TWI575161B - 渦卷壓縮機 - Google Patents

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Description

渦卷壓縮機
本發明係關於一種渦卷泵，其通常稱為渦卷壓縮機。
圖10中顯示一先前技術渦卷壓縮機或泵100。該泵100包括一泵外殼102及具有一偏心軸部106之一驅動軸104。該軸104係由一馬達108驅動且該偏心軸部係連接至一繞動渦卷110使得在使用期間該軸的旋轉賦予該繞動渦卷相對於一固定渦卷112之一繞動運動以用於沿著該壓縮機之一泵入口114與泵出口116之間的一流體流徑泵送流體。
該固定渦卷112包括一渦卷壁118，其垂直於一大致圓形基底板120延伸。該繞動渦卷122包括一渦卷壁124，其垂直於一大致圓形基底板126延伸。在該繞動渦卷的繞動移動期間，該繞動渦卷壁124與該固定渦卷壁118協作或嚙合。該等渦卷的相對繞動移動導致一氣體體積在該等渦卷之間被捕集並自該入口泵送至該出口。
一渦卷泵通常係一乾式泵且無潤滑。為了防止回漏，一渦卷之一渦卷壁之該等軸向端與另一渦卷之該基底板之間的空間係由一尖端密封件128密封。圖11中更詳細顯示穿過該固定渦卷112之一部並顯示該尖端密封件128之一放大截面。
如圖11所示，通常由一塑膠材料或橡膠製成的該尖端密封件128位於在該固定渦卷壁118之該軸向端134處的一通道132中。該尖端密封件128之一軸向端與該通道132之該 基底之間存在一小軸向間隙使得在使用中佔據該間隙之流體迫使該尖端密封件軸向朝向該繞動渦卷之該基底板126。相應地，該尖端密封件係經支撐於用於推進該密封件抵著一相對渦卷之一流體墊上。
當嵌入時或在使用期間，該等尖端密封件128係由與該等相對渦卷基底板120、126之接觸而磨損，產生尖端密封件灰塵。當該泵用於泵送一清潔環境(諸如一矽晶圓處理裝置之一真空腔室)時，期望尤其在泵停機期間尖端密封件灰塵並未向上游移動進入該真空腔室內。
本發明提供一種包括一乾式渦卷泵送機構之真空渦卷壓縮機，其包括：一繞動渦卷，其具有自一繞動渦卷板軸向延伸朝向一固定渦卷之一繞動渦卷壁；及一固定渦卷，其具有自一固定渦卷板軸向延伸朝向該繞動渦卷之一固定渦卷壁；該壓縮機包括一軸向延伸驅動軸，其具有一偏心軸部使得該偏心軸部的旋轉賦予該繞動渦卷相對於該固定渦卷之一繞動運動以用於自該泵送機構之一入口泵送流體至一出口。
其中該等渦卷壁之一該等軸向端部具有沿著該渦卷壁自該入口至該出口串聯配置的個別一第一密封配置及一第二密封配置，以用於該等渦卷壁之該等軸向端部與該等渦卷之該等渦卷板之間之密封，該第一密封配置具有根據該等第一密封配置局部的密封需求而選擇之包含一相對於該等 渦卷壁固定的尖端密封件的固定密封件，且該第二密封配置具有根據該等第二密封配置局部的密封需求而選擇之浮動密封件。
本發明提供一配置，其中固定密封件包含該渦卷壁之一平坦軸向端面。
在隨附技術方案中定義本發明之其他較佳及/或任選態樣。
為了充分瞭解本發明，現將參考隨附圖式描述僅作為實例提供之本發明之一實施例。
圖1中顯示一渦卷壓縮機或泵10。該泵10包括一泵外殼12及具有一偏心軸部16之一驅動軸14。該軸14係由一馬達18驅動且該偏心軸部係連接至一繞動渦卷20使得在使用期間該軸的旋轉賦予該繞動渦卷相對於一固定渦卷22之一繞動運動以用於沿著該壓縮機之一泵入口24與泵出口26之間的一流體流徑泵送流體。
該固定渦卷22包括一渦卷壁28，其垂直於一大致圓形基底板30延伸。該繞動渦卷20包括一渦卷壁34，其垂直於一大致圓形基底板36延伸。在該繞動渦卷的繞動移動期間，該繞動渦卷壁34與該固定渦卷壁28協作或嚙合。該等渦卷的相對繞動移動導致一氣體體積在該等渦卷之間被捕集並自該入口泵送至該出口。
如上文參考先前技術所指示，一渦卷泵通常係一乾式泵且無潤滑。因此，為了防止回漏，一渦卷之一渦卷壁之該 等軸端與另一渦卷之該基底板之間的空間係由密封配置(其大致包括尖端密封件)密封。該等尖端密封件封閉渦卷之間由製造及操作公差導致的該間隙，並降低洩漏至一可接受位準。尖端密封件受害於尖端密封件灰塵之產生。此外，在一普通渦卷泵中，尖端密封件在其等開始磨損之後需要定時更換。此外，圖9中顯示的該通道132必須經加工以便定位該等尖端密封件而加工增加製造成本。
圖2顯示一固定渦卷22。渦卷22包括渦卷基底板30，渦卷壁28大致自該渦卷基底板30軸向延伸朝向該相對繞動渦卷20之該基底板36。延伸穿過360度之該渦卷板28之連續圍繞在其等之間界定一泵送通道38，用於自該渦卷泵送機構之一入口40泵送流體至一出口42。
尖端密封件通常因不再提供回漏的足夠控制而失效。「失效」密封件的檢查顯示很多密封件具有限於一局部區域(舉例而言朝向如圖2中所示的一渦巷之諸中心圍繞44)的過量磨損，而該等密封件朝向諸外圍繞56之剩餘部分係相對無磨損並保持良好深度。
因此，根據本發明之諸實施例，該等渦卷壁之至少一者之一軸向端部具有沿著該渦卷壁自該入口至該出口串聯配置的一第一密封配置及一第二密封配置，用於在該渦卷壁之該軸向端部與該相對渦卷之該渦卷板之間之密封，該第一密封配置具有根據該等第一密封配置局部的密封需求而選擇之第一密封特性且該第二密封配置具有根據該等第二密封配置局部的密封需求而選擇之第二密封特性，且該等 第一密封特性不同於該等第二密封特性。本發明不僅涵蓋串聯的兩個密封配置而且涵蓋串聯的複數個此密封配置。局部條件包含(但不限於)橫跨一渦卷壁之壓力差、一渦卷壁之各個側上的絕對壓力、尖端密封件磨損速率、分子/非分子流、回漏需求、所需壓縮及泵送速率及功率消耗。該等密封特性係經選擇以滿足此等局部條件並可包含一尖端密封件的大小或態樣之變動、該尖端密封件的材料、一尖端密封件之缺乏及形成物(諸如一渦卷壁之一軸向端面中的凹穴)之提供。
在該入口與該出口之間具有恆定密封特性之一標準尖端密封件的更換提供許多優點。本發明之諸實施例在一給定螺旋形式內提供串聯的兩個或更多個離散密封配置以便根據其局部操作條件最佳化各個區段。
該第一密封配置係沿著該渦卷壁配置朝向該入口且該第二密封配置係經配置朝向該泵送機構的該出口。通常，橫跨一渦卷壁朝向該出口之壓力差高於橫跨一渦卷壁朝向該入口之壓力差。相應地，相較於朝向該入口，朝向該出口更傾向於發生回漏。因此，需要該第二密封配置以比該第一密封配置提供較佳密封能力。換言之，該第二密封配置比該第一密封配置更能抵抗回漏。相應地，減少該第一密封配置之該尖端密封件的大小以降低當該泵在使用中時產生之尖端密封件灰塵的量。另一選擇為，該第一密封配置可由不具一尖端密封件之一渦卷之一軸向端面組成。以此方式，不僅可降低尖端密封件灰塵的產生而且可降低功率 消耗，因為使用一較小尖端密封件或不存在一尖端密封件時移動阻力較小。作為進一步實例，當該等密封配置包括在該等渦卷壁之該等軸向端處容納於各自通道中的各自尖端密封件時，該等密封特性係一軸向高度、一徑向寬度或該等尖端密封件之一材料之一者或多者。
圖3係沿著該渦卷壁之一中心線取得並依循該渦卷壁自該入口40至該出口42之一漸開線或者螺旋路徑之該等渦卷壁20、22之一者之一截面。該等中心圍繞44之該第一密封配置包括一第一尖端密封件48且該等外圍繞56之該第二密封配置包括一第二尖端密封件50。該等第一尖端密封件及第二尖端密封件係容納於加工或者形成於該渦卷壁或該等渦卷壁之該軸向端部中的各自通道52、54中。一分開壁55係經提供以分離該第二密封配置與該第一密封配置，形成沿著該渦卷壁串聯的離散密封配置。提供離散尖端密封件容許該等尖端密封件容易由舉例而言不同材料形成。另一選擇為，該等尖端密封件46、48在其中不存在該分開壁55之需求之情況下一體形成。
通常，一尖端密封件的磨損速率係在該入口區域56中相對低且在該出口區域44中相對高(圖2中亦顯示)。尖端密封件在該入口區域內的低磨損速率容許使用一淺密封件，因為在使用期間尖端密封件的材料消耗較少。一淺尖端密封件需要一淺尖端密封件槽，其可更快速加工並降低加工及尖端密封件成本。此外，一薄密封件可用於該入口區域內以加速該嵌入製程並降低產生的尖端密封件灰塵。
圖4顯示一渦卷壁20、22當其由一漸開線展開以形成自該入口40至該出口42之一直壁時可呈現之一平面圖。圖4顯示其中該等第一密封特性不同於該等第二密封特性之另一實例。
在圖4中，該渦卷壁20、22具有包括一第一尖端密封件58之一第一密封配置及包括一第二尖端密封件60之一第二密封配置。該等第一尖端密封件及第二尖端密封件係容納於加工或者形成於該渦卷壁或該等渦卷壁之該軸向端部中的各自通道62、64中。一分開壁55如上文所述可經提供以分離該第二密封配置與該第一密封配置，形成沿著該渦卷壁串聯的離散密封配置。
如圖4可見，該第一尖端密封件58具有比該第二尖端密封件60較小之一徑向寬度。相應地，該尖端密封件60在其中回漏更明顯的該出口區域44處提供較佳密封能力。尖端密封件58位於其中回漏較不明顯的該入口區域56處且因此用一較小徑向寬度充分密封該渦卷泵送機構。具有一較小徑向寬度之一尖端密封件在使用中產生較少尖端密封件灰塵。
另外，提供一較寬尖端密封件在該繞動渦卷上可用作一緩衝器或阻尼器以穩定該等渦巷的軸向移動。
圖3及圖4中顯示的該等配置可經組合以提供比軸向較長且徑向較大之該第二尖端密封件軸向較短且徑向較小之一第一尖端密封件。提供小於該第二尖端密封件(無論軸向高度或徑向寬度或兩者)之一較小第一尖端密封件容許在 該等尖端密封件的製造中使用較少材料，降低材料及加工成本。
圖3及/或圖4中顯示的該等尖端密封件亦可由不同材料製成。舉例而言，該第二尖端密封件50、60可由一相對硬材料製成使得其提供較佳耐磨性且因此可延長該泵的維護週期。該第一尖端密封件48、58可由一較軟材料製成，因為在該入口區域56處並不考慮尖端密封件磨損速率之此一問題。
相應地，如參考圖3及圖4所述，該等第二密封特性係經選擇使得該材料的該軸向高度、該徑向寬度或硬度之一者或多者分別大於該等第二密封特性之該材料的該軸向高度、該徑向寬度或硬度。
圖5顯示一渦卷壁20、22當其由一漸開線展開以形成自該入口40至該出口42之一直壁時可呈現之一平面圖。圖5顯示其中該等第一密封特性不同於該等第二密封特性之另一實例。
在圖5中，該第一密封配置包括自身不具一尖端密封件之該渦卷壁之一平坦軸向端面66且該第二密封配置包括一尖端密封件68。雖然第二尖端密封件係容納於加工或者形成於該渦卷壁或該等渦卷壁之該軸向端部中的一通道70中，但該第一密封配置並不需要機械加工且因此降低製造成本。該軸向端面66具有比於該第二尖端密封件68的密封能力較差的密封能力，但視泵送需求而定係降低製造成本、減少尖端密封件灰塵及降低功率消耗的該等益處之一 可接受折衷。此外，因為該入口區域56係經定位比該排出區域44較接近於可能敏感真空處理裝置，故在區域56中不存在一尖端密封件進一步降低污染的可能性。
在圖6中顯示的該圖5配置之一修改中，該第一密封配置包括該渦卷壁之一軸向端面72，複數個凹穴或凹槽或鋸齒74係形成於該軸向端面72中以用於抵抗該軸向端面72與該相對渦卷之該渦卷板30、36之間的流體洩漏。為了解釋的目的，圖6B連同圖6C中穿過該渦卷壁取得的一徑向截面顯示具有形成於該軸向端面72中的凹穴74之該第一密封配置之一平面圖。該等凹穴74在小於1mbar之分子流條件下作用以導致流體分子被泵送以移動朝向該渦卷壁之一出口側。當分子在一第一方向撞擊該等凹穴時，該等凹穴之該等傾斜壁傳送能量至分子，導致分子在一相反方向彈回朝向該渦卷壁之一出口側，如由圖6C中的顯示分子朝向該渦卷壁之該出口側之淨流量之箭頭所示。因為在該入口區域內可發現分子條件，故具有凹穴74之該第一密封配置位於該入口區域內。在該入口區域56處的該密封配置並不限於圖6中顯示的特別凹穴形狀但可由用於產生橫跨該軸向端面72之所需淨分子流量之任何凹穴形狀組成。
圖7顯示圖6中顯示的該渦卷壁之一修改。圖7A顯示穿過該渦卷壁取得的一螺旋截面且圖7B顯示該渦卷壁之一平面圖。在圖7中，該尖端密封件68被移除且在該排出區域44處的該密封配置包括該軸向端面72，凹穴73係形成於該軸向端面72中。該等凹穴73由使橫跨該軸向端面72之氣體流 中斷或阻塞之兩列大致圓形凹穴組成。該等凹穴73係經選擇以在高於大約1mbar之非分子流條件下減少橫跨該軸向端面72之流量而該入口區域56內的該等凹穴74係經選擇以在分子流條件下減少橫跨該軸向端面72之流量。該等凹穴73、74的深度(在該軸向中)可相同，或如圖7所示，該等凹穴73可具有比該等凹穴74較大之一深度，此可有利於產生該軸向端面72之上的流量之中斷。
在該排出區域44處的該密封配置並不限於圖7中顯示的特別凹穴形狀但可由作用於產生橫跨該軸向端面72的流量之中斷之任何凹穴形狀組成。
如圖3至圖7所示，該第一密封配置及該第二密封配置長度上大約相等。然而，各自密封配置局部的密封需求無需成為相等長度密封配置。舉例而言，可組態的是在該出口區域44處的該第二密封配置僅係該第一密封配置的長度的四分之一。
該等第一密封配置及第二密封配置可包括在使用中接觸該相對渦卷板之一相反面表面以形成一密封之尖端密封件。形成的該密封的該等特性不僅視該等尖端密封件的大小及材料而定而且亦視該相反面表面的材料、處理或最後加工而定。相應地，該第一密封配置及/或該第二密封配置的該等密封特性可藉由選擇該相對渦卷壁之該渦巷板之一適當材料、處理或最終加工而選擇。舉例而言，該相反面表面可經處理以增加或降低該等接觸表面之間的摩擦並因此降低譬如位於該出口區域44處的該第二密封配置之該 尖端密封件的磨損速率。
在至此描述的該等實施例及修改中，該等渦卷壁之一者係經組態有具有不同密封特性之第一密封配置及第二密封配置。另外，該等渦卷壁兩者可經組態有具有不同密封特性之第一密封配置及第二密封配置。該繞動渦卷20可具有第一密封配置及第二密封配置且該固定渦卷壁可具有第三密封配置及第四密封配置。該等第一密封配置及第三密封配置(且第二密封配置及第四密封配置)可相同，雖然當該固定渦卷及該繞動渦卷具有稍不同局部密封需求時，該等第一密封配置及第三密封配置(且第二密封配置及第四密封配置)亦可具有不同密封特性。
在圖8中顯示的又一實施例中，渦卷壁20、22之一者或兩者之該等軸向端部包括一第三密封配置76，其係自該入口40至該出口42沿著該各自渦卷壁與一第一密封配置78及一第二密封配置80串聯配置以用於密封。該第三密封配置76具有根據該第三密封配置局部的密封需求而選擇之第三密封特性。該等第三密封特性不同於該等第一密封特性及該等第二密封特性之一者或兩者。在顯示的該配置中，該等密封特性係該等第一密封配置、第二密封配置及第三密封配置的軸向高度。視需要可提供多於三個串聯的此等離散或一體密封配置。
圖9顯示其中該渦卷壁具有三個串聯的密封配置之根據本發明之一例示實例。在圖9中，密封配置82包括不具一尖端密封件之一軸向端面83，且該軸向端面83視需要可具 有如舉例而言圖6及圖7中所示的凹穴。該密封配置82係設於該渦卷壁配置之一入口區域88處，在該入口區域88處通常係小於1mbar之分子流條件。密封配置84包括容納於形成於該渦卷壁之該軸向端面中的一通道中的一浮動尖端密封件。密封配置84係設於該渦卷壁配置之一中間區域90處。密封配置86包括容納於形成於該渦卷壁之該軸向端面中的一通道中的一按壓配合、黏附或者固定尖端密封件。密封配置86係設於該渦巷壁配置之一排出區域92處。
該三個密封配置82、84、86係經選擇以控制該渦卷壁或該等渦卷壁20、22與該相對渦卷壁或該等相對渦卷板30、36之間的該等軸向間隙G1、G2、G3。該等軸向間隙控制橫跨該渦卷壁之洩漏量。若該軸向間隙較大，則發生較多洩漏，且若該軸向間隙較小，則發生較少洩漏。在圖9中顯示的該實例中，該密封配置84包括如更特定言之在圖10及圖11中參考先前技術所述的一浮動密封配置。一浮動尖端密封件歸因於該通道中的壓力而壓抵於該相對渦卷板。相應地，一浮動尖端密封件配置提供趨於朝其中無橫跨該渦卷壁之洩漏發生之一完美密封之密封性質。當無洩漏發生時，在該等渦卷之間的一凹穴中捕集的所有氣體係經壓縮，此視需求而定可或不可係所需。舉例而言，壓縮之增加可引起泵送速率之降低或功率消耗之增加，因為一浮動密封件抵抗該等渦卷之間之相對移動。若舉例而言該渦卷泵係用作一增壓泵，則期望具有一高泵送速率但較低壓縮。此外，一浮動密封件恆定壓抵於該相對渦卷板，造成 該尖端密封件的磨損及尖端密封件灰塵，導致尖端密封件的維護及更換之增加需求及亦增加污染。相應地，圖9中顯示的該實例僅在該渦卷配置之該中間區域內的該渦卷壁範圍之一部之上採用一浮動尖端密封件配置。在此區域之上的該軸向間隙G2接近零且因此達成高壓縮。
該密封配置86包括一固定密封件，其具有距該相對渦卷之該渦卷板之一固定軸向間隙G3。在其中一浮動尖端密封件係設於該排出區域92處之已知配置中，達成高壓縮，潛在壓縮氣體至高於大氣之壓力。通常，高於大氣之排出壓力係不合所需，因為在一真空泵中浪費需要增加高於大氣之壓力的能量。在顯示的該實例中，該固定尖端密封件係經選擇以達成容許回漏發生因而降低該等渦卷的相對移動之阻力之一軸向間隙G3。一固定渦卷相反可包括該渦卷壁之一軸向端面，諸凹穴可形成於該軸向端面中。
該密封配置82並未包括一尖端密封件卻相反包括該渦卷壁之一軸向端面，諸凹穴可形成於該軸向端面中。該軸向間隙G1係經選擇以容許橫跨該渦卷壁之分子之一特定量回漏因而降低壓縮但增加泵送速率。另一選擇為，該間隙G1係經選擇以在製造及操作公差內為盡可能小以最小化回漏。
已參考圖9描述一渦卷壁與一相對渦卷板之間的該軸向間隙G1、G2、G3之選擇。然而，圖9之各種替代為可能。舉例而言，固定該排出區域內的該軸向間隙之任何密封配置容許一特定量洩漏發生。在圖9中，顯示一固定尖端密 封件配置，但另一選擇為，在該排出區域內可不存在尖端密封件而是該渦卷壁之一軸向端面與該相對渦卷板之間的該軸向間隙係固定的。該軸向端面可具有凹穴，舉例而言如圖7中所示的凹穴73。另外，該渦卷壁配置可僅具有兩個串聯的密封配置。該第一密封配置位於該入口區域處並包括一浮動尖端密封件且該第二密封配置係設於該排出區域處並包括一固定尖端密封件。
10‧‧‧渦卷泵
12‧‧‧泵外殼
14‧‧‧驅動軸
16‧‧‧偏心軸部
18‧‧‧馬達
20‧‧‧繞動渦巷
22‧‧‧固定渦卷
24‧‧‧泵入口
26‧‧‧泵出口
28‧‧‧渦卷壁
30‧‧‧基底板
34‧‧‧繞動渦卷壁
36‧‧‧基底板
38‧‧‧泵送通道
40‧‧‧入口
42‧‧‧出口
44‧‧‧中心圍繞/排出區域
48‧‧‧第一尖端密封件
50‧‧‧第二尖端密封件
52‧‧‧通道
54‧‧‧通道
55‧‧‧分開壁
56‧‧‧外圍繞
58‧‧‧第一尖端密封件
60‧‧‧第二尖端密封件
62‧‧‧通道
64‧‧‧通道
66‧‧‧軸向端面
68‧‧‧尖端密封件
70‧‧‧通道
72‧‧‧軸向端面
73‧‧‧凹穴
74‧‧‧凹穴
76‧‧‧第三密封配置
78‧‧‧第一密封配置
80‧‧‧第二密封配置
82‧‧‧密封配置
84‧‧‧密封配置
86‧‧‧密封配置
88‧‧‧入口區域
90‧‧‧中間區域
92‧‧‧排出區域
100‧‧‧先前技術渦卷泵
102‧‧‧泵外殼
104‧‧‧驅動軸
106‧‧‧偏心軸部
108‧‧‧馬達
110‧‧‧繞動渦卷
112‧‧‧固定渦卷
114‧‧‧泵入口
116‧‧‧泵出口
118‧‧‧渦卷壁
120‧‧‧基底板
124‧‧‧渦卷壁
126‧‧‧基底板
128‧‧‧尖端密封件
132‧‧‧通道
134‧‧‧軸向端
圖1示意性地顯示一渦卷泵；圖2顯示圖1中顯示的該渦卷泵之一固定渦卷之一平面圖；圖3顯示圖1中顯示的該泵之一渦卷壁之一實例；圖4顯示圖1中顯示的該泵之一渦卷壁之另一實例；圖5顯示圖1中顯示的該泵之一渦卷壁之又一實例；圖6顯示圖1中顯示的該泵之一渦卷壁之另一實例；圖7顯示圖1中顯示的該泵之一渦卷壁之又一實例；圖8顯示圖1中顯示的該泵之一渦卷壁之另一實例；圖9顯示圖1中顯示的根據本發明之該泵之一渦卷壁之又另一實例之特定修飾；圖10顯示一先前技術渦卷泵；及圖11顯示穿過該先前技術泵之一渦卷之一截面。
10‧‧‧渦卷泵
12‧‧‧泵外殼
14‧‧‧驅動軸
16‧‧‧偏心軸部
18‧‧‧馬達
20‧‧‧繞動渦卷
22‧‧‧固定渦卷
24‧‧‧泵入口
26‧‧‧泵出口
28‧‧‧渦卷壁
30‧‧‧基底板
34‧‧‧繞動渦卷壁
36‧‧‧基底板

Claims (7)

  1. 一種包括一乾式渦卷泵送機構之真空渦卷壓縮機(10)，其包括：一繞動渦卷(20)，其具有自一繞動渦卷板(36)軸向延伸朝向一固定渦卷之一繞動渦卷壁(34)；及一固定渦卷(22)，其具有自一固定渦卷板(30)軸向延伸朝向該繞動渦卷之一固定渦卷壁(28)；該壓縮機包括一軸向延伸驅動軸(14)，其具有一偏心軸部(16)使得該偏心軸部的旋轉賦予該繞動渦卷相對於該固定渦卷之一繞動運動以用於自該泵送機構之一入口(40)泵送流體至一出口(42)；其中該等渦卷壁之該等軸向端部具有沿著該渦卷壁自該入口至該出口串聯配置的個別一第一密封配置及一第二密封配置，以用於在該等渦卷壁之該等軸向端部與該渦卷之該等渦卷板之間之密封，該第一密封配置具有根據該等第一密封配置局部的密封需求而選擇之包含相對於該等渦卷壁固定之一尖端密封件(86)之固定密封件，且該第二密封配置具有根據該等第二密封配置局部的密封需求而選擇之浮動密封件(68、84)。
  2. 如請求項1之渦卷壓縮機，其中該等第一密封配置係沿著一入口區域(56)內的該渦卷壁(28、34)配置且該第二密封配置係於該泵送機構之一出口區域(44)內配置。
  3. 如請求項2之渦卷壓縮機，其中該等浮動密封件(68、84)較該等固定密封件(66、72、74、82、86)具有較高的密 封特性。
  4. 如請求項3之渦卷壓縮機，其中凹穴(74)係形成於該等渦卷壁(28、34)的該平坦軸向端面中，以抵抗在該等軸向端面及該相對渦卷的該等渦卷板(30、36)之間的洩漏。
  5. 如請求項1至3任一項之渦卷壓縮機，其中該等浮動密封件(68、84)之每一者包含位於通道(62、64)中的尖端密封件，該等通道形成於該等渦卷壁的該等軸向端面，該等尖端密封件藉由該等通道中的流體致使其壓抵該相對渦卷板。
  6. 如請求項1至3任一項之渦卷壓縮機，其中該等第一密封配置或該等第二密封配置包含該相對渦卷壁的渦卷板(30、36)的一材料、處理或最終加工之一者或多者。
  7. 如請求項1至3任一項之渦卷壓縮機，其中該等渦卷壁(28、34)之該等軸向端部包括個別第三密封配置，其自該入口至該出口沿著該各自渦卷壁與該等第一密封配置及一第二密封配置串聯配置以用於密封，該第三密封配置具有一固定密封件(86)或一浮動密封件(68、84)。
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