TW544772B - Apparatus and method for substrate preparation implementing a surface tension reducing process - Google Patents
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Description
544772 五、發明說明（1) 【I明背景】 1 ·發明之領域 二般而言，本發明係關於基板及半導體晶圓的製 統及，、方法，本發明尤有關實施表面張力用 ”及處理效率高的系統之基板及半導體晶圓： = 2 ·相關技術之描述 在半導體裝置的製造中，係有需要在製 階段進行基板的溼式清洗。典型地 ^ =種 置形成在石夕基板之上並形成在石夕基板之晶體襄 :::使圖案化之導電層與其它之；化：等介電 化層處，即需要平坦化金 9、、邑、·彖。在各金屬 沒有平坦化處理的話，則額外:=之介電材料。若 Γ:之較大變異而實。層，將由於表 清潔用於^作之後，進行基板的濕式清潔。設叶、、县+ 成並維持足=程的副產品、移除污染物：’及* 構造；：；體裝置構造越小且越複雜時J必要 所需的精確度將需要在所有的處理= 544772
不完善或無效、或濕式清 導入不能接受的殘餘物戒 造中’需要平坦化及清洗 板。在硬式磁碟機的製造 殘留在基板上、及利用類 燥的技術、方法、及設備 洗及擦洗、浸泡之操作、 、或音波能量等等用以移 。當所採用的某些用於擦 的副產品產生強有力的交 乾燥技術之前，使用去離 ί格的潔淨度標準。若濕式清潔 濾的乾燥不完善或無效時，則： 污染物至處理環境中。了則將 口同樣地，在硬式磁碟機的製 刼作來維持清潔且平坦的碟片基 中並不犯接文殘餘物或污染物 似基板的其它裝置亦不能接受。 y在本技術領域中，沖洗及乾 係豐富且為人所知，並包含如沖 及加熱、機械式、化學式、電枉 除或排除水分及乾燥基板的應用 洗及沖洗操作的酸或鹼與製造中 互作用時，一般則在進行期望之 子水（DIW )進行最後的沖洗。 旋轉、沖洗及乾燥（SRD )已知為一般的乾燥技 術。SRD藉由旋轉基板，俾使用機械式、離心的能量而將 水分從基板清除，並直到其乾燥為止。SRD設備典型地包 括碗狀部之内的基板安裝板，且其安裝在旋轉之轉轴上， 藉以旋轉基板。典型地使用將基板保持在水平方位上的安 裝鎖而將基板裝設至基板安裝板或旋轉夾頭。因此，旋轉 夾頭的快速旋轉將旋轉基板，並迫使水分從基板表面上移 除。典型地從位在基板上方並連接至DIW供應部的喷嘴施> 加DIW。 ' SRD處理基本上包括施加DIW及旋轉基板而使其乾燥。
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、發明說明（3) f藉由導入如氮之鈍氣或鈍氣蒸汽而排除任何尚未經由旋 專而移除的水分，俾增強乾燥效果。額外的變化包括 、加熱SRD環境、加熱鈍氣等等。 熱 另一種一般的乾燥技術已知為馬蘭哥尼技術。馬蘭哥 尼乾燥典型包括使用化學乾燥流體或如異丙醇（IPA)之 i容劑，俾引進適合於促進水分從基板表面移除的表面張力 罘度。馬蘭哥尼技術的變化亦包括導入用於當作J p A蒸汽 之傳遞的載氣之如氮等鈍氣。 /
習知乾燥亦包括馬蘭哥尼技術與SRD設備的組合。此 方法已包括將IPA或IPA蒸汽導入到安裝在旋轉夾頭上之基 =的表面。當旋轉夾頭旋轉基板時，離心作用力驅使水^ =基板表面排除，且馬蘭哥尼乾燥極大化從基板表面排^ 的水分而極小化殘留之殘餘物或污染物。 曰。SRD與馬蘭哥尼技術之組合的限制為習知之srd僅用方 曰曰圓或基板之單側的清洗及乾燥。安裝在旋轉夾頭上之邊 2有-表面接觸清洗及乾燥操作。而為了達成並維持^ 境所期望之潔淨程度，故需要雙側的同時編
2解決上述問題，因此需要一種基板製備系統及方 ::二為了符合並超過製造處理迫切需要的潔淨程度，故必 須此極大化晶圓及其它基板的清洗及乾燥。 【發明的綜合說明】 程而 言，本發明藉由提供一種實施表面張力降低製 此有效且兩效率地進行清洗、乾燥、蝕刻、或其它期
544772 五、發明說明（4) 望之基板處理、且 時進行處理的基板 方式實施本發明， 法。以下說明本發 在一實施例中 含：一用以旋 上方， 周邊之 夾頭，具有 轉基板、一 而上塗佈臂 間移動，上 能在基板的上或 製備系統而滿足 包括處理、設備 明之各種實施例 ，揭露一種基板 從邊緣夾持基板 上塗佈臂，其位 能在基板之主動 塗佈臂更具有用 主動表面與背面兩面同 以上需求。可藉由各種 、系統、裝置、或方 動表面上的一對供應管線統、一下 的沖洗與乾燥系 的指部 在基板 表面的 以輸送流體至基 塗佈臂 統，包 ，並將夾頭設成 之一主動表面的 一中心區域與一 背面 與一周 之背面 與下塗 域與周 塗佈臂 在 包含： 成用以 主動表 區域與 至基板 的下方，而 邊之間移動 上的一對供 佈臂，俾能 邊之間移動 係保持對齊 另一實施例 一夾頭，具 旋轉基板、 面處，而第 一周邊之間 之主動表面 位在鄰接於基板的 中心區域與 面的一 下塗佈臂能在基板之背 ’下塗佈臂更具有用以 應管線、及一連接部， 當上塗佈臂與下塗佈臂 時’位在基板之相反面 〇 中’揭露一種基板的沖 有從邊緣夾持基板的指 一第一塗佈臂，其位在 一塗佈臂能在基板之主 移動，第一塗佈臂更具 上的一對供應管線、一 背面處，而第二塗佈 一周邊之間移動，第二 ，其位在 面的一中 輸货流體 係聯接上 在基板的 的上塗佈 板之主 基板之 心區域 至基板塗佈臂 中心區臂與下 洗與乾燥系統， 部，並將夾頭設 鄰接於基板的一 動表面的一中心 有用以輸送流體 第二塗佈臂，其 臂能在基板之背 '塗佈臂更具有用
第8頁 544772 五、發明說明（5) 以輸送流體至基板之背面上的 罩’其圍繞夾頭中之基板，而 當滑門處於一開啟狀態時，即 出從夾頭的指部的一入口。 在又一實施例中，揭露一 一夾頭，具有從邊緣夾持基板 旋轉基板、一第一塗佈臂，其 邊，而第一塗佈臂能在基板之 周邊之間移動，第一塗佈臂更 主動表面上的一第一對供應管 朝向周邊之一方向的角度、及 之一背面的旁邊，而第一塗佈 區域與一周邊之間移動，第二 至基板之背面上的一第二對供 具有朝向周邊之一方向的角度 、本發明具有許多的優點。 點為基板之上或主動面與背面 ^、、乾燥、或其它處理，故轉 日守通到主動表面與背面兩面。 另一盈處為本發明係設置 寸。可快速且有效地完成將一 另 夾頭的程序而提供多樣化 統時的停機時間。此外，此設 置而易於進行傳動帶的更換及 一對供應管線、 喷霧罩則設有— 提供用以將基板 及一喷霧 滑門，其中 ***至及移 種基板的製備系 的指部，並將夾 位在基板之一主 主動表面的一中 具有用以輸送流 線，第一對供應 一第二塗佈臂， 臂能在基板之背 塗佈臂更具有用 應管線，第二對 〇 本發明之一顯著 兩面的同時製備 軸與夾頭採中空 成易於適用於複 基板尺寸所用之 的應用並極小化 計可藉由調整轉 張力调整。 統，包含： 頭設成用以 動表面的旁 心區域與一 體至基板之 管線則具有 其位在基板 面的一中心 以輸送流體 供應管線則 的益處及優 。為了清 設計，俾同 數之基板尺 夾頭更換成 結合處理系 轴馬達的位
第9頁 544772
額外的益處為此系統具有結合至既有之處理設備的能 f，俾能在極少因污染而造成不良或報廢的情況下提高= 叩的品質與產量。喷霧罩與喷霧罩滑門之極矮的外形適 於許多系統，且簡化地形成氣麼滑門而不會在系統=内產 生微粒。 上本發明之其他目的及優點由隨後之詳細說明及隨附之 申凊專利範圍當可更加明白。 、 較佳實施例之詳細說明】 本發明係揭露基板之製 方法包括用以執行表面張力 的製程而清洗及乾燥晶圓或 面）與下表面（或背面）兩 一實施例中，係在基板清洗 乾燥設備，而依據本發明之 及乾燥的實施例中，此基板 個刷洗盒擦洗設備及一或多 在以下說明中，為了提 將提出許多具體之細節。然 者係可在不需某些或所有具 發明。在此情況下，將不詳 免模糊本發明。 備。在較佳實施例中，設備及 降低製程、並同時以精確控制 其匕基板之上表面（或主動表 面的基板清洗及乾燥設備。在 及乾燥系統中實施基板清洗及 隨著刷洗處理後的基板之清洗 清洗及乾燥系統則包括一或多 個基板乾燥器。 供對本發明的徹底理解，因此 而，其可理解為熟悉本項技藝 體之細節的情況下據以實施本 細地說明熟知之製程操作以避
圖1顯示依據本發明 基板乾燥系統1 0 0包括中 之—實施例的基板乾燥系統丨00。 空轉軸1 2 3，而設成用以夾持基板
544772 五、發明說明（7) '一~ ---- 128的中空夾頭122係裝設至其上，並配置在滴盤138之内 及其上。使上塗佈臂110位在基板128的上表面之上，並 下塗佈臂11 2對稱地位在上塗佈臂1 1 〇的相反側及位在基 128之下表面或背面之下。藉由上塗佈臂支撐樁114而 上塗佈臂110，上塗佈臂支撐樁114則機械式地連接（未^ 示）至配置在塗佈臂驅動軸外殼118之内的塗佈臂驅動轴@ (未圖示）。藉由下塗佈臂支撐樁11 6而支撐了塗佈臂 11 2，下塗佈臂11 2則磁性地連接（未圖示）至上塗佈 撐樁114。 土文 猎由指部126而將基板128固定至中空夾頭122。將中 空夾頭122設成隨著中空夾頭122裝設至其上的中空轉轴 123之旋轉而旋轉。將轉軸馬達丨2〇設成藉由傳動帶丨32而 k供施加至中空轉軸1 2 3的旋轉能量，此旋轉能量則旋轉 中空轉軸123、夾頭122及固定在中空夾頭122之指部126中 的基板1 2 8。 喷霧罩124係圍繞在中空夾頭1 22、指部126、及基板 1 2 8四周。將嘴霧罩1 2 4設成容納在清洗及乾燥處理中任何 流到中空夾頭1 2 2之周圍區域的液體。在本發明之一實施 例中，喷霧罩1 24係設有滑門（如圖4A、圖4B、及圖 4D )，其磁性地偶合至半圓形的氣壓系統，俾提供用以插 入及移出基板1 2 8而通到中空夾頭1 2 2的側面入口。參見圖 4A，以下將更詳細說明喷霧罩1 24及滑門的構造及操作。 在一實施例中，晶圓感測器臂1 3 0 a係位在上塗佈臂支 擇樁11 4與嘴霧罩1 2 4之間，且將其設成使晶圓感測器1 3 ^
544772 五、發明說明（8) 位在基板128的表面上方。將晶圓感測器13〇b設成感測基 板128的存在、及確定配置在指部丨26中之基板128的正確 位置與方位。在一實施例中，為了固定可動的指部丨2 7 (如圖4A、圖4B、及圖4C )、並為了在基板乾燥系統10〇 中持續進行基板製備，故必須精確地定位基板丨2 8。晶圓 感測器1 3 0 b感測並確保基板1 2 8係位在允許可動的指部1 2 7 ' 將基板固定在定位、及位在可持續進行清洗、乾燥、或其 · 它基板製備的高度方位及正確的位置。 在本發明之一實施例中，將乾燥劑施加至基板丨2 8的 _ 主動表面及其背面。乾燥劑的例子包括丨PA、丨pa蒸汽、氮 氣（N2 )、及其它鈍氣或蒸汽化的化學物質。某些乾燥劑 將產生最終落到滴盤1 3 8之内的副產品或過量蒸汽。設置 用以釋出氣媒之化學物質或蒸汽的排氣口 1 3 4，及設置用 以排出清洗劑與乾燥劑兩者之任何液體殘餘物的排液口 136 ° 設置上塗佈臂1 1 〇與下塗佈臂丨丨2而用以經由上塗佈喷 嘴111 a及下塗佈喷嘴丨丨丨b而分別將所需的清洗、乾燥、沖 洗劑或其它溶劑或流體供應至位在中空夾頭1 2 2之指部丨2 6 中的基板1 2 8之主動表面及背面。在一實施例中，位在基 籲 板1 28之相反側的實質相同位置上的上塗佈臂丨丨〇與下塗佈 臂112係彼此映對。 η 圖2說明依據本發明之一實施例的基板乾燥系統丨〇 〇。 · 圖2之立體圖顯示位在基板乾燥系統1〇〇之夾頭122中的晶 · 圓128。喷霧罩中的開口 （參見以下圖u之更詳細說明） ·
第12頁 544772 五、發明說明（9) 將允許進入夾頭1 2 2而從中***或移出晶圓丨2 8。由上塗佈 臂支撐樁11 4所支撐的上塗佈臂〇位在晶圓丨2 8的上方。 具有排氣口 1 3 4的滴盤1 3 8則包圍圖2所示之基板乾燥系統 1 0 0的下半部構造特徵。
圖3 A顯不依據本發明之一實施例的塗佈臂組件丨〇 2之 詳細視圖。在所示之實施例中，使乾燥劑供應部1〇9a及清 洗劑供應部i〇9b沿著上塗佈臂丨丨〇而至上塗佈喷嘴111&， 上塗佈喷鳴111 a則為將清洗劑及乾燥劑施加至基板之主動 表面的所在（圖2A中未顯示）。乾燥劑供應部U3a及清洗 劑供應部113b沿著下塗佈臂112而至下塗佈喷嘴丨^，下 塗佈喷嘴111 b則為將清洗劑及乾燥劑施加至基板背面的所 在（圖2A中未顯示）。在其它實施例_，可經由供應部 1 〇9a、1 〇9b、1 1 3a、1 1 3b而傳送任何期望的溶劑、蒸汽、 或其它流體，並經由塗佈喷嘴丨丨丨a、i丨丨b而塗佈。
在一實施例中，橫跨基板之主動表面的上塗佈臂丨工〇 之位，與橫跨基板之背面的下塗佈臂丨丨2之位置由塗佈臂 控制器（未圖示）與容納於塗佈臂驅動軸外殼丨丨8之内的 、，佈臂驅動軸（未圖示）所控制。位在塗佈臂驅動軸外殼 118之外表上的電性連接器丨19則設置用以將電力連接至配 置在之其内的塗佈臂控制器。 在一實施例中’藉由設置傳動軸與上塗佈臂丨丨〇之間 ϋ ί接機械式連接而使塗佈臂驅動軸機械式地連接至上塗 ^撐樁114，俾定位上塗佈臂11〇。將上塗佈臂11〇設 、兀耆上塗佈臂支撐樁丨14樞轉，俾移動上塗佈臂丨1()並定 五、發明說明（10) 位橫跨基板之主動（ 明之-實施例中，清洗:：C嘴⑴a。在本發 ;而將清洗劑及乾燥劑從= 的半 從其中心區域向 因此將：同塗著質;，塗佈⑽ 心區拭a冰#^ # 1()/〇者旋轉之基板的表面而從其中 上：=():到周緣區域’下塗佈臂112則實質相反於 冷：:丄 在基板的相反侧或其背面上’並隨著上 j:，而」足基板的中心區域移動到基板的外側區域。 =辟 貫施例中，下塗佈臂112並非機械式地連接至 塗佈臂驅動軸。 < 牧主 在本發明之一實施例中，使下塗佈臂112經由上塗佈 臂支撐樁114及下塗佈臂支撐樁116而磁性地連接至上塗佈 臂11 0。為了確實地機械式控制映對著下塗佈臂丨丨2的上塗 佈臂11 0，故設置磁性連接。在一實施例中，磁性聯接器t 為具有可控制下塗佈臂11 2之移動程度的磁鐵。例如，當 下塗^布臂11 2趨近中空轉軸1 2 3的内壁時，將可使下塗佈臂 11 2靜止在基板周邊的附近。上塗佈臂丨丨〇持續經過基板的 周邊，而下塗佈臂11 2則保持靜止在基板1 28背面之周邊區 域附近。從以下之圖1、圖4 A、及圖6的說明可理解，上塗 佈臂11 0可移動到指部1 2 6，而下塗佈臂11 2的移動則僅限 制在中空轉軸1 2 3的邊界之内。 圖3 B顯示依據本發明之一實施例的上塗佈喷嘴111 a及 544772 五、發明說明（11) " ·一""' " — 下，佈噴嘴11 lb的細部。在所示之實施例中，裝設至上塗 =臂頭140a且通常指向下的上塗佈喷嘴1Ua則包括來自乾 术劑供應部l〇9a的喷嘴及來自清洗劑供應部1〇9b噴嘴。 同，地，裝設至下塗佈臂頭蠢且通常指向上的下喷 11 b則包括來自乾燥劑供應部11 3 a的喷嘴及來自清洗劑 供應部11 3 b的噴嘴。 在本發明之一實施例中，將基板安裝在中空夾頭丨2 2 亡，。而中空夾頭122則裝設至旋轉之中空轉軸123。上塗佈 喷嘴11 la係指向基板128的上表面或主動表面處、及下塗 佈喷幫係指向基板1 2 8的下表面或背面。在一實施例中， f塗佈喷嘴111a及下塗佈喷嘴lllb為與朝向基板128之周 邊區域的方向呈一角度。當裝設至夾頭122並隨著其旋轉 而旋轉的上塗佈臂110及下塗佈臂112沿著方向142從基板 1 2 8的中〜區域移動至基板1 2 §的周邊區域時，則經由來自 上塗佈臂頭140a之清洗劑供應部丨09b的噴嘴之清洗劑與經 由來自下塗佈臂頭140b之清洗劑供應部113]3的喷嘴之清洗 劑係施加至基板1 28的主動表面及其背面。如以下之更詳 細說明中，在一實施例中，經由來自上塗佈臂頭14〇&上之 乾燥劑供應部1 〇9a的喷嘴所施加的乾燥劑及經由來自下塗 佈臂頭140b上之乾燥劑供應部丨丨3a的噴嘴所施加的乾燥劑 係隨著施加清洗劑而立即施加。因此，當沿著方向142移 動上塗佈臂11 0及下塗佈臂丨丨2而橫跨基板表面時，則施加 清洗劑及乾燥劑至裝設至夾頭122之旋轉基板的上、下表 面兩面0
544772 五、發明說明（12) 圖4 A顯示依據本發明之一實施例的中空夾頭丨2 2。將 中空夾頭1 2 2設成偶合至基板乾燥系統丨〇 〇 (如圖1 )，俾 用以支樓、旋轉，及用以進入基板的上表面或主動表面並 進入基板的背面。在圖4 A中，係顯示中空夾頭1 2 2的上視 圖。在一貫施例中’將圓形的中空夾頭丨2 2設成偶合至中 空轉軸1 2 3。如以下說明般地驅動中空轉軸丨2 3旋轉，且圓 形的夾頭122自由地旋轉而旋轉裝設至中空夾頭122的基板 1 2 8 °將圓柱形中空轉軸丨2 3設成用以裝設傳動帶丨3 2 (如 圖1 )，俾提供旋轉的作用力。在一實施例中，中空轉軸 1 2 3包括裝設至基板乾燥系統丨〇 〇的靜止部、及裝設至夾頭 122的旋轉部。設置至基板128之主動表面及至其背面兩面 的入口’俾允許上塗佈臂丨丨〇與下塗佈臂丨丨2得以同時供應 清洗、乾燥、或其它溶劑至旋轉之基板丨28的兩表面。 在一實施例中，喷霧罩124圍繞夾頭122。將噴霧罩 1 24設成能將清洗、乾燥、或其它處理中所用的任何液體 局限在容納中空轉軸123與裝設之夾頭122的凹陷部空間之 1。在處理期間，當施加清洗、乾燥、或其它溶劑至基板 日^ ’ k旋轉之基板甩出的任何液滴將被喷霧罩丨2 4所阻 擒’並局限在具有中空轉軸123及裝設之夾頭122之内部凹 陷部=内。噴霧罩124可由PET、塑膠、聚氨酯或任何適當 的輕里材料構成，俾提供易於清潔及適用於無塵室之應用 的強度與形狀。 在本發明之一實施例中，將滑動的喷霧罩滑門丨5 2設 成通至内部區域或通至具有中空轉軸123與裝設之夾頭122
第16頁 544772 五、發明說明（13) 的凹陷部之入口。在一實施例中，將猾動的喷霧罩滑門 152設成為喷霧罩124的一局部，而喷霧罩滑門152滑動開 啟時’則提供通至内部區域或凹陷部的入口，及滑動關閉 曰守’則形成圍繞中空轉軸1 2 3與夾頭1 2 2之實質無缝的喷霧 罩1 2 4 °當噴霧罩滑門丨5 2處於開啟狀態時，則可將基板 ***至夾頭I22之上或從其上移出。藉由滑動之喷霧罩 滑門1 52的開口而設置之入口將允許由機器手臂（未圖 不）所***的基板128以適當的位置與方位而被指部126所 接收丄一旦***基板並將其裝設至指部1 2 6，則關閉滑動 喷務罩α門1 5 2，俾維持中空轉軸1 2 3與夾頭1 2 2的凹陷 :之内的任何流體之圓形封鎖。在一實施例中，將基板 ***至指部126中，且晶圓感測器以⑽感測及確認適當 ”7 Λ與固位置。—旦確認適當的方位與位置，$動的指部 123 r』：4士!即將ΐ板128固定在定位。為了允許轉軸 霧二m R广回機為手臂（未圖示）’並關閉滑動的噴 干）1¾ # ^ π ^ μ ^施例中，藉由氣壓驅動裝置（未圖 不）而使處於開啟或關閉a 定位。沿著噴霧罩124V底:或之二動'喷霧罩又門152到 局部周邊設置氣壓管15〇 :二邻區域處的喷霧罩124的 管内設有磁性球或磁性轴承在:實施例中，使氣壓管150的 1 5 0的内部而移動磁性球。\ ^壓驅動裝置將沿著氣壓管 端，並在氣壓管15〇的第二二^供氣壓至氣壓管150的第一 時，將使氣壓管150之内生排t (通風）或真空 円的磁性球產生沿著至排氣（通
第17頁 544772 五、發明說明（14) 風）或真空的壓力路徑之移動。在一實施例中，可將氣壓 驅動裝置e又成供應壓力至第一與第二兩端，並為了排氣或 提供真空而連接至氣壓管150之第一與第二兩端。依此方 式，如方向箭號1 54所示，將磁性球設成在氣壓管長度的 任一方向上移動。滑動的喷霧罩滑門丨5 2係設有磁性閂 (未圖示），俾磁性地裝設至磁性球。當磁性球沿著氣壓 官1 5 0的内部移動時，則磁性閂使滑動的喷霧罩滑門丨5 2裝 設至磁性球並開啟或關閉滑動的喷霧罩滑門丨5 2，故使喷 務罩滑門1 5 2滑動至偶合於氣壓管1 5 〇之内的磁性球位置之 開啟位置或關閉位置。在一實施例中，設置滑門位置感測 器1 5 8用以顯示滑動的喷霧罩滑門丨5 2之狀態。 圖4 B a兒明依據本發明之一實施例的基板乾燥系統1 Q 〇 之夾頭122與喷霧罩124。在圖4B所示的立體圖中，滑動的 贺務罩滑門1 5 2係處於完全圍繞夾頭1 2 2與轉軸的内凹陷部 (不可見於圖4B中）、並保持處理區域四周之喷霧罩124 的整體性之關閉狀態。 當滑動的喷霧罩滑門1 5 2處於開啟狀態時，則設置插 入或移出基板1 2 8所需的入口。將指部1 2 6設成用以在中空 轉軸123及夾頭122上方接收及支撐基板128。在一實施例 中’設置可動的指部127而確保基板128在定位上。當*** ，板128時，將至少二指部126設成用以接收基板丨28。當 藉由機器手臂（未圖示）而將基板1 2 8定位在指部1 2 6中 ¥ ’則可動的指部1 2 7處於開啟或不固定的狀態上。適當 地將基板1 2 8定位在指部1 2 6之中時，則可動的指部1 2 7樞
第18頁 544772 五、發明說明（15) 轉到基板128的邊緣，俾將基板128固定在定位。因此，藉 由才曰部1 2 6及可動的指部1 2 7而支撐在正確定位之基板1 2 8 的邊緣處。在一實施例中，指部丨2 6及可動的指部丨27係設 ^用以將基板128定位在略偏離中空轉軸123及夾頭122之 旋轉軸的中心。設置此偏離中心的定位將進一步確保基板 128靠著指部126，並極小化中空轉軸123之旋轉期間作用 在可動的指部127上之壓力。 在一實施例中，將可動的指部127所用之驅動裝置125 (如圖4C )設在鄰接中空轉軸丨23處，並將其裝設至中空 轉軸123的靜止部。圖4C說明依據本發明之一實施例的可 ，的指部驅動裝置125。當可動的指部m處於開啟或不固 定的狀態時，則將可動的指部驅動裝置125設成用以防止 中空轉軸123之旋轉部的移動或轉動。一旦已定位美 可動的指部丨27已將基板固定在定位時，則將可動二J 驅動裝置設成允許中空轉軸123之旋轉部； 二。在-實施例中，將進一步防止中空轉軸123的 = 器158顯示滑動的喷霧罩滑門152處於關 閉狀悲，故任何用以***或移出基板 轉軸123及夾頭122縮回。 柚為手#已從中空 圖4D顯示依據本發明之一實施 其上的夾頭1 22。在圖4D的實施例中，已藓曰曰圓1 28位在 1 2 7而將晶圓1 2 8定位在指部1 2 6中並固定^ a "動的，部 指部126及可動的指部127支撐晶圓128的==姑，藉由 在定位。依據本發明之一實施例，一、吏，、保持 一可動的指部127將 第19頁 544772
五、發明說明（16) 晶圓128固定在定位及晶圓感測器130b顯示晶圓128位 確的方位時，即允許滑動的噴霧罩滑門152關閉，並在^ =轴（不可見）、夾頭122、及晶圓128 =噴霧罩124。在一實施例中，滑門位置感測器ι 3
滑，的喷霧罩滑門152之位置而判斷為關閉狀態或未^、J 狀態。 才 圖5顯示依據本發明之一實施例的夾頭丨22之移除。在 本發明之一實施例中，可更換夾頭122，俾能容納^复#數之 基板尺寸。如上所述，中空轉軸丨23包括旋轉部及靜止 部。將具有銷部126及可動的銷部127之夾頭122設成裝設 至中空轉軸的旋轉部，俾能隨著中空轉軸123的旋轉 轉配置在其上的夾頭丨22及基板丨28。在本發明之一實施例 中，藉由PET、塑膠、聚氨酯、或其它適當材料等實質無 縫之工件製造夾頭122，而夾頭122則不僅包括用以將夾頭 1 2 2裝設至旋轉之中空轉軸丨2 3之内的環部或軸承之裝設點 1 5 6 (如圖4 A )，更包括用以接收基板的銷部丨2 6及可動的 銷部1 2 7。在一實施例中，就特定之基板尺寸而設置夾頭 122 ’俾能使用於特定之基板尺寸的基板乾燥系統1〇()之構 造僅需要裝設用於期望之基板尺寸的對應夾頭丨22。例 如，一般之半導體晶圓尺寸包括2〇 〇ππη及3 00mm的晶圓。故 本發明之一實施例包括2 〇 〇mm的構造及3 0 0mm的構造，與用 於期望之晶圓尺寸的重新構造，其僅需在裝設點丨5 6處使 夾頭1 2 2從中空轉軸1 2 3上分離而移除夾頭1 2 2，並更換成 期望之基板尺寸所用的夾頭丨2 2。
第20頁 544772 五、發明說明（π) ! 6顯「依據本發明& 一實施例的基板乾燥系統工⑽之 \诗。在所示的實施例中，已翻轉基板乾燥系統 T除滴盤1 38。此外’已移除典型設置在基板乾 餘糸統1 0 0上的僂會yQ _ ^ 7得動f盍，且所不之傳動帶132.係環繞在中 : _ ’並壤繞裝設至轉軸馬達1 20之底部的滑輪。 鏟在本發明之一實施例中，傳動帶132纏繞在轉 車轉邛123&上、及被轉軸馬達12〇所驅動而提供用 ^ 1 2 3與裝設之夾頭的旋轉作用力（不可見於圖6 μ彳Λ n所不之轉軸1 2 3的靜止部1 2 3 b亦裝設至基板乾燥系 口 134接=ΐ ί可動的指部驅動裝置125裝設至其上。排氣 滴盤138 (圖6中已移除）所包圍之空間的排 丨2、、、。況明起見，已從下塗佈臂支撐樁11 e移除下塗佈 供創，、基板乾燥系統100的-執行實施例提 之美板1228之清洗及乾燥方法。&照待清潔及乾燥 1 故同時處理單-尺寸之基板m批 如i所ΐ理ί ^之基板尺寸，因此設置簡便的構造。 使滑動的喷霧罩滑咖處二=【 滑門152 滑、心2上之磁性問磁性地使滑動的喷霧罩 時，、、典勳的至磁性球，亚當磁性球通過整個氣壓管150 :霧罩滑門152即滑動至開啟狀態。當_
544772 五、發明說明〇8) 「未關閉」狀癌。 機器手臂（未圖示）將棊板1 2 8***至夾頭1 2 2上。指 部1 2 6將基板1 2 8接收至其中，並藉由驅動裝置丨2 5而定位 可動的指部1 2 7 ’俾將基板丨2 8裝設並固定至夾頭1 2 2中的 位置，而指部126及可動的指部丨27則夾持在基板128的邊 緣處。使機器手臂縮回，且滑動的喷霧罩滑門】5 2滑動成 為關閉狀態。滑門感測器丨58則感測關閉狀態。 裝設至晶圓感測器臂丨30a的晶圓感測器丨3〇b感測基板 128的存在及其方位。若基板128存在且呈正確的指向時 (如南度）’則允許具有裝設之夾頭1 2 2的中空轉軸1 2 3旋 轉。依據期望的應用而將中空轉軸丨23設成以3〇〇RpM或更 低轉數及以高達300ORPM進行旋轉。藉由使用傳動帶132的 轉轴馬達120而使中空轉軸丨23產生旋轉。在一實施例中， 將轉軸馬達1 2 〇設成具有調整傳動帶丨3 2之張力的功能。例 如，將轉軸馬達12G的位置調整成朝向或遠離中空轉軸3 而分別地降低或提高傳動帶132的張力。 轉萃 ，中空轉軸123設成具有可隨意旋轉的旋轉部123&， 成，轉並用以裝設夾頭122、及具有固定之靜止部 部驅動ί 二基,板么燥系統100。此外，將可動的指 動=置125裝设在中空轉軸123的靜止部12扑上。將可 固；旋轉部1233設置成類似於具有中空内部並能在 成纏鹐乂 f之内隨意地旋轉之轉軸軸承。將傳動帶1 32設 點156;中空轉軸123之旋轉部123a的下部區域。在裝設 ”、、6處，將容納指部126及可動的指部127的夾頭122裝設
第22頁 544772 五、發明說明（19) 至中空轉軸123之旋轉部12 3a的上部區域，而設置易於變 換結構的夾頭1 22，俾接受複數之基板尺寸。 依據本發明之一實施例，在基板1 2 8位於基板乾燥系 統1 0 0中的情況時，上塗佈臂11 〇及下塗佈臂11 2將實質位 在旋轉之基板1 2 8的中心處。上塗佈臂11 〇使上塗佈喷嘴
Ilia指向基板128的上或主動表面、及下塗佈臂ι12使下塗 佈喷嘴11 lb指向基板128的下或背面。磁性連接的上塗佈 # 11 Ο μ下塗佈臂11 2係位在基板1 2 8之相反兩侧的實質相 同位置上。 ' '
在一貫施例中，經由清洗劑供應部丨〇 9b及u 3b而將3 =劑塗佈至旋轉之基板128的主動表面及背面。經由乾燥 =部109a及11 3a而將乾燥劑塗佈至旋轉之基板128的 係或#面°在—實施例中，上塗佈臂頭14Ga使上卷 的中^二指向、，俾能當上塗佈臂110行經旋轉之基板12 時，、、主:知、而到達其周邊區域基板1 28之主動表面的上方 使下：佑：將位在乾燥劑之前。同樣地，了塗佈臂頭140 :::佈喷嘴iUb指向，俾能當下塗佈臂112從旋轉之基
噴嘴]。在一實施例中，使有角度的上塗令 邊緣，即美Ζ ί佈喷嘴lm指向遠離基板的中心而朝向， 應用而從：齡处理期間喷嘴經過的大略方向。依照期望3 括基板、、主：卞1之:匕學物質或DIW中選擇清洗劑。本發明包 子包_w、HF、NH 0h H n先劑的實施例。清洗靡 Η40Η、H2 02、或任何如HC1、HN〇3、
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II 1.1 il I 五、發明說明（20) m、HBr、H3p〇4、H2S〇4等等酸的溶液。乾 括IPA、乙醯丙酮、乙基 包 ^ ^ γ 斤述，當在清洗劑之後塗佈乾燥劑時，則降低 ，月冼蜊的表面張力，其可促進液體朝向旋 ^ 向外移動而移出基板之外。 冑之基板的邊緣 在塗Γ/Λ依據本發明之一實施例的清洗及乾燥處理。 乾㈣彳之前先將清洗劑塗佈在旋轉之基板的上表面 /、二=，而從基板的中心區域朝向基板的周邊區域移 :二，洗劑設成用以清洗、蝕刻，洗基板的表面， 入乾燥劑至區域170中時，則降低液體的表面張力 冒強液體與殘餘物的移動，藉以乾燥基板的表面。 分#由上塗佈臂支撐樁114與下塗佈臂支撐樁116而將上 二!、fj0磁性地偶合至下塗佈臂112、及將上塗佈臂機械 式也連接至容納在塗佈臂驅動軸外殼丨丨8之内的塗佈臂驅 動軸。在一貫施例中，藉由容納在塗佈臂驅動軸外殼11 8 之内的塗佈臂控制器指揮上塗佈臂11〇從旋轉之基板128的 ^ 區或至其周邊的檢跨其上表面的移動。塗佈臂控制器 才曰揮用以定位上塗佈臂丨丨〇的塗佈臂驅動轴。磁性連接之 下塗佈臂112則映對著上塗佈臂11〇的移動，其從旋轉之基 板128的中心區域行經至其周邊而橫跨其背面。故提供上 及背面的同時清洗與乾燥。 月在本發明之一實施例中，將制動器或調速器設在下塗 佈臂11 2上’俾防止下塗佈噴嘴丨丨丨b與中空轉軸丨2 3之内表 面之間的接觸。基板處理則如所述般地從旋轉之基板的中 » 第24頁 544772 五、發明說明（21) 心朝向旋轉之基板的周邊持續進行。上塗佈臂ιι〇盥下涂 佈臂112同步地橫跨旋轉之基板的主動面與背面，直到$ 達預定點或接近基板的邊緣處。到達預定點時，下涂佈臂 112停止而上塗佈臂110則持續移動，俾依所需使上；佈喷 嘴11 la向上移動或越過基板邊％。 、 ♦饮加认级l备技〜 圖8顯不依據本發明之 一^例的靜止在預定點的下塗佈臂112、及 移動的上塗佈臂U0。在—實施射m於上塗= no的另一制動器或調速器’而決定上塗佈臂u。在轉布軸 123與夾頭122之凹陷部之内的行程極限。當使上塗佈臂 110與下塗佈臂112對齊成上塗佈臂11〇回復至 下塗佈臂11 2再次一起移動。 措由贺務罩1 2 4而阻擔法、、杏添|你私π 於散佈在基板乾燥系統10 :洗的過量液體免 及夾則22的中空凹陷部=f二質將其容納在轉軸I” g〇 μ ^ m ^ λ 内。如關於圖1及圖2的上述說 月’將液體〜餘物收集在滴船 出。在某些實施例中，使m… 由排液口136排 生累積之H pi使 的氣體當作乾燥劑而產 生累積之瘵π或虱體時，則排氣 138之内的蒸汽或氣體排出。 則以將局限在滴盤 圖9顯示依據本發明之_ _ -實施例巾Μ例的基板處理站2⑽。在 盒洗滌器202，俾形成卢〇，、統1〇〇結合至少一刷洗 小化其板之僂γ e s 1土+处理站，其不僅用以有效地極 J、化暴板之傳达及曝光處理， 間。在此實施例中，使至少一=…、塵室的樓板空 基板乾燥系統1 0 0設有至少 544772 五、發明說明（22) 刷洗盒2 0 2，俾首先使基板在至少一人 一 或多道的操作處理，並接著將其用〜202中經過- 燥系統100安裝在刷洗盒202的上 1如，將基板乾 及極小化系統或工具的接地面積：又俾離 在低處進行較髒的擦洗處理，mm。因此， 清洗與乾燥操作。 仃較乾甲的基板 在另一實施例中，使基板處理 ;;方：；大化無塵室樓板空間的有效利用：及 =方，與系統的經濟且有效的執行方式。在士=板 f i明之一貫施例整合成結合之基板處理叢隼模袓，i 負載至的蝕刻處理模組、及化學機械平坦化 ：刻 ΐ二可：本發明之實施例整合成能處理cMp之後的J， 及#刻之後的清、;窜^品从> & & 土 ^ 月a ，、本作之作為 冷處理模組的叢集模組。 上所述者，僅為了用於方便說明 例，而並非將本發明狹義地限制於該較佳實施例= 發明所做的任何變i皆屬本發明申請專；：：圍凡依本 第26頁 544772
圖式簡單說明 圖1顯示依據本發明之一實施例的基板乾燥系統。 圖2說明依據本發明之一實施例的基板乾燥系統。 圖3A顯示依據本發明之一實施例的塗佈臂組 視圖。 』咩細 之一實施例的上塗佈喷嘴與丁务 圖3 B顯示依據本發明 佈喷嘴的細部。 圖4A顯示依據本發明之 圖4 B說明依據本發明之 頭與噴霧罩。 實施例的中空夾頭。 實施例的基板乾燥系統之& 置。圖4C祝明依據本發明之一實施例的可動的指部驅動裝 頭。圖4D顯不依據本發明 < 一實施例㈣晶圓位在其上的夾 ^ :不依據本發明之-實施例的夾頭移除狀況。 或下側。 像本發明之一實施例的基板乾燥系統的底 圖7說明依據太 圖8 _ -分& 备明之一實施例的清洗與乾燥處理。 q。喊不依據太 塗佈臂、及允畔复勢明之一實施例的靜止在預定點的下 W9顯示依據本持蘇續移動的上塗佈臂。 a明之一實施例的基板處理站。 【符號說明】 1 〇 〇基板乾燥系 塗佈臂組
第27頁 544772 圖式簡單說明 109a 、 109b 113b 供應部 113a II 0、11 2 塗佈臂 III a、11 1 b 塗佈喷嘴 11 4、1 1 6 塗佈臂支撐樁 118 外殼 119 電性連接器 12 0 轉軸馬達 122 夾頭 123 轉軸 123a 旋轉部 123b 靜止部 124 喷霧罩 12 5 驅動裝置 126、127 指部 128 基板（或晶圓） 130a 晶圓感測器臂 130b 晶圓感測器 132 傳動帶 134 排氣口 136 排液口 138 滴盤 140a、140b 塗佈臂頭 142 、 154 方向 150 氣壓管
第28頁 544772
圖1顯示依據本發明之一實施例的基板乾燥系統。 圖2說明依據本發明之一實施例的基板乾燥系統。 圖3 A顯示依據本發明之一實施例的塗佈臂組件的細 視圖。 口〒、、、 圖3B顯示依據本發明之一實施例的上塗佈噴 蛊下涂 佈噴嘴的細部。 、/、卜主 圖4 A顯示依據本發明之一實施例的中空夾頭。 圖4B說明依據本發明之一實施例的基板乾燥系 頭與喷霧罩。 、''' 圖4C說明依據本發明之一實施例的可動的指部驅動裝 置。 ^ 一圖4D顯不依據本發明之一實施例的晶圓位在其上的夾 圖5顯示依據本發明之 圖6顯示依據本發明之 或下側。 實施例的夾頭移除狀況。 實施例的基板乾燥系統的底 圖 圖 塗佈臂 圖 7說明依據本發明之一實施例的清洗與乾燥處理 8顯不依據本發明之一實施例的靜止在預定點的 、及^允許其持續移動的上塗佈臂。 9顯示依據本發明之一實施例的基板處理站。 下 【符號說明】 10 〇基板乾燥系統 1 0 2塗佈臂組件
第27頁 544772 圖式簡單說明 109a、109b、113a、113b 供應部 II 0、11 2 塗佈臂 III a、111 b 塗佈喷嘴 11 4、11 6 塗佈臂支撐樁 118 外殼 119 電性連接器 12 0 轉軸馬達 122 夾頭 123 轉轴 123a 旋轉部 123b 靜止部 124 喷霧罩 125 驅動裝置 1 2 6、1 2 7 指部 128 基板（或晶圓） 130a 晶圓感測器臂 13 0b 晶圓感測器 132 傳動帶 134 排氣口 136 排液口 138 滴盤 140a、140b 塗佈臂頭 142、154 方向 150 氣壓管
544772 圖式簡單說明 152 喷霧罩滑門 156 裝設點 15 8 感測器 170 區域 200 基板處理站 2 0 2 刷洗盒 ‘ 202 刷洗盒洗滌器 .
第29頁
Claims (1)
- 544772 六、申請專利範圍 κ 一 ^基)板一的沖洗與乾燥系統，包含： 方，而該)上塗上佈塗臂佈/ ’其位在該基板之一主動表面的上滅 與一周邊之間3ί 基板之該主動表面的一中心该ί Α板之#，該上塗佈臂更具有用以輪送流體炱该 基板亥、主一動表面上的-對供應管線； 而該下c塗佈臂下能塗在佈/其士其位在該基板之一背面的下方’ ，ί下塗佈臂更具有用以輸送流體至該基板之該 背面上的一對供應管線；及 ^) 一連接部，係聯接該上塗佈臂與該下蜜佈臂， 俾此:忒上塗佈臂與該下塗佈臂在該基板的該中心區域與 該周邊之間移動時，在該基板之相反面的該上塗#臂與該 下塗佈臂係保持對齊。 2 ·如申巧專利範圍第1項之基板的沖洗與乾燥系疵，更包 含：一喷霧罩，其圍繞該夾頭中之該基板，而該噴霧罩則 設有 /月門’其中當該滑門處於一開啟狀態時，即提供用 以將汶***至及移出從該夾頭的該指部的一入口 σ 3·如申請專利範圍第1項之基板的沖洗與乾燥系疵，其中 將該夾頭設成可更換成用於各基板尺寸之一特定尺寸的一第30頁 544772 六、申請專利範圍 夾頭。 4. 如申請專利範圍第3項之基板的沖洗與乾燥系統，其中 該夾頭為同時可通到該主動表面與該背面兩面的一中空_夾 頭。 5. 如申請專利範圍第1項之基板的沖洗與乾燥系統，其中 將該上塗佈臂的各供應管線與該下塗佈臂的各供應管線設 成用以供應一蝕刻流體、一清洗流體、一沖洗流體、及一 乾燥劑之一。 6. 如申請專利範圍第5項之基板的沖洗舆乾燥系統，其中 該清洗流體包括HF、NH4OH、H2 02、HC1、HN〇3、H2C03、 HBr、H3P04、及H2S04。 7. 如冲請專利範圍第5項之基板的沖洗與乾燥系統，其中 該乾燥劑包括異丙醇、乙醯丙酮、乙基乳酸、乙基乙二 醇、及甲基σ比洛酮。 8. 如申請專利範圍第2項之基板的沖洗與乾燥系統，更包 含一基板感測器，其設成用以確定該夾頭之指部中的一基 板之正確定位。 9.如申請專利範圍第1項之基板的沖洗與乾燥系統，其中第31頁 544772 六、申請專利範圍 聯接該上塗佈臂與該下务彳太辟 部。 下塗佈I之該連接部為一磁性連接 ι〇· —種基板H中洗與乾燥系統，包含·· (a )爽員’具有從邊緣夾持該基板的指部，並將 該夾頭設成用以旋轉該基板； j b )第塗佈臂，其位在鄰接於該基板的一主動 表面處，而該ί —塗佈臂能在該基板之該主動表面的一中 。區域與周、之間移動，言亥第一塗佈臂更具有用以輸送 流體至該基—板Μ主動表面上的_對供應管線； (C \一>第一塗佈臂，其位在鄰接於該基板的一背面 處而該弟一 ^佈臂能在該基板之該背面的一中心區域與 一周邊f =移動，肖第二塗佈臂更具有用以輸送流體至該 基板之該背面上的一對供應管線；及 () —喷霧罩，其圍繞該夾頭中之該基板，而該喷 ，罩則設有^滑門，其中當該滑門處於一開啟狀態時，即 提供用以將該基板***至及移出從該夾頭的該指部的一入 11 ·如申請專利範圍第1 0項之基板的沖洗與乾燥系統，更 包含： 一連接部’係聯接該第一塗佈臂與該第二塗佈臂，俾 能當該第一塗佈臂與該第二塗佈臂在該基板的該中心區域 與該周邊之間移動時，在該基板之相反面的該第一塗佈臂第32頁 544772 六、申請專利範圍 與該第二塗佈臂係保持對齊。 1 2·如申請專利範圍第】】項 中聯接該第一塗佈臂與該第二ι佈臂與乾燥***，其 連接部。 #之該連接部為-磁性 1 包3含如申請專利範圍第10項之基板的沖洗與乾燥系統，更 =:，ί沿著該喷霧罩與滑門的-底部，· 磁丨生球，其配置在該氣壓管之内； 一磁性問’設置在該滑門上； 其中將該磁性問設成、借#、、普Μ 管 俾能萨由w 門滑動地裝設至該氣壓 fl啟狀』4 i官之内的磁性球之移動而使滑門滑動至 開啟狀怨或一關閉狀態。 一夾頭。、 σ更換成用於各基板尺寸之一特定尺寸的 中該决申明專利範圍第10項之基板的沖洗與乾燥系統，其 爽i〔碩為同時可通到該主動表面與該背面兩面的一中空 洗與乾燥系統，將 •如申請專利範圍第1 0項之基板的沖 第33頁 ”、申請專利範圍 f :塗f ί的各供應管線與該第二塗佈臂的各供應管嗖 _ d &體、一清洗流體、一沖洗流體、及 孕乙刼劑之一。 久 17· 一種基板，製備系統，包含·· 兮+ (a) 一夹頭，具有從邊緣夾持該基板的指部，並將 该夾頭設成用以旋轉該基板； 將 旁邊，(1)嗲莖第^塗佈臂’其位在該基板之一主動表面的 ^ ^= 一主佈臂能在該基板之該主動表面的一中心 - :塗佈臂更具有用以輸送流 對供=線則具有 邊，而%笛一第淹:塗佈臂，其位在該基板之一背面的旁 -周邊：門移：：能在該基板之該背面的一中心區域與 基板的；有用以輸送流體至該 則具有朝向該周邊之一方向的,忒第-對供應菅線 1 8.如申請專利範圍第1 7 -磁性連接部，传聯員接之，基：的/備系統，更包含： 臂，俾能當該第_塗佈臂與該第二塗佈 心區域與該周邊之間移動時， ^佈臂在該基板的遠中 塗佈臂與該第二塗佈臂係c之相反面的該第- 544772 六、申請專利範圍 19·々口中士主 _々專利範圍第1 7項之基板的製備系統，更包含： 設有-$ =罩’其圍繞該爽頭中之該基板，而該噴霧罩則 以將該插A丨中#該滑門處於—開啟狀態時，即提供用 入至及移出從該夾頭的該指部的一入口。 2 〇.如中士主 夾頭設成与專利範圍第17項之基板的製備系統，其中將該 之-dj除，f可將該系統設成用以接收各基板尺寸 &寸的一夾頭。 ^ •為如同申二專二 =第二項之基板的製備系統，其中該夾 了通到该主動表面與該背面兩面的一中空夾頭。 2J · 士 &申凊專利範圍第17項之基板的製備糸紙^ 弟一塗佈臂之兮筮射w 1備糸統’其中將該 佈臂之今ί ：；弟一對供應管線的各供應管線盥該第- 2系3.統如:Λ專少利Λ圍先第二項之基板的製備系統，其中將該 組。 益洗滌器而成為—結合之基板處理模 匕估有一晶圓搬運奉、 及一蝕刻處理模组μ 14 + 糸、、允一载入與卸載模組、 及I衩組的基板處理叢集模組。 I! 第35頁 544772 六、申請專利範圍 2 5.如申請專利範圍第1 7項之基板的製備系統，其中使該 系統結合一包括有一晶圓搬運系統、一載入與卸載模組、 及一化學機械平坦化處理模組的基板處理叢集模組。_ 2 6.如申請專利範圍第1 7項之基板的製備系統，其中使該 系統結合一包括有一晶圓搬運系統、一載入與卸載模組、 一 刻處理模組、及一化學機械平坦化處理模組的基板處 理叢集模組。
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