TWI305480B - Method of fabricating printed circuit board having embedded multi-layer passive devices - Google Patents

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TWI305480B
TWI305480B TW094145790A TW94145790A TWI305480B TW I305480 B TWI305480 B TW I305480B TW 094145790 A TW094145790 A TW 094145790A TW 94145790 A TW94145790 A TW 94145790A TW I305480 B TWI305480 B TW I305480B
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Seung Hyun Sohn
Yul Kyo Chung
Hyun Ju Jin
Eun Tae Park
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Samsung Electro Mech
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Description

1305480 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 一般而言,本發明係關於一種具有嵌入式多層被動裝置 之印刷電路板(PCB)的製造方法,以及更特別地,此為一種 5具有嵌入式多層電容器之印刷電路板的製造方法,此處所 指之一電容器,其在PCB内以多層結構形成,藉此提高電 容量。 【先前技術】 1〇 雖然時至今日分離式晶片電阻器及分離式晶片電容器 般幾乎鑲嵌於所有PCB上,但是被動裝置之於PCB,例 如電阻器或電容器近來已被發展成嵌入式裝置。 h包括嵌入式被動襞置之PCB的製造技術,此類嵌入式 15羞置,例如電阻器或電容器,係使用新穎的材料或製程, 15將其***外部或内部基板,取代傳統的晶片電阻器或晶狀 電容器。 •那歧’包括|人式被動裝置之pCB,其被動裝置, 例如’電容器,***内部或外部基板。無視於基板本身大 2〇 i ,如果一電容器,作為一被動裝置,併入於PCB中,即 %為—“嵌入式電容器”。此處提及之一基板 電容器PCB,,。 式 甘八入式被動裝置pCB大部分最重要的特色,即被動裝 置不需鑲嵌於基板上,便可整體裝配於PCB内。 —般而言,嵌入式被動裝置PCB的製造技術,可大致 1305480 分類為三種形式。 第一種為一聚合物厚膜型電容器的一製造方法,包括塗 佈一聚合物電容器糊狀物,然後加熱固化,意即,乾燥, 於此獲得—電容器。
特別地,此方法包括塗佈聚合物電容器糊狀物於一 PCB 内層上,以及乾燥此塗佈聚合物電容器糊狀物,並於該處 上方印刷一銅膏,然後乾燥形成一電極,由此獲得一嵌入 式電容器。 ❿ 货 弟一種為一嵌入式分離型電容器的一製造方法,包括在 10 — PCB上覆蓋一填滿陶瓷的感光性介電樹脂,此方法已經 由美商摩把羅拉公司獲得專利權。 上述方法包括塗佈具有陶瓷粉末的感光性介電樹脂於 基板的上下表面,樹脂層上方壓合銅箔形成上下電極,完 成電路圖案,接續蝕刻感光性介電樹脂,經此方式獲得一 15 分離式電容器。 第三種為一嵌入式電容器的一製造方法,包括分別將具 鲁t電容特性的-介電層***—pCB内層中,以便取代鎮欲 於PCB上方的一去I禺電容器,此方法已經由美商聖米那 (Sanmina)公司獲得專利權。 2〇 就此點而言,美商聖米那公司被授予的美國專利編號 5’〇79’069’揭露-插人二層間,包括二導電層及一絕緣材 料層(介電層)的嵌入式電容器PCB,以及具有嵌入式電容 器 PCB 的一 PCB。 嵌入式電容器PCB之介電層,其一厚度至少需有 1305480 〇·5ιηι1(12.5μιη) ’普遍地,為卜咖⑵〜別㈣。導電層的 —重ΐ分布,至少需有〇,5oz/ft2(厚度約18叫),普遍地, 為 loz/ft2。 此外,美商聖米那公司被授予的美國專利編號 5 5,155,655及5,161,〇86,揭露所使用的_導電層,係將一導 電金屬薄片經表面處理,以確保附著力及電容密度。 此外,美商聖来那公司被授予的美國專利編號 齡5,162,977 ’揭露使用⑧電容粉末的—電容核心成分。上述 專利中,具有500或更高(至少為1〇倍的環氧化物)的一高 10介電常數之預燒陶竞粉末,被容納於一介電層中,作為提 升去耦能力。 然而,此類傳統技術所製造的產品因為電容過低,導致 實際使用率降低。為了解決上述問題,雖然嘗試使用具有 高電容的一成份材料,依然無法達到產品要求。 15 【發明内容】 I 因此,本發明谨記發生於相關技術領域之上述問題,所 以本么明之一主要目的,係提供一種具有嵌入式多層被動 裝置之PCB,其中—欲入式電容器包括複數個導電層以及 °複數個介電層,藉此提升電容。 為了完成上述目的,本發明提供一種具有嵌入式多層被 動裝置之一PCB的製造方法,其步驟包括:第一步驟為在一 楚二板上塗佈—絕緣層,構成一核心層,然後於絕緣層 上方壓合具有-下電極層的一 RCC;第二步驟為移除rcc 1305480 之上銅箔,然後形成一内電極層;第三步驟為重複第一步 驟及第二步驟的RCC壓合作業數次,形成複數個介電層及 複數個内電極層;以及第四步驟為形成複數個導通孔,貫 穿具有複數個介電層及複數個内電極層之pCB,然後電鍍 導通孔的内部孔壁,形成内電極層在電性上之傳導連接, 完成一多層被動裝置。 【實施方式】 下文中,參照附加圖表,詳述本發明之具體實施例。 圖1A至1J係依據本發明之第一具體實例,針對一包 括-喪入式多層電容器之PCB的—製作程序,作連續式的 圖解說明。 如圖1A所示, &板100的一銅箔102,經影像 製程形成一電路圖案,由此構成一核心層。 15 20 使用作為基礎基板100的一銅箱基板(CCL),視盆使用 目的可分類為玻璃/環氧化物CCL、耐熱樹脂ccl、紙騰 CCL、高頻CCL、可f式咖、複合式ccl等等。為了製 1一雙面PCB或-多層PCB,此類弧t,以覆蓋㈣ 1 、1 〇3的一絕緣樹脂声】〇 9層101 ’所構成的一玻璃/環氧化物 CCL100為較佳的使用材料。 —乾膜(錢示)覆蓋於基礎基板10G上方後,利用具右 2 = 將乾膜經曝光及顯影 相f的乾膜°喷灑1刻液’由此移除 、被乾膜保護區域的銅箔1〇2。移除已使用的乾膜, 8 1305480 形成由銅箔102所構成的一最終電路圖案。 乾膜由三層組成,意即,—覆蓋層、—光阻薄膜以及— 聚㈣膜(Mylar film),其中光p且薄膜的實際功能為—阻劑。 具有一預設圖案的工作底片緊密貼合於乾膜上方表 5面’然後賴射W光至工作底片上方,由此完成乾膜的曝 光及顯影。 就其本身而論’ UV光無法穿透工作底片印刷圖案上相 對應的黑色部分,反之可以穿透工作底片上無圖案的部 讚为,以此方式固化工作底片下的乾膜。 10 當具有已經固化乾膜的CCL102浸於一顯影液中,未固 化的乾膜部份經由顯影液移除,以及僅有固化乾膜保留, 形成一抗蝕圖案。顯影液可為,舉例之,一碳酸鈉(Na2c〇3) 或碳酸鉀(K2C03)水溶液。 /經過一影像製程,於基礎基板100上方形成抗餘圖案 15後,噴灑一蝕刻液以移除相對於抗蝕圖案保護區域外的區 域銅箱102,並且也移除已使用的抗儀圖案,形成由銅羯 , 102所構成的一最終電路.圖案。 如圖1B所示,具有電路圖案的基礎基板1〇〇,其二側 表面壓合預浸材104、105。CCL 110、120,各自僅在一表 2〇面上具有—電路圖案,並且各別與預浸材104、105進行壓 合。 CCL 11〇、120,各自於任一表面形成電路圖案的作業 程序,與上述基礎基板1〇〇形成電路圖案的方式相同, 110、120所提供的絕緣層1U、121,較佳的以具有高介電 1305480 常數的一材料形成,形成具有高電容量的一電容器。 如圖1C所示’最外部的銅箔112、122從CCL 11〇、 120移除。為何從CCL 11〇、12〇移除最外部的銅箔112、 122’其原因為一般CCL所使用的銅箔較厚。如果使用cd 的銅y白作為一多層電容器的一電極層,依據介電層的後續 壓合製程’最終PCB厚度會過f此外,移除㈣形成一 圖案的導電部分,必須填滿樹脂,產品要求將很難實現。 如圖1D所示,提供晶種層13卜132,以便形成— 内嵌入的一多層電容器之内電極層。 可以使用一無電鍍製程形成晶種層131、132。無電铲 製程係指一絕緣材料,兀妹山 在# 、又
Wn不經由—電荷離子反應,改以經由 一沈積反應,更特別地,—、十 沈積反應可以使用一觸媒加速 反應。 15 20 上述無電鑛製程’讀時觸媒必彡請著於-材料表面, 以便於銅從一電鑛溶液中沈積出來。此意即無電鑛製程需 要許多預先處理程序。 牲* 舉例之’無電鍍製程复牛酿 ” V驟包括:清潔、微蝕、預催化、 催化、加速、無電鍍鋼以及抗氧化。 無電鍵銅製程的物理特, … 寺不如電鍍銅製程,因此可以使 用此製程形成一薄電鍍鋼層。 t 如圖1E所示,以電鍍枭 心山 表程形成内導電層133、134,以 作為一 PCB的一嵌入多屛番κ 人 一 夕層電各器之内電極層。 如圖1F所示,内導雷恳 电層133、134使用一影像製程製 作電路圖案,形成内電極; ^ 10 1305480 如圖IF及1G所示,視需要,重複圖1B至ιρ所示, 電鍍層形成圖案的程序,完成一所需的多層電容器。 那就是,作業步驟為i)壓合一預浸材形成一介電層,u) 壓合具有一下部圖案的CCL,Hi)移除一上銅箱,以及iv) 5使用無電鍍及電鍍製程,形成一多層電容器之一内電棰 層,視需求重覆此步驟。 内導電層133、134經使用影像製程製作圖案後,形成 内電極層,壓合RCC形成介電層16卜171,如圖1H所示, •然後RCC之銅箱162、172製作出圖案,形成上電極廣, 10 如圖1G所示。 如圖II所示,—導通孔(無圖示)或貫穿孔形成於多層 PCB間’該處導通孔或貫穿孔的内部孔壁經電鑛後,形成 一電鍍層180’此舉可在電性上之傳導連接多層結構的内電 極層,以便完成一所需的多層電容器。 15 較佳的導通孔或貫穿孔形成方式,為使用一雷射或^ CNC(電腦數值控制)鑽孔機,在一預先設定位置鑽出一導通 φ 孔或貫穿孔。 一 CNC鑽孔機適用於製作一雙面pcB内的導通孔或一 多層PCB内的貫穿孔。 2〇 使用一 CNC鑽孔機完成導通孔或貫穿孔後,較佳的需 使用一去毛邊製程,移除因鑽孔所產生的異物,例如銅箔 所產生的毛邊、導通孔内粉塵以及銅箔上方粉塵。在此步 驟’銅、治表面粗糙不平’由此可增加後續電鍍銅製程中, 與銅之間的附著力。 11 !3〇5480 —雷射適用於一多層PCB内—微導 地,鋼箔及絕緣樹脂層兩者,可使 、。特別 5 雷射同時進行作業。另外,相對二通紅寶石) 可以崎除,然後可以使用一應==部分咖’ 層進行料。 —减㈣射對絕緣樹脂
10 15
元成導通孔後,較佳的使用一本跋、、杰制< 也丨辟^ 去膠渣製程,移除導通孔 2所形成的膠渣,此膠清的形虚扭闵於道s 吵鱼们办成起因於導通孔作業時所 的熱,熔融基礎基板的絕緣樹脂層所導致。 〜如圖U所示,IC晶片190、191鑲嵌於具有一多層電 谷益的PCB上方,完成一半導體晶片封裝。 圖2Α至2J係依據本發明之第二具體實例,針對一包 括一嵌入式多層電容器之PCB的—製作程序,作連 圖解說明。 如圖2A所示,一基礎基板2〇〇之銅箔2〇2、2〇3,藉由 一影像製程形成電路圖案,以此構成一核心層。基礎基板 20(3與第一具體實例中,所使用的基礎基板100相同,視使 用需求可為玻璃/環氧化物CCL、耐熱樹脂CCL·、紙/酚 CCL、高頻CCL、可彎式CCL、複合式CCl等等。此類 CCL中’較佳的為玻璃/環氧化物CCL。 20 如圖2B所示’具有電路圖案的基礎基板200,其兩侧 表面上方壓合預浸材2〇4、205。之後,薄金屬薄片206、 2〇7 ’各自作為一 pcB内一多層電容器之一下電極,並個 別與預浸材204、205進行壓合。隨後,提供一電路圖案, 如圖2C所示。 12 1305480 金屬薄月206、207上形成電路圖案的作業程序,與上 述基礎基板200形成電路圖案的程序相同。 如圖2D所示,超薄金屬薄片載體21〇、22〇,包括具有 高介電係數的介電層211、221;極薄金屬薄片212、222 5壓合於介電層211、221上方,以及載體213、223壓合於 金屬薄片212、222上方。 使用載體213、223作為運載由介電層211、221及金屬 溥片212、222所开> 成的RCC,然後當RCC貼附於金屬薄 • 片206、207,形成下電極時,載體被移除,如圖2E所示。 10 如圖2F所示,金屬薄片212、222使用一影像製程形 成圖案’以此方式可以具有内電極層的功能。使用一載體 (無圖示),複數個RCC(本具體實例中,上方RCC23〇及下 方RCC240個別壓合於上下表面)可以進一步壓合以滿足產 品需求’意即’形成多層介電層以及内電極層。 15 圖2G顯示由此方式形成之多層電容器。製作導通孔 251、252,使内電極層在電性上形成傳導連接。 φ 導通孔較佳的製作方式,可採用上述使用一 CNC鑽孔 機或一雷射’於一預先設定位置形成一導通孔。 一 CNC鑽孔機適用於製作一雙面Pcb内的導通孔或一 2〇 多層PCB内的貫穿孔。 一雷射適用於一多層PCB内一微導通孔的製作。特別 地,銅箔及絕緣樹脂層兩者,可使用一 YAG(釔鋁紅寶石) 田射同時進行作業。二者擇一地,相對應於導通孔部分的 銅、名,可以蝕刻去除,然後可以使用一二氧化碳雷射針對 13 1305480 絕緣樹脂層進行作業。 如圖2H及21所示,壓合RCC26〇、27〇,然後將最外 部金屬薄片262、272使用一影像製程製作圖案,形成外電 極層。 5 另外,形成複數個導通孔281、282,以便於内電極層 在電性上可以傳導連接外電極層,以及各内電極層可以相 互電性連接,由此形成一多層電容器。 如圖2 J所不,鑲嵌IC晶片,完成一半導體晶片封裝。 瞻 I發明中之PCB具有-嵌人式多層電容II,電容器導 1〇電層的層數可為三或更多,以及絕緣層的層數可為二或更 多 0 進步地,經由一集體壓合製程或一增層製程,可能完 成具有一多層電容的RCC或CCL形式層。 田夕層電谷器的絕緣層厚度減少時,絕緣層的層數增 15加電谷增加。另外’多層電容器之内導電層,其厚度必 須儘可能變薄’如此可以減少最終PCB的厚度,以及達到 籲 絕緣層的厚度均勻性。 為了減少内導電層的厚度,導電層使用一原始薄金屬薄 片(5<^./;^18_或更少,3〜9师金屬薄片)製作。另外,導電 2〇 f Ο或更薄厚度)可以利帛RCC或CCL壓合製成,移除 最外#厚V電金屬薄片,經由無電鍵製程形成一晶種層, 由甩鍵製程形成所需之-導電層。另外,可以經由 RCC、CCL表而殿人 合’然後移除部份最外部厚導電金屬薄 片,形成導電層。 14 13〇548〇 如上所述,本發明係提供一種具有嵌入式多層被動裝置 之—PCB的製造方法,該處使用相同材料(所具有的特性, 例如一介電常數、厚度等等)的被動裝置,可以在相同板子 上顯示其高效能(去耦或匹配)。 依據本發明所述之方法,其中將圖案設計成電流反向流 動’由於抵銷電感效應,可以製造一具有良好高頻率特性 的嵌入式電容器PCB。 依據本發明所述之方法,能夠充分表現出多層電容結構 的優點’大大地影響去耦可以獲得一所需水準的電容密度。 依據本發明所述之方法,其中為了訊號匹配,使用一介
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20 2質填充物’以確保一介電常數到達一預設或更高水準, 二例如貧乏溫度特性此類問題產生時,可以使用除了一低 =電#數之外,具有較佳特性的一聚合物材料,設計製作 夕層結構,如此電容量可以提升至一必要或更高水準,而 不降低其他特性。 雖然已揭露本發明之較佳具體實例作說明之目的,熟知 比技1項域者,應可領會各種型態的模擬、增建以及替代, 白不迷背本發明隨附之申請專利精神及範圍内。 【圖式簡單說明】 圖jAi U係、本發明中第—具體實施例之剖面圖表, 劍疋為顯不一包括一嵌入式多層電容器之 製作程序;以及 埂躓 圖2A至2ί係本發明中第二具體實施例之剖面圖表, 15 1305480 其中是為顯示一包括一嵌入式多層電容器之PCB的一連續 製作程序。 【主要元件符號說明】 基礎基板100,200 絕緣樹脂層101,201 銅箔 102,103,112, 122,162,172,202,203 預浸材 104,105,204,205 CCL 110,120 絕緣層111,121 晶種層131,132 内導電層133,134 介電層161,171,211,221 電鍍層180 1C 晶片 190、191,290,291 載體 213,223 金屬薄片 206,207,262,272 超薄金屬薄片載體210,220 極薄金屬薄片212,222 ' RCC230,240,260,270 導通孔 251,252,281,282
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Claims (1)

  1. I I -----------_.——,,„ 竹年?月β日修(影正替換胃 置之印刷電路板的製造 1305480 第州朽7%號,97年9月修正頁 十、申請專利範圍: 1. 一種包含後入式多層被動裝 方法,其步驟包括: 第-步驟為塗佈-絕緣層於_基礎基板上方,構成—核 心層,然後於該絕緣層上方壓合具有一下電極層的背豚銦 箔(RCC); 夕 第二步驟為移除該背膠銅箱(RCC)之一上銅箔,然後形 成一内電極層; 第二步驟為重複該第一步驟及該第二步驟之背膠銅箔 10 (RCC)遷合製程數二欠’形成複數個介電層及複數個内電極 層;以及 第四步驟為形成複數個導通孔,以貫穿具有該複數個介 電層及該複數個内電極層之印刷電路板,然後電錢該導通 孔的内部孔壁’作為該内電極層在電性上之傳導連接,完 15 成一多層被動裝置。 2.如申請專利範圍第1項所述之方法,其中,該第二步 驟包括: 移除壓合於絕緣層上方的該背膠銅_(RCC)之上銅箔; 經由無電鍍製程,在不具有該上銅箔之背膠銅箔(Rcc) 20 的一絕緣層上形成一晶種層;以及 經由電鍍製程於該晶種層上方形成該内電極層。 3.如申明專利..範圍第2項所述之方法,其中,經由電鍵 於該晶種層上方形成的内電極層,具有一0.卜5μιη的厚度。 17 1305480 4.一種包含嵌入式多層被動裝置之印刷電路板的製造 方法’其步驟包括: 第-步驟為塗佈-絕緣層於—基礎基板上方,構成—核 心層,然後形成一下電極層; X 第二步驟為使用-超薄金屬薄片載體,於下該電極層上 方,形成一絕緣層及一内電極層; 第三步驟為製作一導通孔’貫穿具有該絕緣層及該内電 極層之印刷電路板’以便内電極層在電性上 以及 π 够二四步驟為重稷該第二步驟及該第三步驟,形成複數個 .、邑緣層及複數個㈣極層,完成—多層被動褒置。 驟包5括如申請專利範圍第4項所述之方法,其中,該第一步 於基礎基板上方壓合一 15 20 形成該絕緣m ’構成該心層’以便 於該絕緣層上方壓合一金麗 形成該下電極層。 金屬❹’然後使用-影像製程 6·如申請專利範圍第4項 ㈣A 达之方法’其中’該第二步 使用該超薄金屬薄片載體, 费—车 « % °哀下電極層上方歷:合由 覆盍-_之絕賴_叙— 從該超薄金屬镇Η # M & (KCL) , 移除—载體,使該背膠銅箔 (RCC)溥膜暴露於外;以及 該薄膜經影像製程,形成該内電極層。 18
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