TW202217426A

TW202217426A - 光學裝置、製造光學裝置的方法和操作光學裝置的方法

Info

Publication number: TW202217426A
Application number: TW110128136A
Authority: TW
Inventors: 沃爾夫岡澤西; 喬納斯海德勒; 澤維爾帕洛加西亞
Original assignee: 瑞士商奧普托度公司
Priority date: 2020-07-31
Filing date: 2021-07-30
Publication date: 2022-05-01
Also published as: CN114063238A; EP3945359A3; EP3945359A2; KR20220015972A; JP2022027583A; US20220035115A1

Abstract

光學裝置（1），包括：光學元件（10），經由平台（30）安裝在承載件（20）上；平台（30），所述平台包括基部（32）和彈性結構（31），其中，所述基部（32）連接至所述光學元件（10），所述彈性結構（31）將所述基部（32）與所述承載件（20）連接，所述平台（30）沿著由x方向（101）和y方向（102）限定的x-y平面延伸；致動器（40），所述致動器被設置為在沿著所述x-y平面的方向上向所述基部（32）施加力，所述彈性結構（31）在所述x方向（101）和所述y方向（102）上是彈性的，以及所述基部（32）和所述彈性結構（31）以單件的方式製成。

Description

光學裝置、製造光學裝置的方法和操作光學裝置的方法

本發明係關於一種光學裝置、製造光學裝置的方法和操作光學裝置的方法。

無。

本文描述的光學裝置被設置為用於主動控制撞擊在光學裝置上的電磁輻射的特性。特別地，電磁輻射在可見光的波長範圍內。所述特性可以是光束的方向、相互干擾、光譜和/或焦點。特別地，該光學裝置是散斑減少器，其被設置為減少由一組相干波前的相互干涉產生的散斑圖案。

用於製造光學裝置的方法特別適用於製造所述光學裝置。用於操作光學裝置的方法特別適用於操作所述光學裝置。

該光學裝置包括光學元件，該光學元件通過平台安裝在承載件上。該光學元件可以是透明的或反射式光學元件，其被設置為與電磁輻射相互作用。特別地，該光學元件被設置為漫反射或透射電磁輻射。例如，該光學元件是漫射器。該光學元件可以基本上具有方形形狀，其具有33mm乘以31mm的邊長以及900mm ²的基本上二次的光學可用面積。該光學元件可以是具有單個漫射器表面的漫射器。特別地，所述漫射器表面可以設置在具有附加光學元件的光學系統的像平面中。

該光學元件附接至平台。該平台附接至承載件。特別地，該平台和/或承載件被設置為以可限定的方式移動光學元件。該平台和/或承載件可以具有電磁輻射可透射的開口。該平台和/或承載件可以設置成使得在預期操作中，電磁輻射與光學元件相互作用而不與平台和/或承載件相互作用。

該平台包括基部和彈性結構。光學元件附接至基部。彈性結構將基部與承載件連接。基部與彈性結構以單件的方式製成。因此，彈性結構包括與基部相同的材料。例如，基部和彈性結構由片材製成，特別是由聚合物片材或金屬片材製成。彈性結構與基部之間的過渡沒有緊固件、黏合劑和緊固區域。

彈性結構與承載件可以通過聯鎖和形狀配合連接部來進行連接。平台，特別是基部，基本上沿著xy平面延伸，該xy平面由x方向和y方向限定，兩個方向都沿著xy平面延伸。特別地，x方向和y方向相對於彼此垂直地延伸。彈性結構在x方向和y方向上是彈性的。此處和下文中，在某個方向上的彈性是指物體在所述方向上具有特別低的彈性模量。例如，在未明確分配彈性特性的方向上的彈性模量是在分配彈性特性的方向上的彈性模量的至少5倍大，較佳地是至少10倍大。

光學裝置包括致動器，該致動器被設置為施加力。該力抵抗彈性結構的彈力而作用於基部與承載件之間。例如，致動器直接將力施加至平台和承載件。致動器施加的力可以是磁力和/或電磁力。特別地，致動器施加的力的主要部分沿xy平面作用。例如，致動器被設置為在單個方向上施加力，其中所述單個方向沿著xy平面延伸。

致動器能夠使基部相對於承載件進行受控移動。特別地，光學裝置被設置成使得光學元件沿著基本上沿xy平面延伸的路徑相對於承載件移動。特別地，該路徑具有橢圓形或圓形形狀，該路徑在30Hz與200Hz之間（較佳地在50Hz與80Hz之間）的頻率下可以具有介於0.5mm與3mm之間的幅度。特別地，該路徑在垂直於xy平面的方向上延伸小於0.1mm，較佳地延伸小於0.05mm。

根據該光學裝置的一種實施方式，該光學裝置包括光學元件，該光學元件通過平台安裝在承載件上。平台包括基部和彈性結構，其中基部連接至光學元件，且彈性結構將基部與承載件連接。基部和彈性結構可以以單件的方式製成。平台沿著由 x方向和y方向限定的xy平面延伸。致動器被設置為在沿著xy平面的方向上向基部施加力，並且彈性結構在x方向和y方向上是彈性的。

該光學元件是透射光學元件。特別地，該光學元件可以是在漫射上是透明的。該光學裝置被設置為經由透射而與電磁輻射（特別是光）相互作用。

本文描述的光學裝置基於以下考慮。以可移動方式安裝在平台上的光學元件需要精確安裝，其中安裝要求明確限定的機械特性。此外，許多應用需要特別具有成本效益的製造。

本文描述的光學裝置利用包括基部和彈性結構的平台，其中基部和彈性結構以單件的方式製成。

有利地，單件的方式生產的平台提供具有可準確限定的機械特性的特別精確的安裝，其中平台在其製造中簡單且具有成本效益。

根據一種實施方式，平台具有沿x方向的第一諧振頻率和沿y方向的第二諧振頻率。第一諧振頻率基本上是由基部和光學元件的質量以及彈性結構沿x方向的彈性模量來限定的。第二諧振頻率基本上是由基部和光學元件的質量以及彈性結構沿y方向的彈性模量來限定的。

根據第一替代方案，第一諧振頻率和第二諧振頻率基本上相同。特別地，第一諧振頻率與第二諧振頻率之間的偏差小於第一諧振頻率和第二諧振頻率的平均頻率的1%（特別地是小於0.1%）。有利地，當接近第一諧振頻率和第二諧振頻率進行驅動時，基本上相同的諧振頻率能夠以致動器的相對低的功耗實現對光學元件的運動路徑的簡化控制。

根據第二替代方案，第一諧振頻率與第二諧振頻率彼此相差在介於第一諧振頻率和第二諧振頻率的平均頻率的0.1%與10%之間（特別地是1%與5%之間）。有利地，當致動器以第一諧振頻率與第二諧振頻率之間的頻率驅動運動時，第二替代方案允許通過致動器在單個方向上施加力來控制光學元件的運動路徑。這允許對光學裝置的特別簡化的控制。

根據一種實施方式，彈性結構包括x彈簧和y彈簧，其中x彈簧包括至少一個第一類彎曲梁，且y彈簧包括至少一個第二類彎曲梁。在未偏轉狀態下，第一類彎曲梁以垂直於x方向的方式延伸，且第二類彎曲梁以垂直於y方向的方式延伸。x彈簧可以包括多個結構，特別是多個第一類彎曲梁，其具有明確限定的彈性模量。y彈簧可以包括多個結構，特別是多個第二類彎曲梁，其具有明確限定的彈性模量。第一類彎曲梁的彈性模量由其在垂直於x方向的方向上的長度來限定。第二類彎曲梁的彈性模量由其在垂直於y方向的方向上的長度來限定。有利地，包括基本上限定彈性模量的梁的彈簧結構是特別容易製造的。

根據一種實施方式，基部具有外部輪廓。該外部輪廓形成基部的周向輪廓。如在基部的俯視圖中所見，外部輪廓可以形成多邊形，較佳地為矩形。俯視圖是在沿光學裝置的光軸的方向上。

第一類彎曲梁可以沿著外部輪廓的第一區域延伸，且第二類彎曲梁可以沿著外部輪廓的第二區域延伸。特別地，在非偏轉狀態下，第一類彎曲梁沿著外部輪廓的第一區域平行延伸，且第二類彎曲梁沿著外部輪廓的第二區域平行延伸。例如，第一類彎曲梁和第二類彎曲梁部分地框住基部。有利地，彎曲梁的這種設置導致光學裝置的佔用面積特別小。

根據一種實施方式，彈性結構的用於在相對於x-y平面傾斜（特別是垂直）的方向上移動的剛度是彈性結構的用於沿x-y平面的方向移動的剛度的至少10倍大。光學元件移動所沿的路徑基本上沿xy平面延伸。特別地，光學元件的移動的幅度是光學元件在垂直於xy平面的方向上的移動的幅度的至少10倍大，較佳地為至少100倍大。有利地，在垂直於xy平面的方向上的小幅度使得能夠在光學系統的光學路徑中對光學元件進行特別精確的定位。

根據一種實施方式，光學裝置包括感應器，該感應器被設置為對基部的相對於承載件的位置進行檢測，並且光學裝置包括控制器，該控制器被設置為對平台的相對於基部的相對運動的頻率和/或幅度進行控制。特別地，感應器和控制器使得能夠對光學元件的運動路徑進行閉環控制。有利地，感應器和控制器能夠對光學元件的運動進行精確的監測和控制。

根據一種實施方式，致動器是音圈致動器，其中該音圈致動器是感應器。例如，基部包括磁體並且承載件包括線圈，反之亦然。致動器可以被設置為在承載件與平台之間施加力並且交替地對承載件與平台的相對位置進行測量。有利地，感應器集成在致動器中實現了光學裝置的特別緊湊的設計。

根據一種實施方式，光學裝置包括傳動元件，其中該傳動元件被設置為對平台的相對於承載件在沿xy平面的所有方向上的最大偏轉進行限制，其中沿xy平面的所有方向上的最大偏轉基本相同。特別地，傳動元件可以包括機械止動件，該機械止動件對平台的相對於承載件沿著xy平面的運動進行限制。例如，傳動元件包括：銷，該銷固定連接至承載件；以及平台中的開口，其中銷的直徑小於開口的直徑。可替代地，銷固定附接至平台並且承載件包括所述開口。

例如，致動器使平台相對於承載件移動，使得銷抵靠限定開口的輪廓的內邊緣。因此，平台沿著由所述輪廓限定的路徑移動。特別地，該輪廓具有圓形輪廓。銷的直徑與開口的直徑的比率限定了平台的偏轉幅度。特別地，傳動元件包括多個開口和多個銷，其中每個銷被分配給多個開口中的一個開口。

傳動元件可以被設置為引導平台相對於承載件的運動。特別地，傳動元件包括凸輪（cam），該凸輪限定平台沿xy平面的運動路徑。

例如，當光學裝置包括傳動元件時，彈性結構具有特別高的彈性模量。例如，第一諧振頻率和第二諧振頻率均低於10Hz，特別地是低於5Hz。

根據一種實施方式，基部與彈性結構以單件的方式製成。

根據一種實施方式，光學裝置包括延伸通過光學元件的光軸。該光軸表示光穿過光學裝置的期望路徑。特別地，光學元件是光學裝置的唯一部分，其設置在光軸上。例如，光軸不與承載件、基部或彈性結構相交。光軸延伸通過光學裝置。換言之，光軸從光學裝置的第一側延伸至光學裝置的第二側，其中第一側與第二側相反。特別地，光學裝置包括通光孔徑，其中光軸延伸通過所述通光孔徑。僅光學元件設置在通光孔徑中。通光孔徑至少部分地被平台和/或承載件包圍。特別地，承載件和/或平台在側向方向上的至少三個側面上相鄰，其中側向方向相對於光軸垂直地延伸。較佳地，通光孔徑在側向方向上完全被承載件和/或平台包圍。

還詳細說明了一種用於生產光學裝置的方法。特別地，本文描述的光學裝置可以用所述方法生產。這意味著針對光學裝置公開的所有特徵也是針對該方法公開的，反之亦然。

該方法用於製造包括平台的光學裝置。該平台具有基部和彈性結構，其中基部和彈性結構由普通的金屬片製成。在方法步驟中，例如經由衝壓或蝕刻來限定金屬片的輪廓。特別地，在所述方法步驟中，限定了基部的輪廓和彈性結構的輪廓。

基部包括金屬片的第一部分並且彈性結構包括金屬片的第二部分。在方法步驟中，第一部分和第二部分被彎曲，使得第一部分相對於第二部分基本上傾斜地延伸。特別地，金屬片被彎曲成使得第一部分相對於第二部分垂直地延伸。通過將第一部分相對於第二部分彎曲90°來製造彈性結構。

根據一種實施方式，彈性結構包括具有第一類彎曲梁的x彈簧和具有第二類彎曲梁的y彈簧。第一類彎曲梁和第二類彎曲梁以單件的方式製造。特別地，第一類彎曲梁和第二類彎曲梁通過將金屬片的第二部分進行彎曲來製造。特別地，第二部分包括第一子部分和第二子部分，其中第一子部分包括第一類彎曲梁，且第二子部分包括第二類彎曲梁。例如，第一子部分垂直於x方向延伸並且第二子部分垂直於y方向延伸。第一諧振頻率取決於第一子部分的沿與x方向垂直的方向的長度。第二諧振頻率取決於第二子部分的垂直於y方向的長度。

還詳細描述了一種用於驅動光學裝置的方法。特別地，這裡描述的光學裝置可以用所述方法驅動。這意味著針對光學裝置和針對製造光學裝置的方法公開的所有特徵也是針對該方法公開的，反之亦然。

用於驅動光學裝置的方法包括經由平台安裝在承載件上的光學元件。致動器是由具有激勵頻率的週期性激勵訊號來驅動的。平台具有基部，該基部具有在x方向上的第一諧振頻率和在y方向上的第二諧振頻率。第一諧振頻率基本上取決於基部和光學元件的質量以及彈性結構沿x方向的彈性模量。第二諧振頻率取決於基部和光學元件的質量以及彈性結構沿y方向的彈性模量。

根據第一替代方案，激勵頻率大於或小於第一諧振頻率和第二諧振頻率兩者。例如，第一諧振頻率和第二諧振頻率與第一諧振頻率和第二諧振頻率的平均頻率相差小於5%、較佳地相差小於3%。特別地，致動器被設置為沿著xy平面施加兩個力，其中這兩個力沿著xy平面在不同方向上被引導，並且這兩個力就其相位（phase）而言可以彼此不同。有利地，特別接近於第一諧振頻率和第二諧振頻率的激勵頻率實現了能量有效的操作，因為小的力導致較大幅度的光學元件運動。

根據第二替代方案，激勵頻率介於第一諧振頻率與第二諧振頻率之間，且激勵頻率與第一諧振頻率之間的差的絕對值和激勵頻率與第二頻率之間的差的絕對值基本相同。例如，第一諧振頻率和第二諧振頻率與第一諧振頻率和第二諧振頻率的平均頻率相差大於5%、特別是大於3%。此外，致動器的力沿xy平面相對於x方向和y方向傾斜地作用。有利地，第一諧振頻率與第二諧振頻率之間的驅動頻率能夠驅動具有在沿著xy平面的單個方向上施加力的致動器的光學裝置。特別地，該致動器是用單通道訊號驅動的。因此，操作該裝置所需的電路的複雜性被保持得特別低。

根據一種實施方式，該光學裝置包括：感應器，該感應器被設置為對基部的相對於承載件的位置進行檢測；以及控制器，該控制器被設置為對基部的相對於承載件的相對運動的頻率和/或幅度進行控制，其中基部的相對於承載件的運動路徑由基於位置的閉環控制電路來控制，該閉環控制電路包括感應器和控制器。特別地，基部沿著相對於平台的移動路徑而運動。該運動路徑可以具有橢圓形狀，特別地是圓形形狀。特別地，該運動路徑可以具有利薩如（Lissajous）軌道的形狀。較佳地，該移動路徑經由感應器來確定，其中該感應器具有的檢測頻率是基部的圓周運動的頻率的至少10倍大。

光學裝置、用於製造光學裝置的方法和用於操作光學裝置的方法的另外的優點及有利的改進和發展從結合附圖示出的以下示例性實施方式中產生。

相同、或相同地作用的元件在圖式中設有相同的元件符號。圖與圖中所示的元件的彼此的比例不應被視為按比例繪製。相反，為了更好的可顯示性和/或更好的可理解性，可以放大單個元件的大小。

圖1以示意性立體圖示出了光學裝置1的示例性實施方式。光學裝置1包括光學元件10，該光學元件10經由平台30安裝在承載件20上。光學元件10是漫射器。平台30包括基部32和彈性結構31。基部32連接至光學元件10，且彈性結構31將基部32與承載件20連接。

彈性結構31包括x彈簧和y彈簧。x彈簧包括至少一個第一類彎曲梁311，且y彈簧包括至少一個第二類彎曲梁312。在未偏轉狀態下，第一類彎曲梁311垂直於x方向101延伸，並且在未偏轉狀態下，第二類彎曲梁312垂直於y方向102延伸。平台30具有沿著x方向101的第一諧振頻率和沿著y方向102的第二諧振頻率，並且第一諧振頻率和第二諧振頻率基本相同，或者第一諧振頻率和第二諧振頻率彼此相差在介於1%與5%之間。第一諧振頻率基本上取決於x彈簧的彈性以及基部32和光學元件10的質量。第二諧振頻率基本上取決於y彈簧的彈性以及基部32和光學元件10的質量。

平台30沿著由x方向101和y方向102限定的x-y平面延伸。彈性結構31在x方向101和y方向102上是彈性的。

彈性結構31的用於在相對於x-y平面傾斜（特別是垂直）的方向上移動的剛度是彈性結構31的用於在沿x-y平面的方向上移動的剛度的至少10倍大。

致動器40被設置為在沿著x-y平面的方向上向基部32施加力。致動器40包括多個音圈致動器，其中線圈集成在承載件20中。特別地，承載件20是PCB並且該PCB的傳導軌道形成了集成在PCB中的線圈。此外，致動器40包括附接至基部32的多個磁體（圖中未示出）。音圈致動器用作感應器51以對基部32的相對於承載件20的位置進行檢測。控制器50被設置為對基部32的相對於承載件20的相對運動的頻率和/或幅度進行控制。

基部32和彈性結構31由普通的金屬片以單件的方式製成。基部32包括金屬片的第一部分，且彈性結構31包括金屬片的第二部分。通過將第一部分相對於第二部分彎曲90°來製造彈性結構31。因此，彈性結構31相對於xy平面垂直地延伸。

彈性結構包括具有兩個第一類彎曲梁311的x彈簧和具有兩個第二類彎曲梁312的y彈簧。每個第一類彎曲梁311機械連接至第二類彎曲梁312中的一個第二類彎曲梁。每個第一類彎曲梁311與第二類彎曲梁312以單件的方式製造。

在操作中，致動器40是由具有激勵頻率的週期性激勵訊號來驅動的。或者激勵頻率大於或小於第一諧振頻率和第二諧振頻率兩者，或者激勵頻率介於第一諧振頻率與第二諧振頻率之間並且激勵頻率與第一諧振頻率之間的差的絕對值和激勵頻率與第二頻率的差的絕對值基本相同。在操作中，致動器40被驅動成使得基部32沿著xy平面相對於承載件20執行橢圓（較佳圓形）運動。特別地，控制器50實現閉環控制。特別地，控制器具有兩個通道，其中第一通道被設置為控制致動器40沿x方向101的力，且第二通道被設置為控制致動器40沿y方向102的力。所述運動的頻率較佳地介於30Hz與200Hz之間，高度較佳地介於50Hz與80Hz之間。所述運動的峰之峰值幅度在0.5mm至5mm的範圍內，而在垂直於xy平面的方向上的運動幅度低於0.1mm。

圖2以示意性立體圖示出了光學裝置1的示例性實施方式。圖2所示的光學裝置1與圖1所示實施方式的不同之處在於彈性結構的設計。圖2中的實施方式包括具有四個第一類彎曲梁311的x彈簧和具有四個第二類彎曲梁312的y彈簧。

圖3以示意性立體圖示出了光學裝置1的示例性實施方式。圖3所示的實施方式與圖2所示實施方式的不同之處在於光學元件10附接至基部32。光學元件10經由固定元件34附接至基部32。固定元件34是夾具，其經由非剛性連接將光學元件10附接至基部32。

圖4在示例性實施方式中以示意性立體圖示出光學裝置1的平台30。該平台包括基部32。基部32中是凹部33，該凹部對於可見波長範圍內的光是透明的。

圖5以示意性立體圖示出具有傳動結構60的光學裝置1的示例性實施方式。傳動結構60包括設置在基部32中的四個開口62和四個銷61。開口62和銷61二者從俯視圖中看都具有圓形輪廓。每個銷61延伸通過開口62中的一個開口。銷61具有比開口62小的直徑。開口的直徑與銷的直徑的比率限定了基部32的運動路徑的幅度。傳動結構限制了基部32相對於承載件20沿xy平面的偏轉。在操作中，銷抵靠對開口62進行限制的內部輪廓。由此開口62的輪廓限定了基部32的移動路徑。

圖6以示意性俯視圖示出了具有傳動結構60的光學裝置的示例性實施方式。x彈簧和y彈簧被設計成使得第一諧振頻率和第二諧振頻率低於10Hz。因此，基本上傳動結構60引導基部32的運動。

圖7以示意性俯視圖示出了具有傳動結構60的光學裝置1的示例性實施方式。圖7所示的傳動結構60與圖6所示的傳動結構的實施方式不同。傳動結構60是凸輪65，其具有軸63和軸承64。軸63是在預期操作期間軸承64旋轉所圍繞的旋轉軸。軸63偏離軸承64的中心。因此，基部被迫相對於承載件20進行圓周運動。軸63到軸承64的距離分別限定了基部32的圓周運動路徑的幅度。

本發明不限於基於這些示例性實施方式描述的示例性實施方式。

相反，本發明涵蓋每個新特徵和特徵的每個組合，尤其包括申請專利範圍中的特徵的每個組合，即使該特徵或該組合本身沒有在申請專利範圍或示例性實施方式中明確指定。

1:光學裝置 10:光學元件 20:承載件 30:平台 31:彈性結構 32:基部 33:凹部 34:固定元件 40:致動器 50:控制器 51:感應器 60:傳動結構 61:銷 62:開口 63:軸 64:軸承 65:凸輪 101:x方向 102:y方向 311:第一類彎曲梁 312:第二類彎曲梁

圖1以示意性立體圖示出了光學裝置的示例性實施方式。

圖2以示意性立體圖示出了光學裝置的示例性實施方式。

圖3以示意性立體圖示出了光學裝置的示例性實施方式。

圖4在示例性實施方式中以示意性立體圖示出了光學裝置的平台；

圖5以示意性立體圖示了出具有傳動結構的光學裝置的示例性實施方式。

圖6以示意性俯視圖示出了具有傳動結構的光學裝置的示例性實施方式。

圖7以示意性俯視圖示出了具有傳動結構的光學裝置的示例性實施方式。

1:光學裝置

10:光學元件

20:承載件

30:平台

31:彈性結構

32:基部

34:固定元件

40:致動器

50:控制器

101:x方向

102:y方向

311:第一類彎曲梁

312:第二類彎曲梁

Claims

一種光學裝置（1），所述光學裝置包括光學元件（10），所述光學元件（10）經由平台（30）安裝在承載件（20）上， - 所述平台（30）包括基部（32）和彈性結構（31），其中， - 所述基部（32）連接至所述光學元件（10）， - 所述彈性結構（31）將所述基部（32）與所述承載件（20）連接， - 所述平台（30）沿著由x方向（101）和y方向（102）限定的x-y平面延伸， - 設置有致動器（40）以在沿著所述x-y平面的方向上向所述基部（32）施加力， - 所述彈性結構（31）在所述x方向（101）和所述y方向（102）上是彈性的，以及 - 所述光學元件（10）是透射光學元件。
如請求項1所述之光學裝置（1），其中，所述平台（30）具有沿著所述x方向（101）的第一諧振頻率和沿著所述y方向（102）的第二諧振頻率，以及 - 所述第一諧振頻率和所述第二諧振頻率基本相同，或者 - 所述第一諧振頻率和所述第二諧振頻率彼此相差在介於1%與 5%之間。
如請求項1或2所述之光學裝置（1），其中，所述彈性結構（31）包括x彈簧和y彈簧，其中，所述x彈簧包括至少一個第一類彎曲梁（311），並且所述y彈簧包括至少一個第二類彎曲梁（312），其中， - 在未偏轉狀態下，所述第一類彎曲梁（311）以垂直於所述x方向（101）的方式延伸，並且 - 在未偏轉狀態下，所述第二類彎曲梁（312）以垂直於所述y方向（102）的方式延伸。
如請求項3所述之光學裝置（1），其中，所述基部（32）具有外部輪廓，所述第一類彎曲梁（311）沿著所述外部輪廓的第一區域延伸，所述第二類彎曲梁（312）沿著所述外部輪廓的第二區域延伸。
如請求項1或2所述之光學裝置（1），其中，所述彈性結構（31）的用於在相對於所述x-y平面傾斜的方向上的移動的剛度是所述彈性結構（31）的用於在沿著所述 x-y平面的方向上的移動的剛度的至少10倍大。
如請求項1或2所述之光學裝置（1），其中，所述光學裝置進一步包括： - 感應器（51），所述感應器（51）被設置為對所述基部（32）的相對於所述承載件（20）的位置進行檢測；以及 - 控制器（50），所述控制器（50）被設置為對所述基部（32）的相對於所述承載件（20）的相對運動的頻率和/或幅度進行控制。
如請求項6所述之光學裝置（1），其中，所述致動器（40）是音圈致動器，其中，所述音圈致動器是所述感應器（51）。
如請求項1或2所述之光學裝置（1），其中，所述光學裝置進一步包括傳動元件（60），其中，所述傳動元件（60）被設置為限制所述基部（32）的相對於所述承載件（20）在沿著所述x-y平面的所有方向上的最大偏轉，其中，沿著所述x-y平面的所有方向上的所述最大偏轉基本相同。
如請求項1或2所述之光學裝置（1），其中，所述基部（32）和所述彈性結構（31）以單件的方式製成。
如請求項1或2所述之光學裝置（1），其中，所述光學裝置進一步包括延伸通過所述光學元件（10）的光軸。
一種用於製造光學裝置（1）的方法，所述光學裝置（1）包括具有基部（32）和彈性結構（31）的平台（30），其中， - 由普通的金屬片製成所述基部（32）和所述彈性結構（31）； - 使所述基部（32）包括所述金屬片的第一部分，並且使所述彈性結構（31）包括所述金屬片的第二部分，其中， - 通過將所述第一部分相對於所述第二部分彎曲90°來製造所述彈性結構（31）。
如請求項11所述之方法，其中，使所述彈性結構（31）包括具有第一類彎曲梁（311）的x彈簧和具有第二類彎曲梁（312）的y彈簧，其中，將所述第一類彎曲梁（311）和所述第二類彎曲梁（312）以單件的方式製造。
一種用於驅動光學裝置（1）的方法，所述光學裝置（1）包括光學元件（10），所述光學元件（10）經由平台（30）安裝在承載件（20）上，其中， - 致動器（40）施加力以使所述光學元件（10）相對於所述承載件（20）偏轉， - 所述致動器（40）是由具有激勵頻率的週期性激勵訊號來驅動的， - 使所述平台（30）具有在x方向（101）上的第一諧振頻率和在y方向（102）上的第二諧振頻率，其中， - 使所述激勵頻率大於或小於所述第一諧振頻率和所述第二諧振頻率二者，或者， - 使所述激勵頻率介於所述第一諧振頻率和所述第二諧振頻率之間，並且使所述激勵頻率與所述第一諧振頻率之間的差的絕對值和所述激勵頻率與第二頻率的差的絕對值基本相同。
如請求項13所述之方法，其中，所述光學裝置進一步包括：感應器（51），所述感應器（51）被設置為對所述基部（32）的相對於所述承載件（20）的位置進行檢測；以及控制器（50），所述控制器（50）被設置為對所述基部（32）的相對於所述承載件（20）的相對運動的頻率和/或幅度進行控制，其中，所述基部（32）的相對於所述承載件（20）的移動路徑由基於位置的閉環控制電路控制，所述基於位置的閉環控制電路包括所述感應器（51）和所述控制器（50）。