄膜(PVA片保護型)。就這樣的PVA片保護型而言，當在不具有透明保護薄膜之偏光件面側直接積層黏著劑層時，可降低透明保護薄膜份的厚度，對製品的薄型化以及成本降低係有效的。在積層丙烯酸系或環烯烴系透明保護薄膜以外之透明保護薄膜的情形下，作為構成被積層之透明保護薄膜之材料，例如可使用在透明性、機械強度、熱安定性、水分阻絕性、等向性等優異的熱可塑性樹脂。 就這樣的熱可塑性樹脂的具體例，可舉：三醋酸纖維素等纖維素樹脂、聚酯樹脂、聚醚碸樹脂、聚碸樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚烯烴樹脂、(甲基)丙烯酸樹脂、環狀聚烯烴樹脂(降烯系樹脂)、聚芳酯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚乙烯醇樹脂、(甲基)丙烯酸系、胺甲酸乙酯系、丙烯酸胺甲酸乙酯系、環氧系、矽氧烷系等熱硬化性樹脂或紫外線硬化型樹脂以及此等的混合物。在透明保護薄膜中亦可含有1種以上任意之適切的添加劑。就添加劑而言，例如可舉：紫外線吸收劑、抗氧化劑、潤滑劑、塑化劑、離型劑、抗著色劑、阻燃劑、成核劑、抗靜電劑、 顏料、著色劑等。透明保護薄膜中之上述熱可塑性樹脂的含量宜為50~100重量%，較佳係50~99重量%，更佳係60~98重量%，特佳係70~97重量%。當透明保護薄膜中之上述熱可塑性樹脂的含量為50重量%以下時，熱可塑性樹脂有無法充分表現本身具有的高透明性等之虞。
就偏光件與透明保護薄膜的接著處理，使用接著 劑。就接著劑而言，可例示異氰酸酯系接著劑、聚乙烯醇系接著劑、明膠系接著劑、乙烯基系乳膠系、水系聚酯等。 前述接著劑，通常，係作為由水溶液構成的接著劑來使用，通常含有0.5~60重量%的固體成分。除上述外，作為偏光件與透明保護薄膜之接著劑，可舉：紫外硬化型接著劑、電子束硬化型接著劑等。電子束硬化型偏光薄膜用接著劑，係對上述各種透明保護薄膜顯示適宜的接著性。又，在本發明使用的接著劑而言，可使之含有金屬化合物填料。
又，前述偏光薄膜能夠與其他光學薄膜積層。就 其他的光學薄膜而言，例如可舉：反射板或反穿透板、相位差板(包含1/2或1/4等波長板)、視覺補償薄膜、輝度提升薄膜(luminance improving film)等有使用於液晶顯示裝置等之形成之將成為光學層者。此等在實際使用之際可使用1層或2層以上，積層在前述偏光薄膜。
在偏光薄膜經積層有前述光學層的光學薄膜，可 在液晶顯示裝置等製造過程中亦能以依次個別地積層的方式來形成，但預先積層來作成光學薄膜者，有在品質的安定性及組裝作業等優異而提升液晶顯示裝置等製造步驟的 優點。就積層而言能使用黏著層等適宜的接著方法。在前述偏光薄膜與其他光學層接著之際，此等的光學軸係可因應作為目的之相位差特性等作成適宜的配置角度。
本發明之附黏著劑層之偏光薄膜可較佳使用於 液晶顯示裝置等各種影像顯示裝置的形成等。液晶顯示裝置的形成，能夠準據習知方式來進行。即，液晶顯示裝置一般而言係藉由適宜地組裝液晶胞等顯示面板與附黏著劑層之偏光薄膜，及因應需要之照明系統等構成部件，並組入驅動電路等來形成，但就本發明而言，除使用依據本發明之附黏著劑層之偏光薄膜之點外無特別限定，可準據習知方式。就液晶胞來說，能夠使用，例如TN型或STN型、π型、VA型、IPS型等任意種類等任意的類型者。
可形成在液晶胞等顯示面板的單側或兩側經配 置有附黏著劑層之偏光薄膜的液晶顯示裝置，或在照明系統使用有背光或反射板者等適宜的液晶顯示裝置。該情形下，依據本發明之附黏著劑層之偏光薄膜係可設置在液晶胞等顯示面板的單側或兩側。當在兩側設光學薄膜時，該等可係相同者亦可為相異者。進一步，在液晶顯示裝置形成之際，例如可將擴散板、抗眩光層、抗反射膜、保護板、稜鏡陣列、透鏡陣列片、光擴散板、背光等適宜的部件在適宜的位置配置1層或2層以上。
實施例
在以下，藉由實施例具體地說明本發明，但本發明並非被此等實施例所限定者。再者，各例中的份以及% 任一者均以重量為基準。
<含羥基之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之重量平均分子量的測定>
含羥基之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)的重量平均分子量係透過GPC(凝膠滲透層析法)來測定。‧分析裝置：Tosoh公司製，HLC-8120GPC‧管柱：Tosoh公司製，G7000HXL+GMHXL+GMHXL‧管柱尺寸：各7.8mmφ×30cm計90cm‧管柱溫度：40℃‧流量：0.8ml/min‧注入量：100μl‧溶離液：四氫呋喃‧檢測器：示差折射計(RI)‧標準樣本：聚苯乙烯
<偏光薄膜(1)的作成>
將厚度80μm的聚乙烯醇薄膜，在速度比相異的輥筒間，一邊在30℃、0.3%濃度的碘溶液中進行染色1分鐘，並拉伸至3倍。其後，一邊浸漬在60℃，含4%濃度之硼酸、10%濃度之碘化鉀的水溶液中0.5分鐘，一邊以使得總拉伸倍率成為6倍的方式來進行拉伸。其次，透過浸漬在30℃、包含1.5%濃度之碘化鉀的水溶液中10秒來洗淨之後，以50℃進行乾燥4分鐘，獲得厚度20μm的偏光件。在該偏光件之積層黏著劑層之側，貼合經皂化處理之40μm的丙烯酸樹脂薄膜，在相反側貼合經皂化處理之厚度40μm的三醋酸纖維素膜，作成丙烯酸系偏光薄膜。以下，將此稱為通常偏光薄膜(1)。
<偏光薄膜(2)的作成>
為製作薄型偏光膜，首先，將在非晶形PET基材經製膜 有9μm厚的PVA層的積層體藉由拉伸溫度130℃的空中輔助拉伸來生成拉伸積層體，其次，藉由將拉伸積層體染色來生成著色積層體，進一步將著色積層體藉由拉伸溫度65度的硼酸水中拉伸，以使得總拉伸倍率成為5.94倍的方式來生成包含經與非晶形PET基材一體地受到拉伸之4μm厚的PVA層的光學薄膜積層體。藉由這樣的2段拉伸，能夠生成包含構成高機能偏光膜之厚度4μm的PVA層之光學薄膜積層體，其中，該高機能偏光膜係經製膜在非晶形PET基材之PVA層的PVA分子被高度地配向，且藉由染色所吸附之碘以聚碘離子錯合物的形式在單一方向上被高度地配向者。進一步，一邊在該光學薄膜積層體之偏光膜的表面塗佈聚乙烯醇系接著劑，並在經貼合經皂化處理之40μm厚的丙烯酸樹脂薄膜之後，剝離非晶形PET基材，來製作使用有薄型偏光膜的偏光薄膜。以下，將此稱為薄型偏光薄膜(2)。
<偏光薄膜(3)的作成>
為製作薄型偏光膜，首先，將在非晶形PET基材經製膜有9μm厚的PVA層的積層體藉由拉伸溫度130℃的空中輔助拉伸來生成拉伸積層體，其次，藉由染色拉伸積層體來生成著色積層體，進一步，將著色積層體藉由拉伸溫度65度之硼酸水中拉伸，以使得總拉伸倍率成為5.94倍的方式來生成包含經與非晶形PET基材一體地受到拉伸之4μm厚之PVA層的光學薄膜積層體。藉由這樣的2段拉伸，可生成包含構成高機能偏光膜之厚度4μm的PVA層的光學薄膜積層體，其中，該高機能偏光膜係經製膜在非晶形PET基材之 PVA層的PVA分子被高度地配向，且藉由染色所吸附之碘以聚碘離子錯合物的形式在單一方向上被高度地配向者。進一步，一邊在該光學薄膜積層體之偏光膜的表面塗佈聚乙烯醇系接著劑，在經貼合經皂化處理之40μm厚的三醋酸纖維素膜之後，剝離非晶形PET基材之後，在另一單面藉由聚乙烯醇系接著劑分別地貼合厚度33μm之降烯系薄膜，來製作經使用有薄型偏光膜的偏光薄膜。以下，將此稱為薄型偏光薄膜(3)。
製造例1 <含羥基之(甲基)丙烯酸系聚合物(A-1)的調製>
在備有冷却管、氮導入管、溫度計及攪拌裝置的反應容器中，將丙烯酸丁酯97份、丙烯酸4-羥丁酯(HBA)3份，以及作為起始劑相對於單體(固體成分)100份為1份的AIBN，與乙酸乙酯一起添加，在氮氣氣流下、60℃使反應7小時後，在該反應液中添加乙酸乙酯，獲得含有重量平均分子量160萬之含羥基之(甲基)丙烯酸系聚合物(A-1)之溶液(固體成分濃度30重量%)。
製造例2 <含羥基之(甲基)丙烯酸系聚合物(A-2)的調製>
除了使用含有丙烯酸丁酯97份、丙烯酸2-羥乙酯(HEA)3份之單體混合物作為在製造例1中的單體混合物以外，與製造例1相同地進行，調製重量平均分子量170萬之含羥基之(甲基)丙烯酸系聚合物(A-2)的溶液。
製造例3 <含羥基之(甲基)丙烯酸系聚合物(A-3)的調製>
除了使用含有丙烯酸丁酯99份、丙烯酸4-羥丁酯1份之單體混合物作為在製造例1中之單體混合物以外，與製造例1相同地進行，調製重量平均分子量165萬之含羥基之(甲基)丙烯酸系聚合物(A-3)的溶液。
製造例4 <含羥基之(甲基)丙烯酸系聚合物(A-4)的調製>
除使用含有丙烯酸丁酯95份、丙烯酸4-羥丁酯5份之單體混合物作為在製造例1中之單體混合物以外，係與製造例1相同地進行，來調製重量平均分子量170萬之含羥基之(甲基)丙烯酸系聚合物(A-4)的溶液。
製造例5 <含羥基之(甲基)丙烯酸系聚合物(A-5)的調製>
除使用含有丙烯酸丁酯93份、丙烯酸4-羥丁酯7份之單體混合物作為製造例1中之單體混合物以外，係與製造例1相同地進行，來調製重量平均分子量170萬之含羥基之(甲基)丙烯酸系聚合物(A-5)的溶液。
製造例6 <含羥基之(甲基)丙烯酸系聚合物(A-6)的調製>
除使用含有丙烯酸丁酯90份、丙烯酸4-羥丁酯10份之單體混合物作為在製造例1中之單體混合物以外，係與製造例1相同地進行，來調製重量平均分子量160萬之含羥基之(甲基)丙烯酸系聚合物(A-6)的溶液。
製造例7 <不含羥基之(甲基)丙烯酸系聚合物(A-7)的調製>
除了使用丙烯酸丁酯100份作為製造例1中之單體混合物以外，與製造例1相同地進行，來調製重量平均分子量170萬之不含羥基之(甲基)丙烯酸系聚合物(A-7)的溶液。
實施例1 (黏著劑組成物的調製)
在製造例1所獲得之含羥基之(甲基)丙烯酸系聚合物溶液的固體成分每100份，摻混0.1份之三羥甲基丙烷伸茬基二異氰酸酯(三井化學(股)製：TAKENATE D110N)、二苯甲醯基過氧化物0.3份，與0.1份之γ-環氧丙氧基丙基甲氧基矽烷(glycidoxy propyl methoxy silane)(信越化學工業(股)製：KBM-403)，與乙基甲基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺1份，來獲得丙烯酸系黏著劑溶液。
(附黏著劑層之光學薄膜的製作)
在為隔板膜之經以矽氧烷系剝離劑所處理的聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(基材)的表面，利用噴注式塗佈機(fountain coater)均勻地塗敷前述丙烯酸系黏著劑溶液，藉由以155℃之空氣循環式恆溫烘箱來乾燥2分鐘，在隔板膜的表面形成厚度20μm的黏著劑層。其次，將經形成有前述黏著劑層的隔板膜轉貼至通常偏光薄膜(1)之丙烯酸樹脂薄膜側，來製作附黏著劑層之偏光薄膜(附隔板膜)。
實施例2~13、比較例1~7
除了對實施例1中，在調製黏著劑組成物時將各成分的使用量改成如表1所示、在製作附黏著劑層之偏光薄膜時將 偏光薄膜的種類改成如表1所示、為薄型偏光薄膜(2)的情形下將形成有黏著劑層的隔板膜轉貼至經剝離非晶形PET基材之PVA層側、以及為薄型偏光薄膜(3)的情形下將經形成黏著劑層的隔板膜轉貼至降烯系薄膜側以外，係與實施例1相同地進行來製作附黏著劑層之偏光薄膜。
針對在上述實施例及比較例所獲得之附黏著劑層之偏光薄膜進行以下的評價。將評價結果顯示於表1。
<表面電阻值：初期電阻值>
經剝下附黏著劑層之偏光薄膜的隔板膜之後，使用三菱化學分析技術公司(Mitsubishi Chemical Analytech Co.,Ltd.)製MCP-HT450來測定黏著劑表面的表面電阻值(Ω/□)。
<靜電不均的評價>
將所製作之附黏著劑層之偏光薄膜切割為100mm×100mm的大小，剝下隔板膜之後，貼上液晶面板。將此面板置於具10000cd之輝度的背光上，藉由使用靜電產生裝置之ESD(SANKI公司製，ESD-8012A)產生5kv的靜電而引起液晶配向紊亂。使用瞬間多點測光檢測器(大塚電子公司製，MCPD-3000)來測定因該配向不良所致之顯示不良的恢復時間(秒)，以下述基準來評價。
◎：顯示不良未達1秒即消失。
○：顯示不良在1秒以上且未達10秒即消失。
×：顯示不良在10秒以上消失。
<表面電阻值：加溼試驗後之電阻值>
將在實施例、比較例所獲得之附黏著劑層之偏光薄膜投入60℃/95%RH的恆溫恆溼機，48小時後取出之後，以60℃乾燥2小時之後剝下隔板膜，使用(股)三菱化學分析技術公司製MCP-HT450來測定黏著劑表面的表面電阻值。
<耐久性>
將在實施例、比較例所獲得之附黏著劑層之偏光薄膜的隔板膜剝下，貼合至無鹼玻璃，進行50℃、5atm、15分鐘的高壓釜處理之後，投入85℃的加熱烘箱及60℃/90%RH的恆溫恆溼機。確認500h後偏光薄膜之剝離的有無，令完全未觀察到剝離者為◎、令目視無法確認程度的剝離為○、令目視可確認之小的剝離為△、令觀察到明顯剝離者為×。
<接著力>
接著力係藉由將樣本透過拉伸試驗機(Autograph SHIMAZU AG-1 1OKN)，測定以剝離角度90°、剝離速度300mm/min來強剝之際的接著力(N/25mm，測定時80m長)來求得。測定係以1次/0.5s之間隔來進行取樣，令其之平均值為測定值。
[表1]
在表1中，離子性化合物(B)中之「B-1」係表示乙基甲基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、「B-2」係表示雙(九氟丁磺醯基)醯亞胺鋰(商品名「EF-N445」、「B-3」係表示乙基甲基吡咯啶鎓雙(九氟丁磺醯基)醯亞胺、「B-4」係 表示辛基甲基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺、「B-5」係表示乙基甲基吡咯啶鎓氯化物、「B-6」係表示過氯酸鋰。
交聯劑(C)中之「C-1」係表示三井化學聚胺甲酸乙酯公司製之異氰酸酯交聯劑(商品名「TAKENATE D110N」，三羥甲基丙烷伸茬基二異氰酸酯)、「C-2」係表示日本油脂公司製之二苯甲醯基過氧化物(Nyper BMT)。
矽烷耦合劑(D)中之「D-1」係表示信越化學工業公司製之KBM403。
聚醚化合物(E)中之「E-1」係表示(商品名「Silyl SAT10」。

Claims (14)

  1. 一種附黏著劑層之丙烯酸系或環烯烴系偏光薄膜，其特徴在於：具有丙烯酸系或環烯烴系偏光薄膜及黏著劑層；前述丙烯酸系或環烯烴系偏光薄膜是在偏光件之單面或兩面具有丙烯酸系或環烯烴系透明保護薄膜者，而前述偏光件的厚度為1~10μm；前述黏著劑層是由含有(甲基)丙烯酸系聚合物(A)、以及具有陰離子成分與陽離子成分之離子性化合物(B)的黏著劑組成物所形成者；前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)是含有含羥基單體作為單體單元的含羥基之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)；前述離子性化合物(B)是乙基甲基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺。
  2. 如請求項1之附黏著劑層之丙烯酸系或環烯烴系偏光薄膜，其中，前述黏著劑組成物中，相對於前述含羥基之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，含有0.001~10重量份之前述離子性化合物(B)。
  3. 如請求項1或2之附黏著劑層之丙烯酸系或環烯烴系偏光薄膜，其中前述含羥基之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)含有含羧基單體作為單體單元。
  4. 如請求項1或2之附黏著劑層之丙烯酸系或環烯烴系偏光薄膜，其中，前述黏著劑組成物中進一步含有交聯劑 (C)。
  5. 如請求項4之附黏著劑層之丙烯酸系或環烯烴系偏光薄膜，其中，前述黏著劑組成物中，相對於前述含羥基之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，含有0.01~20重量份之前述交聯劑(C)。
  6. 如請求項4之附黏著劑層之丙烯酸系或環烯烴系偏光薄膜，其中前述交聯劑(C)係異氰酸酯系化合物及過氧化物之至少1種。
  7. 如請求項1或2之附黏著劑層之丙烯酸系或環烯烴系偏光薄膜，其中，前述黏著劑組成物中，相對於前述含羥基之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，進一步含有0.001~5重量份之矽烷耦合劑(D)。
  8. 如請求項1或2之附黏著劑層之丙烯酸系或環烯烴系偏光薄膜，其中，前述黏著劑組成物中，相對於前述含羥基之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，進一步含有0.001~10重量份聚醚改質矽氧烷(E)。
  9. 如請求項1或2之附黏著劑層之丙烯酸系或環烯烴系偏光薄膜，其中前述含羥基之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)的重量平均分子量係50萬~300萬。
  10. 如請求項1之附黏著劑層之丙烯酸系或環烯烴系偏光薄膜，其中前述黏著劑層係經積層在丙烯酸系或環烯烴系透明保護薄膜側者。
  11. 如請求項1之附黏著劑層之丙烯酸系或環烯烴系偏光薄膜，其中前述丙烯酸系或環烯烴系偏光薄膜係在偏光件 的單面具有丙烯酸系或環烯烴系透明保護薄膜者，在偏光件之另一面具有三醋酸纖維素膜，且前述黏著劑層係經積層在三醋酸纖維素膜側者。
  12. 如請求項1之附黏著劑層之丙烯酸系或環烯烴系偏光薄膜，其中前述丙烯酸系或環烯烴系偏光薄膜係在偏光件的單面具有丙烯酸系或環烯烴系透明保護薄膜者，在偏光件的另一面不具有透明保護薄膜，且前述黏著劑層係經積層在不具有透明保護薄膜的偏光件面側者。
  13. 如請求項1之附黏著劑層之丙烯酸系或環烯烴系偏光薄膜，其中前述丙烯酸系或環烯烴系偏光薄膜與前述黏著劑層之間具有易接著層。
  14. 一種影像顯示裝置，其特徴在於至少使用有1個如請求項1~13中任一項之附黏著劑層之丙烯酸系或環烯烴系偏光薄膜。
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