TWI583987B - An optical film and a method of manufacturing the same, an anti-glare polarizing element, and a display device - Google Patents

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Description

光學薄膜及其製造方法、防眩性偏光元件、以及顯示裝置
本發明係關於一種光學薄膜及其製造方法、防眩性偏光元件、以及顯示裝置。詳細而言，係關於一種具備硬塗層之光學薄膜。
近年來，液晶顯示器(Liquid Crystal Display：LCD)或電漿顯示器(Plasma Display Panel：PDP)等各種顯示裝置廣泛普及。該等顯示裝置之畫面中，由於太陽光或室內照明等之外光映入，尤其係亮處之視認性明顯受到阻礙，因此多使用在畫面表面使外光擴散反射之防眩性薄膜等光學薄膜。
先前，該光學薄膜中，為於畫面表面使外光擴散反射，而使用在表面構成微細凹凸結構之方法。具體而言，考慮到擦傷性而將硬塗層塗料中分散有透明微粒子之擴散層塗佈於透明塑膠基材上之方法成為當前液晶顯示裝置之主流。
然而，對於以近來之薄型電視為代表之上述各種顯示裝置而言，畫質之提高、高精細化急速發展，像素不斷小型化。因此存在如下問題：透過光學薄膜之光因防眩層中之微粒子或表面凹凸結構引起之折射或擴散而變形，圖像變得不清晰或產生作為亮度不均現象之炫光，或者表面成為暗淡之畫質而品質顯著劣化。因此，使用微粒子形成表面凹凸結構之當前的光學薄膜無法充分追隨如上所述之畫質之提高或高精細化，而期望實現不使用微粒子來形成表面凹凸結構之光學薄膜。
再者，先前，作為於表面形成微細凹凸結構以於畫面表面使外光擴散反射之方法，研究出：如下述日本專利特公平4-59605號公報、日本專利第3374299號公報、日本專利特開2004-29240號公報、及日本專利特開2005-156615號公報所示，藉由壓花(形狀轉印)形成微細凹凸結構之方法。
於日本專利特公平4-59605號公報中提出有如下方法：藉由壓花加工於纖維素系塑膠之偏光板保護薄膜表面形成微細凹凸粗面，進而利用有機溶劑將微細凹凸粗面表層之一部分溶解，藉此製造高清晰度無反射偏光板。
於日本專利第3374299號公報中提出有如下防眩薄膜之製造方法：該防眩薄膜係於透明塑膠薄膜上具有電離放射線硬化型樹脂之粗大凹凸層、及沿著其表面之細小凹凸，利用壓花法、噴砂法、及乾燥時之樹脂對流法之任一者來形成該粗大凹凸，並藉由薄膜狀塗層、或升高效果來形成細小凹凸。
於日本專利特開2004-29240號公報中提出有如下防眩性抗反射薄膜之製造方法：於藉由壓花加工對薄膜表面賦予凹凸之抗反射薄膜中，使壓花加工中使用之版之凹凸的算術平均粗度為0.05 μm以上且2.00 μm以下，使凹凸之平均週期為50 μm以下。
於日本專利特開2005-156615號公報中提出有如下防眩薄膜之製造方法：於熱塑性樹脂薄膜之製膜步驟中，在將模板按壓於薄膜面而於表面形成凹凸之前或之後，利用拉幅機進行延伸，並於所獲得之凹凸面上形成硬塗層。
如上所述，於日本專利特公平4-59605號公報中，作為偏光板保護薄膜，係利用有機溶劑將藉由壓花加工而形成於纖維素系塑膠表面之微細凹凸粗面部分地溶解，製作平滑之凹凸面，而形成高清晰度無反射偏光板。然而，因表面上未形成有硬塗層，因此擦傷性較差，難以用於液晶電視等需要耐久性之液晶顯示產品。又，於日本專利特公平4-59605號公報中，關於表現出防眩性之表面形狀並無記載。
於日本專利第3374299號公報、及日本專利特開2004-29240號公報中，以表面粗度來規定表面形狀，但算術平均粗度統計地包含大小之複雜之凹凸。因此，存在擴散反射特性完全未得到控制，形成暗淡之防眩薄膜，導致畫質明顯惡化之問題。
於日本專利特開2005-156615號公報中提出有如下防眩薄膜：於熱塑性樹脂薄膜之製膜步驟中，按壓模板而將凹凸狀轉印於薄膜表面，並於薄膜表面塗佈形成硬塗層。然而，關於表面形狀，僅將熱塑性樹脂之凹凸面之中心線平均粗度Ra限定於0.05~10 μm之範圍(例如參照請求項11)，關於表現出防眩性之表面形狀並無任何記載。因此，存在擴散反射特性完全未得到控制，形成暗淡之防眩薄膜，導致畫質明顯惡化之問題。
如上所述，不使用微粒子而藉由表面形狀來表現防眩性之先前光學薄膜中，使表面性簡單地為凹凸狀，僅藉由面粗度(算術平均粗度)來規定表面形狀、或者以擴散反射特性(光學特性)來規定表面形狀，關於明確之表面形狀並無規定。
因此，本發明之目的在於提供一種不使用微粒子而可獲得高防眩性及高對比度之光學薄膜及其製造方法、防眩性偏光元件、以及顯示裝置。
為解決先前技術所具有之上述問題而進行了努力研究，結果提出了本發明。以下說明其概要。
本發明者們藉由實驗對可維持防眩性並且抑制白濁感之不使用微粒子之防眩性光學薄膜進行了努力研究。
首先，藉由實驗對下述內容進行了努力研究：是否可藉由利用輥表面上實施有雷射雕刻之壓花輥進行輥壓，而使半球狀等之所需之結構體轉印形成於基材上。結果發現，可藉由調整壓花輥之溫度與壓力，而轉印形成半球狀等之結構體。
轉印溫度與轉印壓力係根據透明基材之物性決定。例如使用TAC作為透明基材之情形時，轉印溫度較好的是170℃至190℃之範圍。其原因在於，若小於170℃則轉印量變得不充分而產生平坦部分。若超過190℃則容易產生熱皺摺。轉印壓力較好的是150 kg/cm以上。其原因在於，當小於該轉印壓力時，若不將轉印速度下降至數m/分鐘以下則會產生平坦部分，因此處理速度提不高而生產性較差。
進而發現，僅藉由在其轉印面上塗佈硬塗劑並進行乾燥、硬化，並且控制硬塗劑之塗佈厚度，就可仿照基材之結構體而獲得連續且平滑之波面，獲得近乎理想之擴散反射特性。
塗佈厚度較好的是3 μm至20 μm。其原因在於，若小於3 μm則表面硬度較小而容易受傷，若超過20 μm則翹曲變大，製成偏光板後亦容易殘留翹曲。
本發明係基於以上研究而提出者。
為解決上述課題，第1發明係一種光學薄膜，其具備：凸狀之結構體呈二維且規則地配設於表面之基材，及於基材之配設有結構體之面上形成的硬塗層；於硬塗層表面，仿照基材表面之結構體而形成有連續之波面，連續之波面之最大振幅A及最小波長λ大致固定，最大振幅A與最小波長λ之比率(A/λ)超過0.002且為0.011以下。
第2發明係一種光學薄膜之製造方法，其具備：於基材表面呈二維且規則地形成凸狀之結構體之步驟；及於基材之形成有結構體之面上塗佈硬塗劑並使其硬化，藉此形成硬塗層之步驟；且於硬塗層表面，仿照基材表面之結構體而形成有連續之波面，連續之波面之最大振幅A及最小波長λ大致固定，最大振幅A與最小波長λ之比率(A/λ)超過0.002且為0.011以下。
第3發明係一種防眩性偏光元件，其具備：偏光元件，及設置於偏光元件上之光學薄膜；且光學薄膜具備：凸狀之結構體呈二維且規則地配設於表面之基材，及於基材之配設有結構體之面上形成的硬塗層；且於硬塗層表面，仿照基材表面之結構體而形成有連續之波面，連續之波面之最大振幅A及最小波長λ大致固定，最大振幅A與最小波長λ之比率(A/λ)超過0.002且為0.011以下。
第4發明係一種顯示裝置，其具備：顯示圖像之顯示部，及設置於顯示部之顯示面側之光學薄膜；且光學薄膜具備：凸狀之結構體呈二維且規則地配設於表面之基材，及於基材之配設有結構體之面上形成的硬塗層；且於硬塗層表面，仿照基材表面之結構體而形成有連續之波面，連續之波面之最大振幅A及最小波長λ大致固定，最大振幅A與最小波長λ之比率(A/λ)超過0.002且為0.011以下。
於本發明中，仿照基材表面之結構體而於硬塗層表面形成連續之波面，連續之波面之最大振幅A及最小波長λ大致固定，並且將最大振幅A與波長λ之比率(A/λ)設定為超過0.002且為0.011以下之範圍內，因此可於硬塗層表面形成平滑之波紋，並利用該波紋使光擴散。又，硬塗層不含微粒子，因此與藉由使微粒子自表面突出而表現出防眩性之先前光學薄膜相比，可提高光之透射性，獲得較高之對比度。
如以上所說明般，根據本發明，可藉由硬塗層表面之平滑波紋使光擴散，並且硬塗層之光透射性較高，因此可實現具有高防眩性及高對比度之光學薄膜。
以下，一面參照圖式一面對本發明之實施形態進行說明。再者，於以下實施形態之所有圖中，對相同或對應部分附記相同符號。
(1)第1實施形態 (1-1)液晶顯示裝置之構成
圖1表示本發明第1實施形態之液晶顯示裝置之構成的一例。如圖1所示，該液晶顯示裝置具備使光出射之背光源3、及對自背光源3出射之光進行時間空間調變而顯示圖像之液晶面板2。於液晶面板2之兩面分別設置有偏光元件2a、2b。設置於液晶面板2之顯示面側之偏光元件2b上設置有光學薄膜1。於本發明中，將於一個主面上形成有光學薄膜1之偏光元件2b稱為防眩性偏光元件4。
作為背光源3，例如可使用直下型背光源、邊緣型背光源、平面光源型背光源。背光源3例如具備光源、反射板、光學薄膜等。作為光源，例如可使用冷陰極螢光管(Cold Cathode Fluorescent Lamp：CCFL)、熱陰極螢光管(Hot Cathode Fluorescent Lamp：HCFL)、有機電致發光(Organic ElectroLuminescence：OEL)、發光二極體(Light Emitting Diode：LED)等。
作為液晶面板2，例如可使用扭轉向列(Twisted Nematic：TN)模式、超扭轉向列(Super Twisted Nematic：STN)模式、垂直配向(Vertically Aligned：VA)模式、水平排列(In-Plane Switching：IPS)模式、光學補償彎曲配向(Optically Compensated Birefringence：OCB)模式、鐵電性(Ferroelectric Liquid Crystal：FLC)模式、高分子分散型液晶(Polymer Dispersed Liquid Crystal：PDLC)模式、相變型賓主(Phase Change Guest Host：PCGH)模式等顯示模式者。
於液晶面板2之兩面，例如以使透射軸相互正交之方式而設置偏光元件2a、2b。偏光元件2a、2b係僅使入射光中正交之偏光成分中之一方通過，並藉由吸收而遮蔽另一方者。作為偏光元件2a、2b，例如可使用：使聚乙烯醇系薄膜、部分甲縮醛化聚乙烯醇系薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化薄膜等親水性高分子薄膜吸附碘或二色性染料等二色性物質並加以單軸延伸者。
(1-2)光學薄膜之構成
圖2表示本發明第1實施形態之光學薄膜之構成的一例。如圖2所示，該光學薄膜1具備基材11、及設置於該基材11上之硬塗層12。
全部光線透射率較好的是92%以上。其原因在於，若為92%以上，則不會使透明基材之透射性劣化，而保持來自背光源之光量。霧度較好的是1.5%以下。其原因在於，若為1.5%以下，則可抑制背光源之光之散射、及表面反射光之散射，可視覺確認到黑色作為黑。內部霧度較好的是0.5%以下。其原因在於，若為0.5%以下，則同樣可抑制背光源之光之散射，可視覺確認到更接近自然之顏色。白濁度較好的是0.7%以下。其原因在於，若為0.7%以下，則同樣地可視覺確認到更黑之顏色作為黑。再者，霧度係將表面霧度與內部霧度相加所得者。
(基材)
基材11係具有透明性之塑膠基材。作為基材11之形狀，例如可使用具有透明性之薄膜、薄片、基板等。作為基材11之材料，例如可使用公知之高分子材料。作為公知之高分子材料，具體而言，例如可列舉：三乙醯纖維素(TAC，triacetyl cellulose)、聚酯(TPEE，thermoplastic polyester elastomer，熱塑性聚酯彈性體)、聚對苯二甲酸乙二酯(PET，polyethylene terephthalate)、聚醯亞胺(PI，polyimide)、聚醯胺(PA，polyamide)、芳族聚醯胺、聚乙烯(PE，polyethylene)、聚丙烯酸酯、聚醚碸、聚碸、聚丙烯(PP，polypropylene)、二乙醯纖維素、聚氯乙烯、丙烯酸系樹脂(PMMA，polymethylmethacrylate，聚甲基丙烯酸甲酯)、聚碳酸酯(PC，polycarbonate)、環氧樹脂、脲樹脂、胺基甲酸酯樹脂、三聚氰胺樹脂、環烯烴系樹脂(例如Zeonor)、苯乙烯-丁二烯共聚物(SBC，styrene-butadiene copolymer)等。自生產性之觀點考慮，基材11之厚度較好的是38~100 μm，但並不特別限定於該範圍。
又，基材11較好的是具有作為偏光元件2b之保護薄膜之功能。其原因在於，無需於偏光元件2b上另外設置保護薄膜，因此可使具有光學薄膜1之偏光元件2b薄型化。
圖3表示基材表面之凹凸狀之一例。如圖3所示，基材11係於設置有硬塗層12之一個主面上具有凹凸狀。具體而言，凸狀結構體11a呈二維且規則地配設於基材11之表面。具體而言，例如作為結構體11a之配設圖案P，可列舉四角形狀、六角狀、八角形狀等。再者，圖3中表示將結構體11a配設為六角狀之例。結構體11a較好的是具有大致相同之高度。結構體11a係規則地配設於自任意結構體11a之頂點觀察為不同之兩個方向a、b上。方向a、b所成之角θ係根據所需之配設圖案P而適宜選擇。例如於配設圖案P如圖3所示般為六角狀之情形時，方向a、b所成之角θ為60度。又，沿著不同之兩個方向切斷之硬塗層之剖面較好的是連續波形。
作為凸狀結構體11a之形狀，例如可列舉半球狀(圓頂狀)、錐體狀或柱狀，但並不限定於該等形狀，可根據所需之光學特性而任意選擇。作為錐體狀，例如可列舉圓錐狀、圓錐台狀、多角錐狀等。作為多角錐之形狀，例如可列舉四角錐、六角錐、八角錐等形狀。作為柱狀，例如可列舉圓柱狀、多角柱狀等。作為多角柱之形狀，例如可列舉四角柱、六角柱、八角柱等形狀。又，可對結構體11a賦予形狀異向性，自調整顯示裝置之水平方向及垂直方向之光學特性的觀點考慮，例如較好的是對基材11之面內方向中正交之兩個方向賦予形狀異向性。具體而言，作為具有形狀異向性之結構體11a之形狀，例如可列舉橢圓柱狀、半橢圓球狀、橢圓錐台狀、於一個方向上經延伸之多角柱狀或多角錐狀等。
作為結構體間11b之形狀，例如可使用剖面V字狀、剖面U字狀等形狀，但並不限定於該等形狀，可根據所需之光學特性而任意選擇。又，可對結構體間11b之形狀賦予形狀異向性，自調整顯示裝置之水平方向及垂直方向之光學特性的觀點考慮，例如較好的是對基材11之面內方向中正交之兩個方向賦予形狀異向性。具體而言，例如可使結構體間11b之距離視方向而不同。例如，可使於面內正交之兩個方向中的一個方向之結構體間11b的距離大於另一方向之結構體間11b的距離。
(硬塗層)
硬塗層12係用以對基材11之表面即光學薄膜或顯示裝置等之表面一併賦予耐擦傷性與防眩性者，係較基材11更硬之高分子樹脂層。於硬塗層表面，仿照基材11之結構體11a而形成有連續之波面。硬塗層12之凹部及凸部的位置分別與基材11之凹部及凸部的位置相對應。硬塗層表面之凹凸量小於基材表面之凹凸量，硬塗層之塗佈厚度越厚則凹凸量越小。
連續之波面之最大振幅A及最小波長λ大致固定。藉此，可於塗佈硬塗層時於整個塗佈面抑制平坦部之產生，維持防眩性。又，最大振幅A與最小波長λ之比率(A/λ)超過0.002且為0.011以下。其原因在於，若為0.002以下，則有防眩性下降之傾向，若超過0.011，則有白濁度上升之傾向。於本發明中，所謂連續波之波面，係指於硬塗層表面並無不連續點或階差而平滑地延伸，具體而言表示於硬塗層表面之任意點可進行微分。又，最小波長λ係指相鄰接之結構體11a之頂點間之距離中最小的距離。又，最大振幅A係指將波面之凹部底面作為基準時的波面之凸部頂點的高度。
通過鄰接之結構體11a之頂點而切斷之硬塗層12的剖面較好的是連續波形，進而好的是正弦波狀。其原因在於，可獲得優異之擴散反射特性。於本發明中，正弦波狀亦包含大致正弦波狀。
(1-3)壓花轉印裝置
其次，參照圖4，對成形具有上述構成之基材11的壓花轉印裝置進行說明。如圖4所示，該壓花轉印裝置具備壓花輥21、及背壓軋輥22。
作為壓花輥21，例如可使用感應發熱套輥、熱媒循環輥、內置加熱器之輥等加熱輥。作為輥表面之壓花加工之方法，可使用雷射雕刻、噴砂、機械雕刻、光蝕刻等各種方法，較好的是雷射雕刻。其原因在於，噴砂時，難以使凹部21a之深度相同並且呈二維且規則地形成凹部21，機械雕刻或光蝕刻等時，難以實施超過250線/inch之高密度雕刻。又，超過500線/inch之超高密雕刻較好的是利用CO2雷射、或YAG雷射進行雕刻。作為表面處理，就長時間使用之磨損耐久性優異之方面而言，較好的是硬質鍍鉻或陶瓷噴塗。
對於背壓軋輥22，為於基材表面轉印微細壓花而必需較高之壓力，因此較好的是將具有例如JIS-D80度以上之橡膠硬度之橡膠層、或硬度與其相當之樹脂層施加於鐵輥表面，並對表面進行研磨精加工。
又，較好的是於背壓軋輥22之鐵輥內部進行冷媒循環而加以冷卻，或者使用冷卻輥或冷卻噴嘴將橡膠層、或樹脂層之表面冷卻。其原因在於，可防止背壓軋輥22之橡膠層、或樹脂層於壓花處理中受到來自壓花輥21之連續傳熱而溫度上升，導致基材11軟化或熔化，可進行連續之壓花轉印。
圖5表示壓花輥表面之凹凸狀之一例。如圖5所示，壓花輥21於其圓柱面具有凹凸狀(壓花形狀)。具體而言，用以於基材11上形成結構體11a之凹部21a形成於壓花輥21之表面。凹部21a係呈二維且規則地配設於壓花輥21之表面。具體而言，例如作為凹部21a之配設圖案P，可列舉四角形狀、六角狀、八角形狀等。再者，圖5中表示將結構體11a配設為六角狀之例。又，結構體11a係規則地配設於自任意結構體11a之頂點觀察為不同之兩個方向a、b上。方向a、b所成之角θ係根據所需之配設圖案P而適宜選擇。例如，於配設圖案P如圖5所示般為六角形之情形時，方向a、b所成之角θ為60度。
作為形成結構體11a之凹部21a之形狀，例如可列舉半圓球狀(圓頂狀)、錐體狀或柱狀，但並不限定於該等形狀，可根據所需之光學特性而任意選擇。作為錐體狀，例如可列舉圓錐狀、圓錐台狀、多角錐狀等。作為多角錐之形狀，例如可列舉四角錐、六角錐、八角錐等形狀。作為柱狀，例如可列舉圓柱狀、多角柱狀等。作為多角柱之形狀，例如可列舉四角柱、六角柱、八角柱等之形狀。又，可對凹部21a賦予形狀異向性，自調整顯示裝置之水平方向及垂直方向之光學特性的觀點考慮，較好的是對壓花輥21之面內方向中正交之兩個方向例如圓周方向與高度方向賦予形狀異向性。具體而言，作為具有形狀異向性之凹部21a的形狀，例如可列舉橢圓柱狀、半橢圓球狀、橢圓錐台狀、於一個方向上經延伸之多角柱狀或多角錐狀等。作為凹部間21b之形狀，例如可使用剖面V字狀、剖面U字狀等形狀，但並不限定於該等形狀，可根據所需之光學薄膜1之光學特性而任意選擇。又，凹部間21b之形狀可無需形狀異向性，自調整顯示裝置之水平方向及垂直方向之光學特性的觀點考慮，較好的是例如對壓花輥21之面內方向中正交之兩個方向例如圓周方向與高度方向賦予形狀異向性。具體而言，例如凹部間21b之距離視方向而不同。例如可使於面內正交之兩個方向中的一個方向之凹部間21b的距離大於另一方向之凹部間21b的距離。
(1-4)光學薄膜之製造方法
其次，參照圖6，對具有上述構成之光學薄膜之製造方法的一例進行說明。為提高生產性、降低成本，以下說明之各步驟較好的是藉由捲對捲(roll-to-roll)進行。
(轉印步驟)
首先，使用圖4所示之壓花轉印裝置，使壓花輥21與背壓軋輥22於其間夾持有基材11之狀態下連續旋轉，並且對基材11進行加熱及加壓，藉此於基材11之表面轉印凹凸狀。藉此，如圖6A所示，結構體11a呈二維且規則地形成於基材11之表面。
(塗料製備步驟)
其次，例如將樹脂、光聚合起始劑及溶劑混合而製備硬塗劑(塗料)。又，視需要亦可添加光穩定劑、紫外線吸收劑、抗靜電劑、阻燃劑、抗氧化劑及黏度調整劑等。
作為樹脂，自製造容易性之觀點考慮，較好的是將藉由光或電子束等而硬化之電離放射線硬化型樹脂、及藉由熱而硬化之熱硬化型樹脂的至少一種作為主成分者，最好的是藉由紫外線而硬化之感光性樹脂。作為此種感光性樹脂，例如可使用丙烯酸胺基甲酸酯、環氧丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、多元醇丙烯酸酯、聚醚丙烯酸酯、三聚氰胺丙烯酸酯等丙烯酸酯系樹脂。例如丙烯酸胺基甲酸酯樹脂可藉由使異氰酸酯單體或預聚物與聚酯多元醇進行反應，並使具有羥基之丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯系單體與所獲得之產物進行反應而獲得。硬化後之特性可適宜選擇，例如自圖像透射性之觀點考慮，較好的是透光性優異者，自耐擦傷性之觀點考慮，較好的是具有高硬度者。再者，感光性樹脂並不特別限定於上述例，只要為具有透光性者則可使用，但較好的是不會由於著色或霧度而使透射光之色調或透射光量顯著變化者。尤其好的是使用與所用之基材11之折射率差較小的樹脂。其原因在於，若使用折射率差較大之樹脂則會於基材界面發生反射而導致白濁。
較好的是於感光性樹脂中適宜混合藉由乾燥而成為固體之胺基甲酸酯樹脂、丙烯酸樹脂、甲基丙烯酸樹脂、苯乙烯樹脂、三聚氰胺樹脂、纖維素系樹脂，進而適宜混合電離放射線硬化型低聚物、熱硬化型低聚物而使用。藉由適宜混合上述樹脂，可調整硬塗層12之硬度或捲曲。樹脂並不限定於上述例，例如作為聚合物，可使用具有丙烯雙鍵之類的電離放射線官能基、-OH基等熱硬化性基者。
作為感光性樹脂中所含之光聚合起始劑，例如可將二苯甲酮衍生物、苯乙酮衍生物、蒽醌衍生物等單獨使用或併用。該感光性樹脂中可進而適宜選擇調配更好地形成皮膜之成分例如丙烯酸系樹脂等。
作為溶劑，較好的是將所使用之樹脂原料溶解並且與基材11之潤濕性良好、且不會使基材11變白者，例如可列舉：包含丙酮、二乙基酮、二丙基酮、甲基乙基酮、甲基丁基酮、甲基異丁基酮、環己酮、甲酸甲酯、甲酸乙酯、甲酸丙酯、甲酸異丙酯、甲酸丁酯、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸異丙酯、乙酸丁酯、乙酸異丁酯、乙酸第二丁酯、乙酸戊酯、乙酸異戊酯、乙酸第二戊酯、丙酸甲酯、丙酸乙酯、丁酸甲酯、丁酸乙酯、乳酸甲酯等酮類或羧酸酯類之溶劑，甲醇、乙醇、異丙醇、正丁醇、第二丁醇、第三丁醇等醇類。該等溶劑可為單一成分亦可為2種以上之成分之混合物，進而，亦可於不損及樹脂組成物之性能之範圍內添加上述例示者以外之溶劑。
作為抗靜電劑，例如可使用導電性碳、無機微粒子、無機微粉末、界面活性劑、離子性液體等。該等抗靜電劑可單獨使用或將2種以上併用。作為無機微粒子及無機微粉末之材料，例如可列舉將導電性金屬氧化物作為主成分之材料。作為導電性金屬氧化物，例如可使用氧化錫、氧化銦、ATO(antimony doped tin oxide，摻銻氧化錫)、ITO(indium doped tin oxide，摻銦氧化錫)、銻氧化鋅等。作為界面活性劑，例如可列舉：羧酸系化合物及磷酸鹽系鹽之類的陰離子系或兩性系化合物、胺系化合物或四級銨鹽之類的陽離子系化合物、脂肪酸多元醇酯系化合物或聚氧乙烯加成物之類的非離子系化合物、聚丙烯酸衍生物之類的高分子系化合物。離子性液體係於室溫下呈液狀之熔鹽。作為離子性液體，較好的是與溶劑及樹脂具有相溶性、且於後述乾燥步驟中使溶劑揮發後亦以相溶於樹脂之狀態而存在者。具體而言，作為離子對之陽離子種，例如可列舉：包含含氮鎓之脂肪族四級銨陽離子、含氮雜環結構之四級銨陽離子、包含含磷鎓之鏻陽離子、包含含硫鎓之鋶陽離子等。作為離子對之陰離子種，例如可列舉：鹵素陰離子、有機羧基陰離子、有機氟系陰離子等。尤其若陰離子為三(三氟甲基磺醯基)硝酸之類的有機氟系陰離子，則於常溫下容易成為液態離子對，因此較好。又，離子性液體不僅可單獨使用亦可併用數種。
(塗敷步驟)
其次，如圖6B所示，將所製備之硬塗劑13塗敷於基材11上。所塗敷之硬塗劑13之液面流平，但由於與基材表面之凹凸狀之間有厚度分布，因此藉由乾燥時之體積變化而形成平滑之凹凸狀氣液界面，而可獲得硬塗層12之表面凹凸量小於基材11之表面凹凸量的光學薄膜1。又，基材11之表面凹凸量可藉由塗敷之硬塗劑13之厚度來控制擴散反射特性。進而，由於自塗佈至硬化為止之所有製程中能以非接觸之方式形成表面，故可提供無缺陷之品質較高的光學薄膜1。
塗敷方法並無特別限定，可使用公知之塗敷方法。作為公知之塗敷方法，例如可列舉微凹版塗佈法、線棒塗佈法、直接凹版塗佈法、模塗法、浸漬法、噴射塗佈法、反向輥塗佈法、簾幕式塗佈法、刮刀式塗佈法、刀塗佈法、旋轉塗佈法等。
(乾燥步驟)
其次，藉由使塗敷於基材11上之硬塗劑13乾燥，而使溶劑揮發。乾燥條件並無特別限定，可為自然乾燥，亦可為調整乾燥溫度或乾燥時間等之人工乾燥。其中，於乾燥時對塗料表面吹風之情形時，較好的是塗膜表面不產生風成波痕。其原因在於，若產生風成波痕，則存在於防眩層表面難以形成所需之平滑波紋之微細凹凸狀的傾向，而難以兼具防眩性與對比度。又，乾燥溫度及乾燥時間可根據塗料中所含溶劑之沸點來適宜決定。該情形時，乾燥溫度及乾燥時間較好的是考慮基材11之耐熱性而於不會由於熱收縮引起基材11變形之範圍內選定。
(硬化步驟)
其次，藉由例如電離放射線照射或加熱，而使於基材11上乾燥之樹脂硬化。藉此，如圖6C所示，可將結構體11a作為一個凸起，於硬塗層12之表面形成平滑之波面。作為電離放射線，例如可使用電子束、紫外線、可見光線、伽瑪線、電子束等，自生產設備之觀點考慮，較好的是紫外線。累計照射量較好的是考慮樹脂之硬化特性、樹脂或基材11之黃變抑制等而適宜選擇。又，作為照射之氣體環境，可根據樹脂硬化之情況而適宜選擇，例如可列舉空氣、氮氣、氬氣等惰性氣體之環境。
藉由以上操作，可獲得目標光學薄膜。
於本發明之第1實施形態中，仿照基材表面之結構體11a而於硬塗層表面形成連續之波面，使連續波面之最大振幅A及最小波長λ大致固定，並且將最大振幅A與波長λ之比率(A/λ)設定為0.0025~0.011之範圍內，因此可形成硬塗層表面之平滑波紋，並利用該波紋來使光擴散。又，硬塗層12不含微粒子，因此與藉由使微粒子自表面突出而表現出防眩性之先前光學薄膜相比，光之透射性提高，可獲得更高之對比度。因此，可實現可不使用微粒子而維持防眩性並且抑制白濁感之防眩性光學薄膜。又，可藉由表面之凹凸狀而自由地設計光學薄膜之防眩性。
又，利用藉由雷射雕刻對輥表面以500線/inch(直徑約為50 μm)施加有深度為5~10 μm之蜂窩狀孔的壓花輥21進行輥壓之情形時，藉由調整壓花輥21之溫度與壓力，可轉印形成轉印凸量為2~6 μm之圓頂狀結構體11a。進而，若於其轉印面塗佈硬塗劑13並使其乾燥、硬化，則可獲得沿著基材11之凹凸狀而具有正弦曲線狀之平滑波紋的表面形狀。此時，僅控制塗佈厚度就可獲得近乎理想之擴散反射特性。藉由如上所述般操作，可於硬塗層表面形成對高防眩及低白濁而言較為重要之平滑波紋。又，可簡單地控制擴散反射特性。進而，作為光學薄膜，期望無缺陷，此方面亦可同時滿足。
又，為明確防眩性(擴散反射特性)，而於壓花輥21之表面形成規則排列之凹凸圖案。通常所使用之噴砂之情形時，凹凸為三維，因此除了以算術平均粗度來表現表面形狀以外無其他方法。進而，若於其噴砂面塗佈硬塗層，則雖可確認防眩性，但存在由於硬塗層塗料之黏度及表面張力而導致基材上之較小凹凸被硬塗層埋沒之弊端，因此迄今為止難以規定表現出防眩性之表面形狀。相對於此，於該第1實施形態中，藉由使用深度固定且規則排列之凹凸圖案版進行壓花轉印，而使高度相同之突起形成於基材表面，藉由使硬塗劑13之塗佈厚度變化，可使與表面所產生之振幅A/波長λ所對應之防眩性(擴散反射特性)的關係明確。
又，藉由噴砂進行轉印之情形時，表面凹凸量容易變得不均勻，相對較小之凹凸部分容易由於硬塗層塗佈被埋沒而變平坦。因此，不得不嚴密控制用以表現防眩性之塗佈厚度，自生產性之觀點考慮，更好的是使用凹凸高度固定之壓花輥進行轉印。
(2)第2實施形態
圖7係表示本發明第2實施形態之光學薄膜之構成之一例的剖面圖。如圖7所示，該光學薄膜於在基材11與硬塗層12之間設置有抗靜電層14之方面與第1實施形態不同。基材11及硬塗層12與上述第1實施形態相同，因此附記相同符號並省略其說明。
抗靜電層14含有樹脂及抗靜電劑。視需要可於抗靜電層中含有光穩定劑、紫外線吸收劑、抗靜電劑、難燃劑、抗氧化劑及黏度調整劑等添加劑。作為樹脂及抗靜電劑，可使用與第1實施形態之硬塗層12相同者。
於該第2實施形態中，於基材11與硬塗層12之間設置抗靜電層14，因此可獲得具有高防眩性、高對比度、耐擦傷性及抗靜電功能之光學薄膜。
(3)第3實施形態
圖8係表示本發明第3實施形態之光學薄膜之構成之一例的剖面圖。如圖8所示，該光學薄膜1於硬塗層12上具備抗反射層15之方面與第1實施形態不同。基材11及硬塗層12與上述第1實施形態相同，因此附記相同符號並省略其說明。
作為抗反射層15，例如可使用含有中空微粒子之低折射率層、或含有氟系樹脂之低折射率層。作為中空微粒子，可列舉：二氧化矽、氧化鋁等之無機微粒子，或苯乙烯、丙烯酸等之有機微粒子，尤其好的是二氧化矽微粒子。該中空微粒子於內部含有空氣，因此其自身之折射率低於通常之粒子。例如二氧化矽微粒子之折射率=1.46，相對於此，中空二氧化矽微粒子之折射率≦1.45。
於該第3實施形態中，於硬塗層12上設置抗反射層15，因此與第1實施形態相比可提高防眩性。
[實施例]
以下，利用實施例對本發明進行具體說明，但本發明並非僅限定於該等實施例。
於本實施例中，使用圖4所示之壓花轉印裝置，對作為基材之薄膜轉印壓花。以下，對本實施例中使用之壓花轉印裝置進行說明。
於壓花輥之表面進行氧化鉻之陶瓷噴塗，研磨後實施500線/inch之CO2雷射雕刻，藉此形成平均直徑約為50 μm、深度為10 μm之蜂窩孔壓花版。又，壓花輥中內置加熱用加熱器，可將溫度調節至200℃以上。
背壓軋輥係於鐵輥表面繞上硬度為JIS-D90度之橡膠並進行研磨精加工，使用水冷之冷卻輥及空氣冷卻噴嘴。以於壓花輥與背壓軋輥之間夾持有80 μm厚之三乙醯纖維素(TAC)薄膜之狀態連續旋轉，並且進行加熱、加壓。若以低溫、低壓之條件進行壓花，則無法沿著接觸之壓花壁以薄膜表面附有壓痕之程度而形成圓頂狀突起。另一方面，高溫、高壓下，雖轉印量大但薄膜發生熱變形，無法獲得良好之產品。線壓越高則轉印量越增加，但輥之彎曲增大，由此寬度方向上無法獲得均勻之線壓，故伴隨有經濟性的判斷。因此，重要的是找出基材之物性、尺寸方面最佳之壓花條件。
凹凸圖案係形成於壓花輥之表面，於本實施例中，為明確防眩性(擴散反射特性)而形成規則排列之凹凸圖案。通常所使用之噴砂之情形時，凹凸係三維地形成，因此除了以算術平均粗度來表現表面形狀以外無其他方法。進而，若於其噴砂面塗佈硬塗層，則雖可確認防眩性，但存在由於硬塗劑之黏度及表面張力而薄膜上之較小凹凸被硬塗層埋沒之弊端，因此迄今為止難以規定表現出防眩性之表面形狀。
於本實施例中，藉由使用深度固定且規則排列之凹凸圖案版進行壓花轉印，而使高度相同之結構體形成於薄膜表面，藉由使硬塗層之塗佈厚度變化，可明確與表面所產生之最大振幅A/最小波長λ所對應之防眩性(擴散反射特性)的關係。
(實施例1)
首先，於加熱至180℃之壓花輥與冷卻至50℃之背壓軋輥之間夾持有80 μm厚之三乙醯纖維素(TAC)薄膜之狀態下連續旋轉輥，並且以2000 N/cm之線壓夾持而將壓花輥之凹凸狀連續轉印至TAC薄膜表面。其後，將80重量份之丙烯酸胺基甲酸酯低聚物、20重量份之乾燥硬化型丙烯酸聚合物、及5重量份之反應起始劑IRG-184混合於乙酸丁酯中，製備硬塗劑，利用線棒將該硬塗劑塗佈於TAC薄膜之凹凸面上。此時，藉由選擇線棒之號數與硬塗劑之樹脂固形物之組合，而使硬塗劑乾燥、硬化後最大振幅A/最小波長λ為0.0108。其次，於80℃乾燥爐中使溶劑揮發後，搬送至紫外線硬化爐中，以功率為160 W、累計光量為300 mJ/cm2而進行紫外線硬化，藉此製作目標光學薄膜。
(實施例2)
除了選擇線棒之號數與硬塗劑之樹脂固形物之組合以使最大振幅A/最小波長λ為0.0098以外，以與實施例1相同之方式製作光學薄膜。
(實施例3)
除了選擇線棒之號數與硬塗劑之樹脂固形物之組合以使最大振幅A/最小波長λ為0.0071以外，以與實施例1相同之方式製作光學薄膜。
(實施例4)
除了選擇線棒之號數與硬塗劑之樹脂固形物之組合以使最大振幅A/最小波長λ為0.0051以外，以與實施例1相同之方式製作光學薄膜。
(實施例5)
除了選擇線棒之號數與硬塗劑之樹脂固形物之組合以使最大振幅A/最小波長λ為0.0027以外，以與實施例1相同之方式製作光學薄膜。
(實施例6)
首先，以與實施例1相同之方式獲得轉印有凹凸狀之薄膜。其次，以1：1之體積比將粒徑為30 nm之ATO(摻銻氧化錫)與作為UV(ultraviolet，紫外線)樹脂之胺基甲酸酯丙烯酸低聚物混合而獲得分散塗料(IPA分散體)。以使乾燥後之平均膜厚為300 nm之方式將該分散塗料塗佈於TAC薄膜上並進行乾燥，藉此形成抗靜電層。其次，以與實施例1相同之方式將硬塗劑塗佈於TAC薄膜上並進行硬化，製作光學薄膜。
(實施例7)
以使固形物為40%之方式將100重量份之UV硬化胺基甲酸酯丙烯酸低聚物、5重量份之反應起始劑IRG-184、及40重量份之五氧化二銻微粒子(粒徑為30 nm)添加於MIBK(methyl isobutyl ketone，甲基異丁基酮)/IPA(isopropyl alcohol，異丙醇)=1/1之混合溶劑中，進行混合攪拌而獲得硬塗劑。除使用該硬塗劑以外，以與實施例1相同之方式製作光學薄膜。
(比較例1)
將5重量份之粒徑為5~7 μm且平均粒徑為6 μm之苯乙烯微粒子、100重量份之紫外線硬化型四官能胺基甲酸酯丙烯酸低聚物、及5重量份之作為光反應起始劑之Irgacure 184添加至第三丁醇中，進行攪拌，製備40%丁醇溶液。其後，以孔徑為50 μm之篩網過濾器進行過濾而製作塗料。其次，利用凹版塗佈機將過濾之塗料塗佈於厚度為80 μm之TAC薄膜上後，使薄膜於乾燥溫度設定為80℃之乾燥爐中乾燥。其後，將薄膜自乾燥爐連續搬送至紫外線硬化爐，以功率為160 W、累計光量為300 mJ/cm2之條件照射紫外線，於TAC薄膜上形成硬化後之平均膜厚為8 μm之防眩層。藉由以上操作而製作目標光學薄膜。
(比較例2)
除了省略塗佈硬塗劑之步驟以外，以與實施例1相同之方式製作光學薄膜。
(比較例3)
除了選擇線棒之號數與硬塗劑之樹脂固形物之組合以使最大振幅A/最小波長λ為0.0162以外，以與實施例1相同之方式製作光學薄膜。
(比較例4)
除了選擇線棒之號數與硬塗劑之樹脂固形物之組合以使最大振幅A/最小波長λ為0.0137以外，以與實施例1相同之方式製作光學薄膜。
(比較例5)
除了選擇線棒之號數與硬塗劑之樹脂固形物之組合以使最大振幅A/最小波長λ為0.0127以外，以與實施例1相同之方式製作光學薄膜。
(比較例6)
除了選擇線棒之號數與硬塗劑之樹脂固形物之組合以使最大振幅A/最小波長λ為0.0020以外，以與實施例1相同之方式製作光學薄膜。
對以如上方式製作之實施例、及比較例的光學薄膜測定評價凹凸狀(最大振幅A/最小波長λ)、擴散反射特性、白濁度、防眩性、全部光線透射率、霧度、及內部霧度。
<凹凸狀之評價>
使用Lasertec公司製造之雷射顯微鏡，測定凹凸狀、高度差、振幅、最大振幅A/最小波長λ。其結果記於表1。又，作為代表形狀例，將實施例3、比較例2、比較例3之測定形狀示於圖9。又，對TAC薄膜之壓花轉印所使用之壓花輥之壓花形狀、及實施例1之光學薄膜之壓花形狀拍攝照片。其結果示於圖10、圖11。
<擴散反射特性之評價>
為抑制背面反射之影響，將光學薄膜經由黏著劑貼合於黑色壓克力板而作為評價樣品。將其安裝於配光測定器GP-1-3D(Optec公司製造)中，對樣品面自-5°方向照射準直之入射光，將正反射方向設為0°而自-5°至30°進行掃描，於暗室條件下求出反射光強度，評價擴散反射特性。作為代表例，將實施例3、比較例1、比較例3之結果示於圖12。計算表示反射光強度之縱軸之增益時，對由硫酸鋇構成之標準擴散板進行相同評價，將其正反射方向上之反射光強度設為1，將實施例1、比較例1、比較例3之光學薄膜之偏離正反射方向20°之方向上的反射光強度加以標準化而求出。
<白濁度之評價>
為抑制背面反射之影響，將光學薄膜經由黏著劑貼合於黑色壓克力板而作為評價樣品。其次，使用X-Rite公司製造之積分球型分光光譜儀SP64，將擴散光照射至試料表面，利用d/8°光學系統進行測定，即，使用自試料法線方向朝8°方向傾斜之位置上所存在之檢測器來測定反射光。測定值係採用除去正反射成分而僅檢測擴散反射成分之SPEX模式，以2°之檢測視角來進行。再者，本測定之白濁度係藉由實驗來確認與視覺上感受到之白濁感相關。其結果示於表1。又，最大振幅A/最小波長λ與白濁度之關係示於圖13。
<防眩性之評價>
使明露之螢光燈映在光學薄膜上，以下述基準對反射像之模糊情況進行評價。其結果示於表1。
◎：螢光燈之輪廓不清楚(2根螢光燈看成1根)
○：可於某種程度上辨別出螢光燈，但輪廓模糊
×：螢光燈直接映出
<全部光線透射率、霧度、內部霧度之評價>
依據JIS K-7361、JISK K-7136，使用村上色彩製造之HM-150測定全部光線透射率、霧度。內部霧度係經由透明黏著劑將TAC薄膜貼合於光學薄膜表面後測定霧度，並減去所貼合之TAC之霧度而進行測定(去除表面之霧度部分)。其結果示於表1。
<鉛筆硬度之評價>
將光學薄膜貼附於玻璃板上，依據JIS K-5400之鉛筆硬度試驗方法進行評價。其結果示於表1。
<電阻之評價>
使用電阻率計(三菱化學公司製造，商品名：Hiresta UP)，將MCP探針按壓於防眩層表面，藉此測定表面電阻。再者，電阻之測定環境為23℃、60% RH，施加電壓為1000 V。其結果示於表2。
表1及表2中表示上述各評價之結果。
由上述評價結果可知以下情況。
若比較實施例3、比較例1、比較例3之白濁度(表1)與擴散反射特性(圖12)，則白濁感可藉由減少自正反射方向朝廣角擴散之光成分強度而減少。
可知，實施例3、比較例3之擴散反射特性與藉由微粒子於表面形成凹凸狀之比較例1相比，於某個角度光強度急遽減少。其表示，實施例3之光學薄膜與比較例1所示之光學薄膜相比，更可於維持防眩度之狀態下抑制白濁感。
藉由使樹脂層之塗佈厚度變化，可於維持波紋形狀之狀態下簡單地控制最大振幅A/最小波長λ。
由實施例1~5、比較例2~6可知，藉由將該最大振幅A/最小波長λ設為0.0025~0.011，可於維持防眩性之狀態下使白濁度為0.7以下。
於實施例1~5中，硬塗層中不含微粒子，因此必然霧度較小，全部光線透射率變大。如此，實施例1~5之光學薄膜藉由高透明性與低白濁度之組合而表現出較高之對比度。
對於位於顯示器最表面之AG薄膜而言，為保護顯示器表面而亦需求作為硬塗層之特性，而如表1之鉛筆強度之評價結果所示，TAC薄膜柔軟(比較例2)，因此必需硬塗層。若於形狀轉印之TAC薄膜表面塗佈硬塗劑，則凹凸差減少，故為獲得所需之防眩性、白濁度，必須預先使轉印TAC薄膜之凹凸差大於最表面之凹凸差。
若如實施例6、7所述般，則可製造賦予有抗靜電功能之光學薄膜。
(試驗例)
將壓花輥改為(通過200線/吋之網格而製作)噴砂輥進行轉印後，同樣地塗佈硬塗劑。將噴砂輥、雷射雕刻輥之防眩性與塗佈厚度之關係示於圖14並比較兩者。
<塗佈厚度之評價>
於未轉印之平坦TAC薄膜上塗佈樹脂，使用接觸式厚度測定器(TESA股份有限公司製造)進行測定。
由圖14可知，對於利用噴砂輥轉印之光學薄膜之防眩性而言，於塗佈厚度為4~6 μm附近防眩性急遽消失，相對於此，利用凹凸高度固定之雷射雕刻輥轉印之光學薄膜的防眩性係於塗佈厚度7~12 μm之間穩定地維持。因此，自容易以較高之狀態維持防眩性且生產性佳之觀點考慮，更理想的是利用雷射雕刻輥轉印之光學薄膜。
由以上內容可知，根據本發明之光學薄膜及其製造方法，可實現高防眩且高對比度、表面硬度亦優異之理想光學薄膜。
以上，對本發明之實施形態及實施例進行了具體說明，但本發明並不限定於上述實施形態及實施例，可根據本發明之技術思想進行各種變形。
例如，上述實施形態及實施例中列舉之數值、形狀、及構成等僅為例示，視需要亦可使用與其不同之數值、形狀、及構成等。
又，只要不偏離本發明之主旨，上述第1~第3實施形態之各構成可互相組合。
又，於上述實施形態中，以對液晶顯示器之顯示面所具備之光學薄膜及其製造方法應用本發明之情形為例進行了說明，但本發明並不限定於此，可應用於CRT(Cathode Ray Tube，陰極射線管)顯示器、電漿顯示器(Plasma Display Panel：PDP)、電致發光(Electro Luminescence：EL)顯示器、表面傳導型電子發射元件顯示器(Surface-conduction Electron-emitter Display：SED)等各種顯示裝置之顯示面所使用之光學薄膜及其製造方法。又，本發明對顯示裝置之大小並無特別限定，本發明可應用於小型至大型之所有顯示裝置。
又，於上述實施形態中，亦可於壓花轉印步驟後、塗敷硬塗劑步驟前，對轉印有壓花形狀之基材11實施單軸延伸處理或雙軸延伸處理。藉由如此般實施延伸處理，可將結構體11a於一個方向或二個方向上延伸，對結構體11a賦予形狀異向性。例如，可藉由單軸延伸處理而使結構體11a之形狀自圓錐台狀變形成橢圓錐台狀。
1．．．光學薄膜
2．．．液晶面板
2a、2b．．．偏光元件
3．．．背光源
11．．．基材
11a．．．結構體
11b．．．結構體間
12．．．硬塗層
13．．．硬塗劑
14．．．抗靜電層
15．．．抗反射層
21．．．壓花輥
22．．．背壓軋輥
圖1係表示本發明第1實施形態之液晶顯示裝置之構成之一例的概略剖面圖；圖2係表示本發明第1實施形態之光學薄膜之構成之一例的概略剖面圖；圖3A係表示基材之凹凸狀之一例的平面圖，圖3B係圖3A所示之基材之沿著B-B線的剖面圖，圖3C係圖3A所示之基材之沿著C-C線的剖面圖；圖4係表示本發明第1實施形態之光學薄膜之製造方法中使用的壓花轉印裝置之構成之一例的概略圖；圖5A係表示壓花輥之凹凸狀之一例的平面圖，圖5B係圖5A所示之壓花輥之沿著B-B線的剖面圖，圖5C係圖5A所示之壓花輥之沿著C-C線的剖面圖；圖6A~圖6C係表示本發明第1實施形態之光學薄膜之製造方法之一例的步驟圖；圖7係表示本發明第2實施形態之液晶顯示裝置之構成之一例的概略剖面圖；圖8係表示本發明第3實施形態之液晶顯示裝置之構成之一例的概略剖面圖；圖9A~圖9C係表示實施例3、比較例2、及比較例3之光學薄膜之剖面形狀的圖；圖10係表示壓花輥之壓花形狀之照片；圖11係表示實施例1之光學薄膜之壓花形狀的照片；圖12係表示實施例3、比較例1、及比較例3之擴散反射特性的圖表；圖13係表示最大振幅A/最小波長λ與白濁度之關係的圖表；及圖14係表示塗佈厚度與防眩性之關係的圖表。
1．．．光學薄膜
11．．．基材
12．．．硬塗層
A．．．最大振幅
λ．．．最小波長

Claims (20)

  1. 一種光學薄膜，其具備：具有半圓球狀或錐體狀之凸狀之結構體呈二維且規則地配設於表面之基材，及於上述基材之配設有結構體之面上形成的硬塗層；上述結構體之高度大致相同；且於上述硬塗層表面，仿照上述基材表面之規則之結構體而形成有連續之波面；上述連續之波面之最大振幅A及最小波長λ大致固定；上述最大振幅A與上述最小波長λ之比率(A/λ)超過0.002且為0.011以下。
  2. 如請求項1之光學薄膜，其中沿著將鄰接之上述結構體之頂點連結的線段而切斷之硬塗層的剖面為連續波形。
  3. 如請求項2之光學薄膜，其中上述剖面為正弦波狀。
  4. 如請求項1至3中任一項之光學薄膜，其中上述結構體係配設為六角狀。
  5. 如請求項1至3中任一項之光學薄膜，其中上述結構體係規則地配設於自任意結構體之頂點觀察為不同之兩個方向上，沿著上述不同之兩個方向切斷之硬塗層的剖面為連續波形。
  6. 如請求項1至3中任一項之光學薄膜，其中上述結構體於基材之面內方向中，在正交之兩個方向上具有形狀異向性。
  7. 如請求項1至3中任一項之光學薄膜，其中全部光線透射率為92%以上，霧度為1.5%以下，內部霧度為0.5%以下，白濁度為0.7%以下。
  8. 如請求項1至3中任一項之光學薄膜，其中於上述硬塗層表面之任意點可進行微分。
  9. 如請求項1至3中任一項之光學薄膜，其中上述基材之折射率大於上述硬塗層之折射率。
  10. 如請求項1至3中任一項之光學薄膜，其中上述基材係以三乙醯纖維素、聚對苯二甲酸乙二酯、環烯烴、及苯乙烯-丁二烯共聚物中之任一種作為主成分。
  11. 如請求項1至3中任一項之光學薄膜，其中上述硬塗層係以熱硬化型樹脂及紫外線硬化型樹脂之至少一種作為主成分。
  12. 如請求項1至3中任一項之光學薄膜，其中上述硬塗層含有抗靜電劑。
  13. 如請求項1至3中任一項之光學薄膜，其進而具備形成於上述基材與上述硬塗層之間之抗靜電層。
  14. 如請求項1至3中任一項之光學薄膜，其進而具備形成於上述硬塗層上之抗反射層。
  15. 如請求項1至3中任一項之光學薄膜，其中上述基材表面之凹凸量大於上述硬塗層表面之凹凸量。
  16. 一種光學薄膜之製造方法，其具備以下步驟：將具有半圓球狀或錐體狀之凸狀之結構體呈二維且規則地形成於基材表面；及 於上述基材之形成有結構體之面上塗佈硬塗劑並使其硬化，藉此形成硬塗層；上述結構體之高度大致相同；且於上述硬塗層表面，仿照上述基材表面之規則的結構體而形成有連續之波面；上述連續之波面之最大振幅A及最小波長λ大致固定；上述最大振幅A與上述最小波長λ之比率(A/λ)超過0.002且為0.011以下。
  17. 如請求項16之光學薄膜之製造方法，其中於上述基材表面形成結構體之步驟中，係以壓花輥於上述基材表面轉印凹凸狀，藉此於上述基材表面形成結構體，於形成上述硬塗層之步驟中，係藉由塗佈於上述基材之形成有結構體之面上的硬塗劑之厚度以控制上述比率(A/λ)。
  18. 如請求項16或17之光學薄膜之製造方法，其中進一步具備下述步驟：在上述結構體之形成步驟後、上述硬塗層之形成步驟前，對形成有上述結構體之基材施予延伸處理，形成基材之面內方向中，在正交之兩個方向上具有形狀異向性之結構體。
  19. 一種防眩性偏光元件，其具備如請求項1至15中任一項之光學薄膜。
  20. 一種顯示裝置，其具備如請求項1至15中任一項之光學薄膜。
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