TWI631879B - 含有金屬氧化物微粒子的膜、轉印薄膜及其製造方法以及積層體及其製造方法 - Google Patents

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Abstract

一種轉印薄膜，其將含有金屬氧化物微粒子的膜作為中折射率膜，其中含有金屬氧化物微粒子的膜形成有不存在金屬氧化物微粒子的膜中央區域，且於膜中央區域的一側形成有存在金屬氧化物微粒子的膜表層區域(a1)、於膜中央區域的相反側形成有存在金屬氧化物微粒子的膜表層區域(a2)，並可獲得防污性、抗反射性、透明性及耐汗性優異，且耐擦傷性優異，干涉條紋得到抑制的積層體。使用該轉印薄膜而可獲得防污性、抗反射性、透明性及耐汗性優異，且耐擦傷性優異，干涉條紋得到抑制的積層體。

Description

含有金屬氧化物微粒子的膜、轉印薄膜及其製造方法以及積層體及其製造方法
本發明是有關於一種含有金屬氧化物微粒子的膜、轉印薄膜及其製造方法以及積層體及其製造方法。
丙烯酸樹脂、聚碳酸酯樹脂等透明樹脂作為工業用資材、建築用資材等資材而得到廣泛使用。尤其，近年來，因其透明性與耐衝擊性，而用作陰極射線管(Cathode-Ray Tube，CRT)、液晶電視機、電漿顯示器等顯示器的前面板等。
近年來，對前面板要求各種功能。作為其要求功能之一，可列舉抗反射功能。
所謂抗反射功能，是指用以減少映在前面板上的室內的螢光燈等的反射光，而使圖像更清晰地顯示的功能。
作為賦予抗反射功能的方法，例如提出有如下的剝離用薄膜，其是將於襯紙上依次積層低折射率層、高折射率層及接著層而成的轉印薄膜以接著層的面接觸剝離用薄膜的表面的方式加以積層後，剝離襯紙，藉此使具有抗反射功能的層積層於表面的剝離用薄膜(參照專利文獻1)。
但是，若污垢附著於抗反射層的表面，則該部位的變色顯著，而導致圖像顯示構件的視認性下降。因此，最近對抗反射層的表面要求污垢防止(防污)功能。
於此種狀況下，例如提出有一種於塑膠薄膜的一面依次積層脫模層、具有防污性的功能性層、抗反射層及接著 層而成的抗反射用轉印薄膜，將該轉印薄膜積層於基材等被轉印物上後剝離脫模層與塑膠薄膜，而獲得於被轉印物的表面依次積層有抗反射層與防污層的積層體(參照專利文獻2)。但是，於該積層體中，若高折射率層與接著層的折射率差大，則存在如下的問題：在高折射率層與接著層的界面上產生反射、觀察到干涉條紋、外觀品質受損。
為了解決該積層體中的問題，例如揭示有如下的技術：於產生界面反射的界面上設置具有中間折射率的底塗層，藉此抑制界面反射，從而抑制干涉條紋的產生(參照專利文獻3)。但是，關於用以將該技術應用於例如上述抗反射用轉印薄膜的具體的方法，並未進行任何揭示。進而，存在此處所記載的底塗層無法充分地抑制干涉條紋的產生的課題。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2004-310135號公報
[專利文獻2]日本專利特開2003-103680號公報
[專利文獻3]日本專利特開2004-345333號公報
本發明的目的在於提供一種可獲得防污性、抗反射性、透明性及耐汗性優異，且耐擦傷性亦優異，干涉條紋得到抑制的積層體的轉印薄膜，以及防污性、抗反射性、透明性及耐汗性優異，且耐擦傷性優異，干涉條紋得到抑制的積層體。
另外，本發明的目的在於提供一種適合於獲得上述轉印薄膜及積層體的含有金屬氧化物微粒子的膜。
本發明是一種含有金屬氧化物微粒子的膜，其形成有不存在金屬氧化物微粒子的膜中央區域，且於膜中央區域的一側形成有存在金屬氧化物微粒子的膜表層區域(a1)、於膜中央區域的另一側形成有存在金屬氧化物微粒子的膜表層區域(a2)(第1發明)。
另外，本發明是一種轉印薄膜，其是於剝離用薄膜的一面依次積層具有折射率(Nx)的低折射率膜、具有折射率(Ny)的高折射率膜及具有折射率(Nz)的中折射率膜而成的轉印薄膜，該些折射率是藉由波長594nm雷射來測定，且滿足下述式(5)，中折射率膜為上述含有金屬氧化物微粒子的膜(第2發明)。
Nx<Nz<Ny (5)
進而，本發明是一種轉印薄膜的製造方法，其是於剝離用薄膜的一面依次積層具有折射率(Nx)的低折射率膜、具有折射率(Ny)的高折射率膜及作為具有折射率(Nz)的中折射率膜的含有金屬氧化物微粒子的膜，該些折射率由波長594nm雷射來測定，且滿足上述式(5)的轉印薄膜的製造方法，於剝離用薄膜的一面積層低折射率膜後積層高折射率膜，繼而於高折射率膜的表面塗佈含有金屬氧化物微粒子的膜用組成物，然後於140℃以下的溫度下使稀釋溶劑乾燥來積層中折射率膜，其中所述含有金屬氧化物微粒子的膜用組成物含有金屬氧化物微粒子及包含揮發 速度為100以下的溶劑20質量%以上的稀釋溶劑(第3發明)。
另外，本發明是一種積層體(A)，其於基材的至少一面直接或經由其他層而積層有上述含有金屬氧化物微粒子的膜(第4發明)。
進而，本發明是一種積層體(B)，其於基材的至少一面直接或經由其他層而依次積層具有折射率(Nz)的中折射率膜、具有折射率(Ny)的高折射率膜及具有折射率(Nx)的低折射率膜，該些折射率由波長594nm雷射來測定，且滿足上述式(5)，中折射率膜為上述含有金屬氧化物微粒子的膜(第5發明)。
另外，本發明是一種上述積層體(A)的製造方法，其於基材的表面基材的表面塗佈含有金屬氧化物微粒子的膜用組成物，，然後於140℃以下的溫度下使該稀釋溶劑乾燥，而積層含有金屬氧化物微粒子的膜，其中所述含有金屬氧化物微粒子的膜用組成物含有金屬氧化物微粒子及包含揮發速度為100以下的溶劑20質量%以上的溶劑，且用以形成含有金屬氧化物微粒子的膜。(第6發明)。
進而，本發明是一種積層體(B)的製造方法，其是於基材的至少一面直接或經由其他層而依次積層具有折射率(Nz)的中折射率膜、具有折射率(Ny)的高折射率膜及具有折射率(Nx)的低折射率膜，該些折射率由波長594nm雷射來測定，且滿足上述式(5)的積層體(B)的製造方法，該積層體(B)的製造方法包括如下步驟：經由 用以形成接著層的塗膜，將基材與轉印薄膜的中折射率膜的面貼合來形成轉印薄膜疊層物；自用以形成接著層的塗膜獲得接著層而形成轉印薄膜積層體；以及將剝離用薄膜自轉印薄膜積層體上剝離而形成積層體(B)(第7發明)。
根據本發明，可獲得表面具有可調整成各種折射率的含有金屬氧化物微粒子的膜，且耐擦傷性優異的積層體(A)。該積層體(A)適合於要求抗反射性的機器的前面板等用途。
另外，根據本發明，可獲得防污性、抗反射性、透明性及耐汗性優異，且耐擦傷性優異，干涉條紋得到抑制的積層體(B)。該積層體(B)適合作為於室外使用的圖像顯示構件，或者指紋、皮脂、粉底等容易附著的行動電話、個人數位助理、筆記型個人電腦等的前面板。
以下對本發明進行詳細說明。
金屬氧化物微粒子
本發明中所使用的金屬氧化物微粒子(以下，稱為「MO微粒子」)是包含於後述的含有MO微粒子的膜中者。
作為MO微粒子，例如可列舉：氧化錫、摻雜有銻的氧化錫(Antimony Tin Oxide，ATO)、氧化銦、摻雜有錫的氧化銦(Indium Tin Oxide，ITO)、氧化鋅、摻雜有鋁的氧化鋅、銻酸鋅以及五氧化銻。
另外，關於MO微粒子，可根據目的而使用藉由水解性矽烷化合物等表面處理劑對粒子表面個別地處理而成者。所謂個別地處理，是指使MO微粒子僅與水解性矽烷化合物等表面處理劑進行反應，且是指於不含有助於酸、鹼等的水解、縮合反應的觸媒以外的化合物的狀態下對MO微粒子的表面進行處理。
作為使MO微粒子的表面與水解性矽烷化合物進行反應時的兩者的混合比率，就積層體的表面的耐擦傷性或抗反射性能的觀點而言，較佳為相對於水解性矽烷化合物與MO微粒子的合計，MO微粒子為20質量%~80質量%。
膜中央區域
於本發明中，如圖1所示，膜中央區域是使作為含有MO微粒子的膜的中央區域的Tb1與Tc1合併而成的區域、使Tb2與Tc2合併而成的區域及使Tbi與Tci合併而成的區域，且是不存在MO微粒子的區域。
再者，Tb1、Tb2、Tbi、Tc1、Tc2及Tci表示自含有MO微粒子的膜的中心至膜表層區域與膜中央區域的界面為止的膜中央區域的厚度。另外，Tbi及Tci分別表示構成第i個膜中央區域的一個區域。
膜表層區域(a1)及膜表層區域(a2)
於本發明中，膜表層區域(a1)及膜表層區域(a2)是形成於膜中央區域的各個面的區域，且是存在MO微粒子的區域。
於膜表層區域(a1)或膜表層區域(a2)中，作為MO 微粒子的填充狀態，有如圖1中的Ta1、Ta2、Td1或Tdi的區域般密集地填充有粒子的狀態、及如圖1中的Tai或Td2的區域般於膜表層區域(a1)或膜表層區域(a2)中具有未填充有粒子的空間的狀態。
另外，Ta1、Ta2、Tai、Td1、Td2及Tdi表示膜表層區域(a1)及膜表層區域(a2)的厚度。另外，Tai及Tdi分別表示構成第i個膜表層區域(a1)及膜表層區域(a2)的一個區域。
含有金屬氧化物微粒子的膜(含有MO微粒子的膜)
含有MO微粒子的膜是形成有膜中央區域，且於膜中央區域的一面形成有膜表層區域(a1)、於膜中央區域的另一面形成有膜表層區域(a2)的含有MO微粒子的膜。
於本發明中，作為含有MO微粒子的膜，就抑制積層體(B)的干涉條紋的觀點而言，較佳為如圖1所示般，膜中央區域的厚度(Tbi及Tci)以及膜表層區域(a1)的厚度(Tai)及膜表層區域(a2)的厚度(Tdi)滿足下述式(1)~式(4)，且於含有MO微粒子的膜的厚度方向剖面中，在厚度方向剖面內相對於含有MO微粒子的膜的膜厚，垂直方向的1200nm的長度中的膜中央區域的長度(Li)的合計長度(L)為240nm以上。
0.1T≦Tbi≦0.4T (1)
Tai=0.5T-Tbi (2)
0.1T≦Tci≦0.4T (3)
Tdi=0.5T-Tci (4)
其中，T為含有MO微粒子的膜的厚度。
再者，關於含有MO微粒子的膜的厚度方向剖面的構造，可使用穿透式電子顯微鏡對隨機地切出積層體(A)或積層體(B)的厚度方向剖面而獲得的剖面進行觀察。
本發明中，於映在隨機地切出積層體(B)的厚度方向剖面而獲得的剖面的穿透式電子顯微鏡相片中的中折射率膜的部位，在厚度方向剖面內相對於含有MO微粒子的膜的膜厚，可算出任意的垂直方向的長度1200nm的位置上的不存在MO微粒子的膜中央區域的合計長度。另外，可測定自含有MO微粒子的膜的中心至膜表層區域(a1)及膜表層區域(a2)與膜中央區域的界面為止的膜中央區域的厚度(Tbi及Tci)、以及膜表層區域(a1)的厚度(Tai)及膜表層區域(a2)的厚度(Tdi)的範圍。
剝離用薄膜
本發明中所使用的剝離用薄膜是於將轉印薄膜積層在後述的基材的表面後被剝離並去除的薄膜，例如可使用活性能量線透過性薄膜。另外，剝離用薄膜可直接形成含有MO微粒子的膜，亦可作為用以形成積層體(A)的基材而使用。
於本發明中，可使用表面具有剝離層的積層薄膜作為剝離用薄膜。
作為剝離用薄膜，就於將含有MO微粒子的膜組成物塗佈在其表面來形成含有MO微粒子的膜組成物的塗膜時，獲得無塌凹(底層露出至塗膜的一部分的現象)等缺 陷的良好的製膜性的觀點而言，較佳為剝離用薄膜或剝離層的表面的臨界表面張力為40mN/m以上的活性能量線透過性薄膜。
另外，作為剝離用薄膜，就於將用以形成低折射率膜的低折射率膜用組成物(以下，稱為「LRM組成物」)塗佈在剝離用薄膜的表面來形成低折射率膜時，獲得無塌凹(底層露出至塗膜的一部分的現象)等缺陷的良好的製膜性的觀點而言，較佳為剝離用薄膜或剝離層的表面的臨界表面張力為40mN/m以上的活性能量線透過性薄膜。
再者，於本發明中，臨界表面張力可藉由Zisman作圖法而算出。即，將表面張力不同的幾種標準液滴加至薄膜的表面並測定標準液與薄膜表面的接觸角(θ)。於將根據所獲得的接觸角(θ)而算出的cosθ值與表面張力的值作為XY座標的圖表上作圖，將連結所獲得的圖(Zisman圖)的直線與由cosθ=1所示的直線的交點處的表面張力的值設為臨界表面張力。
作為剝離用薄膜的具體例，可列舉：聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(以下，稱為「PET薄膜」)、聚碳酸酯薄膜、聚醯胺薄膜、聚醯胺醯亞胺薄膜等合成樹脂薄膜、該些薄膜的複合薄膜狀物或複合片狀物、以及於該些薄膜上積層剝離層而成者。
該些之中，較佳為以PET薄膜、聚萘二甲酸乙二酯(Polyethylene naphthalate，PEN)薄膜、聚對苯二甲酸丁二酯(Polybutylene terephthalate，PBT)薄膜、聚萘二甲 酸丁二酯(Polybutylene naphthalate，PBN)薄膜、聚對苯二甲酸丙二酯(Polytrimethylene terephthalate，PTT)薄膜等為代表的芳香族聚酯薄膜，其中，更佳為PET薄膜及PEN薄膜。
藉由將低折射率膜直接形成於該些薄膜的表面，即便使用含有全氟聚醚基與氮原子的單體(A)(以下，稱為「單體(A)」)的含量少者作為後述的LRM組成物，亦可提高轉印後露出的積層體表面的水接觸角或三油酸甘油酯接觸角。其結果，可向LRM組成物中大量地添加提昇耐擦傷性的成分，從而可使積層體表面的耐擦傷性變得良好。
剝離用薄膜的厚度並無特別限制，就無皺褶、龜裂等的含有MO微粒子的膜的形成或轉印薄膜的製造的容易性的觀點而言，較佳為4μm以上，更佳為12μm以上，進而更佳為30μm以上。另外，剝離用薄膜的厚度就成本或紫外線透過率的觀點而言，較佳為500μm以下，更佳為150μm以下，進而更佳為120μm以下。
於低折射率自剝離用薄膜的表面的剝離性低的情況下，亦可於剝離用薄膜的表面設置剝離層。
作為於剝離用薄膜的表面形成剝離層時的剝離層形成材料，可適宜選擇使用公知的形成剝離層的聚合物或蠟等。
作為剝離層的形成方法，例如可列舉以下方法：藉由凹版印刷法、網版印刷法、平板印刷法等公知的印刷法將使三聚氰胺系、脲系、脲-三聚氰胺系、苯并胍胺系等的樹脂及界面活性劑溶解於有機稀釋溶劑或水而成的塗料塗附 在剝離用薄膜的表面，使其乾燥或硬化來形成剝離層。
剝離層的厚度通常為0.1μm~3μm左右。若剝離層具有適度的厚度，則存在容易自低折射率膜剝離的傾向。反之，只要剝離層不過厚，則存在低折射率膜於轉印前不易自剝離用薄膜上脫離的傾向。
低折射率膜
於本發明中，低折射率膜是形成於後述的轉印薄膜的剝離用薄膜的表面或積層體的表面的層，且是用以使抗反射功能顯現的層。
作為低折射率膜的膜厚，就積層體表面的耐擦傷性及抗反射性能的觀點而言，較佳為10nm以上，更佳為60nm以上。另外，就光學特性的觀點而言，較佳為300nm以下，更佳為110nm以下。
低折射率膜的折射率只要是比積層體中的連接於低折射率膜的下方的膜更低的折射率即可。再者，於本發明中，折射率是藉由波長594nm雷射所測定的折射率。
作為低折射率膜的折射率，就抗反射性能的觀點而言，較佳為1.5以下，更佳為1.45以下，進而更佳為1.4以下。
於本發明中，作為低折射率膜，例如可列舉包含具有含有全氟聚醚基與氮原子的單體(A)單元的聚合物、及無機微粒子的低折射率膜。
作為獲得轉印薄膜時的低折射率膜的形成方法，例如可列舉以下的方法。
首先，將LRM組成物塗附於剝離用薄膜的表面後進行乾燥而形成LRM組成物的塗膜。繼而，使所獲得的LRM組成物的塗膜硬化而獲得低折射率膜。
作為將LRM組成物塗附於剝離用薄膜的表面的方法，例如可列舉：流延法、凹版塗佈法、反向凹版塗佈法、真空狹縫模塗法、輥塗法、棒塗法、噴霧塗佈法、氣動刮刀塗佈法、旋塗法、流塗法、簾塗法、薄膜覆蓋法及浸漬法。
作為使LRM組成物的塗膜硬化的方法，例如於LRM組成物為熱硬化性組成物的情況下，可列舉加熱硬化法，於LRM組成物為活性能量線硬化性組成物的情況下，可列舉活性能量線硬化法。
於LRM組成物為活性能量線硬化性組成物的情況下，作為用於將LRM組成物硬化的活性能量線，例如可列舉電子束、放射線及紫外線。
作為照射紫外線作為活性能量線時的光源，例如可列舉高壓水銀燈、金屬鹵化物燈及螢光紫外線燈。就提昇表面硬化性、提昇步驟通過性而言，較佳為於氮氣或氬氣等惰性氣體環境下進行紫外線照射。作為LRM組成物的塗膜表面的環境的氧濃度，較佳為1,000ppm以下，更佳為500ppm以下，進而更佳為300ppm以下。
另外，作為用以將LRM組成物硬化的活性能量線硬化條件，例如可列舉峰值照度為100mW/cm2~1,200mW/cm2及累計光量為100mJ/cm2~1,200mJ/cm2的硬化 條件。若為該範圍，則抗反射性能與耐擦傷性的平衡變得良好。
於本發明中，當於剝離用薄膜的表面形成低折射率膜後形成後述的高折射率膜時，形成高折射率膜之前的低折射率膜不僅可為使LRM組成物完全硬化而成者，視需要亦可為LRM組成物的一部分進行反應並硬化而成的部分硬化物。
作為LRM組成物，例如可列舉選自熱硬化性LRM組成物及活性能量線硬化性LRM組成物中的至少一種。另外，作為LRM組成物，為了使低折射率膜的折射率變成1.5以下，較佳為含有含氟原子的硬化性單體。
作為LRM組成物的具體例，可列舉下述的單體(A)。
作為單體(A)，例如可列舉：藉由使將二異氰酸酯三聚物化而成的三異氰酸酯(C)(以下，稱為「三異氰酸酯(C)」)與含有活性氫的化合物(D)進行反應而獲得的含有全氟聚醚基與氮原子的單體(A-1)(以下，稱為「單體(A-1)」)。
作為用於獲得三異氰酸酯(C)的二異氰酸酯，例如可列舉：六亞甲基二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯、氫化苯二甲基二異氰酸酯、二環己基甲烷二異氰酸酯等異氰酸酯基鍵結於脂肪族骨架而成的二異氰酸酯，以及甲伸苯基二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、萘二異氰酸酯等異氰酸酯基鍵結於芳香族骨架而成的二異氰酸酯。
作為含有活性氫的化合物(D)，例如可列舉含有羥基等活性氫的化合物。作為含有活性氫的化合物(D)的具體例，可列舉：具有1個活性氫的全氟聚醚(D-1)(以下，稱為「聚醚(D-1)」)、及具有活性氫與碳-碳雙鍵的單體(D-2)(以下，稱為「單體(D-2)」)。
作為聚醚(D-1)，例如可列舉具有全氟聚醚基且於1個分子末端具有1個羥基的化合物。作為聚醚(D-1)的具體例，可列舉下述結構式(2)所示的化合物。
(式中，X為氟原子，Y及Z分別為氟原子或三氟甲基。a為1~16的整數，c為1~5的整數，b、d、e、f及g為0~200的整數，以及h為0~16的整數)。
於結構式(2)中，只要a~h的數值不過大，則存在分子量不會變得過大，對於稀釋溶劑的溶解性變得良好的傾向。另一方面，只要上述數值不過小，則存在積層體的防污性變得良好的傾向。
作為單體(D-2)，例如可列舉(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯及(甲基)丙烯酸2-羥基丁酯。
再者，於本說明書中，「(甲基)丙烯酸酯」是指「丙烯酸酯」或「甲基丙烯酸酯」。另外，「(甲基)丙烯醯基」或「(甲基)丙烯酸」亦具有相同的含義。
作為單體(A)的合成法，例如可藉由使三異氰酸酯(C)的一個異氰酸酯基與聚醚(D-1)進行反應，使剩餘的兩個異氰酸酯基與單體(D-2)進行反應而獲得單體(A)。
上述反應可使三異氰酸酯(C)與聚醚(D-1)及單體(D-2)同時進行反應，亦可依次進行反應。
作為單體(A-1)的具體例，可列舉下述結構式(1)所示的單體。
(式中，W表示全氟聚醚基)。
就撥水性及撥油性良好的觀點而言，單體(A)較佳為由上述結構式(1)所示的單體。
作為單體(A)的其他例，可列舉使同一化合物內具有異氰酸酯基及1個或2個(甲基)丙烯醯氧基的化合物(E)與分子末端具有至少一個活性氫的全氟聚醚(F)進行反應而獲得的單體(A-2)。
作為分子末端具有至少一個活性氫的全氟聚醚(F)，可使用市售品，例如可列舉：Solvay Solexis公司製造的 FLUOROLINK D10H、FLUOROLINK D及FLUOROLINK D4000(均為商品名)等全氟聚醚二醇。
作為同一化合物內具有異氰酸酯基及1個或2個(甲基)丙烯醯氧基的化合物(E)，可使用市售品，例如可列舉：昭和電工(股份)製造的Karenz BEI(1,1-雙(丙烯醯氧基甲基)乙基異氰酸酯)、Karenz AOI(2-丙烯醯氧基乙基異氰酸酯)及Karenz MOI(2-甲基丙烯醯氧基乙基異氰酸酯)(均為商品名)。
作為化合物(A-2)，例如可列舉如下的化合物，其是化合物(E)的異氰酸酯基與化合物(F)的羥基鍵結而獲得的分子內獨立地具有一個全氟聚醚基與一個或兩個(較佳為兩個)乙烯基或者(甲基)丙烯醯氧基的化合物。此處所謂「獨立地」，是指全氟聚醚基與乙烯基或(甲基)丙烯醯氧基未直接鍵結。
作為LRM組成物中所含有的單體(A)的含量，於LRM組成物中的固體成分100質量份中，較佳為10質量份以上，更佳為12質量份以上。另外，單體(A)的含量較佳為50質量份以下，更佳為30質量份以下。若為上述範圍內，則存在積層體的表面的撥水性、撥油性及硬度變得良好的傾向。即，存在積層體所露出的低折射率薄膜表面的水接觸角為90度以上、且三油酸甘油酯接觸角成為55度以上的傾向。此處所謂LRM組成物中的固體成分，是指去除了LRM組成物中的稀釋溶劑的成分。
於本發明中，就積層體的表面的撥水性、撥油性及硬 度變得良好的觀點，以及獲得良好的抗反射性能的觀點而言，較佳為於LRM組成物中含有無機微粒子(B)。作為LRM組成物中的無機微粒子(B)的含量，較佳為25質量份~90質量份。
於本發明中，所謂無機微粒子(B)的「微粒子」，是指平均粒徑為1nm~200nm的粒子。再者，平均粒徑是指藉由粒度分布測定裝置SALD-7100(商品名，島津製作所(股份)製造)所測定的值。
作為無機微粒子(B)的具體例，可列舉：膠體二氧化矽、多孔質二氧化矽、中空二氧化矽、氟化鎂、冰晶石等低折射率微粒子。該些之中，較佳為使用無機微粒子(B)中的折射率為1.5以下的低折射率微粒子。另外，如後述般，就無機微粒子(B)的表面的水解處理可容易地進行的觀點而言，較佳為二氧化矽微粒子，就折射率低，容易使反射率下降的觀點，進而就積層體的表面的撥水性、撥油性變得良好的觀點而言，更佳為中空二氧化矽。
中空二氧化矽的折射率為1.20~1.40，比通常的二氧化矽的折射率1.45~1.47低。因此，於本發明中，為了使低折射率膜的折射率下降，更佳為使用中空二氧化矽。
作為無機微粒子(B)，就積層體的表面的撥水性及撥油性變得良好的觀點、及可提昇低折射率膜的強度的觀點而言，較佳為利用水解性矽烷化合物等表面處理劑對粒子表面個別地處理而成者。所謂個別地處理，是指使無機微粒子(B)僅與水解性矽烷化合物等表面處理劑進行反應， 且是指於不含有助於酸、鹼等的水解、縮合反應的觸媒以外的化合物的狀態下對無機微粒子(B)的表面進行處理。
作為利用水解性矽烷化合物對無機微粒子(B)的表面進行處理時的兩者的混合比率，就積層體的表面的撥水性、撥油性、耐擦傷性及耐汗性的觀點而言，於無機微粒子(B)與水解性矽烷化合物的合計量中，無機微粒子(B)較佳為30質量%以上，更佳為40質量%以上。另外，較佳為80質量%以下，較佳為70質量%以下。
作為水解性矽烷化合物，例如可列舉：3-(甲基)丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、3-(甲基)丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、對苯乙烯基三甲氧基矽烷、2-(3,4-環氧基環己基)乙基三甲氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、及3-縮水甘油氧基丙基甲基二乙氧基矽烷等。
作為表面處理劑，亦可併用添加水解性矽烷化合物以外的化合物。例如，作為水解性矽烷化合物以外的化合物，例如可列舉：陰離子系界面活性劑、非離子系界面活性劑、陽離子系界面活性劑等公知的界面活性劑。
當LRM組成物是含有單體(A)的組成物時，因單體(A)具有不飽和鍵，故作為水解性矽烷化合物，就積層體的表面的低折射率膜的撥水性、撥油性變得良好的觀點而言，較佳為具有不飽和鍵的水解性矽烷化合物。
於本發明中，視需要可向LRM組成物中添加分子中 具有至少2個(甲基)丙烯醯基的化合物(以下，稱為「LRM交聯成分」)。
作為LRM組成物中的LRM交聯成分的含量，就積層體的表面的耐擦傷性的觀點而言，於LRM組成物的固體成分100質量份中較佳為0質量份~30質量份。
作為LRM交聯成分，例如可列舉：自1莫耳的多元醇與2莫耳以上的(甲基)丙烯酸或其衍生物所獲得的酯化物、以及自多元羧酸或其酐與多元醇及(甲基)丙烯酸或其衍生物所獲得的酯化物。
作為自1莫耳的多元醇與2莫耳以上的(甲基)丙烯酸或其衍生物所獲得的酯化物的具體例，可列舉：二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯等聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯；1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯等伸烷基二醇二(甲基)丙烯酸酯；以及三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基乙烷三(甲基)丙烯酸酯、五甘油三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、甘油三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、三季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、三季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、三季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、三季戊四醇七(甲基)丙烯酸酯等三官能以上的多元醇聚(甲基)丙烯酸酯。
於自多元羧酸或其酐與多元醇及(甲基)丙烯酸或其衍生物所獲得的酯化物中，作為多元羧酸或其酐與多元醇及(甲基)丙烯酸的組合(多元羧酸或其酐/多元醇/(甲基)丙烯酸)，例如可列舉：丙二酸/三羥甲基乙烷/(甲基)丙烯酸、丙二酸/三羥甲基丙烷/(甲基)丙烯酸、丙二酸/甘油/(甲基)丙烯酸、丙二酸/季戊四醇/(甲基)丙烯酸、丁二酸/三羥甲基乙烷/(甲基)丙烯酸、丁二酸/三羥甲基丙烷/(甲基)丙烯酸、丁二酸/甘油/(甲基)丙烯酸、丁二酸/季戊四醇/(甲基)丙烯酸、己二酸/三羥甲基乙烷/(甲基)丙烯酸、己二酸/三羥甲基丙烷/(甲基)丙烯酸、己二酸/甘油/(甲基)丙烯酸、己二酸/季戊四醇/(甲基)丙烯酸、戊二酸/三羥甲基乙烷/(甲基)丙烯酸、戊二酸/三羥甲基丙烷/(甲基)丙烯酸、戊二酸/甘油/(甲基)丙烯酸、戊二酸/季戊四醇/(甲基)丙烯酸、癸二酸/三羥甲基乙烷/(甲基)丙烯酸、癸二酸/三羥甲基丙烷/(甲基)丙烯酸、癸二酸/甘油/(甲基)丙烯酸、癸二酸/季戊四醇/(甲基)丙烯酸、反丁烯二酸/三羥甲基乙烷/(甲基)丙烯酸、反丁烯二酸/三羥甲基丙烷/(甲基)丙烯酸、反丁烯二酸/甘油/(甲基)丙烯酸、反丁烯二酸/季戊四醇/(甲基)丙烯酸、衣康酸/三羥甲基乙烷/(甲基)丙烯酸、衣康酸/三羥甲基丙烷/(甲基)丙烯酸、衣康酸/甘油/(甲基)丙烯酸、衣康酸/季戊四醇/(甲基)丙烯酸、順丁烯二酸酐/三羥甲基乙烷/(甲基)丙烯酸、順丁烯二酸酐/三羥甲基丙烷/(甲基)丙烯酸、順丁烯二酸酐/甘油/(甲基)丙烯酸及順丁烯二酸酐/季戊四醇/(甲基)丙烯酸。
作為LRM交聯成分的其他例，可列舉：使藉由三羥甲基丙烷甲苯二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯、甲伸苯基二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、二甲苯二異氰酸酯、4,4'-亞甲基雙(環己基異氰酸酯)、異佛爾酮二異氰酸酯、三甲基六亞甲基二異氰酸酯等二異氰酸酯的三聚化而獲得的聚異氰酸酯1莫耳與(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基-3-甲氧基丙酯、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥基(甲基)丙烯醯胺、15,3-丙烷三醇-1,3-二(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸3-丙烯醯氧基-2-羥基丙酯等具有活性氫的丙烯酸系單體3莫耳以上進行反應所獲得的(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯；三(2-羥乙基)異三聚氰酸的二(甲基)丙烯酸酯或三(甲基)丙烯酸酯等聚[(甲基)丙烯醯氧基伸乙基]異三聚氰酸酯；環氧聚(甲基)丙烯酸酯；以及聚(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯。
LRM交聯成分可單獨使用、或將兩種以上組合使用。
當LRM組成物為活性能量線硬化性低折射率膜用組成物時，可於LRM組成物中調配光起始劑。
作為光起始劑，例如可列舉：安息香、安息香甲醚、安息香***、安息香異丙醚、安息香異丁醚、乙偶姻、丁偶姻、二甲基苯偶姻、苯偶醯、二苯基酮、對甲氧基二苯基酮、2,2-二乙氧基苯乙酮、α,α-二甲氧基-α-苯基苯乙酮、苯甲醯甲酸甲酯、苯甲醯甲酸乙酯、4,4'-雙(二甲胺基)二苯基酮、1-羥基-環己基-苯基-酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮等羰基化合物；一硫化四甲基秋蘭姆、二硫化四甲基 秋蘭姆等硫化合物；以及2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-苯基氧化膦、苯甲醯基二乙氧基氧化膦等磷化合物。
作為光起始劑的添加量，就LRM組成物的藉由紫外線照射的硬化性的觀點而言，相對於LRM組成物的固體成分100質量份，較佳為0.1質量份以上，更佳為0.5質量份以上，進而更佳為1質量份以上。另外，作為光起始劑的添加量，就使低折射率膜的色調變得良好觀點而言，較佳為10質量份以下，更佳為7質量份以下。
當LRM組成物為熱硬化性低折射率膜用組成物時，可於LRM組成物中調配熱硬化劑。
作為熱硬化劑，例如可列舉：2,2'-偶氮雙(4-甲氧基-2,4-二甲基戊腈)、2,2'-偶氮雙異丁腈、2,2'-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)等偶氮系聚合起始劑；以及過氧化月桂醯、過氧化二碳酸二異丙酯、過氧化苯甲醯、過氧化二碳酸雙(4-第三丁基環己基)酯、過氧化新癸酸第三丁酯、過氧化特戊酸第三己酯等有機過氧化物系聚合起始劑。該些可單獨使用、或將兩種以上組合使用。
於本發明中，視需要可於LRM組成物中調配滑動性提昇劑、均染劑、紫外線吸收劑、受阻胺光穩定劑(Hindered Amine Light Stabilizer，HALS)等光穩定劑等各種添加劑。作為添加劑的調配量，就低折射率膜的透明性的觀點而言，相對於LRM組成物的固體成分100質量份，較佳為10質量份以下。
於本發明中，為了調整LRM組成物的固體成分濃度，可向LRM組成物中添加稀釋溶劑。作為稀釋溶劑，例如可列舉：甲基乙基酮、甲基異丁基酮、異丙醇、乙醇、1-甲氧基-2-丙醇及2,2,3,3-四氟-1-丙醇。
LRM組成物的固體成分濃度較佳為0.1質量%~20質量%。藉由將LRM組成物的固體成分濃度設為上述範圍，存在可使LRM組成物的儲存穩定性變得良好，而容易控制成所期望的膜厚的傾向。
於本發明中，當於剝離用薄膜的表面形成低折射率膜後形成後述的高折射率膜時，形成高折射率膜之前的低折射率膜不僅可為使LRM組成物完全硬化而成者，視需要亦可為LRM組成物的一部分進行反應並硬化而成的部分硬化物。
高折射率膜
於本發明中，高折射率膜是形成在轉印薄膜中的低折射率膜與中折射率膜之間、或積層體(B)中的低折射率膜與中折射率膜之間的層，且是用以使抗反射功能顯現的層。
作為高折射率膜的膜厚(dy)，就積層體(B)的表面的耐擦傷性及抗反射性能的觀點而言，較佳為0.5μm~10μm。
作為高折射率膜的折射率(ny)，就抑制干涉條紋的觀點而言，較佳為比積層體中的低折射率膜、中折射率膜及接著層高，且滿足下述式(8)。
dy≧500nm (6)
(式(6)中，dy表示高折射率膜的厚度)。
90nm≧dz≧30nm (7)
(式(7)中，dz表示中折射率膜的厚度)。
(nHC×ny)1/2-(ny-nHC)/8≦nz≦(nHC×ny)1/2+(ny-nHC)/8 (8)
(式(8)中，nHC表示所形成的接著層的折射率，ny表示高折射率膜的折射率，nz表示中折射率膜的折射率)。
作為高折射率膜的折射率(ny)，較佳為1.6以上，更佳為1.7以上。
作為高折射率膜的形成方法，例如可列舉以下的方法。
首先，將用以形成高折射率膜的高折射率膜用組成物(以下，稱為「HRM組成物」)塗附於積層在剝離用薄膜的表面的低折射率膜的表面上來形成HRM組成物的塗膜。另外，當HRM組成物中含有稀釋溶劑時，可使稀釋溶劑揮發而形成HRM組成物的塗膜。繼而，使所獲得的HRM組成物的塗膜硬化而獲得高折射率膜。
作為將HRM組成物塗附於低折射率膜的表面的方法，可列舉與將LRM組成物塗附於剝離用薄膜的表面的方法相同的方法。
作為使HRM組成物的塗膜硬化的方法，例如於HRM組成物為熱硬化性組成物的情況下，可列舉加熱硬化法，於HRM組成物為活性能量線硬化性組成物的情況下，可列舉活性能量線硬化法。
關於HRM組成物為活性能量線硬化性組成物時的活性能量線硬化的方法及硬化條件，作為照射紫外線作為活性能量線時的光源，例如可列舉高壓水銀燈、金屬鹵化物燈及螢光紫外線燈。
另外，作為用以將HRM組成物硬化的活性能量線硬化條件，例如可列舉於空氣存在下，峰值照度為200mW/cm2~1,000mW/cm2及累計光量為400mJ/cm2~1,200mJ/cm2的硬化條件。若為該範圍，則密接性、耐擦傷性及耐濕試驗後的外觀的平衡變得良好。若將HRM組成物硬化時的活性能量線的能量過低，且若實施如於高溫多濕的環境，例如80℃、85%的環境下放置24小時以上的耐濕試驗，則存在積層體(B)的表面產生如白色粉末的白色滲出物，外觀惡化的情況。
於本發明中，當使HRM組成物的塗膜硬化時，視需要可使LRM組成物的部分硬化物一併硬化。
於本發明中，當於低折射率膜的表面形成高折射率膜後形成後述的中折射率膜時，形成中折射率膜之前的高折射率膜不僅可為使HRM組成物完全硬化而成者，視需要亦可為HRM組成物的一部分進行反應並硬化而成的部分硬化物
於本發明中，當於低折射率膜的表面形成HRM組成物的塗膜時，為了提昇低折射率膜與高折射率膜的界面強度，使積層體的耐擦傷性變得良好，較佳為於對低折射率膜的表面進行紫外線照射、電子束照射、加熱處理、氧化 材料塗佈、電暈處理、電漿處理等親水化處理，繼而塗佈HRM組成物後獲得高折射率膜。作為親水化處理，就積層體(B)的耐擦傷性變得良好的觀點而言，更佳為電暈處理或電漿處理。
作為電暈處理的方法，例如可列舉使用通常的電暈處理裝置來進行處理的方法。以下表示電暈處理的一例。
使用包含經電絕緣的傳送帶與靠近傳送帶上方而配置的電極的電暈處理裝置，使高能量作用於該電極來進行電暈放電，使將低折射率膜面作為上表面而配置於傳送帶上的形成有低折射率膜的剝離用薄膜在電極下通過，藉此對低折射率膜面實施電暈處理。
此時的對於形成有低折射率膜的剝離用薄膜的照射能量較佳為10W．分/m~200W．分/m。藉由將照射能量設為10W．分/m以上，存在可使低折射率膜與高折射率膜的接著性變得良好的傾向。另外，藉由將照射能量設為200W．分/m以下，存在可使低折射率膜的外觀變得良好的傾向。另外，為了使電暈放電穩定地產生，形成有低折射率膜的剝離用薄膜與電極的間隙較佳為5mm以下。
於電漿處理中，可使用通常的電漿處理裝置進行處理，但就操作簡便而言，較佳為大氣壓電漿處理裝置。
作為電漿處理法，例如可列舉間接法及直接法，但就可獲得均勻的處理的觀點而言，較佳為直接法。
作為大氣壓電漿處理裝置的一例，可列舉於處理用的腔室內具備包含上部電極與下部電極的一對對向電極，且 至少一個電極的對向面由介電體包覆的裝置。
於上述裝置中，當僅於對向電極的任一個上包覆有介電體時，產生電漿的部位為介電體與電極之問，當對向電極的任一者上均包覆有介電體時，產生電漿的部位為介電體間。於此種電漿處理裝置的對向電極間配置形成有低折射率膜的薄膜，對電源部施加高頻電力來使對向電極間產生電漿，從而對低折射率膜的表面進行電漿處理。
對向電極的對向面間的距離(最短距離)是考慮被處理的積層有低折射率膜的剝離用薄膜的厚度、所包覆的介電體的厚度、所施加的電壓的大小等來決定，但較佳為於僅對向電極的一者上包覆有介電體的情況、對向電極的兩者上包覆有介電體的情況的任一種情況下，該最短距離均為50mm以下。若最短距離為50mm以下，則存在可產生均勻的放電電漿的傾向。
施加至對向電極間的高頻電力的頻率較佳為1kHz以上。另外，施加至對向電極間的高頻電力的頻率較佳為10MHz以下，更佳為500kHz以下。
電力面密度較佳為2.0W/cm2~30.0W/cm2。若頻率為1kHz~500kHz，則存在積層有低折射率膜的剝離用薄膜的處理時的變形或劣化得到抑制的傾向。
另外，若電力面密度為30.0W/cm2以下，則存在可抑制由電漿照射熱所引起的積層有低折射率膜的剝離用薄膜的變形的傾向。
再者，於本發明中，所謂電力面密度，是指投入至一 對對向電極間的電力除以與電漿接觸的一個電極的表面積所得的值。
作為HRM組成物，例如可列舉熱硬化性高折射率組成物、活性能量線硬化性高折射率組成物。
作為HRM組成物的具體例，可列舉含有具有至少2個(甲基)丙烯醯氧基的化合物(以下，稱為「HRM交聯成分」)的組成物。
作為HRM交聯成分，可列舉與LRM交聯成分相同者。
為了獲得耐擦傷性優異的積層體，較佳為HRM組成物中含有N-2-(胺基乙基)-3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、N-2-(胺基乙基)-3-胺基丙基三甲氧基矽烷、N-2-(胺基乙基)-3-胺基丙基三乙氧基矽烷等胺基矽烷。
作為HRM組成物中的上述胺基矽烷的含量，為了獲得積層體的良好的耐擦傷性，相對於HRM組成物中的固體成分100質量份，較佳為1質量份以上，為了獲得良好的抗反射功能，較佳為30質量份以下。
為了提昇高折射率膜的強度、且為了提昇高折射率膜的折射率，可向HRM組成物中添加高折射率MO微粒子。
作為高折射率MO微粒子，較佳為折射率為1.55~2.0左右者，較佳為氧化錫、摻雜有銻的氧化錫(ATO)、氧化銦、摻雜有錫的氧化銦(ITO)、氧化鋅、摻雜有鋁的氧化鋅、銻酸鋅、五氧化銻，就折射率高、透明性良好的觀點而言，更佳為氧化鋯。
作為HRM組成物中的高折射率MO微粒子的含量， 為了於積層體(B)中獲得良好的耐擦傷性或抗反射功能，相對於HRM組成物中的固體成分100質量份，較佳為20質量份以上，為了獲得良好的抗反射功能，較佳為80質量份以下。
另外，較佳為利用與對無機微粒子(B)的表面進行處理時所使用的水解性矽烷化合物相同的化合物對高折射率MO微粒子進行表面處理。
作為使高折射率MO微粒子的表面與水解性矽烷化合物進行反應時的兩者的混合比率，就積層體的表面的耐擦傷性及抗反射性能的觀點而言，較佳為相對於水解性矽烷化合物與高折射率MO微粒子的合計，高折射率MO微粒子為20質量%~80質量%。
作為調整高折射率膜的折射率的方法，例如可列舉使HRM交聯成分與高折射率MO微粒子的調配比率變化的方法。即，若高折射率MO微粒子的含量變多，則高折射率膜的折射率上昇，另一方面，若高折射率MO微粒子的含量變少，則高折射率膜的折射率降低。
另外，亦可添加高折射率有機化合物來代替高折射率MO微粒子將高折射率膜的折射率調節成所期望的值。
作為高折射率有機化合物，例如可列舉分子中具有硫原子、溴原子、芳香族骨架或茀骨架的化合物。
作為具有茀骨架等的化合物，例如可列舉Osaka Gas Chemicals(股份)製造的Ogsol EA200、EA1000、EA-F5003、EA-F5503及EA-F5510(均為商品名)。
作為具有芳香族骨架等的化合物，例如可列舉新中村化學工業(股份)製造的NK ESTER A-LEN-10及NK ESTER ABE-300(均為商品名)。
於本發明中，為了獲得耐擦傷性優異的積層體(B)，作為HRM組成物，較佳為含有分子中具有至少2個(甲基)丙烯醯氧基的單體、胺基矽烷、高折射率MO微粒子、光起始劑及稀釋溶劑的組成物。
於本發明中，視需要可向HRM組成物中添加抗靜電成分來對高折射率膜賦予抗靜電功能。
當對高折射率膜賦予抗靜電功能時，積層體(B)的表層的表面電阻值較佳為1010Ω/□以下，更佳為108Ω/□以下。
於HRM組成物為活性能量線硬化性高折射率膜用組成物的情況下，可於HRM組成物中調配HRM組成物用光起始劑。
關於HRM組成物用光起始劑的種類及添加量，可設為與添加至LRM組成物中的光起始劑相同的化合物及添加量。
另外，於HRM組成物為熱硬化性高折射率膜用組成物的情況下，可於HRM組成物中調配HRM組成物用熱硬化劑。
關於HRM組成物用熱硬化劑的種類及添加量，可設為與添加至LRM組成物中的熱硬化劑相同的化合物及添加量。
於本發明中，視需要可於HRM組成物中調配滑動性提昇劑、均染劑、紫外線吸收劑、HALS等光穩定劑等各種添加劑。作為添加劑的調配量，就高折射率膜的透明性的觀點而言，相對於HRM組成物中的固體成分100質量份，較佳為10質量份以下。
於本發明中，為了調整HRM組成物的固體成分濃度，可向HRM組成物中添加稀釋溶劑。稀釋溶劑可單獨使用，亦可組合多種。
作為稀釋溶劑，就HRM組成物的儲存穩定性良好而言，較佳為25℃下的介電常數為10.0以下。藉由將介電常數設為10.0以下，即便使用已於室溫下長時間(例如24小時以上)放置的HRM組成物，亦可獲得耐擦傷性優異的積層體(B)。
為了使稀釋溶劑的介電常數變成10.0以下，可藉由單獨的稀釋溶劑來使介電常數變成10以下，亦可混合多種稀釋溶劑來使介電常數變成10.0以下。作為介電常數為10.0以下的單獨的稀釋溶劑，例如可列舉：甲苯(2.38)、二甲苯(2.41)、乙酸丁酯(5.02)及氯仿(4.9)。另外，作為使將介電常數為10.0以下的稀釋溶劑與10.0以上的稀釋溶劑加以組合而形成混合稀釋溶劑時的稀釋溶劑的介電常數變成10.0以下的例子，可列舉於甲苯與異丙醇的混合溶劑中添加45質量%以上的甲苯而成者。
HRM組成物的固體成分濃度較佳為5質量%~50質量%。藉由將HRM組成物的固體成分濃度設為該範圍， 存在可使HRM組成物的儲存穩定性變得良好，而容易控制成所期望的膜厚的傾向。
中折射率膜
於本發明中，中折射率膜是形成於轉印薄膜中高折射率膜的表面或高折射率膜與接著層之間、或者積層體(B)中的基材與高折射率膜之間或具有接著層等其他層的基材的其他層與高折射率膜之間的層，且是用以於使用積層體(B)時抑制干涉條紋的產生的層。
作為中折射率膜的膜厚(dz)，就抑制積層體(B)的表面的干涉條紋的觀點而言，較佳為30nm以上，更佳為40nm以上。另外，較佳為90nm以下，更佳為80nm以下。
就抑制積層體(B)的表面的干涉條紋的觀點而言，較佳為中折射率膜的折射率(nz)滿足上述式(8)。
中折射率膜的折射率(nz)較佳為1.5~1.65。
作為積層體(B)中的中折射率膜，例如可列舉上述含有MO微粒子的膜。
當將上述含有MO微粒子的膜作為中折射率膜時，含有MO微粒子的膜的折射率較佳為1.5~1.65。
於本發明中，就抑制積層體(B)的干涉條紋的產生的觀點而言，作為中折射率膜，如圖1所示，較佳為如下的膜：膜中央區域的厚度(Tbi及Tci)以及膜表層區域(a1)的厚度(Tai)及膜表層區域(a2)的厚度(Tdi)滿足上述式(1)~式(4)，且於含有MO微粒子的膜的厚度方 向剖面中，在厚度方向剖面內相對於含有MO微粒子的膜的膜厚，垂直方向的1200nm的長度中的膜中央區域的長度(Li)的合計長度(L)為240nm以上，較佳為480nm以上。
作為中折射率膜用組成物(以下，稱為「MRM組成物」)，例如可列舉選自熱硬化性中折射率膜用組成物及活性能量線硬化性中折射率膜用組成物中的至少一種。
作為MRM組成物的具體例，可列舉含有具有至少2個(甲基)丙烯醯氧基的化合物(以下，稱為「MRM交聯成分」)的組成物。
作為MRM交聯成分，可列舉與LRM交聯成分相同者。
於MRM組成物中，為了提昇中折射率膜的強度、且為了調整中折射率膜的折射率，可添加中折射率用MO微粒子。作為中折射率用MO微粒子，可列舉與調配至HRM組成物中的MO微粒子相同者。
作為MRM組成物中的中折射率用MO微粒子的含量，於中折射率膜的折射率滿足上述式(8)的範圍內，相對於MRM組成物中的固體成分100質量份，較佳為15質量份以上，更佳為20質量份以上。另外，作為MRM組成物中的中折射率用MO微粒子的含量，就獲得具有良好的透明性的積層體(B)的觀點而言，較佳為60質量份以下，更佳為50質量份以下。
另外，較佳為利用與對無機微粒子(B)的表面進行 處理時所使用的水解性矽烷化合物相同的化合物對中折射率用MO微粒子進行表面處理。
作為使中折射率用MO微粒子的表面與水解性矽烷化合物化學反應時的表面處理用化合物的混合比率，就積層體(B)的表面的耐擦傷性或抗反射性能的觀點，進而就於中折射率膜中形成具有膜表層區域(a1)、膜中央區域及膜表層區域(a2)的偏在層構造的觀點而言，水解性矽烷化合物與中折射率用MO微粒子的合計量中的中折射率用MO微粒子的含量較佳為50質量%以上，更佳為60質量%以上。另外，作為水解性矽烷化合物與中折射率用MO微粒子的合計量中的中折射率用MO微粒子的含量，就獲得具有良好的透明性的積層體(B)的觀點而言，較佳為80質量%以下，更佳為70質量%以下。
作為調整中折射率膜的折射率的方法，可列舉與上述調整高折射率膜的折射率的方法相同的方法。
於本發明中，視需要可向MRM組成物中添加高折射率有機化合物來將中折射率膜的折射率調節成所期望的值。
作為高折射率有機化合物，就MRM組成物的製膜性良好的觀點而言，較佳為例如可列舉分子中具有硫原子、溴原子、芳香族骨架或茀骨架的化合物。
作為具有茀骨架等的化合物，例如可列舉Osaka Gas Chemicals(股份)製造的Ogsol EA200、EA1000、EA-F5003、EA-F5503及EA-F5510(均為商品名)。
作為MRM組成物中的高折射率有機化合物的含量，於中折射率膜的折射率滿足上述式(8)的範圍內，相對於MRM組成物中的固體成分100質量份，較佳為30質量份以上，更佳為40質量份以上。另外，作為MRM組成物中的高折射率有機化合物的含量，就獲得具有良好的透明性的積層體(B)的觀點而言，較佳為80質量份以下，更佳為70質量份以下。
作為MRM組成物，於使用高折射率有機化合物調整折射率的情況下，就抑制塌凹等缺陷的觀點而言，較佳為添加均染劑。作為均染劑，可列舉矽酮系、氟系、丙烯酸系的均染劑，但就可無塌凹地對接著層進行製膜的觀點而言，較佳為丙烯酸系的均染劑。作為丙烯酸系的均染劑，例如可列舉：BYK Japan(股份)製造的BYK361N、BYK350、BYK352、BYK354、BYK355、BYK356、BYK358N、BYK380N、BYK381、BYK392及BYK394(均為商品名)。
於本發明中，視需要可向MRM組成物中添加抗靜電成分來對中折射率膜賦予抗靜電功能。
當對中折射率膜賦予抗靜電功能時，積層體(B)的表層的表面電阻值較佳為1010Ω/□以下，更佳為108Ω/□以下。
於MRM組成物為活性能量線硬化性中折射率膜用組成物的情況下，可於MRM組成物中調配MRM組成物用光起始劑。關於MRM組成物用光起始劑的種類及添加 量，可設為與添加至LRM組成物中的光起始劑相同的化合物及添加量。
另外，於MRM組成物為熱硬化性中折射率膜用組成物的情況下，可於MRM組成物中調配MRM組成物用熱硬化劑。關於MRM組成物用熱硬化劑的種類及添加量，可設為與添加至LRM組成物中的熱硬化劑相同的化合物及添加量。
於本發明中，視需要可於MRM組成物中調配滑動性提昇劑、均染劑、紫外線吸收劑、HALS等光穩定劑等各種添加劑。作為添加劑的調配量，就中折射率膜的透明性的觀點而言，相對於中折射率組成物中的固體成分100質量份，較佳為10質量份以下。
於本發明中，就獲得耐擦傷性優異的積層體(B)的觀點而言，視需要亦可向MRM組成物中添加與可添加至HRM組成物中的胺基矽烷相同的化合物。
於本發明中，為了調整MRM組成物的固體成分濃度，可向MRM組成物中添加稀釋溶劑。
作為稀釋溶劑，當於MRM組成物中使用折射率用MO微粒子時，例如可列舉甲苯(揮發速度：240)、乙酸丁酯(揮發速度：100)、甲基異丁基酮(揮發速度：165)、1-甲氧基-2-丙醇(揮發速度：66)及異丙醇(揮發速度：150)，就於中折射率膜中形成具有膜表層區域(a1)、膜中央區域及膜表層區域(a2)的偏在層構造的觀點而言，作為揮發速度為100以下的稀釋溶劑的含量，於整個稀釋溶劑中較 佳為20質量%以上，更佳為30質量%以上。另外，作為揮發速度為100以下的稀釋溶劑的含量，為了於短時間內進行乾燥，即就提高生產效率的觀點而言，較佳為90質量%以下，更佳為80質量%以下。
作為MRM組成物的固體成分濃度，較佳為0.4質量%~2質量%。藉由將MRM組成物的固體成分濃度設為該範圍，存在可使MRM組成物的儲存穩定性變得良好，而容易控制成所期望的膜厚的傾向。
作為中折射率膜的形成方法，例如可列舉以下的方法。
首先，將上述含有MO微粒子的膜用組成物塗附於積層在剝離用薄膜表面的高折射率膜的表面，形成作為MRM組成物的含有MO微粒子的膜用組成物的塗膜。
另外，當於MRM組成物中含有稀釋溶劑時，可使稀釋溶劑揮發而形成MRM組成物的塗膜。作為使稀釋溶劑乾燥的溫度，就於中折射率膜中形成具有膜表層區域(a1)、膜中央區域及膜表層區域(a2)的偏在層構造的觀點而言，較佳為50℃以上，更佳為60℃以上。另外，作為使稀釋溶劑乾燥的溫度，較佳為140℃以下，更佳為120℃以下。作為使稀釋溶劑乾燥的時間，就於中折射率膜中形成偏在層構造，並去除殘存稀釋溶劑的觀點而言，較佳為30秒以上，更佳為1分鐘以上，進而更佳為1分30秒以上。另外，作為使稀釋溶劑乾燥的時間，就轉印薄膜的生產性的觀點而言，較佳為5分鐘以下，更佳為3分鐘以下。
其次，使MRM組成物的塗膜硬化而獲得中折射率膜。
作為將MRM組成物塗附於高折射率膜的表面的方法，可列舉與將LRM組成物塗附於剝離用薄膜的表面的方法相同的方法。
作為使MRM組成物的塗膜硬化的方法，例如於MRM組成物為熱硬化性組成物的情況下，可列舉加熱硬化法，於MRM組成物為活性能量線硬化性組成物的情況下，可列舉活性能量線硬化法。
作為MRM組成物為活性能量線硬化性組成物時的活性能量線硬化的方法及硬化條件，可列舉與HRM組成物的利用活性能量線的硬化的方法及硬化條件相同的方法及條件。
於本發明中，於使MRM組成物的塗膜硬化時，視需要可使LRM組成物的部分硬化物或HRM組成物的部分硬化物一併硬化。
於本發明中，當於轉印薄膜的高折射率膜的表面形成中折射率膜後，視需要形成後述的接著層時，於中折射率膜的表面形成接著層之前的中折射率膜不僅可為使MRM組成物完全硬化而成者，視需要亦可為MRM組成物的一部分進行反應並硬化而成的部分硬化物。
於本發明中，當於高折射率膜的表面形成MRM組成物的塗膜時，為了提昇高折射率膜與中折射率膜的界面強度，使積層體的耐擦傷性變得良好，可對高折射率膜的表面實施電暈處理、電漿處理等放電處理。
作為上述放電處理的方法及條件，可列舉與形成高折 射率膜時的放電處理方法及條件相同的方法及條件。
轉印薄膜
轉印薄膜是於剝離用薄膜的一面依次積層低折射率膜、高折射率膜、作為中折射率膜的含有MO微粒子的膜及視需要的接著層而成的積層薄膜。
於本發明中，較佳為轉印薄膜中的高折射率膜的厚度(dy)、中折射率膜的厚度(dz)及接著層的折射率(nHC)滿足上述式(6)~式(8)。藉由滿足該條件，存在可製成干涉條紋得到抑制，且表面的耐擦傷性優異的積層體(B)的傾向。
於本發明中，在轉印薄膜的不接觸剝離用薄膜的面上，視需要可積層公知的保護薄膜。
作為轉印薄膜的製造方法，例如可列舉於剝離用薄膜的一面依次積層低折射率膜、高折射率膜及作為中折射率膜的含有MO微粒子的膜的轉印薄膜的製造方法。
即，於剝離用薄膜的一面積層低折射率膜後積層高折射率膜，繼而於高折射率膜的表面，塗佈含有MO微粒子及包含揮發速度為100以下的稀釋溶劑20質量%以上的稀釋溶劑的含有MO微粒子的膜用組成物，然後於140℃以下的溫度下使稀釋溶劑乾燥，藉此積層中折射率膜而獲得轉印薄膜。
基材
作為本發明中所使用的基材，例如可列舉樹脂基材及無機基材。
作為樹脂基材的具體例，可列舉：聚甲基丙烯酸甲酯、將甲基丙烯酸甲酯單元作為主構成成分的共聚物、將甲基丙烯酸烷基酯單元作為主構成成分的共聚物等甲基丙烯酸樹脂，聚苯乙烯、苯乙烯-甲基丙烯酸甲酯共聚物等含有芳香族乙烯基單體單元的樹脂，環狀聚烯烴等烯烴樹脂，聚碳酸酯等聚碳酸酯樹脂(以下，稱為「PC樹脂」)，以及聚碳酸酯與異種材料的複層材料。
作為無機基材的具體例，可列舉玻璃。
於基材中，視需要可含有著色劑、光擴散劑等添加劑。另外，基材可透明，亦可不透明，但就可自基材側進行紫外線照射的觀點而言，較佳為透明。
於本發明中，基材的厚度並無特別限定，可選擇對應於目的之厚度的薄膜狀物或板狀物。
積層體(A)
積層體(A)是於基材的至少一面直接或經由其他層而積層有含有MO微粒子的膜的積層體。
作為積層體(A)的製造方法，例如可列舉於基材的表面，塗佈含有MO微粒子及包含揮發速度為100以下的稀釋溶劑20質量%以上的溶劑的含有MO微粒子的膜用組成物，然後於140℃以下的溫度下使稀釋溶劑乾燥，藉此積層含有MO微粒子的膜而獲得積層體(A)的方法。
另外，作為積層體(A)的其他製造方法，例如可列舉以下的方法。
於剝離用薄膜的表面塗佈含有MO微粒子及包含揮發 速度為100以下的稀釋溶劑20質量%以上的稀釋溶劑的含有MO微粒子的膜用組成物，然後於140℃以下的溫度下使稀釋溶劑乾燥，藉此積層含有MO微粒子的膜而獲得積層體(A)。其次，於所獲得的積層薄膜的表面形成接著層形成材料後，將接著層形成材料與基材加以積層。進而，使接著層形成材料硬化後將剝離用薄膜剝離而獲得積層體(A)。
積層體(B)
積層體(B)是於基材的至少一面直接或經由其他層而依次積層具有折射率(Nz)的中折射率膜、具有折射率(Ny)的高折射率膜及具有折射率(Nx)的低折射率膜，且折射率(Nx)、折射率(Ny)、折射率(Nz)滿足上述式(5)的積層體，且是中折射率膜為含有MO微粒子的膜的積層體。
作為積層體的厚度，就積層體的機械強度的觀點而言，較佳為0.2mm以上，就積層體的生產性的觀點而言，較佳為10mm以下。
於本發明中，作為積層體，較佳為以將積層體的低折射率膜的表面的水接觸角設為90度以上，將三油酸甘油酯接觸角設為55度以上的低折射率膜進行積層而成者。藉由設為上述低折射率膜，存在可獲得指紋、皮脂、粉底等污垢並不明顯的積層體的傾向。
另外，就獲得污垢附著時的反射色的顯著的變色及圖像顯示構件的視認性下降得到抑制的積層體的觀點而言， 較佳為將積層體的表面的水接觸角設為95度以上，將三油酸甘油酯接觸角設為60度以上。
作為積層體(B)的製造方法，例如可列舉包括如下步驟的方法：經由用以形成接著層的塗膜，將基材與轉印薄膜的中折射率膜的面貼合來形成轉印薄膜疊層物(轉印薄膜疊層物形成步驟)；自用以形成接著層的塗膜獲得接著層而形成轉印薄膜積層體(轉印薄膜積層體形成步驟)；以及將剝離用薄膜自轉印薄膜積層體上剝離而形成積層體(B)(積層體(B)形成步驟)。
用以形成接著層的塗膜
用以形成接著層的塗膜是用以形成後述的接著層的塗膜。
作為用以形成接著層的塗膜，例如可列舉含有熱塑性樹脂的熱塑性樹脂塗膜及含有活性能量線硬化性組成物的硬化性塗膜。
當用以形成接著層的塗膜為含有熱塑性樹脂的熱塑性樹脂塗膜時，作為所使用的接著層形成材料，例如可使用使熱塑性樹脂溶解於稀釋溶劑而成的熱塑性樹脂溶液。
作為溶解熱塑性樹脂的稀釋溶劑，例如可列舉：甲基乙基酮、甲基異丁基酮、異丙醇、乙醇、1-甲氧基-2-丙醇及甲苯。
作為用以形成熱塑性樹脂塗膜的熱塑性樹脂，例如可列舉：丙烯酸系樹脂、氯化烯烴系樹脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯系共聚物、順丁烯二酸系樹脂、氯化橡膠系樹脂、環化 橡膠系樹脂、聚醯胺系樹脂、薰草咔-茚系樹脂、乙烯-乙酸乙烯酯系共聚物、聚酯系樹脂、聚胺基甲酸酯系樹脂、苯乙烯系樹脂、丁醛樹脂、松香系樹脂及環氧系樹脂。
當用以形成接著層的塗膜為含有活性能量線硬化性組成物的硬化性塗膜時，作為所使用的接著層形成材料，例如可使用與LRM交聯成分相同的組成物。
上述硬化性塗膜用的活性能量線硬化性化合物可單獨使用、或將兩種以上組合使用。
作為添加至上述硬化性塗膜用的活性能量線硬化性化合物中的光聚合起始劑，例如可列舉與調配至LRM組成物中時所使用的光起始劑相同者。該些可單獨使用、或將兩種以上組合使用。
作為熱塑性樹脂塗膜或含有活性能量線硬化性組成物的硬化性塗膜的形成方法，例如可列舉以下方法：於轉印薄膜中的中折射率膜的表面、或者將轉印薄膜與基材積層時於轉印薄膜中的中折射率膜的表面或基材的表面塗附上述熱塑性樹脂溶液或活性能量線硬化性組成物後去除稀釋溶劑，藉此形成熱塑性樹脂塗膜或含有活性能量線硬化性組成物的硬化性塗膜。
轉印薄膜疊層物形成步驟
轉印薄膜疊層物形成步驟是經由用以形成接著層的塗膜將基材與轉印薄膜的中折射率膜的面貼合而形成轉印薄膜疊層物的步驟。
以下，表示形成使用接著層用熱塑性樹脂塗膜作為接 著層的情況、及使用接著層用硬化性塗膜作為接著層的情況下的各自的轉印薄膜疊層物的方法的一例。
(1)接著層用熱塑性樹脂塗膜
當使用接著層用熱塑性樹脂塗膜作為形成接著層的塗膜時，於轉印薄膜疊層物形成步驟中，經由接著層用熱塑性樹脂塗膜將基材與轉印薄膜貼合，藉此可獲得轉印薄膜疊層物。接著層用熱塑性樹脂塗膜可事先設置於轉印薄膜上，亦可事先設置於基材上。
作為接著層用熱塑性樹脂塗膜的形成方法，例如可列舉藉由將上述熱塑性樹脂溶液塗佈於轉印薄膜的中折射率膜的面或基材的表面後去除稀釋溶劑來形成接著層用熱塑性樹脂塗膜的方法。
作為使用熱塑性樹脂溶液時的熱塑性樹脂溶液的塗佈方法，例如可列舉與塗佈LRM組成物的方法相同的方法。
(2)含有活性能量線硬化性組成物的硬化性塗膜
當使用接著層用硬化性塗膜作為形成接著層的塗膜時，於轉印薄膜疊層物形成步驟中，經由接著層用硬化性塗膜將基材與轉印薄膜貼合，藉此獲得轉印薄膜疊層物。接著層用硬化性塗膜可事先設置於轉印薄膜上，亦可事先設置於基材上。
為了防止將基材與轉印薄膜積層時的空氣的捲入，較佳為設為使用過量的用以形成接著層用硬化性塗膜的材料來形成接著層用硬化性塗膜的狀態。
作為用以形成接著層用硬化性塗膜的活性能量線硬化 性組成物的塗佈方法，例如可列舉與塗佈LRM組成物的方法相同的方法。
作為將基材與轉印薄膜積層的方法，例如可列舉利用橡膠輥進行壓接的方法。於壓接時，例如可於5MPa~15MPa的條件下進行壓接。另外，就與轉印薄膜的密接性的觀點而言，較佳為預先將進行積層的基材的表面增溫至40℃~125℃。
接著層
於本發明中，接著層是用以將轉印薄膜與基材接著的層。
於本發明中，作為形成接著層的時期，可為以積層於中折射率膜的表面的狀態***來作為轉印薄膜的情況、以及將轉印薄膜與基材積層時使轉印薄膜與基材之間形成接著層的情況的任一種情況下。
於上述任一種情況下，作為接著層的折射率，就抑制積層體(B)的干涉條紋的觀點而言，較佳為滿足上述式(8)。作為接著層的折射率(nHC)，較佳為1.45~1.56。
另外，若基材與接著層的折射率差變大，且明確地存在折射界面，則在基材與接著層的界面上發生光的反射，其會產生新的干涉條紋。因此，為了使基材與接著層的折射界面消失，較佳為使接著層朝基材充分地滲透、或將基材與接著層的折射率差抑制為0.03以下。
於本發明中，作為接著層的形成方法，當使用例如使熱塑性樹脂溶解於稀釋溶劑而成的熱塑性樹脂溶液作為接 著層形成材料時，可列舉藉由公知的方法使稀釋溶劑揮發來獲得接著層的方法。另外，當使用例如藉由稀釋溶劑而得到稀釋的活性能量線硬化性組成物作為接著層形成材料時，可列舉藉由公知的方法使稀釋溶劑揮發後，以與使HRM組成物硬化時的活性能量線硬化條件相同的條件進行硬化的方法。
另外，於本發明中，當使用活性能量線硬化性組成物來形成接著層時，視需要可與用以形成接著層的塗膜的硬化的同時一併使LRM組成物的部分硬化物、HRM組成物的部分硬化物及MRM組成物的部分硬化物的至少一種硬化。
轉印薄膜積層體形成步驟
於本發明中，轉印薄膜積層體形成步驟是用於自用以形成接著層的塗膜獲得接著層的步驟。
以下，表示形成使用熱塑性樹脂塗膜作為用以形成接著層的塗膜的情況、及使用接著層用硬化性塗膜作為用以形成接著層的塗膜的情況下的各自的轉印薄膜積層體的方法的一例。
(1)使用接著層用熱塑性樹脂塗膜來獲得轉印薄膜積層體的情況
於轉印薄膜積層體形成步驟中，藉由對轉印薄膜疊層物形成步驟中所獲得的轉印薄膜疊層物進行加壓處理及增溫處理中的至少一種處理而獲得接著層，藉此可使基材與中折射率膜接著。
作為加壓處理方法，例如可列舉利用橡膠輥進行壓接的方法。作為加壓條件，例如可列舉5MPa~15MPa。
作為增溫處理方法，例如可列舉對基材進行增溫的方法。作為增溫條件，例如可列舉40℃~125℃。藉由將增溫條件設為該條件，可使轉印薄膜與基材的密接性變得良好，亦不存在由基材的過度的熔解所引起的硬度下降，接著層的黃變亦少。
對基材進行增溫時的基材的表面溫度可藉由加熱部的設定溫度、加熱時間等來調整。另外，作為基材的溫度的測定方法，例如可列舉利用非接觸型表面溫度計的方法。
再者，於本發明中，亦可將轉印薄膜積層體的形成與轉印薄膜疊層物的形成同時實施。
於本發明中，視需要可於上述增溫處理時促進低折射率膜的硬化而獲得經充分地硬化的低折射率膜。
另外，於本發明中，視需要可除上述處理以外照射活性能量線來促進低折射率膜的硬化，從而獲得經充分地硬化的低折射率膜。
(2)使用接著層用硬化性塗膜來獲得轉印薄膜積層體的情況
於轉印薄膜積層體形成步驟中，可對轉印薄膜疊層物形成步驟中所獲得的轉印薄膜疊層物照射活性能量線來使接著層用硬化性塗膜硬化，從而形成接著層。
對於轉印薄膜疊層物的活性能量線的照射可經由轉印薄膜而實施。另外，對應於基材的形狀，視需要亦可自基 材側照射活性能量線。
作為上述活性能量線，例如可列舉紫外線。作為照射紫外線時的光源，例如可列舉：高壓水銀燈、金屬鹵化物燈及螢光紫外線燈。
作為上述活性能量線照射條件，例如可列舉峰值照度為100mW/cm2以上及累計光量為10mJ/cm2以上的條件。
於本發明中，當將接著層用硬化性塗膜硬化時，視需要可促進低折射率膜的硬化而獲得經充分地硬化的低折射率膜。
轉印薄膜積層體
轉印薄膜積層體是經由接著層將轉印薄膜的中折射率膜的面與基材積層而成的積層體。
作為轉印薄膜積層體的製造方法，可為如下的任一種方法：將於轉印薄膜的中折射率層的表面形成有用以形成接著層的塗膜者，以轉印薄膜的形成有用以形成接著層的塗膜的面與基材相接的方式與基材積層後，獲得接著層的方法；或者將於基材的表面形成有用以形成接著層的塗膜者與轉印薄膜的中折射率膜的面積層的方法。
作為將基材與轉印薄膜積層的方法，例如可列舉利用橡膠輥進行壓接的方法。於壓接時，例如可於5MPa~15MPa的條件下進行壓接。另外，較佳為預先將進行積層的基材的表面增溫至40℃~125℃。藉由將增溫條件設為該條件，存在如下的傾向：可使轉印薄膜與基材的密接性變得良好，抑制由基材的過度的熔解所引起的硬度下降，且 亦可抑制接著層的黃變。
對基材進行增溫時的基材的表面溫度可藉由加熱部的設定溫度、加熱時間等來調整。另外，作為基材的溫度的測定方法，例如可列舉利用非接觸型表面溫度計的方法。
於本發明中，視需要可於上述增溫處理時促進低折射率膜、高折射率膜及中折射率膜的硬化而獲得經充分地硬化的低折射率膜。
另外，於本發明中，視需要可除上述處理以外照射活性能量線來促進低折射率膜、高折射率膜及中折射率膜的硬化，從而獲得經充分地硬化的低折射率膜。
於本發明中，為了防止將基材與轉印薄膜積層時的空氣的捲入，較佳為使用過量的接著層形成材料來獲得用以形成接著層的塗膜。
積層體(B)形成步驟
積層體(B)形成步驟是將剝離用薄膜自轉印薄膜積層體上剝離而獲得積層體(B)的步驟。於將剝離用薄膜自轉印薄膜積層體上剝離時，例如可於室溫下藉由公知的方法而將剝離用薄膜自轉印薄膜積層體上剝離。
[實例]
以下，藉由實例來說明本發明。再者，實例及比較例中所使用的化合物的簡稱如下所述。另外，以下，「份」及「%」分別表示「質量份」及「質量%」。
「TAS」：丁二酸/三羥甲基乙烷/丙烯酸(莫耳比1/2/4)縮合混合物。
「C6DA」：1,6-己二醇二丙烯酸酯(大阪有機化學工業(股份)製造，商品名；Viscoat#230)
「M305」：季戊四醇三丙烯酸酯(東亞合成(股份)製造，商品名；Aronix M305)
「M400」：二季戊四醇六丙烯酸酯(東亞合成(股份)製造，商品名；Aronix M400)
「U6HA」：甲基丙烯酸胺基甲酸酯(新中村化學工業(股份)製造，商品名；NK Oligo U6-HA)
「DAC」：具有全氟聚醚基與活性能量線反應性基的含氟基的聚醚化合物的溶液(大金工業(股份)製造，固體成分濃度為20%，2,2,3,3-四氟-1-丙醇溶液，商品名；Optool DAC)
「DAROCUR」：2,4,6-三甲基苯甲醯基-二苯基-氧化膦(BASF Japan(股份)製造，商品名；DAROCUR TPO)
「IRGACURE」：1-羥基-環己基-苯基-酮(BASF Japan(股份)製造，商品名；IRGACURE 184)
「KBM503」：3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷(信越化學工業(股份)製造，商品名；Shin-Etsu Silicone KBM503)
「Thrulya S」：中空二氧化矽溶膠的異丙醇(IPA)分散體(固體成分濃度為20%)(日揮觸媒化成(股份)製造，商品名；Thrulya S)
「PGM」：1-甲氧基-2-丙醇(和光純藥(股份)製造，試劑1級)
「IPA」：異丙醇(和光純藥(股份)製造，試劑1級)
「甲苯」：甲苯(和光純藥(股份)製造，試劑1級)
「ZRT-E28」：氧化鋯的甲苯分散體(固體成分濃度為15%)，KBM503與氧化鋯微粒子的合計量中的氧化鋯微粒子的比例為77質量%，(CIK NanoTek(股份)製造，製品名；ZRT15WT%-E28)
「ZRT-E30」：氧化鋯的甲苯分散體(固體成分濃度為15%)，KBM503與氧化鋯微粒子的合計量中的氧化鋯微粒子的比例為67質量%，(CIK NanoTek(股份)製造，製品名；ZRT15WT%-E30)
「MR-1009SBV」：五氧化銻的IPA分散體(固體成分濃度為30%)，(日揮觸媒化成(股份)製造，商品名；MR-1009SBV)
「KBM602」：N-2-(胺基乙基)-3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷(信越化學工業(股份)製造，商品名；Shin-Etsu Silicone KBM602)
「KBM603」：N-2-(胺基乙基)-3-胺基丙基三甲氧基矽烷(信越化學工業(股份)製造，商品名；Shin-Etsu Silicone KBM603)
「Acrylite」：甲基丙烯酸樹脂板(三菱麗陽(股份)製造，商品名；Acrylite EX001)
以下表示本發明中所實施的評價方法。
(1)基材的溫度
基材的表面溫度的測定是使用非接觸型表面溫度計 (Chino(股份)製造，手提型放射溫度計IR-TA(商品名))。
(2)全光線透過率及霧值
使用日本電色工業(股份)製造的HAZE METER NDH2000(商品名)並依照JIS K7361-1中所示的測定法，測定積層體的全光線透過率，且依照JIS K7136中所示的測定法測定霧值。
(3)耐擦傷性
將安裝有#0000的鋼絲絨的直徑25.4mm的圓形墊置於積層體的低折射率膜的表面，於2.0kg的負荷下，將20mm的距離往返擦傷10次，根據下式求出擦傷前與擦傷後的霧值的差(△霧值)，並清點試驗後的樣品表面的傷痕的條數來評價耐擦傷性。
[△霧值(%)]=[擦傷後的霧值(%)]-[擦傷前的霧值(%)]
(4)抗反射性
將利用砂紙將積層體的未積層有低折射率膜的面粗面化後進行消光並以黑色噴霧進行塗佈而成者作為評價用樣品，使用分光光度計(日立製作所(股份)製造，商品名：U-4000)，以入射角5°及波長380nm~780nm的範圍並依照JIS R3106中所示的測定法測定樣品的低折射率膜的表面的反射率，求出所獲得的反射率曲線的反射率最低的波長(底部(bottom)的波長)及底部的波長下的反射率(底部的波長反射率)。
另外，按以下的基準來評價使指紋附著於積層體的低 折射率膜的表面時有無反射色的變化。
◎：未看到反射色的變化。
○：略微看到反射色的變化。
×：看到了反射色的變化。
(5)防污性
藉由下述的水接觸角、三油酸甘油酯接觸角及油性油墨擦去性來評價積層體的低折射率膜的防污性。
(a)水接觸角
於23℃及相對濕度50%的環境下，將1滴離子交換水0.2μL滴加至低折射率膜的表面，使用可攜式接觸角計(Fibro system ab公司製造，商品名：PG-X)測定水與低折射率膜的接觸角，從而求出水接觸角。
(b)三油酸甘油酯接觸角
使用三油酸甘油酯來代替離子交換水，除此以外，以與水接觸角的測定的情況相同的方式求出三油酸甘油酯接觸角。
(c)油性油墨擦去性
利用油性油墨(黑色)(Sakura Craypas(股份)製造，商品名；My Name(黑))於積層體的低折射率膜的表面畫線，3分鐘後利用紙巾(Nippon Paper Crecia(股份)製造，商品名；Kimtowel)將其擦去，藉由目視並按以下的基準來評價此時的油性油墨的擦去程度。
◎：藉由5次的擦拭而將油性油墨完全擦去。
○：藉由5次的擦拭而略微殘留油性油墨的痕跡。
×：藉由5次的擦拭，油性油墨的一部分仍然附著。
(6)密接性
依照JIS K5600-5-6，於4個部位實施25個格子的網格的剝離評價，以100個格子之中未剝離而殘留的格子的數量來評價積層體的低折射率膜的密接性。
(7)各層的膜厚
利用切片機於積層體的厚度方向切出寬度為100nm的樣品，然後利用穿透式電子顯微鏡(日本電子(股份)製造的JEM-1010(商品名))觀察積層體的剖面，並測定各層的膜厚。
(8)耐汗性
依照JIS L0848的對於汗的染色堅牢度試驗方法的A法來調整人工汗液。
將積層體切成50mm×50mm的大小來作為評價用樣品。繼而，將脫脂棉切成30mm×30mm的大小，並將其載置於評價用樣品上，使用注射器，使人工汗液滴落至脫脂棉上而弄濕脫脂棉。將該樣品於溫度45℃及相對濕度95%的恆溫恆濕機中放置96小時後取出，用水清洗積層體的表面後藉由目視評價並按以下的基準來評價耐汗性。
○：未看到變色。
×：看到了變色。
(9)折射率測定
使用稜鏡耦合器(Prism Coupler)(Metricon(股份)製造，Model 2010)來測定594nm雷射下的低折射率膜、 高折射率膜、中折射率膜及接著層的折射率。
(10)干涉條紋
於3波長螢光管(東芝(股份)製造，商品名；Mellow5 40W)下，藉由5人的目視並按下述基準來評價積層體的表面有無干涉條紋。
◎：即使改變角度，亦看不到干涉條紋。
○：若改變角度，則可略微看到干涉條紋。
△：若改變角度，則可顯著地看干涉條紋。
×：即使不改變角度，亦可顯著地看干涉條紋。
(11)中折射率膜中的膜中央領城厚度(Tbi及Tci)、膜表層區域(a1)的厚度(Tai)、膜表層區域(a2)的厚度(Tdi)以及膜中央區域的長度
利用切片機於積層體(厚度為T nm)的厚度方向切出寬度為100nm的樣品。使用穿透式電子顯微鏡(日本電子(股份)製造的JEM-1010(商品名))對該樣品的厚度方向剖面拍攝含有MO微粒子的膜中或中折射率層中的MO微粒子的分布的狀態的照片。
將所獲得的樣品的厚度方向剖面的照片的MO微粒子的分布的狀態的示意圖示於圖1。
於照片中，在厚度方向剖面內相對於含有MO微粒子的膜或中折射率膜的膜厚，算出垂直方向的1200nm的長度中的不存在MO微粒子的膜中央區域的長度(Li)的合計長度(L)。例如，於圖1中，在1200nm的樣品剖面長度中，測定滿足式(1)及式(3)的膜中央區域厚度(Tbi 及Tci)以及膜表層區域(a1)的厚度(Tai)及膜表層區域(a2)的厚度(Tdi)，並且將該些經測定的部位的L1、L2、L3及L4的長度的合計(除作為本發明的範圍外的D1、D2、D3及D4的部分以外的長度)作為不存在MO微粒子的膜中央區域的長度(Li)的合計長度(L)。
[製造例1]二氧化矽溶膠(1)的製造
如以下般對中空二氧化矽進行個別處理。
向具備攪拌機及冷卻管的四口燒瓶反應容器中添加Thrulya S 63g，繼而添加KBM503 12g。其後，一面進行攪拌一面依次添加水4.4g及0.01mol/l的鹽酸水溶液0.1g，於80℃下進行2小時加熱。繼而，將反應系統變成減壓狀態並使揮發成分餾出直至固體成分濃度達到40%為止，然後添加甲苯38g並於80℃下加熱2小時。其後，將反應系統變成減壓狀態並使揮發成分餾出直至固體成分濃度達到60%為止，進而於80℃下加熱2小時，從而製成經水解處理及縮合反應處理的二氧化矽溶膠(1)。二氧化矽溶膠(1)是已白濁的液體，固體成分濃度為60%。
再者，固體成分濃度是以如下方式求出：將二氧化矽溶膠(1)於80℃的環境下加熱乾燥3日，根據乾燥前後的質量差並藉由計算而求出固體成分濃度。再者，根據相對於所使用的水解性矽烷化合物與無機微粒子(B)的合計100份的無機微粒子的質量比例，而求出二氧化矽溶膠(1)中的無機微粒子(B)的比例(%)。
[製備例1]LRM組成物(1)的製備
製備表1所示的LRM組成物(1)作為LRM組成物。
再者，於事先無特別說明的情況下，在25℃的環境下製備LRM組成物，並在25℃的環境下放置30分鐘，然後使用棒式塗佈機將表1所示的LRM組成物塗附於剝離用薄膜的表面。
[製備例2~製備例4]HRM組成物(1)~HRM組成物(3)的製備
製備表2所示的HRM組成物(1)~HRM組成物(3)作為HRM組成物。
再者，於事先無特別說明的情況下，在25℃的環境下製備HRM組成物，並在25℃的環境下放置30分鐘，然後使用棒式塗佈機將HRM組成物塗附於LRM組成物的塗膜的表面。
[製備例5~製備例12]MRM組成物(1)~MRM組成物(8)的製備
製備表3所示的中折射率組成物(1)~中折射率組成物(8)作為中折射率組成物。
再者，於事先無特別說明的情況下，在25℃的環境下製備MRM組成物，並在25℃的環境下放置30分鐘，然後使用棒式塗佈機將MRM組成物塗附於HRM組成物的塗膜的表面。
[實例1]
使用10號棒式塗佈機將LRM組成物(1)塗附於厚度100μm的PET薄膜(東洋紡(股份)，商品名：A4100)的表面，然後於100℃下乾燥1.5分鐘，且於150℃下乾燥1分鐘而形成LRM組成物塗膜。再者，PET表面的臨界表面張力為44mN/m。
繼而，於氮氣氣流下，使積層有LRM組成物塗膜的PET薄膜以4.5m/分的速度於9.6kW的高壓水銀燈(輸出功率設定為100%)的下方20cm的位置處通過，而使LRM組成物的塗膜硬化來獲得積層有低折射率膜的剝離用薄 膜。此時的累計光量為400mJ/cm2，峰值照度為260mW/cm2。
繼而，相對於配置在搬送帶上的厚度1mm、長度260mm的SUS製電極，使用Navitas(股份)製造的電暈處理裝置POLYDYNE(商品名)施加11.6kV的電壓來進行電暈放電，並使將低折射率膜的面作為上表面而配置於搬送帶上的積層有低折射率膜的剝離用薄膜以薄膜-電極間間隙為3mm、搬送速度為2.0m/分的條件通過電極下部，藉此實施電暈處理。該條件下的對於上述薄膜的照射能量為100W．分/m。
進而，使用10號棒式塗佈機將HRM組成物(1)塗附於進行了電暈處理的低折射率膜的表面，於100℃下乾燥1.5分鐘，且於150℃下乾燥1分鐘而形成HRM組成物塗膜，然後於空氣下，使其以4.5m/分的速度於9.6kW的高壓水銀燈(輸出功率設定為100%)的下方20cm的位置處通過，而使HRM組成物的塗膜硬化來獲得積層有高折射率膜的剝離用薄膜。再者，點亮2盞高壓水銀燈。此時的累計光量為800mJ/cm2，峰值照度為260mW/cm2。
繼而，使用10號棒式塗佈機將MRM組成物(1)塗附於高折射率膜的表面，於80℃下乾燥1.5分鐘，且於120℃下乾燥1分鐘而形成中折射率組成物塗膜，然後使其以4.5m/分的速度於9.6kW的高壓水銀燈(輸出功率設定為100%)的下方20cm的位置處通過，而使MRM組成物的塗膜硬化來獲得積層有中折射率膜的積層薄膜。此時的 累計光量為400mJ/cm2，峰值照度為260mW/cm2。
進而，使用10號棒式塗佈機將混合作為接著層形成材料的TAS 35份、C6DA 30份、M305 10份、M400 25份及DAROCUR 2份而獲得的活性能量線硬化性組成物塗附於積層有中折射率膜的積層膜的中折射率膜的表面，而積層用以形成接著層的塗膜，從而獲得轉印薄膜。
使用板厚為2mm的甲基丙烯酸樹脂板(Acrylite)作為基材，將上述轉印薄膜經由用以形成接著層的塗膜而積層於增溫至60℃的基材的表面。
使上述積層體於增溫至60℃的狀態下經過60秒後，以2.5m/分的速度經由PET薄膜而於輸出功率為9.6kW的金屬鹵化物燈的下方20cm的位置處通過，使用以形成接著層的塗膜硬化而形成接著層，從而獲得形成有接著層的積層體。作為用以獲得形成有接著層的積層體的硬化條件，累計光量為570mJ/cm2，峰值照度為220mW/cm2。
其後，自形成有接著層的積層體剝離PET薄膜而獲得積層體。
所獲得的積層體中的接著層的膜厚為13μm。將評價結果示於表4。
分別測定上述積層體的低折射率膜、高折射率膜及中折射率膜的膜厚，結果低折射率膜的膜厚為100nm，高折射率膜的膜厚為1,400nm，中折射率膜的膜厚為60nm。
上述積層體的全光線透過率為94.8%，霧值為0.15%，透明性優異。
積層體的低折射率膜的表面的擦傷性試驗後的△霧值為0.05%，傷痕的條數為1條。另外，積層體的密接性良好。
關於積層體的低折射率膜的表面的耐汗性，未看到變色。另外，積層體的低折射率膜的表面的底部的波長為620nm，底部的波長反射率為1.0%。進而，即便於積層體的低折射率膜的表面附著有指紋，亦未看到反射色的變化。另外，於干涉條紋的評價中，即使改變角度，亦未確認到干涉條紋。
積層體的低折射率膜的表面的水接觸角為105度，三油酸甘油酯接觸角為65度。另外，積層體的低折射率膜的表面的油性油墨擦去性亦為藉由5次的擦拭而將油性油墨完全擦去的程度。
另外，對中折射率膜中的MO微粒子的存在狀態進行觀察的結果，中折射率膜中的膜中央區域的比例為864nm(1200nm的72%)。
[實例2及實例3]
如表4所示般變更MRM組成物，除此以外，以與實例1相同的方式製作積層體。將評價結果示於表4。
[實例4及實例5]
如表4所示般變更MRM組成物，且作為接著層形成材料，變更成混合U6HA 10份，C6DA 30份、M305 30份、M400 30份及DAROCUR 2份而獲得的活性能量線硬化性組成物，除此以外，以與實例1相同的方式製作積層體。 將評價結果示於表4。
[實例6~實例8]
如表5所示般變更HRM組成物及MRM組成物，除此以外，以與實例1相同的方式製作積層體。將評價結果示於表5。
[實例9及實例10]
如表5所示般變更HRM組成物及MRM組成物，且作為接著層形成材料，變更成混合U6HA 10份，C6DA 30份、M305 30份、M400 30份及DAROCUR 2份而獲得的活性能量線硬化性組成物，除此以外，以與實例1相同的方式製作積層體。將評價結果示於表6。
[實例11]
如表6所示般變更HRM組成物，除此以外，以與實例2相同的方式製作積層體。將評價結果示於表6。
[實例12及實例13]
如表6所示般變更高折射率膜的膜厚，除此以外，以與實例2相同的方式製作積層體。將評價結果示於表6。
[實例14及實例15]
如表6所示般變更中折射率膜的膜厚，除此以外，以與實例2相同的方式製作積層體。將評價結果示於表6。
[實例16及實例17]
如表7所示般變更MRM組成物，且作為接著層形成材料，變更成混合U6HA 10份，C6DA 30份、M305 30份、M400 30份及DAROCUR 2份而獲得的活性能量線硬化性 組成物，除此以外，以與實例1相同的方式製作積層體。將評價結果示於表7。
[比較例1]
於實例2中，如下述所示般變更MRM組成物的製膜條件，除此以外，以與實例2相同的方式製作積層體。將評價結果示於表7。因於中折射率膜中未形成膜中央區域，故干涉條紋顯著。
<MRM組成物的製膜條件>
使用10號棒式塗佈機塗附MRM組成物(2)，於150℃下乾燥10分鐘而形成MRM組成物的塗膜，然後使其以4.5m/分的速度於9.6kW的高壓水銀燈(輸出功率設定為100%)的下方20cm的位置處通過，而使MRM組成物的塗膜硬化來獲得積層有中折射率膜的積層薄膜。此時的累計光量為400mJ/cm2，峰值照度為260mW/cm2。
[比較例2]
於實例2中未形成中折射率膜，除此以外，以與實例2相同的方式製作積層體。將評價結果示於表7。因不存在中折射率膜，故可顯著地看到干涉條紋。
[實例18]
使用10號棒式塗佈機將MRM組成物(1)塗附於厚度100μm的PET薄膜(東洋紡(股份)，商品名：A4100) 的PET表面，於80℃下乾燥1.5分鐘，且於120℃下乾燥1分鐘而形成MRM組成物塗膜，然後使其以4.5m/分的速度於9.6kW的高壓水銀燈(輸出功率設定為100%)的下方20cm的位置處通過，而使MRM組成物的塗膜硬化來獲得積層有膜厚為60nm的中折射率膜的積層薄膜。此時的累計光量為400mJ/cm2，峰值照度為260mW/cm2。
所獲得的積層膜表層的中折射率膜中的膜中央區域的厚度(Tbi)的最小值為12nm，最大值為24nm。另外，膜中央區域的厚度(Tci)的最小值為10nm，最大值為23nm。進而，不存在MO微粒子的膜中央區域的長度(Li)的合計長度(L)為864nm(1200nm的72%)。
T、Ta1、Ta2、Tb1、Tb2、Tc1、Tc2、Td1、Td2、Tai、Tbi、Tci、Tdi‧‧‧厚度
D1、D2、D3、D4、L1、L2、L3、L4、Li‧‧‧長度
圖1是本發明的含有金屬氧化物微粒子的膜的一例的厚度方向剖面圖。

Claims (13)

  1. 一種含有金屬氧化物微粒子的膜，其形成有不存在金屬氧化物微粒子的膜中央區域，且於所述膜中央區域的一側形成有存在金屬氧化物微粒子的膜表層區域(a1)、於膜中央區域的另一側形成有存在金屬氧化物微粒子的膜表層區域(a2)，其中形成所述膜表層區域(a1)與膜表層區域(a2)的所述金屬氧化物微粒子為相同的金屬氧化物微粒子，其中於所述含有金屬氧化物微粒子的膜的厚度方向剖面中，自所述含有金屬氧化物微粒子的膜的中心至所述膜表層區域(a1)及所述膜表層區域(a2)與所述膜中央區域的界面為止的所述膜中央區域的厚度(Tbi及Tci)、以及所述膜表層區域(a1)的厚度(Tai)及所述膜表層區域(a2)的厚度(Tdi)滿足下述式(1)~式(4)，且於所述含有金屬氧化物微粒子的膜的厚度方向剖面中，在厚度方向剖面內相對於所述含有金屬氧化物微粒子的膜的膜厚，垂直方向的1200nm的長度中的不存在金屬氧化物微粒子的所述膜中央區域的長度(Li)的合計長度(L)為240nm以上，0.1T≦Tbi≦0.4T (1) Tai=0.5T-Tbi (2) 0.1T≦Tci≦0.4T (3) Tdi=0.5T-Tci (4)其中，Tbi、Tci、Tai、Tdi以及Li分別表示第i個所述膜中央區域或所述膜表層區域(a1)及所述膜表層區域 (a2)的厚度、以及不存在金屬氧化物微粒子的所述膜中央區域的長度，另外，T表示含有金屬氧化物微粒子的膜的厚度。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之含有金屬氧化物微粒子的膜，其中所述含有金屬氧化物微粒子的膜的折射率為1.5~1.65。
  3. 一種轉印薄膜，其是於剝離用薄膜的一面依次積層具有折射率(Nx)的低折射率膜、具有折射率(Ny)的高折射率膜及具有折射率(Nz)的中折射率膜而成的轉印薄膜，該些折射率是藉由波長594nm雷射來測定，且滿足下述式(5)，所述中折射率膜為如申請專利範圍第1項所述之含有金屬氧化物微粒子的膜，Nx<Nz<Ny (5)。
  4. 如申請專利範圍第3項所述之轉印薄膜，其中所述低折射率膜包含具有含有全氟聚醚基與氮原子的單體(A)單元的聚合物、及無機微粒子。
  5. 如申請專利範圍第4項所述之轉印薄膜，其中所述含有全氟聚醚基與氮原子的單體(A)是由下述結構式(1)所示的單體， (式中，W表示全氟聚醚基)。
  6. 一種轉印薄膜的製造方法，其是於剝離用薄膜的一面依次積層具有折射率(Nx)的低折射率膜、具有折射率(Ny)的高折射率膜及作為具有折射率(Nz)的中折射率膜的如申請專利範圍第1項所述之含有金屬氧化物微粒子的膜，該些折射率由波長594nm雷射來測定，且滿足下述式(5)的轉印薄膜的製造方法，於剝離用薄膜的一面積層所述低折射率膜後積層所述高折射率膜，繼而於所述高折射率膜的表面塗佈含有金屬氧化物微粒子的膜用組成物，然後於140℃以下的溫度下使稀釋溶劑乾燥來積層所述中折射率膜，其中所述含有金屬氧化物微粒子的膜用組成物含有金屬氧化物微粒子及包含揮發速度為100以下的溶劑20質量%以上的稀釋溶劑，Nx<Nz<Ny (5)。
  7. 一種積層體(A)，其於基材的至少一面直接或經由其他層而積層有如申請專利範圍第1項所述之含有金屬氧化物微粒子的膜。
  8. 一種積層體(B)，其於基材的至少一面直接或經由其他層而依次積層具有折射率(Nz)的中折射率膜、具有折射率(Ny)的高折射率膜及具有折射率(Nx)的低折射率膜，該些折射率由波長594nm雷射來測定，且滿足下述式(5)，所述中折射率膜為如申請專利範圍第1項所述之含有金屬氧化物微粒子的膜，Nx<Nz<Ny (5)。
  9. 如申請專利範圍第8項所述之積層體，其中所述低折射率膜包含具有含有全氟聚醚基與氮原子的單體(A)單元的聚合物、及無機微粒子。
  10. 如申請專利範圍第9項所述之積層體，其中所述含有全氟聚醚基與氮原子的單體(A)是由下述結構式(1)所示的單體， (式中，W表示全氟聚醚基)。
  11. 一種如申請專利範圍第7項所述之積層體(A)的製造方法，其於基材的表面塗佈含有金屬氧化物微粒子的膜用組成物，然後於140℃以下的溫度下使稀釋溶劑乾燥，藉此積層中折射率層，其中所述含有金屬氧化物微粒子的膜用組成物含有金屬氧化物微粒子及包含揮發速度為100以下的溶劑20質量%以上的溶劑，且用以形成含有金屬氧化物微粒子的膜。
  12. 一種如申請專利範圍第8項所述之積層體(B)的製造方法，其是於基材的至少一面直接或經由其他層而依次積層具有折射率(Nz)的中折射率膜、具有折射率(Ny) 的高折射率膜及具有折射率(Nx)的低折射率膜，該些折射率由波長594nm雷射來測定，且滿足下述式(5)的積層體(B)的製造方法，該積層體(B)的製造方法包括如下步驟：經由用以形成接著層的塗膜，將基材與如申請專利範圍第4項至第6項中任一項所述之轉印薄膜的中折射率膜的面貼合來形成轉印薄膜疊層物；自用以形成接著層的塗膜獲得接著層而形成轉印薄膜積層體；以及將剝離用薄膜自所述轉印薄膜積層體上剝離而形成積層體；Nx<Nz<Ny (5)。
  13. 如申請專利範圍第12項所述之積層體的製造方法，其中所述用以形成接著層的塗膜含有活性能量線硬化性混合物，於轉印薄膜積層體形成步驟中，對所述用以形成接著層的塗膜照射活性能量線，使所述活性能量線硬化性混合物硬化而獲得所述接著層，從而形成所述轉印薄膜積層體。
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