TW202122530A - 黏著片及中間積層體 - Google Patents

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Abstract

本發明之黏著片1具備黏著層2，該黏著層2包含藉由活性光線之照射而能夠使波長550 nm時之可見光透過率降低之黏著性組合物。黏著性組合物包含作為單體成分之聚合物之黏著性聚合物、藉由酸著色之化合物、及光酸產生劑。光酸產生劑於波長250 nm～400 nm之範圍於300 nm以下具有極大吸收波長。

Description

黏著片及中間積層體
本發明係關於一種黏著片及中間積層體，詳細而言係關於一種黏著片、及使用該黏著片獲得之中間積層體。
近年來，已知搭載有有機EL(Electroluminescence，電致發光)面板之顯示器。有機EL面板具有反射性較高之電極層，故易產生外界光反射或背景之映入等。
而且，為了防止外界光反射或背景之映入，已知於電極層之反射面設置具有吸收光之功能之層。
作為此種層，提出包含碳黑顏料及染料之光吸收層(例如，參照專利文獻1)。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2017-203810公報
[發明所欲解決之問題]
另一面，於具有吸收光之功能之層為黏著層之情形時，自檢查等觀點而言，有時要求透明性。
此種情形時，研究使黏著層包含藉由酸著色之化合物、及光酸產生劑。
若對此種黏著層照射活性光線，則自光酸產生劑產生酸，且藉由該酸使化合物著色。
亦即，該黏著層中，藉由於任意時點照射活性光線而可使黏著層著色，藉此，可賦予吸收光之功能。
然而，此種黏著層中，根據目的及用途而有欲使著色部分以外以維持透明之狀態殘存之情形，或欲使著色部分以外之著色量相較著色部分少之情形。
此種情形時，若將著色部分以外曝露於外界光中，則有以下不良，即，欲以維持透明之狀態殘存之部分著色，又，欲使著色量相較著色部分少之部分之著色量變多。
本發明提供一種藉由於任意時點照射活性光線而可使黏著層著色，且可抑制著色部分以外因外界光而著色之黏著片、及使用該黏著片獲得之中間積層體。 [解決問題之技術手段]
本發明[1]係一種黏著片，其具備黏著層，該黏著層包含藉由活性光線之照射而能夠使波長550 nm時之可見光透過率降低之黏著性組合物，上述黏著性組合物包含作為單體成分之聚合物之黏著性聚合物、藉由酸著色之化合物、及光酸產生劑，上述光酸產生劑在波長250 nm～400 nm之範圍內於300 nm以下具有極大吸收波長。
本發明[2]包含上述[1]之黏著片，該黏著片進而具備能夠吸收上述活性光線之活性光線吸收層。
本發明[3]包含上述[2]之黏著片，其中上述活性光線吸收層於波長300 nm～400 nm之範圍內，具有上述活性光線之平均透過率為1%以下之波長區域，上述波長區域之最大波長X(nm)、與上述光酸產生劑之上述極大吸收波長Y(nm)滿足下式(1)。 X－Y≧100       (1) 本發明[4]包含上述[2]或[3]之黏著片，其中上述活性光線吸收層於波長300 nm～400 nm時之平均透光率為15%以下，於波長400 nm～700 nm時之平均透光率為50%以上。
本發明[5]包含上述[2]至[4]中任一項之黏著片，其中上述活性光線吸收層係能夠吸收紫外線之紫外線吸收層。
本發明[6]包含一種中間積層體，該中間積層體具備被黏著體、及配置於上述被黏著體之一面的如上述[1]至[5]中任一項之黏著片。
本發明[7]包含上述[6]之中間積層體，其中黏著層具備波長400～700 nm時之平均透光率相對較大之高透光率部分、及波長400～700 nm時之平均透光率相對較小之低透光率部分。 [發明之效果]
本發明之黏著片中，黏著層包含藉由活性光線之照射而能夠使波長550 nm時之可見光透過率降低之黏著性組合物。
因此，藉由於任意時點照射活性光線而可使黏著層著色，藉此，可賦予吸收光之功能。
又，該黏著片中，光酸產生劑在波長250 nm～400 nm之範圍內於300 nm以下具有極大吸收波長。
因此，於欲使黏著層之著色部分以外以維持透明之狀態殘存之情形時，或於欲使黏著層之著色部分以外相較著色部分之著色量少之情形時，可抑制著色部分以外因外界光(超過300 nm且為400 nm以下)而著色。
本發明之中間積層體具備本發明之黏著片。
因此，於該中間積層體中，於欲使黏著層之著色部分以外以維持透明之狀態殘存之情形時，或於欲使黏著層之著色部分以外相較著色部分之著色量少之情形時，可抑制著色部分以外因外界光(超過300 nm且為400 nm以下)而著色。
1.黏著片 黏著片1具有有著特定厚度之膜形狀(包含片形狀)，其於與厚度方向正交之方向(面方向)延伸，且具有平坦之上表面及平坦之下表面。
具體而言，黏著片1不具備活性光線吸收層3而僅具備黏著層2(第1實施方式)，或具備黏著層2與活性光線吸收層3(第2實施方式)。
以下，對第1實施方式及第2實施方式分別說明 1-1.第1實施方式 如圖1所示，第1實施方式中，黏著片1具備黏著層2，不具備活性光線吸收層3。亦即，第1實施方式中，黏著片1包含黏著層2。 1-1-1.黏著層 黏著層2係用以使黏著片1接著於被黏著體4(下述)之感壓接著層。
黏著層2具有於面方向延伸之膜形狀，且具有平坦之平面及平坦之下表面。
黏著層2包含藉由活性光線之照射而能夠使波長550 nm時之可見光透過率降低之黏著性組合物。
因此，藉由於任意時點對黏著層2照射活性光線而可使黏著層2著色，藉此，可賦予吸收光之功能。
作為活性光線，可列舉紫外線、可見光、紅外線、X射線、α射線、β射線、及γ射線，自使用設備之多樣性及操作容易性之觀點而言，可列舉較佳為紫外線。
又，紫外線係指1 nm以上400 nm以下之波長範圍之電磁波。
亦即，黏著層2較佳為包含藉由紫外線之照射而能夠使波長550 nm時之可見光透過率降低之黏著性組合物。
黏著性組合物包含黏著性聚合物、藉由酸著色之化合物、及光酸產生劑。
若黏著性組合物包含黏著性聚合物、藉由酸著色之化合物、及光酸產生劑，則藉由活性光線(較佳為紫外線)之照射，可使黏著層2於波長550 nm時之可見光透過率確實降低。
黏著性聚合物係為了賦予黏著性而調配。
黏著性聚合物為單體成分(下述)之聚合物，可列舉例如丙烯酸系聚合物、聚矽氧系聚合物、胺基甲酸酯系聚合物、橡膠系聚合物等，自光學透明性、接著性、及儲存模數之控制之觀點而言，可列舉較佳為丙烯酸系聚合物。
丙烯酸系聚合物藉由包含(甲基)丙烯酸烷基酯作為主成分之單體成分之聚合而獲得。
(甲基)丙烯酸烷基酯係丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯，可列舉例如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第二丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸異戊酯、(甲基)丙烯酸新戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸十一烷基酯、(甲基)丙烯酸十二烷基酯、(甲基)丙烯酸異十三烷基酯、(甲基)丙烯酸十四烷基酯、(甲基)丙烯酸異十四烷基酯、(甲基)丙烯酸十五烷基酯、(甲基)丙烯酸十六烷基酯、(甲基)丙烯酸十七烷基酯、(甲基)丙烯酸十八烷基酯、(甲基)丙烯酸異十八烷基酯、(甲基)丙烯酸十九烷基酯、(甲基)丙烯酸二十烷基酯等直鏈狀或分支狀之(甲基)丙烯酸C1-20烷基酯等，且可列舉較佳為(甲基)丙烯酸C4-12烷基酯，更佳為丙烯酸丁酯。
(甲基)丙烯酸烷基酯可單獨使用或2種以上併用。
(甲基)丙烯酸烷基酯之調配比例相對於單體成分例如為50質量%以上，較佳為60質量%以上，又，例如為99質量%以下。
又，單體成分較佳為包含具有陰離子性基之酸性乙烯基單體。
若單體成分包含具有陰離子性基之酸性乙烯基單體，則藉由自光酸產生劑(下述)產生之強酸而促進背離，色調變強，著色穩定性優異。
作為具有陰離子性基之酸性乙烯基單體，可列舉例如含羧基之乙烯基單體、含磺基之乙烯基單體、及含磷酸基之乙烯基單體等。
作為含羧基之乙烯基單體，可列舉例如(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸2-羧基乙基酯、羧基戊基(甲基)丙烯酸羧基戊基酯、伊康酸、順丁烯二酸、反丁烯二酸、丁烯酸等。
又，作為含羧基之乙烯基單體，亦可列舉例如順丁烯二酸酐、伊康酸酐等含有酸酐基之單體。
作為含磺基之乙烯基單體，可列舉例如苯乙烯磺酸、丙烯磺酸等。
作為含磷酸基之乙烯基單體，可列舉例如2-羥乙基丙烯醯基磷酸酯等。
作為具有陰離子性基之酸性乙烯基單體，可列舉較佳為含羧基之乙烯基單體，更佳為(甲基)丙烯酸，進而更佳為丙烯酸。
具有陰離子性基之酸性乙烯基單體可單獨使用或2種以上併用。
具有陰離子性基之酸性乙烯基單體之調配比例相對於(甲基)丙烯酸烷基酯100質量份例如為3質量份以上，又，例如為10質量份以下，又，相對於單體成分例如為1質量%以上，又，例如為8質量%以下。
又，單體成分較佳為實質上不包含能夠與(甲基)丙烯酸烷基酯共聚合之具有孤電子對之鹼性乙烯基單體。
具體而言，具有孤電子對之鹼性乙烯基單體之調配比例相對於單體成分例如為3質量%以下，較佳為1質量%以下，進而佳為0.5質量%以下，特佳為0質量%以下。換言之，特佳為單體成分不包含具有孤電子對之鹼性乙烯基單體。
若單體成分實質上不包含具有孤電子對之鹼性乙烯基單體，則不會捕獲所產生之酸，可與藉由酸著色之化合物反應，故可提高著色穩定性。
作為具有孤電子對之鹼性乙烯基單體，其係雜環中具有氮之含有雜環之鹼性乙烯基單體，可列舉例如N-乙烯基吡咯啶酮、甲基乙烯基吡咯啶酮、乙烯基吡啶、乙烯基哌啶酮、乙烯基嘧啶、乙烯基哌𠯤、乙烯基乙烯基吡𠯤、乙烯基吡咯、乙烯基咪唑、乙烯基㗁唑、乙烯基嗎啉、N-丙烯醯基嗎啉、及N-乙烯基己內醯胺等。
又，單體成分視需要包含能夠與(甲基)丙烯酸烷基酯共聚合之含有官能基之乙烯基單體(上述具有陰離子性基之酸性乙烯基單體及具有孤電子對之鹼性乙烯基單體除外)。
作為含有官能基之乙烯基單體，可列舉含有羥基之乙烯基單體、含有氰基之乙烯基單體、含有縮水甘油基之乙烯基單體、芳香族乙烯基單體、乙烯酯單體、乙烯基醚單體等。
作為含有羥基之乙烯基單體，可列舉例如(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥基己酯、(甲基)丙烯酸8-羥基辛酯、(甲基)丙烯酸10-羥基癸酯、(甲基)丙烯酸12-羥基月桂酯、(甲基)丙烯酸4-(羥基甲基)環己基)甲酯等，較佳為(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯，更佳為丙烯酸2-羥基乙酯。
作為含有氰基之乙烯基單體，可列舉例如(甲基)丙烯腈等。
作為含有縮水甘油基之乙烯基單體，可列舉例如(甲基)丙烯酸縮水甘油酯等。
作為芳香族乙烯基單體，可列舉例如苯乙烯、對甲基苯乙烯、鄰甲基苯乙烯、α-甲基苯乙烯等。
作為乙烯酯單體，可列舉例如乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯等。
作為乙烯基醚單體，可列舉例如甲基乙烯基醚等。
含有官能基之乙烯基單體可單獨使用或2種以上併用。於調配交聯劑(下述)之情形時，自將交聯構造導入至聚合物之觀點而言，可列舉較佳為含有羥基之乙烯基單體。
含有官能基之乙烯基單體之調配比例相對於(甲基)丙烯酸烷基酯100質量份例如為3質量份以上，較佳為5質量份以上，更佳為15質量份以上，又，例如為20質量份以下，又，相對於單體成分例如為4質量%以上，較佳為10質量%以上，又，例如為30質量%以下，較佳為20質量%以下。
而且，丙烯酸系聚合物係將上述單體成分聚合而成之聚合物。
為了使單體成分聚合，例如，調配(甲基)丙烯酸烷基酯，且視需要調配具有陰離子性基之酸性乙烯基單體及含有官能基之乙烯基單體而製備單體成分，且將其例如以溶液聚合、塊狀聚合、乳化聚合等公知之聚合方法而製備。
作為聚合方法，可列舉較佳為溶液聚合。
溶液聚合中，例如於公知之有機溶劑中調配單體成分及聚合起始劑，製備單體溶液，其後，加熱單體溶液。
作為聚合起始劑，可列舉例如過氧化系聚合起始劑、偶氮系聚合起始劑等。
作為過氧化系聚合起始劑，可列舉例如過氧化碳、過氧化酮、過氧縮酮、過氧化氫、過氧化二烷基、過氧化二乙醯、過氧酯等有機過氧化物。
作為偶氮系聚合起始劑，可列舉例如2,2'-偶氮二異丁腈、2,2'-偶氮雙(2-甲基丁腈)、2,2'-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)、2,2'-偶氮二異丁酸二甲酯等偶氮化合物。
作為聚合起始劑，可列舉較佳為偶氮系聚合起始劑，更佳為2,2'-偶氮二異丁腈。
聚合起始劑可單獨使用或2種以上併用。
聚合起始劑之調配比例相對於單體成分100質量份例如為0.05質量份以上，較佳為0.1質量份以上，又，例如為1質量份以下，較佳為0.5質量份以下。
加熱溫度例如為50℃以上、80℃以下，加熱時間例如為1小時以上、8小時以下。
藉此，將單體成分聚合，獲得包含丙烯酸系聚合物之丙烯酸系聚合物溶液。
丙烯酸系聚合物溶液之固形物成分濃度例如為20質量%以上，又，例如為80質量%以下。
丙烯酸系聚合物之重量平均分子量例如為100000以上，較佳為300000以上，更佳為500000以上，又，例如，5000000以下，較佳為3000000以下，更佳為2000000以下。
再者，上述重量平均分子量係藉由GPC(Gel Permeation Chromatography，凝膠滲透層析法)而測定且藉由聚苯乙烯換算而算出之值。
黏著性聚合物之玻璃轉移溫度例如為0℃以下，較佳為-20℃以下，又，通常為-70℃以上。
黏著性聚合物之玻璃轉移溫度只要為上述上限以下，則階差追隨性優異。
再者，玻璃轉移溫度係按照FOX式進行計算而獲得。
藉由酸著色之化合物係藉由酸而自無色(透明)變為有色之化合物，可列舉例如隱色系色素、例如p,p',p''-三-二甲胺基三苯甲烷等三芳基甲烷系色素、例如4,4-二-二甲胺基苯基二苯甲基苄醚等二苯基甲烷系色素、例如3-二乙胺基-6-甲基-7-氯熒烷等熒烷系色素、例如3-甲基螺二萘并哌喃等螺哌喃系色素、及例如玫瑰紅-B-苯胺基內醯胺等玫瑰紅系色素等，較佳為隱色系色素。
藉由酸著色之化合物可單獨使用或2種以上併用。
藉由酸著色之化合物之調配比例相對於黏著性聚合物100質量份例如為0.5質量份以上，又，例如為5質量份以下，較佳為2質量份以下。
光酸產生劑係藉由活性光線之照射而產生酸之化合物。
又，光酸產生劑在波長250 nm～400 nm之範圍內，於300 nm以下、較佳為280 nm以下，更佳為260 nm以下具有極大吸收波長。
若使用此種光酸產生劑，則可抑制因外界光(超過300 nm且為400 nm以下)而產生酸。
其結果，於欲使黏著層2之著色部分以外以維持透明之狀態殘存之情形時，或於欲使黏著層2之著色部分以外之著色量相較著色部分少之情形時，可抑制著色部分以外因外界光(超過300 nm且為400 nm以下)而著色。
作為此種光酸產生劑，可列舉例如鎓化合物等。
作為鎓化合物，可列舉例如包含錪及鋶等之鎓陽離子、與Cl- 、Br- 、I- 、ZnCl3 - 、HSO3 - 、BF4 - 、PF6 - 、AsF6 - 、SbF6 - 、CH3 SO3 - 、CF3 SO3 - 、(C6 F5 )4 B- 、(C4 H9 )4 B- 、C4 F9 SO3 - 、CH3 C6 H4 SO3 - 等陰離子之鹽等。
作為錪，可列舉例如二(4-第三丁基苯基)錪。
作為鋶，可列舉例如二苯基-2,4,6-三甲基苯基鋶。
作為此種光酸產生劑，具體而言，可列舉二(4-第三丁基苯基)錪-對甲苯磺酸鹽、及二苯基-2,4,6-三甲基苯基鋶-對甲苯磺酸鹽。
又，作為紫外線酸產生劑，亦可使用市售品，可列舉例如SP-056(250 nm～400 nm範圍內之極大吸收波長250 nm，ADEKA公司製造)等。
光酸產生劑可單獨使用或2種以上併用。
光酸產生劑之調配比例相對於黏著性聚合物100質量份例如為1質量份以上，又，例如為20質量份以下，較佳為15質量份以下，更佳為5質量份以下。
而且，黏著性組合物係藉由將黏著性聚合物(藉由溶液聚合而製備黏著性聚合物之情形時，為聚合物溶液)、由酸著色之化合物、及光酸產生劑以上述比例調配並混合而製備(作為黏著性聚合物，於使用聚合物溶液之情形時，作為黏著性組合物之溶液而製備)。
於黏著性組合物中，自使交聯構造導入至黏著性聚合物之觀點而言，較佳為調配交聯劑。
作為交聯劑，可列舉例如異氰酸酯系交聯劑、環氧系交聯劑、㗁唑啉系交聯劑、氮丙啶系交聯劑、碳二醯亞胺系交聯劑、金屬螯合物系交聯劑等等。
作為異氰酸酯系交聯劑，可列舉例如伸丁基二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯等脂肪族二異氰酸酯；例如伸環戊基二異氰酸酯、伸環己基二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯等脂環族二異氰酸酯；例如2,4-甲苯二異氰酸酯、4,4'-二苯基甲烷二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯等芳香族二異氰酸酯。
又，作為異氰酸酯系交聯劑，亦可列舉上述異氰酸酯之衍生物(例如，異氰尿酸酯改性體、多元醇改性體等)。
作為異氰酸酯系交聯劑，亦可使用市售品，可列舉例如Coronate L(甲苯二異氰酸酯之三羥甲基丙烷加成物，東曹製造)，Coronate HL(六亞甲基二異氰酸酯之三羥甲基丙烷加成物，東曹製造)，Coronate HX(六亞甲基二異氰酸酯之異氰尿酸酯體，東曹製造)，Takenate D110N(苯二甲基二異氰酸酯之三羥甲基丙烷加成物，三井化學製)等。
作為異氰酸酯系交聯劑，可列舉較佳為六亞甲基二異氰酸酯之三羥甲基丙烷加成物、苯二甲基二異氰酸酯之三羥甲基丙烷加成物。
作為環氧系交聯劑，可列舉例如二縮水甘油苯胺、1,3-雙(N,N-二縮水甘油胺甲基)環己烷等。
作為環氧系交聯劑，亦可使用市售品，可列舉例如Tetrad C(三菱瓦斯化學製造)等。
作為環氧系交聯劑，可列舉較佳為1,3-雙(N,N-二縮水甘油胺甲基)環己烷。
作為交聯劑，可列舉較佳為異氰酸酯系交聯劑、環氧系交聯劑，更佳為環氧系交聯劑。
交聯劑可單獨使用或2種以上併用。
若於黏著性組合物中調配交聯劑，則聚合物中之羥基等官能基與交聯劑反應，將交聯構造導入至聚合物。
交聯劑之調配比例相對於黏著性聚合物100質量份例如為0.01質量份以上，較佳為0.1質量份以上，又，例如為10質量份以下，較佳為5質量份以下，更佳為4質量份以下，進而佳為3質量份以下，特佳為1質量份以下。
又，於黏著性組合物中調配交聯劑之情形時，為了促進交聯反應，亦可調配交聯觸媒。
作為交聯觸媒，可列舉例如鈦酸四正丁酯、鈦酸四異丙酯、三乙醯丙酮鐵、氧化丁基錫、二月桂酸二辛基錫等金屬系交聯觸媒等。
交聯觸媒可單獨使用或2種以上併用。
交聯觸媒之調配比例相對於黏著性聚合物100質量份例如為0.001質量份以上，較佳為0.01質量份以上，又，例如為0.05質量份以下。
又，於黏著性組合物中，視需要，於不損及本發明之效果之範圍內可含有以下各種添加劑：例如，矽烷偶合劑、黏著性賦予劑、塑化劑、軟化劑、抗劣化劑、填充劑、著色劑、界面活性劑、抗靜電劑、防銹劑，且自螢光燈下或自然光下之穩定化之觀點而言，可含有紫外線吸收劑、抗氧化劑等添加劑等。
藉此，獲得黏著性組合物(於使用聚合物溶液作為黏著性聚合物之情形時，為黏著性組合物之溶液)。
該黏著性組合物(固形物成分)於20℃～50℃之剪斷儲存模數G'例如為1.0×104 Pa以上，較佳為2.0×104 Pa以上，更佳為4.0×104 Pa以上，又，例如為1.0×106 Pa以下，較佳為5.0×105 Pa以下。
若上述剪斷儲存模數G'為上述範圍內，則密接性優異，於剪斷儲存模數G'更低之情形時，階差追隨性亦優異。
再者，上述剪斷儲存模數G'藉由頻率1 Hz、升溫速度5℃/分鐘、溫度範圍-70℃～250℃之條件下之動態黏彈性測定而測定。
然後，藉由下述方法而自黏著性組合物形成黏著層2。
黏著層2包含黏著性組合物，故藉由活性光線(較佳為紫外線)照射而自光酸產生劑產生酸，且藉由該酸而使由酸著色之化合物著色，藉此黏著層2自無色(透明)變為有色。即，於活性光線(較佳為紫外線)照射前，黏著層2為無色(透明)。
又，所謂無色(透明)係指波長400 nm以上700 nm以下之平均透過率例如為60%以上，較佳為70%以上，更佳為90%以上，又，例如為100%以下。
又，所謂有色係指波長400 nm以上700 nm以下之平均透過率例如為0%以上，又，例如未達60%，較佳為50%以下。
黏著層2之厚度例如為3 μm以上，較佳為10 μm以上，又，例如為50 μm以下，較佳為30 μm以下。 1-1-2.黏著片之製造方法 其次，參照圖2，對第1實施方式中製造黏著片1之方法進行說明。
該方法中，藉由準備黏著層2而製造黏著片1。
為了準備黏著層2，如圖2A所示，首先準備剝離膜5。
作為剝離膜5，可列舉例如聚乙烯、聚丙烯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚酯膜等可撓性塑膠膜。
剝離膜5之厚度例如為3 μm以上，較佳為10 μm以上，又，例如為200 μm以下，較佳為100 μm以下，更佳為50 μm以下。
對剝離膜5較佳為實施以聚矽氧系、氟系、長鏈烷基酯系、脂肪酸醯胺系等離型劑進行之離型處理、或以氧化矽粉進行之離型處理。
其次，將上述黏著性組合物(黏著性組合物之溶液)塗佈於剝離膜5之一面，且視需要將溶劑乾燥去除。
作為黏著性組合物之塗佈方法，可列舉例如輥式塗佈、接觸輥式塗佈、凹版塗佈、反向塗佈、輥式刷塗、噴塗、浸漬輥塗佈、棒式塗佈、刮塗、氣刀塗佈、淋幕式塗佈、模唇塗佈、模嘴塗佈等。
作為乾燥條件，乾燥溫度例如為50℃以上，較佳為70℃以上，更佳為100℃以上，又，例如為200℃以下，較佳為180℃以下，更佳為150℃以下，乾燥時間例如為5秒以上，較佳為10秒以上，又，例如為20分鐘以下，較佳為15分鐘以下，更佳為10分鐘以下。
藉此，於剝離膜5之一面配置(準備)黏著層2。
再者，於黏著性組合物包含交聯劑之情形時，與乾燥去除同時、或於溶劑乾燥後(視需要，將剝離膜5積層於黏著層2之一面之後)，較佳為藉由老化而進行交聯。
老化條件可根據交聯劑之種類而適當設定，老化溫度例如為20℃以上，又，例如為160℃以下，較佳為50℃以下，又，老化時間為1分鐘以上，較佳為12小時以上，更佳為1天以上，又，例如為7天以下。
其後，如圖2B所示，視需要，將配置於黏著層2之另一面之剝離膜5剝離。
藉此，獲得包含黏著層2之黏著片1。又，於不將剝離膜5剝離之情形時，獲得具備剝離膜5(參照圖2之虛線)、及配置於剝離膜5之一面之黏著層2之黏著片1。又，於黏著層2之一面，亦可進而配置剝離膜5，此種情形時，黏著片1具備剝離膜5、配置於剝離膜5之一面之黏著層2、及配置於黏著層2之一面之剝離膜5。
此種黏著片1中，黏著層2係由包含在波長250 nm～400 nm之範圍內於300 nm以下具有極大吸收波長之光酸產生劑之黏著性組合物而形成。
因此，可抑制光酸產生劑因外界光(超過300 nm且為400 nm以下)而產生酸。
其結果，於欲使黏著層2之著色部分以外以維持透明之狀態殘存之情形時，或於欲使黏著層2之著色部分以外之著色量相較著色部分少之情形時，可抑制著色部分以外因外界光(超過300 nm且為400 nm以下)而著色。 1-2.第2實施方式 圖3所示，第2實施方式中，黏著片1具備黏著層2與活性光線吸收層3。具體而言，黏著片1具備黏著層2、及配置於黏著層2之一面之活性光線吸收層3。
若黏著片1具備活性光線吸收層3，則藉由活性光線吸收層3而可阻斷向黏著層2照射之外界光(超過300 nm且為400 nm以下)。其結果，於欲使該黏著層2之著色部分以外以維持透明之狀態殘存之情形時，或於欲使該黏著層2之著色部分以外之著色量相較著色部分少之情形時，可更進一步抑制著色部分以外因外界光(超過300 nm且為400 nm以下)而著色。 1-2-1.黏著層 黏著層2為黏著片1之下層。
黏著層2與上述第1實施方式之黏著層2同樣地由上述黏著性組合物而形成。 1-2-2.活性光線吸收層 活性光線吸收層3配置於黏著層2之一面之整面，活性光線吸收層3為黏著片1之上層。
活性光線吸收層3具有於面方向延伸之膜形狀，且具有平坦之平面及平坦之下表面。
活性光線吸收層3係能夠吸收活性光線之層(具備活性光線吸收性)。
具體而言，活性光線吸收層3之活性光線之平均透過率為15%以下，較佳為10%以下，更佳為9%以下，進而佳為8%以下，特佳為7%以下，最佳為3%以下，進而佳為1%以下。
若上述平均透過率為上述上限以下，則於欲使該黏著層2之著色部分以外以維持透明之狀態殘存之情形時，或於欲使該黏著層2之著色部分以外之著色量相較著色部分少之情形時，可更進一步抑制著色部分以外因外界光而著色。
再者，平均透過率之測定方法於下述實施例中詳細敍述。
活性光線吸收層3較佳為具備紫外線吸收性。
亦即，活性光線吸收層3較佳為紫外線吸收層。
若活性光線吸收層3為紫外線吸收層，則有反射控制或可使用之材料之選項增加等優點。
作為紫外線吸收層，可列舉例如調配有紫外線吸收劑之樹脂膜、調配有紫外線吸收劑之膠帶等。亦即，此種紫外線吸收層包含紫外線吸收劑。
構成樹脂膜之材料係若未調配紫外線吸收劑則不具有紫外線吸收性之材料，可列舉例如三乙醯纖維素(TAC)等纖維素樹脂、例如環烯烴聚合物等環狀聚烯烴樹脂、例如丙烯酸系樹脂、苯基馬來醯亞胺樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚酯樹脂、聚醯胺樹脂、聚苯乙烯樹脂等，較佳為纖維素樹脂，更佳為三乙醯纖維素(TAC)。
該等材料可單獨使用或2種以上併用。
作為紫外線吸收劑，可列舉例如苯并***化合物、羥苯基三𠯤系化合物、二苯甲酮系化合物、水楊酸酯系化合物、氰基丙烯酸酯系化合物、鎳錯鹽系化合物等。
紫外線吸收劑可單獨使用或2種以上併用。
作為調配有紫外線吸收劑之樹脂膜，亦可使用市售品，可列舉例如調配有KC2UA(調配有紫外線吸收劑之TAC膜，柯尼卡美能達公司製造)等。
又，作為調配有紫外線吸收劑之膠帶，亦可使用市售品，可列舉例如CS9934U(日東電工公司製造)等。
又，作為紫外線吸收層，亦可列舉由即便未調配紫外線吸收劑亦具有紫外線吸收性之材料而形成之膜、例如聚醯亞胺膜等。
作為聚醯亞胺膜，亦可使用市售品，可列舉例如Kapton 200H(東麗杜邦公司製造)等。
紫外線吸收層於波長300 nm以上400 nm以下之平均透過率例如為15%以下，較佳為10%以下，更佳為9%以下。
若上述平均透過率為上述上限以下，則於欲使該黏著層2之著色部分以外以維持透明之狀態殘存之情形時，或於欲使該黏著層2之著色部分以外之著色量相較著色部分少之情形時，可抑制著色部分以外因外界光(紫外線)而著色。
又，活性光線吸收層3於波長400 nm以上700 nm以下之平均透過率例如為50%以上，較佳為70%以上，更佳為80%以上，進而佳為90%以上。
若上述平均透過率為上述下限以上，則活性光線吸收層3之透明性優異。
因此，宜將該黏著片1用於要求透明性之光學元件及其構成零件。
亦即，活性光線吸收層3較佳為具備紫外線吸收性(波長300 nm以上400 nm以下之平均透過率為上述上限以下)，且波長400 nm以上700 nm以下之平均透過率為上述下限以上。
藉此，活性光線吸收層3之紫外線吸收性優異，且透明性優異。
又，更佳為活性光線吸收層3在波長300 nm～400 nm之範圍內，具有活性光線之平均透過率為1%以下之波長區域，且該波長區域之最大波長X(nm)、與上述光酸產生劑之極大吸收波長Y(nm)滿足下式(1)。 X－Y≧100            (1) 即，X與Y相距甚遠。
若滿足上述式(1)，則藉由活性光線吸收層3而可充分地阻斷具有光酸產生劑之極大吸收波長之活性光線。其結果，於欲使該黏著層2之著色部分以外以維持透明之狀態殘存之情形時，或於欲使該黏著層2之著色部分以外之著色量相較著色部分少之情形時，可更進一步抑制著色部分以外因外界光(超過300 nm且為400 nm以下)而著色。
活性光線吸收層3之厚度為可獲得上述平均透過率之厚度，例如為10 μm以上，較佳為20 μm以上，又，例如為200 μm以下，較佳為120 μm以下，更佳為50 μm以下。
活性光線吸收層3可為1層，亦可為複數層。
於活性光線吸收層3為複數層之情形時，以上述平均透過率及上述厚度為上述範圍之方式使複數個同種或不同種之活性光線吸收層3積層。
又，對於活性光線吸收層3，視需要可實施表面處理(例如硬塗處理)。 1-2-3.黏著片之製造方法 其次，於第2實施方式中，參照圖4對製造黏著片1之方法進行說明。
該方法具備：準備黏著層2之黏著層準備步驟、及將活性光線吸收層3配置於黏著層2之一面之配置步驟。
於黏著層準備步驟中，如圖4A所示，以與上述第1實施方式相同之方法準備黏著層2。
其次，於配置步驟中，如圖4B所示，將活性光線吸收層3配置於黏著層2之一面。
其後，視需要，將配置於黏著層2之另一面之剝離膜5剝離。
藉此，獲得具備黏著層2、及配置於黏著層2之一面之活性光線吸收層3之黏著片1。又，於不將剝離膜5剝離之情形時，獲得具備剝離膜5(參照圖4B中之虛線)、配置於剝離膜5之一面之黏著層2、及配置於黏著層2之一面之活性光線吸收層3之黏著片1。
再者，上述說明中，黏著片1包含黏著層2、及活性光線吸收層3，但於黏著層2與活性光線吸收層3之間，亦可介存有包含可撓性塑膠材料之透明基材等中間層。
於此種黏著片1，黏著層2係由包含在波長250 nm～400 nm之範圍內於300 nm以下具有極大吸收波長之光酸產生劑之黏著性組合物而形成。
因此，可抑制光酸產生劑因外界光(超過300 nm且為400 nm以下)而產生酸。
其結果，於欲使黏著層2之著色部分以外以維持透明之狀態殘存之情形時，或於欲使黏著層2之著色部分以外之著色量相較著色部分少之情形時，可抑制著色部分以外因外界光(超過300 nm且為400 nm以下)而著色。
又，此種黏著片1具備活性光線吸收層3。因此，藉由活性光線吸收層3而可阻斷向黏著層2照射之外界光(超過300 nm且為400 nm以下)，其結果，於欲使該黏著層2之著色部分以外以維持透明之狀態殘存之情形時，或於欲使該黏著層2之著色部分以外之著色量相較著色部分少之情形時，可更進一步抑制著色部分以外因外界光(超過300 nm且為400 nm以下)而著色。 2.中間積層體 其次，對使用上述黏著片1獲得之中間積層體6進行說明。
中間積層體6具有有著特定厚度之膜形狀(包含片形狀)，於與厚度方向正交之方向(面方向)延伸，且具有平坦之上表面及平坦之下表面。
具體而言，中間積層體6具備被黏著體4、及配置於被黏著體4之一面之黏著片1。
詳細而言，於使用第1實施方式之黏著片1獲得中間積層體6之情形時，如圖5所示，中間積層體6具備被黏著體4、及配置於被黏著體4之一面之黏著層2。又，於該中間積層體6，視需要亦可將剝離膜5配置於黏著層2之一面，此種情形時，中間積層體6具備被黏著體4、配置於被黏著體4之一面之黏著層2、及配置於黏著層2之一面之剝離膜5(參照圖5中之虛線)。
又，於使用第2實施方式之黏著片1獲得中間積層體6之情形時，如圖6所示，中間積層體6具備被黏著體4、配置於被黏著體4之一面之黏著層2、及配置於黏著層2之一面之活性光線吸收層3。
另一方面，於上述中間積層體6，黏著層2並未預先著色，但於中間積層體6，亦可使黏著層2之一部分預先著色，詳情將於以下敍述。
此種情形時，如圖7(使用第1實施方式之黏著片1獲得之情形時)及圖8(使用第2實施方式之黏著片1獲得之情形時)中分別所示，中間積層體6之黏著層2具備波長400～700 nm時之平均透光率相對較大之高透光率部分10、及波長400～700 nm時之平均透光率相對較小之低透光率部分11。
又，中間積層體6藉由將上述黏著片1貼附於被黏著體4而獲得，詳情將於以下敍述。
再者，以下說明中，對使用第1實施方式之黏著片1獲得之中間積層體6進行說明。 2-1.被黏著體 被黏著體4係藉由黏著片1而強化之被強化體，可列舉例如光學元件、電子元件及其構成零件等。
再者，圖5及圖6中，被黏著體4具有平板形狀，但被黏著體4之形狀並未特別限定，可根據光學元件、電子元件及其構造零件之種類而選擇各種形狀。 2-2.中間積層體之製造方法 如上所述，可不使中間積層體6之黏著層2預先著色，又，亦可使黏著層2之一部分預先著色。
因此，以下，將不使黏著層2預先著色之情形時之中間積層體6之製造方法、與使黏著層2之一部分預先著色之情形時之中間積層體6之製造方法分開進行說明。 2-2-1.不使黏著層預先著色之情形時之中間積層體之製造方法 參照圖9，說明不使黏著層2預先著色之情形時之中間積層體6之製造方法。
中間積層體6之製造方法具備：準備上述黏著片1之準備步驟；及將被黏著體4配置(貼合)於黏著片1之另一面之貼合步驟。
於準備步驟中，如圖9A所示，準備黏著片1。
具體而言，準備具備剝離膜5、配置於剝離膜5之一面之黏著層2、及配置於黏著層2之一面之剝離膜5之黏著片1。
於貼合步驟中，將被黏著體4配置(貼合)於黏著片1之另一面。
具體而言，如圖9B所示，將配置於黏著片1之另一面(黏著層2之另一面)之剝離膜5剝離，將被黏著體4配置(貼合)於黏著片1之另一面(黏著層2之另一面)。
其後，視需要，將配置於黏著層2之一面之剝離膜5剝離。
藉此，獲得具備被黏著體4、及配置於被黏著體4之一面之黏著片1(黏著層2)之中間積層體6。又，於不將剝離膜5剝離之情形時，獲得具備被黏著體4、配置於被黏著體4之一面之黏著層2、及配置於黏著層2之一面之剝離膜5(參照圖9B中之虛線)之中間積層體6。
該中間積層體6具備上述黏著片1，故於欲使黏著層2之著色部分以外以維持透明之狀態殘存之情形時，或於欲使黏著層2之著色部分以外之著色量相較著色部分少之情形時，可抑制著色部分以外因外界光(超過300 nm且為400 nm以下)而著色。 2-2-2.使黏著層之一部分預先著色之情形時之中間積層體之製造方法 參照圖10，說明使黏著層2之一部分預先著色之情形時之中間積層體6之製造方法。
中間積層體6之製造方法具備：準備上述黏著片1之準備步驟；對黏著層2之一部分照射活性光線(較佳為紫外線)之照射步驟；及將被黏著體4配置(貼合)於黏著片1之另一面之貼合步驟。
於準備步驟中，如圖10A所示，準備黏著片1。
具體而言，準備黏著片1，該黏著片1具備剝離膜5、配置於剝離膜5之一面之黏著層2、及配置於黏著層2之一面之剝離膜5之。
照射步驟中，如圖10B所示，對黏著層2之一部分照射活性光線(較佳為紫外線)，於黏著層2，形成活性光線(較佳為紫外線)之照射量相對較高之照射部分20、及不照射活性光線(較佳為紫外線)之非照射部分21。
再者，以下說明中，對將黏著片1於面方向上分割為3部分之中之兩端部分之2個部位照射活性光線(較佳為紫外線)，且將照射活性光線(較佳為紫外線)之黏著片1(黏著層2)之一部分作為照射部分20(換言之，將黏著片1於面方向上分割為3部分之中之僅中央部分之1個部位為非照射部分21)進行說明。
具體而言，照射步驟中，於黏著片1，自一側之剝離膜5之表面側對照射部分20照射活性光線(較佳為紫外線)，且對非照射部分21不照射活性光線(較佳為紫外線)。
詳細而言，於照射部分20(詳細而言，配置於照射部分20之一面之剝離膜5之一面)，並未配置阻斷活性光線(較佳為紫外線)之遮罩7，於非照射部分21(詳細而言，配置於非照射部分21之一面之剝離膜5之一面)，配置阻斷活性光線(較佳為紫外線)之遮罩7，且照射活性光線(較佳為紫外線)。
藉此，僅對照射部分20照射活性光線(較佳為紫外線)。
而且，於照射部分20之黏著層2中，自光酸產生劑產生酸，且藉由該酸而將由酸著色之化合物著色(具體而言，黑色)。其結果，照射部分20之黏著層2自無色(透明)變為有色(波長400～700 nm時之平均透光率變低)。如此一來，照射部分20在波長400～700 nm時之平均透光率小於非照射部分21在波長400～700 nm時之平均透光率(具體而言，照射部分20相較非照射部分21更黑)。
亦即，形成波長400～700 nm時之平均透光率相對較小之照射部分20、及波長400～700 nm時之平均透光率相對較大之非照射部分21。
如此一來，照射部分20成為低透光率部分11，非照射部分21成為高透光率部分10。
於貼合步驟中，將被黏著體4配置(貼合)於黏著片1之另一面。
具體而言，如圖10C所示，將配置於黏著片1之另一面(黏著層2之另一面)之剝離膜5剝離，將被黏著體4配置(貼合)於黏著片1之另一面(黏著層2之另一面)。
其後，視需要將配置於黏著層2之一面之剝離膜5剝離。
藉此，獲得具備被黏著體4、及配置於被黏著體4之一面之黏著片1(黏著層2)之中間積層體6。又，於不將剝離膜5剝離之情形時，獲得具備被黏著體4、配置於被黏著體4之一面之黏著層2、及配置於黏著層2之一面之剝離膜5(參照圖10C中之虛線)之中間積層體6。
該中間積層體6具備上述黏著片1，故於欲使黏著層2之著色部分以外以維持透明之狀態殘存之情形時，可抑制著色部分以外因外界光而著色。
又，於此種中間積層體6中，黏著層2具備波長400～700 nm時之平均透光率相對較大之高透光率部分10、及波長400～700 nm時之平均透光率相對較小之低透光率部分11。
再者，上述說明中係於照射步驟之後實施貼合步驟，但亦可於貼合步驟之後實施照射步驟。
又，上述說明中，對使用有第1實施方式之黏著片1之中間積層體6之製造方法進行了說明，但使用第2實施方式之黏著片1，亦可按照與上述相同之順序製造中間積層體6。
又，上述說明中，將照射部分20作為低透光率部分11，將非照射部分21作為高透光率部分10，但亦可藉由形成活性光線之照射量較多之高照射部分、及活性光線之照射量較少之低照射部分，而將高照射部分作為低透光率部分11，且將低照射部分作為高透光率部分10。 [實施例]
以下示出實施例及比較例，更具體地說明本發明。再者，本發明並不限定於任何實施例及比較例。又，以下記載中使用之調配比例(含有比例)、物性值、參數等具體數值可代替上述「實施方式」中記載之與其等對應之調配比例(含有比例)、物性值、參數等該記載之上限值(定義為「以下」、「未達」之數值)或下限值(定義為「以上」、「超過」之數值)。 再者，「份」及「%」只要未特別提及，則為質量基準。
1.成分之詳情 將各實施例及各比較例中使用之各成分記載於下。 BA：丙烯酸丁酯 AA：丙烯酸 Tetrad C：商品名：1,3-雙(N,N-二縮水甘油胺甲基)環己烷(環氧系交聯劑)，三菱瓦斯化學製造 BLACK ND1：隱色染料，山田化學工業製造 SP-056：光酸產生劑，250 nm～400 nm之範圍內之極大吸收波長為250 nm，ADEKA公司製造 二(4-第三丁基苯基)錪-對甲苯磺酸鹽：光酸產生劑，250 nm～400 nm之範圍內之極大吸收波長為250 nm 二苯基-2,4,6-三甲基苯基鋶-對甲苯磺酸鹽：光酸產生劑，250 nm～400 nm之範圍內之極大吸收波長為257 nm SP-606：光酸產生劑，250 nm～400 nm之範圍內之極大吸收波長為343 nm，ADEKA公司製造 KC2UA：調配有紫外線吸收劑之TAC膜，厚度25 μm，柯尼卡美能達股份有限公司製造 UVA-TAC：依序具備KC2UA、與硬塗層之膜(藉由以硬塗處理於KC2UA(厚度：25 μm)之一面形成硬塗層(厚度：7 μm)而獲得)，厚度32 μm UVA-OCA：具有紫外線吸收功能之膠帶，商品名「CS9934U」，厚度100 μm，日東電工公司製造
2.黏著性聚合物之製備 合成例1 向具備溫度計、攪拌機、回流冷卻管及氮氣導入管之反應容器中，投入作為單體成分之丙烯酸丁酯(BA)95質量份、丙烯酸(AA)5質量份、作為聚合起始劑之偶氮二異丁腈0.2質量份、及作為溶劑之乙酸乙酯233質量份，流通氮氣，一面攪拌一面進行約1小時之氮氣置換。其後，加熱至60℃，進行7小時反應，獲得重量平均分子量(Mw)為600000之黏著性聚合物之溶液。
3.黏著片之製造 實施例1 於合成例1之黏著性聚合物之溶液中，添加相對於黏著性聚合物之溶液中之黏著性聚合物100質量份為0.075質量份的作為交聯劑之Tetrad C，添加相對於黏著性聚合物之溶液中之黏著性聚合物100質量份為1質量份的作為由酸著色之化合物之BLACK ND1(隱色染料)，且添加相對於黏著性聚合物之溶液中之黏著性聚合物100質量份為2質量份的作為光酸產生劑之SP-056，均勻地混合而製備黏著性組合物。
其次，將合成例1之黏著性組合物以乾燥後之厚度成為25 μm之方式藉由槽輥塗佈於經表面離型處理之厚度50 μm之聚對苯二甲酸乙二酯膜(以下，設為剝離膜A)之一面，且於130℃乾燥1分鐘而去除溶劑。藉此，形成另一面具備剝離膜A之黏著層。進而，將剝離膜B(表面經聚矽氧離型處理之厚度25 μm之聚對苯二甲酸乙二酯膜)之離型處理面貼合於黏著層之一面。其後，於25℃之環境下經4天之老化處理，進行交聯反應。藉此，製造(準備)黏著層。
其次，將配置於黏著層之一面之剝離膜B剝離，於黏著層之一面依序配置玻璃基板、包含公知之黏著劑之低黏著層、PET(polyethylene terephthalate，聚對苯二甲酸乙二酯)膜、包含公知之黏著劑之高黏著層、及PET膜。
再者，低黏著層具有能夠剝離玻璃基板與PET膜之程度之黏著力。
又，低黏著層及高黏著層之紫外線之平均透過率為50%以上。
藉此，獲得具備剝離膜A、黏著層、玻璃基板、低黏著層、PET膜、高黏著層、及PET膜之試驗用中間積層體(詳細而言，不具備活性光線吸收層之試驗用中間積層體)。
實施例2 以與實施例1相同之順序準備黏著層之後，將配置於黏著層之一面之剝離膜B剝離，於黏著層之一面依序配置玻璃基板、包含公知之黏著劑之低黏著層、PET膜、包含公知之黏著劑之高黏著層、及作為活性光線吸收層之UVA-TAC。
藉此，獲得具備剝離膜A、黏著層、玻璃基板、低黏著層、PET膜、高黏著層、及活性光線吸收層之試驗用中間積層體(詳細而言，具備活性光線吸收層之試驗用中間積層體)。
實施例3 作為活性光線吸收層，除使用UVA-OCA以外，以與實施例2相同之方式製造試驗用中間積層體(詳細而言，具備活性光線吸收層之試驗用中間積層體)。
實施例4 作為活性光線吸收層，使用UVA-TAC及UVA-OCA(具體而言，將UVA-TAC配置於高黏著層之一面，將UVA-OCA配置於UVA-TAC之一面)，除此以外，以與實施例2相同之方式製造試驗用中間積層體(詳細而言，具備活性光線吸收層之試驗用中間積層體)。
實施例5 除變更為以下所示之黏著性組合物外，以與實施例1相同之順序製造試驗用中間積層體(詳細而言，不具備活性光線吸收層之試驗用中間積層體)。 (黏著性組合物) 於合成例1之黏著性聚合物之溶液中，添加相對於黏著性聚合物之溶液中之黏著性聚合物100質量份為0.075質量份的作為交聯劑之Tetrad C，添加相對於黏著性聚合物之溶液中之黏著性聚合物100質量份為1質量份的作為由酸著色之化合物之BLACK ND1(隱色染料)，且添加相對於黏著性聚合物之溶液中之黏著性聚合物100質量份為2質量份的作為光酸產生劑之二(4-第三丁基苯基)錪-對甲苯磺酸鹽，均勻地混合而製備黏著性組合物。
實施例6 除變更為以下所示之黏著性組合物外，以與實施例1相同之順序製造試驗用中間積層體(詳細而言，不具備活性光線吸收層之試驗用中間積層體)。 (黏著性組合物) 於合成例1之黏著性聚合物之溶液中，添加相對於黏著性聚合物之溶液中之黏著性聚合物100質量份為0.075質量份的作為交聯劑之Tetrad C，添加相對於黏著性聚合物之溶液中之黏著性聚合物100質量份為1質量份的作為由酸著色之化合物之BLACK ND1(隱色染料)，且添加相對於黏著性聚合物之溶液中之黏著性聚合物100質量份為2質量份的作為光酸產生劑之二苯基-2,4,6-三甲基苯基鋶-對甲苯磺酸鹽，均勻地混合而製備黏著性組合物。
實施例7 以與實施例5相同之方式製作黏著劑層，使用UVA-OCA作為活性光線吸收層，除此以外，以與實施例2相同之方式製造試驗用中間積層體(詳細而言，具備活性光線吸收層之試驗用中間積層體)。
實施例8 以與實施例6相同之方式製作黏著劑，使用UVA-OCA作為活性光線吸收層，除此以外，以與實施例2相同之方式製造試驗用中間積層體(詳細而言，具備活性光線吸收層之試驗用中間積層體)。
比較例1 除使用SP-606作為光酸產生劑外，以與實施例1相同之方式製造試驗用中間積層體(詳細而言，不具備活性光線吸收層之試驗用中間積層體)。
如上所述，實施例1、實施例5、實施例6及比較例1為不具備活性光線吸收層之試驗用中間積層體，實施例2～實施例4、實施例7及實施例8為具備活性光線吸收層之試驗用中間積層體。
換言之，實施例1、實施例5、實施例6及比較例1係將實施例2～實施例4、實施例7及實施例8之活性光線吸收層替換為PET膜者。
4.評估 (光酸產生劑在250 nm～400 nm範圍內之極大吸收波長Y之測定) 將各光酸產生劑溶解於THF(Tetrahydrofuran，四氫呋喃)，製備0.01質量%之THF溶液之後，將該THF光酸產生劑溶液添加至石英池，利用JASCO公司製造之V750測定吸收波長。再者，對於基線僅使用THF。 (LED照射前之黏著層之平均透過率) 將實施例1、實施例5、實施例6及比較例1之配置於黏著層之一面之剝離膜B剝離，將黏著層之一面貼合於玻璃基板。
其後，將配置於黏著層之另一面之剝離膜A剝離。藉此，製備平均透過率測定用樣本。
將該平均透過率測定用樣本以使黏著層配置於光源側之方式設置於透過率測定裝置(U4100型分光光度計，日本高新技術公司製造)，測定波長400 nm～700 nm時之平均透過率。
再者，將僅利用玻璃基板測定所得之資料設為基線。
將其結果示於表1。
(LED照射後之黏著層之平均透過率) 對上述平均透過率測定用樣本中之黏著層照射LED(365 nm，8000mJ/□)之光之後，以與上述相同之方法測定波長400 nm～700 nm時之平均透過率。
另外，對上述平均透過率測定用樣本中之黏著層照射LED(365 nm，16000mJ/□)之光之後，以與上述相同之方法測定波長400 nm～700 nm時之平均透過率。
又，藉由下式(2)求出LED照射前後之變化率。 LED照射前後之變化率＝(LED照射前之平均透過率－LED照射後之平均透過率)/(LED照射前之平均透過率)        (2) 將其結果示於表1。
(活性光線吸收層之平均透過率) 將各活性光線吸收層設置於透過率測定裝置(U4100型分光光度計，日本高新技術公司製造)，測定波長300 nm～400 nm時之平均透過率及波長400 nm～700 nm時之平均透過率。
再者，將於測定裝置內未設置任何構件之狀態下測定所得之資料設為基線。
將其結果示於表2。
又，表2中，一併記錄有關於各活性光線吸收層於波長300 nm～400 nm之範圍內活性光線之平均透過率為1%以下之波長區域之最大波長X(nm)。
(外界光穩定性) 以自各實施例及各比較例之試驗用中間積層體之一面側(實施例1及比較例1中，一側之PET膜側，實施例2～實施例4、實施例7及實施例8中，活性光線吸收層側)照射太陽光之方式，放置各實施例及各比較例之試驗用中間積層體。
然後，測定放置開始時、及自放置開始起2週後在波長400 nm～700 nm時之平均透過率。
具體而言，實施例1及比較例1中，將配置於玻璃基板之一面之低黏著層、PET膜、高黏著層、及PET膜剝離，又，將配置於黏著層之另一面之剝離膜A剝離，又，實施例2～實施例4、實施例7及實施例8中，自黏著層將配置於玻璃基板之一面之低黏著層、PET膜、高黏著層、及紫外線吸收層剝離，又，將配置於黏著層之另一面之剝離膜A剝離。
藉此，製備依序具備黏著層、及玻璃基板之外界光穩定性測定用樣本。
然後，將該外界光穩定性測定用樣本以使黏著層配置於光源側之方式，設置於透過率測定裝置(U4100型分光光度計，日本高新技術公司製造)，測定波長400 nm～700 nm時之平均透過率。
再者，將僅利用玻璃基板進行測定所得之資料設為基線。
又，藉由下式(3)求出各時間經過後之變化率。 各時間經過後之變化率＝(放置開始時之平均透過率－各時間經過後之平均透過率)/(放置開始時之平均透過率)          (3) 將其結果示於表2。
5.考察 於平均透過率之評估中，對黏著層包含藉由紫外線之照射而能夠使波長550 nm時之可見光透過率降低之黏著性組合物之實施例1、實施例5、實施例6之黏著片而言，於照射LED之前後，波長400 nm～700 nm時之平均透過率降低。
由此可知，若使用具備上述黏著層之黏著片，則藉由於任意時點進行紫外線照射而可使黏著層著色。
又，於平均透過率之評估中，黏著層由包含在波長250 nm～400 nm之範圍內於300 nm以下具有極大吸收波長之光酸產生劑(SP-056(250 nm～400 nm之範圍內之極大吸收波長250 nm))之黏著性組合物形成的實施例1中，相較黏著層由包含在波長250 nm～400 nm之範圍內於300 nm以下不具有極大吸收波長之光酸產生劑(SP-606(250 nm～400 nm之範圍內之極大吸收波長343 nm))之黏著性組合物形成之比較例1，波長400 nm～700 nm時之平均透過率之變化率低。
由此可知，若黏著層由包含在波長250 nm～400 nm之範圍內於300 nm以下具有極大吸收波長之光酸產生劑之黏著性組合物而形成，則可抑制因外界光(超過300 nm且為400 nm以下)著色(外界光穩定性優異)。
此情形對於實施例5及實施例6亦相同，該實施例5中，黏著層由包含在波長250 nm～400 nm之範圍內於300 nm以下具有極大吸收波長之光酸產生劑(雙(4-第三丁基苯基)錪-對甲苯磺酸鹽(250 nm～400 nm之範圍內之極大吸收波長為250 nm))之黏著性組合物形成，該實施例6中，黏著層由包含在波長250 nm～400 nm之範圍內於300 nm以下具有極大吸收波長之光酸產生劑(二苯基-2,4,6-三甲基苯基鋶-對甲苯磺酸鹽(250 nm～400 nm之範圍內之極大吸收波長257 nm))之黏著性組合物形成。
而且可知，由於外界光穩定性優異，故於欲使黏著層之著色部分以外以維持透明之狀態殘存之情形時，或於欲使黏著層之著色部分以外之著色量相較著色部分少之情形時，可抑制著色部分以外因外界光而著色。
又，該情形藉由外界光穩定性之評估亦明確。
具體而言，於外界光穩定性之評估中，黏著層由包含在波長250 nm～400 nm之範圍內於300 nm以下具有極大吸收波長之光酸產生劑(SP-056、雙(4-第三丁基苯基)錪-對甲苯磺酸鹽、二苯基-2,4,6-三甲基苯基鋶-對甲苯磺酸鹽)之黏著性組合物形成之實施例1～實施例4、實施例7及實施例8中，自放置開始起經過2週後，變化率為13.9%以下。
另一方面，黏著層由包含在波長250 nm～400 nm之範圍內於300 nm以下不具有極大吸收波長之光酸產生劑(SP-606)之黏著性組合物形成之比較例1中，自放置開始起經過2週之後，變化率為60%。
由此可知，若黏著層由包含在波長250 nm～400 nm之範圍內於300 nm以下具有極大吸收波長之光酸產生劑之黏著性組合物形成，則外界光穩定性優異。
[表1]
表1
實施例、比較例No. 400 nm～700 nm時之平均透過率
LED光照射前 LED光照射後(LED照射前後之變化率)
365 nm、8000mJ/□ 365 nm、16000mJ/□
實施例1 100 54.9 (45.1%) 50.8 (49.2%)
實施例5 100 74.3 (25.7%) 63.0 (37.0%)
實施例6 100 63.9 (36.1%) 56.4 (43.6%)
比較例1 98.3 33.2 (65.1%) 36.1 (62.2%)
[表2]
表2
實施例、比較例 No. 黏著層 活性光線吸收層 X－Y 外界光穩定性
波長400～700 nm時之平均透過率 (各時間經過後之變化率(%))
光酸產生劑之極大吸收波長Y(nm) 種類 波長300～400 nm時之平均透過率 波長400～700 nm時之平均透過率 在波長300 nm～400 nm之範圍內，活性光線之平均透過率為1%以下之波長區域之最大波長X(nm) 放置 開始時 2週後
比較例1 343 (PET膜)※ 69.21 87.42 (310)※ (-30)※ 98.3 38.3 (60%)
實施例1 250 (PET膜)※ 69.21 87.42 (310)※ (60)※ 100 86.1 (13.9%)
實施例2 250 UVA-TAC 11.91 90.21 360 110 100 92.10 (7.9%)
實施例3 250 UVA-OCA 9.54 87.50 375 125 100 98.3 (1.7%)
實施例4 250 UVA-TAC、UVA-OCA 8.07 91.90 378 128 100 98.90 (1.1%)
實施例7 250 UVA-OCA 9.54 87.50 375 125 100 88.9 (11.1%)
實施例8 257 UVA-OCA 9.54 87.50 375 125 100 98.8 (1.2%)
※取代活性光線吸收層而使用PET膜。
再者，上述發明係作為本發明之例示之實施方式而提供，但其僅為例示，而非限定性解釋。由該技術領域之業者明瞭之本發明之變化例包含於下述申請專利範圍中。 [產業上之可利用性]
本發明之黏著片適宜用於各種元件等之貼合。 本發明之中間積層體適宜用於各種元件之製造。
1:黏著片 2:黏著層 3:活性光線吸收層 4:被黏著體 5:剝離膜 6:中間積層體 7:遮罩 10:高透光率部分 11:低透光率部分 20:照射部分 21:非照射部分
圖1係表示本發明之黏著片之第1實施方式之概略圖。 圖2係表示第1實施方式之黏著片之製造方法之一實施方式之概略圖，圖2A表示準備黏著層之步驟，圖2B表示將配置於黏著層之另一面之剝離膜5剝離之步驟。 圖3係表示本發明之黏著片之第2實施方式之概略圖。 圖4係表示第2實施方式之黏著片之製造方法之一實施方式之概略圖，圖4A表示準備黏著層之黏著層準備步驟，圖4B表示將活性光線吸收層配置於黏著層之一面之配置步驟。 圖5係表示使用第1實施方式之黏著片獲得之中間積層體之概略圖。 圖6係表示使用第2實施方式之黏著片獲得之中間積層體之概略圖。 圖7係表示使黏著層之一部分預先著色之情形時，使用第1實施方式之黏著片獲得之中間積層體之概略圖。 圖8係表示使黏著層之一部分預先著色之情形時，使用第2實施方式之黏著片獲得之中間積層體之概略圖。 圖9係表示不使黏著層預先著色之情形時中間積層體(使用第1實施方式之黏著片之情形)之一實施方式之概略圖，圖9A表示準備黏著片之準備步驟，圖9B表示將被黏著體配置(貼合)於黏著片之另一面之貼合步驟。 圖10係表示使黏著層之一部分預先著色之情形時中間積層體(使用第1實施方式之黏著片之情形)之一實施方式之概略圖，圖10A表示準備黏著片之準備步驟，圖10B表示對黏著層2一部分照射活性光線之照射步驟，圖10C表示將被黏著體配置(貼合)於黏著片之另一面之貼合步驟。
1:黏著片
2:黏著層

Claims (7)

  1. 一種黏著片，其具備黏著層，該黏著層包含藉由活性光線之照射而能夠使波長550 nm下之可見光透過率降低之黏著性組合物， 上述黏著性組合物包含作為單體成分之聚合物之黏著性聚合物、藉由酸著色之化合物、及光酸產生劑， 上述光酸產生劑在波長250 nm～400 nm之範圍內於300 nm以下具有極大吸收波長。
  2. 如請求項1之黏著片，其進而具備能夠吸收上述活性光線之活性光線吸收層。
  3. 如請求項2之黏著片，其中上述活性光線吸收層於波長300 nm～400 nm之範圍內，具有上述活性光線之平均透過率為1%以下之波長區域， 上述波長區域之最大波長X(nm)、與上述光酸產生劑之上述極大吸收波長Y(nm)滿足下式(1)： X－Y≧100  (1)。
  4. 如請求項2或3之黏著片，其中上述活性光線吸收層於波長300 nm～400 nm時之平均透光率為15%以下，於波長400 nm～700 nm時之平均透光率為50%以上。
  5. 如請求項2或3之黏著片，其中上述活性光線吸收層係能夠吸收紫外線之紫外線吸收層。
  6. 一種中間積層體，其特徵在於具備： 被黏著體；及 如請求項1至5中任一項之黏著片，其配置於上述被黏著體之一面。
  7. 如請求項6之中間積層體，其中黏著層具備波長400～700 nm時之平均透光率相對較大之高透光率部分、及波長400～700 nm時之平均透光率相對較小之低透光率部分。
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