TW419708B - Substrate transfer device - Google Patents

Description

4 19 708_ 五、發明說明（1) 發明所屬技術領域 本發明係關於基體之搬移栽 ， 係具有令在半導體產業或液曰:裝置，更砰細說明之， 於外部氣體地在氣流搬運事:、等使用之基體不會曝露 之内部空間之間移動之功‘内部空間和外部處理裝置 於可遮斷或置換基體周圍之裔二體之搬移載裝裝置，係關 室或搬運室之基體之搬移載裝裝置為所謂的載入上鎖 習知技術 習知在半導體等之製程’為了八 片）在各製程使用之製造裝置間移動了 &題（例如半導體晶 置。在這種搬運裝置上例如有將裝入’使用基體之搬運裝 放在搬運車後搬運之搬運裝置、用 了基體之卡匣治具堆 之搬運裝置。可是，目前i這些搬運逐片地搬運基體 之氣體係大氣中，未成為充分之高^ f處理基體之空間 利用將裝入了基體之卡匡治具裝入^閉=體空間。最近也 法，但是，未解決對於基體之來自容 $器後搬運之方 墊等之污染之問題。 '質、氣密用氣密 在解決此問題之方法上，例如提 承）在搬運路線内搬運基體之氣流搬運 用氣流（空氣軸 運裝置可使得搬運路線内變成密閉型^置。因這氣流搬 基體之周圍變成充分高潔淨之氣體空密閉系），可使得 運裝置之構造及動作之一例。 二0 °以下表示氣流搬 ' + <間隧道和成為

第4頁 (1)氣流搬運裂置包括在内部之潔 _ — 五、發明說明（2) 該隧道之入口、出口之開口部以及氣流搬運面。 (2) 在氣流搬運面設置支撐基體之周邊並上下動之頂 針，在隧道之入口利用外部處理裝置之交換手臂（例如機 械手臂之手指等）將基體放置於頂針上。 (3) 令頂針下降’藉著令基體搭乘由高純度氣體構成 之氣流而浮起，向隧道之出口搬運基體。 (4) 在隨道之出口，用頂針上升並支撐經氣流搬運後 在停止位置懸浮之基體後，外部處理裝置之交換手臂拿走 基體。 、 該氣流搬運裝置雖然具有可在裝置内無灰塵產生部地 在潔淨空間隧道内搬運基體之優點，但是在隧道之入口' 出口和其他之基體處理裝置交換時有如下之問題。 外部處理裝置之氣體自氣流搬運裝置之入口、出口侵 入氣流搬運随道内，污染隧道内之高純度氣體。 在外部處理裝置係真空裝置或減壓裝置之情況，因氣 流搬運隧道内之高純度氣體流出’侵入外部處理裝置内， 在乳流搬運功能或真空、減壓功能彳丨起障礙。 為了解決這種問題，習知在裝置間交換部設置在用内 外之氣體遮斷用之2個遮斷閥（閛門閥等）包圍之室内設置 了搬運用手臂（真空機械手臂等）之所謂的載入上鎖室。可 是’這些現況零件可說無法充分滿足幾乎不容許灰塵產 生、污染之超潔淨水準（雜質濃度為ppt等級之位準），而 且上述構造之載入上鎖室未必矸說是最適合氣流搬運裝置 之構造。

第5頁 419708 五、發明說明（3) 發明要解決之課題 本發明係遮斷外部處¥驻 防止相互污染，而且也J 3 f和氣流搬運裝置之氣體而 生、低污染交換基體Ϊ二超潔淨水準之低灰塵產 提#最適人ά基體搬移载裝裝置，其目的在於 徒供被週〇逐片式虱流搬運裝置的。 解決課題之手段 本發明之第1種基體之相 # 筱之搬移載裝裝置，係關於具有令 基體不會曝路於外部齑骑认+友α , 冰却考® ^就體地在氣流搬運裝置之内部空間和 外部處理裝置之内部令„ t I f ,立# ΜΑ π 功能之基體之搬移載 ίίΐ 該移放裝置包括.1空容器，内部 ^ ^ 將该真空容器之内部水平地隔間成上部 空間和下部空間2室；„ π Λι? ^ ^ ^ M m 開口 4 ’和設於該上部空間之該外 部處理裝置之内部空問細. βΒ 間相通，開口部，和設於該下部空間 之該氣流搬運裝置之M + 之内4空間相通；圓形之開口部，設於 該間隔壁之中央；關命 成座’沿者該開口部之周緣設於上下兩 面：水平圓盤型之上部閥，配置於該上部空間内並可上下 動’水^ ^型之下部閥’ &置於該下部空間内並在放置 該基體後可上下動；令該上部閥整體上下動之裝置；以及 令該上部閥整體上下動之裝置。 本發明之第2種基體之搬移載裝裝置係、關於具有令 基體不會曝露於外部氣體地在氣流搬運裝置之内部空間和 外部處理裝置之内部空間之間移動之功能之基體之搬移載 裝裝置’其特徵在於該移放裝置包括：真空容器，内部可 減壓’間隔壁’將該真空容器之内部水平地隔間成上部空 ^1 11^ 第6頁 111¾¾&>«9708 五、發明說明（4) ' '

間和下部空間2室；開口部，和設於該上部空間之該氣流 搬運裝置之内部空間相通；開口部，和設於該下部空間之 該外部處理裝置之内部空間相通；圓形之開口部，設於該 間隔壁之中央；閥座，沿著該開口部之周緣設於上下兩 面·’水平圓盤型之上部閥，配置於該上部空間内並可上下 :丄水平圓盤型之下部閥’西己置於該下部空間内並在放置 二广體後可上下動；令該上部閥整體上下動之；以及 7该上部閥整體上下動之裝置D 含血ί上述構造構成之2種基體之搬移戟裝裝置都具有包 相〔、氧流搬運裝置之内部空間和外部處理裝置之内部空間 下^之入口和出口之真空容器，將水平圓盤形之上部閥和 間儲存於真空容器内’令基體位於上下閥所包圍之空 此，^為密閉空間後，可將該空間置換為真空或氣體。因 可得到遮斷外部處理裝置和氣流搬運裝置之氣體而防 相石 低-污染’而且也能以滿足超潔淨水準之低灰塵產生、 ' π染交換基體之基體之搬移載裝裝置。 發明之實施形態 以下和本發明之作用等一起說明本發明之實施形態。 (實施形態1 ) ^ 式 圖1〜3係表示本發明之第1種基體之搬移裁袈裝置之模 1 ^ $剖面圖。第1種基體之搬移载敦裝置在構造"上設於 部Ϊ空間開口部和外部處理裝置之内部空間相通、設π於下 a間開口部和氣流搬運裝置之内部空間相通。圖1表示

第7頁 419?〇β ------— 五、發明說明（5) 部閥遮斷移放裝置之上部空間和下部空間後基體自外 處理裝置移向移放裝置之上部空間之狀態，圖2表示在 移放裝置基體被上部閥和下部閥固住而閉密之狀態，圖3 表示用上部閥遮斷移放裝置之上部空間和下部空間後基體 放在下部閥之搬運面上之狀態。 。 在圖卜3，1係構成移放裝置之真空容器，2係真空容 " 之上4工間’ 3係真空谷器内之下部空間，4係將真空 容器之内部水平地隔成上部空間和下部空間2室之間隔 壁，5係和設於上部空間之外部處理裝置之内部空間相通 之開口部，6係和設於下部空間之氣流搬運裝置之内部空 ^相通之開口部，7係設於間隔壁之中央之圓形之開口 部’ 8係沿著開口部之周緣設於上面之閥 部之周緣設於下面之闕座Μ。係配置於=上 平圓盤型之上部闊’11係配置於下部空間内並放 上下動之水平圓盤型之下部間，12係令上部闕 整體上下動之裴置，13係令下部閥整體上下 係基體，1 5係和下部閥之基體背面相向之搬 t ，1 4 係在和下部閥之基體背面相向之搬運面所設 ^16和17 上下動之裝置，18係上部閥之氣體引入口 之令基體可 之閥座之接觸部，2 〇係和下部閥之閥座之接，和上部閥 圈，22係外部處理裝置，23係外部處理襞置之°卩’ 2 1係線 24係氣流搬運裝置，25係氣流搬運裝置^ 内部空間， 氣流搬運裝置之搬運面，27係氣流搬運奘s 二Μ，26係 端。 奴置之搬運面之末

第8頁 419708 五、發明說明（6) ' '------ ，圖1〜3所示，構成基體之搬移載裝 之内部具有上下2個空間2、3 ,在上部 置之真工合以 之中段有亚 二間2和下部空間3 二圓二之間隔壁4，在間隔壁中央部設置圓形之開 1 圓形開口部7之周緣之上面8及下面9成兔„产 上部空間2健存水平圓盤型之上部閥1 〇，上部閱! ϋ人在 整：上：動之裝置12可上下動…部二下Λ 上α卩閥之閥座之接觸部1 9和間隔壁開口部7之 上。面閥座8密接’自下部空間3遮斷真空容器！之上部^空間 而，在下部空間3放置基體14後儲存可上下動之水平 f盤，之下部閥11。藉著用令下部閥整體上下動之裝置13 令下部閥11上下動，可接近氣流搬運裝置24 末尸。在下部闊u上升了之情況，和下部間之 觸部2 0和間隔壁開口部7之下面閥座g密接，自上部空間2 遮斷真空容器1之下部空間3。在此，令上部閥整體上下動 之裝置12和令下部閥整體上下動之裝置13設為可單獨動作 的。又’和令下部閥整體上下動之裝置13獨立地在和下部 閥之基體背面相向之搬運面15設置令基體可上下動之敦^ 1 6和1 7。例如〗6使用頂針，丨7使用伸縮囊。 之基體背面相向之搬運面15在構造上包括具有使基體 1 4洋起或著地、捕捉或發射基體、將基體對心、或使基體 水平旋轉或水平靜止之功能之氣體之噴射口（圖上未示）及 乂噴射口傳送指定之時序、流量以及壓力之氣體之繫φ (圖上未示）。 置

;41070 五、發明說明（7) — ~ 以下使用圖卜3詳細說明自外部處理裝置22向氣流搬 運裝置24移動基體之情況之移放裝置之動作。 在圖1，處於下部閥11上升（箭號方向）、和下部閥之 間座之接觸部2 0與間隔壁開口部7之下面閥座9密接之狀 態，自下部空間3遽斷真空容器i之上部空間2。在處於此 狀態之上部空間2内，經由和外部處理裝置“之内部空間 23相通之開口部5，夕卜部處理裝置”之交換手臂（圖 示）將基體14放在頂針16，藉著向外部脫離，將基體14自 广部處理裝置22之内部空間23移向真空容器i之上部空間 然後，頂針16下降時，同時上部閥1()下降，和上部闊 之閥座之接觸部19和間隔壁開口部7之上面間座8密接（圖 2)。結果，基體14密閉於上部閥1〇和下部叫之搬運心 之間。接著’經由上部_之氣體引人σ18將上部閥1〇和 下部閥11所包圍之密閉空間内真空排氣後，將氣氣引入密 閉空間内，密封成大氣壓力。 如圖3所不，下部閥丨丨下降（箭號方向）至搬運面Μ和 氣流搬運面之末知2 7同一高度為纟。其次，自設於下部閥 11 ^搬運面15之氣體噴射口（圖上未示）朝向基體“開始喷 射f起氣體氮。接著，藉著令頂針16下降至比搬運面“低 之高度’基體14就浮起而變成懸停狀態。然|，在氣流搬 f ^置24之搬運面26之末端27也開始喷射浮起氣體氮，再 藉著在下部閥11之搬運面15令喷出基體之發射氣體氛，將 基體14搬向氣流搬運裝置24之内部空間25。藉著以上之動

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五、發明說明（8) 置24之基體之移 作’完成自外部處理裝置22往氣流搬運裝 動。 而，在將基體14自氣流搬運裝置24移向外部處理 22之情況之移放裝置之動作基本上和上述動作相反即可。 即，錯著使用在氣流搬運裝置24之搬運面26和下部 搬運面之浮起氣體I之喷射，令基體14自氣流搬運“ 24之内部空間向移放裝置之下部空間3内移動後’停止嘖 射浮起氣體，將基體丨4放在頂針16上。接著，下部閥丨丨 搬運面15上升，基體14密閉於上部閥1〇和下部閥丨丨之搬 面15之間。然後，經由上部閥1〇之氣體引入口18將上 10和下部閥Π所包圍之密閉空間内真空排氣，或者缺後= 入和係基體14之移動目的地之外部處理裝置22相同之 體。接¥，令上部閥10上升，令上部空間2和外部處理 置22之内部空間23連通，外部處理裝置22之交換手臂圖 上未不）拿走基體14，基體14之移動就完了。 (實施形態2 ) 圓4你衣…个種基體之搬移載裝裝置之 上之剖面圖。第2種基體之搬移栽敦裝置在構造上設於上^ 部空間開口部和氣流搬運裝置之内部空間相通、設於 :=口部和外部處理裝置之内部空間相通，這一點和； 施形態1所不第1種基體之搬移栽裴 不同。Α他方' 第1種基體之搬移載裝裝置—樣。、 面和 圖4，101係構成移放裝置之真空容器，102係真 器内之上部空間’103係真空容器内之下部空間，104:將

4 S3 7 08 五、發明說明¢9) 真空容器之内部水平地隔成上部空間和下部空間2室之間 隔壁’ 1 0 5係和設於上部空間之外部處理裝置之内部空間 相通之開口部’ 1 0 6係和設於下部空間之氣流搬運裝置之 内部空間相通之開口部’ 1 〇 7係設於間隔壁之中央之圓形 之開口部，1 0 8係沿著開口部之周緣設於上面之閥座，1 〇 9 係沿著開口部之周緣設於下面之閥座，Π 〇係配置於上部 空間内並可上下動之水平圓盤型之上部閥，1 11係配置於 下部空間内並放置基體後可上下動之水平圓盤型之下部 闊’ 1 1 2係令上部閥整體上下動之裝置，n 3係令下部閥整 體上下動之裝置，11 4係基體，11 5係和下部閥之基體背.面 相向之搬運面’ 1 1 6和11 7係在和下部閥之基體背面相向之 搬運面所設置之令基體可上下動之裝置，118係上部閥之 氣體引入口 ’ 1 1 9係和上部閥之閥座之接觸部，} 2〇係和下 部閥之閥座之接觸部，1 2 1係線圈，1 2 2係外部處理裝置， 1 23係外部處理裝置之内部空間，1 24係氣流搬運裝置， 1 2 5係氣流搬運裝置之内部空間，1 2 0係氣流搬運裝置之搬 運面’127係氣流搬運裝置之搬運面之末端。 以下使用圖4詳細說明自外部處理裝置22向氣流搬運 裝置24移動基體之情況之移放裝置之動作。 首先’在和設於移放裝置之下部空間1 〇 3之外部處理 裝置12+2之内部空間23相通之開口部1〇6，將外部處理裝置 之父換手臂（圖上未示）***下部空間内將基體 4放位於比氣流搬運裝置124之末端a?下方之位置之設 ;下部閥ill之搬運面115之頂針116上。然後，交換手臂

4 19 7 08 五、發明說明（ίο) (圖上未示）自下部空間103向外部處理裝置122之内部空間 I 23脫離。 其次’下部閥111之搬運面11 5上升至和氣流搬運裝置 124之搬運面126同一高度為止’和間隔壁下面閥座1〇9密 接’自上部空間1 02遮斷下部空間1 〇3，將基體〗丨4密閉於 和上部閥11 0之間。接著’經由上部閥11 〇之氣體引入口 II 8將上部閥11 0和下部閥111所‘圍之密閉空間内真空排 氣後’將氮氣引入密閉空間内，密封成大氣壓力。 然後’上部閥11 〇上升’開始喷射下部閥丨丨1之搬運 面115之浮起氣體乳。接著，藉著令頂針η &下降至比搬運 面11 5低之南度’基體U 4就浮起而變成懸停狀態。然後， 在氣流搬運裝置124之搬運面126之末端127也開始噴射浮 起氣趙氮’再藉著在下部閥111之搬運面令喷出基體之 發射氣體氮，將基體114搬向氣流搬運裝置124之内部空間 125。藉著以上之動作，完成自外部處理裝置122往氣流搬 運裝置124之基體之移動。 而，在將基體114自氣流搬運裝置丨24移向外部處理裝 置1 2 2之情況之移放裝置之動作基本上和上述動作相反即 可。即’將基體11 4支撐在頂針11 6上後，上部閥丨】〇下降 而將基體114密閉，而且自下部空間1〇3遮斷上部空間 1 〇 2。然後，經由上部閥1 1 〇之氣體引入口 11 8將密閉空間 内真空化，或者封入和外部處理裳置122相同之氣體。接 著’令下部閥1 11下降，令下部空間丨〇 3和外部處理裝置 1 22之内部空間1 23連通’外部處理裝置丨22之交換手臂（圖

419708 五、發明說明（11) 上未示）拿走基體114，基體114之移動就完了。

如以上說明所示，實施形態丨所示第17C種基體 裝裝置在比氣流搬運裝置24之基體搬運水平高 搬移載 和外部處理裝置22之基體之交換，而在實施形離進^ 2種基體之搬移載裝裝置在比氣流搬運裝置124 = Z所不第 水平低之位置進行和外部處理裝置122之基體之A體搬運 點不同。藉著區分使用上述二種基體之搬移栽^廷 ^和外部處理裝置之基體之交換高度之整合得到寬的自Z 上述之實施形態，藉著自例如碳化矽（s丨c)、# (BN)、氮化銘（AIN)、高‘純度氧化紹⑷2〇3)等陶磁鼠^ 這些材料之表面被覆了鑽石薄膜的、或超高純度石去 硬合金選擇構成設於間隔壁之中央之圓形之開=部 部及閥座之材料，採用具有真空氣密性而且不會拍 運之產品之材料，確認了在移放裝置之内部空間之粒子 數、污染度達到超潔淨度水準（即，ppt等級之雜質濃 度）。可是，在可容許粒子數、污染度之氣流搬運裝置之 情況’在閥及間座之密封部使用由聚合物或合成樹脂構各 之密封塾等，應用本發明之構造當然也可。 又，在上述之實施形態’下部閥藉著在和下部閥n 之基體背面相向之搬運面1 5包括具有使基體丨4浮起或著 地、捕捉或發射基體、將基體對心、或使基體水平旋轉或 水平靜止之功能之氣體之噴射口及向該噴射口傳送指定之 時序、流量以及壓力之氣體之裝置，在邊令基體浮起邊令

4tS?〇8 五、發明說明（12) 移動時可精密地控制基體。 此情況，最好具有基體之浮起或著地之功能之嘴射 口以相對於下部閥之搬運面2 2度之角度鑽孔*自該嘴射口 噴射之氣流之水平分力指向該下部閥之中心，分割成4象 限或3象限。又希望具有捕捉或發射基體之功能之嘴射口 以相對於下部閥之搬運面2 2度之角度鑽孔，自該噴射口嘴 射之氣流之水平分力排列成和與該氣流搬運裝置之内部处 間相通之氣流搬運路線平行。此外，具有基體之水平旋& 或水平靜止之功能之噴射口，藉著決定該基體之結晶^ 向後將基體放在令設於下部閥之搬運面之該基體可2下方 之裝置上之功能，在下部閥上下動之情況或基體之周 $ 壓或加壓之情況，也可將基體確實保持在下部閥上。 發 如 氣流搬 響彼此 裝裝置 體之差 置。又 閥及閥 閥及閥 之行進 產生灰 明之效 以上說 運裝置 之功能 。因而 異影響 ，本發 座使用 座係平 速度設 塵之密 面接觸構 為 響 果 明所示，若利用本發明 和其他外部處理裳置之 而且可置換基體周邊之 ’本發明之基體之搬移 ’可各易地結合氣流搬 明之基.體之搬移載褒裳 難發生塑性變形之超高 而且將自 s e c以下 ，可得到在逐片型之 間交換基體時，不影 氣體之基體之搬移載 載裝裝置不會受到氣 運裝置和外部處理裝 置’藉著在其内部之 硬度材質，其内部之 即將接觸至密接為止 因可達成接近不會 運轉。 封，可令以超潔淨水準

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圖式簡單說明 · 圖1係表示本發明之第丨榷基體之搬移栽裝裝 ^ 上之剖面圖，表示用下部閥遮斷移放裝置之上部处之模式 部空間後基體自外部處理裝置移向移放裝置之=間和下 狀態。 4空間之 圖2係表示本發明之第1種基體之搬移裁裝装 上之剖面圖’表示在移放裝置基體被上部閥和下之模式 而閉密之狀態。 。卩間圍住 圖3係表示本發明之第丨種基體之搬移栽裝裝 上之剖面圖，表示用上部閥遮斷移放裝置之上^处之模式 部空間後基體放在下部閥之搬運面上之狀態。 < 間和下 圖4係表示本發明之第2種基體之搬移栽敦數 上之剖面圖。 、之模式 符號說明 1構成移放裝置之真空容器 2真空容器内之上部空間 3真空容器内之下部空間 4將真空容器之内部水平地隔成上部空間和 2室之間隔壁 # &間 5和設於上部空間之外部處理裝置之内部* 開口部 之間相通之 6和設於下部空間之氣流搬運裝置之内部空 ^間相通之

第16頁 4ί9 7〇8 五、發明說明（14) 開口部 7設於間隔壁之中央之圓形之開口部 8 沿著開口部之周緣設於上面之閥座 9 沿著開口部之周緣設於下面之閥座 10 配置於上部空間内並可上下動之水平圓盤型之上 部閥 11配置於下部空間内並放i基體後可上下動之水平 圓盤型之下部閥 12令上部閥整體上下動之裝置 13令下部閥整體上下動之裝置 14基體 1 5和下部閥之基體背面相向之搬運面 1 6、1 7在和下部閥之基體背面相向之搬運面所設置 之令基體可上下動之裝置16、17 1 8上部閥之氣體引入口 1 9和上部閥之閥座之接觸部 20和下部閥之閥座之接觸部 21 線圈 22外部處理裝置 2 3 外部處理裝置之内部空間 24 氣流搬運裝置 2 5 氣流搬運裝置之内部空間 2 6 氣流搬運裝置之搬運面 27 氣流搬運裝置之搬運面之末端

第17頁 419709 五 '發明說明（15) 101構成移放裝置之真空容器 102 真空容器内之上部空間 103 真空容器内之下部空間 104 將真空容器之内部水平地隔成上部空間和下部空 間2室之間隔壁 通 相 間 空 部 内 之 置 裝 ίι 處 部 外 之 間 空 βΓ 土口 上 於 設 和 β— 立口 D 開 之 通 相 間 空 β— 内 之 置 裝 運 搬 流 氣 之 間 空 部 下 於 設 和 R— Λσ 口 開 之 7 8 9 0 ο ο ο 1 部座 口閥 開之 之面 形上 圓於 之設 央緣 中ffiypJ 之之 壁部 隔口 間開 於著 設沿 上 之 型 盤 圓 平 座水 閥之 之動 面下 下上 於可 設並 緣内 周間 之空 部部 口上 開於 著置 沿配 閥 Rr 立口 平 水 之 下 上 可 後 體 基 置 放 並 内 間 空 部 下 置部 配下 1之 U型 盤 圓 置置 裝裝 之之 下下 上上 體體 整整 閥閥 部部 上下體 令令基 2 3 4 Ί-i 1Α TJX 11 11 設 所 面 搬 運目 搠6 之S7 背1 向 1 II"體、 0Π M基16 面 -1 之1 背 置 L閥 體卩裝 基η之 之α動 二LT 部 上 下17可 和'1體 5 6基 1 1 令 t—- 11 > 之 置 閥 部 上 8 9 1Α 11 和 體 氣 之 之 閥 β— 立口 部 觸 接 D J 入之 ΪΙ/座 ;閥

第18頁 419T0B_ 五、發明說明（16) 1 2 0和下部閥之閥座之接觸部 1 21 線圈 1 2 2外部處理裝置 1 23 外部處理裝置之内部空間 124 氣流搬運裝置 1 2 5 氣流搬運裝置之内部空間 1 2 6 氣流搬運裝置之搬運面 127 氣流搬運裝置之搬運面之末端

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Claims (1)

1. 4Ϊ9708_ 六、申請專利範圍 1. 一種基體之搬移載裝裝置，具有令基體不會曝露於 外部氣體地在氣流搬運裝置之内部空間和外部處理裝置之 内部空間之間移動之功能之基體，其特徵在於： 該移放裝置包括： 真空容器，内部可減壓； 間隔壁，將該真空容器之内部水平地隔間成上部空間 和下部空間2室； 開口部，和設於該上部空間之該外部處理裝置之内部 空間相通； 部 下置 内 上放 之 可在 置 並並 裝；内内 運 面間間 搬 ；兩空 空 流 央下部 部 及 氣 中上上 下 以 該 之於該 該 ·， 之 壁設於 於 置 間 隔緣置 置 裝。 空 間周配 配 之置 部 該之， ， 動裝 下 於部閥 閥 下之 該 設口部 部 上動 於 ，開上 下·，體下 設 部該之 之動整上 和 口著型 型下閥體 , 開沿盤 盤上部整 部 ·，之，圓 圓可上閥 口通形座平 平後該部 開相圓閥水 水體令上 間 ‘，基該 空 動該令

   於之 露置 曝裝 會理 不處 體部 基外 令和 有間 具空 ’ 部 置内 裝之 第20頁 4t9 7〇g___ 六、申請專利範圍 真空容器，内部可減壓； 間隔壁，將該真空容器之内部水平地隔間成上部空間 和下部空間2室； 開口部，和設於該上部空間之該氣流搬運裴置之内部 空間相通； 開口部’和設於該下部空間之該外部處理较置之内部 空間相通； 圓形之開口部，設於該間隔壁之中央； 閥座，沿著該開口部之周緣設於上下兩面； 水平圓盤型之上部閥，配置於該上部空間内並可上下 動； 水平圓盤型之下部閥，配置於該下部空間内並在放置 該基體後可上下動； 令該上部閥整體上下動之裝置；以及 令該上部閥整體上下動之裝置。 3‘如申請專利範圍第1或2項之基體之搬移載装裝置， 其中和該下部閥之基體背面相向之搬運面具有令該基體上 下動之裝置。 4. 如申清專利範圍第丨或2項之基體之搬移裁裝裝置， 其中構成f : 口』之周緣部及該閥座之材料係自陶磁、用 鑽石薄膜被覆之陶磁、或超硬合金選擇。 5. =申^專利範圍第4項之基體之搬 中該陶磁係碳化矽（SiC)、g〆 化铭（M2⑻之其中之—。氣化鐵Μ)、I化⑽1Ν)、氧 六、申請專利範圍 ' ---一 6. 如申請專利範圍第1或2項之基體之搬移栽裝裝 置，其中令該上部閥及下部閥和該閥座密接時，該上部閥 及下部閥之行進速度自即將接觸至密接為止 #m/sec以下。 丨正 拿窗 7. 如申請專利範圍第1或2項之基體之搬移載裝裝置， 其中該下部閥包括： 氣體之喷射口，在和基體背面相向之搬運面具有使基 體浮起或著地、捕捉或發射基體、將基體對心、或使基體 水平旋轉或水平靜止之功能；以及向該喷射口傳送指定之 時序、流量以及壓力之氣體之裝置。 8. 如申請專利範圍第7項之基體之搬移載裝裝置，其 中具有使該基體浮起或著地之功能之喷射口以相對於該下 部閥之搬運面22度之角度鑽孔，自該喷射口喷射之氣流之 水平分力指向該下部閥之中心，分割成4象限或3象限。 9. 如申請專利範圍第7項之基體之搬移載裝裝置，其 中具有捕捉或發射該基體之功能之喷射口以相對於該下部 閥之搬運面22度之角度鑽孔，自該喷射口喷射之氣流之水 平分力排列成和與該氣流搬運裝置之内部空間相通之氣流 搬運路線平行。 ” & 10. 如申請專利範圍第7項之基體之搬移載裝裝置，其 中具有該基體之水平旋轉或水平靜止之功能之噴射口，具 有決定該基體之結晶軸方向後將基體放在令設於下部閥之 搬運面之該基體可上下動之裝置上之功能。

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