TW594335B - Active-matrix addressing liquid-crystal display device using lateral electric field - Google Patents
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Description
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五、發明說明(1) [發明所屬之技術領域] 本發明係有關於液晶顯示器元件。尤其是’本發明係 有關於一種使用橫向電%的主動式矩陣驅動浪曰曰”、、員示器元 件,具有改良的透光性及較高的製造良率。 [先前技術] 由薄膜電晶體(thin-film transistor)作透明晝素的 開關元件能提供高階的影像品質,而用該薄膜電晶體的主 動式矩陣液晶顯示器元件,已被廣泛用於顯禾元件,如可 攜式或筆記型電腦。近來更被用於省空間的桌上型電腦監 視元件。 主動式 件中,液晶 基板對(t h e 所需的影像 平面旋轉, 器元件為扭 第二類液晶 switching, 驅動或幾近 場(1 a t e r a 1 橫向電 晶顯示器元 液晶顯示器 矩陣液晶顯示器元件可歸為兩類 、〜 分子軸的位向稱指示器(indicator),垂直於 pair of substrates)的平面旋轉,由此顯示 。在第二類元件中,該指示器平行於基板對的 由此顯示所需的影像。典型的第一類液晶顯示 轉向列(twisted nematic, TN)型,而典型的 顯不器元件為橫向電場切換(in —plane I PS)型。由於在液晶層内的液晶分子被電場 於平行基板對的平面旋轉’因而又稱為橫向電 electric field)模式。 場切換型液晶顯示器元侔 件的優點為具有較寬的視角;":,轉向列型液 元件常被用作大面積顯4件因此,該類型之 凡件。明確的說,就
2127-5415-PF(Nl).ptd 第6頁 594335 五、發明說明(2) 橫向電場切換型液晶 者大約是沿著液晶$ 動他(她)的視角。因 或具低視角關聯性。 顯示器元件而言,因為觀看者或使用 子之短軸方向觀看,即使是他(她)移 此,液晶分子的傾角(ΐ i 1 t a n g 1 e )無 另'一方面而言, 開口率,致使透光性 料所組成驅動電極作 1 i n e ),在基板對之一 間偶合。因此,針對 提出討論及開發。 先前所開發的改 3123273 號,2000 年1 下特點: 橫向電場切換型液晶顯示器元件具低 亦降低。這是因為由不透光的導電材 為掃描線(s c a η 1 i n e )或資料線(d a t a 一的面上形成,並使液晶層保持在其 提升透光性,至今有各種改善方法被 善方法,以揭露於曰本專利第 0月2 7發行。其改善方法或技術具以 (1 )面對液晶的訊號線(s i g n a 1 1 i n e )部份,僅部份以 導體覆蓋。(2)該導體與源極電極或共同電極電性連結, 其目的在於施加電場於幾***行基板的液晶層上。 有於上述特點(η和(2),自訊號線所產I不相要的電 場便遮蔽或隔離共同電極,因而擴張各個畫素的^效顯示 區域。因此可增加各個晝素的開口率, .L m 而提升。 手先的使用效率也因 並且,於1997年3月18日的日本早# 9 - 7 3 1 0 1號中,揭露以透明的材料作 j公開專利第 的改善方法,因而強化光的使用效率'‘造驅動液晶電極 附帶一提,主動式矩陣驅動液曰 曰曰顯示器元件具以下基
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本操作原理 作模式。 然而此操作原理無關於液晶顯示器元件的操 #、更明確的說’藉薄膜電晶體作為開關元件,想要的電 街被寫入於該介電液晶層,藉由被寫入的電荷所產生的電 場’因此得以控制在液晶層内的液晶分子位向。因此,自 外邛光線透過液晶分子層的穿透狀態得以控制在液晶顯示, 為元件螢幕顯示想要的影像。 , 被寫入的電荷(即所產生的電場)被保持住直到下一次 (即在一時間訊框(f rame)内)新的電荷被寫入該液晶層是 種理想的狀況。然而,該液晶之介電常數為非等向性, 且因此’液晶分子會隨電場方向旋轉。上述導致所產生的 電%下降’以下稱為介電鬆弛(dieiectric relaxation) 。為抑制由介電鬆弛所導致的電場下降,與該液晶電容具 特疋比例的儲存電容(s t 〇 r a g e c a p a c丨七〇 r )被形成以增加 當薄膜電晶體被打開(t u r η - ο η)時被寫入電荷的品質。因 此’既使在介電鬆弛發生及電場下降的情況下,被寫入於 儲存電容的電荷分散於液晶電容中以補償上述電場的下 降0 儲存電容具抑制晝素電壓下降的功效(通常表示為導 通電壓(feed through voltage,Avp)),發生在當薄膜電 晶體由打開的狀態轉換為關閉的狀態。因此,這些電荷也 被用來作為晝面閃爍的量測。 導通(feed through )的成因乃由於介於薄膜電晶體 閘極電極與源極電極之間寄生電容(parasi tic
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capacitor,Cgs)所造成。更進一步具體說明,當薄膜電晶 體由閘極脈衝訊號所打開時,電荷被寫入以及被儲存於個 個畫素的液晶電容(clc)和儲存電容(Csc)之中。在此時薄膜 電晶體被關閉,已被被儲存於液晶電容和儲存電容中的電 荷被重新分配於相對應的電容中,導致上述之導通現象。 因為使用彳κ向電%之液晶顯示器元件並不需要透明電極形 成於扭轉向列型液晶顯示器元件的彩色濾光基板(即上述 之相對基板)上’自晝素電極以及共同電極所產生的電力 線(the line of electrical force)會穿透相對基板的彩 色層。易言之’該使用橫向電場之液晶顯示器元件的穿透 電壓Δνρ可表示為彩色層電容的函數()。因此,該穿 透電壓Δνρ可由下列方程式(1)求得。 AVP = Cgs/(Cgs + Csc + Clc + Ccolor) X (Vgon-Vgoff) (1) 其中’ VgQn &VgQff分別為薄膜電晶體之打開及關閉閘極電 壓。 為增加橫向電場切換型液晶顯示 有需要將導通電壓△ VP壓制或減 由上述說明可了解, 器元件的儲存電容(Csc ), ο 以下敘述可作為橫向電場 用橫向電場之液晶顯示器元件 於使用橫向電場之其他任何模 再說的。 ~ 切換型液晶顯示器元件供使 的典型範例。然而,可實施 式的液晶顯示器元件是無需 在橫向電場切換型液θ -- 刑Α於责幸日顯不為兀件中的儲存電容為典 型的形成於直京電極和今屬十憎+ a > θ日 不孟屬或導電層之間的層間介電層,
594335 五、發明說明(5) 上述金屬或導電層由兩種方法以保持固定電壓,共同儲存 (common storage)法及閘極儲存(gate storage)法。 上述之閘極儲存法為一形成儲存電容於前段 (prior-stage)掃描線與該相對應之晝素電極之間的方 法。於此方法中,該位於前段(pri〇r —stage)掃描線與該 相對應之晝素電極之間之儲存電容作為該相對應之掃描線· 訊號的負載,且因此有以下缺點,相對應之閘極線訊號很、 可能被延遲以及在面板平面内的面板穿透度很可能被分散
另方面上述之共同儲存法以形成儲存電容於共f f極與畫素電極之間的方》。在橫向電場切換型液晶顯j 器兀件中,由各個晝素提供梳—齒狀(comb-tooth-shaped 共同電極,且因此該儲存電容易於形成於共同電極盥查 電極之間。而且,因位於該掃描線訊號無給 7 ; 該掃描線訊號不可能被延遲。有鑑於此,上述之共二 法較適用於橫向電場切換型液晶顯示器元件。 ; 當t晶顯示器元件為A尺寸時,該共通電極線及 電極通常以不透明的導電材料所組成。理由如下.、" 明確的說,共同電極線需要用低f阻之
(wiring material)所細士 r丄抑两 十 力口々 川所組成(如早層的鉻、鈦、鉬、钨 ^ ^ ^ 夕層結構),以避免共同電極電壓式雷 位的傳播延遲。即使上述電極材料^t s : 乍為開孔,且因此對光的穿透並益貢獻^ 且,當共同電極線由盥播艸妗如门u ,, …貝獻。而 欠田挪^田線相同材料所組成,
594335 五、發明說明(6) 掃描線於相同的製程步驟形成以避免增加不需要之薄膜電 晶體製程步驟,低電阻、不透明、導電的材料需要被用以 降低掃描線與共同電極線之繞線電阻(w i r i ng resistance)以及保護薄膜電晶體對外來光線之背部通道 部分。在此例中,被共同電極線所覆蓋的區域亦不作為開 孔’且因此對光的穿透並無貢獻。除此之外,低電阻、不 透明之繞線材料需要被用以降低資料線之繞線電阻。 而且,若共同電極被形成以覆蓋資料線,進而避免由 資料線訊號所產生的電場,該資料線訊號是源自藉開口 施於液晶層,亦即資料線與共同電極之間的寄生電容捭 加。上述導致賁料線訊號的穿透,使 1 遲。為了避免資料線訊號之延遲,資料線斑=延 的寄生電容增加必須被抑制。上5二二S二2電極之間 得以實施,該層間介電展 + , ^ s間介電層 電極之間具低的介電m貢料線與遮蔽資料線的共同 位於資料線與共同電極之門^ f由形成一厚的層間介電層 為能穩定顯示操作所需且I_相對高的介電常數。因此, 形成於資料線層級與共同電椏的儲存電容便無法 形成於共同電極線層級盥 :3。然而,此電容兩 共同電極線與資料線之間二級之間。若如此,介: 該儲存電容之電容值。然而:可變薄以增加上述 率下降的機率亦會上升,由電路短路所導致的f 以增加儲左+ 六问電 曰力储存電容的區域自最為
苐π頁 特性將受到不好的影響。费=同時,薄膜電晶體的開= 極線之間形成三明治結構,::此1掃描線於兩共 594335 五、發明說明(7) 有效的方法。 更進一步說明,針對橫向電場切換型液晶顯示器元 件’如圖22所示,電場施於液晶層的方向,在每行 (column)的端點被複雜化。上述的行定義為圍繞在梳一齒 狀共同電極之齒的部分以及梳—齒狀共同電極之齒附近的 延伸區域。因此,以下現象傾向發生在電場複雜的情況 下。 明確的說,形成一區域(亦即正常領域(n〇rmal d 〇 m a i η))’其液晶分子的位向旋轉至想要的方向,且同 時’形成另一區域(亦即非正常領域(a b η 〇 r m a i doma i n)) ’其液晶分子的位向旋轉至想要方向的相反方 向。於非正常領域中,其液晶分子的位向無法旋轉至想要 的方向’除非有比正常領域所施加之電場更強的電場。因 此’上述之非正常領域幾乎不貢獻於增加該液晶顯示器元 件的面板穿透度’此即意味著該面板穿透度下降。並且, 因為液晶分子的位向在正常領域與非正常領域邊界處,無 論其施加電場的強度大小,幾乎不旋轉,因此正常領域與
交錯安排或不對稱圖案的電極, 曰。於此技術中,驅動液 ^共同電極)被形成以具有 其中各個電極都具有橫向 594335
594335 五、發明說明(9) 一 度會下降。 第一個問題為有效的開口率降低以及穿透度亦降低。 更明確的說,上述之導電層(亦即由與構成資料線金屬層 相同的金屬層)以及晝素電極形成於不同製程步驟之不同 層級。因此,若在此兩層間存在一覆蓋誤差(〇verlay error ),上述之導電層與畫素電極之重複區域延伸,且因 此各個畫素電極之有效開口率下降,這意味著穿透度會下, 降0 、第二個問題為在於全白(all—white)的顯示操作時, 發光度會下降。更明確的說,在導電層(亦即與構成資料 線^屬層相同的金屬層)以及上述之梳—齒狀之畫素電極的 重複區域’電場強度會局部地增加。因此,在各個晝素中 電場強度會波動,導致在全白(aU — whi te)的顯示操作時 發光度會下降。 第四個問題為製造良率會下降。更明確的說,透明的 旦素電極與透明的共同電極傾向斷開(disconnecf),由 於晝素與共同電極以及其下方的金屬層(亦即掃描線與資 料線)之間的階梯狀(step-shape)間隙,導致在圖案電極 再蝕刻時,產生不想要的斷開。因此,上述之橫向電場並 非部分施於液晶層,導致在顯示操作時的缺失。此乃導致 液晶顯示器元件的製造良率下降。 [發明内容] 有鑑於此,本發明的目的在於提供一種使用橫向電場 ·
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2127-5415-PF(Nl).ptd 594335 五、發明說明(ίο) 的主動式矩陣驅動液晶顯示器元件,並使較高的穿透度與 較高的製造良率得以實現。 本發明的另一目的在於提供一種使用橫向電場的主動 式矩陣驅動液晶顯示器元件,改善開口率而不提高製造成 本。 對上述目的連同未明確提出的其他目的,可由以下描 述使熟習此項技藝者更明顯易懂。 依據本發明之第一種型態,提供一種主動式矩陣驅動 液晶顯示器元件,此元件包含: 一具主動元件的基板; 一與該具主動式元件的基板相耦合之相對基板; 一液晶層形成於該具主動式元件的基板與該相對基板 之間; 複數個晝素電極位於該具主動式元件的基板上以一晝 素矩陣陣列排列方式形成; 一共同電極於該具主動式元件的基板上形成以被所有 晝素共同使用; 複數個開關元件於該具主動式元件的基板上形成以被 上述個別晝素使用; 複數條掃描線形成於該具主動式元件的基板上,使掃 描訊號藉由該些掃描線傳送到該些元件; 複數條資料線形成於該具主動式元件的基板上,使資 料訊號藉由該些資料線傳送到該些元件; 複數條共同電極線形成於該具主動式元件的基板上,
2127-5415-PF(Nl).ptd 第15頁 594335 五、發明說明(11) 使固定電位藉由該些共同電極線施於該共同電極; 該些共同電極線其中兩條被用於上述各個畫素; 複數個圖案化的晝素電位層形成於該主動式元件基板 上,藉由一***的介電層與該些共同電極線重疊; 該些圖案的畫素電位層其中兩條被用於上述各個晝 素; 其中由該些共同電極線之一第一共同電極線、該些晝 素電位層之一第一畫素電位層及該***的介電層組成一第 一儲存電容用於上述各個畫素;且於此同時,由一該些共 同電極線之第二共同電極線、一該些畫素電位層之第二畫 素電位層及該***的介電層組成一第二儲存電容用於該相 同畫素;以及 其中該些晝素電位層之第一晝素電位層和該些晝素電 位層之第二畫素電位層為藉由一該些畫素電極相對應之一 晝素電極彼此間電性相連;以及 其中該第一儲存電容位於靠近該些掃描線相對應之一 掃描線,且該第二儲存電容位於靠近該些晝素所緊鄰的掃 描線之一掃描線。 依據本發明之第一種型態的液晶顯示器元件,該些共 同電極線之一第一共同電極線、該些畫素電位層之一第一 畫素電位層及該***的介電層組成一第一儲存電容用於上 述各個晝素;且於此同時,由一該些共同電極線之第二共 同電極線、一該些晝素電位層之第二晝素電位層及該*** 的介電層組成一第二儲存電容用於該相同晝素。以及,其
2127-5415-PF(Nl).ptd 第16頁 594335 五、發明說明(12) "— -- 中該些晝素電位層之第一畫素電位層和該些畫素電位層之 第二畫素電位層為藉由一該些晝素電極相對應之一畫^電 極彼此間電性相連。該晝素電極為透明。 因此,上述所確認的第一個問題得以解決。換句話 次,導因於施加電場的液晶分子的旋轉完全貢獻於面板透 光f。因此,得以避免可得到的總面板透光度下降。此意 味著可得一較高的透光度。 由於在各個晝素中,連接第一及第二儲存電容無需額 外的連接金屬層,因此製程步驟的數目得以降低,這導致 了較高的製造良率。 而且’藉由相對的晝素電極使的第一畫素電位層與第 二畫素電位層彼此間相互電性相連。無需額外的相互連接 =^層。因此,上述確認的第二個問題中所提及之可能的 覆蓋誤差得以避免。因此,開口率得以改善而不提高製造 成本。 依據本發明之第一種型態,於較佳實施的元件中,由 無機材料所製成的一單一的層間介電層,額外地提供在資 料線與共同電極之間。
依據本發明之第一種型態,於另一較佳實施方式中, 一彩色層額外地提供在相對基板上。 、 依據本發明之第一種型態,於另一較佳實施方式中, 無彩色層額外地提供在相對基板上。 依據本發明之第一種型態,於另一較佳實施方式中, 其中各個晝素的第一與第二晝素電位層被排列與資料線幾
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2127-5415-PF(Nl).ptd 第18頁 594335 五、發明說明(14) 影像均句度。 依據本發明之第一種型態,於另一較佳實施方式中, 該共同電極由一與端點電極相同的導電材料所製成,用於 施加電性訊號於該些掃描線、該些資料線及該些共同電極 線,至少上述其中之一。該共同電極於與端點電極相同的 製程步驟中形成。額外的優點在於端點得以形成而不增加 任何製程步驟。 在此實施方式中,較佳方式為在該些晝素電極與該共 同電極重疊區域處,晝素電極與共同電極的寬度寬於該些 共同電極線與該些資料線。其中該共同電極具該些共通電 極線與該些資料線。額外的優點在於畫素電極與共同電極 的局部斷開得以避免。 在此實施方式中,較佳方式為晝素電極與共同電極由 氧化銦錫(ITO)或氧化銦鋅(IZO)所製成。因為氧化銦錫及 氧化銦鋅的電化性(e 1 e c t r 〇 c h e m i c a 1 1 y )穩定,額外的優 點在於畫素電極與共同電極可形成如想要的高度透明。 依據本發明之第二種型態,另一種主動式矩陣驅動液 晶顯不裔元件^包括· 一具主動式元件的基板; 一與該具主動式元件的基板相耦合之相對基板; 一液晶層形成於該具主動式元件的基板與該相對基板 之間; 複數個晝素電極形成於該具主動式元件的基板上,以 晝素矩陣陣列排列方式形成;
2127-5415-PF(Nl).ptd 第19頁 594335 五、發明說明(15) 一共同電極形成於該具主動式元件的基板上,以被所 有畫素共同使用; 複數個開關元件形成於具主動式元件的基板上,以被 上述個別晝素使用; 複數條掃描線形成於該具主動式元件的基板上,使掃 描訊號藉由該些掃描線傳送到該些元件; 複數條資料線形成於該具主動式元件的基板上,使資 料訊號藉由該些資料線傳送到該些元件; 複數條共同電極線形成於該具主動式元件的基板上, 使固定電位藉由該些共同電極線施於該共同電極; 該些共同電極線其中兩條被用於上述各個晝素; 複數個具圖案的晝素電位層形成於該具主動式元件的 基板上,藉由一***的介電層與該些共同電極線重疊; 該些具圖案的晝素電位層其中兩條被用於上述各個晝 素; 其中由該些共同電極線之一第一共同電極線、該些晝 素電位層之一第一晝素電位層及該***的介電層組成一第 一儲存電容用於上述各個晝素;且於此同時,由該些共同 電極線之一第二共同電極線、該些晝素電位層之一第二晝 素電位層及該***的介電層組成一第二儲存電容用於該相 同晝素;以及 其中該些晝素電位層之第一晝素電位層和該些畫素電 位層之第二晝素電位層為彼此間電性相連,藉由一相互連 接電極,形成於該具主動式元件的基板上,以最大的距離
2127-5415-PF(Nl).ptd 第20頁 594335 五、發明說明(16) 與液晶層分離; 其中該第-儲存電容位於靠近該 掃描線,且該第二儲存電容位於靠近^此:凌相對應之一 描線之一掃描線。 μ二里素所緊鄰的掃 依據本發明之第二種型能, 有與依據本發明之第—種型i的液晶顯;;顯示器元件具 構,除了 「該些畫素電位層之第一晝 疋件相同的結 電位層之第二晝素電位層為彼此間;性::層:該些晝素 連接電極,形成於該具主動式元件的基 ,错,一相互 離與液晶層分離」。 土 上’以最大的距 因此,穿透的光線被相互連 上述電極以最大的距離與液晶層分離。因隔離。然而, 的電極對液晶的液晶施予極弱的電口=該相互連接 畫素中相對行的電場變動很小1 二未著對在各個 極對可得到的穿透度並無壞 此互連接的電 相對於以透明畫素電極形成相互連接穿透度使 土。因此’依據本發明之第二種型 ::貫:方 具與本發明之第-種型態的佳實施的元 依據本發明之第二種型態,於較佳實n 些相互連接電極位於與該些共同電極盥此= ,忒 的層級。 、、泉/、5亥些知描線相同 依據本發明之第二種型態,於 該些共同電極線位於與該些掃描線不同:::施:式中, 連接電極位於與該些共同電極線相同的層二、。"些相互
2127-5415-PF(Nl).ptd 第21頁 594335 五、發明說明(17) 依據本發明之第二種型態,於另一較佳實施方式中, 用於上述各個晝素的該第一及該第二畫素電位層彼此分 離,被排列於幾***行於該些資料線的方向。上述各個晝 素的該第一及該第二晝素電位層藉由一接觸孔與該些晝素 電極相對應之畫素電極電性相連。 依據本發明之第二種型態,於另一較佳實施方式中, 該共同電極與該些晝素電極為透明且位於較該些資料線更 靠近該液晶層的層級。該些資料線被該共同電極以一介電 層完全覆蓋,除了在該些掃描線附近處之外。該共同電極 藉由一些相對應之接觸孔與該些共同電極線電性相連,用 於上述各個晝素。一黑色矩陣形成於相對的基板上,在該 些資料線被該共同電極完全覆蓋的區域,該黑色矩陣的寬 度小於該共同電極之寬度。無光遮蔽層形成於被該些資料 線所完全覆蓋的該共同電極與該些晝素電極緊鄰之一晝素 電極之間的區域。 在此實施方式中,較佳方式為,晝素電極與共同電極 於相同的層級處形成。然而^該些晝素電極與該共同電極 亦可藉由一介電層於不同的層級處形成。在此例中,較佳 方式為共同電極藉由一配向層面向該液晶層。 依據本發明之第二種型態,於另一較佳實施方式中, 該共同電極由一與端點電極相同的導電材料所製成,用於 施加電性訊號於該些掃描線、該些資料線及該些共同電極 線,至少上述其中之一。該共同電極於與該些端點電極相 同的製程步驟中形成。
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在此貫施方式中 電極被形成。胃共同雷==為該些畫素電極與該共同 二 電極與該共同電極部份重疊處,:賞二 於該些共=電極線與該些資料線。 且处其見度見 3仆:::砭方式中,較佳方式為畫素電極與共同電極由 乳化銦錫或氧化銦辞所製成。 U电栓由 [實施方式] 以更詳細地說明本發 以下配合圖式以及較佳實施例 明0 第 貫施万g 與^ 3 Β以及4圖中係顯示根據本發明之第一 貝施方式之k向電場切換型主動式矩 件1的結構。 7代日日.、肩不态兀 由第2圖可清楚看到,根據本發明之第一實施方式之 液晶顯不器π件包含一矩形主動元件基板丨i與一矩形相對 基板1 2相搞合,且彼此之門}日方亚— 攸此之間相互平行,且一液晶層丨3由基 板11以及基板12夾於中間並且限制在基板n以及基板12所 形成的間隙間。上述之基板! !以及基板j 2結合中間***的 液晶層13二以下通稱為液晶顯示器面板(LCD⑽⑽丨)。 在此况明中’上述之主動元件基板丨〗靠近液晶層丨3的 表面或邊緣在此稱為内部邊(inner side)或内部表面 (inner surface) ’並且其中另一邊遠離液晶層13稱為外 部邊(outer side)或外部表面(〇uter surface)。此定義
594335 五、發明說明(19) 亦可應用於相對基板1 2。 如第2圖所不’主動元件基板丨丨具有一偏光板21固定 於主動元件基板1 1的外部表面。相對基板丨2具有一偏光板 1 4固定於相對基板1 2的外部表面。 相對基板1 2具有以下結構。 明確的說,相對基板丨2具有一第二矩形、透明、介電 板1 6 ’ 一黑色矩陣1 7形成於介電板丨6的内部表面,一彩色 層18形成於介電板16的内部表面以覆蓋黑色矩陣17,以及 一平坦化層1 9形成於彩色層丨8之上。上述之黑色矩陣丨7作 為圖案的光遮蔽層,乃藉由分割介電板丨6的内部表面以形 成或疋義晝素區域。將上述之彩色層圖案化使其位於相 對的畫素區域内並且覆蓋黑色矩陣丨7的邊緣部份。該彩色 層18是由包含紅(R)、綠(G)、藍(B)染料或色素的圖案 樹脂層所形成。上述之平坦化層1 9覆蓋彩色層1 8以及由彩 色層1 8所露出的黑色矩陣1 7。該平坦化層丨9由一透明的覆 盍層所組成。為了避免由於使用者手部帶電接觸液晶顯示 器平板外部表面所導致的液晶層1 3的電性影響,一透明的 導電層1 5形成於第二透明板丨6的外部表面。偏光板丨4位於 導電層15之上。 於另一方面,主動元件基板Π具有以下結構。 明確的說’主動元件基板11具有一第一矩形、透明、 介電板22,掃描線28,電晶體30之閘極電極(gate electrode)30c,共同電極線26a及26b,第一層間介電層 23,非晶質矽島(a-si island)41 ,資料線24,薄膜電晶
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第24頁 594335 五、發明說明(20) 體30之源極電極(source electrode)30b,電晶體30之波 極電極(drain electrode)30a,第一介電層25a,第二介 電層25b,以及晝素電極27。 上述之第一透明板22是由和位於相對基板12之第二透 明板1 6相類似的材料(如玻璃)所製成。上述之掃描線2 8、 閘極電極30c、以及共同電極線26a及26b,是由在板22的 内部表面上所形成的第一金屬層所構成。閘極電極3 〇 c與 相對的掃描線2 8聯合。第一層間介電層2 3形成於第一金屬 層之上(亦即在掃描線2 8、閘極電極3 0 c、以及共同電極線 2 6a及2 6b之上)。上述之非晶質矽島41形成於第一層間介 |電層2 3之上,位於與閘極電極3 0 c之相對重疊區域。上述 之資料線2 4、源極電極3 〇 b、以及汲極電極3 0 a由第二金屬 層形成於第一層間介電層23之上。第二層間介電層25由一 第一層間介電次層(su]3layer)25a形成於第二金屬層之 上’以及第二層間介電次層2 5 b形成於第一層間介電次層 之上。導電電極26以及晝素電極27是由一透明的導電金屬 所製成’位於第二層間介電層2 5之上。 主動元件基板11進一步包括一配向層31於其内部表 , 相對基板12進一步包括一配向層2〇於其内部表面。如 第1圖所不,這兩層配向層3 1與2 0施以一研磨製程使的限 制於液晶層的液晶分子能均勻一致地配向大約i 〇。到30。 傾斜,相對於枝條狀(stick-shaped)(或梳—齒狀)畫素電 極^枝條狀(或梳-齒狀)共同電極26的延伸方向。上述之 配向層3 1及2 〇以一特定的間隙彼此相對。配向方向的起始
第25頁 2127-5415-PF(Nl).ptd 594335 五、發明說明(21) 角定名為液晶分子的起始配向位向(initiai orientation)。基板n與基板12於並 g 之間相互柄合,因而形成上述之液:顯干^疋間隙彼此 限制在該間隙以形成液晶層1 3。日日” ^板。液晶被 其次,主動元件基板丨丨的結 第3Α、3Β、以及4圖中。 了更進步砰細解釋於 第3 Α圖係顯示第一及第二金 1 態。第3B圖係顯示透明電極材+日 /、下層的形成狀 態。第4圖係顯示沿著線^ 场)的形成狀 電極的部分)、線C — C, Γ A丘π 士 4電日日祖3〇)、線Β~β’(畫素 炎L L C為共同電極2 β传用的技& 線D-D,(為晝素電位芦42h 使勺接觸孔39a)、 η η… τ电位臂4」b使用的接觸孔39c)、以乃蜱 E^E (晝素電極的部分27)的剖面圖。第4圖 : 電極線26a以及26b的外部接觸或端點部分g,以及資:: 的外部接觸或端點部分11的 ,^ ^ 、’ 7 fi邱八u、,, 1刀11旳口j面圖,上述之外部接觸或端 ”·、口F刀G产及Η亚未顯示於第j 、2、3A、及3β圖中。 …如第fA圖所顯示,在主動元件基板11的内部表面,掃 福線28(掃描線訊號可藉由此掃描線28傳送)以及共同電極 、、泉2 6 a以及2 6 b (藉由此共同電極線可施加參考電壓或電位) 可由第金屬層所製成。該第一金屬層是由低電阻金屬, 如鉻(Cr )以沿著X方向延伸進行(換句話說即第1圖中的水 平方向。參考電壓或電位施於共同電極線26a以及26b於 液晶顯示器面板週邊特定區域,並未顯示於上述圖中。掃 4田、、、泉2 8 (以及薄膜電晶體3 〇中的閘極電極3 〇 c )被安排於γ方 向(換句活說即第1圖中的垂直方向)以個別畫素的相同間
第26頁 594335 、發明說明(22) 隔重複進行。共同電極绫26a並击 雷極魂+ 線其中之一以及其鄰近的共同 =其中'破安排將相對的掃描線18之-爽於上述共 由第相::岸:::24(藉由此資料線可施與資料線訊號) 層:斤製成。該第二金屬層是由低電阻金屬,如 鉻(C r )以/口著γ方向延伸推杆 畫素的相同間隔重複=進订以及被安排沿著X方向以個別 電極30a&30b於第二金屬層形成。在各 個旦素&域中,書专雷你恳^9廿 的目前所謂之該層級位於靠近該掃描線28 該掃描線28的前(:欠二畫::位:42b其-位於靠近 义#爲,β 」 次_人)層級。以下稱畫素電位層42a為目 刚该層級晝素電位層(said —stage pixei p〇tenUai layer)以及稱晝素電位層42b為目前該層級晝素電位層 (pr1〇r-stage Plxel p〇tential laye〇 。 曰 一相對各晝素之薄膜電晶體3〇位於靠近上述掃描線Μ盥 貢料線24之各個交接處。閘極電極3〇c形成於各個掃描線、 2^的部分區,。薄膜電晶體3〇之非晶質矽島4ι形成於第一 介電層23覆盍閘極電極3〇c上。薄膜電晶體3〇之汲極電極 30a以及源極電極30b由第二金屬層作為資料線24形成以 觸各非晶質矽島41。因此,閘極電極30c與相對應的掃描 線28聯合而没極電極30a與資料線24電性相連。源極電才= 3〇b與鄰近於目前該層級掃描線28的相對應晝素 聯合。 增4Za 一第二層間介電層25形成以覆蓋該圖案的第二金屬層 594335 五、發明說明(23) 之上。於此,如第4圖所示,上述層25具有雙層結構包括 一下層的第一介電次層25a與一上層的第二介電次層25b。 上述層25可由單一有機或無機層形成,其總厚度為\至2 // m。無須再說,上述層2 5可由其他任意介電材料形成, 具有其他任意厚度。 於第二層間介電層25b之上,如第3B圖所示,形成上 述之共同電極26與畫素電極27。這些電極26與27是由一透 明(亦即導電的)電極材料,亦即氧化銦錫(丨τ〇 )所製成。 共同電極大約成階梯狀(1“(1^_讣&1^(1)或是矩陣狀 (matrix-shaped),沿著X與γ方向延伸,形成以覆蓋個別 的相對電極線2 6b與資料線24。共同電極26的部分做得比 其餘部分寬,由此可完全覆蓋下層之資料線24除了在資料 線24與掃描線28的交接處以及其附近區域。上述之畫素電 極27位於靠近個別晝素中的個別掃描線28與資料線的交 接處。以齒狀或枝條狀部分的共同電極2 6與其所對應的畫 素電極27所圍繞的延伸的區域稱為行(c〇lumns)。 在各個畫素中,共同電極26與畫素電極27為梳—齒 狀。共同電極26與畫素電極27的之條狀或齒狀的列 (rows),向平行資料線24的方向延伸,彼此交錯成對並且 沿掃描線28方向交錯安排,清楚顯示如第3B圖。相對地如 第3A圖所示,共同電極26藉由個別的接觸孔39&盥相對應 的共同電極線26a及26b連接。晝素電極27藉由個別的接觸 孔3 9b及3 9c與相對應的薄膜電晶體3〇之源極電極3 〇b及先 前該層級畫素電位層42b連接。上述之接觸孔393、39b、
2127-5415-PF(Nl).ptd 第28頁 594335 五、發明說明(24) 及39c的形狀及配置於此實施例中並未加以限定。 另一方面,如第2圖所示,於相對基板丨2,黑 1 7形成於黑色矩陣1 7與資料線24重疊的部 >,局 應的共同電極26部分窄,該共同電極⑼完:对 極26的穿透光。 素所W的先但不隔絕過共同電 依據本發明之第一實施方法的橫向電場切 矩陣驅動液晶顯示器元侔呈μ、+、从段 ^ ^ t 勒式 t π啼嗖摆#; +1 述結構,透過掃描線28將掃 ,以及然後透過資料線24將資料气 “予邊被遥擇的晝素上。在各個被選擇的晝素上: ”於共同電極26與相對的晝素電極27之間7大致與J : 及第二板16及22相平行。上述電場因而產生液晶分^ =中該液晶分子存在於平行第一及第二板 : 1的二,。於此中可將顯示想要的影像於液晶顯示器 由於共同電極26與晝素電極27是由透明的,導 料(即氧化銦錫(ΙΤ0))所製成,整體透明區域得以藉由丘 同電極26所覆蓋的區域加以延伸,因而提升開口率。-,、,且,由第二金屬層所形成的晝素電位層與“b, 开:f第-層間介電層23上形成,個別地以此方式沿資料線 24覆蓋共同電極線26a及26b。上述之晝素電位層❿與m 為(:l )以形成大的儲存電容,平行地與液晶電容電性連 接,以及(H)組成一避免液晶分子反向旋轉的結構。晝素 電位層42a與42b位於各個畫素中沿資料線24的兩個分開位
第29頁 2127-5415-PF(N1) .ptd 594335 五、發明說明(25) ^旦素電位層42a位於靠近目前該層級的閘極電極3〇c, 與相對應的源極電極30b相聯合,且因此藉施盥電壓或電 位於該層42a以達源極電極3〇b。畫素電位層m位於靠近 先前該層級的掃描線28,與畫素電極27藉由接觸孔39c電 性相連。因此,藉施與電壓或電位於上述層42b以達晝素 電極27此外,上述之接觸孔39a是用來將共同電極26盥 相對應的共同電極線26b電性相連。接觸孔咖是用來將源 極電極3Ob與相對應的晝素電極27電性相連。 如以上解釋,於各個晝素中的兩個晝素電位層42a鱼 42b藉相對的透明晝素電極27作橋樑彼此電性相連’於各 個晝素中型成兩儲存電容,由此增加整體儲存電容值,此 意味著顯示器能操作穩定。並且,此二儲存電容形成並不 阻隔透過晝素電極27的穿透光,且於此同時,個別行的電 %會均勻。因此,液晶顯示器元件1中可得的穿透度得以 增加。 ^ 此外’如第3 A圖清楚地顯示,上述之晝素電位層4 2 a 與42b與共同電極26以及26b於其内部邊緣形成交錯二圖 案 因此於液晶層1 3的液晶分子位向之反向旋轉得以避 免。 如同先前所解釋,共同電極2 6的寬度是以覆蓋整個資 料線24的方式被決定,除了個別的資料線24與掃描線28的 父叉點及其附近區域。若資料線2 4的寬度及共同電極2 6個 別部分的I度分別定義為L ( D )及L ( C 0 Μ ),可建立以下關係 式。 ” ’
2127-$415-PF(Nl).ptd 第30頁 594335 五、發明說明(26) L(COM)> LCD) 在資料線2 4與掃描線2 8的交叉點極其附近區域,存在 大的階梯(亦即高的斷差)。因此,共同電極2 6的寬度並非 決定於這些區域以覆蓋該資料線24,而是決定於避免在線 24與28之間造成電性短路線路。 其次’以下解釋垂直串音(verticai cross talk)。 若共同電極26形成並非完全覆蓋資料線24,電場於是 在非重疊部分(non-overlapped parts)以及鄰近的畫素電 極2 7之間生成,導致不想要的液晶行為。明確的說,並非 根據共同電極2 6與畫素電極2 7之間的電位差而決定,此現 象稱為垂直串音。 依據第一實施方法的液晶顯示器元件1,共同電極2 β 形成以幾乎完全覆蓋資料線2 4,且因此自資料線2 4發出的 電場被共同電極2 6所遮蔽。因此,可避免垂直串音現象的 發生。以下為較佳的方式,共同電極2 6具有自相對應的資 料線24邊緣橫向伸出的(或突出的)部分1 · 5 β m或大於其中 的各邊。 因此,由於缺乏自資料線24的漏電場,垂直串音得以 避免,黑色矩陣1 7不再需要避免顯示發生故障的功能。因 此’矩陣1 7僅需要具備改善對比的唯一功能,此意味著矩 陣1 7的寬度得以降低。藉此實施可得的開口率可更進一步 提升。 因此,於資料線24上方的黑色矩陣1 7部分較共同電極 26上方的黑色矩陣丨7部分窄。在液晶顯示器元件i的平面
2127-5415-PF(Nl).ptd 594335 五、發明說明(27) 圖中,在共同 之間無光遮蔽 資料線24所覆 陣1 7的寬度分 式。 由於黑色 突出的或伸出 的穿透度能更 於第一實 6 /z m。然而, 顯示為較佳方 會增加,且因 觀看。 其次,以 若提供於 絕該引發故障 而’依據本發 色矩陣1 7並非 障的區域,在 (backlight , 連接至共同電 2 6,電位會不 場傾向在共同 下解釋在資料線2 4下 相對基板1 2的黑色矩 的區域(malfuncti〇n 明之第一實施方法的 完全覆蓋資料線24。 資料線24下所提供的 未顯示)所發出的光 極26。若光遮蔽層並 穩定,且因此直流(d 電極26與畫素電極27
電極2 6覆蓋資料線2 4以及鄰近的畫素電極2 7 ^存在。較資料線24窄的黑色矩陣17完全被 盖。換句話說,若資料線2 4的寬度與黑色矩 別定義為L(D)及L(BM),可建立以下關係 L(D)> L(BM) 矩陣17較資料線24窄,所有通過共同電極26 的部分的穿透光都能被利用,此意味著面板 進~步的提升。 施方法中,舉例說,黑色矩陣1 7的寬度設為 上迷寬度並非限於此,寬度設為6 或更大 式。這是由於寬度小於6 // ηι時,反射光總量 此液晶顯示器元件1的螢幕很難被使用者所 所提供的光遮蔽層。 陣1 7足夠寬,就足以隔 -inducting area)。然 液晶顯示器元件1中黑 因此’為了隔絕引發故 光遮蔽層以遮蔽自背光 ’其中光遮蔽層為電性 非電性連接至共同電極 irect〜current dc)電 之間產生或傾向導致功 I·· 2127-5415-PF(Nl).ptd 第32頁 594335 五、發明說明(28) 能故障,如串音。 具體地說,以下顯示較佳方式,光遮蔽層由供資料線 2 4用的第一金屬層所製成,以上述的方式電性連結共同電 極線2 6a。由於共同電極線26a與26b藉由接觸孔39a電性連 接至共同電極26,討論中的共同電極線26a與2 6b可被用作 光遮蔽層。上述光遮蔽層可由單層的鉻、鈦、鉬、鶴、或 鋁或多層結構包括由這些金屬所製成的兩次層所製成。若 使用多層結構,電阻可更進一步下降。 共同電極26是由一透明的、導電的金屬材料(ιτο), 且因此第一實施方法的液晶顯示器元件1的總透明區域增 加以提升開口率,如同以上描述。然而,氧化銦錫(丨τ〇) 具有片電阻可高達接近100 Ω / □的優點。由於在各個畫素 中,共同電極26電性連接至共同電極線26a與26b,共同電 極2 6的總電卩且下降。因此,藉由氧化銦錫(I τ q )製成共同 電極2 6,第一實施方法的液晶顯示器元件1的可靠度得以 改進。 共同電極26可由與覆蓋液晶顯示器元件1端點的相同 的材料製成。明確的說,如第4圖中共同電極接觸區域 (G ),上述端點可由與氧化銦錫層相同的材料製成。同樣 的,如第4圖中顯示於資料線端點區域(H)的資料線端點以 及掃描線端點(未顯示),可由與共同電極26相同的材料 (即氧化銦錫)製成。於此例中,共同電極2 6可盥中 的端點區域相同 6 /、了 可避免形成共同電極2 6所需的製程步驟數 下額外的好虛的材料,相同的製程中形成,此意味著以 2127-5415-PF(Nl).ptd 第33頁 594335 五、發明說明(29) 增加。 由於共同電極26及書♦雷+ ^ ^ 古、土沾y曰# 奴—从厂京電極2?二者皆形成於第一實施 方法的液晶顯不斋7〇件1的筮_ . 〇r? J弟一層間介電層25上,上述電 極2 6與2 7,可由相同的材钮士入丄 τ ^曰% -即 ^ &才枓杰相同的步驟中形成,此提升 了 /夜日日顯不态元件1的製造效率。 若位於共同電極26及金 电 及|素電極2 7之間的第二層間介電 層,具有厚度(thickness,, , · Q)與介電常數(dielectric constant, ε)高的^ , 」门八 ε )比值,資料線與共同電極2 6之間 的寄生電容得以下降。 如第1與3B圖所顯不’晝素電極27與共同電極26是由 透明材料所製成,於下層共同電極線26a與26b及下層資料 線24的重璺區域較其他剩餘部分寬。因此,電極26及27的 局部破裂或斷開得以避免,1因此第-實施方法的液晶顯 示器元件1如想要的可得高可靠度與高製造良率。 依序地’上述第一實施方法的液晶顯示器元件1的製 造方法以參考第5A至5C及6A至6C圖中所示解釋如下,其中 各個圖所顯示與弟4圖相同的剖面圖。 首先,如第5A圖中所示,以鉻(Cr)層作為第一金屬層 形成於透明玻璃基板2 2表面上,然後藉光微影製程 (photolithography)及蝕刻法(etching meth〇d)以形成圖 案’於其中形成薄膜電晶體3〇的閘極電極3〇c以及掃描線 28。其次,第一層間介電層23以覆蓋閘極電極30c以及掃 描線2 8的方式,形成於整個玻璃基板2 2表面,上述層2 3具 雙層結構包括下層的二氧化石夕(silic〇n di〇xide,Si02)次
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594335 五、發明說明(31) 33)以汲極與源極電極30a與3〇};)作為光罩進行選擇性的蝕 刻,由此於汲極與源極電極3〇a|%3〇b之間形成開路,如第 6A圖所:、。開路的底部可達下層非晶質石夕層32的内部,開 路並不穿透層32。目此,薄膜電晶體3〇的通道區得以形 成。 y 此後帛介電次層2 5 a是由s 土 Νχ (亦即無機材料)所製 成,鍍於整個玻璃基板22的表面上。在已鍍的^介電次 層2 5a上,第二介電次層25b是由具光敏感性的壓克力樹脂 (亦即有機材料)所製成。無機的第一次層25a是薄的而有 機的第二=層是厚的。然後’利用一光罩(未顯示)將具光 敏感性的壓克力樹脂次層25b選擇性的曝光,顯影,以及 燒結,由此形成接觸孔39a、39b、以及39c ,如第6β圖所 示。 位於源極電極3 0b之上的接觸孔39b置於靠近目前該層 級的間極電極3〇c,以及上述之接觸孔39}3亦被用作畫素電 極27,將位於第二層間介電層託的低層δίΝχ次層25b露出。 接觸孔39 c被置於靠近先前該層級的閘極電極3 〇 c以及被用 作畫p素電極2 7,將位於第二層間介電層2 5的低層S 1叱次層 2 5b露出。接觸孔39a被置於共同電極線26b之上以及被用 作相同的線26b,將位於第二層間介電層25的低層SiN次層 25b露出。 遵循以下步驟,藉由用作晝素電極2 7的接觸孔3 9 b以 及3 9c ’以及用作共同電極線26b的接觸孔39&,將已露出 的位於第二層間介電層25的低層SiNx次層25b施以選擇性
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2127-5415-PF(Nl).Ptd 第37頁 594335 五、發明說明(33) 的電荷積集(charge-up)以造成顯示影像參差不齊。 上述已製成的主動元件基板丨丨與相對基板丨2以使用間 隙物(spacer)形成一特定間隙的方式彼此之間相互耦合。 將一列向型(nematic)液晶填充至上述間隙中,以及然"後 f間隙封止(seal),由此以形成介於基板u與12之間的液 曰曰層1 3。因此,液晶面板得以完成。在此使用的列向型液 晶具介電常數非等向性(anis〇tr〇py)A ε為8(於589 _以 及2 0 °C),折射係數非等向性Δη為〇· 〇75,特定的電阻或 電阻率為1· 5 X ΙΟ12 Ω · cm。液晶層13的厚度(即夾厚 (cell gap))設為4· 〇 v m 〇 在基板1 1與1 2的内部表面上,配向層3丨以及2 〇個別地 由間接印刷法(of f set printing meth〇d)或類似的方法形 成層31與2 〇使用已知的研磨方法,沿著如第1圖中箭頭 方向所示的方向研磨,用以配向液晶分子。因此,液晶分 子將起始配向1 5。,相對於梳-齒狀晝素與共同電極27與 26沿寬度的方向。 〃 最後’個別地將偏光板2 1與1 4固定於基板1 1與1 2的外 部表面上。 、本發明者依據以上所解釋的方法實際製作第一實施方 式之液晶顯示器元件1。之後,光穿透過液晶層13(亦即液 晶顯示器面板)的強度是以外部訊號電壓控制改變存在於 液晶層1 3中液晶分子的配向狀態,由此以正常地黑色顯示 模式(normally black display mode)顯示灰階(gray scale)影像,當無外加電壓施於所有的晝素電極27與共同 2127-5415-PF(Nl).ptd 第38頁 594335 五、發明說明(34) 電極2 6時,即顯示黑色。當外加適當的電壓施於所有的晝 素電極27與共同電極26時,在液晶層13内以產生幾***行 於基板1 1與1 2的電場,即顯示白色。因此,當顯示白色, 於液晶層1 3中液晶分子旋轉自其起始的配向角成大約4 5 ° ,由此以使光穿透過液晶顯示器面板的強度達最大化。 之後,將已製成的液晶顯示器元件1置入驅動單元 (d r i v e r u n i t),並且使用同一驅動單元操作。因此,以, 下得以證實,第一實施方式之液晶顯示器元件1作為比先 前技術之液晶顯示器元件具較高的透光度的橫向電場切換 型液晶顯示器元件。 第二實施方式 第7與8圖以及第9A與9B圖係顯示根據本發明之第二實 施方式之橫向電場切換型主動式矩陣驅動液晶顯示器元 件。 第7圖係顯示主動元件基板1 1的平面視圖。第8圖係顯 示於第7圖中沿線F-F’的剖面視圖。第9A與9B圖係顯示個 別的低於資料線下層的圖案佈局圖,以及資料線該層的佈 局圖。在這些圖中,與上述第一實施方式之液晶顯示器元 件1相同的參考數值或符號會標示於相同的元件上。因 此,為了簡化描述的緣故,於此將省略關於相同元件的解 將第二實施方式之液晶顯示器元件2與第一實施方式 之比較,針對主動元件基板1 1,第二實施方式的組態與第 一實施方式的相同,除了各個晝素中,在靠近目前該層級
i_k_ 2127-5415-PF(Nl).ptd 第39頁 594335 五、發明說明(35) 的閘極^3〇e處’與晝素電位層心電性相連的結構以及 靠近先前該層級的閘極電極3〇c處,與畫素電位 相連的結構。 电| 明確的說’對第一實施方式之液晶顯示器元件i而 言,畫素電位層42a與42b藉由透明的畫素電極27彼此之間 電性相連。與此不同的是,對第二實施方式之液晶顯示器 元件2而言,畫素電位層42a與421),藉由與掃描線“相同 不透明的導電材料,彼此之間電性相連,如第8與g圖所 示。相對基板1 2與第一實施方式之組態相同。 其次,參考第10A至10C圖以下解釋,第二實施方式之 液晶顯示器元件2的製造方法。 首先,在第一實施方式第5A圖中的步驟,其中鉻(cr) 層的圖案乃精由光微影製程及乾式钱刻法,形成閘極電極 3 0c、掃描線28、以及在玻璃基板22上形成共同電極線26a 與2 6b,以相同的鉻層在基板22上形成相互連接電極43, 如第1 0 A圖所示。電極2 3具幾近線性平面的形狀,如第9 A 圖所示。 其次,與第5 A至5 C圖相同的步驟中,第一層間介電層 23具雙層結構包括的二氧化矽(Si 02)次層以及氮化矽 (S i Nx)次層,形成於玻璃基板2 2,以及然後薄膜電晶體3 0 的非晶質矽島4 1得以形成於層2 3上。 依序地,如第1 0B圖所示,將第一層間介電層23施以 選擇性蝕刻,以形成穿透第一層間介電層23的接觸孔44a 與4 4b,露出下層的相互連接電極43(由第一金屬層形
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成)s,如第9A與10B圖所示。然後,將鉻(⑴層(亦即第二 鍵在整個玻璃基板22上,以及藉由光微影製程及 1触刻法將其圖案畫,由此得以形成薄膜電晶體3〇的汲 極與源極電極30a與30b、資料線24、以及畫素電位層仏 與42b。4素電位層42a其中之_與畫素電位層桃其中之 一彼此相互分離以形成各個晝素。 ,各個畫素中,如第1GB圖所示,晝素電位層仏位於 设盍j個相互連接電極43 ,以及藉由接觸孔44a連接相同 電極43。同樣地’ 4素電位層m位於覆蓋整個相互連接 電極43,以及藉由接觸孔44b連接相同電極43,如第1〇B圖 所示。 如第9B圖清楚所示,畫素電位層42a位於靠近薄膜電 f體30的閘極電極30c,將其與源極電極3〇b聯合。不同的 疋’晝素電位層4 2 b位於靠近前一層級薄膜電晶體3 〇的閘 極電極30c,並非將其與源極電極3 〇b相聯合而是孤立其 外〇 依序地,如第1 〇 c圖所示,非晶質矽島4 1藉汲極與源 極電極30a與30b作為光罩進行選擇性的蝕刻,由此於汲極 與源極電極3 0 a與3 0 b之間形成開路。開路的底部可達下層 非晶質矽層3 2的内部,開路並不穿透層3 2。因此,薄膜電 晶體30的通道區得以形成。此後,第一介電次層25a是由 s i Nx所製成,鍍於整個玻璃基板22的表面上。在已鍍的 S 1 Nx介電次層2 5 a上,鍍上由具光敏感性的壓克力樹脂所製 成的第二介電次層25b。無機的第一次層25a是薄的,而有
2127-5415-PF(Nl).ptd 第41頁 594335 五、發明說明(37) 機的第二次層是厚的。然後,利用一光罩(未顯示)將具光 敏感性的壓克力樹脂次層2 5 b選擇性的曝光,顯影,以及 燒結’由此形成接觸孔3 9 a以及3 9 b,如第1 〇 C圖所示。 位於源極電極3 〇b之上的接觸孔3 9b置於靠近目前該層 級的問極電極30c,以及上述之接觸孔39b被用作晝素電極 2 7 ’將位於第二層間介電層2 5的低層s丨&次層2 5 b露出。 接觸孔39a被置於共同電極線26b之上以及被用作相同的線 26b ’將位於第二層間介電層25的低層Sii次層25b露出。 遵循以下步驟,藉由用作畫素電極27的接觸孔39b以 及3 9c ’以及用作共同電極線26b的接觸孔39&,將已露出 的位於第二層間介電層25的低層次層25b施以選擇性 姓刻。更進一步,藉由接觸孔39a將下層的第一層間介電 層23施以選擇性蝕刻。因此,上述孔39b使源極電極3〇b露 出’孔39c使晝素電位層42a與42b露出,以及孔39a使共同 電極線26a與26b露出。 然後’氧化銦錫(IT0)層46然後鍍於整個玻璃基板22 上以覆蓋接觸孔39a以及39b。因此,這些孔39a以及39b的 内部表面以氧化銦錫(IT〇)層46覆蓋。然後利用光微影製 程以及姓刻法形成圖案,由此形成共同電極2 6與晝素電極 2 7作為各個晝素使用。利用此方法,主動元件基板丨1得以 完成。 在已完成的基板11中,在各個畫素中,使用畫素電位 層4 2 a的第一儲存電容置於靠近目前該層級的閘極電極 3 0c,且於此同時,使用晝素電位層42b的第二儲存電容置
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第42頁 2127-5415-PF(Nl).ptd 594335 五、發明說明(38) 於靠近先前該層級的閘極電極30c。藉由不透明的 極23以及接觸孔44a與44b,晝素電位層仏電性連接至= 素電位層42b ’且此後於各個晝素中,第一以及第二儲ς 電容彼此之間平行的電性相連。 t 如與第一實施方法相同的方式中,已完成的主 基板1 1以及相對基板1 2,以包括列A+ .、、— 、 0估列向型(nemat ic)液晶的
液晶層1 3彼此之間相互耦合,ώ J w 口 由此已形成液晶顯示器面 板。 本發明者依據以上所解釋的+ i … ,^ η θ 的方法實際製作第二實施方 式之液晶顯示器元件2。之後,止而4 ^ 曰% - 、认托命曰 先穿透過液晶層1 3(亦即液 曰曰顯^面板)的強度疋以外部訊號電壓控制改變存在於 液晶層1 3中液晶分子的配向狀能 、 模式(n〇rmally Mack dlspla;*、,由此以正常地黑色顯示 scaU)影像。在正常地黑色顯示=顯示灰階(啊 cHspUy mode)顯示時,無外加 式(n〇rmally black 27與共同電極26時’即顯示黑辛電昼施於所有的畫素電極 所有的晝素電極27與共同電極26虽外加適當的電壓施於 幾***行於基板1 1與1 2的電場,:,在液晶層1 3内以產生 示白色時,於液晶層13中液晶丄』顯示白色。因此’當顯 成大約4 5。,由此使光穿透'過,轉自其起始的配向角 大化。 《日日顯示器面板的強度達最 之後’將已製成的液晶部+ σσ _ (driver unit),並且使用同一一 下得以證實’帛二實施方式之液晶顯早兀操作。因此’以 …負不為兀件2置入驅動單元 L元操作。因此, 示器元件2作為比先
2127-5415-PF(Nl).ptd 第43頁 594335 五、發明說明(39) 前技術之液晶顯示器元件具較高的透光度的橫向電場 型液晶顯示器元件。 m 尤其是’就第二實施方式之液晶顯示器元件2而言, 晝素電位層42a位於靠近目前該層級的閘極電極3〇c 晝素電位層42b位於靠近先前該層級的閣極電極3〇c。 相互連接電極43,於各個晝素中,晝素電位層❿電性= 接至晝素電位層42b。電極4 3是由不透明鉻(Cr)層所 成,用以形成共同電極線26a與26b、掃描線28、以及閘 1極3〇C。於元件2中’其中鉻(Cr)層被置於最遠離 1 3。因此穿透光被相互連接電極43不相尊从^ 心罟地隔絕。然而, 電極4 3位於最低層級,足夠地遠離液晶厣 … 日日嘈1 3。因此,電極 4 3對層1 3中的液晶分子所施加的電場非堂3 々加本*丄、一 每并吊弱0此意味著在 各個旦素中’對別行的電場變化很小。換q 俠叼活說,電極4 3 對可得的穿透度並無壞的影響。 此外’就第二實施方式之液晶顯示器元件2而 > 相 互連接電極43 ’與共同電極線26a與26b以及掃描線’形成 於相同層級。然而,本發明並非限於此。芒 心成共同電極 線2 6 a與2 6 b的導電層和掃描線2 8的不同,以π # M下顯示較佳方 式,相互連接電極43是由離液晶層1 3最遠的—層护成。 第三實施方式 日乂 第1 1與1 2圖以及第1 3A與1 3B圖係顯示根據本發明之第 三實施方式之橫向電場切換型主動式矩陣驅動液^顯示哭 元件3。 /日日*、、/、口口 第11圖係顯示主動元件基板的平面視圖。第1 2圖係顯
2127-5415-PF(Nl).ptd 第44頁 594335 五、發明說明(40) 示於第11圖中沿線F-r的剖面視圖。第13A與13B 地;:低;資料線下層的圖案佈局圖,以及資料物: 佈局2。在這些圖中,與上述之第—實施方式之液晶^ 器元件1相同的參考數值或符號會標示於相同的上、、貝” :為了簡化描述的緣故,於此將省略關於相同元件的 將第三實施方式之液晶顯示器元件3與第二實施 之比較,就對主動元件基板u而言,第三實施方式式能 與第二貫施方式的相同,除了各個畫素中,在靠近目L; 層級:問極電極3〇c處’與畫素電位層仏電性相 以及罪近先前該層級的閘極電極3 、〜構 電性相連的結構。 ⑽C處,與晝素電位層42b 一明確的說,對第二實施方式之液晶顯示器元 言’晝素電位層42a與42b藉由不透明的第一 相互連接電極43彼此之間電性相·。與此不同。構= 三實施方式之液晶顯示器元件3而言, 疋對弟 同電極線26a與26b不同的導電材料所形成?且二由與: 相互連接電極43是由共同電極線…與2 】 相對基板12與第:以及第二實施方式之組態相成。 其次,參考第1 4圖,以下解釋第三膏 示器元件3的製造方法。 、 式之液晶顯 首先,與第一實施方式第5Α圖中相同的, 成:玻璃基板22上的鉻(Cr)層,藉由光微影製程丄 刻法’以形成共同電極線…與⑽以及相互連接電極則
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2127-5415-PF(Nl).ptd 第45頁 594335 五、發明說明(41) 圖案。電極23具幾近線性平面的形狀,如第1 3A圖所示。 其次,由S i Nx所製成的第三層間介電層,形成於玻璃 基板2 2上,以覆蓋共同電極線2 6 a與2 6 b以及相互連接電極 43。然後,一由鉻(Cr)層組成的第三金屬層,於第三層間 介電層4 3上形成。藉由光微影製程及乾式蝕刻法,將第三 金屬層圖案化’以形成掃描線2 8。用於第一以及第二實施 方式的第一層間介電層23,然後形成於第三層間介電層43 上0 之後,非晶質矽(a-Si)層32以及n+-型摻雜非晶質矽層 3 3成功地形成於第一層間介電層2 3上。非晶質矽層3 2以及 3 3藉光微影製程及蝕刻法以形成薄膜電晶體3 〇的非晶質石夕 島41在23之上。依序地,同時將第一與第三層間介電層23 與4 5施以選擇性蝕刻,以形成穿透第一與第三層間介電層 2 3與45的接觸孔44a與44b,以露出下層的相互連接電極 43(由第一金屬層所形成)。上述之接觸孔44a與44b用於相 互連接電極4 3。 依序地,將鉻(Cr)層(即第二金屬層)鍍於整個玻璃基 板22 ΐ以及藉由光微影製程及乾式蝕刻法將其圖案畫, ^此得以形成薄膜電晶體3〇的汲極與源極電極3〇a與3(^、 貧料線24、以及晝素電位層42a與42b。畫素電位層❿豆 中之-與畫素電位層42b其中之一彼此相互分離以形成 個晝素。在各個晝素中,士0第13八與133圖所示, 層42a位於覆蓋整個相互诖垃φ q ^ _ 切w心〇 連接電極以及藉由接觸孔4“ 連接相同電極4 3。同樣妯,圭喜φ a @ 。 J像也旦素電位層42b位於覆蓋整個
2127-5415-PF(Nl).ptd 第46頁 594335 五、發明說明(42) 相互連接電極4 3,以及藉由拉總 如第13B圖清楚所示Λ Λ :連接相同電極43。 曰蝴W 畫素電位層42a位於靠近薄膜電 日日脰3 0的閘極電極3 〇 c,將盘、、s κ带 、 曰 +主^ „ 子八/、源極電極3Ob聯合。不同的 疋’旦素電位層42b位於貪;片义 m ^ ^ Φ . ^ 、罪l刖一層級溽膜電晶體30的閘 極電極3 0 c,並非將其盥泝炻雪士 外。 ,原極電極3 〇b相聯合而是孤立其 以下步驟與第二實施方法相同。 作A j ^ 兄非日日貝石夕島41藉;及極與源極電極3〇a與30匕 作為光罩進行遥擇性的飯列士 叙♦叫π Λ、0日 虫幻由此於汲極與源極電極30a 與3 0 b之間形成開路。n攸AA & Arr _ i 取闻路開路的底部可達下層非晶質矽層32 的内部,開路並不穿透居s ?。^ ^ _ π _、,上 m 因此,薄膜電晶體30的通道 £付以形成。此後,第一公Φ A ja Γ> ΙΓ ο 弟"電。人層25a是由SiN所製成,铲 於整個玻璃基板22的表面上。.P雜认C.M人x ^衣成鑛 L _ , 取囬上在已鍍的SiNx介電次層25a ’、又上具光敏感性的壓克力樹脂所製成的第二介電次 層2 5 b。無機的第一次層2 5 j 1 . L ^ z b a疋溥的,而有機的第二次層是 非4厚的。然後,利用一 - 们州 九罩(未顯不)將具光敏感性的壓 克力樹脂次層25b選擇性的曝光’顯影,以及燒結,由此 形成接觸孔39a以及39b。位於源極電極之上的接觸孔 39b置於靠近目前該層級的閘極電極—,以及上述之接觸 孔39b被用作畫素電極27,將位於第二層間介電層25的低 層S! Nx次層25b露出。接觸孔39a被置於共同電極線26b之上 以及被用作相同的線26b ’將位於第二層間介電層25的低 層Si Νχ次層25b露出。 _ 遵循以下步驟,藉由用作畫素電極27的接觸孔39b, 594335 五 '發明說明(43) 以及用作共同電極線2 6 a與2 6 b的接觸孔3 9 a,將已露出的 位於第二層間介電層2 5的低層S i Nx次層2 5 b施以選擇性蝕 刻。更進一步,藉由接觸孔3 9 a將下層的第一層間介電層 2 3施以選擇性蝕刻。因此,上述孔3 9 b使源極電極3 0 b露 出’孔39c使晝素電位層42a與42b露出,以及孔3 9a使共同 電極線26a與26b露出。 然後’氧化銦錫(ITO)層46然後鍍於整個玻璃基板22 上以覆蓋接觸孔39a以及39b。因此,這些孔39a以及39b的 内部表面以氧化銦錫(I T0)層46覆蓋。然後利用光微影製 私以及敍刻法形成圖案,由此形成共同電極2 6與畫素電極 2 7作為各個晝素使用。利用此方法,主動元件基板丨丨得以 完成。 在已完成的基板1 1中,在各個畫素中,使用畫素電位 層4 2a的第一儲存電容置於靠近目前該層級的閘極電極 3Oc^,且於此同時,使用晝素電位層42b的第二儲存電容置 於靠近先前該層級的閘極電極3〇c。藉由不透明的晝素 :23以及接觸孔44a與44b,晝素電位層…電性連接至金 素電位層42b,且此後於各俩晝素中,第一以及 二 電容彼此之間平行的電性相$。相互連接電極43是由與子丘 = =26a與26b相同的不透明金屬層所形成,上述;:; 娜的至屬層位於離液晶層丨3最遠處。 口寸 其二與第一實施方法相同的方式中,已完成的主動元件 相對基板12,以形成包括列向型(_t 了 液曰曰層13彼此之間相互轉合,由此已形成液晶顯示器
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面板。 本發明者依據以上所解釋的方法實際製作第三實施方 式之液晶顯示器元件3。之後,光穿透過液晶層13(二=液 晶顯示器面板)的強度是以外部訊號電壓控制改變存在於 液晶層1 3中液晶分子的配向狀態,由此以正常地黑色顯示 模式(normally black display mode)顯示灰階(gray scale)影像。之後,將已製成的液晶顯示器元件3置入驅 動單元(driver unit),並且使用同一驅動單元操作。因 此’以下得以證實,第三實施方式之液晶顯示器元件3作 為比先W技術之液晶顯示器元件具較高的透光度的橫向電 場切換型液晶顯示器元件。 就第三實施方式之液晶顯示器元件3而言,在各個晝 素中’使用晝素電位層42a之第一儲存電容被置於靠近目 前該層級的閘極電極3 〇 c,且於此同時使用畫素電位層4 2 b 之第二儲存電容被置於靠近目前該層級的閘極電極3 〇 c。 於各個晝素中’藉由不透明的相互連接電極4 3以及接觸孔 44a與44b ’晝素電位層42a電性連接至晝素電位層42b。且 因此第一以及第二儲存電容彼此之間平行的電性相連。相 互連接電極43是由與共同電極線2 6 a與2 6b相同的不透明金 屬層所形成,上述所討論的金屬層位於離液晶層丨3最遠 處。因此’穿透光被相互連接電極4 3不想要地隔絕。然 而’電極4 3位於最低層級,足夠地遠離液晶層丨3。因此, 電極43對層1 3中的液晶分子所施加的電場非常弱。此意味 著在各個晝素中’對別行的電場變化很小。換句話說,電
594335 五、發明說明(45) ^ - 極4 3對可得的穿透度並無壞的影響。 第四實施方式 第1 5、1 6、以及1 7圖係顯示根據本發明之第四實施方 式之橫向電場切換型主動式矩陣驅動液晶顯示器元件4。 第1 5圖係顯示主動元件基板的平面視圖。第丨6圖係 示於第1 5圖中沿線F-F’的剖面視圖。在這些圖中,與上述 之第一實施方式之液晶顯示器元件丨相同的參考數值或符L 號會標示於相同的元件上。因此,為了簡化描述的緣故、, 於此將省略關於相同元件的解釋。 將第四實施方式之液晶顯示器元件4與第一實施 動元件基板η…第四實施方 式 與第一貫施方式的相同’除了晝素電極27與 〜、 基板外。 j电極2 6的 為元件4而 由透明晝素電 連。然而,與 第二層間介電 四層間介電層 以及第一每: 币一貫施 明確的說,就第四實施方式之液晶顯示 言,在各個畫素中,畫素電位層42a與42b藉 極27,成的相互連接電極43彼此之間電性相 第一貫施方式不同的是,晝素電極27形成於 層上’且於此同時,共同電極線2 6形成於第 47上以覆蓋畫素電極27。相對基板12與第— 方式之組態相同。 其次,芩考第1 7圖以下解釋 製造方法。 夜日日蒸貝示哭 元件4的 在之液晶顯示器元件4的製造方法中, 實施方式第5A至⑽圖中展開的相同先’與第- 此後,第二層
第50頁 594335 五、發明說明(46) 間介電層25於源極與汲極電極30a與30b、資料線24、以及 畫素電位層42a與42b之上。光敏感性的壓克力樹脂次層 2 5 b遥擇性的曝光’顯影’以及燒結’由此形成接觸孔 39a 、 39b 、以及39c 。
位於源極電極3 Ob之上的接觸孔3 9b置於靠近目前該層 級的閘極電極30c,以及上述之接觸孔39b亦被用作畫素電 極27,將位於第二層間介電層25的低層Si Nx次層25b露 出。接觸孔3 9 c被置於靠近先前該層級的閘極電極3 〇 c以及 被用作畫素電極2 7 ’將位於第二層間介電層2 5的低層s i Nx 次層25b露出。接觸孔39a被置於共同電極線26b之上以及 被用作相同的線2 6b,將位於第二層間介電層2 5的低層s i Nx 次層25b露出。 X 遵循以下步驟,藉由用作晝素電極2 7的接觸孔3 9 b以 及3 9 c ’以及用作共同電極線2 6 a與2 6 b的接觸孔3 9 a,將已 露出的位於第二層間介電層25的低層Si Nx次層25b施以選擇 性餘刻。更進一步’藉由接觸孔3 9 a將下層的第一層間介 電層2 3施以選擇性餘刻。因此,上述孔3 9 b使源極電極3 0 b 露出’孔39c使畫素電位層42a與42b露出,以及孔39a使共 同電極線26a與26b露出。 依序地’氧化銦錫(I TO )層4 6然後鍍於整個玻璃基板 2 2上以覆蓋接觸孔3 9 a、3 9 b、以及3 9 c。因此,這些孔 39a、39b、以及39c的内部表面以氧化銦錫(IT〇)層46覆 蓋。然後利用光微影製程以及蝕刻法形成圖案,由此形成 共同電極2 6與晝素電極2 7作為各個晝素使用。此後,由具
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594335 五、發明說明(48) 式之液晶顯示器元件4。夕你 .^ ^ 晶顯示器面板)的強度是=j先牙透過液晶層13(亦即液 、:r曰Μ 1 CJ Φ y•曰^ π又 Λ外邻汛號電壓控制改變存在於 液日日層1 3中液晶分子的g ,, ,, U1 1配向狀悲’由此以正常地黑色顯示 模式(normal ly black di αΐ。 、 ^ \ ^ p 1 ay m0 d e )顯示灰階(gr ay s c a 1 e )衫像。之後,將已制 #. r , . . λ 衣成的液日日顯示器元件4置入驅 動早兀(driver uni t),並 丨、』πτ π、,w — I且使用同一·驅動單元操作。因 达u止乂斗 貝施方式之液晶顯示器元件4作 為比先刖技術之液晶顯示哭 a .H +77 ^ 0 es - °〇兀件具較向的透光度的橫向電 %切換型液晶顯示器元件。 就苐四貫施方式之液曰- _ 心收日日顯不态兀件4而言,在各個晝 素中’ /、同電極26是由不ρη从道+ a ^ ^ ^ 田不冋的導電層所形成,可來自供晝 素電極用的導電層以及藉第四層間介電層而㈣不同層一 級:因=,上述之製造成本略為提升,相較於電極26與27 以同,電層形成之貫施方法。然而,以下顯示其優點, 電極的設計限度得以延伸,因此,透光度得以更進步提 升0 卜右共同電極26與晝素電極27位於不同層級,如第四實 施方法以:顯示其較佳方法,從顯示穩定性以及液晶顯 不為儿件可靠度的觀點,共同電極26位於較畫素電極27更 罪近液晶層13。 第五實施方式 第1 8與1 9圖係顯示根據本發明之第五實施方式之橫向 電場切換型主動式矩陣驅動液晶顯示器元件5。 第1 8圖係顯示主動元件基板的平面視圖。第丨9圖係顯
2127-5415-PF(Nl).ptd 第53頁 594335 五、發明說明(49) 示於第18圖中沿線F-F’的剖面視圖。在這些圖中,與上述 之第一實施方式之液晶顯示器元件1相同的參考數值或符 號會標示於相同的元件上。因此,為了簡化描述的緣故, 於此將省略關於相同元件的解釋。 將第五實施方式之液晶顯示器元件5與第一實施方式 之比較,就對主動元件基板11而言,第五實施方式的組態 與第一實施方式的相同,除了第二層間介電層2 5的結構 外。 明確的說,就第五實施方式之液晶顯示器元件5而 言,位於資料線24與共同電極26之間的第二層間介電層 25,是由單一無機層所形成,亦即Si Nx層25a。相對基板12 與第一以及第二實施方式之組態相同。 其次,以下解釋第五實施方式之液晶顯示器元件5的 製造方法。 在第五實施方式之液晶顯示器元件5的製造方法中, 與第一實施方式第5A至6B圖中展開的相同的步驟,除了顯 示於第6 A圖的形成第二層間介電層2 5的製程步驟。在形成 層2 5的製程步驟中,與第一實施方式不同的是,只有S i Nx 層2 5 a作為第二層間介電層,以覆蓋源極與汲極電極3 0 a 與3 0b、資料線24、以及晝素電位層42a與42b於整個玻璃 基板之上。 此後,如第一實施方式,將已形成的S i Nx層2 5a選擇性 的钱刻,由此形成接觸孔3 9 a、3 9 b、以及3 9 c。位於源極 電極3 Ob之上的接觸孔3 9b置於靠近目前該層級的閘極電極
2127-5415-PF(Nl).ptd 第54頁 594335 五、發明說明(50) 3 0c,以及上述之接觸孔39b亦被用作畫素電極27,將Si Nx 第一層間介電層23露出。接觸孔39c被置於靠近先前該層 級的閘極電極3 0 c以及供為畫素電極2 7。接觸孔3 9 a被置於 共同電極線26b之上以及被用作相同的線26b。藉由接觸孔 3 9a,下層的第一層間介電層23,藉由接觸孔39a,被選擇 性的蝕刻。因此,孔3 9 b使源極電極3 0 b露出,孔3 9 c使晝 素電位層42a與42b露出,孔39a使共同電極線26b與26a露 出。 依序地,藉由與第一實施例的相同製程步驟,第五實 施例的主動元件基板11得以完成。在已完成的基板丨丨,在 各個畫素中’使用畫素電位層42a的第一儲存電容置於靠 近目前該層級的閘極電極3 〇 c,且於此同時,使用畫素電 位層4 2 b的第一儲存電容置於靠近先前該層級的閘極電極 3 0c。藉由透明的晝素電極27,晝素電位層42&電性連接至 晝素電位層42b,且因此供各個畫素電極使用的第一以及 第二儲存電容為彼此之間平行的電性相連。 如第一實施方式相同的方法中,已完成的主動元件基 板11以及相對基板1 2,藉形成包括列向型(nemat ic)液晶 的液晶層1 3彼此之間相互耦合,由此以形成液晶顯示界曰 板。 °° 本發明者依據以上所解釋的方法實際製作第五實施方 式之液晶顯不器元件5。之後,光穿透過液晶層丨3 (亦即液 晶顯示器面板)的強度是以外部訊號電壓控制改變存在於 液晶層1 3中液晶分子的配向狀態,由此以正常地黑色顯示
2127-5415-PF(Nl).ptd 第55頁 594335 五、發明說明(51) --- 模式(normally black dlsplay 顯示灰階(gray sc^e)影像。之後,將已製成的液晶顯示器元件5置入驅 =早元(dry、er/^t),並且使用同一驅動單元操作。因 ^下付以。且貝,第五貫施方式之液晶顯示器元件5作 J比先前技術之液晶顯示器元件具較高的透光度的橫向電 场切換型液晶顯示器元件。 I六實施方式 第20與21圖係顯示根據本發明之第六實施方式之橫向 電場切換型主動式矩陣驅動液晶顯示器元件6。 第20圖係顯示主動元件基板的平面視圖。第21圖係顯 示於第20圖中沿線F-F,的剖面視圖。在這些圖中,與上述 之第一實施方式之液晶顯示器元件丨相同的參考數值或符 號會標示於相同的元件上。目此,為了簡化描述的緣故, 於此將省略關於相同元件的解釋。 將第六實施方式之液晶顯示器元件6與第一實施方式 之,較丄就對主動元件基板U而言,第六實施方式的組態 與第一實施方式的相同,除了在相對基板丨2上所 色層1 2外。 明確的况,就第六實施方式之液晶顯示器元件6而 言,光遮蔽層f黑色矩陣選擇性的形成於玻璃板16的内部 表面上,以覆蓋向要的區域,以及外套層或平坦化層1 9 擇性的覆盍於黑色矩陣上。在板丨6的外部表面,透明的導 電層(亦即氧化銦錫層)1 5由濺鍍法形成。此乃避免由於使 用者手部帶電接觸液晶顯示器平板所造成顯示影像的參差
594335 五、發明說明(52) 不齊。主動元件基板1 1與第一實施方式的組態相同。 如第一實施方式相同的方法中,已完成的主動元件基 板1 1以及相對基板1 2,藉形成包括列向型(n e m a t i c )液晶 的液晶層1 3彼此之間相互搞合,由此以形成液晶顯示器面 板。 本發明者依據以上所解釋的方法實際製作第六實施方 式之液晶顯示器元件6。之後,光穿透過液晶層1 3 (亦即液 晶顯示器面板)的強度是以外部訊號電壓控制改變存在於 液晶層1 3中液晶分子的配向狀態,由此以正常地黑色顯示 模式(normally black display mode)顯示灰階(gray s c a 1 e )影像。之後,將以製成的液晶顯示器元件6置入驅 動單元(driver unit),並且使用同一驅動單元操作。因 此,以下得以證實,第六實施方式之液晶顯示器元件6作 為比先前技術之液晶顯示器元件具較高的透光度的橫向電 場切換型液晶顯示器元件。 變形例 無須再說,本發明並非限制上述第一至第六實施方 法,因其為最佳實施方式。在本發明的精神範圍内,可加 入任何修正或改變。 例如,於上述實施例中,共同電極26與畫素電極27由 氧化銦錫(I T 0)所製成,作為透明的導電材料。此乃為了 確保高度可靠度。然而,上述電極易可以氧化銦鋅(I Z0) 或其他類似材料所製成。此乃由於其具有類似氧化銦錫 (I TO)可得的效果或優點。
2127-5415-PF(Nl).ptd 第57頁 594335 五、發明說明(53) 而且,在上述第一至第六實施方法中,作為驅動液晶 的共同以及畫素電極,具類似梳-齒的形狀(亦即一列線性 的齒或枝條(a row of "linear’ teeth or sticks)) 〇 然 而,本發明並非限定於此。本發明可應用於多領域結構 (multi-domain structure),其中驅動電極並非線性而是 波紋狀或稜紋狀。於此例中,與突出的共同電極具相同可 得的優點,可提供更進一步優點,視角可更進一步提升。 雖然本發明已以較佳實施例揭露如上,然其並非用以 限定本發明,任何熟習此項技藝者,在不脫離本發明之精 神和範圍内,當可作更動與潤飾,因此本發明之保護範圍 當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
2127-5415-PF(Nl).ptd 第58頁 594335 圖式簡單說明 為讓本發明之上述目的、特徵、和優點能更明顯易 懂,下文特舉較佳實施例,並配合所附圖示,作更詳細說 明如下。 第1圖係顯示根據本發明之第一實施方式之橫向電場 切換型主動式矩陣驅動液晶顯示器元件的主動元件基板之 佈局的佈置平面圖; 第2圖係根據第1圖中沿著線F-F ’部分的佈置剖面圖; 第3A圖係顯示根據第一實施例的第1圖中,液晶顯示 器低於氧化銦錫層的導電層之佈局的佈置平面圖; 第3B圖係顯示根據第一實施例的第1圖中,液晶顯示 器上氧化銦錫層之佈局的佈置平面圖; 第4圖係根據第1圖中沿著線A-A’ 、B-B’ 、C-C’ 、 D-D’ 、E-E’部分的佈置剖面圖;以及端點部分G和Η的佈置 剖面圖,以單一圖中區塊表示且各區塊間由曲線彼此分隔 開。 第5Α圖至第5C圖係根據第1圖中沿著線Α-Α’ 、Β-Β’ 、 C-C’ 、D-D’ 、Ε-Ε’部分的佈置剖面圖;以及端點部分G和Η 的佈置剖面圖,相對地顯示根據第一實施方式之第1圖中 液晶顯示器元件製造方法的製程步驟。 第6Α圖至第6C圖係根據第1圖中沿著線Α-Α’ 、Β-Β’ 、 C - C ’ 、D - D ’ 、Ε - Ε ’部分的佈置剖面圖;以及端點部分G和Η 的佈置剖面圖,相對地顯示根據第一實施方式之第1圖中 液晶顯示器元件製造方法中第5 Α圖至第5C圖的依序製造步 驟0
2127-5415-PF(Nl).ptd 第59頁 594335 圖式簡單說明 第7圖係顯示根據本發明之第二實施方式之橫向電場 切換型主動式矩陣驅動液晶顯示器元件的主動元件基板之 佈局的佈置平面圖; 第8圖係根據第7圖中沿著線F-F ’部分的佈置剖面圖; 第9 A圖係顯示根據第二實施例的第7圖中,液晶顯示 器低於資料線層的導電層之佈局的佈置平面圖; 第9 B圖係顯示根據第二實施例的第7圖中,液晶顯示 器元件資料線層之佈局的佈置平面圖; 第10A圖至第10C圖係根據第7圖中沿著線A-A’ 、 B-B’ 、C-C’ 、D-D’ 、E-E’部分的佈置剖面圖;以及端點部 分G和Η的佈置剖面圖,相對地顯示根據第二實施方式之第 7圖中液晶顯示器元件製造方法的製程步驟。 第1 1圖係顯示根據本發明之第三實施方式之橫向電場 切換型主動式矩陣驅動液晶顯示器元件的主動元件基板之 佈局的佈置平面圖; 第1 2圖係根據第1 1圖中沿著線F -F’部分的佈置剖面 圖, 第1 3Α圖係顯示根據第三實施例的第1 2圖中,液晶顯 示器低於資料線層的導電層之佈局的佈置平面圖; 第1 3Β圖係顯示根據第三實施例的第1 2圖中,液晶顯 示器元件資料線層之佈局的佈置平面圖; 第14圖係根據第7圖中沿著線Α-Α’ 、Β-Β’ 、C-C’ 、 D-D’ 、Ε-Ε’部分的佈置剖面圖;以及端點部分G和Η的佈置 剖面圖,以單一圖中區塊表示且各區塊間由曲線彼此分隔
2127-5415-PF(Nl).ptd 第60頁 594335 圖式簡單說明 開。 第1 5圖係顯示根據本發明之第四實施方式之橫向電場 切換型主動式矩陣驅動液晶顯示器元件的主動元件基板之 佈局的佈置平面圖; 第1 6圖係根據第1 5圖中沿著線F -F ’部分的佈置剖面 圖, 第17圖係根據第15圖中沿著線A-A’ 、B-B’ 、C-C’ 、 D-D’ 、E-E’部分的佈置剖面圖;以及端點部分G和Η的佈置 剖面圖^以早一圖中區塊表不且各區塊間由曲線彼此分隔 開。 第1 8圖係顯示根據本發明之第五實施方式之橫向電場 切換型主動式矩陣驅動液晶顯示器元件的主動元件基板之 佈局的佈置平面圖; 第1 9圖係根據第1 8圖中沿著線F -F ’部分的佈置剖面 圖; 第2 0圖係顯示根據本發明之第六實施方式之橫向電場 切換型主動式矩陣驅動液晶顯示器元件的主動元件基板之 佈局的佈置平面圖; 第2 1圖係根據第2 0圖中沿著線F -F ’部分的佈置剖面 圖, 第2 2圖係解釋電場在正常領域與非正常領域的狀態形 成於典型的橫向電場切換型主動式矩陣驅動液晶顯示器元 件的佈置平面圖。
2127-5415-PF(Nl).ptd 第61頁 594335 圖式簡單說明 [符號說明] 卜液晶顯示器元件; 1卜 1 2〜相對基板; 13〜 1 4〜偏光板; 15〜
6 8 0 ------ < OAW 板層層板線 電色向電料 5 6 7 0 0.—-39.—_ 222333334 層換 一 極 同素晶彳向¾ I 介彩配介資 ~ 共晝電 ~ 配^^ - ~ ~ ~ - a ~ ~ b - ~ 層次 ^νβ介 極極; 電電體 極 一 ^¾ 板 ·’ · > · > 件 ·,電陣層; 元層導矩化板 動晶明色坦光 8 2 ^.¾一 f'g.1 -泉f f誰 二b &極極# 一 6苗才才惨 第2 4汲閘4 主液透黑平偏第第 及掃、 無 •, ·, 線 層層 極 層 電電電介介^一同_ _ . 間間‘共 介 層層 極極 質 晶 br Tr^ 層?矽觸 質接 日Baic br 9 3雜及 •,極 島電 矽接 質連 晶互 i-li 目 1TV 才 與與 層 位; W 孑 素觸 畫接 錫 0 化 氧 層 電介 間 層 四 第
2127-5415-PF(Nl).ptd 第62頁
Claims (1)
- 594335 六、申請專利範圍 1. 一種主動式矩陣液晶顯示器元件,包括: 一具主動式元件的基板; 一與該具主動式元件的基板相耦合之相對基板; 一液晶層形成於該具主動式元件的基板與該相對基板 之間; 複數個晝素電極位於該具主動式元件的基板上以一晝 素矩陣陣列排列方式形成; 一共同電極於該具主動式元件的基板上形成以被所有 畫素共同使用; 複數個開關元件於該具主動式元件的基板上形成以被 上述個別晝素使用; 複數條掃描線形成於該具主動式元件的基板上,使掃 描訊號藉由該些掃描線傳送到該些元件; 複數條資料線形成於該具主動式元件的基板上,使資 料訊號藉由該些資料線傳送到該些元件; 複數條共同電極線形成於該具主動式元件的基板上, 使固定電位藉由該些共同電極線施於該共同電極; 該些共同電極線其中兩條被用於上述各個晝素; 複數個圖案化的畫素電位層形成於該主動式元件基板 上,藉由一***的介電層與該些共同電極線重疊; 該些圖案的晝素電位層其中兩條被用於上述各個晝 素; 其中由該些共同電極線之一第一共同電極線、該些晝 素電位層之一第一畫素電位層及該***的介電層組成一第2127-5415-PF(Nl).ptd 第63頁 594335 六、申請專利範圍 一儲存電容用於上述各個畫素;且於此同時,由一該些共 同電極線之第二共同電極線、一該些晝素電位層之第二畫 素電位層及該***的介電層組成一第二儲存電容用於該相 同晝素;以及 其中該些畫素電位層之第一晝素電位層和該些晝素電 位層之第二畫素電位層為藉由一該些晝素電極相對應之一 晝素電極彼此間電性相連;以及 其中該第一儲存電容位於靠近該些掃描線相對應之一 掃描線,且該第二儲存電容位於靠近該些畫素所緊鄰的掃 描線之一掃描線。 2. 如申請專利範圍第1項所述之主動式矩陣液晶顯示 器元件,更進一步包括一單一的層間介電層,於該些資料 線及該共同電極之間,由無機的材料所製成。 3. 如申請專利範圍第1項所述之主動式矩陣液晶顯示 器元件,更進一步包括一彩色層於該相對的基板上。 4. 如申請專利範圍第1項所述之主動式矩陣液晶顯示 器元件,其中無彩色層於該相對的基板上。 5. 如申請專利範圍第1項所述之主動式矩陣液晶顯示 器元件,其中用於上述各個畫素的該第一及第二晝素電位 層彼此分離,被排列於幾***行於該些資料線的方向。 6. 如申請專利範圍第1項所述之主動式矩陣液晶顯示 器元件,其中該共同電極及該些晝素電極為透明且位於較 該些資料線更為靠近該液晶層之層級(level );以及 其中該些資料線被該共同電極以一介電層完全覆蓋,2127-5415-PF(Nl).ptd 第64頁 594335 六、申請專利範圍 除了在該些掃描線附近處之外;以及 其中該共同電極藉由一些相對應之接觸孔與該些共同 電極線電性相連,用於上述各個晝素; 以及其中一黑色矩陣於相對的基板上形成,在該些資 料線被該共同電極完全覆蓋的區域,該黑色矩陣之寬度小 於該共同電極之寬度;以及 其中無光遮蔽層形成於被該些資料線所完全覆蓋的該 共同電極與該些畫素電極緊鄰之一晝素電極之間的區域。 7. 如申請專利範圍第6項所述之主動式矩陣液晶顯示 器元件,其中該些晝素電極與該共同電極於相同的層級處 形成。 8. 如申請專利範圍第6項所述之主動式矩陣液晶顯示 器元件,其中該些晝素電極與該共同電極藉由一介電層於 不同的層級處形成。 9. 如申請專利範圍第8項所述之主動式矩陣液晶顯示 器元件,其中該共同電極藉由一配向層面向該液晶層。 10. 如申請專利範圍第1項所述之主動式矩陣液晶顯 示器元件,其中該共同電極由一與端點電極相同的導電材 料所製成,用於施加電性訊號於該些掃描線、該些資料線 及該些共同電極線,至少其中之一;以及 其中該共同電極於與端點電極相同的製程步驟中形 成。 11. 如申請專利範圍第1 0項所述之主動式矩陣液晶顯 示器元件,其中該些畫素電極與該共同電極被形成,且該2127-5415-PF(Nl).ptd 第65頁 594335 六、申請專利範圍 些畫素電極以及該共同電極的寬度在與該些共同電極線以 及該些資料線的重疊部份會較寬。 12. 如申請專利範圍第1項所述之主動式矩陣液晶顯 示器元件,其中該些畫素電極與該共同電極由氧化銦錫 (indium tin oxide, ITO)與氧化銦鋅(indium zinc oxide, IZ0)其中之一所製成。 13. 一種主動式矩陣液晶顯示器元件,包括: 一具主動式元件的基板; 一與該具主動式元件的基板相耦合之相對基板; 一液晶層形成於該具主動式元件的基板與該相對基板 之間; 複數個畫素電極形成於該具主動式元件的基板上,以 畫素矩陣陣列排列方式形成; 一共同電極形成於該具主動式元件的基板上,以被所 有晝素共同使用; 複數個開關元件形成於具主動式元件的基板上,以被 上述個別晝素使用; 複數條掃描線形成於該具主動式元件的基板上,使掃 描訊號藉由該些掃描線傳送到該些元件; 複數條資料線形成於該具主動式元件的基板上,使資 料訊號藉由該些資料線傳送到該些元件; 複數條共同電極線形成於該具主動式元件的基板上, 使固定電位藉由該些共同電極線施於該共同電極; 該些共同電極線其中兩條被用於上述各個畫素;2127-5415-PF(Nl).ptd 第66頁 594335 六、申請專利範圍 複數個具圖案的畫素電位層形成於該具主動式元件的 基板上,藉由一***的介電層與該些共同電極線重疊; 該些具圖案的晝素電位層其中兩條被用於上述各個晝 素; 其中由該些共同電極線之一第一共同電極線、該些晝 素電位層之一第一晝素電位層及該***的介電層組成一第 一儲存電容用於上述各個晝素;且於此同時,由該些共同 電極線之一第二共同電極線、該些晝素電位層之一第二畫 素電位層及該***的介電層組成一第二儲存電容用於該相 同晝素;以及 其中該些畫素電位層之第一晝素電位層和該些畫素電 位層之第二畫素電位層藉由一具主動元件基板上的相互連 接電極彼此間電性相連,並以最大的距離與液晶層分離; 其中該第一儲存電容位於靠近該些掃描線相對應之一 掃描線,且該第二儲存電容位於靠近該些晝素所緊鄰的掃 描線之一掃描線。 14. 如申請專利範圍第1 3項所述之主動式矩陣液晶顯 示器元件,其中該些相互連接電極位於與該些共同電極線 與該些掃描線相同的層級。 15. 如申請專利範圍第1 3項所述之主動式矩陣液晶顯 示器元件,其中該些共同電極線位於與該些掃描線不同的 層級;以及 其中該些相互連接電極位於與該些共同電極線相同的 層級。2127-5415-PF(Nl).ptd 第67頁 594335 六、申請專利範圍 16. 如申請專利範圍第1 3項所述之主動式矩陣液晶顯 示器元件,其中用於上述各個畫素的該第一及該第二畫素 電位層彼此分離,被排列於幾***行於該些資料線的方 向;以及 其中上述各個晝素的該第一及該第二畫素電位層藉由 一接觸孔與該些畫素電極相對應之晝素電極電性相連。 17. 如申請專利範圍第1 3項所述之主動式矩陣液晶顯 示器元件,其中該共同電極與該些晝素電極為透明且位於 較該些資料線更靠近該液晶層的層級;以及 其中該些資料線被該共同電極以一介電層完全覆蓋, 除了在該些掃描線附近處之外;以及 其中該共同電極藉由一些相對應之接觸孔與該些共同 電極線電性相連,用於上述各個晝素;以及 其中一黑色矩陣形成於相對的基板上,在該些資料線 被該共同電極完全覆蓋的區域,該黑色矩陣的寬度小於該 共同電極之寬度;以及 其中無光遮蔽層形成於被該些資料線所完全覆蓋的該 共同電極與該些畫素電極緊鄰之一畫素電極之間的區域。 18. 如申請專利範圍第1 7項所述之主動式矩陣液晶顯 示器元件,其中該些晝素電極與該共同電極於相同的層級 處形成。 19. 如申請專利範圍第1 7項所述之主動式矩陣液晶顯 示器元件,其中該些晝素電極與該共同電極藉由一介電層 於不同的層級處形成。2127-5415-PF(Nl).ptd 第68頁 594335 六、申請專利範圍 20. 如申請專利範圍第1 9項所述之主動式矩陣液晶顯 示器元件,其中該共同電極藉由一配向層面向該液晶層。 21. 如申請專利範圍第1 3項所述之主動式矩陣液晶顯 示器元件,其中該共同電極由一與端點電極相同的導電材 料所製成,用於施加電性訊號於該些掃描線、該些資料線 及該些共同電極線,至少其中之一;以及 其中該共同電極於與該些端點電極相同的製程步驟中 形成。 22. 如申請專利範圍第2 1項所述之主動式矩陣液晶顯 示器,其中該些晝素電極與該共同電極被形成,且該些晝 素電極以及該共同電極的寬度在與該些共同電極線以及該 些資料線的重疊部份會較寬。 23. 如申請專利範圍第1 3項所述之主動式矩陣液晶顯 示器,其中該些晝素電極與該共同電極由氧化銦錫與氧化 銦鋅其中之一所製成。2127-5415-PF(Nl).ptd 第69頁
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002003005A JP4047586B2 (ja) | 2002-01-10 | 2002-01-10 | 横電界方式のアクティブマトリクス型液晶表示装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW200301840A TW200301840A (en) | 2003-07-16 |
TW594335B true TW594335B (en) | 2004-06-21 |
Family
ID=19190816
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW092100251A TW594335B (en) | 2002-01-10 | 2003-01-07 | Active-matrix addressing liquid-crystal display device using lateral electric field |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6862067B2 (zh) |
JP (1) | JP4047586B2 (zh) |
KR (1) | KR100512896B1 (zh) |
CN (1) | CN1221845C (zh) |
TW (1) | TW594335B (zh) |
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2002
- 2002-01-10 JP JP2002003005A patent/JP4047586B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2003
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- 2003-01-09 US US10/338,826 patent/US6862067B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2003-01-10 KR KR10-2003-0001631A patent/KR100512896B1/ko not_active IP Right Cessation
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6862067B2 (en) | 2005-03-01 |
KR100512896B1 (ko) | 2005-09-07 |
JP2003207803A (ja) | 2003-07-25 |
US20030128323A1 (en) | 2003-07-10 |
CN1221845C (zh) | 2005-10-05 |
CN1434338A (zh) | 2003-08-06 |
JP4047586B2 (ja) | 2008-02-13 |
KR20030061352A (ko) | 2003-07-18 |
TW200301840A (en) | 2003-07-16 |
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