TWI460554B - 光罩總成、微影裝置、微影處理中之用途及於微影處理之單一掃描移動中投影二或多個影像場之方法 - Google Patents

光罩總成、微影裝置、微影處理中之用途及於微影處理之單一掃描移動中投影二或多個影像場之方法 Download PDF

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Description

光罩總成、微影裝置、微影處理中之用途及於微影處理之單一掃描移動中投影二或多個影像場之方法
本發明係關於一種光罩總成、一種微影裝置、一種第一光罩及第二光罩在微影處理中之用途，及一種於微影處理中之單一掃描移動中投影二或多個影像場之方法。
微影裝置為將所要圖案施加至基板上(通常施加至基板之目標部分上)之機器。微影裝置可用於(例如)積體電路(IC)之製造中。在此狀況下，圖案化器件(其或者被稱作光罩或比例光罩)可用以產生待形成於IC之個別層上之電路圖案。可將此圖案轉印至基板(例如，矽晶圓)上之目標部分(例如，包括晶粒之部分、一個晶粒或若干晶粒)上。通常經由成像至提供於基板上之輻射敏感材料(抗蝕劑)層上而進行圖案之轉印。一般而言，單一基板將含有經順次地圖案化之鄰近目標部分之網路。習知微影裝置包括：所謂步進器，其中藉由一次性將整個圖案曝光至目標部分上來輻照每一目標部分；及所謂掃描器，其中藉由在給定方向(「掃描」方向)上經由輻射光束而掃描圖案同時平行或反平行於此方向而同步地掃描基板來輻照每一目標部分。亦有可能藉由將圖案壓印至基板上而將圖案自圖案化器件轉印至基板。
為了儘可能有效率地使用微影裝置，需要達成微影裝置之高產出率，使得大量基板可由微影裝置在短時間內處理。
在掃描型微影裝置之掃描模式中，基板台橫越投影系統以基板台掃描移動(亦即，具有實質上恆定速率之移動)而移動。在基板台之掃描移動的同時，支撐圖案化器件之支撐件亦橫越投影系統以掃描移動(亦即，具有實質上恆定速率之移動)被掃描以在微影裝置之輻射光束中賦予圖案。因為在投影期間圖案化器件之支撐件自開始位置移動至結束位置，所以在圖案化器件支撐件準備好在相同方向上之新掃描移動之前必須使圖案化器件支撐件移動回至開始位置。
因此，微影裝置可經組態以遍及基板產生基板台掃描移動之曲折圖案。圖案化器件支撐件之後續掃描移動接著可在相對方向上，此係因為後續基板掃描移動之方向亦係在相對方向上。對於每一基板台掃描移動，基板台必須減速及加速以獲得所要速率及方向。至實質上恆定速率之此減速及後續加速會花費大量時間。
在此減速及加速時間期間，微影裝置不能用於基板上之影像場曝光，此情形對微影裝置之產出率有負面影響。因為愈來愈需要增加微影裝置之產出率，所以需要可更有效率地執行基板上之目標部分曝光。
一可能解決方案將係使用可包含數個影像場之較大光罩以曝光基板上之多個目標部分。然而，實務上，實質上增加光罩之大小而同時維持光罩之相同規格的可能性受到限制。
需要改良一微影裝置中之掃描移動效率。
根據本發明之一實施例，提供一種供一微影處理中使用之光罩總成，在該微影處理中，將一第一影像場及一第二影像場投影至一基板上之一第一目標部分及一第二目標部分上，該光罩總成經配置以固持具有該第一影像場之一第一光罩及具有該第二影像場之一第二光罩，使得該第一影像場與該第二影像場之間的一距離對應於該第一目標部分與該第二目標部分之間的一距離。
根據本發明之一實施例，提供一種微影裝置，該微影裝置包含一光罩總成。
根據本發明之一實施例，提供一種具有一第一影像場之一第一光罩及具有一第二影像場之一第二光罩在一微影處理中之用途，在該微影處理中，將該第一影像場及該第二影像場投影至一基板上之一第一目標部分及一第二部分上，其中該第一影像場與該第二影像場之間的一距離對應於該第一目標部分與該第二目標部分之間的一距離。
根據本發明之一實施例，提供一種於一微影處理之一單一掃描移動中將二或多個影像場投影於一基板上之一第一目標部分及第二目標部分上之方法，該方法包含如下步驟：提供具有該第一影像場之一第一光罩及具有該第二影像場之一第二光罩；在該第一影像場與該第二影像場之間提供一距離，該距離對應於該第一目標部分與該第二目標部分之間的一距離。
現在將參看隨附示意性圖式而僅藉由實例來描述本發明之實施例，在該等圖式中，對應元件符號指示對應零件。
圖1示意性地描繪根據本發明之一實施例的微影裝置。該裝置包括：照明系統(照明器)IL，其經組態以調節輻射光束B(例如，UV輻射或任何其他合適輻射)；支撐結構或圖案化器件支撐件(例如，光罩台)MT，其經建構以支撐圖案化器件(例如，光罩)MA且連接至經組態以根據某些參數來準確地定位該圖案化器件之第一***件PM。該裝置亦包括基板台(例如，晶圓台)WT或「基板支撐件」，其經建構以固持基板(例如，抗蝕劑塗佈晶圓)W，且連接至經組態以根據某些參數來準確地定位該基板之第二***件PW。該裝置進一步包括投影系統(例如，折射投影透鏡系統)PS，其經組態以將由圖案化器件MA賦予至輻射光束B之圖案投影至基板W之目標部分C(例如，包括一或多個晶粒)上。
照明系統可包括用於引導、塑形或控制輻射的各種類型之光學部件，諸如，折射、反射、磁性、電磁、靜電或其他類型之光學部件，或其任何組合。
支撐結構以取決於圖案化器件之定向、微影裝置之設計及其他條件(諸如，圖案化器件是否被固持於真空環境中)的方式來固持圖案化器件。支撐結構可使用機械、真空、靜電或其他夾持技術以固持圖案化器件。支撐結構可為(例如)框架或台，其可根據需要而固定或可移動。支撐結構可確保圖案化器件(例如)相對於投影系統處於所要位 置。可認為本文對術語「比例光罩」或「光罩」之任何使用皆與更通用之術語「圖案化器件」同義。
本文所使用之術語「圖案化器件」應被廣泛地解釋為指代可用以在輻射光束之橫截面中向輻射光束賦予圖案以便在基板之目標部分中創製圖案的任何器件。應注意，舉例而言，若被賦予至輻射光束之圖案包括相移特徵或所謂輔助特徵，則該圖案可能不會確切地對應於基板之目標部分中之所要圖案。通常，被賦予至輻射光束之圖案將對應於目標部分中所創製之器件(諸如，積體電路)中之特定功能層。
圖案化器件可為透射的或反射的。圖案化器件之實例包括光罩、可程式化鏡面陣列，及可程式化LCD面板。光罩在微影中為吾人所熟知，且包括諸如二元、交變相移及衰減相移之光罩類型，以及各種混合光罩類型。可程式化鏡面陣列之一實例使用小鏡面之矩陣配置，該等小鏡面中每一者可個別地傾斜，以便在不同方向上反射入射輻射光束。傾斜鏡面在由鏡面矩陣反射之輻射光束中賦予圖案。
本文所使用之術語「投影系統」應被廣泛地解釋為涵蓋適於所使用之曝光輻射或適於諸如浸潤液體之使用或真空之使用之其他因素的任何類型之投影系統，包括折射、反射、反射折射、磁性、電磁及靜電光學系統，或其任何組合。可認為本文對術語「投影透鏡」之任何使用皆與更通用之術語「投影系統」同義。
如此處所描繪，裝置為透射類型(例如，使用透射光 罩)。或者，裝置可為反射類型(例如，使用上文所提及之類型之可程式化鏡面陣列，或使用反射光罩)。
微影裝置可為具有二(雙載物台)或多個基板台或「基板支撐件」(及/或二或多個光罩台或「光罩支撐件」)之類型。在此等「多載物台」機器中，可並行地使用額外台或支撐件，或可在一或多個台或支撐件上進行預備步驟，同時將一或多個其他台或支撐件用於曝光。
微影裝置亦可為如下類型：其中基板之至少一部分可由具有相對高折射率之液體(例如，水)覆蓋，以便填充投影系統與基板之間的空間。亦可將浸潤液體施加於微影裝置中之其他空間，例如，圖案化器件(例如，光罩)與投影系統之間的空間。浸潤技術可用以增加投影系統之數值孔徑。本文所使用之術語「浸潤」不意謂諸如基板之結構必須浸沒於液體中，而是僅意謂液體在曝光期間位於投影系統與基板之間。
參看圖1，照明器IL自輻射源SO接收輻射光束。舉例而言，當輻射源為準分子雷射時，輻射源及微影裝置可為分離實體。在此等狀況下，不認為輻射源形成微影裝置之零件，且輻射光束係憑藉包括(例如)合適引導鏡面及/或光束擴展器之光束遞送系統BD而自輻射源SO傳遞至照明器IL。在其他狀況下，舉例而言，當輻射源為水銀燈時，輻射源可為微影裝置之整體零件。輻射源SO及照明器IL連同光束遞送系統BD(在需要時)可被稱作輻射系統。
照明器IL可包括經組態以調整輻射光束之角強度分佈之 調整器AD。通常，可調整照明器之光瞳平面中之強度分佈的至少外部徑向範圍及/或內部徑向範圍(通常分別被稱作σ外部及σ內部)。另外，照明器IL可包括各種其他部件，諸如，積光器IN及聚光器CO。照明器可用以調節輻射光束，以在其橫截面中具有所要均一性及強度分佈。
輻射光束B入射於被固持於支撐結構(例如，光罩台)MT上之圖案化器件(例如，光罩)MA上，且係由該圖案化器件圖案化。在已橫穿圖案化器件(例如，光罩)MA的情況下，輻射光束B傳遞通過投影系統PS，投影系統PS將該光束聚焦至基板W之目標部分C上。憑藉第二***件PW及位置感測器IF(例如，干涉量測器件、線性編碼器或電容性感測器)，可準確地移動基板台WT，例如，以便使不同目標部分C定位於輻射光束B之路徑中。相似地，第一***件PM及另一位置感測器(其未在圖1中被明確地描繪)可用以(例如)在自光罩庫之機械擷取之後或在掃描期間相對於輻射光束B之路徑來準確地定位圖案化器件(例如，光罩)MA。一般而言，可憑藉形成第一***件PM之零件之長衝程模組(粗略定位)及短衝程模組(精細定位)來實現支撐結構(例如，光罩台)MT之移動。相似地，可使用形成第二***PW之零件之長衝程模組及短衝程模組來實現基板台WT或「基板支撐件」之移動。在步進器(相對於掃描器)之狀況下，光罩台MT可僅連接至短衝程致動器，或可固定。可使用光罩對準標記M1、M2及基板對準標記P1、P2來對準圖案化器件(例如，光罩)MA及基板W。儘管所說 明之基板對準標記佔據專用目標部分，但該等標記可位於目標部分之間的空間中(此等標記被稱為切割道對準標記)。相似地，在一個以上晶粒提供於圖案化器件(例如，光罩)MA上之情形中，圖案化器件對準標記可位於該等晶粒之間。
所描繪裝置可用於以下模式中至少一者中：
1.在步進模式中，在將被賦予至輻射光束之整個圖案一次性投影至目標部分C上時，使支撐結構(例如，光罩台)MT或「光罩支撐件」及基板台WT或「基板支撐件」保持基本上靜止(亦即，單次靜態曝光)。接著，使基板台WT或「基板支撐件」在X及/或Y方向上移位，使得可曝光不同目標部分C。在步進模式中，曝光場之最大大小限制單次靜態曝光中所成像之目標部分C之大小。
2.在掃描模式中，在將被賦予至輻射光束之圖案投影至目標部分C上時，同步地掃描支撐結構(例如，光罩台)MT或「光罩支撐件」及基板台WT或「基板支撐件」(亦即，單次動態曝光)。可藉由投影系統PS之放大率(縮小率)及影像反轉特性來判定基板台WT或「基板支撐件」相對於支撐結構(例如，光罩台)MT或「光罩支撐件」之速度及方向。在掃描模式中，曝光場之最大大小限制單次動態曝光中之目標部分之寬度(在非掃描方向上)，而掃描運動之長度判定目標部分之高度(在掃描方向上)。
3.在另一模式中，在將被賦予至輻射光束之圖案投影至目標部分C上時，使支撐結構(例如，光罩台)MT或「光罩 支撐件」保持基本上靜止，從而固持可程式化圖案化器件，且移動或掃描基板台WT或「基板支撐件」。在此模式中，通常使用脈衝式輻射源，且在基板台WT或「基板支撐件」之每一移動之後或在一掃描期間之順次輻射脈衝之間根據需要而更新可程式化圖案化器件。此操作模式可易於應用於利用可程式化圖案化器件(諸如，上文所提及之類型之可程式化鏡面陣列)之無光罩微影。
亦可使用對上文所描述之使用模式之組合及/或變化或完全不同之使用模式。
在微影裝置之掃描模式中，基板台WT橫越投影系統PS以基板台掃描移動(亦即，在掃描方向(在此狀況下，y方向)上具有實質上恆定速率之移動)而移動。在基板台WT之基板台掃描移動期間，支撐光罩MA之支撐件或支撐結構MT亦橫越投影系統PS以掃描移動(亦即，具有實質上恆定速率之移動)被掃描以在微影裝置之輻射光束B中賦予圖案。此掃描移動亦係在掃描方向上進行。
在圖1所示之微影裝置中，基板台掃描移動及光罩支撐件之掃描移動相對，亦即，在正y方向及負y方向上。在一替代實施例中，該等移動可平行；亦即，兩者皆在正y方向或負y方向上。
在此經圖案化輻射光束B之投影期間，光罩MA之支撐件MT自開始位置移動至結束位置。為了在同一基板台掃描移動期間使經圖案化輻射光束B在基板W上之後續投影成為可能，在支撐件(例如，光罩支撐件)MT準備好在相同方 向上之新掃描移動之前必須使光罩支撐件MT移動回至開始位置。
因此，微影裝置可經組態以遍及基板W產生基板台掃描移動之曲折圖案。光罩支撐件MT之後續掃描移動接著可在相對方向上，此係因為後續基板台掃描移動之方向亦係在相對方向上。然而，對於每一基板台掃描移動，基板台WT必須減速及加速以獲得所要速率及方向。至實質上恆定速率之此減速及加速會花費大量時間。
圖2中展示基板台掃描移動之曲折掃描圖案。
基板W相對於投影系統PS以由箭頭指示之基板台掃描移動而移動。在正Y方向上之此基板台掃描移動期間，經圖案化輻射光束B投影於第一目標部分D上。當目標部分D之曝光完成時，使基板台WT減速、在X方向上移動遍及目標部分之列之距離及加速至高達掃描速率以在負Y方向上執行第二掃描移動，以將經圖案化輻射光束B曝光於第二目標部分D上。在第二目標部分D之曝光已完成之後，再次使基板台WT減速、在X方向上移動及加速至高達掃描速率以在正Y方向上執行第三掃描移動，以將經圖案化輻射光束B曝光於第三目標部分D上。可重複此圖案直至經圖案化輻射光束B已曝光於需要曝光的基板之所有目標部分D上為止。
在經圖案化輻射光束B於目標部分D上之投影期間，光罩支撐件MT以掃描移動而自開始位置移動至結束位置。減速、在X方向上之移動及基板台WT之加速所需要的時間 必須用以使光罩支撐件MT減速，且使其在相對方向上加速至高達掃描移動之所要實質上恆定掃描速率。
基板台WT及光罩支撐件MT之減速及加速所需的時間不能用於圖案在目標部分D上之實際投影。
圖3及圖4展示包含經組態以支撐固持器H之光罩支撐件MT之光罩總成。固持器H經組態以固持第一光罩MA1及第二光罩MA2。第一光罩MA1包含第一影像場I1，且第二光罩MA2包含第二影像場I2。第一影像場I1及第二影像場I2為用以創製經圖案化投影光束B以曝光於目標部分D上之圖案。第一影像場I1及第二影像場I2可具有相同圖案或不同圖案。
固持器H經設計成將第一光罩MA1及第二光罩MA2固持成彼此鄰近且相對於彼此而對準。
固持器H可包含第一致動器A1集合以相對於固持器H來定位第一光罩MA1且與此相對於第二光罩MA2來定位第一光罩MA1。固持器H可將第二光罩MA2固持於固定位置中。在一替代實施例中，固持器H可包含第二致動器集合以相對於固持器H來定位第二光罩MA2。又，也許有可能提供經組態以將第一光罩MA1及第二光罩MA2固持於對準位置中之固持器H。第一光罩MA1及第二光罩MA2之定位可由其他器件(例如，對準器件中之***件)執行。
致動器A1集合中之致動器可為任何合適類型，諸如，壓電、電磁或靜電致動器。在一實施例中，該等致動器經定位及組態以在六個自由度中定位光罩。固持器H可包含能 夠將各別光罩固持於所要位置中之任何器件，例如，夾持件，諸如，真空、磁性或靜電夾持件。
第一光罩MA1及第二光罩MA2係藉由對準器件中之對準處理相對於彼此而對準。對準器件可為分離對準器件或可為微影裝置之零件。
在本申請案中，第一光罩MA1及第二光罩MA2相對於彼此之對準意謂：第一光罩MA1及第二光罩MA2之影像場實質上配置於同一平面中及相同定向上，就好像該等影像場配置於單一光罩表面上一樣。
對準器件包含一或多個對準感測器，例如，TIS感測器，其經組態以藉由讀取提供於第一光罩MA1及第二光罩MA2中每一者上之對準標記M來判定第一光罩MA1及第二光罩MA2之位置。當知道第一光罩MA1相對於第二光罩MA2之相對位置時，可使用致動器A1集合以調適第一光罩MA1相對於第二光罩MA2之位置，使得第一光罩MA1及第二光罩MA2相對於彼此適當地對準。
當固持器H已經裝載於光罩支撐件MT上時，或在固持器H裝載於光罩支撐件MT上之前，可執行對準處理。在後者狀況下，可在經調節環境中執行對準，且可在裝載固持經對準之第一光罩MA1及第二光罩MA2之固持器之後直接開始微影處理。
在一實施例中，在六個自由度中執行對準。
第一光罩MA1及第二光罩MA2可經配置成彼此鄰近，使得第一影像場與第二影像場之間的距離除以光罩支撐件之 掃描速率對應於基板上之二個目標部分D之間的距離除以基板台之掃描速率，亦即，在微影處理中橋接第一影像場與第二影像場之間的距離所需要之時間係與橋接第一目標部分與後續目標部分之間的距離所需要之時間相同，且此時，光罩支撐件及基板台以其各別掃描速率而移動。可能難以生產具有延伸至光罩之邊緣之影像場的該光罩。常常，將存在環繞影像場的光罩之部分，該部分不具有影像場。當第一光罩MA1及第二光罩MA2之影像場之間的距離對應於第一目標部分與第二目標部分之間的距離時，將無影像投影於該等目標部分之間。此情形可改良微影裝置之效率。
當在掃描移動期間基板台之掃描速率為光罩支撐件之掃描速率的四倍時，分別在第一光罩MA1及第二光罩MA2上之第一影像場I1與第二影像場I2之間的距離在基板上之二個鄰近目標部分之間的距離為1毫米時為(例如)0.25毫米。
在第一光罩及第二光罩之鄰近邊緣之間，可存在間隙G。為了避免光傳遞通過此間隙G且不理想地到達基板W，光罩總成可包含遍及間隙G而置放的由不透明材料製成之覆蓋元件SE。該覆蓋元件可為條帶元件。覆蓋元件SE亦可防止由光罩MA1、MA2之邊緣造成之散射問題。覆蓋元件SE可覆蓋在第一影像場I1與第二影像場I2之間的第一光罩MA1及第二光罩MA2中至少一者之部分。亦可應用避免光通過間隙G之任何其他器件。
作為一替代例，用以將投影光束限制至用於投影之所要 投影窗的微影裝置之光罩遮蔽器件(REMA)亦可用以在間隙G於掃描移動期間通過投影窗時阻擋投影光束。然而，應注意，在掃描移動期間橋接第一影像場I1與第二影像場I2之間的距離之有限時間可能不足以暫時封閉光罩遮蔽器件以阻擋投影光束。
在一些實施例中，也許有可能將第一光罩MA1及第二光罩MA2置放成彼此相抵靠，使得在第一光罩MA1與第二光罩MA2之間實質上無間隙G。在此實施例中，第一影像場I1及第二影像場I2可形成可用以曝光基板上之單一大目標部分之實質上連續影像場。在此實施例中，可不需要光阻擋器件。
實質上配置於同一平面中且相對於彼此而對準的第一光罩MA1及第二光罩MA2之組合提供相當於包含第一影像場I1及第二影像場I2之單一大光罩之光罩總成。
第一光罩及第二光罩中每一者之大小可(例如)為約6吋乘6吋(152毫米乘152毫米)，使得第一光罩及第二光罩之總成形成約6吋乘12吋(152毫米乘305毫米)之光罩。
根據本發明之一實施例的光罩總成可用於基板之掃描移動之更有效率圖案，此係因為：在單一掃描移動中，二個後續目標部分可由第一光罩及第二光罩之組合曝光。
第一光罩MA1與第二光罩MA1之間的對準理想地具有相對高準確度。若在對準之後偵測到相對小殘餘未對準，則可使第一光罩MA1及第二光罩MA2重新對準。作為一替代解決方案，基板台WT之***件可經組態以在實際投影 處理中之掃描移動期間校正殘餘未對準。
圖5展示根據本發明之一實施例的可用光罩總成進行之基板台掃描移動之更有效率掃描圖案。
基板W相對於投影系統PS以由箭頭指示之基板台掃描移動而移動。在正Y方向上之此基板台掃描移動期間，由第一影像場I1圖案化之光束B投影於第一目標部分上，且由第二影像場I2圖案化之光束投影於第二目標部分D上。僅當第二目標部分D之曝光完成時，才使基板台WT減速、在X方向上移動遍及目標部分之列之距離及加速至高達掃描速率以在負Y方向上執行第二掃描移動，以將經圖案化輻射光束B再次曝光於第三目標部分D及第四目標部分D上。在第三目標部分D及第四目標部分D之曝光已完成之後，再次使基板台WT減速、在X方向上移動及加速至高達掃描速率以在正Y方向上執行第三掃描移動，以將經圖案化輻射光束B曝光於第五目標部分D及第六目標部分D上。可重複此移動圖案直至所有經圖案化輻射光束B已曝光於需要曝光的基板之所有目標部分D上為止。
在經圖案化輻射光束B於第一目標部分D及第二目標部分D上之投影期間，光罩支撐件MT以掃描移動而自開始位置移動至結束位置。因此，僅在經圖案化輻射光束於二個目標部分上之投影之後，才需要使光罩支撐件MT及光罩台支撐件WT減速及在相對方向上加速至掃描速率。此掃描圖案可實質上增加微影裝置之產出率。
圖6及圖7展示根據本發明之一實施例的光罩總成之替代 實施例。光罩支撐件MT包含用以固持第一光罩之第一固持器HU1及用以固持第二光罩之第二固持器HU2。第一固持器HU1及第二固持器HU1經設計成將第一光罩及第二光罩固持成彼此鄰近且固持於對準位置中。由不透明材料製成之覆蓋元件SE配置於第一光罩MA1與第二光罩MA2之間的間隙G上以防止光可傳遞通過間隙G。
在所示實施例中，第一固持器HU1及第二固持器HU2各自包含一致動器A集合以將第一光罩MA1及第二光罩MA2定位於所要相對位置中，例如，在一實施例中，在六個自由度中定位第一光罩MA1及第二光罩MA2。作為一替代例，固持器HU1、HU2中之一者或此兩者直接固持各別光罩MA1、MA2。第一光罩MA1及第二光罩MA2可分別分離地裝載於第一固持器HU1及第二固持器HU2中。
當第一光罩MA1及第二光罩MA2分別裝載於第一固持器HU1及第二固持器HU2上時，第一光罩MA1及第二光罩MA2可相對於彼此而對準。可使用所得光罩總成，如上文關於圖4及圖5之實施例所描述。
圖8展示包含將三個光罩MA固持於鄰近且對準之位置中之固持器H的光罩總成。每一光罩MA包含一影像場I及數個對準標記M。固持器H包含致動器A以將光罩定位及固持於對準位置中。作為一替代例，致動器A可由經組態以將光罩MA固持於對準位置中之固定安裝件替換。
在圖8所示之固持器H的情況下，三個光罩MA之三個場影像I可在單一掃描移動中投影於基板上，此情形可進一 步改良微影裝置之產出率。
固持器HU1及HU2中或固持器H中之致動器A可為任何合適類型，諸如，壓電、電磁或靜電致動器。固持器H可包含能夠將各別光罩固持於所要位置中之任何器件，例如，夾持件，諸如，真空、磁性或靜電夾持件。
圖9展示包含將第一光罩MA1及第二光罩MA2固持於實質上同一平面中之固持器H之光罩總成的另一實施例。光罩MA1、MA2配置於實質上同一平面中且相對於彼此而對準，但相比於圖3、圖4、圖6、圖7及圖8之實施例而配置成相對於彼此相隔較大距離。
固持器H可經組態以配置於單一光罩支撐件上。在一替代實施例中，光罩支撐件可包含用以固持第一光罩及第二光罩之第一固持器H及第二固持器H。
固持器H可包含致動器A以將第一光罩MA1及第二光罩MA2定位於所要對準位置中。在一實施例中，致動器經配置以在六個自由度中定位第一光罩及/或第二光罩。作為一替代例，可提供固持器H以固持第一光罩及第二光罩。
第一影像場與第二影像場之間的距離經組態以在單一掃描移動期間將第一影像場投影於第一目標部分上且將第二影像場投影於第二目標部分上，藉以，第三目標部分配置於第一目標部分與第二目標部分之間。圖10中展示此掃描圖案。亦可施加任何其他合適掃描圖案。
因此，第一影像場I1與第二影像場I2之間的距離實質上對應於在相同方向上之二個切割道及一影像場。或換言 之，第一光罩MA1及第二光罩MA2經配置成相隔相互距離，使得第一影像場I1與第二影像場I2之間的距離除以光罩支撐件之掃描速率對應於二個目標部分之間的距離(其中在該二個目標部分之間具有一個目標部分)除以基板台之掃描速率。
在替代實施例中，第一影像場與第二影像場之間的距離可為二或多個影像場及三或多個切割道，亦即，對應於跳過第一經投影目標部分與第二經投影目標部分之間的二或多個目標部分之距離。亦可施加第一光罩與第二光罩之間的任何其他合適距離。
為了避免在單一掃描移動期間光傳遞通過第一光罩MA1與第二光罩MA2之間的空間，可阻擋該光。出於此原因，可提供由不透明材料製成之元件以覆蓋該空間，或作為一替代例，可封閉光罩遮蔽器件以阻擋投影光束。亦可應用阻擋投影光束之任何其他方法。
固持器HU1及HU2中或固持器H中之致動器A可為任何合適類型，諸如，壓電、電磁或靜電致動器。固持器H可包含能夠將各別光罩固持於所要位置中之任何器件，例如，夾持件，諸如，真空、磁性或靜電夾持件。
儘管在本文中可特定地參考微影裝置在IC製造中之使用，但應理解，本文所描述之微影裝置可具有其他應用，諸如，製造整合式光學系統、用於磁疇記憶體之導引及偵測圖案、平板顯示器、液晶顯示器(LCD)、薄膜磁頭，等等。熟習此項技術者應瞭解，在此等替代應用之內容背景 中，可認為本文對術語「晶圓」或「晶粒」之任何使用分別與更通用之術語「基板」或「目標部分」同義。可在曝光之前或之後在(例如)塗佈顯影系統(通常將抗蝕劑層施加至基板且顯影經曝光抗蝕劑之工具)、度量衡工具及/或檢測工具中處理本文所提及之基板。適用時，可將本文之揭示內容應用於此等及其他基板處理工具。另外，可將基板處理一次以上，例如，以便創製多層IC，使得本文所使用之術語「基板」亦可指代已經含有多個經處理層之基板。
儘管上文可特定地參考在光學微影之內容背景中對本發明之實施例之使用，但應瞭解，本發明可用於其他應用(例如，壓印微影)中，且在內容背景允許時不限於光學微影。在壓印微影中，圖案化器件中之構形(topography)界定創製於基板上之圖案。可將圖案化器件之構形壓入被供應至基板之抗蝕劑層中，在基板上，抗蝕劑係藉由施加電磁輻射、熱、壓力或其組合而固化。在抗蝕劑固化之後，將圖案化器件移出抗蝕劑，從而在其中留下圖案。
本文所使用之術語「輻射」及「光束」涵蓋所有類型之電磁輻射，包括紫外線(UV)輻射(例如，具有為或為約365奈米、248奈米、193奈米、157奈米或126奈米之波長)及極紫外線(EUV)輻射(例如，具有在5奈米至20奈米之範圍內之波長)，以及粒子束(諸如，離子束或電子束)。
術語「透鏡」在內容背景允許時可指代各種類型之光學部件中任一者或其組合，包括折射、反射、磁性、電磁及靜電光學部件。
雖然上文已描述本發明之特定實施例，但應瞭解，可以與所描述之方式不同的其他方式來實踐本發明。舉例而言，本發明可採取如下形式：電腦程式，其含有描述如上文所揭示之方法的機器可讀指令之一或多個序列；或資料儲存媒體(例如，半導體記憶體、磁碟或光碟)，其具有儲存於其中之此電腦程式。
以上描述意欲為說明性而非限制性的。因此，對於熟習此項技術者將顯而易見，可在不脫離下文所闡明之申請專利範圍之範疇的情況下對所描述之本發明進行修改。
A‧‧‧致動器
A1‧‧‧致動器
AD‧‧‧調整器
B‧‧‧經圖案化輻射光束/經圖案化投影光束
BD‧‧‧光束遞送系統
C‧‧‧目標部分
CO‧‧‧聚光器
D‧‧‧目標部分
G‧‧‧間隙
H‧‧‧固持器
HU1‧‧‧第一固持器
HU2‧‧‧第二固持器
I‧‧‧影像場/場影像
I1‧‧‧第一影響場
I2‧‧‧第二影像場
IF‧‧‧位置感測器
IL‧‧‧照明系統/照明器
IN‧‧‧積光器
M‧‧‧對準標記
M1‧‧‧光罩對準標記
M2‧‧‧光罩對準標記
MA‧‧‧圖案化器件/光罩
MA1‧‧‧第一光罩
MA2‧‧‧第二光罩
MT‧‧‧支撐結構/圖案化器件支撐件/光罩支撐件
P1‧‧‧基板對準標記
P2‧‧‧基板對準標記
PM‧‧‧第一***件
PS‧‧‧投影系統
PW‧‧‧第二***件
SE‧‧‧覆蓋元件
SO‧‧‧輻射源
W‧‧‧基板
WT‧‧‧基板台/光罩台支撐件
圖1描繪根據本發明之一實施例的微影裝置；圖2描繪微影裝置中之基板台之先前技術掃描圖案；圖3描繪根據本發明之一實施例的光罩支撐件及光罩總成之側視圖；圖4描繪圖3之光罩支撐件及光罩總成的俯視圖；圖5描繪根據本發明之一實施例的具有光罩總成之微影裝置中之基板台之可能掃描圖案；圖6描繪根據本發明之一實施例的光罩支撐件及光罩總成之側視圖；圖7描繪圖6之光罩支撐件及光罩總成的俯視圖；及圖8描繪根據本發明之一實施例的光罩總成；圖9描繪根據本發明之一實施例的光罩總成；及圖10描繪根據圖9之實施例的具有光罩總成之微影裝置中之基板台之可能掃描圖案。
AD‧‧‧調整器
B‧‧‧經圖案化輻射光束/經圖案化投影光束
BD‧‧‧光束遞送系統
C‧‧‧目標部分
CO‧‧‧聚光器
IF‧‧‧位置感測器
IL‧‧‧照明系統/照明器
IN‧‧‧積光器
M1‧‧‧光罩對準標記
M2‧‧‧光罩對準標記
MA‧‧‧圖案化器件/光罩
MT‧‧‧支撐結構/圖案化器件支撐件/光罩支撐件
P1‧‧‧基板對準標記
P2‧‧‧基板對準標記
PM‧‧‧第一***件
PS‧‧‧投影系統
PW‧‧‧第二***件
SO‧‧‧輻射源
W‧‧‧基板
WT‧‧‧基板台/光罩台支撐件

Claims (14)

  1. 一種供一微影處理中使用之光罩總成，在該微影處理中，分別將一第一影像場投影至一基板上之一第一目標部分上及將一第二影像場投影至該基板上之一第二目標部分上，該光罩總成經配置以固持具有該第一影像場之一第一光罩及具有該第二影像場之一第二光罩，使得該第一影像場與該第二影像場之間的一距離對應於該第一目標部分與該第二目標部分之間的一另一(further)距離，該光罩總成經配置以將該第一光罩及該第二光罩固持於實質相同之平面。
  2. 如請求項1之光罩總成，其中該光罩總成經配置成使得該光罩總成可用於該微影處理之一單一掃描移動中以隨後將該第一影像場及該第二影像場投影於該第一目標部分及該第二目標部分上。
  3. 如前述請求項中任一項之光罩總成，其中該第一影像場與該第二影像場之間的該距離經組態以在一單一掃描移動期間將該第一影像場投影於該第一目標部分上且將該第二影像場投影於該第二目標部分上，藉以，一第三目標部分配置於該第一目標部分與該第二目標部分之間。
  4. 如請求項1或2之光罩總成，其中該光罩總成包含由不透明材料製成之一覆蓋元件，該覆蓋元件經配置以覆蓋該第一光罩及該第二光罩之鄰近邊緣之間的一間隙以避免光可傳遞通過該間隙。
  5. 如請求項4之光罩總成，其中該覆蓋元件經配置以覆蓋 在該第一影像場與該第二影像場之間的該第一光罩及該第二光罩中至少一者之一部分。
  6. 如請求項1或2之光罩總成，其中該第一影像場與該第二影像場之間的該距離小於5毫米。
  7. 如請求項1或2之光罩總成，其中該光罩總成包含用於固持該第一光罩及該第二光罩之一固持器。
  8. 如請求項7之光罩總成，其包含用於固持該固持器之一光罩支撐件，其中該固持器經配置為裝載於該光罩支撐件上，同時固持該第一光罩及該第二光罩。
  9. 如請求項7之光罩總成，其中該固持器包含經組態以使該第一光罩及該第二光罩中之一者相對於該第一光罩及該第二光罩中之另一者而定位的一致動器集合。
  10. 一種微影裝置，其包含一如前述請求項中任一項之光罩總成。
  11. 如請求項10之微影裝置，其中該微影裝置包含一對準感測器，該對準感測器經組態以量測該第一光罩與該第二光罩之間的一對準。
  12. 如請求項10至11中任一項之微影裝置，其中基板載物台之一***件經組態以校正該第一光罩與該第二光罩之間的一未對準。
  13. 一種包括執行一微影處理之方法，該方法包括：使用具有一第一影像場之一第一光罩及具有一第二影像場之一第二光罩；將該第一影像場投影至一基板上之一第一目標部分上及將該第二影像場投影至該基板上之一第二目 標部分上；該使用之步驟包括：將該第一光罩及該第二光罩固持成彼此鄰近且相對於彼此而對準，使得該第一影像場與該第二影像場之間的一距離對應於該第一目標部分與該第二目標部分之間的另一距離。
  14. 一種使用一光罩總成於一微影處理之一單一掃描移動中將二或多個影像場投影於一基板上之一第一目標部分及第二目標部分上之方法，其包含如下步驟：提供具有該第一影像場之一第一光罩及具有該第二影像場之一第二光罩；在該第一影像場與該第二影像場之間提供一距離，該距離對應於該第一目標部分與該第二目標部分之間的一距離，該光罩總成經配置以將該第一光罩及該第二光罩固持於實質相同之平面。
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