TWI589451B - 單面薄偏光板之製造方法 - Google Patents

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TWI589451B TW103130276A TW103130276A TWI589451B TW I589451 B TWI589451 B TW I589451B TW 103130276 A TW103130276 A TW 103130276A TW 103130276 A TW103130276 A TW 103130276A TW I589451 B TWI589451 B TW I589451B
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孫賢喜
河東鈞
朴光承
李南貞
朴俊昱
黃泰俊
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Description

單面薄偏光板之製造方法
本發明係關於單面薄偏光板之製造方法。
偏光板是一種用於將自然光或預定的偏光轉換成在特定方向上的偏光的光二極體,並且被廣泛用於顯示裝置,例如液晶顯示器和有機發光二極體(OLED)。最近被用於顯示裝置的偏光板已被普遍用於其中保護膜被層壓在偏光片之兩個表面上的結構,該偏光片是由使用二色染料或碘染色的聚乙烯醇(以下稱為「PVA」)類樹脂所形成的。
然而,依據最近顯示裝置厚度減小的趨勢,偏光板也需要具有減小的厚度。因此,提出一種單面偏光板的製造技術,其中保護膜只被黏附於偏光片的一個表面;一種形成聚乙烯醇類膜(以下稱為「PVA」)的技術,該聚乙烯醇類膜具有50μm或更小的小厚度,該聚乙烯醇類膜為偏光片或類似物。
然而,在單面偏光板的現有製造方法中,其中保護膜被供應到PVA的一個表面,黏著劑組成物被施加在其間,並使用按壓輥進行按壓,製造是困難的。原因在於,在 施加黏著劑組成物的處理中,在所施加的黏著劑組成物之寬度比偏光片之寬度更小的情況下,非黏附表面被形成在偏光片上,並且具有該非黏附表面的PVA類膜在進行後處理時被剝離。因此,為了防止此問題,將黏著劑組成物以比偏光片的寬度更寬的寬度施加,但在這種情況下,被以比偏光板的寬度更寬的寬度施加的黏著劑會在按壓處理中污染按壓輥。
同時,鑑於減小的厚度,最佳是使用具有小厚 度的PVA類膜來製造單面偏光板。然而,在單面偏光板的現有製造方法被直接應用於厚度50μm或更小的薄PVA類膜(由於拉伸而在TD方向上具有低剛度)的情況下,單面偏光板很容易因為被施加於PVA類膜的兩個表面的模數之間的差異而破損。
因此,對於開發一種技術存在需求,藉由該技 術,在製造單面偏光板的製程中可以使用厚度50μm或更小的薄偏光片,而且即使是黏著劑組成物的施加寬度比偏光片的寬度稍大,在製造製程中也可以容易又簡單地防止污染發生。
本發明已致力於提供一種單面薄偏光板之製造 方法,其中,由於使用了厚度50μm或更小的薄偏光片,故厚度明顯是小的,並且在製造製程中可以容易地防止污染發生,因此加工性是優異的,而且經濟可行性與生產率都是高的。
本發明的示例性實施例提供一種單面薄偏光板 之製造方法,包括:供應處理膜到偏光片之一個表面,該偏光片具有50μm或更薄的厚度;供應保護膜到該偏光片之另一個表面;藉由在該偏光片和該保護膜之間供應黏著劑組成物來形成黏著層;藉由在每個該處理膜和該保護膜的表面上放置一對按壓單元來按壓出該處理膜/該偏光片/該保護膜之層壓體;以及剝離該處理膜,其中該偏光片和該處理膜之間的剝離力為1.0N或更小。
此外,本發明的單面薄偏光板之製造方法可以 進一步包括在剝離該處理膜之後,在被剝離該處理膜的表面上形成保護層。
同時,在本發明的單面薄偏光板之製造方法 中,該黏著劑組成物可以使用自由基可固化組成物或陽離子可固化組成物形成。
此外,在本發明的單面薄偏光板之製造方法 中,該保護層可以使用自由基可固化組成物或陽離子可固化組成物形成。
在這種情況下,該保護層之模數可以是500MPa 至6000MPa,並且厚度可以是0.5μm至10μm。
同時,該處理膜之厚度可以是20μm至100 μm,而且該處理膜之寬度可以大於該偏光片之寬度。此外,該處理膜之表面粗糙度(Ra)可以是0.5nm至60nm。
同時,較佳的是,該偏光片被拉伸之後的厚度 為50μm或更薄,該拉伸可以是濕拉伸或乾拉伸,並且拉伸倍率可以是4倍以上。
此外,依據本發明所製造的單面薄偏光板之厚 度可以是30μm至140μm。
依據本發明的製造方法,使用厚度50μm或更 小的薄偏光片製造具有明顯小的厚度的薄偏光板、並且在製造製程中容易地防止污染發生是有可能的,因此製程中的加工性是優異的。
此外,在使用依據本發明的單面薄偏光板之製 造方法的情況下,由於該方法可以使用輥對輥處理以連續的製程進行,故生產率是高的,並且該方法是非常經濟的。
10,20‧‧‧按壓輥
30,40‧‧‧運作輥
50‧‧‧黏著劑組成物施加單元
60,80‧‧‧活性能量射線照射單元
70‧‧‧用於形成保護層的組成物施加單元
100‧‧‧偏光片
110‧‧‧偏光輥
200‧‧‧處理膜
210‧‧‧處理膜輥
220‧‧‧剝離的處理膜捲繞輥
300‧‧‧保護膜
310‧‧‧保護膜輥
400‧‧‧單面薄偏光板捲繞輥
500‧‧‧形成保護層的單面薄偏光板捲繞輥
圖1示意性圖示依據本發明的單面薄偏光板之製造方法的示例性實施例。
圖2示意性圖示依據本發明的單面薄偏光板之製造方法的另一個示例性實施例。
以下將參照附圖來描述本發明的較佳示例性實施例。然而,本發明的示例性實施例可以被修改成各種其它的形式,而且本發明的範圍並不限於以下將描述的示例性實施例。此外,提供本發明的示例性實施例使得本技術領域中具有通常知識者可以更完整地瞭解本發明。為了明確地理解,圖式中元件的形狀、大小等可以被誇大表示。
本發明的發明人反復研究,開發出一種單面薄偏光片的製造方法,該方法能夠降低偏光板的破損發生率並 防止按壓處理中出現輥污染,而且本發明的發明人發現,上述目的可以藉由供應處理膜到偏光板未黏附保護膜的表面之上部、然後進行按壓處理來實現,從而完成了本發明。
更具體來說,依據本發明的單面薄偏光板之製 造方法包括:供應處理膜到厚度50μm或更薄的偏光片之一個表面;供應保護膜到該偏光片的另一個表面;藉由在該偏光片和該保護膜之間供應黏著劑組成物來形成黏著層;藉由在該處理膜和該保護膜的表面上分別放置一對按壓單元來按壓出該處理膜/該偏光片/該保護膜之層壓體;以及剝離該處理膜,並且該偏光片和該處理膜之間的剝離力為1.0N或更小。
也就是說,依據本發明的單面薄偏光板之製造 方法可以包括膜供應處理、按壓處理、及剝離處理。以下將參照圖1來描述依據本發明的單面薄偏光板之製造方法的示例性實施例。圖1為圖示依據本發明的單面薄偏光板之製造方法的示意性剖面圖。
在依據本發明的單面薄偏光板之製造方法中, 膜供應處理包括供應處理膜到厚度50μm或更薄的偏光片之一個表面的步驟以及供應保護膜到偏光片之另一個表面的步驟。更具體來說,例如,如圖1所圖示,膜供應處理可以藉由將處理膜200供應到偏光片100的一個表面、同時將保護膜300供應到偏光片的另一個表面的方法來進行,偏光片100是由厚度50μm或更薄的聚乙烯醇類樹脂膜所形成。
本文中,供應偏光片100、處理膜200、及保護 膜300的方法可以藉由使用本技術領域中眾所周知的方法來進行。例如,如圖1所圖示,偏光片100、處理膜200、及保護膜300可以一邊被供應,一邊被分別捲繞在輥110、210、及310上,但並不限於此。
特別的是,在依據本發明的單面薄偏光板之製 造方法中,當如上所述使用處理膜200時,由按壓單元施加的壓力可以被處理膜200吸收,以減輕施加到偏光片的應力,從而有效地減少破損。
此外,如上所述,在相關的技術中,由於按壓 單元被直接定位在偏光片的上表面上,所以黏著劑會污染按壓單元,也就是按壓處理中的輥。然而,在依據本發明的薄偏光板之製造方法中,因為處理膜200存在於偏光片的上部上,當保護膜300和偏光片100被黏合時,由於所使用的黏著劑所造成的按壓單元污染相對少見。
同時,可以將每個膜的供應速度決定為對於供 應膜的製造製程來說是適當的值,而且並沒有特別的限制,但是,舉例來說,以3M/min到50M/min的速度供應膜有利於穩定的黏合。
此外,如圖1所圖示,偏光片100、處理膜200、 及保護膜300的供應方向可以是對角的方向,但並不限於此。因此,一部分的偏光片100、處理膜200、及保護膜300可以被垂直供應或平行供應。
本文中,關於偏光片100,可以使用厚度50μm 或更薄的偏光片,而且偏光片的厚度是指拉伸之後的厚度。 也就是說,在本發明中,偏光片被拉伸之後的厚度較佳為50μm或更薄、更佳為4μm至30μm或4μm至25μm。這是因為在偏光片被拉伸之後的厚度滿足前述數值的情況下,製造具有較小厚度的單面薄偏光板是容易的。
同時,關於偏光片100,通常使用含有碘類化 合物或二色性染料的分子鏈被排列成預定方向的聚乙烯醇類樹脂膜。偏光片100可以藉由其中碘或二色性染料被染在聚乙烯醇類樹脂膜上、接著被以預定方向拉伸和交聯的方法來製造。在這種情況下,拉伸處理可以藉由在諸如硼酸水溶液或碘水溶液的溶液中進行的濕拉伸、在空氣中進行的乾拉伸、或類似者來進行,較佳的是拉伸倍率為4倍以上,更具體為4倍至15倍或4倍至13倍,而且較佳的是拉伸方向為聚乙烯醇類樹脂膜的長度方向(機器方向,MD方向)。此外,聚乙烯醇的聚合度並沒有特別的限制,但考慮到分子運動的不受限性及與所含材料的均勻混合,聚合度較佳可以為約1,000至10,000,更佳為約1,500至5,000。在本發明中,關於偏光片100,可以使用市場上的商品,例如可以使用由KURARAY有限公司、日本合成化學有限公司(Nippon Gohsei Co.,Ltd.)、或類似者製造的產品。
此外,在本發明中,可以被用來作為處理膜200 的膜並沒有特別的限制,只要在偏光片100和處理膜200之間的剝離力為1.0N或更小即可。一般來說,由於偏光片和基質之間的黏著力是在約1.01N至4N的程度,所以在偏光片和處理膜之間的剝離力大於1.0N的情況下,處理膜可能 不容易被剝離或是偏光片可能會在剝離處理中被損壞,如稍後將描述的。
在本說明書中,偏光片和處理膜之間的剝離力 是指使用寬度20mm和長度100mm的單面偏光板藉由以300m/min的速度進行90°剝離的方法所量測的值。在這種情況下,剝離表面可以是處理膜和PVA類膜之間的界面或處理膜和黏著層之間的界面。
同時,處理膜200的具體實例可以包括選自於 由聚對苯二甲酸乙二酯膜、聚乙烯膜、聚碳酸酯膜、三乙醯基纖維素膜、環烯烴聚合物膜、及丙烯酸膜所組成之群組中的一種或更多種,但並不限於此。在這種情況下,在與PVA類膜具有高黏著力的基質(例如丙烯酸膜)被用作處理膜200的情況下,為了滿足偏光片100和處理膜200之間的剝離力條件,可以進行個別的表面處理。
表面處理可以藉由本技術領域中眾所周知的方 法來進行,但是例如,可以藉由諸如矽塗佈的方法來進行。
同時,處理膜200的厚度沒有特別的限制,但 是例如,就運作的穩定性方面來說,厚度較佳為20μm至100μm或25μm至75μm。在處理膜的厚度滿足上述數值範圍的情況下,可以防止由於進行UV固化時產生的熱導致的膜膨脹及/或收縮所產生的皺紋,而且當進行UV固化時,紫外線可以充分地到達黏著層,以解決產生未固化部分的問題。
此外,在本發明中,較佳的是,處理膜200的 寬度比偏光片100的寬度更大。在處理膜200的寬度比偏光 片100的寬度更大的情況下,可以更有效地減少黏著劑對按壓單元的污染。
此外,較佳的是,處理膜200的表面粗糙度Ra 為例如0.5nm至60nm、1nm至55nm、或2nm至50nm。
本文中,表面粗糙度是指形成在處理膜表面上 的微小不平整形狀的尺寸。在本發明中,由於在處理膜整個表面上的微小表面不平整形狀具有上述的尺寸,故其表面積明顯增加,因此,即使未形成個別的黏著層或類似物,但仍可與偏光片有效地黏合。特別的是,在本發明中,在使用的處理膜具有在上述範圍內的表面粗糙度值的情況下,由於可以防止在偏光片的表面上形成不平整以使表面變得粗糙的橘皮現象(orange peeling phenomenon)出現,故處理膜是非常有利的。
同時,在依據本發明的單面薄偏光板之製造方 法中,保護膜300並沒有特別的限制,只要保護膜是透明的基質膜即可。保護膜的更具體實例可以包括選自於由聚對苯二甲酸乙二酯膜、聚乙烯膜、聚碳酸酯膜、三乙醯基纖維素膜、環烯烴聚合物膜、丙烯酸膜、及類似物所組成之群組中的一種或更多種,但並不限於此。
接著,膜供應處理包括藉由在偏光片100和保 護膜300之間供應黏著劑組成物來形成黏著層的步驟。
本文中,形成黏著層的步驟可以在預定的膜供 應處理步驟中藉由將黏著劑組成物施加在偏光片100的結合表面和保護膜300的結合表面中之至少一側上的方法來進 行。在圖1中,藉由使用黏著劑施加裝置50來將黏著劑組成物施加於保護膜300的結合表面上,但上面被施加黏著劑組成物的表面並不限於此。例如,黏著劑組成物可以被施加在偏光片100的結合表面上,而不是被施加在保護膜300的結合表面上。
在這種情況下,上面被施加黏著劑組成物的保 護膜300黏著表面可以在被施加黏著劑組成物之前進行表面活化處理,例如電暈處理、電漿處理、UV照射處理、或電子束照射處理。
在本發明中,黏著劑組成物設以黏合偏光片100 和保護膜300,而且黏著劑組成物並沒有特別的限制,只要黏著劑組成物是藉由照射活性能量射線來固化即可。黏著劑組成物的更具體實例可以包括陽離子可固化組成物或自由基可固化組成物,該陽離子可固化組成物包括環氧丙基醚類環氧化合物、脂環族環氧化合物及/或氧呾化合物、及類似物,該自由基可固化組成物包括丙烯酸類化合物及類似物。
此外,用於施加黏著劑組成物的方法並沒有特 別的限制,只要所需的黏著劑組成物量可以藉由該方法均勻地施加即可。更具體來說,例如,施加可以藉由使用各種塗佈方法來進行,該塗佈方法例如刮刀、線棒、模具塗佈、間歇塗佈、及凹版塗佈,但並不限於此。
同時,如上所述形成的黏著層(如圖1所示) 可以藉由使用活性能量射線照射單元60藉由照射活性能量射線來進行固化。在這種情況下,活性能量射線可以包括諸 如α-粒子束、質子束、及中子束等粒子束,以及紫外線、電子束、微波、紅外線(IR)、X射線、及γ射線,而且通常可以使用紫外線、電子束、或類似物。
在這種情況下,被照射在黏著層上的活性能量 射線之照射強度可以是500mJ/cm2至3000mJ/cm2,並且照射時間可以是0.1秒至20秒。在活性能量射線的照射強度和照射時間滿足上述數值範圍的情況下,黏著劑的固化速度是高的,膜的外觀性質和光學性質也不會退化,因此生產率是優異的。此外,在活性能量射線的照射方向的情況下,照射可以在上面形成黏著層的處理膜200表面上或保護膜300表面上進行,而且如圖1所圖示,照射可以在兩個表面上皆進行。
就加工性方面來說,較佳的是,如上所述固化 的黏著層厚度為0.1μm至10μm、0.3μm至5μm、或0.5μm至4.0μm。也就是說,在黏著層的厚度為0.1μm以上的情況下,塗佈性質是優異的,而在厚度為10μm或更薄的情況下,黏著層可以具有優異的耐久性。
接著,按壓處理可以包括藉由分別放置一對按 壓單元在處理膜200和保護膜300的表面上來按壓出處理膜200/偏光片100/保護膜300之層壓體的步驟。更具體來說,例如,如圖1所圖示,按壓可以藉由使用一對按壓單元進行按壓的方法來進行,該對按壓單元之間夾置具有處理膜200/偏光片100/保護膜100結構的層壓體。在這種情況下,按壓單元並沒有特別的限制,但是舉例來說,可以使用諸如輥型 層壓體10和20的黏合機。
在這種情況下,按壓步驟可以例如在0.5MPa 至6MPa或1MPa至5MPa的壓力下進行。在藉由上述壓力按壓處理膜200/偏光片100/保護膜300層壓體的情況下,可以確保有穩定的運作性質而不會損傷偏光片,而且在膜被黏合時流入其中的氣泡可以被有效地去除。
接著,剝離處理可以包括剝離處理膜200的步 驟,例如,如圖1所圖示,剝離可以藉由處理膜200被剝離以使被剝離的處理膜200圍繞處理膜捲繞輥220捲繞同時使所形成的單面薄偏光板圍繞偏光板捲繞輥400捲繞的方法來進行。
在依據本發明的單面薄偏光板之製造方法中, 由於膜供應處理、按壓處理、及剝離處理可以使用輥對輥處理以連續的製程同時進行,故生產率是高的,而且該方法是非常經濟的。
若需要的話,如圖2所圖示,在剝離處理膜200 的步驟之後,本發明的製造方法可以進一步包括在處理膜200被剝離的表面上形成保護層的步驟。假使形成了上述的保護層,則即使是在防潮的環境中,仍可防止偏光片100變色,而且偏光片在熱衝擊環境中的收縮應力可以受到保護層保護,以防止偏光板中產生裂紋,因此能夠確保依據本發明的單面薄偏光板之優異防水性及熱衝擊性。
本文中,形成保護層的步驟可以藉由將用於形 成保護層的組成物施加在偏光片100的一個表面上、然後乾 燥及/或固化的方法來進行。例如,如圖2所圖示,保護層可以藉由使用施加單元70施加用於形成保護層的組成物、然後使用固化單元80進行固化的方法來形成。
施加用於形成保護層的組成物的施加單元70 並沒有特別的限制,只要施加單元能夠以所需的量均勻地施加用於形成保護層的組成物即可。更具體來說,例如,施加可以藉由使用各種塗佈方法來進行,該塗佈方法例如刮刀、線棒、模具塗佈、間歇塗佈、及凹版塗佈,但並不限於此。
此外,如圖2所圖示,如上所述形成的保護層 可以藉由使用活性能量射線照射單元80照射活性能量射線來進行固化。在這種情況下,活性能量射線的種類、照射強度、照射時間、以及照射方向皆與在形成黏著層的步驟中描述的那些相同。
同時,藉由上述方法固化的保護層之厚度可以 為例如0.5μm至10μm或0.5μm至7μm。為了在熱衝擊環境中藉由防止偏光板中出現裂紋來確保依據本發明的薄偏光板之熱衝擊性,需要將保護膜和保護層的模數設計為大於偏光片的收縮應力。在這種情況下,保護層的模數取決於保護層的厚度,而且在保護層的厚度滿足上述數值範圍的情況下,保護膜和保護層的模數大小係大於偏光片的收縮應力,因此,可容易確保偏光板的熱衝擊性。
在本發明中,用於形成保護層的組成物並沒有 特別的限制,但考慮到製程的方便性,較佳的是該組成物為藉由照射活性能量射線而固化的組成物。用於形成保護層的 組成物之更具體實例可以包括陽離子可固化組成物或自由基可固化組成物,該陽離子可固化組成物包括環氧丙基醚類環氧化合物、脂環族環氧化合物及/或氧呾(oxetane)化合物、及類似物,該自由基可固化組成物包括丙烯酸類化合物及類似物。
同時,保護層在70℃下的模數可以是例如500 MPa至6000MPa、1000MPa至5500MPa、或1500MPa至5000MPa。這是因為在本發明中,在保護層的模數具有上述值的情況下,可以確保偏光板的耐熱性和熱衝擊性。
本文中,模數是展現預定材料之彈性性質的指 標,並且係由材料中相對於預定空間位置和時間的應力和變形率之間的比例係數所界定。也就是說,在簡單張力的情況下,當應力為σ、變形率為ε、並且模數為E時,σ可被定義為Eε。此外,在本說明書中,模數是依據使用TA儀器公司製造的DMA(動態機械分析儀)設備施加的應力、藉由量測頻率回應的變化所得的值。
此外,保護層的玻璃轉移溫度(Tg)可以是例 如70℃至300℃。
同時,藉由上述方法,如圖2所圖示,形成保 護層的單面薄偏光板可以被偏光板捲繞輥500圍繞捲繞,以被製造成輥的形式。
依據本發明製造的單面薄偏光板之厚度可以是 例如30μm至140μm、30μm至130μm、或30μm至120μm。
如上所述,在使用依據本發明的單面薄偏光板 之製造方法的情況下,可以使用厚度50μm或更薄的薄偏光片來製造具有明顯小的厚度的薄偏光板,並且在製造製程中可以容易地防止污染發生,因此加工性是優異的。此外,由於該方法可以使用輥對輥處理以連續的製程進行,所以生產率是高的,而且該方法是非常經濟的。
實例1
當厚度20μm的聚乙烯醇類膜(由Nippon Gohsei Co.,Ltd.製造的產品)在25℃的氛圍下被以10M/min的速度在水平方向上移動時,將厚度38μm、與偏光片的剝離力為0.2N或更小、以及表面粗糙度Ra為27nm的PET膜(由TSI Inc.製造的產品)作為處理膜供應到聚乙烯醇類膜的上表面上,並且將丙烯酸膜(由Nippon Catalyst PTE Ltd.製造的產品)作為保護膜供應到PET膜的下表面,並以10M/min的速度在2MPa的壓力下通過一對輥。在這種情況下,使用梅爾棒(Mayer Bar)將UV可固化黏著劑組成物以2μm的厚度施加於聚乙烯醇類膜和保護膜之間。之後,在使用弧光燈照射500mJ/cm2的紫外線以進行固化後,將處理膜剝離,以製造單面薄偏光板,其中作為保護膜的丙烯酸膜只被黏附於聚乙烯醇類膜的一個表面。
實例2
藉由與實例1相同的方法製造單面薄偏光板,不同之處僅在於在保護膜被剝離之後,將與UV可固化黏著劑組成物相同的組成物施加在保護膜被剝離的表面上,並在相同的條件下固化,以進一步形成保護層。
比較例1
當厚度20μm的聚乙烯醇類膜(由Nippon Gohsei Co.,Ltd.製造的產品)在25℃的氛圍下被以10M/min的速度在水平方向上移動時,將丙烯酸膜(由Nippon Catalyst PTE Ltd.製造的產品)作為保護膜供應到聚乙烯醇類膜的一個表面,並以10M/min的速度在2MPa的壓力下通過一對輥。在這種情況下,使用梅爾棒將UV可固化黏著劑組成物以2μm的厚度施加於聚乙烯醇類膜和保護膜之間。之後,在使用弧光燈照射500mJ/cm2的紫外線以進行固化後,製造出單面薄偏光板,其中作為保護膜的丙烯酸膜只被黏附於聚乙烯醇類膜的一個表面。
比較例2
藉由與實例1相同的方法製造單面薄偏光板,不同之處僅在於使用與偏光片具有3N剝離力的PET膜作為處理膜。
比較例3
藉由與實例1相同的方法製造單面薄偏光板,不同之處僅在於使用表面粗糙度Ra為65nm的PET膜作為處理膜。
實驗例1-輥的污染或無污染
相對於由實例1至2和比較例1至3製造的單面薄偏光板,量測輥在製造製程中是否被污染。量測是藉由以肉眼確認膜的兩端皆通過的輥區之污染度、按壓黏附保護膜的表面之其它表面的方法來進行。將結果描述於下表1 中。在沒有被污染部分的情況下,該情況係由×表示,而在有被污染部分的情況下,該情況係由○表示。
實驗例2-偏光片的破損或無破損
相對於由實例1至2和比較例1至3製造的單面薄偏光板,量測偏光片在製造製程中是否破損。量測是在藉由紫外線進行固化之後藉由肉眼確認偏光片在移到偏光板捲繞輥400和500的處理中是否破損的方法來進行。將結果描述於下表1中。在偏光片沒有破損的情況下,該情況係由×表示,而在偏光片有破損的情況下,該情況係由○表示。
實驗例3-偏光板外觀之評估
使用由實例1和2及比較例1至3製造的單面薄偏光板藉由肉眼量測偏光片是否出現橘皮現象。在偏光片的表面上形成不平整以使表面變得粗糙的橘皮現象不會出現的情況下,該情況係由×表示,而在橘皮現象出現的情況下,該情況係由○表示,並將結果描述於下表1中。
如表1所列,可以看出的是,在使用處理膜製 造的實例1單面薄偏光板及在去除處理膜之後形成保護層的實例2的情況下,在製造製程中輥沒有被污染並且偏光片沒有破損,而且可以在沒有出現橘皮現象下輕易地製造具有優良外觀的偏光片。
另一方面,在未使用處理膜製造薄偏光板的比 較例1的情況下,輥被污染了,而且偏光片在製造製程中破損。此外,在使用處理膜、但偏光片和處理膜之間的剝離力大於1.0N的比較例2的情況下,偏光片在剝離處理膜的處理中破損了,而在使用表面粗糙度偏離本發明數值範圍的處理膜製造偏光板的比較例3的情況下,偏光板中出現橘皮現象而明顯降低了外觀性質。
雖然詳細描述了本申請案的示例性實施例,但 本發明的範圍並不限於該等示例性實施例,而且對於本技術領域中具有通常知識者而言顯而易見的是,在不偏離申請專利範圍中所述的本發明精神之下,可以對該等示例性實施例進行各種修改和變化。
10,20‧‧‧按壓輥
30,40‧‧‧運作輥
50‧‧‧黏著劑組成物施加單元
60‧‧‧活性能量射線照射單元
100‧‧‧偏光片
110‧‧‧偏光輥
200‧‧‧處理膜
210‧‧‧處理膜輥
220‧‧‧剝離的處理膜捲繞輥
300‧‧‧保護膜
310‧‧‧保護膜輥
400‧‧‧單面薄偏光板捲繞輥

Claims (15)

  1. 一種單面薄偏光板之製造方法,包含:供應一處理膜到一偏光片之一表面,該偏光片具有一4μm至30μm的厚度;供應一保護膜到該偏光片之另一個表面;藉由在該偏光片和該保護膜之間供應一黏著劑組成物來形成一黏著層;藉由在每個該處理膜和該保護膜的每個表面上放置一對按壓單元來按壓出該處理膜/該偏光片/該保護膜之一層壓體;以及剝離該處理膜;其中該偏光片和該處理膜之間的剝離力為1.0N或更小。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之單面薄偏光板之製造方法,更包含:在剝離該處理膜之後,在一被剝離該處理膜的表面上形成一保護層。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之單面薄偏光板之製造方法,其中該黏著劑組成物係使用一自由基可固化組成物或一陽離子可固化組成物所形成。
  4. 如申請專利範圍第2項所述之單面薄偏光板之製造方法,其中該保護層係使用一自由基可固化組成物或一陽離子可固化組成物所形成。
  5. 如申請專利範圍第2項所述之單面薄偏光板之製造方法,其中該保護層之模數為500MPa至6000MPa。
  6. 如申請專利範圍第2項所述之單面薄偏光板之製造方 法,其中該保護層之厚度為0.5μm至10μm。
  7. 如申請專利範圍第1項所述之單面薄偏光板之製造方法,其中該按壓係在0.5MPa至6MPa的壓力下進行。
  8. 如申請專利範圍第1項所述之單面薄偏光板之製造方法,其中該處理膜之厚度為20μm至100μm。
  9. 如申請專利範圍第1項所述之單面薄偏光板之製造方法,其中該處理膜之寬度大於該偏光片之寬度。
  10. 如申請專利範圍第1項所述之單面薄偏光板之製造方法,其中該處理膜之表面粗糙度(Ra)為0.5nm至60nm。
  11. 如申請專利範圍第1項所述之單面薄偏光板之製造方法,其中該處理膜包括選自於由聚對苯二甲酸乙二酯膜、聚乙烯膜、聚碳酸酯膜、三乙醯基纖維素膜、環烯烴聚合物膜、及丙烯酸膜所組成之群組中的一種或更多種。
  12. 如申請專利範圍第1項所述之單面薄偏光板之製造方法,其中該保護膜包括選自於由聚對苯二甲酸乙二酯膜、聚乙烯膜、聚碳酸酯膜、三乙醯基纖維素膜、環烯烴聚合物膜、及丙烯酸膜所組成之群組中的一種或更多種。
  13. 如申請專利範圍第1項所述之單面薄偏光板之製造方法,其中該偏光片進行過濕拉伸或乾拉伸。
  14. 如申請專利範圍第13項所述之單面薄偏光板之製造方法,其中該濕拉伸或乾拉伸係以4倍至15倍的拉伸倍率進行。
  15. 如申請專利範圍第1項所述之單面薄偏光板之製造方法,其中該單面薄偏光板之厚度為30μm至140μm。
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