TWI453847B - 用於供應及卸放具有電子元件之載具之方法及裝置 - Google Patents

用於供應及卸放具有電子元件之載具之方法及裝置 Download PDF

Info

Publication number
TWI453847B
TWI453847B TW095114996A TW95114996A TWI453847B TW I453847 B TWI453847 B TW I453847B TW 095114996 A TW095114996 A TW 095114996A TW 95114996 A TW95114996 A TW 95114996A TW I453847 B TWI453847 B TW I453847B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
carrier
electronic component
processing
supply container
processed
Prior art date
Application number
TW095114996A
Other languages
English (en)
Other versions
TW200727383A (en
Inventor
Driel Albertus Franciscus Gerardus Van
Johannes Lambertus Gerardus Maria Venrooij
Original Assignee
Besi Netherlands Bv
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Besi Netherlands Bv filed Critical Besi Netherlands Bv
Publication of TW200727383A publication Critical patent/TW200727383A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI453847B publication Critical patent/TWI453847B/zh

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K13/00Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or adjusting assemblages of electric components
    • H05K13/02Feeding of components
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67126Apparatus for sealing, encapsulating, glassing, decapsulating or the like
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C45/00Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor
    • B29C45/14Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor incorporating preformed parts or layers, e.g. injection moulding around inserts or for coating articles
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67155Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
    • H01L21/67201Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations characterized by the construction of the load-lock chamber
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67155Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
    • H01L21/67236Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations the substrates being processed being not semiconductor wafers, e.g. leadframes or chips
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67763Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
    • H01L21/67778Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading involving loading and unloading of wafers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/68Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K13/00Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or adjusting assemblages of electric components

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
  • Specific Conveyance Elements (AREA)
  • Warehouses Or Storage Devices (AREA)
  • Supply And Installment Of Electrical Components (AREA)

Description

用於供應及卸放具有電子元件之載具之方法及裝置
本發明關於將一具有電子元件之載具自一供應容器移至一處理站之方法,將一具有電子元件之載具自處理站移至一供應容器之方法,以及將具有電子元件之載具供應至一處理站及自一處理站中卸放之方法。本發明也關於用於將一具有電子元件之載具移動於一供應容器及一處理站之間之裝置,及關於一種具有用於具有電子元件之載具之處理站之這種裝置之組件。
在處理具有電子元件之載具,尤其是配備有半導體電路之載具時,會使用到大量且複雜之設備。這類載具之可能製程尤指:配置連接(接線連結、焊接)、密封該些元件(模製)、移除多餘材料(切邊)、檢查該些元件等等。該些載具可由一金屬層(導線架)所構成或具有一更複雜堆層結構(板子)。這類載具通常係供應及卸放於供應容器(卡匣)中,其中,該些載具可以堆疊形式儲存而不會造成彼此間的接觸。通常將該載具放置在一卸放元件(卸載器)中,其中,一載具係自該供應容器中移出並接著放置在一輸送帶上,以接著利用該輸送帶使其往一處理站方向移動。一旦該載具到達該處理站,使用在同時間移動至該載具之一操控器將該載具放入該處理站並在該製程實施後將該載具自該處理站中移出,最後,該已處理載具被卸放至一裝載元件,該裝載元件通常被放在與該卸放元件相對之輸送帶側邊,其中,將該載具由該輸送帶中移除並放在一用於已處理產品之供應容器中。利用這類現存的供應及卸放系統,同樣可操作一些相鄰位置的處理站:該輸送帶接著沿著所有處理站運轉以進行操作。利用這類現存系統,載具之供應及卸放能以可靠方式來實現,且該些載具之供應及卸放可不耦接(至少實質上)於個別處理站。
美國專利US 6,069,034描述一種用於固化材料之自動功能元件,藉此將各元件固定在一導線架上。利用一可垂直移動之吊板將具有堆疊式導線架之容器(卡匣)放置在一間斷性移動葉片,每次可將一導線架推離該卡匣之這種高度處。接著推離該卡匣之導線架被移動至一仍是在同平面之固化腔室。
本發明目的係相較於習知技術簡化在處理站一平面內對具有電子元件載具之裝載及卸放,並提供簡化所需之機構。
基於上述目的,本發明根據申請專利範圍第1項及第8項提供將一載具自一供應容器移至一處理站之方法。該第一及第二平面係互相平行並可選擇性互相一致。其係不同於習知技術,因此在密封電子元件時可讓該載具滑入該密封裝置中。以前只使用操控器來執行,其使用一夾持器將一載具放置於該密封裝置(模子)之處理位置內。在此之教示係可只利用一夾持器來精確地放置該載具並可進行該密封。然而,藉由本方法可將該載具滑入該密封裝置中,其使各載具供應(且同樣類似於卸放)顯著的簡化成為可行。由於只要由所有用於該個別載具之操控機構來提供單一平面之移動自由,則可以更快速、更可靠及較少成本來施行。該操控機構之移動自由度(相較於習知技術,其移動自由度係有限的)使得它們具有一相當簡單形式成為可行,甚至也使它們可以高速及高精確度作用。另一重要優勢使得在一非常有限的空間中實現該些載具之供應成為可行。此外,在處理步驟B)及C)期間之載具位移由基於本目的所提供之導引物來引導也是可行的。
又一優勢為在處理步驟B)和C)至少其中之一期間,以及處理步驟B)和C)所分別對應之處理步驟F)和G)至少其中之一期間,該載具係由一氣體流所支撐。由一氣體流(特別是指一空氣流)來支撐載具之優勢係可使該載具均勻受熱或冷卻。非常薄的載具(例如,具有0.1-0.25mm厚度之基板形式)因此也可被滑動而不會產生不要的載具變形。
如同另一附加功能,於處理步驟A)和C)間,具有電子元件之載具係轉動於平行於第一和第二平面之平面中;例如,可使一載具轉動超過例如180度。在習知密封裝置中,精確定位該載具之一重要條件係有關於上面置放載具之定位接腳,使定位接腳精準地配接配置於載具內之開口。這類定位方式使得滑入(以及滑出)該密封裝置變得不明顯,甚至不可行。然而,根據本發明,可藉由移動與放在該處理位置之載具相關之定位構件來將該些電子元件定位於該處理站中。這代表相對於該第二平面之可移動定位構件可隨著一垂直於該第二平面(因而同時垂直於該第一平面)之移動構件來移動。該些定位構件(例如,定位接腳)可例如牢牢地被連接至一可移動之上模部分(上模)或可移動於該密封裝置之中。
該中間位置可移動(例如,垂直地)於該第一平面和第二平面之間,藉以補償水平台面差異而不必基於本目的施用該些(不要的)夾持器。一可垂直移位之簡單桌子已足以達到本目的。若該第一和第二平面一致,則這類附加功能當然是多餘的。
在具有電子元件之載具移動於該些載具之供應容器及處理站之間時,它們可同時通過一中間處理站,其可選擇性地結合前文所述之可移位桌子。
特別是申請專利範圍第8項所述之方法,顯然的,自該供應容器至該處理站之運送路徑相較於習知技術係相當簡單;該定位複雜度落在該供應容器定位之初始路徑上。其優勢為該(易受損的)載具被大量地操控於保護狀態下(亦即,儲存於該供應容器中),使得運送操作期間或因運送操作所致的載具損傷機會小。另一優勢為該些運送操作被分割成一些子製程,各子製程係較根據習知技術之整合性載具操控要來的簡單。這些獨立的子製程可相當容易地被機械化及自動化。甚至,一具有複數個載具之供應容器可被卸放,其中,僅需在欲自該供應容器中移除之二載具間連續地進行一非常簡短(通常為線性)的運送路徑。除了前文已列出之優勢外,在欲連續性地供應二載具之間也可產生一極短的循環時間。
為了使自一供應容器中伸出(至少是部分地)之一載具前進,該些具有電子元件之載具可於處理步驟G)期間利用***至少一對驅動式滾軸而由該中間位置移至該處理位置。也可使在該供應容器及該處理位置之間移動之載具通過一中間站。這類處理站可例如對該些載具實施(預)加熱,藉以使該些載具以例如預加熱狀態置於一密封裝置中。
本發明根據申請專利範圍第14及20項更進一步提供用以將一已處理之具有電子元件之載具自一處理站移至一供應容器之複數個方法。在一較佳應用例中,該具有電子元件之載具在此係藉由相對於該處理位置中所放置之載具來移動該定位構件被釋放在該處理站中。因此,根據供應該些載具至該密封裝置來進行處理所述及之優勢也可由將該些已處理之載具自該密封裝置中移除而獲得實現。在該卸放動作中,於處理步驟K)和M)之間,該已處理之具有電子元件之載具旋轉於平行於該第一和第二平面之一平面中也是可行的。在處理步驟K)和M)期間之載具移動可由基於本目的所提供之導引物來引導,其也可用於該些載具之供應。就如在該些載具之供應中係可行一般,該中間位置也可移動於該卸放操作之第一平面和第二平面之間。該些載具之滑入大體上發生於一水平平面中。該卸放操控構件因此只須提供有限的移動自由。相較於習知技術,有關此點的前述優勢係為該操控機構之相對有限的移動自由,其藉此可選取一簡單形式且仍然可以高精確度動作。另一附加優勢係為已處理之載具也可於需要時在其卸放期間移動於一非常有限的空間中。在處理步驟P)和Q)期間之載具移位可落在一直線內。在處理步驟K)和M)中至少其中之一以及處理步驟K)和M)所分別對應之處理步驟P)和Q)中至少其中之一期間由一氣體流支撐該載具之各優勢對應至前述該載具供應期間由一氣體流支撐該載具之優勢。
根據前述將載具供應至一處理站之優勢,這些優勢也可由將一已處理之載具自一處理站中卸放而獲得實現。該供應容器在此也用於包含一些具有電子元件之載具,該等載具係一個位在另一個上方,如此,在處理步驟N)-Q)執行後,對於以連續方式供應之具有電子元件之載具至少執行處理步驟O)-Q)。又,利用***至少一對驅動式滾軸來連續性地移動該些載具係可行的。在該移位中,該些載具也可通過一中間站,例如,用以夾住一已處理之載具及/或以所提供之密封材料對一載具進行控制性固化操作之一中間站。因此可防止不想要的載具變形及/或不想要的產生於一載具內之應力。
本發明根據申請專利範圍第26項更進一步關於用以連續性供應載具至一處理站並接著自一處理站卸放載具之組合式方法,其中,例如該第一及第二平面可為一致。在此用以供應一欲處理之具有電子元件之載具之供應容器可在將一載具供應至該處理站後由該處理站之中間位置移除,而卸放有一已處理之具有電子元件之載具之供應容器被連續性地定位至相鄰於處理站位置。這兩個不同供應容器(平常是一樣的供應容器)可藉由一連結支撐結構來移動。在此以單一構造來供給與卸放複數個處理站也是可行的。
本發明根據申請專利範圍第31項進一步提供一種用於使一具有電子元件之載具移動於一供應容器及一處理站之間之元件。藉由一間斷移動方式,例如(線性地)可垂直移動之支撐結構之這類可移動支撐結構可經常交替地讓另一供應容器連接於至少該處理站所在之高度處。已於上述參照本發明方法說明這種裝置之優勢;即該裝置之結構簡單、高移位速度、以相當有限的投資得到高定位精確度、以及一小型構造。該元件較佳地係配備有平行延伸於該可移動支撐結構與該密封站間之導引物。在一具優勢實施例中,提供各種氣體供應構件,以產生一氣體流來支撐該載具。這些構件可例如由放在該導引物下方之噴嘴所組成。
該密封站可配備有可在該密封裝置中相對於該載具之一處理位置可移動之定位構件,以藉由滑動方式來供應及卸放載具並仍可使該些載具有高定位精確度。更特別地,該些定位構件係可相對於具有一垂直於該第一平面之移動構件之平面而移動。該些定位構件可例如由定位接腳所組成或可構成可移動上模之一部分(上模部分)。
在又一較佳實施例中,該密封裝置係配備有一接合該載具至少部分被密封之該側之導引物,該引導物係用於導引密封材料。該導引物可與一密封之進料器整合製造於必須同時將密封配置於其上之該側;在學術上亦被稱為為上閘控。該載具邊緣受到該引導物所保護以防止密封材料之污染,且同時可使該載具滑入及滑出例如一所謂的轉送模製裝置之密封站。
也可使用該可移動支撐結構,以將供應容器支撐於至少二水平台面上;例如,用以承接具有電子元件之載具來進行處理之第一水平台面,及用以承接已處理之具有電子元件之載具之第二水平台面。在堆疊情況下,因而可使用複數個水平台面來支撐該些容器於其上。因此,可以簡單的方式增加該可移動支撐結構之處理量。中斷的機會也因而降低,例如降低污染的機會。
在一特定實施例變化形中,該裝置可(線性地)沿著複數個處理站移動以根據本發明使用單一裝置來線性裝載及分別卸放複數個處理站係可行的。結合該可垂直移動支撐結構及可沿著複數個處理站移動之該裝置來構成一具優勢之實施例變化形。若該可移動支撐結構被用於支撐至少二供應容器時,則利用單一裝置來提供載具之供應及卸放係具優勢的;其中,一第一支撐容器用以承接具有電子元件之載具來進行處理,而一第二支撐容器用以承接已處理之具有電子元件之載具。
若該操控器係可加熱,則在該供應期間移動該產品來進行調整,藉以在處理製程(特別是於該密封時)時獲得一改善的品質成為可行。在卸放已處理之產品時,逐漸降低該已處理之載具之溫度或使之保持在一既定溫度之上也是具有優勢。上述有助於進一步改善成品的品質。注意,本發明之其它方法也特別有利於分別施用在欲處理之載具供應及已處理之載具卸放時之載具預加熱及/或後加熱。
在一實施例變化形中,該可移動支撐結構可配備有至少一驅動式循環運輸裝置以移動一供應容器。該可線性移動之操控器具有可選取一非常簡單形式之優勢,且該操控器不需具有一產品相關架構即可具有一良好功能性之優勢;利用一簡單通用型推進器,載具可被向上推,與該載具之特定外形及尺寸無關。另一重要優勢係為相對於用於電子元件之載具之現存供應與卸放構件,本發明元件相當節省空間。因此,在複數個相鄰處理站配置中,將一裝載站及一卸放站放在該列處理站的對立兩側並沿著該處理站引導這二站與一導引物相連接;這代表對載具之供應及卸放而言,於該列處理站的三側上,空間被佔用。根據本發明,只維持該列處理站各側其中之一為佔用空間。這個導致由電子元件之處理設備所佔用之空間一相當大的限制。然而,節省空間的優勢甚至是大於該些處理製程必須發生於一特定條件環境(例如,一無塵室環境)的條件下。
為了增加儲存容量,若該裝置係配備有至少一緩衝位置以保持一或更多供應容器之供應係具優勢的,該緩衝位置可被耦接至該支撐結構以交換一供應容器。一分別為空的與滿的供應容器(分別以該些載具之供應與該些載具之卸放為例)之這種裝置可以一分別為滿的與空的供應容器來取代。
在再一實施例變化形中,該裝置係配備有垂直移動構件以保持堆疊方式之用以提供欲處理之具有電子元件之載具之至少一供應容器及用以提供已處理之具有電子元件之載具之至少一供應容器。因此,該些載具之供應及卸放兩者可在該裝置之相同位置上進行。這個甚至可使該裝置變得更小並限制其構造成本。注意,這個以垂直移動構件來保持堆疊式供應容器被填滿及倒空之變化形式可配合本專利申請案中所述之所有裝置來施用,本發明同時包括垂直移動一個位在另一上方之一些供應容器,以接著讓載具之供應與卸放在相同位置上進行。
甚至,本發明提供一密封站及如上根據申請專利範圍第36項所述之一裝置之組件。這種組件包括複數個子站;其中一個範例為一(預)熱站。一子站亦可能有關於一用以限制因為對該處理站中之載具進行處理所產生之載具變形之裝置。一介於該處理站及一供應容器間之中間位置可由一支撐物來決定,該支撐物係可以一具有一垂直於該平行第一及第二表面之移動構件之方向進行線性移動。如前述,該支撐物也可包含一個位在另一個上方之一些平行支撐位置。
第1圖係根據本發明之被組合在一連結箱殼104內之三個密封站101、102、103之組件100之立體圖。該連結箱殼也是配備有一用於具有欲處理載具之卡匣(未示於圖中)之供應站105。為此目的,該供應站係配備有一升降機系統,由此,由循環輸送帶106、107所供應且一個位在另一個上方之兩個水平台面處所座落之卡匣可被攜帶至一想要的高度。在供應站105攜帶一卡匣至該想要的高度後,一載具可滑出該卡匣(第一平面)向著基於本目的而被移動至供應站105之一可移位桌子108上。桌子108具有載具可滑至其上之二支撐水平台面109、110。可移位桌子108接著被移動至該些密封站101、102、103其中之一,以在那裡承接一在空的支撐水平台面109或110上之已處理之載具(具有密封材料)或分別供應該火車列式載具給該密封站101、102、103其中之一。基於本目的,可移位桌子108係配備有一升降機設備,由此,桌子108係可垂直移動的。密封站101、102、103被採用以使一載具可於桌子108之水平平面方向滑入並相對應地滑出。一在密封站101、102、103裝載及卸放期間之垂直移位被省略。附帶地,當一已處理之載具被滑出及滑入一卡匣並分別對應地滑向及滑離桌子108時,該載具的任何垂直移位也被省略;然而,上述比只利用該載具的一水平移位來實現密封站101、102、103之裝載及卸放係較少革新的。桌子108也可以在該些水平台面109、110其中之一上配備有一抗變形單元或其它例如熱處理站之這類方式來具體實施之。更進一步注意,所選取之桌子108也可以是繞著一垂直軸旋轉之這類形式。
第2圖顯示具有一些欲處理載具2之卡匣1及要承接已處理之載具之卡匣3。卡匣1、3利用夾鉗機構4之***而被一支撐結構5所固定地支撐。支撐結構5可經由操作一馬達7所驅動之循環輸送帶6來垂直移動(見箭頭P1 )。經由移動支撐結構5,一卡匣1可被放在可將一載具2以一正確高度滑出之位置上,相對地,卡匣3可被放在可使一已處理之載具滑入之位置。支撐結構5、輸送帶6及馬達7被連接至一框架8,經由操控一馬達10可將該框架8以一第二輸送帶9移動於水平方向(見箭頭P2 )。經由移動框架8可將支撐結構5連接至複數個相鄰定位之處理站,其未示於圖中。
第3圖顯示其旁配置一輸送帶21之三個處理站20之俯視圖。輸送帶21係由一馬達22(如第2圖中之第二輸送帶9及馬達10)所驅動。經由移動輸送帶21,置於輸送帶21上之框架23同時被移動。框架23係裝載有卡匣,圖中能看見的只有上卡匣24。為了將一載具推出卡匣外,該框架24同時配備有一可以直線往返的方式移動之推進器25。若推進器25也配備有一未被顯示之夾持器,也可使用推進器25來將已處理之載具自一處理站20移動至一卡匣24。
第4圖根據本發明顯示一用於供應及卸放具有電子元件32之載具之裝置30及一由一些互相連接之子站33、34所構成之處理站31。裝置30供應一來自一上卡匣35之載具32,基於本目的使用如第2圖所述之機構將該卡匣35攜帶至使載具32座落在處理站殼框中之通道開口36高度處之高度(見箭頭P3 )。由連接至一電動馬達39之轉子臂38所驅動之推進器37接著將載具32推出卡匣35(見箭頭P4 )外。該載具藉此與一對滾軸40結合以形成處理站31的一部分。由一電動馬達41所驅動之該對滾軸40攜帶載具32至一加熱板42以預熱載具32。在(預)加熱後,載具32前進至一轉送模34,在那裡位在載具32上之元件被環氧樹脂箱殼43所密封。為了運送加熱板42至轉送模34,需要時可使用運輸機制(未顯示)來進行。在完成該密封製程後,一第二推進器44攜帶配備有密封材料43之載具回到第一子站33。本圖中之第一子站33採用多種形式,以使其可被垂直移動(見箭頭P5 )。這類具有箱殼43之載具有時可被夾在子站33的下面部分,藉以防止該具有箱殼43之載具變形(扭曲)。該具有箱殼43之載具在子站33中停留一夠長的時間後,該具有箱殼43之載具例如利用***一對滾輪40而被卸放至一卡匣45,理所當然地該卡匣45基於本目的先被放在其可連接至處理站31中之通道開口36之這種高度下。
第5圖顯示一種具有用於卡匣52、53之固定不動的升降機系統51之裝置50,其連接至一緩衝系統54藉以將空的卡匣55與要再處理之具有載具57之卡匣56分別供應至升降機系統51(分別見箭頭P6 、P7 )。利用升降機系統51,也可分別自升降機系統51(分別見箭頭P8 、P9 )中卸放空的卡匣58與具有已處理之載具60之卡匣59。固定不動的升降機系統51連接可移動子站61,配備有一預熱板62與一衝壓構造63以阻止一配備有密封材料64之載具變形(見箭頭P1 0 )。可移動子站61可攜帶該欲處理之載具65至未進一步表示於圖中之一處理站,且在那裡可分別移除一配備有密封材料64之載具並攜帶該載具回到固定不動的升降機系統51。
第6A圖顯示一具有二處理站71、72之裝置70,且一具有電子元件75之載具74可由一供應容器73供應至該裝置70。基於本目的,以一升降機機構76將供應容器73放在可使載具74在處理站71、72中進行處理之所在水平台面的高度下。根據箭頭Z1 於一水平平面上移動一操控器77可將載具74移動於一相鄰於供應容器73之位置及處理站71、72之間。透過一線性移位器78(推進器/或牽引器),載具74可被推進處理站71、72及供應容器73,並被拉出處理站71、72及供應容器73外。對於後者功能而言,將載具74拉出處理站71、72及供應容器73也是可選擇性地施用各種推進器(未顯示),該些推進器可基於本目的而被放置在處理站71、72及供應容器73的後側上。
第6B圖顯示裝置70之側視圖,其中,除了四個供應容器73外,還可以被看見只有一框架79。供應容器73係由構成一升降機系統之一部分之四個地板80所支撐。精確地改變地板80的高度係可攜帶一載具至圖示之輸送裝置81之工作高度,該載具係會自一供應容器73移除或自用於承接已處理之載具之在供應容器73之開口位置移除,藉此可實現該Z1 方向(見第6A圖)之運輸。第6C圖顯示具有供應容器73放置於其上之地板80之升降機設備之示意性前視圖。在此可知本例中之供應容器73在相同水平台面下採用持有二個載具之雙倍形式。更甚者,要注意,具有欲再處理之載具之供應容器73與具有已處理之產品之供應容器73不論是否與空的供應容器73相結合,全可以一個在另一個上面之這種方式來放置。其全部總是藉由所述之升降機機構來放在想要的工作高度。
第6D圖顯示一裝置85,其與第6A圖所示裝置70相像。對應元件因此被標示為相對應元件符號。具有電子元件75之載具74在此可由供應容器73供應至二個處理站71、72。基於本目的,供應容器73再由一升降機機構76放至可使載具74在處理站71、72中進行處理之所在水平台面的高度。根據箭頭Z1 於一水平平面上移動一操控器86,可將載具74移動於一相鄰於供應容器73之位置及處理站71、72之間。透過一雙移位器87,載具74可被推進處理站71、72及供應容器73,並被拉出處理站71、72及供應容器73外。與第6A圖所示之裝置70不同的,本圖所示之操控器86係配備有用於載具74之二支架位置,以使也是採用雙倍形式之處理站71、72之裝載及卸放可較裝置70更快速地進行。既然座落於一處理站71、72中之二載具方位大體上係對稱的,其載具74之供應及卸放必須被調整。基於本目的,操控器86係可旋轉的-如同虛線所示之操控器86’位置所示者。操控器86因此可由二側裝載。
1、3、24、35、45、52、53、55、56、58、59...卡匣
2、57、60、65、74...載具
4...夾鉗機構
5...支撐結構
6、106、107...輸送帶
7、10、22...馬達
8、23、79...框架
20、31、71、72...處理站
9、21...輸送帶
25、37、44...推進器
30、50、70、85...元件
32、75...電子元件
33、34...子站
36...通道開口
38...轉子臂
39、41...電動馬達
40...滾軸
42...加熱板
43...箱殼
51、76...升降機系統
54...緩衝系統
61...可移動子站
62...預熱板
63...衝壓構造
64...密封材料
73...供應容器
77、86...操控器
78、87...移位器
80...地板
81...輸送裝置
100...組件
101、102、103...密封站
104...連結箱殼
105...供應站
108...可移位桌子
109、110...支撐水平台面
下列圖式所示之非限制性示範實施例係進一步說明本發明。
第1圖係根據本發明一裝置及一密封站之組件之實施例變化之立體圖。
第2圖係根據本發明一種用於供應及卸放具有電子元件之載具之裝置之前視圖。
第3圖係一些處理站及一種用於供應及卸放載具之裝置之組件之示意性俯視圖。
第4圖係根據本發明一種用於供應及卸放具有電子元件之載具之裝置及一種由一些互相連接之子站所構成之處理站之側視圖。
第5圖係根據本發明一種用於供應及卸放具有電子元件之載具之裝置之另一實施例變化之側視圖。
第6A圖係根據本發明一種用於供應及卸放具有電子元件之載具之裝置之另一實施例變化形之俯視圖。
第6B及6C圖係第6A圖所示之用於供應及卸放具有電子元件之載具之裝置之部分的示意側視圖及示意性前視圖。
第6D圖係根據本發明一種用於供應及卸放具有電子元件之載具之裝置之又一實施例變化之俯視圖。
100...組件
101、102、103...密封站
104...連結箱殼
105...供應站
106、107...輸送帶
108...可移位桌子
109、110...支撐水平台面

Claims (45)

  1. 一種將一具有電子元件之載具自一供應容器移至一處理站之方法,包括下列處理步驟:A)將含有欲處理之具有電子元件之載具之供應容器置於一特定高度,以使該欲處理之具有電子元件之載具至少實質地落在具有一處理站中間位置之平面內,B)將該欲處理之具有電子元件之載具自該供應容器移至一第一平面之中間位置,及C)使該欲處理之具有電子元件之載具自該中間位置前進至與該第一平面平行之一第二平面內之處理站之一處理位置,其特徵在於:在根據處理步驟C)饋進該載具後,該處理站執行一密封程序,其中,該電子元件係至少部分密封。
  2. 根據申請專利範圍第1項之方法,其特徵在於在處理步驟B)及C)期間之載具移位係由基於本目的而提供之導引物來引導。
  3. 根據申請專利範圍第1或2項之方法,其特徵在於該載具係在處理步驟B)和C)至少其中之一期間由一氣體流所支撐。
  4. 根據申請專利範圍第1或2項之方法,其特徵在於於處理步驟A)和C)之間該具有電子元件之載具係轉動於一平行於第一和第二平面之平面中。
  5. 根據申請專利範圍第1或2項之方法,其特徵在於,藉由相對於該處理站內所放置之載具而移動定位構件,該具有電子元件之載具係定位於該處理站中。
  6. 根據申請專利範圍第1或2項之方法,其特徵在於該中間位置係可轉移於該第一平面與該第二平面之間。
  7. 根據申請專利範圍第1或2項之方法,其特徵在於在該些具有電子元件之載具移位於該供應容器及該處理位置之間時,該些具有電子元件之載具經過一中間處理站。
  8. 一種將一具有電子元件之載具自一供應容器移至一處理站之方法,包括下列處理步驟:D)定位該含有欲處理之具有電子元件之載具之供應容器使其相鄰於一處理站中間位置,E)攜帶該供應容器至相對於該中間位置之一高度,使該欲處理之具有電子元件之載具座落在一連接至該中間位置之第一平面,F)利用在該第一平面中之一線性移動來將該欲處理之具有電子元件之載具自該供應容器移至該中間位置,及G)使該欲處理之具有電子元件之載具自該中間位置前進至平行於該第一平面之一第二平面中之處理站之處理位置,其特徵在於:該處理站係對已藉步驟G)而置放於該處理位置之該載具執行一密封製程,其中,該電子元件係至少部分密封。
  9. 根據申請專利範圍第8項之方法,其特徵在於,藉由相對於該處理站內所放置之載具來移動定位構件,該具有電子元件之載具係定位於該處理站中。
  10. 根據申請專利範圍第8或9項之方法,其特徵在於在處理步驟F)及G)期間之載具移位係由基於本目的所提供之導引物來引導。
  11. 根據申請專利範圍第8或9項之方法,其特徵在於該載具係在處理步驟F)和G)至少其中之一期間由一氣體流所支撐。
  12. 根據申請專利範圍第8或9項之方法,其特徵在於在該些具有電子元件之載具移位於該中間位置及該處理位置之間時,該些具有電子元件之載具經過一中間處理站。
  13. 根據申請專利範圍第8或9項之方法,其特徵在於該中間位置係可轉移於該第一平面與該第二平面之間。
  14. 一種將一已處理之具有電子元件之載具自一處理站移至一供應容器之方法,包括下列處理步驟:K)將該已處理之具有電子元件之載具自一處理站移至該處理站之一第二平面之中間位置,L)將用於該已處理之具有電子元件之載具之供應容器置於一特定高度,以使用於該已處理之具有電子元件之載具之供應容器之一承接位置座落於一平行於該第二平面之第一平面中,及M)將該已處理之具有電子元件之載具自該中間位置移至該第一平面之供應容器之一承接位置,其特徵在於:在開始饋出處理步驟K)之已處理之具有電子元件之載具前,該具有電子元件之載具已完成一密封程序,其中,該些電子元件係至少部分密封。
  15. 根據申請專利範圍第14項之方法,其特徵在於,藉由相對於該處理站內所放置之載具來移動定位構件,該具有電子元件之載具係在該處理站中被予以釋出。
  16. 根據申請專利範圍第14或15項之方法,其特徵在於,於處理步驟K)和M)之間,該已處理之具有電子元件之載具係轉動於一平行於第一和第二平面之平面中。
  17. 根據申請專利範圍第14或15項之方法,其特徵在於在處理步驟K)及M)期間之載具移位係由基於本目的所提供之導引物來引導。
  18. 根據申請專利範圍第14或15項之方法,其特徵在於該載具係在處理步驟K)和M)至少其中之一期間由一氣體流所支撐。
  19. 根據申請專利範圍第14或15項之方法,其特徵在於該中間位置係可轉移於該第一平面與該第二平面之間。
  20. 一種將一具有電子元件之載具自一處理站移至一供應容器之方法,包括下列處理步驟:N)定位用於容納已處理之具有電子元件之載具之供應容器,使其相鄰於該處理站中間位置,O)攜帶該供應容器至相對於該中間位置之一高度,使該供應容器之一開口承接位置落在一第一平面中,P)在一平行於該第一平面之第二平面中將來自一處理位置之已處理之具有電子元件之載具自該處理站移至該中間位置,及Q)利用在一第一平面中之一線性移動將該已處理之具 有電子元件之載具自該中間位置移至該供應容器,其中,在處理步驟P及Q)期間之載具位移係平滑地接續移動,其特徵在於:在開始饋出處理步驟P)之已處理之載具前,該具有電子元件之載具已完成一密封程序,其中,該些電子元件係至少部分密封。
  21. 根據申請專利範圍第20項之方法,其特徵在於,藉由相對於該處理站內所放置之載具來移動定位構件,該具有電子元件之載具係在該處理站中被予以釋出。
  22. 根據申請專利範圍第20或21項之方法,其特徵在於在處理步驟P)及Q)期間之載具移位係由基於本目的所提供之導引物來引導。
  23. 根據申請專利範圍第20或21項之方法,其特徵在於該載具係在處理步驟P)和Q)至少其中之一期間由一氣體流所支撐。
  24. 根據申請專利範圍第20或21項之方法,其特徵在於在該些具有電子元件之載具移位於該處理位置及一卸放位置之間時,該些具有電子元件之載具經過一中間處理站。
  25. 根據申請專利範圍第20或21項之方法,其特徵在於該中間位置係可轉移於該第一平面與該第二平面之間。
  26. 一種供應具有電子元件之載具至一處理站並自一處理站卸放具有電子元件之載具之方法,其中,一欲處理之具有電子元件之載具係根據申請專利範圍第1至7項中任一項來供應,而該已處理之具有電子元件之載具係在完成處理後根據申請專利範圍第14至19項中任一項來卸放。
  27. 一種供應具有電子元件之載具至一處理站並自一處理站卸放具有電子元件之載具之方法,其中,一欲處理之具有電子元件之載具係根據申請專利範圍第8至13項中任一項來供應,而該已處理之具有電子元件之載具係在完成處理後根據申請專利範圍第20至25項中任一項來卸放。
  28. 根據申請專利範圍第26或27項之方法,其特徵在於該第一平面及該第二平面互為一致。
  29. 根據申請專利範圍第26或27項之方法,其特徵在於在一載具被饋入至該處理站後,將供應一欲處理之具有電子元件之載具之供應容器自該中間位置移除,且卸放一已處理之具有電子元件之載具之供應容器係接著被定位相鄰於該中間位置。
  30. 根據申請專利範圍第26或27項之方法,其特徵在於供應一欲處理之具有電子元件之載具之供應容器及用以卸放一已處理之具有電子元件之載具之供應容器係藉由一連結支撐結構來移動。
  31. 一種在一供應容器及一處理站之間移動一具有電子元件之載具之裝置,包括:-一可移動支撐結構,用以相對於該處理站定位該供應容器,及-至少一操控器,只可移動於平行平面中,用以在該供應容器及該處理站之間移動一具有電子元件之載具,其特徵在於:該處理站係一執行密封程序之密封站,其中,該些電子元件係至少部分密封。
  32. 根據申請專利範圍第31項之裝置,其特徵在於該裝置係具有平行延伸於該可移動支撐結構及該密封站之間之導引物。
  33. 根據申請專利範圍第31或32項之裝置,其特徵在於該裝置係具有氣體供應構件,用以支撐一用於移動之載具。
  34. 根據申請專利範圍第31或32項之裝置,其特徵在於該密封站係具有可相對於該載具一處理位置移動於該密封裝置中之定位構件。
  35. 根據申請專利範圍第34項之裝置,其特徵在於該密封裝置係具有一導引物,該導引物係接合於至少部分被密封之該載具之側上,該導引物係用來導引密封材料。
  36. 根據申請專利範圍第31或32項之裝置,其特徵在於該操控器係可加熱的。
  37. 根據申請專利範圍第31或32項之裝置,其特徵在於該可移動支撐結構係用來支撐至少兩個供應容器;一第一供應容器承接欲處理之具有電子元件之載具,而一第二供應容器承接已處理之具有電子元件之載具。
  38. 根據申請專利範圍第31或32項之裝置,其特徵在於該可移動支撐結構係具有至少一受驅動式循環運輸裝置以移動一供應容器。
  39. 根據申請專利範圍第31或32項之裝置,其特徵在於該裝置係具有用以維持一供應容器之供應之至少一緩衝位置,該緩衝位置可被耦接至該支撐結構以交換一供應容 器。
  40. 根據申請專利範圍第31或32項之裝置,其特徵在於該裝置係具有垂直移動構件,用以使用於欲處理之具有電子元件之載具之至少一供應容器保持堆疊方式及使用於已處理之具有電子元件之載具之至少一供應容器保持堆疊方式。
  41. 一種一處理站與根據申請專利範圍第31至40項中任一項之一裝置之組件,其特徵在於該密封站係具有至少一運輸裝置,以在子站間傳送一具有電子元件之載具來執行子程序,以及平行於該些平行平面之操控器線性移動方向係至少實質地垂直於該處理站之該運輸裝置之傳送方向。
  42. 根據申請專利範圍第41項之組件,其特徵在於一用以限制因為對該處理站中之載具進行處理所產生之載具變形之裝置係置於該處理站及該裝置之間,以在一供應容器及一處理站之間移動一具有電子元件之載具。
  43. 根據申請專利範圍第41或42項之組件,其特徵在於一位在該處理站及一供應容器間之中間位置係由一可垂直於該些平行平面線性移動之支撐物所決定。
  44. 根據申請專利範圍第43項之組件,其特徵在於該支撐物包含一些平行支撐位置,其係一個位置位在另一個位置之上方。
  45. 根據申請專利範圍第41或42項之組件,其特徵在於該組件係具有氣體供應構件,以支撐一用於移動之載具。
TW095114996A 2005-04-29 2006-04-27 用於供應及卸放具有電子元件之載具之方法及裝置 TWI453847B (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL1028907A NL1028907C2 (nl) 2005-04-29 2005-04-29 Werkwijze en inrichting voor het aanvoeren en het afvoeren van dragers met elektronische componenten.

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW200727383A TW200727383A (en) 2007-07-16
TWI453847B true TWI453847B (zh) 2014-09-21

Family

ID=35756366

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW095114996A TWI453847B (zh) 2005-04-29 2006-04-27 用於供應及卸放具有電子元件之載具之方法及裝置

Country Status (6)

Country Link
KR (1) KR101236878B1 (zh)
CN (1) CN101167172B (zh)
MY (1) MY162382A (zh)
NL (1) NL1028907C2 (zh)
TW (1) TWI453847B (zh)
WO (1) WO2007001179A2 (zh)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6804409B2 (ja) * 2017-08-04 2020-12-23 Towa株式会社 樹脂成形装置及び樹脂成形品製造方法
TWI671847B (zh) * 2018-02-09 2019-09-11 鴻勁精密股份有限公司 電子元件作業設備
DE102018205926B3 (de) * 2018-04-18 2019-08-29 Asm Assembly Systems Gmbh & Co. Kg Beladevorrichtung, Bestücksystem und Verfahren zum Bestücken von SMT Leiterplatten mit SMT Bauteilen
JP7068094B2 (ja) * 2018-08-10 2022-05-16 アピックヤマダ株式会社 ワーク搬送装置、樹脂搬送装置及び樹脂モールド方法
KR20220090156A (ko) * 2020-12-22 2022-06-29 (주)테크윙 전자부품 전달장치 및 전자부품 처리용 핸들러

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0272141A2 (en) * 1986-12-19 1988-06-22 Applied Materials, Inc. Multiple chamber integrated process system
EP0713246A1 (en) * 1994-11-18 1996-05-22 Fico B.V. Modular moulding apparatus
US6069342A (en) * 1996-12-18 2000-05-30 Texas Instruments Incorporated Automated multiple lead frame strip radiant die attach material curing apparatus
US20020170672A1 (en) * 1997-06-04 2002-11-21 Ilya Perlov Method and apparatus for improved substrate handling

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57128940A (en) * 1981-02-04 1982-08-10 Sony Corp Heat treating method for substrate
JPH0783899B2 (ja) * 1987-09-30 1995-09-13 三菱重工業株式会社 ローラレベラの運転方法
TW257745B (zh) * 1993-07-22 1995-09-21 Towa Kk
NL1003366C2 (nl) * 1996-06-18 1997-12-19 Fico Bv Inrichting en werkwijze voor het omhullen van produkten.
AU2003277790A1 (en) * 2002-11-15 2004-06-15 Unaxis Balzers Ag Apparatus for vacuum treating two dimensionally extended substrates and method for manufacturing such substrates
CN100410750C (zh) * 2003-06-17 2008-08-13 友达光电股份有限公司 承载翻转平台
NL1028824C2 (nl) * 2005-04-20 2006-10-23 Fico Bv Werkwijze en inrichting voor het verplaatsen van in een rechthoekige structuur gerangschikte elektronische componenten.

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0272141A2 (en) * 1986-12-19 1988-06-22 Applied Materials, Inc. Multiple chamber integrated process system
EP0713246A1 (en) * 1994-11-18 1996-05-22 Fico B.V. Modular moulding apparatus
US6069342A (en) * 1996-12-18 2000-05-30 Texas Instruments Incorporated Automated multiple lead frame strip radiant die attach material curing apparatus
US20020170672A1 (en) * 1997-06-04 2002-11-21 Ilya Perlov Method and apparatus for improved substrate handling

Also Published As

Publication number Publication date
WO2007001179A2 (en) 2007-01-04
CN101167172A (zh) 2008-04-23
CN101167172B (zh) 2010-05-19
KR101236878B1 (ko) 2013-02-26
WO2007001179A3 (en) 2007-08-16
KR20080005447A (ko) 2008-01-11
TW200727383A (en) 2007-07-16
MY162382A (en) 2017-06-15
NL1028907C2 (nl) 2006-10-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI787411B (zh) 樹脂模製裝置
US20090281653A1 (en) Method for forming a back-to-back wafer batch to be positioned in a process boot, and handling system for forming the btb wafer batch
TWI453847B (zh) 用於供應及卸放具有電子元件之載具之方法及裝置
US6377329B1 (en) Substrate processing apparatus
JP6989409B2 (ja) 樹脂モールド装置及び樹脂モールド方法
JP3567803B2 (ja) Icデバイスの試験装置
JP2017024398A (ja) モールド金型及び樹脂モールド装置
JP2019145550A (ja) 樹脂モールド装置及び樹脂モールド方法
CN111867800B (zh) 树脂铸模装置
US20040148763A1 (en) Dispensing system and method
JP4344320B2 (ja) 接合装置
US5547511A (en) Electrode forming system for chip components
TWI786515B (zh) 樹脂模製裝置及樹脂模製方法
CN103391819A (zh) 液体涂覆装置和液体涂覆方法
KR102010265B1 (ko) 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
JP5911170B2 (ja) 基板の搬送及び処理装置
KR102471189B1 (ko) 기판 이송 장치
JP7498836B1 (ja) 樹脂成形装置、及び樹脂成形品の製造方法
JP2019145549A (ja) 樹脂モールド装置
CN220392571U (zh) 芯片上料机构以及芯片检测装置
JP7465843B2 (ja) 樹脂成形装置、及び樹脂成形品の製造方法
TWI331080B (zh)
JP2001071453A (ja) スクリーン印刷機の被印刷物搬送装置
JPS6146967B2 (zh)
CN115284502A (zh) 半导体自动化塑封设备