TWI397494B - Substrate lift transfer device and substrate processing transfer system - Google Patents

Description

基板昇降移送裝置及基板處理移送系統

本發明，是有關於清淨搬運(Clean Material Handling)等的領域所使用的基板昇降移送裝置及基板處理移送系統。

在清淨搬運的領域，有使用在被配設在下階樓層的第1基板處理裝置及被配設在上階樓層的第2基板處理裝置之間，進行玻璃基板等的基板的昇降移送的基板昇降移送裝置。一般的基板昇降移送裝置的結構等，是如以下者。

即，在第1基板處理裝置的附近，設有朝上下方向延伸的昇降導引，在此昇降導引中，將基板支撐的昇降載置台是可昇降地被設置。且，在昇降導引的適宜位置中，設有將昇降載置台昇降的昇降用馬達。在此，昇降載置台，是在對應第1基板處理裝置的高度，對於第1基板處理裝置可將基板拉出及送出。且，昇降載置台，是在對應第2基板處理裝置的高度，對於第2基板處理裝置可將基板拉出及送出。

因此，藉由昇降用馬達的驅動使昇降體下降，使昇降體位於對應第1基板處理裝置的高度。接著，基板是從第1基板處理裝置朝昇降載置台被拉出。且，藉由昇降用馬達的驅動使昇降體上昇，使昇降體位於對應第2基板處理裝置的高度。進一步，使基板從昇降載置台朝第2基板處理裝置被送出。

如此，進行從第1基板處理裝置朝第2基板處理裝置的基板的昇降移送。且，藉由使基板昇降移送裝置進行前述動作的相反的動作，進行從前述第2基板處理裝置朝前述第1基板處理裝置的基板的昇降移送。

又，關連於本發明的先行技術，是如下述專利文獻1。

[先行技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本特開平1-318247號公報

但是，在上述的一般的基板昇降移送裝置中，將基板支撐的昇降載置台因為是可昇降地被設置在昇降導引，所以成為將基板保持呈倒伏(水平)姿勢的方式進行昇降。因此，基板昇降移送裝置的占有平面積(設置平面積)是成為需要至少基板一枚分的平面積以上。因此，基板昇降移送裝置的占有平面積增大，工場內空間的有效利用是有困難。特別是，近年來，基板的大型化急速進行，此問題更顯著。

在此，本發明的目的是提供一種新穎構成的基板昇降移送裝置及基板處理移送系統，可以解決前述的問題。

本發明的基板昇降移送裝置，是一種基板昇降移送裝置，是在：被配設在下階供進行對於基板的處理的第1基板處理裝置、及被配設在上階供進行對於在與基板的處理的第2基板處理裝置之間，進行基板的昇降移送，其特徵為，具備：第1姿勢切換構件，在前述第1基板處理裝置的一側朝水平的軸心周圍可擺動地被設置，具備將基板保持用的第1姿勢切換用保持具，將基板的姿勢切換至倒伏姿勢及立起姿勢；及第1姿勢切換用致動器，供將前述第1姿勢切換構件擺動用；及第2姿勢切換構件，在前述第2基板處理裝置的一側朝水平的軸心周圍可擺動地被設置，具備將基板保持的第2姿勢切換用保持具，將基板的姿勢切換至倒伏姿勢及立起姿勢；及第2姿勢切換用致動器，供將前述第2姿勢切換構件擺動用；及環形狀構件，朝上下方向延伸且可循環行走地被設置在被立設於前述第1姿勢切換構件的一側的支撐框架；及行走用致動器，使前述環形狀構件循環行走；及複數昇降用保持具，在周方向隔有間隔被設置在前述環形狀構件，保持立起姿勢的基板。

又，在此，「設置」，是指直接地設置的情況以外，也包含透過介在構件間接地設置的情況。同樣地，「配設」，是指直接地設置的情況以外，也包含透過介在構件間接地設置的情況。且，「基板的處理」，是包含基板的搬運處理、基板的程序處理、基板的保管處理等，在程序處理中包含蝕刻處理、CVD處理、PVD處理等。

依據本發明的基板昇降移送裝置，位於前述第1基板處理裝置的預定位置的基板，是藉由前述第1姿勢切換用保持具被保持。接著，使前述第1姿勢切換用致動器被驅動使前述第1姿勢切換構件被擺動，使基板的姿勢從倒伏姿勢朝立起姿勢切換。且，立起姿勢的基板，是藉由位於對應前述第1基板處理裝置的高度的前述昇降用保持具被保持，使由前述第1姿勢切換用保持具所產生的保持狀態被解除。進一步，使前述行走致動器被驅動使前述環形狀構件朝一方向循環行走，保持在立起姿勢且使基板上昇。前述的動作是藉由被反覆進行，使複數基板從前述第1基板處理裝置朝前述基板昇降移送裝置被送出。

將基板保持的前述昇降用保持具是位於對應前述第2基板處理裝置的高度之後，藉由前述第2姿勢切換用保持具使基板被保持，使由前述昇降用保持具所產生的保持狀態被解除。且，將前述第2姿勢切換用致動器驅動使前述第2姿勢切換構件被擺動，從立起姿勢朝倒伏姿勢切換基板的姿勢，使由前述第2姿勢切換用保持具所產生的保持狀態被解除。前述的動作是藉由被反覆進行，使複數基板從前述基板昇降移送裝置朝前述第2基板處理裝置被送出。

如此，進行從前述第1基板處理裝置朝前述第2基板處理裝置的基板的昇降移送。且，進行藉由前述動作的相反的動作，進行從前述第2基板處理裝置朝前述第1基板處理裝置的基板的昇降移送。

總而言之，在本發明中，因為具有前述第1姿勢切換用保持具的前述第1姿勢切換構件，是朝水平的軸心周圍可擺動地設在前述第1基板處理裝置的一側；具有前述第2姿勢切換用保持具的前述第2姿勢切換構件，是朝水平的軸心周圍可擺動地設在前述第2基板處理裝置的一側；複數前述昇降用保持具，是在周方向隔有間隔被設置在前述環形狀構件，所以如上述，可以將立起姿勢保持且將基板昇降，可以將前述基板昇降移送裝置的占有平面積抑制在基板一枚分的平面積未滿。

且，因為朝上下方向延伸的前述環形狀構件，是可循環行走地設在前述支撐框架；複數前述昇降用保持具，是在周方向隔有間隔被設置在前述環形狀構件，所以可以從前述第1基板處理裝置朝前述第2基板處理裝置，或是從前述第2基板處理裝置朝前述第1基板處理裝置，將複數基板連續地昇降移送。

本發明的基板昇降移送裝置，是進行對於基板的處理及基板的昇降移送，具備：被配設在下階，進行對於基板的處理的第1基板處理裝置；及被配設在上階，進行對於基板的處理的第2基板處理裝置；及在前述第1基板處理裝置及前述第2基板處理裝置之間進行基板的昇降移送的上述基板昇降移送裝置。

依據本發明的基板昇降移送裝置，就可達成與由上述基板昇降移送裝置所產生的作用同樣的作用。

依據本發明，可以將前述基板昇降移送裝置的占有平面積抑制在基板一枚分的平面積未滿，可以將前述基板昇降移送裝置的占有平面積充分地削減，可以達成工場內空間的有效利用。

且，因為可以從前述第1基板處理裝置朝前述第2基板處理裝置，或是從前述第2基板處理裝置朝前述第1基板處理裝置，將複數基板連續地昇降移送，所以基板的昇降移送的周期時間(節拍時間(tact time))可以縮短，可以提高有關於基板的一連的作業能率。

一邊參照第1圖~第7圖一邊說明本發明的一實施例。又，圖面中，「FF」是前方向，「FR」是後方向，「L」是左方向，「R」是指示右方向。

如第1圖所示，本實施例的基板處理移送系統1，是進行對於玻璃基板等的基板W的搬運處理(基板的處理)及昇降移送的系統。且，基板處理移送系統1，是具備：被配設在下階樓層LF(下階)，進行基板W的搬運處理的第1基板搬運處理裝置(第1基板處理裝置)3；及被配設在上階樓層UF(上階)，對於基板W進行搬運處理的第2基板搬運處理裝置(第2基板處理裝置)5；及在第1基板搬運處理裝置3及第2基板搬運處理裝置5之間進行基板W的昇降移送的基板昇降移送裝置7。

說明第1基板搬運處理裝置3的結構。

如第1圖所示，在下階樓層LF中，設有第1處理裝置本體9。第1處理裝置本體9，是構成第1基板搬運處理裝置3的基座。且，如第4圖所示，在第1處理裝置本體9中，設有藉由空氣的壓力將基板W浮上用的複數第1浮上組件11。在各第1浮上組件11的上面，形成有將空氣噴出的框狀的噴嘴11n。各噴嘴11n，是如日本國日本特開2006-182563號公報所示，對於鉛直方向朝組件中心側傾斜的方式構成。

又，可取代框狀的噴嘴11n，使複數圓孔狀的噴嘴形成於各第1浮上組件11的上面也可以。

在第1處理裝置本體9中，朝搬運方向(左右方向)延伸的一對的第1滾子支撐構件13，是在搬運寬度方向(前後方向)隔離地被設置。在各第1滾子支撐構件13中，將基板W可搬運地支撐的複數第1搬運滾子15，是在搬運方向隔有間隔地被設置。各第1搬運滾子15，是朝水平的軸心周圍可旋轉。且，在各第1滾子支撐構件13的適宜位置中，各別設有將複數第1搬運滾子15旋轉的第1搬運用馬達17。各第1搬運用馬達17的輸出軸(圖示省略)，是透過由蝸輪及滾輪(worm screw and worm gear wheel)等所構成的連動機構(圖示省略)，與複數第1搬運滾子15的旋轉軸(圖示省略)連動連結。

說明第2基板搬運處理裝置5的結構。

如第1圖所示，在上階樓層UF中，設有第2處理裝置本體19。第2處理裝置本體19，是構成第2基板搬運處理裝置5的基座。且，如第5圖所示，在第2處理裝置本體19中，設有藉由空氣的壓力將基板W浮上的複數第2浮上組件21。在各第2浮上組件21的上面，與第1浮上組件11同樣地，形成有將空氣噴出的框狀的噴嘴21n。

在第2處理裝置本體19中，朝搬運方向延伸的一對的第2滾子支撐構件23，是在搬運寬度方向隔離地被設置。在各第2滾子支撐構件23中，將基板W可搬運地支撐的複數第2搬運滾子25，是在搬運方向隔有間隔地被設置。各第2搬運滾子25，是朝水平的軸心周圍可旋轉。且，在各第2滾子支撐構件23的適宜位置中，各別設有將複數第2搬運滾子25旋轉的第2搬運用馬達27。各第2搬運用馬達27的輸出軸(圖示省略)，是透過由蝸輪及滾輪等所構成的連動機構(圖示省略)，與複數第2搬運滾子25的旋轉軸(圖示省略)連動連結。

說明基板昇降移送裝置7的具體的構成。

如第1圖所示，在第1基板搬運處理裝置3的第1處理裝置本體9的左側附近中，設有將基板W的姿勢切換至立起(垂直)姿勢(第1圖中假想線所示的姿勢)及倒伏(水平)姿勢(第1圖中實線所示的姿勢)的第1姿勢切換構件(第1姿勢切換用致動器)29。第1姿勢切換構件29，是透過一對的托架31朝水平的軸心周圍可擺動(可轉動)。且，如第4圖所示，第1姿勢切換構件29，是具備：第1擺動軸33、及平行地延伸的一對的第1擺動 臂35、及將基板W的背面吸著的複數第1姿勢切換用吸著墊片(第1姿勢切換用保持具)37。第1擺動軸33，是在第1處理裝置本體9的左側附近透過一對的托架31可旋轉地被設置。一對的第1擺動臂35，是與第1擺動軸33的外周面一體地形成。複數第1姿勢切換用吸著墊片37，是在長度方向隔有間隔被設置在各第1擺動臂35。

且，在一方的托架31中，設有將第1姿勢切換構件29擺動的第1姿勢切換用馬達(第1姿勢切換用致動器)39。第1姿勢切換用馬達39的輸出軸(圖示省略)，是透過聯接器(接頭、圖示省略)等，與第1擺動軸33連動連結。在此，第1姿勢切換構件29即使擺動。一對的第1擺動臂35也不會與第1浮上組件11干渉。

又，可取代第1擺動臂35上的第1姿勢切換用吸著墊片37，第1姿勢切換用保持具，是設有：將基板W的背面由非接觸保持的第1姿勢切換用柏努利挾盤(Bernoulli chuck)(圖示省略)、和將基板W的端部把持(保持)的第1姿勢切換用夾具(圖示省略)也可以。

如第1圖及第3圖所示，在第2基板搬運處理裝置5的第2處理裝置本體19的左側附近中，設有將基板W的姿勢切換至立起姿勢(第3圖前假想線所示的姿勢)及倒伏姿勢(第3圖中實線所示的姿勢)的第2姿勢切換構件(第2姿勢切換用致動器)41。第2姿勢切換構件41，是透過一對的托架43朝水平的軸心周圍可擺動(可轉動)。且，如第5圖所示，第2姿勢切換構件41，是具備：第2擺動軸45、及平行地延伸的一對的第2擺動臂47、及將基板W的背面吸著的複數第2姿勢切換用吸著墊片(第2姿勢切換用保持具)49。第2擺動軸45，是透過一對的托架43可旋轉地被設置在第2處理裝置本體19的左側附近。一對的第2擺動臂47，是在第2擺動軸45的外周面一體形成。複數第2姿勢切換用吸著墊片49，是在長度方向隔有間隔被設置在各第2擺動臂47。

且，在一方的托架43中，設有將第2姿勢切換構件41擺動的第2姿勢切換用馬達(第2姿勢切換用致動器)51。第2姿勢切換用馬達51的輸出軸(圖示省略)，是透過聯接器(圖示省略)等，與第2擺動軸45連動連結。在此，第2姿勢切換構件41即使擺動，一對的第2擺動臂47也不會與第2浮上組件21干渉。

又，可取代第2擺動臂47上的第2姿勢切換用吸著墊片49，第2姿勢切換用保持具，是設有：將基板W的背面由非接觸保持的第2姿勢切換用柏努利挾盤(圖示省略)、和將基板W的端部把持(保持)的第2姿勢切換用夾具(圖示省略)也可以。

如第1圖、第4圖及第5圖所示，在第1姿勢切換構件29的左側附近，立設有朝上下方向延伸的一對的支撐框架53。一對的支撐框架53，是前後遠離地位置，且，與一體的連結。在各支撐框架53的上部中，上部帶輪或是上部鏈輪等的一對的上部旋轉車55，是透過共通的上部旋轉軸57可旋轉地被設置。且，在各支撐框架53的下部中，下部帶輪或是下部鏈輪等的一對的下部旋轉車59，是透過共通的下部旋轉軸61可旋轉地被設置。

進一步，朝上下方向延伸的可循環行走的環形皮帶或是環形鏈條等的環形狀構件63，是從對應關係中的上部旋轉車55橫跨下部旋轉車59捲繞。換言之，一對的環形狀構件63，是透過上部旋轉車55及下部旋轉車59，在一對的支撐框架53之間可循環行走地被設置。且，將一對的環形狀構件63循環行走的行走用馬達(行走用致動器)65，是設在一方的支撐框架53的上部的適宜位置。行走用馬達65的輸出軸(圖示省略)，是透過聯接器(圖示省略)，與上部旋轉軸57連動連結。

如第1圖、第6圖及第7圖所示，朝前後方向延伸的複數連結桿67，是將一對的環形狀構件63連結的方式，在環形狀構件63的周方向隔有間隔被設置。在各連結桿67的兩端部中，設有將立起姿勢的基板W的端部把持的昇降用夾具(昇降用保持具)69。即，複數昇降用夾具69，是透過複數連結桿67，在周方向隔有間隔地設有一對的環形狀構件63。

各昇降用夾具69，是具備：夾具本體71、及固定挾持爪(一對的挾持爪的其中之一)73、及可動挾持爪(一對的挾持爪的其中另一)77、及作動操作桿79、及彈簧81。夾具本體71，是設在連結桿67。固定挾持爪73，是與夾具本體71一體設置(形成)。可動挾持爪77，是設在夾具本體71，透過挾持銷75朝挾持方向/鬆開方向可擺動( 轉動)。且，可動挾持爪77，是與固定挾持爪73協動將基板W的端部把持。作動操作桿79，是與可動挾持爪77的基部一體設置。彈簧81，是位於連結桿67及作動操作桿79之間的方式，設在夾具本體71。且，彈簧81，是將可動挾持爪77朝挾持方向推迫。

第1鬆開用氣壓缸(第1鬆開用致動器)83，是透過下部安裝臂85，設在各支撐框架53的下部的適宜位置。第1鬆開用氣壓缸83，是將位於對應第1基板搬運處理裝置3的高度的昇降用夾具69的作動操作桿79推壓，抵抗彈簧81的推迫力將可動挾持爪77朝鬆開方向擺動(移動)。同樣地，第2鬆開用氣壓缸(第2鬆開用致動器)87，是透過上部安裝臂89，設在各支撐框架53的上部的適宜位置。第2鬆開用氣壓缸87，是將位於對應第2基板搬運處理裝置5的高度的昇降用夾具69的作動操作桿79推壓，抵抗彈簧81的推迫力將可動挾持爪77朝鬆開方向擺動。

又，可取代昇降用夾具69透過連結桿67設於一對的環形狀構件63，其他的昇降用保持具，是使將基板W的表面吸著的昇降用吸著墊片(圖示省略)透過連結桿67等設置也可以。

接著，說明本實施例的作用及效果。

藉由從複數第1浮上組件11的噴嘴11n將空氣噴出，且將一對的第1搬運用馬達17驅動將複數第1搬運滾子15旋轉，將基板W朝左方向浮上搬運，使基板W位在待機的一對的第1擺動臂35的上側(第1基板搬運處理裝置3的預定位置)(第4圖參照)。

將基板W位在待機的一對的第1擺動臂35的上側之後，由複數第1姿勢切換用吸著墊片37將基板W的背面吸著。且，如第1圖所示，將第1鬆開用氣壓缸83驅動將位於對應第1基板搬運處理裝置3的高度的昇降用夾具69的可動挾持爪77抵抗彈簧81的推迫力朝鬆開方向擺動(第7圖參照)。接著，如第1圖所示，將第1姿勢切換用馬達39驅動將第1姿勢切換構件29擺動，將基板W的姿勢從倒伏姿勢朝立起姿勢切換。

且，停止各第1鬆開用氣壓缸83的驅動將立起姿勢的基板W的端部由昇降用夾具69把持，將由複數第1姿勢切換用吸著墊片37所產生的吸著狀態解除。進一步，如第2圖所示，將行走用馬達65驅動使環形狀構件63朝一方向循環行走，將立起姿勢保持且將基板W上昇。藉由反覆進行前述的動作，可以將複數基板W從第1基板搬運處理裝置3朝基板昇降移送裝置7依序送出。

如第3圖所示，將基板W的端部把持的昇降用夾具69是上昇直到對應第2基板搬運處理裝置5的高度為止的話，停止環形狀構件63的循環行走。接著，由複數第2姿勢切換用吸著墊片49將基板W的背面吸著。將各第2鬆開用氣壓缸87驅動將位於對應第2基板搬運處理裝置5的高度的昇降用夾具69的可動挾持爪77抵抗彈簧81的推迫力朝鬆開方向擺動，將由昇降用夾具69所產生的把持狀態解除(第7圖參照)。

且，如第3圖所示，將第2姿勢切換用馬達51驅動將第2姿勢切換構件41擺動使基板W的姿勢從立起姿勢朝倒伏姿勢切換，將由複數第2姿勢切換用吸著墊片49所產生的吸著狀態解除。藉由反覆進行前述的動作，可以將複數基板W從基板昇降移送裝置7朝第2基板搬運處理裝置5依序送出。

解除由複數第2姿勢切換用吸著墊片49所產生的吸著狀態之後，從複數第2浮上組件21的噴嘴21n將空氣噴出，且藉由將一對的第2搬運用馬達27驅動將複數第2搬運滾子25旋轉使基板W朝右方向浮上搬運，使基板W位在第2基板搬運處理裝置5的預定置位置(第5圖參照)。

如以上說明，由第1基板搬運處理裝置3所產生的基板W的搬運處理、及從第1基板搬運處理裝置3朝第2基板搬運處理裝置5的基板W的昇降移送、及由第2基板搬運處理裝置5所產生的基板W的搬運處理，可以依序地進行。且，藉由前述動作的相反的動作，由第2基板搬運處理裝置5所產生的基板W的搬運處理、及從第2基板搬運處理裝置5朝第1基板搬運處理裝置3的基板W的昇降移送、及由第1基板搬運處理裝置3將所產生的基板W的搬運處理可以依序進行。

總而言之，在本實施例中，因為：i)具有複數第1姿勢切換用吸著墊片37的第1姿勢切換構件29，是朝水平的軸心周圍可擺動地設在第1基板搬運處理裝置3的左側附近，ii)具有複數第2姿勢切換用吸著墊片49的第2姿勢切換構件41，是朝水平的軸心周圍可擺動地設在第2基板搬運處理裝置5的左側附近，iii)複數昇降用夾具69，是在周方向隔有間隔被設置在一對的環形狀構件63，所以如上述，可以將立起姿勢保持且將基板W昇降，可以將基板昇降移送裝置7的占有平面積抑制在基板W一枚分的平面積未滿。

且，在本實施例中，因為：iV)朝上下方向延伸的一對的環形狀構件63，是可循環行走地設在一對的支撐框架53，v)複數昇降用夾具69，是在周方向隔有間隔被設置在一對的環形狀構件63，所以可以從第1基板搬運處理裝置3朝第2基板搬運處理裝置5，或是從第2基板搬運處理裝置5朝第1基板搬運處理裝置3，將複數基板W連續地昇降移送。

因此，因為可以將基板昇降移送裝置7的占有平面積抑制在基板W一枚分的平面積未滿，所以可以將基板昇降移送裝置7的占有平面積充分地削減，可以達成工場內空間的有效利用。

且，因為從第1基板搬運處理裝置3朝第2基板搬運處理裝置5，或是從第2基板搬運處理裝置5朝第1基板搬運處理裝置3將複數基板W連續地昇降移送，所以基板W的昇降移送的周期時間可以縮短，可以提高有關於基板W的一連的作業能率。

進一步，下階樓層LF及上階樓層UF的高度間隔大的情況時，可以增加昇降用夾具69的個數，作為保管多數的基板W的裝置可以利用基板昇降移送裝置7。

又，本發明不限定前述的實施例的說明，可由各種態樣實施。且，本發明所包含的權利範圍不限定於這些的實施例。

LF．．．下階樓層

UF．．．上階樓層

W．．．基板

1．．．基板處理移送系統

3．．．第1基板搬運處理裝置

5．．．第2基板搬運處理裝置

7．．．基板昇降移送裝置

11．．．第1浮上組件

15．．．第1搬運滾子

17．．．第1搬運用馬達

21．．．第2浮上組件

25．．．第2搬運滾子

27．．．第2搬運用馬達

29．．．第1姿勢切換構件

33．．．第1擺動軸

35．．．第1擺動臂

37．．．第1姿勢切換用吸著墊片

39．．．第1姿勢切換用馬達

41．．．第2姿勢切換構件

45．．．第2擺動軸

47．．．第2擺動臂

49．．．第2姿勢切換用吸著墊片

51．．．第2姿勢切換用馬達

53．．．支撐框架

55．．．上部旋轉車

59．．．下部旋轉車

63．．．環形(無端)狀構件

65．．．行走用馬達

67．．．連結桿

69．．．昇降用夾具

71．．．夾具本體

73．．．固定挾持爪

77．．．可動挾持爪

79．．．作動操作桿

81．．．彈簧

83．．．第1鬆開用氣壓缸

87．．．第2鬆開用氣壓缸

[第1圖]顯示本發明的基板處理移送系統的實施例的側剖面圖。

[第2圖]顯示前述基板處理移送系統的動作的側剖面圖。

[第3圖]顯示前述基板處理移送系統的動作的側剖面圖。

[第4圖]第1圖中的沿著IV-IV線的平剖面圖。

[第5圖]第1圖中的沿著V-V線的平剖面圖。

[第6圖]昇降用夾具周邊的立體圖。

[第7圖]顯示昇降用夾具的鬆開動作的側剖面圖。

LF．．．下階樓層

UF．．．上階樓層

W．．．基板

1．．．基板處理移送系統

3．．．第1基板搬運處理裝置

5．．．第2基板搬運處理裝置

7．．．基板昇降移送裝置

9．．．第1處理裝置本體

19．．．第2處理裝置本體

29．．．第1姿勢切換構件

31．．．托架

33．．．第1擺動軸

35．．．第1擺動臂

37．．．第1姿勢切換用吸著墊片

41．．．第2姿勢切換構件

43．．．托架

45．．．第2擺動軸

47．．．第2擺動臂

49．．．第2姿勢切換用吸著墊片

53．．．支撐框架

55．．．上部旋轉車

57．．．上部旋轉軸

59．．．下部旋轉車

61．．．下部旋轉軸

63．．．環形(無端)狀構件

67．．．連結桿

69．．．昇降用夾具

83．．．第1鬆開用氣壓缸

85．．．上部安裝臂

87．．．第2鬆開用氣壓缸

89．．．下部安裝臂

Claims (2)

1. 一種基板昇降移送裝置，是在：被配設在下階供進行對於基板的處理的第1基板處理裝置、及被配設在上階供進行對於基板的處理的第2基板處理裝置之間，進行基板的昇降移送，其特徵為，具備：第1姿勢切換構件，在前述第1基板處理裝置的一側朝水平的軸心周圍可擺動地被設置，具備將基板保持用的第1姿勢切換用保持具，將基板的姿勢切換至倒伏姿勢及立起姿勢；及第1姿勢切換用致動器，供將前述第1姿勢切換構件擺動用；及第2姿勢切換構件，在前述第2基板處理裝置的一側朝水平的軸心周圍可擺動地被設置，具備將基板保持的第2姿勢切換用保持具，將基板的姿勢切換至倒伏姿勢及立起姿勢；及第2姿勢切換用致動器，供將前述第2姿勢切換構件擺動用；及環形狀構件，朝上下方向延伸且可循環行走地被設置在被立設於前述第1姿勢切換構件的一側的支撐框架；及行走用致動器，使前述環形狀構件循環行走；及複數昇降用保持具，在周方向隔有間隔被設置在前述環形狀構件，保持立起姿勢的基板，前述複數昇降用保持具，是分別具備一對的挾持爪，由該挾持爪將基板的端部把持的昇降用夾具， 該基板昇降移送裝置，進一步具備：第1鬆開用致動器，將位於對應前述第1基板處理裝置的高度的前述昇降用夾具的至少一方的前述挾持爪朝鬆開方向移動；及第2鬆開用致動器，將位於對應前述第2基板處理裝置的高度的前述昇降用夾具的至少一方的前述挾持爪朝鬆開方向移動，前述第1鬆開用致動器，是透過下部安裝臂，設在前述支撐框架，並且前述第2鬆開用致動器，是透過上部安裝臂，設在前述支撐框架。
2. 一種基板處理移送系統，是進行對於基板的處理及基板的昇降移送，其特徵為，具備：第1基板處理裝置，被配設在下階，進行對於基板的處理；及第2基板處理裝置，被配設在上階，進行對於基板的處理；及如申請專利範圍第1項的基板昇降移送裝置，在前述第1基板處理裝置及前述第2基板處理裝置之間進行基板的昇降移送。