KR101441796B1

KR101441796B1 - 반사방지 광학구조체

Info

Publication number: KR101441796B1
Application number: KR1020130026484A
Authority: KR
Inventors: 서동필; 유키히로 야나가와
Original assignee: 서동필; 유키히로 야나가와
Priority date: 2013-03-13
Filing date: 2013-03-13
Publication date: 2014-09-17

Abstract

반사방지 광학구조체가 제공된다. 본 발명의 일 실시예에 따른 반사방지 광학구조체는, 빛을 투과시키는 기재, 및 기재의 일면에 분포되는 복수의 광학패턴을 포함하되, 복수의 광학패턴 중 일부의 광학패턴은 서로 형상이 상이하고, 복수의 광학패턴의 높이는 100nm 내지 600nm이고, 복수의 광학패턴의 폭은 150nm 내지 320nm이다.

Description

반사방지 광학구조체{OPTICAL ASSEMBLY FOR PREVENTING REFLECTION}

본 발명은 반사방지 광학구조체에 관한 것으로, 보다 자세하게는 디스플레이 장치에서 외부광에 의해 발생하는 광반사로 인한 화질 저하 및 시인성 저하를 방지할 수 있는 반사방지 광학구조체에 관한 것이다.

디스플레이의 광 시야각화와 고화질화라고 부르는 액정 디스플레이 장치에는 시인성을 향상시키기 위해, 디스플레이 화면 위에 반사 방지 필름을 부착하는 것이 일반적이다. 특히 옥외에서 사용 빈도가 높은 디스플레이는 표면 반사에 의한 시인성의 저하가 현저하게 나타난다. 이러한 이유로 기기에 장착된 편광판에, 반사 방지막이 사용될 필요가 있다. 반사 방지막은 예를 들면, 가시 광선 영역 전체에 저 반사율 및 고 투과율의 특성이 요구되기 때문에 소재 위에 굴절율이 서로 다른 반사 방지층으로 구성된 필름이 잘 알려져 있다.

반사 방지층은 일반적으로 다층막 방식으로 제조되며, 광학 소재 위에 Sn 과 Si의 화합물이 되는 중간 정도의 굴절층, ITO(In2O3와 Sn의 화합물)이 되는 높은 굴절층, SiO2의 낮은 굴절층으로 설계된 반사 방지 기능을 갖고 있는 필름이 있다. 이러한 다층막들은 드라이(dry) 방식이라 불리우는 진공 증착 및 스퍼터링법, CVD 방식등의 제조방법으로 만들어진다. 이를 이용하여, 굴절율이 서로 다른 재료를 사용하여 복수의 박막 다층 적층체로 제작하게 된다. 드라이 방식은 반사 방지 기능은 양호하나 진공 설비의 설치, 유지 관리, 대량 생산성등에 문제로 인해 고가의 제조 원가가 필요로 한다.

드라이 방식이외에 비교적 저렴한 가격으로 반사 방지막을 형성하는 웨트 코팅(wet coating)방식이 있는데, 웨트 코팅(Wet coating) 방식에 의한 박막 형성은 코팅 방식 특성상 균일한 두께로 다층 형성이 곤란하다. 사람의 눈으로 가장 선명하게 보이는 550nm파장 영역에 중점을 두고, 가능한 넓은 파장의 영역에서 반사 방지를 할 수 있도록 설계를 진행하나, 웨트 코팅방식으로는 다층 코팅된 박막의 불균일한 두께로 인하여 간섭 무늬가 나타나기 쉽다.

또한, 높은 투과율을 가지는 모스 아이(moth eye) 패턴(나방의 눈 구조)을 이용한 사출 및 임프린팅 방식이 사용되고 있으나, 자외선 영역에서 높은 반사율 특성으로 인하여 , 광학 부재가 본래의 투명한 색이 아닌 보라색을 띠게 됨으로, 색상의 왜곡 현상이 발생하여 디스플레이 장치에는 부적합한 실정이다.

전술한 바와 같이, 드라이 방식은 다층막 형성에 고가의 설비 투자 비용으로 제조 원가가 상당히 높게 형성되며, 웨트 코팅 방식은 간섭 무늬 발생으로 오히려 시인성이 저하된다. 이러한 이유로 간섭 무늬 발생을 방지하고, 반사 방지 효과를 높이기 위해서는 드라이 방식에서 굴절율이 현저히 작은 물질로 다중 코팅을 해야 하나, 굴절율이 작은 물질들은 재료비가 일반 물질 보다 고가이므로 높은 재료비가 요구된다.

위와 같은 문제점으로부터 안출된 것으로, 본 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제는, 제조 비용이 저렴하고 사용자에게 인식되는 파장 대역의 투과율이 높아서 반사방지 효과가 뛰어난 반사방지 광학구조체를 제공하는 것이다.

본 발명의 기술적 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.

상기 언급된 기술적 과제들을 해결하기 위한, 본 발명의 일 실시예에 따른 반사방지 광학구조체는, 빛을 투과시키는 기재, 및 기재의 일면에 분포되는 복수의 광학패턴을 포함하되, 복수의 광학패턴 중 일부의 광학패턴은 서로 형상이 상이하고, 복수의 광학패턴의 높이는 100nm 내지 600nm이고, 복수의 광학패턴의 폭은 150nm 내지 320nm이다.

상기와 같은 본 발명에 따르면, 제조 비용이 저렴하고 사용자에게 인식되는 가시광 파장 대역의 투과율이 높아서 반사방지 효과가 뛰어난 반사방지 광학구조체를 제공할 수 있다.

또한, 니켈 스템퍼를 이용하여 롤투롤 기법 또는 나노 임프린팅 기법 등으로 대량 생산이 가능한 반사방지 광학구조체를 제공할 수 있다.

뿐만 아니라, 표면에 높이가 서로 다른 나노 패턴을 혼합하여 가시 광선 영역에서 높은 투과율과 낮은 반사율을 형성하고, 드라이나 웨트 방식과 비교하여 표면에 미세 패턴을 형성하여 정밀 사출 및 임프린트 또는 롤투롤 방식으로 저가의 제조 원가로 반사 방지기능이 있는 광학 필름 및 투명 수지판 그리고 유리 기판을 대량으로 제공할 수 있다.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 반사방지 광학구조체의 단면도이다.
도 2는 도 1의 기재와 마이크로렌즈의 높이를 비교하기 위한 단면도이다.
도 3은 도 1의 마이크로렌즈의 폭을 설명하기 위한 단면도이다.
도 4 내지 도 6은 본 발명의 실시예들에 따른 반사방지 광학구조체의 반사방지 원리를 설명하기 위한 도면이다.
도 7은 본 발명의 실시예들에 따른 반사방지 광학구조체의 파장대별 투과율을 나타내는 그래프이다.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다. 본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 게시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 게시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.

다른 정의가 없다면, 본 명세서에서 사용되는 모든 용어(기술 및 과학적 용어를 포함)는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 공통적으로 이해될 수 있는 의미로 사용될 수 있을 것이다. 또 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 용어들은 명백하게 특별히 정의되어 있지 않는 한 이상적으로 또는 과도하게 해석되지 않는다.

본 명세서에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 "포함한다(comprises)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급된 구성요소 외에 하나 이상의 다른 구성요소의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다.

이하, 도면을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 반사방지 광학구조체의 구성에 대해 설명하기로 한다. 도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 반사방지 광학구조체의 단면도이고, 도 2는 도 1의 기재와 마이크로렌즈의 높이를 비교하기 위한 단면도이고, 도 3은 도 1의 마이크로렌즈의 폭을 설명하기 위한 단면도이다.

도 1 내지 도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 반사방지 광학구조체(100)는, 빛을 투과시키는 기재(110), 및 기재(110)의 일면에 분포되는 복수의 광학패턴(120)을 포함하되, 복수의 광학패턴(120) 중 일부의 광학패턴(120)은 서로 형상이 상이하고, 복수의 광학패턴(120)의 높이는 100nm 내지 600nm이고, 복수의 광학패턴의 폭은 150nm 내지 320nm이다.

기재(110)는 광을 투과시킬 수 있는 투명한 재질 즉, 글래스 또는 투명 플라스틱 필름 또는 시트와 같은 투명 재질이고 경우에 따라서는 적용에 적당한 불투명 재질일 수 있다. 구체적으로 투명 플라스틱 필름은 폴리카보네이트(poly carbonate) 계열, 폴리술폰(poly sulfone) 계열, 폴리아크릴레이트(poly acrylate) 계열, 폴리스티렌(poly styrene) 계열, 폴리비닐클로라이드(poly vinyl chloride) 계열, 폴리비닐알코올(poly vinyl alcohol) 계열, 폴리노르보넨(poly norbornene) 계열, 폴리에스테르(poly ester) 계열의 물질을 포함하여 이루어질 수 있다. 구체적인 예를 들면, 기재(110)는 폴리에틸렌테레프탈레이트(poly ethylene terephtalate) 또는 폴리에틸렌나프탈레이트(poly ethylene naphthalate) 등으로 이루어질 수 있다. 한편, 플렉서블 디스플레이 장치에 적용 가능하도록 투명하면서도 가요성 재질인 폴리카보네이트(polycarbonate) 계열, 폴리에테르술폰(polyethersulfone) 계열 또는 폴리아릴레이트(polyarylate) 계열의 재질로 기재(110)를 제작할 수 있다.

복수의 광학패턴(120)은 기재(110)의 일면 또는 양면에 형성될 수 있다. 복수의 광학패턴(120)는 기재(110)와 일체로 형성될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며 기재(110)와 별도로 제조된 후 접착 또는 압착 등의 다양한 방법에 의해 결합되는 형태일 수 있다.

복수의 광학패턴(120)의 패턴의 크기 및 각도는 광원의 크기, 모양 및 발광 소자와 렌즈와의 간격, 조립 형태에 따라 조정이 가능하다.

또한, 복수의 광학패턴(120)는 기재(110)와 동일한 재질일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며 서로 상이하되 빛을 투과시키는 재질일 수 있다. 예를 들어, 복수의 광학패턴(120)는 PC, PMMA, COC, PET, 또는 89% 이상의 투과율을 가지는 투명수지 중 하나를 포함하는 소재로 구성될 수 있다.

구체적으로, 투과율이 89%이상으로 가공성이 우수한 광학용 수지를 사용하거나, 유리로서 철분 성분이 적어 투과율이 90% 이상인 저철분 광학유리 또는 수지 소재를 사용할 수 있다.

복수의 광학패턴(120)는 기재(110)의 저면 또는 광학패턴(120)으로 입사된 빛을 반시시키지 않고 투과시키는 역할을 수행하며, 대략적으로 구 또는 타원구 형상을 가지며, 일 단면이 원형 또는 타원 형상을 가질 수 있다. 복수의 광학패턴(120)는 서로 크기가 다르되 서로 닮음 형태로 구성될 수 있으며, 서로 형상이 상이할 수도 있다.

광학패턴(120)의 제조 방법은, 합성 수지 계통을 사용할 경우 사출, 프레스, 2P, 열경화법에 의한 제조가 가능하며, 유리 계통을 사용할 경우 리드로 및 전사법을 사용할 수 있다.

구체적으로 예를 들어, 표면이 잘 연마된 두께 5 mm, 직경 20cm의 원형 판 유리 위에 포토 레지스트를 약 1um의 두께로 롤코팅 혹은 스핀코팅으로 도포한다. 도포된 포토 레지스트를 건조시킨 후 레이져 빔 레코더를 이용하여, 준비된 프로그램에 의해 레이져 빔의 강도를 조정하면서 포토 레지스트 상부를 노광시킨다. 노광된 부분을 현상액으로 현상을 하면 레이져 빔의 강도에 따라 노광된 부분이 깊이가 깊게 혹은 얕게 패턴이 형성된다. 이러한 패턴은 현상액의 농도 및 양 그리고 현상 시간에 따라 형상, 높이 및 각도가 달라질 수 있다.

현상이 끝난 포토 레지스트는, 니켈로 된 원판을 만들기 위해 니켈 스퍼터링 공정에서 니켈 이온 입자를 표면에 스퍼터링하여 표면 전체가 도전성을 띤 니켈 박막을 형성한다. 다음으로, 니켈 박막층 구조물 위에 니켈 전기 도금을 하면, 약 200-300um의 니켈 스템퍼가 완성된다.

니켈 스템퍼의 뒷면을 연마하고 적절한 크기로 가공한 후 준비된 금형에 장착하고, 예를 들어 투과율 89% 이상의 투명수지를 300도 내지 320도로 용융하여 정밀 사출을 한다. 투명 수지로는 광학 특성이 좋은 PMMA(폴리 메탈 메타 크릴레이트)가 바람직하다.

사출 방법 이외에 스템퍼를 이용하여 롤투롤, 혹은 나노 임프린트 장비로 패턴이 형성된 필름 혹은 평평한 수지형태의 제작이 가능하다. 필름으로는 PMMA 혹은 PET필름이 사용될 수 있으며, 수지로는 PMMA 쉬트가 바람직하다.

또한, 기재(110) 위에 자외선 경화 수지를 코팅한 후 그 위에 스템퍼로 임프린팅한 후 경화시키면 휴대용 디스플레이 장치 혹은 대면적 디스플레이에 활용이 가능하다.

복수의 광학패턴(120) 위에 광학패턴(120)의 굴절율보다 작은 굴절율을 갖은 하드 코팅제를 도포하면 투과율 및 반사율에는 변화가 없으면서 경도가 높은 반사 방지용 광학 부재를 얻을 수 있다. 하드 코팅제는 광학 부재보다 굴절율이 0.05이상 작은 것이 사용될 수 있다. 즉, 기재(110)의 일면 또는 복수의 광학패턴(120)의 일면에는 기재(110) 또는 복수의 광학패턴(120)의 굴절율과 상이한 하드코팅층(미도시)이 더 적층될 수 있으며, 하드코팅층의 굴절율은 기재(110) 또는 복수의 광학패턴(120)의 굴절율보다 0.05 이상 작다.

기재(110)의 두께(높이; H2)와 비교하여 복수의 광학패턴(120)의 높이(H2)는 서로 상이하게 구성될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.

복수의 광학패턴(120) 중 일부의 광학패턴은 서로 형상이 상이할 수 있으며, 복수의 광학패턴(120)의 높이(H2)는 100nm 내지 600nm이고, 복수의 광학패턴(120)의 폭(W1)은 150nm 내지 320nm일 수 있다.

복수의 광학패턴(120)은 반구 또는 타원반구의 일부 형상을 가질 수 있으며, 앞서 설명한 바와 같이 기재(110)는 89% 이상의 투과율을 가질 수 있다.

이하, 서로 다른 공간에서 빛의 입사, 반사, 굴절 및 투과의 관계를 연구하여 빛의 입사되는 모든 각도에 대해 투과광은 최대화시키고, 반사광은 최소화시키는 조건을 만족시키는 형상을 시뮬레이션하고 광학 설계를 위해 도 4 내지 도 6을 참조하여, 본 발명의 실시예들에 따른 광반사 원리에 대해 설명한다. 도 4 내지 도 6은 본 발명의 실시예들에 따른 반사방지 광학구조체의 반사방지 원리를 설명하기 위한 도면이다.

도 4는 일반적으로 매질이 다른 두 공간(10, 20)에서 빛의 입사광(R1), 굴절광(R2), 반사광(R3) 및 각각의 굴절 각도를 나타낸다.

입사광(R1)의 입사각도는 θ1이고, 입사광(R1)의 강도는 1이고, 굴절광(R2)의 굴절각도는 θ2이고, 굴절광(R2)의 강도는 E이고, 반사광(R3)의 반사각도는 θ3이고, 반사광(R3)의 강도는 R이고, 입사공간(10)의 매질 굴절율은 n1이고, 굴절공간(20)측의 매질 굴절율을 n2 라고 하면, 스넬의 법칙에 의해 굴절광(R2)의 각도(θ2)는 아래 식 1과 같다.

(식 1)

n1·sinθ1 = n2·sinθ2

반사광(R3)의 각도(θ3)는 θ1 = θ3이고, 전반사의 임계각(critical angle) θc는 아래 식 2와 같다.

(식 2)

θc = sin-1(n2 / n1) [n2 < n1 의 경우에만 존재]

Rs, Rp 를 각각 전 광선에서의 S편광, P편광의 반사율이라고 할 때, 반사율 R은 파동 광학 (Arexs)으로 유도된 R, Rs 및 Rp는 각각 아래 식 3 내지 식 5와 같다.

(식 3)

R = (Rs + Rp) ÷ 2

(식 4)

Rs = [(n1·cosθ1 - n2·cosθ2) / (n1·cosθ1 + n2·cosθ2)]²

(식 5)

Rp = [(n1/cosθ1)-(n2/cosθ2) / (n1 /cosθ1 + n2 /cosθ2 )]²

따라서, 투과율 E는 1-R이 된다.

도 5는 실제 광학수지층(40)으로 빛이 입사하여 굴절을 하고 반대 방향으로 빛이 투과하는 도면이다.

광학수지층(40)의 굴절율(n4)을 1.495로 하여 입사광(R4)과 굴절광(R5)의 각도를 계산해보면, 공기층(30)에서 광학수지층(40)으로 입사할 때 n3 = 1, n4 = 1.495이므로, θ5는 다음과 같이 식 6으로 표현된다.

(식 6)

θ5 = asin [(n3 / n4)·sinθ4]

이는 공기층(30) 내와 광학수지층(40) 내에서 광선의 각도 θ4과 θ5의 관계를 보여준다. 즉, θ4이 작을 경우 θ5는 아래와 같이 식 7로 표현될 수 있다.

(식 7)

θ5 ≒ (1/n4) x θ4

θ4이 클 경우는 θ4의 증가에 따라 θ5의 증가는 θ4와 비교해서 점점 떨어지는 폭이 커져간다.

상기 조건에서 반사율의 기초 계산을 하면 공기층(30)에서 광학수지층(40)에 대한 빛의 임계각 θc는 없게 되고, 따라서 전반사는 발생하지 않는다.

다시 광학수지층(40)에서 공기층(50)으로 빛이 나갈 때는 n4 = 1.495, n3 = 1이 되어, 임계각 θc = 41.81031이 된다.

상기 조건에서 반사율을 구하면 R은 아래와 같이 식 8로 표현된다.

(식 8)

R = {[(n3·cosθ4 - n4·cosθ5) / (n3·cosθ4 + n4·cosθ5)]²+ [(n3/cosθ4)-(n4/cosθ5) / (n3 /cosθ4 + n4 /cosθ5 )]²}/ 2

이를 근거로 입사각에 따른 반사율 특성을 알아보면, 공기층(30)에서 광학수지층(40)으로 입사하는 경우 전반사는 발생하지 않고, 입사각(θ4)이 90도 부근에서는 반사율이 100%에 가깝게 되어 빛의 입사가 거의 되지 않는다.

입사각(θ4)이 30도까지는 반사율 변화가 거의 없으나, 임계각 부근에서는 급격히 반사율이 증가하는 것을 볼 수 있다.

도 6은 매질 1(60)과 매질 2(70)에서의 입사광(R7) 및 반사광(R9), 굴절광(R8)의 방향 여현을 나타낸다.

입사각(θ8)은 입사광(R7)의 방향 여현과 계면의 방향 여현으로부터 내적의 정리를 이용하여 구할 수 있으며, 같은 방법으로 출사각(θ9)이 얻어진다.

반사광(R9)의 방향 여현은 입사각(θ8)와 경계면의 법선 방향 여현에 의해 구해지고, 굴절광(R8)의 방향 여현은 입사광(R7)의 방향 여현과 입사각 (θ8), 및 경계면의 법선 방향 여현에 의해 구해진다.

전 반사의 임계각 θc는 n6 < n5의 경우에 있어서 θc는 식 9로 나타낼 수 있다.

(식 9)

θc = sin-1(n6 / n5)

전광선의 투과율은 E=1-R로 나타나고, 반사율 R은 아래와 같이 식 10으로 나타낼 수 있다.

(식 10)

R = (s편광 반사율 + p편광 반사율) / 2

상기 조건을 근거로 하여 반사 형상의 최적화를 계산하고 광학 설계를 하였으며, 이종 매질 간의 굴절율 차이에 따른 입사광, 투과광 및 반사광의 강도 및 각도를 고려할 때, 본 발명의 일 실시예에 따른 복수의 광학패턴(120)은, 높이가 400nm 내지 600nm인 제1 광학패턴, 높이가 200nm 내지 400nm인 제2 광학패턴, 및 높이가 100nm 내지 200nm인 제3 광학패턴을 포함할 수 있으며, 제1 광학패턴은 기재(110)의 전체면적의 30% 내지 40% 범위로 분포되고, 제2 광학패턴은 기재(110)의 전체면적의 40% 내지 60% 범위로 분포되고, 제3 광학패턴은 기재(110)의 전체면적의 10% 내지 20% 범위로 분포될 수 있다.
예를 들어, 제1 광학패턴의 높이가 400nm에 미달하거나 600nm를 초과하는 모든 경우에 반사방지 구조체 상에서 가장 중요한 반사율이 증가하고 반대로 투과율이 감소하여 반사방지라고 하는 본연의 기능이 상실될 수 있다. 마찬가지로 제2 광학패턴의 높이가 200nm에 미달하거나 400nm를 초과하는 모든 경우에 반사방지 구조체 상에서 가장 중요한 반사율이 증가하고 반대로 투과율이 감소하여 반사방지라고 하는 본연의 기능이 상실될 수 있다. 또한, 마찬가지로 제3 광학패턴의 높이가 100nm에 미달하거나 200nm를 초과하는 모든 경우에 반사방지 구조체 상에서 가장 중요한 반사율이 증가하고 반대로 투과율이 감소하여 반사방지라고 하는 본연의 기능이 상실될 수 있다. 위의 제1 내지 제3 광학패턴의 높이가 해당 범위에 포함되는 경우, 본 발명의 실시예들에 따른 반사방지 광학구조체의 투과율이 98% 이상을 나타내고, 반사율이 1.5% 이하로 설정될 수 있다.
또한, 예를 들어, 제1 광학패턴이 기재(110)의 전체면적의 30% 미만으로 분포되는 경우, 보라색 계통의 빛의 왜곡이 발생하여 레인보우 현상이 발생할 수 있으며, 40%를 초과하여 분포되는 경우, 초록색 계통의 빛의 왜곡이 발생할 수 있다. 마찬가지로, 제2 광학패턴이 기재(110)의 전체면적의 40% 미만으로 분포되는 경우, 보라색 계통의 빛의 왜곡이 발생하여 레인보우 현상이 발생할 수 있으며, 60%를 초과하여 분포되는 경우, 초록색 계통의 빛의 왜곡이 발생할 수 있다. 마찬가지로, 제3 광학패턴이 기재(110)의 전체면적의 10% 미만으로 분포되는 경우, 보라색 계통의 빛의 왜곡이 발생하여 레인보우 현상이 발생할 수 있으며, 20%를 초과하여 분포되는 경우, 초록색 계통의 빛의 왜곡이 발생할 수 있다. 반면, 각각의 광학패턴이 해당 범위에 속할 경우에는 왜곡이 없는 검정색 계통이 유지될 수 있다.

도 7은 본 발명의 실시예들에 따른 반사방지 광학구조체의 파장대별 투과율을 나타내는 그래프이다. 도 7은 본 발명의 패턴을 적용하여 나노 임프린트 방식으로 PET 필름으로 반사 방지판(100)을 만든 후 투과율 측정기로 측정한 데이터를 나타낸다. 가시광 파장대역(450nm 내지 750nm)에서 모스아이에 비해 투과율이 높으며, 그에 따라 반사율이 낮은 것을 확인할 수 있다.

이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.

110: 기재
120: 복수의 광학패턴

Claims

빛을 투과시키는 기재; 및
상기 기재의 일면 또는 양면에 분포되는 복수의 광학패턴을 포함하되,
상기 복수의 광학패턴 중 일부의 광학패턴은 서로 형상이 상이하고,
상기 복수의 광학패턴의 높이는 100nm 내지 600nm이고,
상기 복수의 광학패턴의 폭은 150nm 내지 320nm이고,
상기 복수의 광학패턴은,
높이가 400nm 내지 600nm인 제1 광학패턴,
높이가 200nm 내지 400nm인 제2 광학패턴, 및
높이가 100nm 내지 200nm인 제3 광학패턴을 포함하고,
상기 제1 광학패턴은 상기 기재의 전체면적의 30% 내지 40% 범위로 분포되고,
상기 제2 광학패턴은 상기 기재의 전체면적의 40% 내지 60% 범위로 분포되고,
상기 제3 광학패턴은 상기 기재의 전체면적의 10% 내지 20% 범위로 분포되는, 반사방지 광학구조체.
삭제
삭제
제1항에 있어서,
상기 복수의 광학패턴은 반구 또는 타원반구의 일부 형상을 가지는, 반사방지 광학구조체.
제1항에 있어서,
상기 기재는 89% 이상의 투과율을 가지는, 반사방지 광학구조체.
제1항에 있어서,
상기 기재의 일면 또는 상기 복수의 광학패턴의 일면에는 상기 기재 또는 상기 복수의 광학패턴의 굴절율과 상이한 하드코팅층이 더 적층되는, 반사방지 광학구조체.
제6항에 있어서,
상기 하드코팅층의 굴절율은 상기 기재 또는 상기 복수의 광학패턴의 굴절율보다 0.05 이상 작은, 반사방지 광학구조체.