TWI449852B - 彈簧片、置物台系統及微影裝置 - Google Patents

彈簧片、置物台系統及微影裝置 Download PDF

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TWI449852B TW100135926A TW100135926A TWI449852B TW I449852 B TWI449852 B TW I449852B TW 100135926 A TW100135926 A TW 100135926A TW 100135926 A TW100135926 A TW 100135926A TW I449852 B TWI449852 B TW I449852B
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Christiaan Alexander Hoogendam
Martinus Agnes Willem Cuijpers
Bart Friso Riedstra
Ronald Cornelis Gerardus Gijzen
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Asml Netherlands Bv
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Description

彈簧片、置物台系統及微影裝置
本發明係關於一種彈簧片、一種微影裝置之置物台系統，及一種微影裝置。
微影裝置為將所要圖案施加至基板上(通常施加至基板之目標部分上)的機器。微影裝置可用於(例如)積體電路(IC)之製造中。在此狀況下，圖案化器件(其或者被稱作光罩或比例光罩)可用以產生待形成於IC之個別層上的電路圖案。可將此圖案轉印至基板(例如，矽晶圓)上之目標部分(例如，包括晶粒之部分、一個晶粒或若干晶粒)上。通常經由成像至提供於基板上之輻射敏感材料(抗蝕劑)層上而進行圖案之轉印。一般而言，單一基板將含有經順次地圖案化之鄰近目標部分的網路。習知微影裝置包括：所謂步進器，其中藉由一次性將整個圖案曝光至目標部分上來輻照每一目標部分；及所謂掃描器，其中藉由在給定方向(「掃描」方向)上經由輻射光束而掃描圖案同時平行或反平行於此方向而同步地掃描基板來輻照每一目標部分。亦有可能藉由將圖案壓印至基板上而將圖案自圖案化器件轉印至基板。
在微影裝置之置物台系統中，例如，在基板或晶圓置物台中，使用彈簧片以將該置物台之一個物件安裝至該置物台之另一物件。詳言之，使用彈簧片以將磁軛(其為置物台之馬達之部件)安裝於晶圓置物台之鏡面區塊中。使用彈簧片以最小化鏡面區塊相對於磁軛之超定固定(over determined fixation)。彈簧片具有平面形本體，該平面形本體在該本體之平面中提供相對高硬度。藉由在軛與鏡面區塊之間的不同定向上提供三個彈簧片，馬達可在六個自由度上較硬地安裝於鏡面區塊中。
為了避免超定固定，彈簧片應提供在兩個正交方向上之相對硬連接，同時彈簧片應提供在所有其他自由度上之極低硬度。以此方式，可避免由於製造誤差、馬達與鏡面區塊中之熱膨脹係數差、在大碰撞負荷期間串聯連接之可能滯後等等的變形。
彈簧片係使用膠黏劑而連接至鏡面區塊。結果，用於彈簧片之材料之選擇係主要地藉由該材料之熱膨脹係數判定。舉例而言，此引起選擇鎳鋼(Invar)作為用於彈簧片之材料。然而，判定不同方向之間的可達成硬度比率的鎳鋼之其他材料屬性相對不良。
在此已知建構之情況下，沒有可能達成在兩個正交方向上之所要高硬度，而同時，在其他自由度上之硬度足夠弱。因此，彈簧片之建構仍係超定的。
需要提供一種彈簧片，該彈簧片具有在兩個正交方向上之一相對高硬度，及在其他自由度上之一相對低硬度。
根據本發明之一實施例，提供一種用以安裝於兩個物件之間的彈簧片，其中該彈簧片經組態以具有在兩個正交方向上之一高硬度，及在其他自由度上之一相對低硬度，其中該彈簧片具有一實質上面板形本體，其中該彈簧片包含在該面板形本體之中心中或附近以將該彈簧片安裝至該兩個物件中之一第一物件的一第一安裝部位，其中該彈簧片包含在該面板形本體之圓周處或附近以將該彈簧片安裝至該兩個物件中之該第二物件的一或多個第二安裝部位，且其中該彈簧片包含在該面板形本體中該第一安裝部位與該第二安裝部位之間的狹長凹槽及/或狹縫，該等凹槽及/或狹縫在該兩個正交方向之平面中延行於至少兩個非正交方向上。
根據本發明之一實施例，提供一種置物台系統，該置物台系統包含一第一置物台部件及一第二置物台部件，其中該第一置物台部件係用一或多個彈簧片而安裝於該第二置物台部件上，其中每一彈簧片經組態以具有在兩個正交方向上之一高硬度，及在其他自由度上之一相對低硬度，其中該彈簧片具有一實質上面板形本體，其中該彈簧片包含在該面板形本體之中心中或附近以將該彈簧片安裝至該第一置物台部件的一第一安裝部位，其中該彈簧片包含在該面板形本體之圓周處或附近以將該彈簧片安裝至該第二置物台部件的一或多個第二安裝部位，且其中該彈簧片包含在該面板形本體中該第一安裝部位與該第二安裝部位之間的狹長凹槽及/或狹縫，該等凹槽及/或狹縫在該兩個正交方向之平面中延行於至少兩個非正交方向上，其中該第一置物台部件連接至每一彈簧片之該第一安裝部位，且其中該一或多個第二安裝部位連接至該第二置物台部件。
根據本發明之一實施例，提供一種微影裝置，該微影裝置包含：一照明系統，其經組態以調節一輻射光束；一支撐件，其經建構以支撐一圖案化器件，該圖案化器件能夠在該輻射光束之橫截面中向該輻射光束賦予一圖案以形成一經圖案化輻射光束；一基板台，其經建構以固持一基板；及一投影系統，其經組態以將該經圖案化輻射光束投影至該基板之一目標部分上，其中該微影裝置包含一置物台系統，其中該置物台系統包含一第一置物台部件及一第二置物台部件，其中該第一置物台部件係用一或多個彈簧片而安裝於該第二置物台部件上，其中每一彈簧片經組態以具有在兩個正交方向上之一高硬度，及在其他自由度上之一相對低硬度，其中該彈簧片具有一實質上面板形本體，其中該彈簧片包含在該面板形本體之中心中或附近以將該彈簧片安裝至該第一置物台部件的一第一安裝部位，其中該彈簧片包含在該面板形本體之圓周處或附近以將該彈簧片安裝至該第二置物台部件的一或多個第二安裝部位，且其中該彈簧片包含在該面板形本體中該第一安裝部位與該第二安裝部位之間的狹長凹槽及/或狹縫，該等凹槽及/或狹縫在該兩個正交方向之平面中延行於至少兩個非正交方向上，其中該第一置物台部件連接至每一彈簧片之該第一安裝部位，且其中該一或多個第二安裝部位連接至該第二置物台部件。
現將參看隨附示意性圖式而僅藉由實例來描述本發明之實施例，在該等圖式中，對應元件符號指示對應部件。
圖1示意性地描繪根據本發明之一實施例的微影裝置。該裝置包括：照明系統(照明器)IL，其經組態以調節輻射光束B(例如，UV輻射或任何其他合適輻射)；圖案化器件支撐件或光罩支撐結構(例如，光罩台)MT，其經建構以支撐圖案化器件(例如，光罩)MA，且連接至經組態以根據某些參數來準確地定位該圖案化器件之第一***件PM。該裝置亦包括基板台(例如，晶圓台)WT或「基板支撐件」，其經建構以固持基板(例如，抗蝕劑塗佈晶圓)W，且連接至經組態以根據某些參數來準確地定位該基板之第二***件PW。該裝置進一步包括投影系統(例如，折射投影透鏡系統)PS，其經組態以將藉由圖案化器件MA賦予至輻射光束B之圖案投影至基板W之目標部分C(例如，包括一或多個晶粒)上。
照明系統可包括用以引導、塑形或控制輻射的各種類型之光學組件，諸如，折射、反射、磁性、電磁、靜電或其他類型之光學組件，或其任何組合。
圖案化器件支撐件以取決於圖案化器件之定向、微影裝置之設計及其他條件(諸如，圖案化器件是否被固持於真空環境中)的方式來固持圖案化器件。圖案化器件支撐件可使用機械、真空、靜電或其他夾持技術以固持圖案化器件。圖案化器件支撐件可為(例如)框架或台，其可根據需要而係固定或可移動的。圖案化器件支撐件可確保圖案化器件(例如)相對於投影系統處於所要位置。可認為本文中對術語「比例光罩」或「光罩」之任何使用均與更通用之術語「圖案化器件」同義。
本文中所使用之術語「圖案化器件」應被廣泛地解釋為指代可用以在輻射光束之橫截面中向輻射光束賦予圖案以便在基板之目標部分中創製圖案的任何器件。應注意，例如，若被賦予至輻射光束之圖案包括相移特徵或所謂輔助特徵，則圖案可能不會確切地對應於基板之目標部分中的所要圖案。通常，被賦予至輻射光束之圖案將對應於目標部分中所創製之器件(諸如，積體電路)中的特定功能層。
圖案化器件可為透射或反射的。圖案化器件之實例包括光罩、可程式化鏡面陣列，及可程式化LCD面板。光罩在微影中為吾人所熟知，且包括諸如二元、交變相移及衰減相移之光罩類型，以及各種混合光罩類型。可程式化鏡面陣列之一實例使用小鏡面之矩陣配置，該等小鏡面中每一者可個別地傾斜，以便在不同方向上反射入射輻射光束。傾斜鏡面將圖案賦予於藉由鏡面矩陣反射之輻射光束中。
本文中所使用之術語「投影系統」應被廣泛地解釋為涵蓋適於所使用之曝光輻射或適於諸如浸沒液體之使用或真空之使用之其他因素的任何類型之投影系統，包括折射、反射、反射折射、磁性、電磁及靜電光學系統，或其任何組合。可認為本文中對術語「投影透鏡」之任何使用均與更通用之術語「投影系統」同義。
如此處所描繪，裝置為透射類型(例如，使用透射光罩)。或者，裝置可為反射類型(例如，使用上文所提及之類型的可程式化鏡面陣列，或使用反射光罩)。
微影裝置可為具有兩個(雙置物台)或兩個以上基板台或「基板支撐件」(及/或兩個或兩個以上光罩台或「光罩支撐件」)的類型。在此等「多置物台」機器中，可並行地使用額外台或支撐件，或可在一或多個台或支撐件上進行預備步驟，同時將一或多個其他台或支撐件用於曝光。
微影裝置亦可為如下類型：其中基板之至少一部分可藉由具有相對高折射率之液體(例如，水)覆蓋，以便填充投影系統與基板之間的空間。亦可將浸沒液體施加至微影裝置中之其他空間，例如，圖案化器件(例如，光罩)與投影系統之間。浸沒技術可用以增加投影系統之數值孔徑。如本文中所使用之術語「浸沒」不意謂諸如基板之結構必須浸漬於液體中，而是僅意謂液體在曝光期間位於投影系統與基板之間。
參看圖1，照明器IL自輻射源SO接收輻射光束。舉例而言，當輻射源為準分子雷射時，輻射源與微影裝置可為分離實體。在此等狀況下，不認為輻射源形成微影裝置之部件，且輻射光束係憑藉包括(例如)合適引導鏡面及/或光束擴展器之光束遞送系統BD而自輻射源SO傳遞至照明器IL。在其他狀況下，例如，當輻射源為水銀燈時，輻射源可為微影裝置之整體部件。輻射源SO及照明器IL連同光束遞送系統BD(在需要時)可被稱作輻射系統。
照明器IL可包括經組態以調整輻射光束之角強度分佈的調整器AD。通常，可調整照明器之光瞳平面中之強度分佈的至少外部徑向範圍及/或內部徑向範圍(通常分別被稱作σ外部及σ內部)。此外，照明器IL可包括各種其他組件，諸如，積光器IN及聚光器CO。照明器可用以調節輻射光束，以在其橫截面中具有所要均一性及強度分佈。
輻射光束B入射於被固持於圖案化器件支撐件(例如，光罩台)MT上之圖案化器件(例如，光罩)MA上，且係藉由該圖案化器件而圖案化。在已橫穿圖案化器件(例如，光罩)MA的情況下，輻射光束B傳遞通過投影系統PS，投影系統PS將該光束聚焦至基板W之目標部分C上。憑藉第二***件PW及位置感測器IF(例如，干涉量測器件、線性編碼器或電容性感測器)，基板台WT可準確地移動，例如，以使不同目標部分C定位於輻射光束B之路徑中。類似地，第一***件PM及另一位置感測器(其未在圖1中被明確地描繪)可用以(例如)在自光罩庫之機械擷取之後或在掃描期間相對於輻射光束B之路徑準確地定位圖案化器件(例如，光罩)MA。一般而言，可憑藉形成第一***件PM之部件的長衝程模組(粗略定位)及短衝程模組(精細定位)來實現圖案化器件支撐件(例如，光罩台)MT之移動。類似地，可使用形成第二***PW之部件的長衝程模組及短衝程模組來實現基板台WT或「基板支撐件」之移動。在步進器(相對於掃描器)之狀況下，圖案化器件支撐件(例如，光罩台)MT可僅連接至短衝程致動器，或可為固定的。可使用圖案化器件對準標記M1、M2及基板對準標記P1、P2來對準圖案化器件(例如，光罩)MA及基板W。儘管所說明之基板對準標記佔據專用目標部分，但該等標記可位於目標部分之間的空間中(此等標記被稱為切割道對準標記)。類似地，在一個以上晶粒提供於圖案化器件(例如，光罩)MA上之情形中，圖案化器件對準標記可位於該等晶粒之間。
所描繪裝置可用於以下模式中之至少一者中：
1.在步進模式中，在將被賦予至輻射光束之整個圖案一次性投影至目標部分C上時，使圖案化器件支撐件(例如，光罩台)MT或「光罩支撐件」及基板台WT或「基板支撐件」保持基本上靜止(亦即，單次靜態曝光)。接著，使基板台WT或「基板支撐件」在X及/或Y方向上移位，使得可曝光不同目標部分C。在步進模式中，曝光場之最大大小限制單次靜態曝光中所成像之目標部分C的大小。
2.在掃描模式中，在將被賦予至輻射光束之圖案投影至目標部分C上時，同步地掃描圖案化器件支撐件(例如，光罩台)MT或「光罩支撐件」及基板台WT或「基板支撐件」(亦即，單次動態曝光)。可藉由投影系統PS之放大率(縮小率)及影像反轉特性來判定基板台WT或「基板支撐件」相對於圖案化器件支撐件(例如，光罩台)MT或「光罩支撐件」之速度及方向。在掃描模式中，曝光場之最大大小限制單次動態曝光中之目標部分的寬度(在非掃描方向上)，而掃描運動之長度判定目標部分之高度(在掃描方向上)。
3.在另一模式中，在將被賦予至輻射光束之圖案投影至目標部分C上時，使圖案化器件支撐件(例如，光罩台)MT或「光罩支撐件」保持基本上靜止，從而固持可程式化圖案化器件，且移動或掃描基板台WT或「基板支撐件」。在此模式中，通常使用脈衝式輻射源，且在基板台WT或「基板支撐件」之每一移動之後或在掃描期間的順次輻射脈衝之間根據需要而更新可程式化圖案化器件。此操作模式可易於應用於利用可程式化圖案化器件(諸如，上文所提及之類型的可程式化鏡面陣列)之無光罩微影。
亦可使用對上文所描述之使用模式之組合及/或變化或完全不同的使用模式。
在圖1之微影裝置中，第二***件PW經組態以相對於投影系統PS定位鏡面區塊MB及晶圓台WT。鏡面區塊MB包含被位置感測器IF用以判定該鏡面區塊之位置的反射表面。
第二***件PW包含短衝程致動器PWA以相對於投影系統PS在相對小範圍內但以高準確度致動支援晶圓台WT之夾盤。提供長衝程致動器以遍及較大範圍來移動短衝程致動器。鏡面區塊MB係經由彈簧片LS而連接至短衝程致動器PWA之磁軛AY。
使用彈簧片LS以最小化鏡面區塊MB相對於磁軛AY之超定固定。藉由在軛AY與鏡面區塊MB之間的不同定向上提供三個彈簧片LS，軛AY可在六個自由度上較硬地安裝於該鏡面區塊中。
為了避免超定固定，彈簧片LS應提供在兩個正交方向上之相對硬連接，及在其他自由度上之低硬度。以此方式， 可避免由於製造誤差、馬達與鏡面區塊中之熱膨脹係數差、在大碰撞負荷期間串聯連接之可能滯後等等的變形。
根據本發明之一實施例，圖1之微影裝置包含一置物台系統，其具有一第一置物台部件(例如鏡面區塊MB)及一第二置物台部件(例如磁軛AY)，其中該第一置物台部件係藉由上述之一或多個彈簧片LS安裝於該第二置物台部件上，其中該第一置物台部件係連接至各彈簧片之第一安裝部位，且其中一或多個第二安裝部位連接至該第二置物台部件。圖2示意性地展示本發明之彈簧片之第一實施例(藉由元件符號1大體上指示)。在圖3中，展示沿著圖2中之線A-A的彈簧片1之橫截面。彈簧片1具有矩形的面板形本體2，矩形的面板形本體2具有中部部件3及兩個側面部件4。側面部件4係藉由中間部件5而連接至中部部件3。
彈簧片1經設計成具有在面板形本體之平面中兩個正交方向x、z上之高硬度，及在其他自由度(y、Rx、Rz)上之相對低硬度。在此實施例中，在Ry上之硬度仍相對高。
彈簧片1包含在本體2之中部部件3中(亦即，在面板形本體2之中心中或附近)的第一安裝部位6。此第一安裝部位6係用以用螺釘或類螺釘連接而將彈簧片1連接至鏡面區塊MB。舉例而言，鏡面區塊可包含膠黏於主要鏡面區塊上之小鎳鋼區塊，其中使小鎳鋼區塊適於與彈簧片1之螺釘連接。在圖3中可看出，中部部件在第一安裝部位6之部位(亦即，用於收納螺釘之開口)處相對厚。此相對厚部件尤其適於螺釘連接。
側面部件4各自界定用於將彈簧片連接至致動器軛AY之第二安裝部位7。在一實施例中，此連接為膠黏劑連接。 然而，作為膠黏劑連接之替代例或除了膠黏劑連接以外，亦可在致動器軛AY與彈簧片1之間提供螺釘或類螺釘連接。
在側面部件4與中間部件5之間，及在中間部件5與中部部件3之間，提供延行於x方向上之第一直線凹槽8。第一凹槽8延行遍及本體2之完整寬度。另外，提供相對於第一凹槽8延行於非平行且非垂直之方向上之第二直線凹槽9。
第一凹槽8及第二凹槽9提供於本體2之對置側面處，從而在凹槽8、9之部位處引起本體2之相對薄部件。
第二凹槽9在中間部件5中自在本體2之一個側面處凹槽8之一個末端延行至在本體2之另一側面處另一凹槽8之一個末端。在一實施例中，第二凹槽9相對於第一凹槽8之方向以30度至60度之角度延行，藉以，第一凹槽8及第二凹槽9兩者均延行於面板形本體2之主要平面(亦即，x-z平面)中。
圖2及圖3中示意性地展示第一凹槽8及第二凹槽9。實務上，凹槽8、9可具有圓形邊緣以在凹槽8、9之隅角中避免峰值應力。凹槽8、9亦可具有任何合適橫截面。在一實施例中，凹槽8、9係直線的，以向本體提供較好可撓性。
在凹槽之底部處本體2之厚度可為本體2之其餘部分之厚度的至少1/5，或在一實施例中為至少1/10。舉例而言，中間部件5可具有3毫米之厚度，而在凹槽8、9之底部處本體2之厚度可為0.2毫米。
注意到，已知彈簧片在兩個部位處膠黏至鏡面區塊MB，同時該彈簧片係藉由單一螺釘連接而連接至磁軛 AY。在彈簧片1之設計中，使彈簧片1之安裝轉向。在單一第一安裝部位6處藉由螺釘或類螺釘連接將彈簧片1安裝於鏡面區塊MB上。提供在第一安裝部位6之對置側面處的兩個第二安裝部位7以將彈簧片1膠黏至致動器軛AY。
由於彈簧片1未膠黏至鏡面區塊MB，但用螺釘連接予以連接，故彈簧片21之材料之熱膨脹係數較不重要。因此，彈簧片1之材料選擇可相對於材料之硬度予以更多地最佳化。舉例而言，彈簧片1可由不鏽鋼(例如，工具鋼)、碳化鎢(例如，Innermet)或諸如奧氏體鎳鉻基超合金之非磁性材料(例如，英高鎳(Inconel))製成。非磁性材料之選擇具有與微影裝置中之其他磁性系統之較少磁性串擾的益處。
第一安裝部位6及第二安裝部位7之選擇之另一益處為：存在僅一個第一安裝部位6以將彈簧片1安裝於鏡面區塊MB上。結果，彈簧片之變形將具有對鏡面區塊MB之較少效應。
圖4展示根據本發明之彈簧片21之第二實施例。此彈簧片21亦經設計成具有在面板形本體之平面中兩個正交方向x、z上之相對高硬度，及在所有其他自由度(y、Rx、Ry、Rz)上之相對低硬度。圖5及圖6分別展示沿著線B-B及C-C的彈簧片21之橫截面。
彈簧片21具有矩形的面板形本體22，矩形的面板形本體22具有中心部件23及沿著本體22之圓周而延行之框架24。框架24係藉由輪輻元件25而連接至中心部件23。
彈簧片21包含在本體22之中心部件23中的第一安裝部位26。此第一安裝部位6係用以用螺釘或類螺釘連接而將彈簧片21連接至鏡面區塊MB。在圖5及圖6中可看出，中心部件23在第一安裝部位6之部位處相對厚，以在中心部件23與鏡面區塊之間進行牢固且可靠之連接。
框架24界定用於將彈簧片21連接至致動器軛AY之第二安裝部位27。在一實施例中，此連接為膠黏劑連接。配置於本體2之圓周處的安裝部位27提供相對大表面積以產生強膠黏劑連接。然而，作為膠黏劑連接之替代例或除了膠黏劑連接以外，亦可在致動器軛AY與彈簧片21之間提供螺釘或類螺釘連接，或其他合適連接。
輪輻元件25係藉由相對於第一安裝部位27實質上徑向地延伸之徑向狹縫28以及相對於第一安裝部位27實質上沿切線方向延伸之內部切線方向凹槽29及外部切線方向凹槽30界定。徑向狹縫28、內部切線方向凹槽29及外部切線方向凹槽30均提供於本體之對置側面處，使得該等凹槽形成相比於諸如中心部件23、框架24及輪輻元件25之其他部件具有相對薄本體之部件。
徑向狹縫28係直線的。內部切線方向凹槽29及外部切線方向凹槽30在實質切線方向上係直線的，或延行於切線方向上。
輪輻元件25圍繞第一安裝部位26被實質上劃分遍及360度。由於徑向狹縫28以及內部切線方向凹槽29及外部切線方向凹槽30在本體22之主要平面(亦即，相對於x及z方向)內延行於所有種類之不同方向上，故在除了x方向及z方向以外之所有方向上獲得相對可撓性。歸因於徑向及沿切線方向定向之狹縫及凹槽，彈簧片21尤其提供在Ry方向上之良好可撓性(亦相比於圖2及圖3之實施例)。
鑒於在Ry方向及除了x方向及z方向以外之其他方向上之此可撓性，有益的是具有圍繞第一安裝部位26之圓周的相當大數目個輪輻元件(例如，至少十二個)。本體22包含二十四個輪輻元件25。
在彈簧片21之輪輻設計中，亦使彈簧片21相對於鏡面區塊MB及致動器軛AY之安裝相對於已知彈簧片轉向。在單一第一安裝部位26處藉由螺釘或類螺釘連接將彈簧片21安裝於鏡面區塊MB上。第二安裝部位27環繞第一安裝部位26。提供第二安裝部位27以將彈簧片21膠黏至致動器軛AY。
由於彈簧片21未膠黏至鏡面區塊26，故彈簧片21之材料之熱膨脹係數較不重要。因此，彈簧片21之材料選擇可相對於材料之硬度予以更多地最佳化。舉例而言，彈簧片21可由不鏽鋼(例如，工具鋼)、碳化鎢(例如，Innermet)或諸如奧氏體鎳鉻基超合金之非磁性材料(例如，英高鎳(Inconel))製成。
第一安裝部位6及第二安裝部位7之選擇之另一益處為：存在僅一個安裝部位6以將彈簧片1安裝於鏡面區塊MB上。結果，彈簧片之變形將具有對鏡面區塊MB之較少效應。
術語「面板形本體」在本文中用以描述相比於在第三方向上實質上更多地延伸於兩個方向(例如，長度及寬度)上之本體。在圖2至圖6所示之實施例中，該本體主要地延伸於x方向及z方向上。
另外，術語「凹槽」係用以描述在本體中提供較薄狹長部件以增加在一或多個預定方向上本體之可撓性。術語「狹縫」係用以描述在本體中提供狹長全通開口(elongate through-going opening)。凹槽及狹縫可在本體中被機械加工，或可藉由本體之模製提供，或藉由任何其他合適生產方法提供。
儘管在本文中可特定地參考微影裝置在IC製造中之使用，但應理解，本文中所描述之微影裝置可具有其他應用，諸如，製造整合光學系統、用於磁疇記憶體之導引及偵測圖案、平板顯示器、液晶顯示器(LCD)、薄膜磁頭，等等。熟習此項技術者應瞭解，在此等替代應用之內容背景中，可認為本文中對術語「晶圓」或「晶粒」之任何使用分別與更通用之術語「基板」或「目標部分」同義。可在曝光之前或之後在(例如)塗佈顯影系統(通常將抗蝕劑層施加至基板且顯影經曝光抗蝕劑之工具)、度量衡工具及/或檢測工具中處理本文中所提及之基板。適用時，可將本文中之揭示應用於此等及其他基板處理工具。另外，可將基板處理一次以上，(例如)以便創製多層IC，使得本文中所使用之術語「基板」亦可指代已經含有多個經處理層之基板。
儘管上文可特定地參考在光學微影之內容背景中對本發明之實施例的使用，但應瞭解，本發明可用於其他應用(例如，壓印微影)中，且在內容背景允許時不限於光學微影。在壓印微影中，圖案化器件中之構形(topography)界定創製於基板上之圖案。可將圖案化器件之構形壓入被供應至基板之抗蝕劑層中，在基板上，抗蝕劑係藉由施加電磁輻射、熱、壓力或其組合而固化。在抗蝕劑固化之後，將圖案化器件移出抗蝕劑，從而在其中留下圖案。
本文中所使用之術語「輻射」及「光束」涵蓋所有類型之電磁輻射，包括紫外線(UV)輻射(例如，具有為或為約365奈米、248奈米、193奈米、157奈米或126奈米之波長)及極紫外線(EUV)輻射(例如，具有在為5奈米至20奈米之範圍內的波長)；以及粒子束(諸如，離子束或電子束)。
術語「透鏡」在內容背景允許時可指代各種類型之光學組件中任一者或其組合，包括折射、反射、磁性、電磁及靜電光學組件。
雖然上文已描述本發明之特定實施例，但應瞭解，可以與所描述之方式不同的其他方式來實踐本發明。舉例而言，本發明可採取如下形式：電腦程式，該電腦程式含有描述如上文所揭示之方法的機器可讀指令之一或多個序列；或資料儲存媒體(例如，半導體記憶體、磁碟或光碟)，該資料儲存媒體具有儲存於其中之此電腦程式。
以上描述意欲為說明性而非限制性的。因此，對於熟習此項技術者將顯而易見，可在不脫離下文所闡明之申請專利範圍之範疇的情況下對所描述之本發明進行修改。
1‧‧‧彈簧片
2‧‧‧矩形的面板形本體
3‧‧‧中部部件
4‧‧‧側面部件
5‧‧‧中間部件
6‧‧‧第一安裝部位
7‧‧‧第二安裝部位
8‧‧‧第一直線凹槽
9‧‧‧第二直線凹槽
21‧‧‧彈簧片
22‧‧‧矩形的面板形本體
23‧‧‧中心部件
24‧‧‧框架
25‧‧‧輪輻元件
26‧‧‧第一安裝部位
27．．．第二安裝部位
28．．．徑向狹縫
29．．．內部切線方向凹槽
30．．．外部切線方向凹槽
A-A．．．線
AD．．．調整器
AY．．．磁軛/致動器軛
B．．．輻射光束
B-B．．．線
BD．．．光束遞送系統
C．．．目標部分
C-C．．．線
CO．．．聚光器
IF．．．位置感測器
IL．．．照明系統/照明器
IN．．．積光器
LS．．．彈簧片
M1．．．圖案化器件對準標記
M2．．．圖案化器件對準標記
MA．．．圖案化器件
MB．．．鏡面區塊
MT．．．圖案化器件支撐件/光罩支撐結構
P1．．．基板對準標記
P2．．．基板對準標記
PM．．．第一***件
PS．．．投影系統
PW．．．第二***件/第二***
PWA．．．短衝程致動器
SO．．．輻射源
W．．．基板
WT．．．基板台
圖1描繪根據本發明之一實施例的微影裝置；圖2示意性地描繪根據本發明之一實施例的彈簧片之第一實施例；圖3描繪沿著圖2中之線A-A的橫截面；圖4示意性地描繪根據本發明之一實施例的彈簧片之第二實施例；圖5描繪沿著圖4中之線B-B的橫截面；及圖6描繪沿著圖4中之線C-C的橫截面。
AD．．．調整器
AY．．．磁軛/致動器軛
B．．．輻射光束
BD．．．光束遞送系統
C．．．目標部分
CO．．．聚光器
IF．．．位置感測器
IL．．．照明系統/照明器
IN．．．積光器
LS．．．彈簧片
M1．．．圖案化器件對準標記
M2．．．圖案化器件對準標記
MA．．．圖案化器件
MB．．．鏡面區塊
MT．．．圖案化器件支撐件/光罩支撐結構
P1．．．基板對準標記
P2．．．基板對準標記
PM．．．第一***件
PS．．．投影系統
PW．．．第二***件/第二***
PWA．．．短衝程致動器
SO．．．輻射源
W．．．基板
WT．．．基板台

Claims (15)

  1. 一種彈簧片，其經組態以安裝於兩個物件之間，且具有在兩個正交方向上之一高硬度(stiffness)，及在其他自由度上之一相對低硬度，該彈簧片具有一實質上面板形(panel-shaped)本體，該彈簧片包含：一第一安裝部位，其在該面板形本體之一中心處或附近以將該彈簧片安裝至該兩個物件中之一第一物件；一或多個第二安裝部位，其在該面板形本體之一圓周處或其附近以將該彈簧片安裝至該兩個物件中之一第二物件；及狹長凹槽及/或狹縫，其在該面板形本體中配置於該第一安裝部位與該第二安裝部位之間，該等凹槽及/或狹縫在該兩個正交方向之平面中延行(running)於至少兩個非正交方向上。
  2. 如請求項1之彈簧片，其中該等狹長凹槽及/或狹縫係直線的。
  3. 如請求項1之彈簧片，其中該面板形本體具有一矩形形狀，其中具有矩形形狀之該面板形本體之一中部部件界定該第一安裝部位，其中在該本體之對置側面處的兩個側面部件界定第二安裝部位，且其中一第一中間部件及一第二中間部件提供於該中部部件與該等各別對置側面部件之間。
  4. 如請求項3之彈簧片，其中第一直線凹槽配置於該中部部件與每一中間部件之間及該等中間部件與該等側面部 件之間，其中該等直線凹槽彼此平行地延行，且其中第二直線凹槽以非平行且非垂直於第一直線凹槽之一方向的一角度配置於每一中間部件上。
  5. 如請求項4之彈簧片，其中該等第二直線凹槽各自在該等中間部件中之一者上自在該側面部件與該中間部件之間的該第一直線凹槽之一末端延行至在該中間部件與該中部部件之間的該第一直線凹槽之一末端，其中在該側面部件與該中間部件之間的該第一直線凹槽之該末端及在該中間部件與該中部部件之間的該第一直線凹槽之該末端配置於該本體之對置側面處。
  6. 如請求項1之彈簧片，其中該等凹槽形成相對於該第一安裝部位徑向地延伸之輪輻元件。
  7. 如請求項6之彈簧片，其中該等輪輻元件中每一者之一圓周係藉由兩個直線凹槽或狹縫界定，且兩個另外凹槽或狹縫以兩個不同徑向距離相對於該第一安裝部分實質上沿切線方向延伸。
  8. 如請求項6之彈簧片，其中該彈簧片包含至少十二個輪輻元件。
  9. 如請求項6之彈簧片，其中該等輪輻元件圍繞該第一安裝部位被實質上劃分遍及360度。
  10. 如請求項6之彈簧片，其中該或該等第二安裝部位圍繞該本體之該圓周而延伸。
  11. 一種置物台系統，其包含一第一置物台部件及一第二置物台部件，其中該第一置物台部件係用如請求項1之一 或多個彈簧片而安裝於該第二置物台部件上，其中該第一置物台部件連接至每一彈簧片之該第一安裝部位，且其中該一或多個第二安裝部位連接至該第二置物台部件。
  12. 如請求項11之置物台系統，其中該置物台系統包含在該第一置物台部件與該第二置物台部件之間的三個彈簧片，其中該三個彈簧片安裝於三個不同定向上，從而引起在確切六個自由度上該第一置物台部件與該第二置物台部件之間的一硬安裝。
  13. 如請求項11之置物台系統，其中該第一置物台部件為一鏡面區塊，且該第二置物台部件為該置物台之一馬達之部件。
  14. 如請求項13之置物台系統，其中該第一安裝部位經組態以用於至該第一置物台部件之一螺釘或類螺釘連接，且其中該一或多個第二安裝部位經組態以用於至該第二置物台部件之一膠黏劑連接。
  15. 一種微影裝置，其包含：一照明系統，其經組態以調節一輻射光束；一支撐件，其經建構以支撐一圖案化器件，該圖案化器件能夠在該輻射光束之橫截面中向該輻射光束賦予一圖案以形成一經圖案化輻射光束；一基板台，其經建構以固持一基板；及一投影系統，其經組態以將該經圖案化輻射光束投影至該基板之一目標部分上，其中該微影裝置包含如請求項12之一置物台系統。
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