1283907 11415pifl 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 二於一 Γ載台裝置’使保持基板的載台本 ======= 【先前技術】 r中習示器(統稱為平面顯哪 土反璃基板)上形成電晶體或二極體，多 力此曝光裝置是把塗佈有感光劑的基板載置 於載口衣置的支#上’把描較光罩上的微細電路圖幸， 透過投影透鏡等的光學系’轉寫絲板上。在基板上y 電路圖案多層重疊以形成配線回路，因此，#在曝光裝置 中’把例如g2層以後的圖案像轉寫至基板時，對於已形 成的電路圖案，此些欲曝光的圖案需正確地重合。 / 在第15圖的例示中，繪示液晶顯示器製造用曝光裝置 中的平板載台（基板載台裝置）的概略結構。在定盤91上之 -X側邊緣，固定導引部92是沿Y方向設置。更在定盤 91的表面上，依X方向延伸的導樑％是呈與第i滑架 (carnage)94相結合的狀態被設置著。此些導樑93及滑架 94是由線性馬達100、101之驅動而沿著定盤％及固定導 引部92在γ方向移動自如。 在導樑93上設有由線性馬達99驅動而以該導樑93 1283907 Π415ριΠ 及疋盤91為導引部於X方向移動自如的第2滑架95。定 盤91、固定導引部92、導樑93及滑架94、95之間，是透 過維持非接觸狀態的氣體軸承(gas bearing)96而分別組裝 的。 在第2滑架95的上部設有:可上下(Z軸）方向微動的平 台（platetable)97及可繞Z軸回轉微小角度的平板支架98。 在平板支架98上，未圖示的基板(玻璃基板)是由真空吸著 而被矯正固定在平板支架98的上面。此些滑架94、95， 平f 97、平板支架98構成平板載台9〇。在基板的上方配 置著成像光學系，在成像光學系的上方配置著光罩支架及 =罩更，在光罩上方配置著照明光學系及作為光源的燈 二未圖不）。此些構件是由設置在定盤91上的圓柱所支 符著。 ，上述結構中u用燈管和照明光學的曝光光之照 曝^^~於光罩上的微細電路圖案，透過成像光學系 此時，因為是僅限於透過成像光㈣可對光 域像㈣光區域，所以，光罩及基板是相對 二tri罩支架及平板載台90的X方向或γ方 =目田私動，進行連續的掃瞒曝光。 以下的 =題在上述的f知载台裝置及曝光裝置中，存在著 為固技術的載台裝置中，當娜方向 ㈣的主 包含㈣或平板支 J及線性馬達99移動，所以，掃瞄 1283907 11415pifl 100、110的控制性便愈 方向之移動重量愈大，則線性馬達 惡化。 載口上，接續著用以供給各種資 給構件之電議、空壓管、冷卻管等，然而原上= 载= 多動，此些資源供給構件會因定常的或衝擊的抗力 而因ί振動等的外擾，因而造成控制性低下的原因之一。 Ί雖考量把從動於主載台的從動載台設在掃目苗方向 (Υ轴方向）或正交掃晦方向(X車由方向)上而鄰接載台，以中 繼傳运連接至主載纟之此些資源供給構件H益論配 置於其中任—方向，都要位於定盤91上，所以錢的面積 會變大H要求定盤精度的地$(支持面）變多，成本 會增加，因而會產生裝置大型化的問題。 更，當主載台在與從動載台的從動方向相異之方向移 動時，此些資源供給構件在動時會相互摩擦而發塵，異物 便會附著在基板上，因而有產生基板曝光處理之不良品之 虞。在此，雖考量以蓋子覆於上述資源供給構件，以抑制 發塵，但在蓋子的移動方向上，伴隨著蓋子移動而產生的 振動便成為控制系的外擾，因而造成高速高精度定位的障 礙0 另一方面，在上述的載台裝置中，把基板設置在平板 支架98上，雖然，可使該平板支架98在基板表面（水平面) 内回轉微小角度以進行對位，然而，因額外需要使大型的 平板支架98回轉的複雜的機構，精密的定位費時，且需有 防止定位後偏移的對策，也要擔心平板支架98的平面度惡 l2839〇7 ll4l5pifl 化 载台:要3:大胞=連續對基板曝光的裝置中，因為 不得不時的重量或裝置尺寸的限制而 ^而擔心會延長現場組裝的時間。 甲 【發明内容】 置及暖^ ^考里到上述問題點而做成，提供—種載台裝 制性 的發 還可達穿2 ’不損及線性馬達等的驅動裝置之控制拇， 塵。I置輕巧化，並可抑制由資源供給構件所產生 置，不需目較提供一種載台裝置及曝光裝 支架平面ΐίϊ構，不會產生基板位置的偏移或是平板 本發可高精度、短時間地定位基板。更， 大型化的^供—種載台裝置及曝光裝置，不用分解 可_現‘二S維持精度的裝態下進行輸送，且也 第丨二=目二本發明是採用第1實施例之第1圖〜 載台震置35，具備:導引構件4及驅動裝置 n 1牛4是導引保持著基板P的載台本體7、10、 向Y上移動自如，並使之在基座1上往第2 第;方。驅動裂置孔是驅動載台本體7、10、11往 。且，連接著驅動裝置ΥΕ之至少一部分27, 導弓丨構件4和第2方向的從動載台25，是配設在 1283907 ll415pifl ‘引構件4和基座1之間。 裝置因ΥΓ=她的載台裝置中，從動載台25具備驅動 的至少—部分27 ’所以’可使載台本體7、1〇、 么在本發明中，把從動載 i μ在導引構件4和基座1之間，所以不需把基座1 :面擴大(變廣），在基座上需要求精度的地林多，且可 r if置的大型化。更，當把資源供給構件17中繼傳送給 ^載台25的場合，即使資源供給構件彼此間摩擦而發 『也不易因導引構件4或蓋構件85、86的存在而使異物 附者於基板P上。 又本發明的曝光裝置31，是把保持於光罩載台MST 上的光罩Μ圖案，曝光至被保持在基板載台3 基板ρ，是用以作為光罩載台體和基板載台35;= 一方的載台。 因此，在本發明的曝光裝置中，可把光罩Μ及感光基 板Ρ高精度地進行位置控制及速度控制，因而可提高圖案 的轉寫精度，且可實現裝置的低價化及小型化。更，在本 ♦明中’因為在感光基板Ρ上附著異物的可能性降低，所 以可抑制不良品的發生。 為讓本發明之上述和其他目的、特徵和優點能更明顯 易懂，下文特舉較佳實施例，並配合所附圖式，作詳細說 明如下。 【實施方式】 1283907 11415pifl 以下，參照第1圖至第14圖以說明本發明載 及曝光裝置的實施例。在此，本發明的載台裝置，係^ 如掃瞄方式把光罩圖案曝光至作為感光基板(基板)之 為角形的玻璃基板的掃瞄型曝光裝置為例以說明之。且，° 此曝光裝置是適用於使保持玻璃基板的載台裝置移動的美 板載台。在此些圖案中，和習知例之第15圖相同的構成二 件使用相同的符號，在此便省略其說明。 第1圖緣示本發明的曝光裝置31的概略結構圖。此* 光裝置31具備··照明光學系32、保持著光罩（光栅)Μ而移 動的光罩載台33、投影光學系PL、保持投影光學系？乙之 本體圓柱34、保持玻璃基板(基板、感光基板)ρ而移動之 基板載台裝置(載台裝置)35。 照明光學系32,例如像日本專利早期公開之特開平 9-320956號公報所揭露的那樣，是由光源單元、快門、2 次光源形成光學系、分光器、集光透鏡系、光罩遮光部 (reticle blind)及成像透鏡系（皆未圖示)所構成。被保持在光 罩載台裝置33上的光罩μ上的矩形(或圓弧形)的照明區 φ 域是由照明光IL均一地照明。 。本體圓柱34是由第1圓柱37及第2圓柱38構成。第 1圓柱37是透過作為設置地板FD上面所載置的裝置基準 之基座平板BP上面的複數個(在此為*個，即第1圖僅繪 ^前面側的2個〉防振台n而被保持著。第2圓柱％丄 Λ第1圓柱37上。此防振台12是利用橡膠等的彈性材作 為阻尼材料之被動型者。又，若無設基座平板Βρ，而在本 11 1283907 iHlSpifl 體圓柱34直接設在設置地板FD上亦可。 第1圓柱37具有：由4個防振台12略呈水平地支持著 而構成基板載台裝置35之平面視圖略呈矩形的鑄鐵夢的 底床(基座）1、在此底床1上面之4隅沿鉛直方向分別配設 的4根腳部40，及由相互連結此4根腳部40的上端部同 日寸構成第1圓柱37的頂板部之鏡筒定盤41。在此鏡定般 41的中央部上，形成有平面視圖呈圓形的開口部41a，2 將投影光學系PL從上方***此開口部41a。在此投影光學 系PL9上，在其高度方向的中央或下方的位置上設有凸緣 FL，透過該凸緣FL，投影光學系PL是由鏡筒定盤41從 下方支持著。 < 第2圓柱38具備在鏡筒定盤41上面圍繞投影光學系 PL而立設的4根腳部及相互連結此4根腳部42之上端部 的頂板部，亦即具備構成光罩載台33的基座43。在基座 43的中央部上，形成有構成照明光IL之通路的開口 43&。 且’基座43的全體或是一部分(相當於開口 43a的部分)是 由透光性材料形成亦可。 對於如此構成的本體圓柱3 4之由設置地板F D而來的 振動，是利用防振台12而被阻絕至微量G極(G為重力加 速度）。 作為投影光學系PL，使其光軸AX方向為Z軸方向， 在此是使用以構成兩側遠心的光學配置之方式，由沿光軸 AX方向依所定間隔配置的複數個透鏡元件而形成的折射 光學糸。此投影光學系PL具有所定的投影倍率，例如為 12 1283907 H415pifl 等倍。因此，利用由照明光學32而來的照明光IL照明光 罩Μ的照明區域時，通過此光罩M的照明光是透過投影 光學系PL，把光罩Μ上的照明區域部分的圖案之等倍正 立像’曝光至表面塗佈光阻的玻璃基板ρ上的前述照明區 域共軛的曝光區域。 光罩載台裝置33具備:前述基座43、在基座43上方 被非接觸地支持著的光罩載台MST、把光罩載台MST沿 掃瞄方向（相對移動方向）之χ軸方向（第丨方向）驅動所定 衝程，且在與X軸方向呈直交的γ軸方向（第2方向）微少 驅動的驅動系統44、承受伴隨著此光罩驅動系統44之驅 動光罩載台MST所產生之反作用力的反力遮斷用框45、 46。且，作為承受伴隨著此光罩載台MST的驅動所產生 之反作用力的機構，也可以用除了反力遮斷用框以外的其 他發聲圈馬達(voice-coil motor)。 如第2圖的斜視所示，光罩載台MST在中央部上有 具矩开> 開口的矩形狀，亦即是由矩形框狀的板狀構件所構 成，在此光罩載台MST的上面，設有3個真空夾頭(vacuum chuck)47a〜47c。利用此些真空夾頭47a〜47c，光罩Μ是被 吸者保持在光罩載台上。 在基座43上面，一對X導引部48Α、48Β是以一定 間隔在掃瞄方向之X軸方向延伸設置。此些X導引部 48Α、48Β的上方配置著光罩載台MST，該光罩載台MST 是利用設於其底部的複數個氣墊（空氣軸承)48，非接觸地 被支持在X導部48Α、48Β上。又，利用轉動導引部等， 13 1283907 11415pifl 以接觸狀態使光罩載台MST被支持在X導引部上。 在光罩載台MST的Y軸方向的兩側面上，一對可動 件60A、60B是朝γ軸方向突設著。設於+γ的可動件6〇B 疋包夾著在光罩載台MST的+Υ側端部的X軸方向中央部 所形成的切口 62的兩侧而分離配置著。然後，對應於此此 可動件60Α、60Β，在X導引部48Α、48Β的γ軸方向兩 外側處，構成可動件6QA、60Β及作為線性馬達的X馬達 61Α ·· 61Β，且以分別挾持可動件6〇Α、6〇Β的方式，把朝 光罩載台MST開口而呈匸字狀的固定件63Α、63Β沿χ 軸方向延伸設置。可動件60Α、60Β和光罩載台]VIST —同 利用由固定件63、63B之間電磁相互作用而生的洛羅茲 (Lorentz)力而被驅動往χ軸方向。 作為X馬達61A、61B，在此可使用公知的動圈 (moving-coil)型的線性馬達。且，作為一對的χ馬達，使 用動磁(m〇ving-magnet)型的線性馬達也沒關係。χ馬達 61A、61B是由主控制裝置(未圖示)控制。 在可動件60A、60B上，分別埋設著複數個與固定件 63A、63B對向的間隙感測器（未圖示）。各間隙感測器，是 把可動件60A和固定件63A之間的間隙量(gap量）以及可 動件60B和固定件63B之間的間隙量以非接觸的方式檢 出，例如可使用具有光學式2mm之作動範圍的反射型感 測器。 在固定件63A在X軸方向的兩端側，基座43是透過 一對位置調整裝置65A、65B(但在第2圖中65B未圖示） 14 1283907 11415pifl 被支持在反力遮斷用框45的先端。此反力遮斷用框45是 與構成基座43之一部分的本體圓柱34呈振動上相互獨立 者。同樣地，固定件63B在X軸方向的兩端側，是透過一 對位置調整裝置65A、65B被支持在反力遮斷用框46的先 端。此反力遮斷用框46是與本體圓柱34呈振動上相互獨 立者。作為位置調整裝置65A、65B，例如可使用壓力元 件，利用此壓力元件的驅動，可控制相對於可動件的固定 件的姿勢。反力遮斷用框45、46的基端，是透過在第1 圖所示的鏡筒定盤41、底床1及基座平板BP上分別形成 的開口部，而固定至地面FD。且反力遮斷用框45、46的 基端也可以設在鏡筒定盤41、底床丨及基座平板Bp的 側。 在光罩載台MST的切口 62的内部空間中，設有位於 ^導5丨部48B上且僅具掃瞄方向自由度的空氣滑板(也 =der)66。然後，在此空氣滑板66上設置γ馬達的固定件 67。作為此Y馬達，例如可使用音圈馬 關用電磁相互作用而產生的洛羅兹力，將設於 载台MST側之未圖示的可動件往掃瞄方向的γ軸方 °驅動，並把光罩載台MST往Y軸方向驅動。 達以^此空讀板66上，設有構毅氣滑板鶴用線性馬 馬達區動固疋件63B及空氣滑板66的可動件68。上述Y 往不論光罩載台MST位於何處皆需把光罩載台MST 達方向軸，所關絲圖示的_相1檢出Υ馬 如為空氣滑板66或固定件67)和光罩載台MST的距 15 1283907 11415pifl 離’以驅板驅動用線性馬達，藉此，以一直追縱 光罩載台MST的驅動。因此，把光罩載台MST往γ方向 驅動時的反力’是透過可動件68、固定件63B而被傳達至 反力遮斷用框46，更傳達至設置地板FD。 另方面 對二角棱鏡69A、69B被固定在光罩載 台MST之-X側的側面上，X干涉儀7〇對向於此些三角稜 鏡69A、69B被固定在基座43上面的_χ方向端部。此χ Τ* /V義70 μ卩示上是包含一對雙程干涉儀，對三角棱鏡 69Α、69Β投射干涉光束，再分別接受其反射光，以利用 所定的分解能’例如為〇·5〜lnm的分解能，計測三角稜鏡 69Α、69Β的X軸方向的位置。 且’包含未圖示的偏光分光器、1/4波長板等的光學 單元71是被固定在光罩載台MST上面的-Υ側的端部上。 對向於此光學單元71，在基座43上面的_γ方向端部上， 固定鏡72是沿χ軸方向被延伸設置。然後，利用包含光 予單元71、未圖示的光源單元及接收器等的γ干涉儀，透 ，固定鏡72，依所定的分解能，如為〇 5〜lmn程度的分解 能，計測光罩載台MST(及光罩M)的γ軸方向的位置。 第3圖繪示基板載台裝置35之全體結構斜視圖。 於X方向延伸的X軸導引部2a、2b是在Y方向間隔 77開而平行鋪設在底床1的上面，X滑架3a、3b是跨此些 各X軸導引部2a、2b的兩側部及上部而個別移動自如地 °又置著。在χ滑架3a、3b的上部，沿γ方向延伸，jl以 連結兩滑架3a、3b的橋狀方式，懸架樑導引部（導引構件)4 16 12839〇7 ll4lspifl 著。如第4圖所示，在X滑架3a、3b和X導 弓I部2a ’ °在X滑架3a、3b和X導 稱為襬動轴承的側面Γ'，配置數個空氣軸承6(以下 X滑板3a /請挪111§。空氣轴承5、6是被固定在 的4= t’對x導引部 所導弓j而在 及導引部4,是被X導引部2a、2b +在x方向移動自如的結構。且，X滑_ 3a、％ ；:方的空氣轴承省略的話也沒關係。 北 所示，在的上部，载置著Y滑架7。如第5圖 數個(在第和¥樑導々引部4的上面之間’配置著複 在Υ滑年7/“ 4個）空氣軸*8(以下稱為基座軸承）。 (在第二;部4的兩側面之間，配置著複丄 氣車由承8、9是被固轴承9(以下稱為側轴承）。這些空 在γ樑導引部4上：日上，=浮動(非接觸)支持 而在丫方方向軸疋被^料部4所引導 所支持著n1G是被複數個支持機構(未圖示） 平板支架η ::二上加;^:呆持著破璃基板P的 成本發明之載台本體及平板支架11是構 回到第3圖，在γ襟導引部4的兩 X線性馬達xu的可動件(第2可動件)丨’ j = -是沿著在X方向延伸設置的固定件 17 1283907 11415pifl 移動。此固定件1如、1仆和光罩載台河8丁之固定件63八、 63B同樣地，是透過位置調整裝置（第2位置調整裝置)被 支持在由壓力元件等所構成的反力遮斷用框46上。並設有 未圖示的間隙感測為（第2檢出裝置），以檢測可動件ι3&、 13b及固定件14a、14b之間的z方向間隙量。根據第2檢 出裝置檢測結果，把第2位置鋪裝置分別驅動往z方 向，藉此，可調整固定件14a、14b和可動件丨如、nb的 相對位置關係。 在底床1的下方，基座框21是透過複數個高度調整機 構20(茶照第4圖）設置在基座平板Bp上。在基座框2ι的 上複數個支柱（支持部)22是沿著z方向立設著。支柱 22是設成相對於底床！非接觸地貫通底床i上所形成的貫 通孔（第2貫通孔)la，並從底床1突出上端的狀態。於X 方向K申的從動導引框(f〇11〇wer f膽^阳是在Y方 向間隔分平行地配設在支柱22的上端。亦即，從動導 引框23是被設成相對於底床}為振動分離的狀態。 5 X方向延伸的從動導引部(follower guide)24a也是 動m從動導框23的上面。在各從 ，滑板24b是被配置成X方向以外的蒋 被限制的狀態。作 導引ί ΐ轉動接觸的線性動作導引部（即所謂的LM AU 或者是空氣軸承等的非接觸導引部等。 間，幻25是位於底床1及γ襟導引部4之 破W在滑板24b上。如第6圖所示，從動台25為平 1283907
Il4l5pifl '見圖王矩形狀，在其χ側兩端緣上，分別設有朝γ方向 ，伸的Υ線性馬達軸承26。在各γ線性馬達軸承26上， $裝著構成Υ線性馬達(驅動裝置)YL的固定件27。在各 、線/生馬達軸承26的雨端部上，分別設有從動X線性馬 2驅動裝置)XL2的可動件（第3可動件)28。可動件 未疋沿著上述被延伸設置於X方向的固定件14a、14b(14a 圖示）而移動。亦即，此可動件28和固定件14a、14b之 ^的間隙量是由上述第2檢出裝置檢測。然後，根據第2 ; 裝置的檢出結果，以分別驅動第2位置調整裝置朝z 向，藉此，可調整固定件14a、14b和可動件28的相對 位置關係。 上，=，在從動台25的X方向中央附近，在γ方向兩端 圖’ ^別設有從動載台保持機構(連結裝置）15(參照第4 ^彳欠動載台保持機構15是由：先端呈球狀的主軸15a、 l5a主^\15&往Y方向移動的直線導引部15b、驅動主轴 接=空氣轴承15c等構成。在x滑架3a、3b上，形成有 動，主軸15a(的球狀部)之圓錐軸承16。利用汽缸的驅 從勒^主軸1%與圓錐軸承接合/解除接合，藉此，便可把 2二:於x滑架3a、3b及γ樑導引部4 -體化地 曰 第7圖所示’女裝於Y滑架7上
：51 32 ^ Z 地支接^的轴周圍（/〇著破璃基板P的保持面)被回轉自如 哥考’並從Y滑架7的兩側與Y樑導引部4對向而押 19 1283907 11415pifl
下工氣輛承9，拉lL 性及負荷容量。二此二可獲得空氣轴承9所需的適切的剛 本發明的保持褒置:工氣轴承9 ’是利用微調螺絲5!構成 有使Y滑架往γ 且’在Y滑架7的寬方向兩側上，設 53，可動件53 ^驅動的[線性馬$几的可動件53、 互作用又所二用=定件27、27的電磁相 方向，所以，於此^可動件53是各獅立地被驅動往X 隙量(_量)是Γ未^件27和可動件之間的X方向之間 不達所定值以下。日Θ τ的間隙感心監控’以控制間隙量 ”之間的ζ方向H外設有檢出固定件27和可動件 以，在固定件2 7和Y 的間隙感測器(檢出裝置）。所 ”的兩端附近，組裂著墨力=幸=之間’位於固定件 圖示），根據檢出裳置的於件寻所構成的位置調裝置(未 往Z方向，藉此，可^果’分別驅動位置調整裝置 置關係。 ^固定件27與可動件53的相對位 更’如第8圖所示，•災 的下方，分別在可動件53的附二7配上’，Υ樑導引部4 置控制用的2個線性馬達54。 者可動件53的位 端緣上，沿Υ方向設有移動’2板支架11的+χ側 往被射照的Υ方向離開的計ζ 7圖，雷射干涉儀 57反射的反射光，藉此，可 ’是接受被移動鏡 Ρ)的X方向之位置及Ζ —圍的^^架U(即玻璃基板 另方面在由，月木7、平台10及平板支架11所構 20 1283907 11415pifl 成的主載σ (載口本體)上’電氣繞、線或空壓 給構件)17(參照第4圖）是被連接著，用^ 自载。衣置外。卩供給各種資源，此些麟類17是如第* 圖及第、9圖〜11圖所示，是作為基座框2i與從動台25的 中繼傳送而連接到主載台。 洋如後述’底床1上开彡成古彡i 7七人I 2 1上烙成有在Z方向貫通的貫通孔 入底床1下方的境線类員17是透過貫通孔ib，由從 動台25所中繼傳送。如第9圖所示，一組綠性導引部^ 是與從動台25之移動用導引部24a略平行(χ方向）地被 固定在從動台25的下面側。在線性導引部81上，滑板82 是在導引方向(X S向上被移動自如地安裝著。且，在此典 板82上，捲掛防塵薄板(蓋構件)85的動滑輪83，及捲: 規線類17之回轉自如的複數個滾輪84a是被支持而安妒至 滚輪保持板84b上。織，纟覽_ 17是拖繞著基座 的上方’貫通貫通孔lb’並捲掛於配置成半圓形的滾輪叫 上之後，折返而被導入從動台25的端部89。 ^防塵薄板85，一端是固定在從動導引框23,另端是固 定在動滑輪83，為兩端固定的薄板。且，太、^ 而疋 « 牡β板82上， 另外的防塵薄板(蓋構件)8ό的一端是被固定在與防塵 85相反側。防塵薄板86的捲取部87是被固定在從動導引 框23等上。 置 使第 當使玻璃基板Ρ往X方向(掃瞄方向）移動時， 21 1283907 11415pifl 圖所示的x線性馬達XL1及從動χ線 以此方式，X滑架3a、3b是呈被χ # ^達XL2作動。 引的狀態，Y樑導引部4是和主裁台—5 # 2a、2b所導 且，在滑板24b是被從動導引部2仆=往X方向移動。 台25是在Y樑導引部4與底床之間 的狀怨下，從動 此時，連接於Y滑架7上的可 方向移動。 台25之’件27的χ方向之間隙 及連接於從動 檢測結果被監控而被維持在一定值。*疋由間隙感測器的 動台25保持所定的相對位置關係口此’^主载台與從 動時，因為在主载台與從動台25之門二下而往X方向移 也不會變形，不會產生摩擰或 1所配設㈣線類Π 的外擾。 ’ 口而不會引起振動等 17，是如第;::u25 :基座：21之間所配設的纜線類 \ S4b 以便不會產生—直的 、攸動口 25 -同移動，所 保持板84b在χ方向t及抗力。又，I線類17是由滚輪 84b的移動量是從動° ，方’所以’滚輪保持板 上欲形成的貫通孔“大:二量的1/2。因此’底床1 動時，可從動滑輪83 δ 夂小。且，在從動台25移 板幻的位置的長H拉出防塵薄板％ ’以對應於滑 的場合，由此^塵而所以，即使在缓線類17發塵 孔lb，因而可抑制從動=覆蓋住貫通 而在上述γ摔ί7主載台上的發塵。 樑導弓1部4及從動台25往X方向移動時， 22 1283907 H415pifl 從動載台保持機構15的主轴15a是相對X滑架3a、3b的 圓錐轴承16解除接合，然而，X線性馬達XL1及從動X 線性馬達XL2的初始(initial)動作時等，藉由使主軸15a接 合至圓錐軸承16，可將Y樑導引部4及從動台25機械地 一體化以連結。在此場合，即使是在線性馬達XL1、XL2 的動作穩定前的狀態，也可把固定件27和可動件53的相 對位置關係保持為一定。 万面，當使玻璃基板P往Y方向（非掃瞄方向）移 ，時，便使Y線性馬達YL·作動。此時，讓可動件53跟 著線性編碼器54往同方向(在第7圖中為-Y方向），在同時 間』僅驅動同距離，藉此，γ滑架7 (即主滑架）是往γ方 向並進運動，主載台（玻璃基板P)便可步進移動。且，讓2 個可動件53跟著線性編碼ϋ 54，如第12 U所示往逆方 向在同日守間點僅驅動同距離的話，便可相對於γ樑導引 m滑架7在ζ軸周圍微回轉，而對正於玻璃基板ρ 的θ回轉(Θζ方向）。 5干如设述，在 休守W邵4的兩惻面對向配置的回轉 如的空氣轴承9，利用2個可動件53相互往 °私動，即使是Υ滑架7對γ樑導 合:可在維持空氣軸承表面正對於Υ樑導“二= 的同時’相互往反方向移動。此時， 之微調螺絲51的球體，是以對向 點為回轉中心而回轉移動。 ^9彼此的中間 ，的空氣嶋氣《的。厚果Γ)會; 23 12839〇7 U4l5pifl '骨架7之微小回轉。 第13圖繪不當Y滑架7在Z軸周圍回轉時之線性馬 與空氣軸承9之間的作用力之配合關係。相互呈反 4 ^作用的2個推力F與對向的空氣轴承9自γ樑導引部 的力R為動量一致的狀態，從回轉中心〇到可動件 ,、、的距離為L，從空氣軸承9承受反力尺的位置到回轉中 、0的距離為a，則從 F X L - R X a= 0的關係變成 F = R X a / L …⑴。 值夕在此處，R雖然是依存於空氣軸承9的剛性，但剛性 白夕為500Ν/μπι以下。在此處，以2jmraci作為γ滑架7 ^回轉角度，此時的空氣軸承9的間隙變化為1μη1，空氣 承9的剛性為500Ν/μηι，距離[為5〇〇mm，距離&為 ’線性馬達yl的推力ρ則從⑴式， 變為 F = 500 X 〇.7 /500 = 〇.7 N。 ^也就是說，即使考慮到各接觸部的摩擦力，也可以非 吊小的力使Y滑架7回轉。 μ /二工氣軸承9的钱間隙為G時，因為無法使γ /月木回至以上的程度，滑架7的回轉量會报微小。直 他的原因是’線性馬達YL的可動件53和固定件^之^ 編碼器的比率(s，與底床的間隙職 γ /月木7回轉的限制。作為檢測θ回轉的回轉 可以是在平板核U上所設的未_之接觸式或非^ 式的基板端面計職置，也相是設置於主載台外部的接 24 1283907 11415pifl 觸式或非接觸式的基板端面計測裝置。當使用主载台外部 的計測裝置的場合時，在玻璃基板p欲載置平板支架η 之前，把玻璃基板ρ的傾斜資訊輸出至未圖示的驅動控制 裝置。驅動控制裝置，是利用可動件53與線性編碼器Μ 的計測值補正玻璃基板Ρ之回轉誤差的方式，預先使Υ严 架7回轉。 ⑺ 此時，當需使Υ滑架7大回轉的場合，接受主載台之 定位用計測手段的雷射干涉儀之計測光束56的移動鏡7 W 會太過傾斜而不入射至未圖示的干涉儀，則成為有錯誤 (error)的場合(參照第12圖）。即使是在像這樣的場合中， 由上述的2個線性編碼器54計測γ滑架7的回轉量，平 板支架11會在玻璃基板ρ自未圖示的基板搬送裝置安裝 後，使Y滑架7回到正常的位置，並使雷射干涉儀回復， 所以，不需高精度對位的複雜機構，可迅速地對位，且無 損於平板支架11的平面度。 … 接著，說明曝光裝置31的曝光動作。 ¥開始曝光處理時，利用未圖示的掃目苗用控制器，使 保持光罩M的光罩載台MST，及保持玻璃基板ρ的基板 載台裝置35的主載台對照明光IL同樣朝向X軸方向，並 以同速度同步移動。以此方式，照明光正所照明的光罩M 之圖案則逐次被曝光在玻璃基板ρ上。此時，從動台25 雖然也是和主載台同步移動，但是，因為是透過支持從動 台25的支柱22及Y樑導引部4，被配置成與支持主載台 的底床1呈振動分離的狀況，所以，可避免伴隨著從動台 25 1283907 11415pifl 25移動之振動被傳達至主載台上。 且，利用此同步移動，對防振台12施以偏荷重而使沈 入量不一定，藉此，光罩載台MST之基座43及基板載台 裝置35的底床1會傾斜，光罩載台MS丁之χ馬達61八二 61B、基板載台裝置35之X線性馬達XL1及γ線性馬達 YL的固定件和可動件會相對地傾斜。因此，在此些固定 件和可動件之間的間隙量會變動，並根據各線性馬達所設 的間隙感測器的檢測結果而驅動位置調整裝置，藉此，以 調整各線性馬達的固定件的姿勢。以此方式，各^定件和 可動件的相對角度會變成零，並可把此些固定件和 之間的間隙量維持在所定值。 動件 且，伴隨著光罩載台MST往X方向及γ方向移動的 反力，是透過固定件63A、63B而被傳達至反力遮斷用框 46，於是在光罩載台MST上，因反力而產生的外擾便不 會作用。同樣地，伴隨著基板載台35的主載台往X^方向 移動的反力，是透過固定件14a、14b被傳達至反力遮斷用 框46,在主載台上，因反力而產生的外擾便不會作用。且， 伴隨著主載台往Y方向移動的反力，雖然是透過固定件W 被傳達至從動台25，但如已說明過的那樣，因為是被配置 成和支柱22及底床1為振動分離的狀況，由反力產生 擾便不會作用至主載台上。 如以上所述，在本實施例中，因為從動台25是支持γ 線性馬達YL的固定件27而移動，所以，線性馬達 驅動主載台及Y樑導引部4Χ往X方向時可減輕移動重 26 1283907 11415pifl 里’並可防止馬達的控制性低下。因此，可改善被保持在 主載台上的玻璃基板P的位置控制性及速度控制性，也可 期待轉寫於玻璃基板P上的圖案之轉寫精度的改善。 、且，在本實施例中，因為是把此從動台25配置在γ 樑導引部與底床1之間，所以不需把底床丨做成大平面， 且可使底床1要求高精度部分變少，同時可避免裝置的大 型化。更，當由纜線類中繼傳送從動台25的場合，利用γ 樑導引部4的存在，即使因纜線17的摩擦而發塵，主載台 上的玻璃基板Ρ上也不易附著異物，因而可抑制曝光處理 之不良品的發生。特別是，在本發明的實施例中，即使從 動台25往X方向移動，因為纜線類17所貫通的貫通孔比 可由防塵薄板85、86及從動台25覆蓋，因而可確實抑制 異物往玻璃基板P附著上去。 、 且，在本實施例中，因為支柱22和底床1為振動分離， 伴隨著主載台或從動台25、防塵蓋85、86的移動之外擾 便不會對主載台有不良的影響，且，又因為纜線類17為非 接觸地貫通底床1，便可防止因纜線類17的變形對主載台 所造成的恆常及衝擊的抗力。除此之外，在本實施例中， 從動台25等的從動侧的重量不會掛在底床1上，在X車由 導引部2a、2b上不會產生變形，結果是，可提昇關於主载 台之控制迴圈的增益，因而可實現應答性高的高精度定位 及位置追縱性。 又’在本實施例中，因為使主載台在Z軸周圍為可回 轉’所以可容易地執行對於玻璃基板ρ的對位。且，在本 27 1283907 H415pifl 為吏可動件53、53才目互呈反方向驅動而使主 ，力轉’不需額外的複雜的機構，可迅速且無損於平拓 支架11之平面度地定位玻璃基板p(對位）。、、千板 m因此，在本實施例中，雖從動台25與底床1為機械的 ^動的）分離，但卻是在底床丨下方所設置的基座框21= 連…，在調整基座框21的位置之後，把基座框21從底床 1垂I目而可在維持底床1與基座框21之相對位置關係 的狀恶下，支持底床1的下部而輸送，不需分解基板載台 裝置，可縮短現場組裝的時間。 又，在上述實施例中，為了維持固定件與可動件的相 對位置關係，雖然是做成根據間隙感測器的檢測結果而調 整固定件之位置的結構，然而並不限定於此，也可以調整 可動件的位置、或者是調整固定件及可動件雙方的位置亦 可。 而且，在上述實施例中，本發明的載台裝置雖適用於 基板載台裝置，然而也可適用於僅只光罩載台，或是基板 載台裝置及光罩載台雙方。更，在上述實施例的形態中， 本發明的載台裝置雖是做成適用於曝光裝置31的結構，然 而並不限定於此，亦可適用於除了曝光裝置31以外的轉寫 光罩描繪裝置、光罩圖案的位置座標測定裝置等的精密測 定機器。 且，作為本實施例的基板，不僅可使用液晶顯示器用 的玻螭基板P，半導體元件用的半導體晶圓、薄膜磁頭用 的陶瓷晶片，或是曝光裝置中所用的光罩或是光栅原版(合 28 1283907 "4l5pifl 成石英、矽晶圓）等皆適用。 作為曝光裝置31，除了與光罩Μ及玻璃基板P同步 移動而將光罩Μ的圖案掃瞄曝光的逐步掃瞄方式的掃瞄 型曝光裝置(掃瞄步進器;USP5,473,410)以外，與光罩Μ及 玻璃基板Ρ呈靜止狀態而使光罩Μ的圖案曝光，使玻璃基 板順次步進移動的步進重覆方式的投影曝光裝置（步進器） 也適用。 作為曝光裝置31的種類，並不限於液晶顯示器製造用 的曝光裝置，把半導體元件圖案曝光至晶圓半導體的半導 體元件製造用曝光裝置，或是為了製造薄膜磁頭，攝像元 件(CCD)或是光柵等而用的曝光裝置等也可廣泛地適用。 且，作马曝光用照明光的光源，不僅可使用由超高壓 水銀燈產生的射線(g線(436nm)、h線(4〇4 7nm)、I線 (365nm))、KrF準分子雷射（248nm)、ArF準分子雷射 雷射（157nm)，也可以用x線或是電子線等的 電荷粒子線。例如，使用電子線的場合之電子搶，可使用 熱電子放射型的硼化鑭（LaB6)，鈕(Ta)。更，在使用電子 線的場合，可採利用光罩Μ的結構，亦可不用光罩M而 直接把圖案㊉成在玻璃基板上的結構。亦可以使用YAG 雷射或是半導體雷射等的高頻波。 系比^影光學PL的倍率，稼是等倍系，縮小.或是放大 遠i外線二1 為投影光學系pl，當使用準分子雷射等的 、土蜘从\，作為硝材，是使用透過石英或螢石等的 退备、卜線的材料，當使用F2雷射或X線的場合，反 29 1283907 11415pifl 射系或折射系的光學系（光栅R也是利用反射型者），及使 用電T線的場合中，作為光學系，亦可使用電子透鏡及由 偏向為所構成的電子光學系。而，不用投影光學系PL，使 光罩Μ與玻璃基板p密接，而曝光光罩M之圖案的近距 曝光裝置亦適用。 當在基板載台裝置35或光罩載台MST上使用線性馬 達(參照USP5,623,853或是USI>5,528，118)的場合，利用空 氣軸承的空氣浮上型及利用洛羅茲力或反作用力的磁氣浮 f型=兩者中任一者皆可用。且，各載台35、MST即使 疋沿著導引部而移動的型式亦可，未設導引部而為無導引 部的型式亦可。 各載台，作為MST驅動機構，使配置二維磁石的磁 石（永久)與配置二維線圈的電機單元對向，使用由電磁力 驅動各載台35，及驅動MST的平面馬達亦可。在此場合， 把磁石單元及電機單元中任一方連接至載台35、MST，除 了磁石單元及電機單元以外，也可設在載台35、MS的移 動面側(基座）。 如上述說明那樣，本發明實施例的曝光裝置31，可將 包含本專利申請範圍所列舉的各構成元件之各子系統，保 持所定的機械精度、電氣精度、光學精度，而組裝製造。 為確保此些各種精度，在此組裝的前後，要進行:為達成各 種光學系之光學精度的調整、為達成各種機械系之機械精 度的調整，及為達成各種電氣系之電氣精度的調整。從各 種子系統組裝到曝光裝置的工程中，包含各種子系統相互 !2839〇7 ll4lSpifl 的，械的連接、電氣回路的配線連接、氣壓回路的配管連 ，等。在將此些子系統組裝至曝光裝置之前，各子系統當 然需進行各自的組裝工程。在各種子系統組裝到曝光裝^ 的工程終了之後，再進行總合調整，以確保曝光裝置全體 的各種精度。且，曝光裝置的製造，較佳的是在溫度及清 /爭度管理的無塵室進行。 液晶顯示器裝置或半導體元件等的裝置，是如第Μ 圖所示，經由下列步驟而製造:進行液晶顯示裝置等的機能 /性能設計的步驟201、製造依據此設計步驟的光罩（光柵· 勺乂！^ 202、由石英製作玻璃基板p，或是由石夕材料製作 晶圓的步驟203、利用前述實施例的掃瞄型曝光裝置31， 將光栅R的圖案曝光至玻璃基板P(或是晶圓）上的步驟 =4、液晶顯示裝置等的組裝步驟(若為晶圓的場合，則包 含切割工程、打線工程、封裝工程)2〇5、檢查步驟2〇6等。 由以上的說明，在本發明中，可不損及線性馬達等的 驅動裝置的控制性，且可達裝置的輕巧化，又可抑制由資 源供給構件產生的發塵。而且，本發明不需複雜的機構，、 不會產生基板的位置偏移或是支架平面度惡化，可高精 度、紐時間地進行基板的定位。更，在本發明中，不需分 解載台裝置，可在維持精度的狀態下進行輸送，同時^ 達縮短現場組裝時間的效果。 雖然本發明已以較佳實施例揭露如上，然其並非用以 限J本發明，任何熟習此技藝者，在不脫離本發明之精神 和範圍内，當可作些許之更動與潤飾，因此本發明之保護 · 31 1283907 11415pifl 範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。 【圖式簡單說明】 第1圖繪示本發明的一實施例之曝光裝置的概略構成 圖。 第2圖繪示構成同一曝光裝置的光罩載台的外觀斜視 圖。 第3圖繪示本發明之基板載台裝置的全體結構的斜視 圖。 第4圖繪示第3圖的側面圖。 第5圖繪示第3圖的簡略化示圖。 第6圖僅繪示與從動台6有關的結構之外觀斜示圖。 第7圖繪示主載台部的概略結構圖。 第8圖繪示第7圖的側面圖。 第9圖繪示中繼傳送纜線類的從動台之局部詳細圖。 第10圖繪示中繼傳送纜線類的從動台之局部詳細圖。 第11圖繪示中繼傳送纜線類的從動台之局部詳細圖。 第12圖繪示在第7圖中使Y滑架回轉後之圖。 第13圖緣示Y滑架回轉的時候，線性馬達與空氣軸 承之動作相配合的關係圖。 第14圖繪示液晶顯示裝置的製造工程之一例示的流 程圖。 第15圖繪示習知的基板載台裝置之一例示的外觀斜 視圖。 【主要元件符號說明】 32 1283907 11415pifl Μ :光罩（光栅） P :玻璃基板 XL1 : X線性馬達， XL2 :從動X線性馬達(第2驅動裝置) YL : Y線性馬達(驅動裝置） I :底床(基座） la :貫通孔（第2貫通孔） lb :貫通孔 2a、2b : X軸導引部 3a、3b ·· X 滑架 4 : Y樑導引部（導引構件） 5、6 :空氣軸承 7 : Y滑架(載台本體） 9 :空氣軸承(保持裝置） 10 :平台（載台本體） II :平板支架（載台本體） 12 :防振台 13a、13b :可動件（第2可動件） 14a、14b :固定件（第2固定件） 15 :從動載台保持機構(連結裝置） 17 :纜線類（資源供給構件） 21 :基座框 22 :支柱(支持部） 23 :從動導引框 33 1283907 11415pifl 24a :從動導引部 25 :從動台（從動載台） 26 : Y線性馬達軸承， 27 :固定件 28 :可動件（第3可動件） 31 :曝光裝置 35 :基板載台裝置(載台裝置) 51 :微調螺絲 53 :可動件 85、86 :防塵薄板（蓋構件） 34