TWI577523B - 表面具有凹凸結構的模具、光學物品、其製造方法、面發光體用透明基材及面發光體 - Google Patents

表面具有凹凸結構的模具、光學物品、其製造方法、面發光體用透明基材及面發光體 Download PDF

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Description

表面具有凹凸結構的模具、光學物品、其製造方法、面發光體用透明基材及面發光體
本申請案主張基於2011年6月17日於日本提出申請的日本專利申請2011-135214號、以及2012年3月21日於日本提出申請的日本專利申請2012-063709號的優先權，並在此引用其內容。
本發明是有關於一種表面具有不規則凹凸結構的模具、表面具有不規則凹凸結構的光學物品、轉印模具的凹凸結構而製造表面具有不規則凹凸結構的光學物品的方法、使用表面具有不規則凹凸結構的光學物品的面發光體用透明基材、以及具有面發光體用透明基材的面發光體。
作為利用電致發光(Electroluminescence，以下記作EL)的實質上具有二維放射面的面發光體，已知有機EL元件或無機EL元件。作為包含有機EL元件的面發光體，已知具有以下構件者：透明基材、設置於透明基材表面的透明電極、離開透明電極而設置的包含金屬薄膜的背面電極、以及設置於透明電極與背面電極之間的包含有機化合物的發光材料的發光層。
於面發光體中，來自透明電極的電洞與來自背面電極的電子於發光層中結合，藉此發光層發光。發光層中發出的光透過透明電極及透明基材，自放射面(透明基材的表面)被取出。或者，經背面電極的金屬薄膜反射後，透過發光層、透明電極及透明基材而自放射面被取出。
然而，該面發光體中，當向透明電極、透明基材、外部空氣等入射的光的入射角為由入射源的材料的折射率與入射處的材料的折射率所決定的臨界角以上時，該光於發光層與透明電極的界面、透明電極與透明基材的界面、透明基材與外部空氣的界面(放射面)等發生全反射，而被封閉在面發光體的內部。因此，存在以下問題：無法將一部分光取出至外部，光的取出效率低。
作為解決該問題的面發光體，有下述提案。
一種有機EL元件，其是於透明基材的透明電極側的表面，形成有包含週期性的凹凸結構的繞射光柵(專利文獻1)。
於該有機EL元件中，以向透明電極、透明基材、外部空氣的入射角變小的方式，藉由繞射光柵使發光層中發出的光繞射，藉此減少上述各界面上的全反射，使光的取出效率提高。
另外，作為可使表面具有凹凸結構的光學物品大面積化且能以良好的生產性製造該光學物品的方法，提出有下述方法。
一種防眩膜的製造方法，其將模具的凹凸結構轉印至透明樹脂膜的表面，上述模具使微粒子撞擊鍍銅或鍍鎳的表面而形成有凹凸結構(專利文獻2、專利文獻3)。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本專利第2991183號公報
[專利文獻2]日本專利特開2007-187952號公報
[專利文獻3]日本專利特開2007-237541號公報
然而，專利文獻1所記載的有機EL元件有下述問題。
於製造該有機EL元件時，藉由光微影法於透明基材的表面形成凹凸結構，故表面具有凹凸結構的透明基材的製造耗費時間，大面積化亦困難。因此，無法以良好的生產性製造表面具有凹凸結構的透明基材。
對於表面具有規則性高的週期性的凹凸結構的透明基材而言，出射光的色調因角度而大幅度地變化。
另外，由專利文獻2、專利文獻3所記載的方法獲得的防眩膜存在下述問題。
防眩膜中的凹凸結構淺，故凹凸表面的傾斜角小。因此，該防眩膜無法使入射光充分擴散。即便將該防眩膜用作有機EL元件的透明基材，亦無法期待光的取出效率的提高。
防眩膜中的凹凸表面的傾斜角小，故出射光的色調因角度而大幅度地變化。
本發明提供：一種模具，其可使表面具有凹凸結構的光學物品大面積化，且能以良好的生產性製造該光學物品，上述光學物品可使入射光高效地繞射或擴散，由角度所導致的出射光的色調變化小；一種表面具有凹凸結構的光學物品，其可使入射光高效地繞射或擴散，由角度所導致的出射光的色調變化小；一種製造方法，其可使表面具 有凹凸結構的光學物品大面積化，且能以良好的生產性製造該光學物品，上述光學物品可使入射光高效地繞射或擴散，由角度所導致的出射光的色調變化小；一種面發光體用透明基材，其可獲得光的取出效率高、由角度所導致的出射光的色調變化小的面發光體；以及一種面發光體，其光的取出效率高，且由角度所導致的出射光的色調變化小。
本發明是有關於(1)~(7)的模具，(8)、(9)及(11)的表面具有凹凸結構的光學物品，(10)的表面具有凹凸結構的光學物品的製造方法，(12)的面發光體用透明基材以及(13)的面發光體。
(1)一種模具，其於表面具有不規則凹凸結構，且利用後述方法求出的平均傾斜角為20度~80度。
(2)如(1)所述之模具，其中上述凹凸結構包含金屬。
(3)如(2)所述之模具，其中上述金屬為鎳、鎳合金、銅或銅合金。
(4)一種模具，其於表面具有包含金屬的凹凸結構，依據JIS K 7105使用C光源測定的具有上述凹凸結構之側的表面的全反射率為1%~30%。
(5)如(4)所述之模具，其中上述金屬為鎳、鎳合金、銅或銅合金。
(6)一種模具，其於表面具有凹凸結構，該凹凸結構是由包含金屬的多個針狀突起所構成。
(7)如(6)所述之模具，其中上述金屬為鎳、鎳合 金、銅或銅合金。
(8)一種表面具有凹凸結構的光學物品的製造方法，其包括以下步驟：以如上述(1)至(7)中任一項所述之模具或將上述模具的凹凸結構轉印至複製模具(replica mold)基材的表面上而成的複製模具、與光學物品用基材，夾持活性能量線硬化性樹脂組成物；對上述活性能量線硬化性樹脂組成物照射活性能量線，使上述活性能量線硬化性樹脂組成物硬化，於上述光學物品用基材的表面上形成凹凸樹脂層，該凹凸樹脂層轉印有上述模具或上述複製模具的凹凸結構；以及將光學物品與上述模具或上述複製模具分離，上述光學物品包含上述凹凸樹脂層及上述光學物品用基材。
(9)一種表面具有凹凸結構的光學物品，其是藉由如上述(8)所述之製造方法而製造。
(10)一種表面具有凹凸結構的光學物品，其於表面具有不規則凹凸結構，且利用後述方法求出的平均傾斜角為20度~80度。
(11)如(10)所述之表面具有凹凸結構的光學物品，其中藉由後述方法求出的擴散率為5%~80%。
(12)一種面發光體用透明基材，其是包含如上述(9)至(11)中任一項所述之表面具有凹凸結構的光學物品的透明基材、或是於如上述(9)至(11)中任一項所述之表面具有凹凸結構的光學物品的上述凹凸樹脂層的表面上形成有高折射率層而成的透明基材。
(13)一種面發光體，其具有：如上述(12)所述之面發光體用透明基材、設置於上述面發光體用透明基材的表面上的透明電極、離開上述透明電極而設置的背面電極、以及設置於上述透明電極與上述背面電極之間的發光層。
根據本發明的模具，可使表面具有凹凸結構的光學物品大面積化，且能以良好的生產性製造該光學物品，上述光學物品可使入射光高效地繞射或擴散，由角度所導致的出射光的色調變化小。
本發明的表面具有凹凸結構的光學物品可使入射光高效地繞射或擴散，由角度所導致的出射光的色調變化小。
根據本發明的表面具有凹凸結構的光學物品的製造方法，可使光學物品大面積化，且能以良好的生產性製造，上述光學物品可使入射光高效地繞射或擴散，由角度所導致的出射光的色調變化小，表面具有凹凸結構。
根據本發明的面發光體用透明基材，可獲得光的取出效率高、由角度所導致的出射光的色調變化小的面發光體。
本發明的面發光體的光的取出效率高，由角度所導致的出射光的色調變化小。
本發明中的凹凸表面的平均傾斜角是藉由下述方法而求出。
自利用掃描式電子顯微鏡所拍攝的模具或光學物品的 剖面的圖像中，於與凹凸結構的高度方向y正交的方向x上，僅以基準長度L(10μm)抽取凹凸結構的圖像。將所抽取的凹凸結構的圖像數位化，將凹凸結構的稜線轉換為xy座標。根據所得的稜線(y=f(x))的座標資料，使用下述式求出平均傾斜角θa。同樣地求出合計20處的平均傾斜角θa，並加以平均化。
本發明中的擴散率為德國聯邦標準DIN5036中記載的擴散率，是藉由下述方法而求出。
自凹凸結構的高度方向(0度方向)對光學物品入射雷射光。對透過光學物品而出射的透過擴散光(transmission diffusion light)的強度Iθ進行測定。根據出射角θ為5度、20度及70度時的強度，使用下述式求出擴散率D。
凹凸的平均間隔Sm是藉由下述方法而求出。
自利用掃描式電子顯微鏡所拍攝的模具或光學物品的 剖面的圖像中，於與凹凸結構的高度方向y正交的方向x上，僅以基準長度L(10μm)抽取凹凸結構的圖像。將所抽取的凹凸結構的圖像數位化，將凹凸結構的稜線轉換為xy座標。根據所得的稜線(y=f(x))的座標資料，依據JIS B 0601-1994，使用下述式，將與一個峰部及與其相鄰的一個谷部(即一個凹凸)對應的平均線的長度Smi之和除以凹凸的個數n，求出凹凸的平均間隔Sm。同樣地求出合計20處的凹凸的平均間隔Sm，並加以平均化。
局部峰頂的平均間隔S是藉由下述方法而求出。
自利用掃描式電子顯微鏡所拍攝的模具或光學物品的剖面的圖像中，於與凹凸結構的高度方向y正交的方向x上，僅以基準長度L(10μm)抽取凹凸結構的圖像。將所抽取的凹凸結構的圖像數位化，將凹凸結構的稜線轉換為xy座標。根據所得的稜線(y=f(x))的座標資料，依據JIS B 0601-1994，使用下述式，將與相鄰的局部峰頂間對應的平均線的長度Si之和除以局部峰頂間的個數n，求出局部峰頂的平均間隔S。同樣地求出合計20處的局部峰頂的平均間隔S，並加以平均化。
算術平均粗糙度Ra、最大高度Ry、十點平均高度Rz及均方根粗糙度RMS是依據JIS B0601-1994，對50μm×50μm的測定範圍利用原子力顯微鏡進行測定。
本發明中所謂不規則凹凸結構，是指構成凹凸結構的峰部及谷部(即凹凸)的形狀、間隔等不規則。具體是指凹凸表面的傾斜角、凹凸的間隔、局部峰頂的間隔等有偏差。
所謂透明，是指可透過可見光(具有光透過性)。
所謂活性能量線，是指可見光線、紫外線、電子束、電漿、熱線(紅外線等)等。
所謂(甲基)丙烯酸酯，是指丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。
<模具>
(第1態樣)
本發明的模具的第1態樣為以下模具：表面具有不規則凹凸結構，且凹凸表面的平均傾斜角為20度~80度。
凹凸表面的平均傾斜角為20度以上的模具由於凹凸的縱橫比(高度/間隔)變大，故全反射率充分變低。作為凹凸表面的平均傾斜角為20度以上的模具，具體可列舉：表面具有由多個針狀突起所構成的凹凸結構的模具。
凹凸表面的平均傾斜角為20度~80度，較佳為25度~75度，更佳為30度~70度。若平均傾斜角為20度以上， 則轉印模具的凹凸結構而形成的光學物品中的凹凸結構可使入射光高效地繞射或擴散，由角度所導致的出射光的色調變化小。若平均傾斜角為80度以下，則凹凸的縱橫比(高度/間隔)不會過大，故脫模性變良好，能以良好的生產性製造光學物品。
模具較佳為於轉印模具的凹凸結構而形成的光學物品中擴散率成為5%~80%的模具。若擴散率為5%以上，則凹凸結構變得不規則，轉印模具的凹凸結構而形成的光學物品中的凹凸結構可使入射光更高效地繞射或擴散。若擴散率為80%以下，則光的變角作用不會過高，故可抑制後述面發光體的光的取出效率下降。擴散率更佳為7%~75%，進而佳為10%~70%。
作為凹凸結構的材料，就容易形成不規則凹凸結構、且作為模具的耐久性優異的方面而言，較佳為金屬。作為金屬，就容易形成針狀突起的方面而言，較佳為鎳、鎳合金、銅或銅合金。作為凹凸結構，就容易形成針狀突起的方面而言，較佳為金屬的鍍敷膜。
(第2態樣)
本發明的模具的第2態樣為以下模具：表面具有包含金屬的凹凸結構，且依據JIS K 7105使用C光源測定的具有凹凸結構之側的表面的全反射率為1%~30%。凹凸結構較佳為不規則。
具有凹凸結構之側的表面的全反射率為30%以下的情況下，凹凸的縱橫比(高度/間隔)大，即凹凸表面的平均 傾斜角大，金屬表面的光的反射得到抑制。通常的金屬表面不存在全反射率成為30%以下的情況。表面的全反射率成為30%以下的情況下，即金屬的表面具有特殊形狀，具體而言是由包含金屬的多個針狀突起所構成。
具有凹凸結構之側的表面的全反射率為1%~30%，較佳為1.5%~25%，更佳為2%~20%。若全反射率為1%以上，則凹凸的縱橫比(高度/間隔)不會過大，故脫模性變良好，能以良好的生產性製造光學物品。若全反射率為30%以下，則轉印模具的凹凸結構而形成的光學物品中的凹凸結構可使入射光高效地繞射或擴散，由角度所導致的出射光的色調變化小。
作為金屬，就容易形成針狀突起的方面而言，較佳為鎳、鎳合金、銅或銅合金。作為凹凸結構，就容易形成針狀突起的方面而言，較佳為金屬的鍍敷膜。
(第3態樣)
本發明的模具的第3態樣為以下模具：表面具有由包含金屬的多個針狀突起所構成的凹凸結構。凹凸結構較佳為不規則。
由多個針狀突起所構成的凹凸結構由於凹凸的縱橫比(高度/間隔)變大，故凹凸表面的平均傾斜角大，全反射率充分低。
圖1為表示本發明的模具的第3態樣的一例的剖面圖。模具10是於模具基材16的表面形成有鍍敷膜14，該鍍敷膜14於表面具有凹凸結構，該凹凸結構包含使金屬以 針狀(或大致圓錐狀或大致棱錐狀)析出而形成的多個針狀的突起12。
突起12可為如圖1所示般的金屬以針狀析出而成的大致圓錐(cone)形、或大致棱錐(pyramid)形者，亦可為金屬自突起12的表面以針狀析出而形成的具有小突起的樹枝狀者(省略圖示)。一部分突起12的中心軸線亦可如圖1所示般，自與模具基材16的表面正交的方向傾斜。
作為鍍敷膜14的金屬，就容易形成針狀的突起12的方面而言，較佳為鎳、鎳合金、銅或銅合金。
模具基材16的材料可列舉：金屬(鋁、鎳、銅、不鏽鋼(Stainless steel，SUS等)、樹脂(聚對苯二甲酸乙二酯、丙烯酸系樹脂等)、玻璃等。
模具基材16的形狀可列舉：板狀、將板狀者加工成筒狀或環形帶狀而成的形狀、輥狀等。
模具10可自Ebina電化工業股份有限公司以「針狀鍍鎳合金」、「針狀鍍銅合金」的形式而獲取。
(第1態樣~第3態樣)
本發明的模具的第1態樣~第3態樣(以下將該等一起簡稱為「模具」)的凹凸結構中的凹凸的平均間隔Sm較佳為200nm~100,000nm，更佳為250nm~50,000nm，進而佳為300nm~10,000nm。若凹凸的平均間隔Sm為200nm以上，則於轉印模具的凹凸結構而形成的光學物品中，不形成無反射效果變高的結構，可抑制光的擴散效果的下降。若凹凸的平均間隔Sm為100,000nm以下，則轉 印模具的凹凸結構而形成的光學物品中，光的變角作用不會變低，可使入射光高效地繞射或擴散。
模具的凹凸結構中的局部峰頂的平均間隔S較佳為150nm~80,000nm，更佳為200nm~20,000nm，進而佳為250nm~5,000nm。若局部峰頂的平均間隔S為150nm以上，則於轉印模具的凹凸結構而形成的光學物品中，不形成無反射效果變高的結構，可抑制光的擴散效果的下降。若局部峰頂的平均間隔S為80,000nm以下，則於轉印模具的凹凸結構而形成的光學物品中，光的變角作用不會變低，可使入射光高效地繞射或擴散。
就充分提高後述面發光體的光的取出效率的方面而言，模具的凹凸結構側的表面的算術平均粗糙度Ra較佳為5nm~1000nm，更佳為10nm~500nm。
就充分提高後述面發光體的光的取出效率的方面而言，模具的凹凸結構側的表面的最大高度Ry較佳為10nm~10000nm，更佳為50nm~5000nm。
就充分提高後述面發光體的光的取出效率的方面而言，模具的凹凸結構側的表面的十點平均高度Rz較佳為5nm~5000nm，更佳為25nm~2500nm。
就充分提高後述面發光體的光的取出效率的方面而言，模具的凹凸結構側的表面的均方根粗糙度RMS較佳為5nm~1000nm，更佳為10nm~500nm。
模具的形狀可列舉：板狀、將板狀者加工成筒狀或環形帶狀而成的形狀、輥狀等。
模具的表面較佳為藉由脫模劑進行處理。
(作用效果)
於本發明的模具的第1態樣中，於表面具有不規則凹凸結構，且凹凸表面的平均傾斜角為20度以上，故可製造表面具有凹凸結構的光學物品，該光學物品可使入射光高效地繞射或擴散，由角度所導致的出射光的色調變化小。藉由將模具的凹凸結構轉印至光學物品用基材的表面，可使表面具有凹凸結構的光學物品大面積化，且能以良好的生產性來製造該光學物品。
於本發明的模具的第2態樣中，具有凹凸結構之側的表面的全反射率為30%以下，故可製造表面具有凹凸結構的光學物品，該光學物品可使入射光高效地繞射或擴散，且由角度所導致的出射光的色調變化小。藉由將模具的凹凸結構轉印至光學物品用基材的表面，可使表面具有凹凸結構的光學物品大面積化，且能以良好的生產性來製造該光學物品。
於本發明的模具的第3態樣中，表面具有由包含金屬的多個針狀突起所構成的凹凸結構，故凹凸表面的平均傾斜角大，全反射率充分低。藉由使用該模具，可製造表面具有凹凸結構的光學物品，該光學物品可使入射光高效地繞射或擴散，由角度所導致的出射光的色調變化小。藉由將模具的凹凸結構轉印至光學物品用基材的表面，可使表面具有凹凸結構的光學物品大面積化，且能以良好的生產性來製造該光學物品。
<表面具有凹凸結構的光學物品的製造方法>
本發明的表面具有凹凸結構的光學物品的製造方法是包含下述步驟(I)~步驟(III)的方法。
(I)以本發明的模具與光學物品用基材夾持活性能量線硬化性樹脂組成物的步驟。
(II)對活性能量線硬化性樹脂組成物照射活性能量線，使活性能量線硬化性樹脂組成物硬化，於光學物品用基材的表面上形成轉印有模具的凹凸結構的凹凸樹脂層的步驟。
(III)將包含凹凸樹脂層及光學物品用基材的光學物品與模具分離的步驟。
(步驟(I))
如圖2所示，以模具10的凹凸結構側的表面與光學物品用基材20的表面夾持活性能量線硬化性樹脂組成物32。
模具10可為表面具有不規則凹凸結構、且凹凸表面的平均傾斜角為20度~80度的模具(第1態樣)，亦可為具有凹凸結構之側的表面的全反射率為1%~30%的模具(第2態樣)，亦可為表面具有由包含金屬的多個針狀突起所構成的凹凸結構的模具(第3態樣)。亦可為滿足以下條件中2個以上的模具：表面具有不規則凹凸結構，且平均傾斜角為20度~80度；具有凹凸結構之側的表面的全反射率為1%~30%；以及表面具有由包含金屬的多個針狀突起所構成的凹凸結構；就本發明的效果進一步提高的方面而言，較佳為滿足該等條件中的2個，更佳為滿足3個。
圖示例的模具10為於模具基材16的表面形成有鍍敷膜14的模具的例子，上述鍍敷膜14於表面具有由多個針狀的突起12所構成的凹凸結構。
光學物品用基材20是使用可透過活性能量線的基材。
光學物品用基材20的材料可列舉：聚酯(聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯等)、丙烯酸系樹脂(聚甲基丙烯酸甲酯等)、聚碳酸酯、聚氯乙烯、苯乙烯系樹脂(丙烯腈-丁二烯-苯乙烯(Acrylonitrile-Butadiene-Styrene，ABS)樹脂等)、纖維素系樹脂(三乙醯纖維素等)、聚醯亞胺系樹脂(聚醯亞胺樹脂、聚醯亞胺醯胺樹脂等)、玻璃等。於使用樹脂作為光學物品用基材20的材料的情形時，亦可於光學物品用基材20的表面上設置各種阻障膜(SiO/SiN的多重積層膜、樹脂系阻障膜)。
光學物品用基材20的形態可列舉膜、片、板等。
亦可對光學物品用基材20預先實施表面處理。表面處理可列舉：紫外線處理、電暈處理、電漿處理、準分子處理、紫外線(Ultraviolet，UV)臭氧處理等。
光學物品用基材20亦可於與活性能量線硬化性樹脂組成物32接觸之側的表面上具有接著層。
接著層為包含公知的接著劑的層。接著劑較佳為包含具有(甲基)丙烯醯氧基的矽烷偶合劑。
關於以模具10與光學物品用基材20夾持活性能量線硬化性樹脂組成物32的操作，可將模具10按壓於塗佈在 光學物品用基材20的表面上的活性能量線硬化性樹脂組成物32上而進行，亦可將光學物品用基材20按壓於塗佈在模具10的凹凸結構側的表面上的活性能量線硬化性樹脂組成物32上而進行。
活性能量線硬化性樹脂組成物32的塗佈方法可列舉：棒塗佈、浸漬塗佈、噴霧塗佈、輥塗佈、凹版塗佈、柔版塗佈、網版塗佈、旋轉塗佈、流式塗佈、噴墨等。
亦可藉由對所塗佈的活性能量線硬化性樹脂組成物32於完全硬化之前進行預烘烤，而促進活性能量線硬化性樹脂組成物32的硬化。預烘烤的加熱方法可列舉：利用紅外線加熱器的照射法、利用熱風的循環加熱法、利用熱板等的直接加熱法等。加熱溫度較佳為活性能量線硬化性樹脂組成物32的溫度達到50℃~120℃的溫度。加熱時間較佳為5秒鐘~3600分鐘，更佳為30秒鐘~30分鐘，進而佳為1分鐘~10分鐘。
亦可於真空下自所塗佈的活性能量線硬化性樹脂組成物32中使溶劑揮發，而促進活性能量線硬化性樹脂組成物32的硬化。此時，亦可適當併用加熱。真空下的加熱溫度較佳為活性能量線硬化性樹脂組成物32的溫度達到室溫~120℃的溫度。真空下的溶劑的揮發時間較佳為1分鐘~3600分鐘，更佳為1分鐘~120分鐘。
活性能量線硬化性樹脂組成物32較佳為於與步驟(I)~步驟(II)相同的條件下形成時的凹凸樹脂層的馬氏硬度(Martens' hardness)成為150以下般的組成物。若凹凸 樹脂層的馬氏硬度為150以下，則即便模具10的突起12的中心軸線自與模具基材16的表面正交的方向傾斜，而於步驟(II)中以與傾斜的突起12卡合的方式形成凹凸樹脂層，於步驟(III)中將第1光學物品30與模具10分離時，凹凸樹脂層可變形，故將第1光學物品30與模具10分離時的脫模性優異。凹凸樹脂層的馬氏硬度更佳為145以下，進而佳為140以下，特佳為60以下。
馬氏硬度的測定是使用Fischerscope HM2000進行。對於測定時所使用的壓頭，使用金剛石製的四棱錐型、對面角為135度者。於溫度為23℃、相對濕度為50%的環境下，對凹凸樹脂層使壓頭以dF/dt2(F：載重，t：經過時間)成為一定的方式以20秒鐘加載至1mN為止後，蠕變5秒鐘，其後以與加載時相同的條件卸載的測定條件下，將載重除以超過接觸零點而侵入的壓頭的表面積，藉此求出馬氏硬度。
就與光學物品用基材20的接著性優異的方面而言，活性能量線硬化性樹脂組成物32較佳為含有具有(甲基)丙烯醯氧基的單體及/或低聚物。
活性能量線硬化性樹脂組成物32含有聚合性化合物及聚合起始劑。
聚合性化合物可列舉：分子中具有自由基聚合性鍵及/或陽離子聚合性鍵的單體、低聚物、反應性聚合物等。
具有自由基聚合性鍵的單體可列舉單官能單體、多官能單體。
單官能單體可列舉：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第二丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸-2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸烷基酯、(甲基)丙烯酸十三烷基酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸異冰片酯、(甲基)丙烯酸環氧丙酯、(甲基)丙烯酸四氫糠酯、(甲基)丙烯酸烯丙酯、(甲基)丙烯酸-2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸羥基丙酯、(甲基)丙烯酸-2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸-2-乙氧基乙酯等(甲基)丙烯酸酯衍生物；(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯腈；苯乙烯、α-甲基苯乙烯等苯乙烯衍生物；(甲基)丙烯醯胺、N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、二甲基胺基丙基(甲基)丙烯醯胺等(甲基)丙烯醯胺衍生物等。該些單體可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。
多官能單體可列舉：乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、異三聚氰酸環氧乙烷改質二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,5-戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,3-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、2,2-雙(4-(甲基)丙烯醯氧基聚乙氧基苯基)丙烷、2,2-雙(4-(甲基)丙烯醯氧基乙氧基苯基)丙烷、2,2-雙(4-(3-(甲基)丙烯醯氧基-2-羥基丙氧基)苯基)丙烷、1,2-雙(3-(甲基)丙烯醯氧基-2-羥基 丙氧基)乙烷、1,4-雙(3-(甲基)丙烯醯氧基-2-羥基丙氧基)丁烷、二羥甲基三環癸烷二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A的環氧乙烷加成物二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A的環氧丙烷加成物二(甲基)丙烯酸酯、羥基特戊酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙烯基苯、亞甲基雙丙烯醯胺等二官能性單體；季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷環氧乙烷改質三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷環氧丙烷改質三丙烯酸酯、三羥甲基丙烷環氧乙烷改質三丙烯酸酯、異三聚氰酸環氧乙烷改質三(甲基)丙烯酸酯等三官能單體；琥珀酸/三羥甲基乙烷/丙烯酸的縮合反應混合物、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二-三羥甲基丙烷四丙烯酸酯、四羥甲基乙烷四(甲基)丙烯酸酯等四官能以上的單體；二官能以上的丙烯酸胺基甲酸酯、二官能以上的聚酯丙烯酸酯等。該些單體可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。
具有陽離子聚合性鍵的單體可列舉具有環氧基、氧雜環丁基、噁唑啉基、乙烯氧基等的單體，特佳為具有環氧基的單體。
低聚物或反應性聚合物可列舉：不飽和二羧酸與多元醇的縮合物等不飽和聚酯類；聚酯(甲基)丙烯酸酯、聚醚(甲基)丙烯酸酯、多元醇(甲基)丙烯酸酯、環氧(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯、陽離子聚合型環氧化合物、側鏈上具有自由基聚合性鍵的上述單體的均聚物或共聚物等。
於利用光硬化反應的情形時，光聚合起始劑例如可列舉：安息香、安息香甲醚、安息香***、安息香異丙醚、安息香異丁醚、苯偶醯、二苯甲酮、對甲氧基二苯甲酮、2,2-二乙氧基苯乙酮、α,α-二甲氧基-α-苯基苯乙酮、苯甲醯甲酸甲酯、苯甲醯甲酸乙酯、4,4'-雙(二甲基胺基)二苯甲酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮等羰基化合物；一硫化四甲基秋蘭姆、二硫化四甲基秋蘭姆等硫化合物；2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦、苯甲醯基二乙氧基氧化膦等。該些光聚合起始劑可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。
於利用電子束硬化反應的情形時，聚合起始劑例如可列舉：二苯甲酮、4,4-雙(二乙基胺基)二苯甲酮、2,4,6-三甲基二苯甲酮、鄰苯甲醯苯甲酸甲酯、4-苯基二苯甲酮、第三丁基蒽醌、2-乙基蒽醌，2,4-二乙基噻噸酮、異丙基噻噸酮、2,4-二氯噻噸酮等噻噸酮；二乙氧基苯乙酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、苯偶醯二甲基縮酮、1-羥基環己基-苯基酮、2-甲基-2-嗎啉基(4-硫甲基苯基)丙烷-1-酮、2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-丁酮等苯乙酮；安息香甲醚、安息香***、安息香異丙醚、安息香異丁醚等安息香醚；2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦、雙(2,6-二甲氧基苯甲醯基)-2,4,4-三甲基戊基氧化膦、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-苯基氧化膦等醯基氧化膦；苯甲醯基甲酸甲酯、1,7-雙吖啶基庚烷、9-苯基吖啶等。該些聚合起始劑可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。
於利用熱硬化反應的情形時，熱聚合起始劑例如可列舉：過氧化甲基乙基酮、過氧化苯甲醯、過氧化二異丙苯、氫過氧化第三丁基、氫過氧化異丙苯、過氧化辛酸第三丁酯、過氧化苯甲酸第三丁酯、過氧化月桂醯等有機過氧化物；偶氮雙異丁腈等偶氮系化合物；於上述有機過氧化物中組合N,N-二甲基苯胺、N,N-二甲基-對甲苯胺等胺而成的氧化還原系聚合起始劑等。
相對於聚合性化合物的100質量份，聚合起始劑的量較佳為0.1質量份~10質量份。若聚合起始劑的量為0.1質量份以上，則聚合容易進行。若聚合起始劑的量為10質量份以下，則可抑制硬化膜的著色或機械強度的下降。
活性能量線硬化性樹脂組成物32視需要亦可含有非反應性的聚合物、活性能量線溶膠-凝膠反應性組成物、抗靜電劑、用以提高防污性的氟化合物等添加劑、微粒子、少量的溶劑。
非反應性的聚合物可列舉：丙烯酸系樹脂、苯乙烯系樹脂、聚胺基甲酸酯、纖維素系樹脂、聚乙烯丁醛、聚酯、熱塑性彈性體等。
活性能量線溶膠-凝膠反應性組成物可列舉：烷氧基矽烷化合物、烷基矽酸鹽化合物等。
烷氧基矽烷化合物可列舉：四甲氧基矽烷、四-異丙氧基矽烷、四-正丙氧基矽烷、四-正丁氧基矽烷、四-第二丁氧基矽烷、四-第三丁氧基矽烷、甲基三乙氧基矽烷、甲基三丙氧基矽烷、甲基三丁氧基矽烷、二甲基二甲氧基矽烷、 二甲基二乙氧基矽烷、三甲基乙氧基矽烷、三甲基甲氧基矽烷、三甲基丙氧基矽烷、三甲基丁氧基矽烷等。
(步驟(II))
如圖2所示般，對活性能量線硬化性樹脂組成物32照射活性能量線，使活性能量線硬化性樹脂組成物32硬化，於光學物品用基材20的表面形成轉印有模具10的凹凸結構的凹凸樹脂層34。
活性能量線是自光學物品用基材20側照射。
於照射活性能量線時，藉由在光源與光學物品用基材20之間配置具有光透過部及遮光部的罩幕(mask)(省略圖示)，可使凹凸樹脂層34形成為所需的形狀、大小。
活性能量線較佳為真空紫外線、紫外線、可見光線。活性能量線可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。
關於活性能量線的照射時間及照射量，於紫外線的情形時，較佳為以累計光量成為100mJ/cm2~5000mJ/cm2的範圍的方式進行調整。
光源可列舉：低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、白熾燈、氙氣燈、鹵素燈、碳弧燈、金屬鹵化物燈、螢光燈、鎢燈、鎵燈、準分子燈、太陽等。該些光源中，較佳為低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、金屬鹵化物燈。
於使活性能量線硬化性樹脂組成物32硬化時，亦可照射活性能量線，並且可視需要併用加熱。
關於加熱時期，可自活性能量線的照射前、活性能量 線的照射同時、活性能量線的照射後的任一時期中選擇至少一個時期。
加熱方法可列舉：利用紅外線加熱器的照射法、利用熱風的循環加熱法、利用熱板等的直接加熱法等。加熱溫度較佳為活性能量線硬化性樹脂組成物32的溫度成為50℃~120℃的溫度。作為加熱時間，於在活性能量線的照射前進行加熱的情形時，較佳為1分鐘~20分鐘，於在活性能量線的照射同時進行加熱的情形時較佳為0.2分鐘~10分鐘，於在活性能量線的照射後進行加熱的情形時，較佳為1分鐘~60分鐘。
(步驟(III))
如圖2所示，將包含凹凸樹脂層34及光學物品用基材20的第1光學物品30與模具10分離，獲得本發明的第1光學物品30，該第1光學物品30於表面具有包含多個凹部36的凹凸結構。
(複製模具)
亦可使用第1光學物品30作為複製模具，獲得第2光學物品，該第2光學物品是於光學物品用基材的表面上具有轉印有複製模具的凹凸結構的凹凸樹脂層。
使用複製模具的本發明的表面具有凹凸結構的光學物品的製造方法為包含下述步驟(I')~步驟(III')的方法。
(I')以表面具有凹凸結構的複製模具與光學物品用基材夾持活性能量線硬化性樹脂組成物的步驟。
(II')對活性能量線硬化性樹脂組成物照射活性能量 線，使活性能量線硬化性樹脂組成物硬化，於光學物品用基材的表面形成轉印有複製模具的凹凸結構的凹凸樹脂層的步驟。
(III')將包含凹凸樹脂層及光學物品用基材的光學物品與複製模具分離的步驟。
(步驟(I'))
如圖3所示，以複製模具30a(第1光學物品30)的凹凸結構側的表面、與光學物品用基材40的表面，夾持活性能量線硬化性樹脂組成物52，上述複製模具30a(第1光學物品30)是於複製模具基材20a(光學物品用基材20)的表面上形成有凹凸樹脂層34，該凹凸樹脂層34於表面具有包含多個凹部36的凹凸結構。
光學物品用基材40、活性能量線硬化性樹脂組成物52可列舉與上述光學物品用基材20、活性能量線硬化性樹脂組成物32相同者。
複製模具30a的形狀可列舉：膜狀、板狀、將膜狀或板狀者加工成筒狀或環形帶狀而成的形狀、輥狀等。
複製模具30a的表面較佳為藉由脫模劑進行處理。
(步驟(II'))
如圖3所示，對活性能量線硬化性樹脂組成物52照射活性能量線，使活性能量線硬化性樹脂組成物52硬化，於光學物品用基材40的表面上形成轉印有複製模具30a的凹凸結構的凹凸樹脂層54。
活性能量線可自複製模具30a側照射，亦可自光學物 品用基材40側照射，亦可自兩側照射。
活性能量線硬化性樹脂組成物52的硬化只要與上述步驟(II)同樣地進行即可。
(步驟(III'))
如圖3所示，將包含凹凸樹脂層54及光學物品用基材40的第2光學物品50與複製模具30a分離，獲得本發明的第2光學物品50，該光學物品50於表面具有包含多個突起56的凹凸結構。
(作用效果)
以上所說明的本發明的表面具有凹凸結構的光學物品的製造方法中，使用本發明的模具(或將本發明的模具的凹凸結構轉印至複製模具基材的表面上而成的複製模具)，於光學物品用基材的表面上形成轉印有凹凸結構的凹凸樹脂層，故可使表面具有凹凸結構的光學物品大面積化，且能以良好的生產性來製造該光學物品，上述光學物品可使入射光高效地繞射或擴散，由角度所導致的出射光的色調變化小。
(其他形態)
再者，本發明的表面具有凹凸結構的光學物品的製造方法不限定於圖示例的製造方法。例如，亦可於光學物品用基材20(或光學物品用基材40)與凹凸樹脂層34(或凹凸樹脂層54)之間形成接著層。
<表面具有凹凸結構的光學物品>
(第1光學物品)
第1光學物品30是藉由本發明的製造方法而製造。第1光學物品30為具有光學物品用基材20、以及形成於光學物品用基材20的表面上的凹凸樹脂層34的積層體。
凹凸樹脂層34為包含活性能量線硬化性樹脂組成物32的硬化物的層，於表面具有轉印模具10的突起12而形成的包含多個凹部36的凹凸結構。
第1光學物品30的用途可列舉：進行光的繞射或擴散的光學膜、面發光體的透明基材、面發光體的光取出構件、太陽電池用保護板、薄膜系太陽電池的透明基材、複製模具等。
(第2光學物品)
第2光學物品50是藉由本發明的製造方法而製造。第2光學物品50為具有光學物品用基材40、以及形成於光學物品用基材40的表面上的凹凸樹脂層54的積層體。
凹凸樹脂層54為包含活性能量線硬化性樹脂組成物52的硬化物的層，於表面具有轉印複製模具30a(第1光學物品30)的凹部36而形成的包含多個突起56的凹凸結構。
第2光學物品50的用途可列舉：進行光的繞射或擴散的光學膜、面發光體的透明基材、面發光體的光取出構件、透明基材太陽電池用保護板、薄膜系太陽電池的透明基材、複製模具等。
(第1光學物品~第2光學物品)
第1光學物品30及第2光學物品50(以下將該等一 起簡稱為「光學物品」)的凹凸結構中的凹凸的平均間隔Sm較佳為200nm~100,000nm，更佳為250nm~50,000nm，進而佳為300nm~10,000nm。若凹凸的平均間隔Sm為200nm以上，則不形成無反射效果變高的結構，可抑制光的擴散效果的下降。若凹凸的平均間隔Sm為100,000nm以下，則光的變角作用不會變低，可使入射光高效地繞射或擴散。
光學物品的凹凸結構中的局部峰頂的平均間隔S較佳為150nm~80,000nm，更佳為200nm~20,000nm，進而佳為250nm~5,000nm。若局部峰頂的平均間隔S為150nm以上，則不形成無反射效果變高的結構，可抑制光的擴散效果的下降。若局部峰頂的平均間隔S為80,000nm以下，則光的變角作用不會變低，可使入射光高效地繞射或擴散。
就充分提高後述面發光體的光的取出效率的方面而言，凹凸樹脂層的凹凸結構側的表面的算術平均粗糙度Ra較佳為5nm~1000nm，更佳為10nm~500nm。
就充分提高後述面發光體的光的取出效率的方面而言，凹凸樹脂層的凹凸結構側的表面的最大高度Ry較佳為10nm~10000nm，更佳為50nm~5000nm。
就充分提高後述面發光體的光的取出效率的方面而言，凹凸樹脂層的凹凸結構側的表面的十點平均高度Rz較佳為5nm~5000nm，更佳為25nm~2500nm。
就充分提高後述面發光體的光的取出效率的方面而 言，凹凸樹脂層的凹凸結構側的表面的均方根粗糙度RMS較佳為5nm~1000nm，更佳為10nm~500nm。
(作用效果)
以上所說明的本發明的表面具有凹凸結構的光學物品中，由於表面具有轉印本發明的模具或複製模具的凹凸結構而形成的凹凸結構，故可使入射光高效地繞射或擴散，由角度所導致的出射光的色調變化小。
(其他形態)
再者，本發明的表面具有凹凸結構的光學物品不限定於圖示例。例如，亦可於光學物品用基材20(或光學物品用基材40)與凹凸樹脂層34(或凹凸樹脂層54)之間具有接著層。
另外，本發明的表面具有凹凸結構的光學物品不限定於藉由本發明的製造方法而獲得者。例如，亦可為表面具有不規則凹凸結構、且凹凸表面的平均傾斜角為20度~80度的光學物品。若平均傾斜角為20度以上，則可使入射光高效地繞射或擴散。若平均傾斜角為80度以下，則模具的脫模性變良好。凹凸表面的平均傾斜角較佳為25度~75度，更佳為30度~70度。
該光學物品較佳為擴散率為5%~80%。若擴散率為5%以上，則凹凸結構不規則，可使入射光更高效地繞射或擴散。若擴散率為80%以下，則光的變角作用不會過高，故可抑制後述面發光體的光的取出效率的下降。擴散率更佳為7%~75%，進而佳為10%~70%。
<面發光體用透明基材>
本發明的面發光體用透明基材是包含本發明的表面具有凹凸結構的光學物品的透明基材、或是於本發明的表面具有凹凸結構的光學物品的凹凸樹脂層的表面上形成有高折射率層而成的透明基材，且光學物品用基材為透明基材，於透明基材的表面上具有包含凹凸樹脂層的光取出部、或包含凹凸樹脂層及高折射率層的光取出部。
圖4及圖5為表示使用第1光學物品30的本發明的面發光體用透明基材的一例的剖面圖。面發光體用透明基材60具有透明基材20b(光學物品用基材20)、以及形成於透明基材20b的表面上的光取出部62。
圖4的面發光體用透明基材60中的光取出部62包含凹凸樹脂層34及高折射率層64，上述凹凸樹脂層34形成於透明基材20b的表面上，上述高折射率層64是以使凹凸樹脂層34的凹凸結構平坦化的方式形成於凹凸樹脂層34的表面上。
圖5的面發光體用透明基材60中的光取出部62僅包含形成於透明基材20b的表面上的凹凸樹脂層34。
圖6及圖7為表示使用第2光學物品50的本發明的面發光體用透明基材的一例的剖面圖。面發光體用透明基材60具有透明基材40b(光學物品用基材40)、以及形成於透明基材40b的表面上的光取出部62。
圖6的面發光體用透明基材60中的光取出部62包含凹凸樹脂層54及高折射率層64，上述凹凸樹脂層54形成 於透明基材40b的表面上，上述高折射率層64是以使凹凸樹脂層54的凹凸結構平坦化的方式形成於凹凸樹脂層34的表面上。
圖7的面發光體用透明基材60中的光取出部62僅包含形成於透明基材40b的表面上的凹凸樹脂層54。
(高折射率層)
高折射率層64為包含以下材料的層，上述材料具有高於凹凸樹脂層34(或凹凸樹脂層54)的折射率、且低於後述透明電極82的折射率的折射率。凹凸樹脂層34(或凹凸樹脂層54)於包含活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物、且該活性能量線硬化性樹脂組成物含有具有(甲基)丙烯醯氧基的單體及/或低聚物的情形時，折射率為1.49左右，透明電極82包含氧化銦錫(ITO)的情形的折射率為2.12左右，故高折射率層64的材料的折射率較佳為1.5~2.1，更佳為1.6~2.0。
高折射率的材料可列舉：雙(4-甲基丙烯醯硫基苯基)硫化物、乙烯基萘、乙烯基苯硫醚、4-甲基丙烯醯氧基苯基-4'-甲氧基苯硫醚、茀系環氧樹脂(以雙芳基茀作為基本骨架的環氧樹脂(長瀨產業公司製造)等)、茀系丙烯酸系樹脂(OGSOL(大阪瓦斯化學公司製造)等)等。
(作用效果)
於以上所說明的本發明的面發光體用透明基材中，具有可使入射光高效地繞射或擴散、由角度所導致的出射光的色調變化小的凹凸樹脂層，故可獲得光的取出效率高、 由角度所導致的出射光的色調變化小的面發光體。
另外，構成凹凸樹脂層的凹凸的形狀、間隔等不規則，故藉由凹凸結構被有效地繞射或擴散的光的角度、波長的偏差少。因此，與專利文獻1的面發光體相比較，可獲得光的取出效率更高、可均勻地照射更廣範圍的面發光體。
具有高折射率層的情形時，發揮下述作用效果。
於凹凸樹脂層中的凹凸的平均間隔Sm為200nm以下的情形時，高折射率層與凹凸樹脂層的界面、以及高折射率層與透明電極的界面上的折射率差變小，可抑制各界面上的光的反射，結果菲涅耳(Fresnel)反射降低效果提高，光的取出效率進一步提高。於凹凸樹脂層中的凹凸的平均間隔Sm為200nm~1μm的情形時，可藉由高折射率層的凹凸結構所導致的繞射效果，將被封閉在透明電極或有機半導體層中的光取出至外部。於凹凸樹脂層中的凹凸的平均間隔Sm為1μm~50μm的情形時，可藉由高折射率層的由凹凸結構所得的擴散，將被封閉在透明電極或有機半導體層中的光取出至外部。
另外，高折射率層亦發揮以下作用：填埋凹凸樹脂層的凹部，使光取出部的表面平滑化。若光取出部的表面變平滑，則容易均勻地形成後述發光部的各層。
(其他形態)
再者，本發明的面發光體用透明基材不限定於圖示例。
例如，亦可於透明基材20b(或透明基材40b)與凹凸樹脂層34(或凹凸樹脂層54)之間具有接著層。
亦可於面發光體用透明基材60的透明基材20b(或透明基材40b)側的表面上，經由黏著層等而貼附有其他透明基材(參照圖12)。
亦可將兩片面發光體用透明基材60以透明基材20b(或透明基材40b)側的表面相向的方式經由黏著層等而貼附(參照圖13)。
亦可於面發光體用透明基材60的透明基材20b(或透明基材40b)側的表面上，經由黏著層等而貼附有其他光取出構件(微透鏡陣列片、稜鏡片、梯形帳篷片(tent sheet)等)(參照實例9、實例10)。
<面發光體>
本發明的面發光體具有本發明的面發光體用透明基材、設置於面發光體用透明基材的表面上的透明電極、離開上述透明電極而設置的背面電極、以及設置於透明電極與背面電極之間的發光層。
圖8~圖13為表示本發明的面發光體的一例的剖面圖。有機EL元件70(面發光體)具備：面發光體用透明基材60；發光部80，其設置於面發光體用透明基材60上，自面發光體用透明基材60之側起依序具有透明電極82、含有發光層(省略圖示)的有機半導體層84及背面電極86；以及密封部(省略圖示)，其將發光部80密封。
圖8的有機EL元件70是於使用第1光學物品30、且具有高折射率層64的面發光體用透明基材60的高折射率層64側的表面上，設有發光部80而成。
圖9的有機EL元件70是於使用第1光學物品30、且不具有高折射率層64的面發光體用透明基材60的透明基材20b側的表面上，設有發光部80而成。
圖10的有機EL元件70是於使用第2光學物品50、且具有高折射率層64的面發光體用透明基材60的高折射率層64側的表面上，設有發光部80而成。
圖11的有機EL元件70是於使用第2光學物品50、且不具有高折射率層64的面發光體用透明基材60的透明基材40b側的表面上，設有發光部80而成。
圖12的有機EL元件70是於使用第1光學物品30、且於面發光體用透明基材60的其他透明基材68側的表面上，設有發光部80而成，上述面發光體用透明基材60是於透明基材20b側的表面上經由黏著層66而貼附有其他透明基材68。
圖13的有機EL元件70是於面發光體用透明基材60的高折射率層64側的表面上設有發光部80而成，上述面發光體用透明基材60是將使用第1光學物品30且不具有高折射率層64的面發光體用透明基材、與使用第2光學物品50且具有高折射率層64的面發光體用透明基材，以透明基材20b側的表面與透明基材40b側的表面相向的方式經由黏著層66貼附而成。
(透明電極)
透明電極82的材料可列舉：具有導電性的金屬氧化物、可形成具有光透過性的金屬薄膜的金屬、具有導電性 的有機高分子等。
具有導電性的金屬氧化物可列舉：氧化銦、氧化鋅、氧化錫、氧化銦錫(ITO)、氧化銦鋅(IZO)等。
可形成具有光透過性的金屬薄膜的金屬可列舉：金、鉑、銀、銅、鋁等。
具有導電性的有機高分子可列舉：聚苯胺、其衍生物、聚噻吩、聚(3,4-乙烯二氧噻吩)：聚(苯乙烯磺酸酯)(poly(3,4-ethylenedioxythiophene)：poly(styrenesulfonate)，PEDOT-PSS)、其衍生物等。
透明電極82可為一層，亦可為兩層以上。
就兼具光透過性及導電性的方面而言，透明電極82的厚度較佳為10nm~1000nm，更佳為50nm~500nm。
透明電極82可為陽極，亦可為陰極。透明電極82通常被設定為陽極。
(有機半導體層)
有機半導體層84至少具有發光層(省略圖示)。有機半導體層84亦可於發光層與透明電極82或背面電極86之間具有其他功能層。作為設置於透明電極82與發光層之間的其他功能層，自透明電極82之側起依序可列舉電洞注入層、電洞傳輸層。作為設置於發光層與背面電極86之間的其他功能層，自發光層之側起依序可列舉電洞阻擋層、電子傳輸層、電子注入層。
發光層為包含有機化合物的發光材料的層。
有機化合物的發光材料可列舉：於作為磷光性化合物 的主體化合物的咔唑衍生物(4,4'-N,N'-二咔唑-聯苯(以下記作CBP)等)中摻雜有銥錯合物(三(2-苯基吡啶)銥(以下記作Ir(ppy)3))而成者(CBP：Ir(ppy)3等)；8-羥基喹啉或其衍生物的金屬錯合物(三(8-羥基喹啉)鋁(以下記作Alq3)等)；其他公知的發光材料。
發光層中，除了發光材料以外，亦可含有電洞傳輸性材料、電子傳輸性材料等。
發光層的厚度較佳為1nm~100nm，更佳為10nm~50nm。
發光層可為一層，亦可為兩層以上。例如，於使用有機EL元件70作為白色的有機EL照明的情形時，亦可將發光層設定為具有藍色發光層、綠色發光層及紅色發光層的積層結構。
電洞注入層為含有電洞注入材料的層。
電洞注入材料可列舉：銅酞菁(以下記作CuPc)；氧化釩；具有導電性的有機高分子；其他公知的電洞注入材料。
電洞注入層的厚度較佳為1nm~100nm，更佳為10nm~50nm。
電洞傳輸層為含有電洞傳輸性材料的層。
電洞傳輸性材料可列舉：三苯基二胺類(4,4'-雙(對甲苯基苯基胺基)聯苯(以下記作TPD)等)；其他公知的電洞傳輸性材料。
電洞傳輸層的厚度較佳為1nm~100nm，更佳為10 nm~50nm。
電洞阻擋層為含有電洞阻擋材料的層。
電洞阻擋材料可列舉：2,9-二甲基-4,7-二苯基-1,10-啡啉(以下記作BCP)等；其他公知的電洞阻擋材料。
電洞阻擋層的厚度較佳為1nm~100nm，更佳為5nm~50nm。
電子傳輸層為含有電子傳輸性材料的層。
電子傳輸性材料可列舉：8-羥基喹啉或其衍生物的金屬錯合物(Alq3等)、噁二唑衍生物；其他公知的電子傳輸性材料。
電子傳輸層的厚度較佳為1nm~100nm，更佳為10nm~50nm。
電子注入層為含有電子注入材料的層。
電子注入材料可列舉：鹼金屬化合物(氟化鋰等)、鹼土金屬化合物(氟化鎂等)、金屬(鍶等)；其他公知的電子注入材料。
電子注入層的厚度較佳為1nm~100nm，更佳為10nm~50nm。
(背面電極)
背面電極86的材料可列舉鋰、鈉、鉀、釕、銫、鈹、鎂、鈣、鍶、鋇、鋁、鈧、釩、鋅、釔、銦、鈰、釤、銪、鋱、鐿等，且可列舉：將該些金屬中的兩種以上組合而成的合金，該些金屬的氟化物等金屬鹽類，或該些金屬中的一種以上與金、銀、鉑、銅、錳、鈦、鈷、鎳、鎢、錫中 的一種以上的合金等。合金的具體例可列舉：鎂-銀合金、鎂-銦合金、鎂-鋁合金、銦-銀合金、鋰-鋁合金、鋰-鎂合金、鋰-銦合金、鈣-鋁合金等。
背面電極86可為一層，亦可為兩層以上。
就導電性及耐久性的方面而言，背面電極86的厚度較佳為5nm~1000nm，更佳為10nm~300nm。
背面電極86可為陰極，亦可為陽極。背面電極86通常被設定為陰極。
(面發光體的製造方法)
有機EL元件70例如可藉由包含下述步驟(α)~步驟(δ)的方法而製造。
(α)於面發光體用透明基材60的表面上形成透明電極82的步驟。
(β)於透明電極82的表面上形成含有發光層(省略圖示)的有機半導體層84的步驟。
(γ)於有機半導體層84的表面上形成背面電極86的步驟。
(δ)藉由密封部(省略圖示)將發光部80密封的步驟。
(步驟(α))
穿過形成有預定圖案的孔的罩幕而蒸鍍電極的材料，於面發光體用透明基材60的表面上形成透明電極82。
蒸鍍法可列舉真空蒸鍍法、濺鍍法、離子電鍍法等物理蒸鍍法，就容易形成透明電極82的方面而言，較佳為濺 鍍法。
就容易形成透明電極82的方面而言，蒸鍍速度(成膜速度)較佳為10nm/sec以下，更佳為5nm/sec以下。就生產性的方面而言，蒸鍍速度(成膜速度)較佳為0.001nm/sec以上，更佳為0.01nm/sec以上。
為了提高面發光體用透明基材60與透明電極82的接著性，亦可於蒸鍍之前對面發光體用透明基材60的表面實施UV臭氧處理、電漿處理、電暈處理、準分子處理等。
為了將面發光體用透明基材60中所含的溶存氣體、未反應單體去除，亦可於蒸鍍之前對面發光體用透明基材60實施加熱處理、真空處理、加熱真空處理等。
(步驟(β))
於透明電極82的表面上，穿過形成有預定圖案的孔的罩幕而依序蒸鍍構成有機半導體層84的各層的材料，形成有機半導體層84。
蒸鍍法可列舉真空蒸鍍法、濺鍍法、離子電鍍法等物理蒸鍍法。於材料為有機化合物的情形時，較佳為真空蒸鍍法。
就容易形成各層的方面而言，蒸鍍速度(成膜速度)較佳為10nm/sec以下，更佳為5nm/sec以下。就生產性的方面而言，蒸鍍速度(成膜速度)較佳為0.1nm/sec以上，更佳為0.5nm/sec以上。
為了提高透明電極82與有機半導體層84的接著性，亦可於蒸鍍之前對透明電極82的表面實施UV臭氧處理、 電漿處理、電暈處理、準分子燈處理等。
(步驟(γ))
於有機半導體層84上，穿過形成有預定圖案的孔的罩幕而蒸鍍電極的材料，形成背面電極86。
蒸鍍法可列舉真空蒸鍍法、濺鍍法、離子電鍍法等物理蒸鍍法，較佳為真空蒸鍍法，其原因在於不會對下層的有機半導體層84造成損傷。
就不對有機半導體層84造成損傷的觀點而言，蒸鍍速度(成膜速度)較佳為10nm/sec以下，更佳為5nm/sec以下。就容易連續形成金屬薄膜的方面、生產性的方面而言，蒸鍍速度(成膜速度)較佳為0.5nm/sec以上，更佳為1.0nm/sec以上。
(步驟(δ))
於密封部包含凹刻玻璃(dug glass)的情形時，密封部是藉由以下方式設置：以將發光部80收容於凹刻玻璃的凹部內的方式包覆凹刻玻璃後，藉由接著劑將凹刻玻璃的開口端面接著於面發光體用透明基材60。
於密封部包含阻障層的情形時，密封部是藉由蒸鍍阻障層的材料等而形成。
阻障層的形成方法可列舉：真空蒸鍍法、濺鍍法、反應性濺鍍法、分子束磊晶(Molecular Beam Epitaxy，MBE)法、簇離子束法、離子電鍍法、電漿聚合法(高頻激發離子電鍍法)、電漿化學氣相沈積(Chemical Vapor Deposition，CVD)法、雷射CVD法、熱CVD法、氣體 源CVD法、塗佈法等。
阻障層的材料可列舉：金屬、金屬氧化物、金屬氮化物、金屬氮氧化物、金屬氟化物、樹脂等。
(作用效果)
於以上所說明的本發明的有機EL元件70中，具備具有凹凸樹脂層34(或凹凸樹脂層54)的光取出部62，故光取出部62與發光部80的界面、或光取出部62與外部空氣的界面上的光的反射得到抑制，光的取出效率變高。另外，由角度所導致的出射光的色調變化小。
另外，由於凹凸樹脂層34(或凹凸樹脂層54)的凹部36(或突起56)的間距或高度不規則，故藉由凹凸結構而有效地繞射或擴散的光的角度、波長的偏差少。因此，與專利文獻1的面發光體相比較，光的取出效率更高，可均勻地照射更廣範圍。
(其他形態)
再者，本發明的有機EL元件不限定於圖示例的有機EL元件70。例如，亦可於透明基材20b(或透明基材40b)與凹凸樹脂層34(或凹凸樹脂層54)之間具有接著層。
亦可於面發光體用透明基材60的透明基材20b(或透明基材40b)側的表面上，經由黏著層等而貼附有其他光取出構件(微透鏡陣列片、梯形帳篷片、稜鏡片等)(參照實例9、實例10)。
[實例]
以下，對本發明的實例加以詳細描述，但本發明不限 定於該些實例。
(平均傾斜角)
將試樣(模具或光學物品)包埋至熱硬化型環氧樹脂中，進行試樣端面的機械研磨。
對於模具，使用離子研磨(ion milling)裝置(Gatan公司製造，Ilion+ 693.A)，於加速電壓為6kV、加工溫度為-175℃的條件下進行剖面加工。對於光學物品，塗佈20nm~30nm的鋨(Os)後，與模具同樣地進行剖面加工。
利用掃描式電子顯微鏡(日立高新技術公司製造，S-4300SE/N)對試樣的經加工的剖面進行拍攝。
自利用掃描式電子顯微鏡所拍攝的試樣的剖面的圖像中，於與凹凸結構的高度方向y正交的方向x上，僅以基準長度L(10μm)抽取凹凸結構的圖像。使用圖像軟體(自由軟體，「圖形掃描儀(Graph Scanner)」)將所抽取的凹凸結構的圖像數位化，將凹凸結構的稜線轉換為xy座標。根據所得的稜線的座標資料，藉由上文所述的方法求出平均傾斜角θa。
(凹凸的平均間隔)
根據上述稜線的座標資料，藉由上文所述的方法求出凹凸的平均間隔Sm。
(局部峰頂的平均間隔)
根據上述稜線的座標資料，藉由上文所述的方法求出局部峰頂的平均間隔S。
(表面粗糙度)
關於算術平均粗糙度Ra、最大高度Ry、十點平均高度Rz及均方根粗糙度RMS，依據JIS B 0601-1994，利用原子力顯微鏡(基恩斯公司製造，VN-8010，懸臂DFM/SS-Mode)測定對象測定範圍中的任意3點的50μm×50μm的範圍，求出平均值。
(全反射率)
使用霧度/透過率計(村上色彩技術研究所公司製造，RT-100)，依據JIS K 7105測定C光源下的全反射率Rt。
(馬氏硬度)
馬氏硬度的測定時，使用Fischerscope HM2000。對於測定時所使用的壓頭，使用金剛石製的四棱錐型、對面角為135度者。於溫度為23℃、相對濕度為50%的環境下，對凹凸樹脂層使壓頭以dF/dt2(F：載重，t：經過時間)成為一定的方式以20秒鐘加載至1mN為止後，蠕變(creep)5秒鐘，其後於與加載時相同的條件下卸載的測定條件下，將載重除以超過接觸零點而侵入的壓頭的表面積，藉此求出馬氏硬度。
(擴散率)
使用氦-氖(He-Ne)雷射(光學電子(Melles Griot)公司製造，05-LPL-911-065)，自凹凸結構的高度方向對光學物品入射雷射光。使用錐光鏡(ELDIM公司製造，EZ-Contrast160R，EZ-Com軟體)，對透過光學物品而出射的透過擴散光的強度Iθ的分布進行測定。根據出射角θ為5度、20度及70度時的強度，使用上文所述的式子求出擴 散率D。
(轉印性)
觀察轉印後的模具的表面，按下述基準進行評價。
○：於模具的表面未殘留活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物。
△：於模具的表面殘留一部分的活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物。
×：於模具的表面殘留大部分的活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物。
(表面及剖面觀察)
對模具及凹凸樹脂層的表面及剖面利用掃描式電子顯微鏡(日立高新技術公司製造，S-4300SE/N)進行觀察。
(配向分布測定)
使用配向亮度分布測定裝置(大塚電子公司製造，EL光學特性測定裝置)，於有機EL元件中流通0.5mA/cm2的電流，一面於0度(相對於有機EL元件的透明基材的表面為垂直的方向)至70度的範圍內以1度為單位傾斜，一面以手動測定模式測定此時的出射光的色度(x，y)。計算出0度~70度的範圍內的色度的最大變化率(△x，△y)。
(模具(X-1))
作為模具(X-1)，準備針狀鍍鎳合金(Ebina電化工業公司製造，模具基材：鋁，5cm×5cm)。
將模具(X-1)的平均傾斜角、凹凸的平均間隔、局部峰頂的平均間隔、表面粗糙度示於表1中。將模具(X-1) 的表面的掃描式電子顯微鏡照片示於圖14中。將模具(X-1)的剖面的掃描式電子顯微鏡照片示於圖15中。
對模具(X-1)實施純水超音波清洗。
以稀釋用有機溶劑(哈維斯(Harves)公司製造，Durasurf HD-ZV)將脫模劑(泰金工業公司製造，Optools DSX)稀釋，製備脫模劑濃度為0.1質量%的稀釋溶液，將模具(X-1)於稀釋溶液中於室溫下浸漬10分鐘後提起，於室溫下乾燥24小時，獲得經脫模劑處理的模具(X-1)。將模具(X-1)的全反射率示於表1中。
(模具(X-2))
作為模具(X-2)，準備針狀鍍銅合金(Ebina電化工業公司製造，模具基材：鋁，5cm×5cm)。
將模具(X-2)的平均傾斜角、凹凸的平均間隔、局部峰頂的平均間隔、表面粗糙度示於表1中。將模具(X-2)的表面的掃描式電子顯微鏡照片示於圖16中。將模具(X-2)的剖面的掃描式電子顯微鏡照片示於圖17中。
與模具(X-1)同樣地藉由脫模劑對模具(X-2)進行處理，獲得經脫模劑處理的模具(X-2)。將模具(X-2)的全反射率示於表1中。
(模具(X-3))
作為模具(X-3)，準備針狀鍍鎳合金(Ebina電化工業公司製造，模具基材：無氧銅(白銅公司製造)，5cm×5cm)。
將模具(X-3)的平均傾斜角、凹凸的平均間隔、局 部峰頂的平均間隔、表面粗糙度示於表1中。將經剖面加工的模具(X-3)的剖面的掃描式電子顯微鏡照片示於圖18中。
與模具(X-1)同樣地藉由脫模劑對模具(X-3)進行處理，獲得經脫模劑處理的模具(X-3)。將模具(X-3)的全反射率示於表1中。
(模具(X-4))
使用噴射裝置(橫濱Nicchu公司製造，PAM107)，於供給量為30%、間距為2.5mm、供給壓力為0.3MPa、速度為20mm/s、噴嘴高度為320mm的條件下，使氧化鋁珠粒(A400S)撞擊鏡面SUS基板(10cm×10cm，厚度為0.5mm)的表面，獲得模具(X-4)。以流水將模具(X-4)清洗數次後，進行超音波清洗。
將模具(X-4)的平均傾斜角、凹凸的平均間隔、局部峰頂的平均間隔、表面粗糙度示於表1中。將經剖面加工的模具(X-4)的剖面的掃描式電子顯微鏡照片示於圖19中。
與模具(X-1)同樣地藉由脫模劑對模具(X-4)進行處理，獲得經脫模劑處理的模具(X-4)。將模具(X-4)的全反射率示於表1中。
(活性能量線硬化性樹脂組成物(A-1))
將1,6-己二醇二丙烯酸酯(以下記作C6DA)50質量份、三羥甲基乙烷/丙烯酸/琥珀酸(2/4/1)的縮合物(以下記作TAS)50質量份、以及苯甲醯基***(以下記作BEE)3質量份
混合，攪拌至BEE溶解為止，製備活性能量線硬化性 樹脂組成物(A-1)。
(活性能量線硬化性樹脂組成物(A-2))
將聚丁二醇二甲基丙烯酸酯(三菱麗陽公司製造，Acrylester PBOM)(以下記作PBOM)50質量份、TAS 50質量份、以及BEE 3質量份
混合，攪拌至BEE溶解為止，製備活性能量線硬化性樹脂組成物(A-2)。
(活性能量線硬化性樹脂組成物(A-3))
將PBOM 80質量份、TAS 20質量份、以及BEE 3質量份
混合，攪拌至BEE溶解為止，製備活性能量線硬化性樹脂組成物(A-3)。
(活性能量線硬化性樹脂組成物(A-4))
將PBOM 100質量份、以及BEE 3質量份
混合，攪拌至BEE溶解為止，製備活性能量線硬化性樹脂組成物(A-4)。
(活性能量線硬化性樹脂組成物(A-5))
將C6DA 50質量份、PBOM 50質量份、以及Irgacure 184(汽巴精化公司製造)3質量份
混合，攪拌至Irgacure 184溶解為止，製備活性能量線硬化性樹脂組成物(A-5)。
(高折射率材料液(B-1))
將OGSOL EA-0200(大阪瓦斯化學公司製造)100質量份、苯甲醯基***3質量份、以及甲苯20質量份
混合，製備高折射率材料液(B-1)。
(高折射率材料液(B-2))
將OGSOL EA-0280(大阪瓦斯化學公司製造，甲基乙基酮50%)100質量份、以及苯甲醯基***1質量份
混合，製備高折射率材料液(B-2)。
(光學片用活性能量線硬化性樹脂)
利用日本專利特開2012-003074號公報(日本專利申請2010-138529)中作為[製造例]而記載的方法製作。
於玻璃製繞瓶中，加入六亞甲基二異氰酸酯117.6g(0.7莫耳)、異三聚氰酸酯型的六亞甲基二異氰酸酯三聚物151.2g(0.3莫耳)、丙烯酸-2-羥基丙酯128.7g(0.99莫耳)、季戊四醇三丙烯酸酯693g(1.54莫耳)、二月桂酸二正丁基錫100ppm、對苯二酚單甲醚0.55g，於70℃~80℃的條件下進行反應直至殘存異氰酸酯濃度成為0.1%以下為止，獲得丙烯酸胺基甲酸酯化合物。
將丙烯酸胺基甲酸酯化合物35質量份、PBOM 25質量份、New Frontier BPEM-10(第一工業製藥公司製造)40質量份、1-羥基環己基苯基酮(汽巴精化公司製造，Irgacure 184)1.2質量份混合，獲得活性能量線硬化性樹脂組成物。
(微透鏡陣列片)
利用日本專利特開2012-003074號公報(日本專利申請2010-138529)的實例3中記載的方法製作。
利用國際公開第2008/069324號中記載的蝕刻的製法，製作微透鏡形狀的模構件。所得的模構件為半球形狀的凹部排列而成的形狀。
於模構件的表面上均勻地塗佈活性能量線硬化性樹脂組成物，於其上被覆厚度為188μm的聚對苯二甲酸乙二酯(以下記作PET)膜(東洋紡公司製造，Cosmoshine A4300)，利用手動輥將活性能量線硬化性樹脂組成物均勻推開。穿過PET膜而照射累計光量為1000mJ/cm2的紫外線，使於模構件與PET膜之間被推開的活性能量線硬化性樹脂組成物硬化。自模構件剝離PET膜及硬化物，獲得於PET膜表面上具有模構件的凸形狀的反轉形狀的微透鏡片。利用SEM進行觀察，結果直徑為50μm的半球形狀凸部規則地排列。
(梯形帳篷片)
利用日本專利特開2012-003074號公報(日本專利申請2010-138529)的實例1中記載的方法製作。
於作為模構件的母材的10mm厚的不鏽鋼合金上形成500μm的非電解鍍鎳層，使用頂角為100°的等腰三角形形狀的金剛石車刀(diamond bite)來切削非電解鍍鎳層，製作模構件。所得的模構件為四棱錐變形為帳篷狀的凸部排列而成的形狀。於該模構件上均勻地塗佈製造例1中製作的活性能量線硬化性樹脂組成物，於其上放置厚度為188μm的PET膜(東洋紡公司製造，Cosmoshine A4300)，利用手動輥均勻地延伸。其後，自PET膜上進行UV照射，使於模構件與PET膜之間被延伸的活性能量線硬化性樹脂組成物硬化。自模構件剝離PET膜，獲得於PET膜的表面上具有模構件的凸形狀的反轉形狀的梯形帳篷片。SEM觀察的結果為，長邊為66μm、短邊為33μm、深度為約14μm、底角為40度的凹型的帳篷狀形狀(凹凸單位形狀)無間隙且規則地排列。
(實例1)
於經脫模劑處理的模具(X-1)的表面上滴加活性能量線硬化性樹脂組成物(A-1)，於其上被覆PET膜(東山膜公司製造，HK-31)，利用手動輥將活性能量線硬化性樹脂組成物(A-1)推開。穿過PET膜而照射累計光量為1000mJ/cm2的紫外線，使活性能量線硬化性樹脂組成物(A-1)硬化。自模具(X-1)剝離PET膜及凹凸樹脂層，獲得如圖2所示的表面具有凹凸結構的光學物品(a-1)。凹凸樹脂層的一部分殘留於模具(X-1)上，未轉印至整個面上。對表面具有凹凸結構的光學物品(a-1)的凹凸樹脂層的馬氏硬度進行測定。將結果示於表2中。
(實例2)
使用活性能量線硬化性樹脂組成物(A-2)代替活性能量線硬化性樹脂組成物(A-1)，除此以外，與實例1同樣地獲得如圖2所示的表面具有凹凸結構的光學物品(a-2)。凹凸樹脂層的一部分殘留於模具(X-1)上，未轉印至整個面上。對表面具有凹凸結構的光學物品(a-2)的凹凸樹脂層的馬氏硬度進行測定。將結果示於表2中。
(實例3)
使用活性能量線硬化性樹脂組成物(A-3)代替活性能量線硬化性樹脂組成物(A-1)，除此以外，與實例1同樣地獲得如圖2所示的表面具有凹凸結構的光學物品(a-3)。凹凸樹脂層未殘留於模具(X-1)上而轉印至整個面上。對表面具有凹凸結構的光學物品(a-3)的凹凸樹脂 層的馬氏硬度進行測定。將結果示於表2中。
(實例4)
使用活性能量線硬化性樹脂組成物(A-4)代替活性能量線硬化性樹脂組成物(A-1)，除此以外，與實例1同樣地獲得如圖2所示的表面具有凹凸結構的光學物品(a-4)。凹凸樹脂層未殘留於模具(X-1)上而轉印至整個面上。對表面具有凹凸結構的光學物品(a-4)的凹凸樹脂層的馬氏硬度及表面粗糙度進行測定。將結果示於表2中。將凹凸樹脂層的表面的掃描式電子顯微鏡照片示於圖20中。將凹凸樹脂層的剖面的掃描式電子顯微鏡照片示於圖21中。
(實例5)
與模具(X-1)同樣地藉由脫模劑對實例4中所得的表面具有凹凸結構的光學物品(a-4)進行處理，獲得經脫模劑處理的複製模具(Y-1)。
於玻璃板(康寧公司製造，Eagle XG，5cm×5cm，厚度為0.7mm)的表面上滴加活性能量線硬化性樹脂組成物(A-4)，於其上被覆複製模具(Y-1)，利用手動輥將活性能量線硬化性樹脂組成物(A-4)推開。穿過複製模具(Y-1)而照射累計光量為1000mJ/cm2的紫外線，使活性能量線硬化性樹脂組成物(A-4)硬化。自玻璃板及凹凸樹脂層剝離複製模具(Y-1)，獲得如圖3所示的表面具有凹凸結構的光學物品(y-1)。凹凸樹脂層未殘留於複製模具(Y-1)上而轉印至整個面上。對表面具有凹凸結構的光學物品 (y-1)的凹凸樹脂層的表面粗糙度進行測定。將結果示於表2中。將凹凸樹脂層的表面的掃描式電子顯微鏡照片示於圖22中。將凹凸樹脂層的剖面的掃描式電子顯微鏡照片示於圖23中。
(實例6)
使用活性能量線硬化性樹脂組成物(A-1)代替活性能量線硬化性樹脂組成物(A-4)，除此以外，與實例5同樣地獲得如圖3所示的表面具有凹凸結構的光學物品(y-2)。凹凸樹脂層未殘留於複製模具(Y-1)上，轉印至整個面上。將表面具有凹凸結構的光學物品(y-2)的平均傾斜角、凹凸的平均間隔、局部峰頂的平均間隔、擴散率示於表5中。將透過擴散光的強度Iθ的分布示於圖32中。與比較例4相比較，表面具有凹凸結構的光學物品(y-2)的平均傾斜角、擴散率均更高，可知由凹凸結構所得的光的擴散效果高。
(實例7)
於有機EL照明(Philips公司，Lumiblade Engineering kit，30.5mm×38mm)的發光面側塗佈折射率為1.5的匹配油(matching oil)，使實例4中所得的表面具有凹凸結構的光學物品(a-4)以PET膜側與匹配油接觸的方式進行光學密接。將帶有表面具有凹凸結構的光學物品(a-4)的有機EL照明穿過直徑為10mm的小孔而貼附於積分球(Lovesphere公司製造，8吋)的樣品開口部。使用分光器(濱松光子學公司製造，PMA-12)，對在有機EL照明中流通23.2mA的電流時的直徑為1mmΦ的光束進行測定。相對於比較例1的光束(100%)，實例7的光束為144%，光取出效率提高。
(比較例1)
不於有機EL照明上貼附表面具有凹凸結構的光學物品(a-4)，除此以外，與實例7同樣地測定光束。
(實例8)
將實例6中所得的表面具有凹凸結構的光學物品(y-2)切割成25mm×25mm後，於其表面旋轉塗佈(500rpm)高折射率材料液(B-1)，於氮氣環境下(氧濃度：1.0%以下)照射累計光量為1000mJ/cm2的紫外線，於凹凸樹脂層的表面上形成厚度為1μm左右的高折射率層，獲得如圖6所示的面發光體用透明基材。
將面發光體用透明基材設置於濺鍍裝置的腔室內，於高折射率層的表面上穿過具有線圖案的孔的罩幕而蒸鍍ITO，形成厚度為200nm的透明電極。
進行UV臭氧處理後，將形成有透明電極的面發光體用透明基材設置於真空蒸鍍裝置的腔室內，於有機蒸鍍腔室內的壓力為10-4Pa、蒸鍍速度(成膜速度)為0.5nm/sec~2.0nm/sec的條件下，於透明電極上依序蒸鍍電洞注入層的CuPc(20nm)、電洞傳輸層的TPD(40nm)、發光層的CBP：Ir(ppy)3(20nm)、電洞阻擋層的BCP(10nm)、電子傳輸層的Alq3(30nm)，於透明電極上選擇性地形成發光層及其他功能層。
進而，於蒸鍍速度(成膜速度)為0.059nm/sec的條件下，依序於金屬蒸鍍腔室內的壓力為10-4Pa、蒸鍍速度(成膜速度)為0.25nm/sec的條件下蒸鍍電子注入層的氟化鋰(0.5nm)，於蒸鍍速度(成膜速度)為0.5nm/sec~4.0nm/sec的條件下蒸鍍背面電極的鋁(100nm)，形成2mm×2mm的發光部。
使用20mm×25mm的凹刻玻璃，以將2mm×2mm的發光部放入至凹刻玻璃內的方式，利用環氧系密封劑(長瀨化成公司製造)進行密封，獲得有機EL元件(E-1)。
將有機EL元件(E-1)穿過直徑為10mm的小孔而貼附於積分球(Lovesphere公司製造，8吋)的樣品開口部，使用LED全光束/效率測定裝置(濱松光電子公司製造，C9920-22系統，PMA-12)，測定有機EL元件(E-1)的光學特性。於有機EL元件(E-1)中流通1mA/cm2的電流時，於電壓為6.9V的條件下電流效率為383cd/m2，與比較例2相比較提高了42%。
(實例9)
於實例8的有機EL元件(E-1)的發光面側滴加折射率為1.5的匹配油，於其上被覆微透鏡陣列片，於其上配置直徑為10mm的小孔，測定有機EL元件(E-1)的光學特性。於有機EL元件(E-1)中流通1mA/cm2的電流時，於電壓為6.9V的條件下電流效率為510cd/m2，與比較例2相比較提高了89%。
(實例10)
於實例8的有機EL元件(E-1)的發光面側滴加折射率為1.5的匹配油，於其上被覆梯形帳篷片，於其上配置直徑為10mm的小孔，測定有機EL元件(E-1)的光學特性。於有機EL元件(E-1)中流通1mA/cm2的電流時，於電壓為6.9V的條件下電流效率為486cd/m2，與比較例2相比較提高了80%。
(比較例2)
使用玻璃板(25mm×25mm)代替表面具有凹凸結構的光學物品(y-2)，除此以外，與實例8同樣地獲得有機EL元件(E-2)。於有機EL元件(E-2)中流通1mA/cm2的電流時，於電壓為6.7V的條件下電流效率為270cd/m2。
(實例11)
使用活性能量線硬化性樹脂組成物(A-5)代替活性能量線硬化性樹脂組成物(A-1)，且使用模具(X-2)代替模具(X-1)，除此以外，與實例1同樣地獲得如圖2所示的表面具有凹凸結構的光學物品(b-1)。凹凸樹脂層未 殘留於模具(X-2)上，轉印至整個面上。對表面具有凹凸結構的光學物品(b-1)的凹凸樹脂層的馬氏硬度及表面粗糙度進行測定。將結果示於表3中。將凹凸樹脂層的表面的掃描式電子顯微鏡照片示於圖24中。將凹凸樹脂層的剖面的掃描式電子顯微鏡照片示於圖25中。
(實例12)
與模具(X-1)同樣地藉由脫模劑對實例11中所得的表面具有凹凸結構的光學物品(b-1)進行處理，獲得經脫模劑處理的複製模具(Y-2)。
使用複製模具(Y-2)代替複製模具(Y-1)，除此以外，與實例6同樣地獲得如圖3所示的表面具有凹凸結構的光學物品(b-2)。凹凸樹脂層未殘留於複製模具(Y-2)上，轉印至整個面上。對表面具有凹凸結構的光學物品(b-2)的凹凸樹脂層的表面粗糙度進行測定。將結果示於表3中。將凹凸樹脂層的表面的掃描式電子顯微鏡照片示於圖26中。將凹凸樹脂層的剖面的掃描式電子顯微鏡照片示於圖27中。將表面具有凹凸結構的光學物品(b-2)的平均傾斜角、凹凸的平均間隔、局部峰頂的平均間隔、擴散率示於表5中。將透過擴散光的強度Iθ的分布示於圖32中。與比較例4相比較，表面具有凹凸結構的光學物品(b-2)的平均傾斜角、擴散率均更高，可知由凹凸結構所得的光的擴散效果高。
(實例13)
將實例12中所得的表面具有凹凸結構的光學物品(b-2)切割成25mm×25mm後，於其表面旋轉塗佈(500rpm)高折射率材料液(B-2)，於氮氣環境下(氧濃度：1.0%以下)照射累計光量為1000mJ/cm2的紫外線，於凹凸樹脂層的表面上形成厚度為5μm左右的高折射率層，獲得如圖6所示的面發光體用透明基材。
使用該面發光體用透明基材，除此以外，與實例8同樣地獲得有機EL元件(E-3)。
與實例8同樣地測定有機EL元件(E-3)的光學特性。於有機EL元件(E-3)中流通1mA/cm2的電流時，於電壓為6.7V的條件下電流效率為379cd/m2，與比較例2相比較提高了40%。
(實例14)
於實例12的有機EL元件(E-3)的發光面側滴加折射率為1.5的匹配油，於其上被覆微透鏡陣列片，於其上配置直徑為10mm的小孔，測定有機EL元件(E-3)的光學特性。於有機EL元件(E-3)中流通1mA/cm2的電流時，於電壓為6.7V的條件下電流效率為470cd/m2，與比 較例2相比較提高了74%。
(實例15)
使用活性能量線硬化性樹脂組成物(A-5)代替活性能量線硬化性樹脂組成物(A-1)，且使用模具(X-3)代替模具(X-1)，除此以外，與實例1同樣地獲得如圖2所示的表面具有凹凸結構的光學物品(c-1)。凹凸樹脂層未殘留於模具(X-3)上而轉印至整個面上。對表面具有凹凸結構的光學物品(c-1)的表面粗糙度進行測定。將結果示於表4中。將凹凸樹脂層的表面的掃描式電子顯微鏡照片示於圖28中。
(實例16)
與模具(X-1)同樣地藉由脫模劑對實例15中所得的表面具有凹凸結構的光學物品(c-1)進行處理，獲得經脫模劑處理的複製模具(Y-3)。
使用複製模具(Y-3)代替複製模具(Y-1)，除此以外，與實例6同樣地獲得如圖3所示的表面具有凹凸結構的光學物品(c-2)。凹凸樹脂層未殘留於複製模具(Y-3)上而轉印至整個面上。對表面具有凹凸結構的光學物品(c-2)的凹凸樹脂層的表面粗糙度進行測定。將結果示於表4中。將凹凸樹脂層的表面的掃描式電子顯微鏡照片示於圖29中。將經剖面加工的凹凸樹脂層的剖面的掃描式電子顯微鏡照片示於圖30中。將表面具有凹凸結構的光學物品(c-2)的平均傾斜角、凹凸的平均間隔、局部峰頂的平均間隔、擴散率示於表5中。將透過擴散光的強度Iθ的分布 示於圖32中。與比較例4相比較，表面具有凹凸結構的光學物品(c-2)的平均傾斜角、擴散率均更高，可知由凹凸結構所得的光的擴散效果高。
(比較例3)
使用活性能量線硬化性樹脂組成物(A-5)代替活性能量線硬化性樹脂組成物(A-1)，且使用模具(X-4)代替模具(X-1)，除此以外，與實例1同樣地獲得如圖2所示的表面具有凹凸結構的光學物品(d-1)。凹凸樹脂層未殘留於模具(X-4)上而轉印至整個面上。對表面具有凹凸結構的光學物品(d-1)的表面粗糙度進行測定。將結果示於表4中。
(比較例4)
與模具(X-1)同樣地藉由脫模劑對比較例3中所得的表面具有凹凸結構的光學物品(d-1)進行處理，獲得經脫模劑處理的複製模具(Y-4)。
使用複製模具(Y-4)代替複製模具(Y-1)，除此以外，與實例6同樣地獲得如圖3所示的表面具有凹凸結構的光學物品(d-2)。凹凸樹脂層未殘留於複製模具(Y-4)上而轉印至整個面上。對表面具有凹凸結構的光學物品(d-2)的凹凸樹脂層的表面粗糙度進行測定。將結果示於表4中。將經剖面加工的凹凸樹脂層的剖面的掃描式電子顯微鏡照片示於圖31中。將表面具有凹凸結構的光學物品(d-2)的平均傾斜角、凹凸的平均間隔、局部峰頂的平均間隔、擴散率示於表5中。將透過擴散光的強度Iθ的分布 示於圖32中。
(比較例5)
於有機EL元件(E-2)的發光面側滴加折射率為1.5的匹配油，於其上被覆半球透鏡(材質：BK-7，將直徑為25mmΦ半球自中心起切去0.7mm的厚度而進行加工)。進行配向分布測定。將結果示於表6中。
(實例17)
使用光學物品(c-2)代替光學物品(b-2)，除此以外，與實例8同樣地獲得有機EL元件(E-4)。
使用有機EL元件(E-4)代替有機EL元件(E-2)，除此以外，與比較例5同樣地進行配向分布測定。將結果 示於表6中。與比較例5相比較，可知由角度所導致的出射光的色調變化變小。
(比較例6)
使用光學物品(d-2)代替光學物品(b-2)，除此以外，與實例8同樣地獲得有機EL元件(E-5)。
使用有機EL元件(E-5)代替有機EL元件(E-2)，除此以外，與比較例5同樣地進行配向分布測定。將結果示於表6中。可知，與比較例5相比較，由角度所導致的出射光的色調變化變小，但色調變化大於實例17。
[產業上之可利用性]
本發明的表面具有凹凸結構的光學物品作為進行光的繞射或擴散的光學膜、面發光體的透明基材、面發光體的光取出構件、透明基材太陽電池用保護板、薄膜系太陽電池的透明基材、複製模具等而有用。本發明的面發光體作為有機EL照明、有機EL顯示器等而有用。
10‧‧‧模具
12‧‧‧突起
14‧‧‧鍍敷膜
16‧‧‧模具基材
20、40‧‧‧光學物品用基材
20a‧‧‧複製模具基材
20b、40b‧‧‧透明基材
30‧‧‧第1光學物品
30a‧‧‧複製模具
32、52‧‧‧活性能量線硬化性樹脂組成物
34、54‧‧‧凹凸樹脂層
36‧‧‧凹部
50‧‧‧第2光學物品
56‧‧‧突起
60‧‧‧面發光體用透明基材
62‧‧‧光取出部
64‧‧‧高折射率層
66‧‧‧黏著層
68‧‧‧其他透明基材
70‧‧‧有機EL元件
80‧‧‧發光部
82‧‧‧透明電極
84‧‧‧有機半導體層
86‧‧‧背面電極
(II)、(III)、(II')、(III')‧‧‧步驟
圖1為表示鍍敷膜的一例的剖面圖。
圖2為表示本發明的表面具有凹凸結構的光學物品的製造步驟的一例的剖面圖。
圖3為表示本發明的表面具有凹凸結構的光學物品的製造步驟的其他例的剖面圖。
圖4為表示本發明的面發光體用透明基材的一例的剖面圖。
圖5為表示本發明的面發光體用透明基材的其他例的剖面圖。
圖6為表示本發明的面發光體用透明基材的其他例的剖面圖。
圖7為表示本發明的面發光體用透明基材的其他例的剖面圖。
圖8為表示本發明的面發光體的一例的剖面圖。
圖9為表示本發明的面發光體的其他例的剖面圖。
圖10為表示本發明的面發光體的其他例的剖面圖。
圖11為表示本發明的面發光體的其他例的剖面圖。
圖12為表示本發明的面發光體的其他例的剖面圖。
圖13為表示本發明的面發光體的其他例的剖面圖。
圖14為實例中使用的模具(X-1)的表面的掃描式電子顯微鏡照片。
圖15為實例中使用的模具(X-1)的剖面的掃描式電子顯微鏡照片。
圖16為實例中使用的模具(X-2)的表面的掃描式電子顯微鏡照片。
圖17為實例中使用的模具(X-2)的剖面的掃描式電子顯微鏡照片。
圖18為實例中使用的模具(X-3)的剖面的掃描式電子顯微鏡照片。
圖19為實例中使用的模具(X-4)的剖面的掃描式電子顯微鏡照片。
圖20為實例4的凹凸樹脂層的表面的掃描式電子顯微鏡照片。
圖21為實例4的凹凸樹脂層的剖面的掃描式電子顯微鏡照片。
圖22為實例5的凹凸樹脂層的表面的掃描式電子顯微鏡照片。
圖23為實例5的凹凸樹脂層的剖面的掃描式電子顯微鏡照片。
圖24為實例11的凹凸樹脂層的表面的掃描式電子顯微鏡照片。
圖25為實例11的凹凸樹脂層的剖面的掃描式電子顯微鏡照片。
圖26為實例12的凹凸樹脂層的表面的掃描式電子顯微鏡照片。
圖27為實例12的凹凸樹脂層的剖面的掃描式電子顯微鏡照片。
圖28為實例15的凹凸樹脂層的表面的掃描式電子顯微鏡照片。
圖29為實例16的凹凸樹脂層的表面的掃描式電子顯微鏡照片。
圖30為實例16的凹凸樹脂層的剖面的掃描式電子顯微鏡照片。
圖31為比較例4的凹凸樹脂層的剖面的掃描式電子顯微鏡照片。
圖32為表示透過擴散光的強度分布的圖表。
10‧‧‧模具
12‧‧‧突起
14‧‧‧鍍敷膜
16‧‧‧模具基材
20‧‧‧光學物品用基材
30‧‧‧第1光學物品
32‧‧‧活性能量線硬化性樹脂組成物
34‧‧‧凹凸樹脂層
36‧‧‧凹部

Claims (7)

  1. 一種模具，其於表面具有包含金屬的凹凸結構，且依據JIS K 7105使用C光源而測定的具有上述凹凸結構之側的表面的全反射率為1%~30%。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之模具，其中上述金屬為鎳、鎳合金、銅或銅合金。
  3. 一種表面具有凹凸結構的光學物品的製造方法，其包含：以如申請專利範圍第1項或第2項所述之模具或將上述模具的凹凸結構轉印至複製模具基材的表面上而成的複製模具、與光學物品用基材來夾持活性能量線硬化性樹脂組成物的步驟；對上述活性能量線硬化性樹脂組成物照射活性能量線，使上述活性能量線硬化性樹脂組成物硬化，於上述光學物品用基材的表面上形成凹凸樹脂層的步驟，上述凹凸樹脂層轉印有上述模具或上述複製模具的凹凸結構；以及將包含上述凹凸樹脂層及上述光學物品用基材的光學物品、與上述模具或上述複製模具分離的步驟。
  4. 一種表面具有凹凸結構的光學物品，其是藉由如申請專利範圍第3項所述之表面具有凹凸結構的光學物品的製造方法而製造。
  5. 一種表面具有凹凸結構的光學物品，其於表面具有不規則的凹凸結構，且利用下述方法求出的平均傾斜角為20度~80度，利 用下述方法求出的擴散率為5%~80%；(平均傾斜角)自利用掃描式電子顯微鏡所拍攝的光學物品的剖面的圖像中，於與上述凹凸結構的高度方向y正交的方向x上，僅以基準長度L(10μm)抽取上述凹凸結構的圖像；將所抽取的上述凹凸結構的圖像數位化，將上述凹凸結構的稜線轉換為xy座標；根據所得的上述稜線(y=f(x))的座標資料，使用下述式求出平均傾斜角θa；同樣地求出合計20處的上述平均傾斜角θa，並加以平均化； (擴散率)自上述凹凸結構的高度方向對上述光學物品入射雷射光；對透過上述光學物品而出射的透過擴散光的強度Iθ進行測定；根據出射角θ為5度、20度及70度時的強度，使用下述式求出擴散率D；
  6. 一種面發光體用透明基材，其是包含如申請專利範圍第4項或第5項所述之表面具有凹凸結構的光學物品的透明基材、或是於如申請專利範圍第4項或第5項所述之表面具有凹凸結構的光學物品的上述凹凸樹脂層的表面上形成有高折射率層而成的透明基材。
  7. 一種面發光體，其具有：如申請專利範圍第6項所述之面發光體用透明基材、設置於上述面發光體用透明基材的表面上的透明電極、離開上述透明電極而設置的背面電極、以及設置於上述透明電極與上述背面電極之間的發光層。
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